JP7447209B2

JP7447209B2 - アクティブｏｌｅｄディスプレイ、アクティブｏｌｅｄディスプレイの製造方法および化合物

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Publication number: JP7447209B2
Application number: JP2022144426A
Authority: JP
Inventors: ヘッゲマン，ウルリヒ; フンメルト，マルクス
Original assignee: ノヴァレッドゲーエムベーハー
Priority date: 2017-02-20
Filing date: 2022-09-12
Publication date: 2024-03-11
Anticipated expiration: 2038-02-20
Also published as: WO2018150006A1; CN110521015B; US11322710B2; US20200052210A1; KR20190116461A; EP3583636B1; CN110462872A; CN110521014A; JP2020510305A; WO2018150049A1; JP7305544B2; CN110447117A; EP3583636A1; KR102519014B1; KR102690851B1; DE112018000907T5; CN110521014B; JP2020509586A; WO2018150006A9; US20200052235A1

Description

本開示は、複数のＯＬＥＤ画素を有し、少なくとも２つの画素によって共有される正孔注入層および／または正孔輸送層中に非酸化性ｐ－ドーパントを含むアクティブＯＬＥＤディスプレイ、アクティブＯＬＥＤディスプレイの製造方法、および当該ディスプレイに特に好適な化合物に関する。

共通の正孔輸送層を共有する複数のＯＬＥＤ画素を含むアクティブＯＬＥＤディスプレイに関して、陽極と発光層との間に配置され、複数の画素によって共有される層に使用される半導体材料には、困難な要件が課せられる。一方では、前記材料は可能な限り低い作動電圧で、個々の画素の個々の駆動を可能にしなければならない。もう一方では、隣接する画素間のいわゆる電気的クロストークは回避されるべきである。参照により本明細書に援用されるＷＯ２０１６／０５０８３４は、これらの矛盾する要件が、１×１０^－３Ｓ・ｍ^－１および１×１０^－８Ｓ・ｍ^－１、最も好ましくは１×１０^－５Ｓ・ｍ^－１および１×１０^－６Ｓ・ｍ^－１の間の導電率を有するｐ－ドープされた層によって満たされ得ることを教示する。このような低導電率のｐ－ドープされた正孔輸送層は、深いＨＯＭＯ準位の観点から十分にドープされないマトリックスにおいて、強い電子受容性ラジアレン化合物のような通常の最新技術のレドックスドーパントを使用することで達成可能である。しかしながら、これらの基準を満たしつつ、例えば加工性および装置安定性の観点からの他のパラメータが改善されたｐ－ドーパントが、依然として求められている。

本発明の目的は、これらの改善を可能にする、改善されたアクティブＯＬＥＤディスプレイ、および改善された材料を提供することである。一態様では、アクティブＯＬＥＤディスプレイの隣接画素間の電気的クロストークが低減される。別の一態様では、例えば、表示部又はその特定の層の高温での処理を含む任意のプロセス工程中における改善されたデバイス安定性に関して、堅牢なデバイスの製造を可能にし得る。

前記目的は、
少なくとも２つのＯＬＥＤ画素を含む複数のＯＬＥＤ画素であって、前記ＯＬＥＤ画素は、陽極、陰極、および有機層の積層体を含み、前記有機層の積層体は、前記陰極と前記陽極との間に、前記陰極と前記陽極とに接するように配置され、前記有機層の積層体は、第１の電子輸送層、第１の正孔輸送層、および当該第１の正孔輸送層と当該第１の電子輸送層との間に設けられた第１の発光層を含む、ＯＬＥＤ画素、ならびに
前記複数のＯＬＥＤ画素の画素を別々に駆動するように構成された駆動回路
を含むディスプレイデバイスであって、
ここで、前記複数のＯＬＥＤ画素において、前記第１の正孔輸送層は、前記複数のＯＬＥＤ画素によって共有される共通の正孔輸送層として、前記有機層の積層体に設けられ、
前記第１の正孔輸送層は
（ｉ）共有結合原子からなる、少なくとも１つの第１の正孔輸送マトリックス化合物、
（ｉｉ）金属塩、および金属カチオンならびに少なくとも１つのアニオンおよび／または少なくとも４つの共有結合原子からなる少なくとも１つのアニオン性配位子を含む電気的に中性の金属錯体から選択される少なくとも１つの電気的ｐ－ドーパント、
を含み、
前記電気的ｐ－ドーパントの前記金属カチオンは、
アルカリ金属；
アルカリ土類金属である、Ｐｂ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｃｄ；
酸化状態（ＩＩ）または酸化状態（ＩＩＩ）である希土類金属；
Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ；および
酸化状態（ＩＶ）以下のＳｎ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、ＭｏならびにＷから選択される、ディスプレイデバイスによって、達成される。

一実施形態では、アニオンおよび／またはアニオンリガンドが酸素原子を介して、好ましくは２つの酸素原子を介して、ｐ型ドーパントの金属カチオンに結合される。

用語「結合した」とは、金属カチオンと酸素原子との間の距離が、金属カチオンとアニオンおよび／またはアニオン性配位子の任意の他の原子との間の距離よりも短い、ｐ－ドーパントの構造を含むことを理解されたい。

例えば、２価および／または３価の金属のいくつかのビス（スルホニル）イミド錯体の固体構造研究は、ビス（スルホニル）イミドリガンドが、イミド窒素原子によってではなく、スルホニル基の酸素原子によって中心金属原子に接合され得ることを明らかにした。ここで、実際には、前記酸素原子に比べて前記イミド窒素原子は、中心金属原子からより離れて配置され得る。

一実施形態では、前記金属塩中および／または前記金属カチオンに結合した前記金属錯体中にある前記アニオンおよび／または前記アニオン性配位子の酸素原子は、ジクロロエタン中で、前記アニオンおよび／または前記アニオン性配位子の少なくとも１つの非酸素原子よりも弱い塩基性を有する。

同様に、別の一実施形態では、前記金属塩中および／または前記金属カチオンに結合した前記金属錯体中にある前記アニオンおよび／または前記アニオン性配位子の酸素原子の各々は、ジクロロエタン中で、前記アニオンおよび／または前記アニオン性配位子の少なくとも１つの非酸素原子よりも弱い塩基性を有する。

ある環境中、例えば１，２－ジクロロエタン中のアニオンおよび／またはアニオン性配位子中の原子の塩基性は、同じ環境中で１つ以上のプロトンを添加することによって形成される電気的に中性の共役酸の対応する互変異性体の酸性度に反比例することを理解されたい。種々の酸を比較するための多用途ツールとしての１，２－ジクロロエタン中の酸性度の測定が、Journal of Organic Chemistry (2011)，76(2)，391-395 に記載されている。アニオンおよび／またはアニオン性配位子中の特定の原子の塩基性を評価しなければならない場合、電気的に中性の共役酸の「対応する互変異性体」は、前記特定の原子へプロトンを付加することで形成される酸であると理解される。

一実施形態では、前記アニオンおよび／または前記アニオン性配位子が少なくとも５個、好ましくは少なくとも６個、より好ましくは少なくとも７個、さらにより好ましくは少なくとも８個、最も好ましくは少なくとも９個の共有結合原子からなる。

一実施形態では、前記アニオンおよび／または前記アニオン性配位子が、Ｂ、Ｃ、Ｎから選択される少なくとも１つの原子を含む。

一実施形態では、前記アニオンおよび／または前記アニオン性配位子が、共有結合によって互いに結合しているＢ、ＣおよびＮから選択される少なくとも２つの原子を含む。

一実施形態では、前記アニオンおよび／または前記アニオン性配位子が、Ｈ、Ｎ、Ｏ、Ｆ、Ｃｌ、ＢｒおよびＩから選択される少なくとも１つの末端原子を含む。「末端原子」とは、アニオンおよび／またはアニオン性配位子の１つの原子のみに共有結合する原子だと理解されたい。反対に、アニオンおよび／またはアニオン性配位子の少なくとも２つの他の原子に共有結合した原子は、内部原子として割り当てられる。

共有結合とは、２つの評価された原子間の電子密度共有を伴う任意の結合相互作用だと理解されたい。ここで、前記結合は、ファンデルワールス分散相互作用よりも強く、便宜上、結合エネルギー１０ｋＪ／ｍｏｌを任意の下限とみなすことができる。この意味では、前記用語「結合」は、配位結合または水素結合も含む。しかし、水素結合を含むアニオンおよび／またはアニオン性配位子は、特に好ましくない。

一実施形態では、前記アニオンおよび／または前記アニオン性配位子がハロゲン化アルキル、ハロゲン化（ヘテロ）アリール、ハロゲン化（ヘテロ）アリールアルキル、ハロゲン化アルキルスルホニル、ハロゲン化（ヘテロ）アリールスルホニル、ハロゲン化（ヘテロ）アリールアルキルスルホニル、シアノから選択される少なくとも１つの電子求引基を含む。簡潔にするために、ハロゲン化（ヘテロ）アリールは「ハロゲン化アリールまたはハロゲン化ヘテロアリール」を意味し、ハロゲン化（ヘテロ）アリールアルキルは「ハロゲン化ヘテロアリールアルキルまたはハロゲン化アリールアルキル」を意味し、ハロゲン化（ヘテロ）アリールスルホニルは「ハロゲン化ヘテロアリールスルホニルまたはハロゲン化アリールスルホニル」を意味し、およびハロゲン化（ヘテロ）アリールアルキルスルホニル「ハロゲン化ヘテロアリールアルキルスルホニルまたはハロゲン化アリールアルキルスルホニル」を意味することを理解されたい。

一実施形態では、前記電子求引基が過ハロゲン化基である。用語「ハロゲン化された」とは末端水素原子または内部水素原子を含む基の少なくとも１つの水素原子がＦ、Ｃｌ、ＢｒおよびＩから選択される原子で置き換えられていることを意味すると理解されたい。さらに、過ハロゲン化基において、置換されていない基に含まれる全ての水素原子がＦ、Ｃｌ、ＢｒおよびＩから独立して選択される原子で置き換えられていることと理解されたい。したがって、過フッ素化基のもとでは、水素原子を置き換える全てのハロゲン原子が、フッ素原子だと理解されたい。

一実施形態では、前記ｐ－ドーパントの前記金属カチオンがＬｉ（Ｉ）、Ｎａ（Ｉ）、Ｋ（Ｉ）、Ｒｂ（Ｉ）、Ｃｓ（Ｉ）；Ｍｇ（ＩＩ）、Ｃａ（ＩＩ）、Ｓｒ（ＩＩ）、Ｂａ（ＩＩ）、Ｓｎ（ＩＩ）、Ｐｂ（ＩＩ）、Ｍｎ（ＩＩ）、Ｆｅ（ＩＩ）、Ｃｏ（ＩＩ）、Ｎｉ（ＩＩ）、Ｚｎ（ＩＩ）、Ｃｄ（ＩＩ）、Ａｌ（ＩＩＩ）；酸化状態（ＩＩＩ）の希土類金属、Ｖ（ＩＩＩ）、Ｎｂ（ＩＩＩ）、Ｔａ（ＩＩＩ）、Ｃｒ（ＩＩＩ）、Ｍｏ（ＩＩＩ）、Ｗ（ＩＩＩ）、Ｇａ（ＩＩＩ）、Iｎ（ＩＩＩ）およびＴｉ（ＩＶ）、Ｚｒ（ＩＶ）、Ｈｆ（ＩＶ）、Ｓｎ（ＩＶ）から選択される。

一実施形態では、前記ｐ－ドーパント分子において、前記金属カチオンに最も近い前記アニオンおよび／または前記アニオン性配位子の原子が、Ｃ原子またはＮ原子である。

一実施形態では、１，２－ジクロロエタン中の１つ以上のプロトンの添加によって前記アニオンおよび／またはアニオン性配位子から形成される電気的に中性の共役酸の酸性度がＨＣｌの酸性度よりも高く、好ましくはＨＢｒの酸性度よりも高く、より好ましくはＨＩの酸性度よりも高く、さらにより好ましくはフルオロ硫酸の酸性度よりも高く、最も好ましくは過塩素酸の酸性度よりも高い。

一実施形態では、前記電気的ｐ－ドーパントが、標準量子化学法によって計算された最低空軌道のエネルギー準位を有し、標準量子化学法によって計算された共有結合正孔輸送化合物の最高被占軌道のエネルギー準位を超え、絶対真空尺度で少なくとも、０．５ｅＶ、好ましくは少なくとも０．６ｅＶ、より好ましくは少なくとも０．８ｅＶ、さらにより好ましくは少なくとも１．０ｅＶ、最も好ましくは少なくとも１．２ｅＶを示す。

前記標準量子化学法は、基底系ｄｅｆ２－ＴＺＶＰを有するＤＦＴ機能Ｂ３ＬＹＰを使用するソフトウェアパッケージＴＵＲＢＯＭＯＬＥであってもよい。

一実施形態では、前記第１の正孔輸送マトリックス化合物が有機化合物であり、好ましくは少なくとも６個、より好ましくは少なくとも１０個の非局在化電子の共役系を含む有機化合物であり、また好ましくは前記第１の正孔輸送マトリックス化合物が少なくとも１個のトリアリールアミン構造部分を含み、より好ましくは第１の正孔輸送マトリックス化合物が少なくとも２個のトリアリールアミン構造部分を含む。

前記目的はさらに、前述の実施形態のいずれかに記載のディスプレイデバイスを製造するための方法によって達成される。前記方法は、前記第１の正孔輸送マトリックス化合物および前記電気的ｐ－ドーパントが５０℃を超える温度に曝露され、相接する少なくとも１つの工程を含む。

「相接」は、１つの凝縮相中に両方の成分が存在すること、または共通の相界面を共有する２つの凝縮相中にそれらの成分が存在することを意味すると理解されたい。

前記方法は、減圧下、好ましくは１×１０^－２Ｐａ未満の圧力および５０℃を超える温度、より好ましくは５×１０^－２Ｐａ未満の圧力および８０℃を超える温度、さらにより好ましくは１×１０^－３Ｐａ未満の圧力および１２０℃を超える温度、最も好ましくは５×１０^－４Ｐａ未満の圧力および１５０℃を超える温度で、前記ｐ－ドーパントを蒸発させる少なくとも１つの工程をさらに含んでもよい。

一実施形態では、前記方法は以下の工程を含み得る；
（ｉ）前記ｐ－ドーパントおよび前記第１の正孔輸送マトリックス化合物を溶媒中に分散させる工程、
（ｉｉ）該分散液を固体支持体上に堆積させる工程、および
（ｉｉｉ）前記溶媒を高温で蒸発させる工程。

一実施形態では、前記ｐ－ドーパントが固体水和物の形態で使用されてもよい。

別の一実施形態では、前記ｐ－ドーパントが、０．１０重量％未満の水、好ましくは０．０５重量％未満の水を含む無水固体として使用されてもよい。

前記目的は、式（Ｉ）を有する化合物によってさらに達成される；

式中、

は、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類金属およびＡｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、ＺｎおよびＣｄから選択される金属のｘ価のカチオンであり、
ｘが１の場合、Ｍはアルカリ金属から選択され、ｘが２の場合、Ｍはアルカリ土類金属、Ｐｂ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、ＺｎおよびＣｄから選択され、ｘが２または３の場合、Ｍは希土類金属から選択され、ｘが３の場合、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、ｘが２、３または４の場合、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、およびｘが２または４の場合、Ｓｎであり、
Ｂ^１およびＢ^２は、過ハロゲン化Ｃ_３～Ｃ_２０アルキル、Ｃ_３～Ｃ_２０シクロアルキルまたはＣ_３～Ｃ_２０アリールアルキルから独立して選択され、
ただし、式（Ｉ）を有する化合物において
ａ）Ｍがアルカリ金属、Ｍｇ、ＣａおよびＺｎから選択され、かつＢ^１およびＢ^２が過フッ素化直鎖第一級アルキルから独立して選択されること、または
ｂ）ＭがＬｉであり、かつＢ^１およびＢ^２が過フッ素化イソプロピルであること、
は、除外される。

一実施形態では、Ｍが、Ｍｇ（ＩＩ）、Ｍｎ（ＩＩ）およびＺｎ（ＩＩ）から選択される。

一実施形態では、式（Ｉ）に係る化合物が、固体形態で、好ましくは０．１０重量％未満の水を含む固体形態で、より好ましくは０．０５重量％未満の水を含む固体形態で、最も好ましくは０．０５重量％未満の水を含む結晶性固体形態で提供される。

別の実施形態では、式（Ｉ）による化合物が、結晶性固体水和物の形態、好ましくは水分含有量が、
（ｉ）３０．３３～３６．３３モル％、好ましくは３１．００～３５．６６モル％、より好ましくは３１．００～３５．６６モル％、さらにより好ましくは３１．６６～３５．００モル％、さらにより好ましくは３２．３３～３４．３３モル％、最も好ましくは３３．００～３３．６６モル％、または
（ｉｉ）１８．２０～２１．８０モル％、好ましくは１８．６０～２１．４０モル％、より好ましくは１９．００～２１．００モル％、さらにより好ましくは１９．４０～２０．６０モル％、最も好ましくは１９．８０～２０．２０モル％
である結晶性固体水和物の形態で提供される。

有機半導体デバイスに含まれる材料の重要な特性は、それらの導電率である。ＷＯ２０１６／０５０８３４に記載されているように、構造化された陽極、および少なくとも１つの正孔輸送層および／または正孔注入層を共有する少なくとも２つの画素を有するディスプレイデバイスでは、共有される層の制限された導電率が、ディスプレイにおいて望ましくない電気的クロストークを低準位とするために有利に働く場合がある。一方、共有される層の導電率が非常に低いと、ディスプレイの動作電圧が増加する可能性がある。ＷＯ２０１６／０５０８３４では、これらの矛盾する要件の間における折り合いを表す導電率範囲を教示している。

しかしながら、本願の著者らは驚くべきことに、特定の金属塩および金属錯体を基にした電気的ｐ－ドーパントが、特定の条件下で、純粋なマトリックスで観察される伝導率に対応する準位を超えて自由電荷キャリアの濃度を実質的に増加させることなく、最新技術の陽極から最新技術の正孔輸送マトリックスへの安定した正孔注入を提供するｐ－ドープされた材料および／またはｐ－ドープされた層を製造することを可能にすることを見出した。

この驚くべき発見は、ＷＯ２０１６／０５０８３に開示される１×１０^－５Ｓ・ｍ^－１～１×１０^－６Ｓ・ｍ^－１の間の最適範囲未満の導電率を有するとしても、十分に匹敵する電圧で動作するＷＯ２０１６／０５０８３４のディスプレイを構築する機会を提供した。本願のドーパントは、利用可能な測定手段での検出限界付近か、またはそれ未満である多数の画素によって共有されるｐ－ドープされた層における電気導電率の準位で、ＷＯ２０１６／０５０８３４のディスプレイデバイスの効率的な動作を可能にする。したがって、本願のドーパントは、ＯＬＥＤディスプレイの電気的クロストークをさらに抑制することを可能にし、また電気的クロストークが非常に低い準位を示す効率的なＯＬＥＤディスプレイを設計するための新しい機会を提供する。著者らによってなされたこれらの観察を、さらにより詳細に記載する。

本出願人により出願され、ここで参照により本明細書に援用される現在ＥＰ３１３３６６３として公開されている先の出願ＥＰ１５１８１３８５において、著者らの数人は、有機電気デバイスにおける正孔注入材料として、以下に示すような幾つかの金属イミドの使用の成功を記載している。

類似の金属イミド化合物のさらなる調査と並行して、著者らは驚くべきことに、いくつかの構造的に全く異なる化合物、すなわち、以下のような金属ホウ酸塩錯体を類似の方法で使用可能であることも見出した。

著者らの数人は、さらなる出願であるＥＰ１７２０９０２３において、亜鉛スルホンアミド錯体の昇華によって製造され、Ｃ_４２Ｆ_４８Ｎ_６Ｏ_１３Ｓ_６Ｚｎ_４の組成を有し、単位格子寸法ａ＝１４．１３５８（５）Å、α＝９０°；ｂ＝１６．０２９１（６）Å、β＝１１３．２９２０（１０）；ｃ＝１５．９８８８（６）Å；γ＝９０°および単位格子体積３３２７．６（２）Å^３を有する、空間群Ｐ１２１１に属する単斜晶格子中で結晶化する化合物Ｅ３を開示した。この化合物は、図５に示す逆配位錯体構造を有する。具体的には、錯体の分子が、四面体に配置された４つの亜鉛ジカチオンからなる第一配位圏、および６つのスルホニルアミド性配位子からなる第二配位圏で囲まれた中心酸素ジアニオンを含み、Ｚｎ_４クラスターの６つの端の全てを三原子－Ｎ－Ｓ－Ｏブリッジで架橋する。

最も驚くべきことに、著者らはこれらの構造的に異なる化合物の全てが、ドープされた材料および／または層の製造中のプロセス条件に依存して、それらのｐ－ドープ作用において２つの異なる様式を同様に示すことを見出した。

第１の様式では、これらの化合物でドープされた半導体材料および／または層（金属塩および／またはアニオン性配位子を有する電気的に中性の金属錯体として一般化することができる）は、典型的なレドックス(redox) ｐ－ドーパントでドープされた材料および／または層と比較してわずかに低いが、十分に測定可能な電気伝導率を示す。この様式は、微量であっても、ドープされた材料および／または層が酸素に曝露される場合に起こるようである。

第２の様式では、開示された金属塩および／またはアニオン性配位子を含む電気的に中性の金属錯体でドープされた半導体材料および／または層は、測定可能な電気伝導率をほとんど示さない。この様式は、ドープされた材料および／または層への酸素の接触がそのプロセス全体を通して厳密に回避される場合に生じる。著者らは、第２の様式でドープされた材料および／または層の極めて低い導電率にもかかわらず、特に正孔輸送層または正孔注入層としてそのような材料および／または層を含むデバイスが、優れた正孔注入に対応する電気的挙動を依然として示すことを見出した。

ｐ－ドープ作用の前記２つの様式の存在は、本開示のｐ－ドーパントに対して、有機電子デバイス、特に共通の正孔輸送層を共有する多数の画素に構造化された陽極を含むディスプレイ中の使用において、固有の汎用性を提供する。共通のｐ－ドープされた層の導電率は、第１のドーピング様式を利用することによってＷＯ２０１６／０５０８３４で教示されている制限に設定するか、または第２のドーピング様式を利用してこれらの制限未満に設定することができる。

さらに、著者らによってなされた最近の研究は、提示された金属塩および／または金属錯体でドープされた材料および／または層が特にｐ－ドーピング作用の上記の第２の様式に従って提供された材料において、好ましい熱安定性を示し得るという示唆を提供した。これらの特性はこのようなディスプレイを別個の画素に構造化する必要性がしばしば、ｐドープ層の熱治療を必要とするか、または前に堆積されたｐドープ層の不可避な加熱をもたらす可能性がある別の治療を使用することを必要とするので、ＡＭＯＬＥＤディスプレイにおける開示されたｐドーパントの使用に再び特に適している可能性がある。

本発明の特定の実施形態において、著者らは、ＥＰ１５１８１３８５において試験された化合物と比較して、より嵩高いフッ素化側鎖を含む新規のアミド化合物を提供した。この変化により、新規化合物は、実質的に非吸湿性であり、高い空気湿度でも固体のままであるという好ましい貯蔵時の特性を得たが、ＬｉＴＦＳＩおよび類似のＴＦＳＩ塩は潮解する傾向を有する。

発明の詳細な説明

薄層試料の導電率は、例えば、いわゆる２点法によって測定することができる。このとき、薄層に電圧を適用し、前記層を流れる電流を測定する。抵抗、導電率はそれぞれ、接触の幾何学的形状と、試料の層の厚さとを考慮することによって得られる。本出願の著者らによって使用された導電率測定のための実験的設定は、特に酸素を含む空気との堆積層の接触に関して、制御された条件下で、ｐ－ドープされた層の堆積ならびに導電率測定を可能にする。この点に関して、一連の堆積～測定の全ては、制御された空気を含むグローブボックス内もしくはチャンバ内で溶液処理技術を使用して実行されるか、または、完全に真空のチャンバ内で第２の様式でドープされた材料および／または層に対して適切な方法として選択される真空熱蒸着（ＶＴＥ）を使用して実行され得る。

第１の正孔輸送層の導電率は、１×１０^－６Ｓ・ｍ^－１未満、好ましくは１×１０^－７Ｓ・ｍ^－１未満、より好ましくは１×１０^－８Ｓ・ｍ^－１未満であってもよい。また、使用する導電率測定法の検出限界が１×１０^－６Ｓ・ｍ^－１未満であれば、第１の正孔輸送層の導電率が検出限界未満であることが好ましい。

第１正孔輸送層（ＨＴＬ）は、ＯＬＥＤディスプレイ内の複数のＯＬＥＤ画素のために形成されてもよい。一実施形態では、第１のＨＴＬが、ＯＬＥＤディスプレイ内の複数の画素のうち、すべての画素にわたって延在することができる。同様に、陰極は、複数の画素のための共通の陰極として形成されてもよい。共通の陰極は、ＯＬＥＤディスプレイ内の複数の画素の全ての画素にわたって延在することができる。全ての個々の画素は、他の個々の画素の陽極に接触しないことがある、それ自体の陽極を有することができる。

任意選択で、複数のＯＬＥＤ画素のうちの１つ以上について、以下の有機層、すなわち正孔阻止層、電子注入層、および／または電子阻止層を設けることができる。

さらに、アクティブＯＬＥＤディスプレイは、複数の画素の個々の画素を別々に駆動するように構成された駆動回路を有する。一実施形態では、別々に駆動する工程が個々の画素に適用される駆動電流の別々の制御を含むことができる。

第１のＨＴＬは、ｐ－ドーパントで電気的にドープされた正孔輸送マトリックス（ＨＴＭ）材料から作製される。正孔輸送マトリックス材料は、２つ以上のｐ－ドーパントで電気的にドープされてもよい。ＨＴＭ材料は１つ以上のＨＴＭ化合物からなってもよいが、正孔輸送材料という用語は、本出願全体を通して、少なくとも１つの正孔輸送マトリックス化合物を含む全ての半導体材料に対して使用されるより広い用語であることを理解されたい。正孔輸送マトリックス材料は、特に限定されない。一般に、正孔輸送マトリックス材料は、ｐ－ドーパントを埋め込むことができる共有結合原子からなる任意の材料である。この点で、シリコンまたはゲルマニウムのような主に共有結合を有する無機無限結晶、またはシリケートガラスのような極めて架橋された無機ガラスは、正孔輸送マトリックス材料の定義の範囲内に入らない。好ましくは、正孔輸送マトリックス材料が１つ以上の有機化合物からなり得る。

第１の正孔輸送層の厚さは、１５０ｎｍ未満、１００ｎｍ未満、５０ｎｍ未満、４０ｎｍ未満、３０ｎｍ未満、２０ｎｍ未満、または１５ｎｍ未満であり得る。

第１の正孔輸送層の厚さは、３ｎｍ超、５ｎｍ超、８ｎｍ超、または１０ｎｍ超であり得る。

第１の正孔輸送層の一実施形態では、ｐ－ドーパントは均一かつ等方的に分布され得る。別の一実施形態では、ｐ－ドーパントはマトリックスと均一に混合されてもよいが、ｐ－ドーパントの濃度は、第１の正孔輸送層中で勾配を示してもよい。一実施形態では、第１の正孔輸送層が副層を含み得、ここで、前記ｐ－ドーパントの量は、重量および／または体積において、層に追加で含まれ得る他の成分の総量を超えてもよい。

一実施形態では、副層の総重量に基づくｐ－ドーパントの重量濃度は、副層の総重量に対して５０％を超えてもよく、あるいは副層の総重量に対して、ｐ－ドーパントは少なくとも７５重量％、あるいは少なくとも９０重量％、あるいは少なくとも９５重量％、あるいは少なくとも９８重量％、あるいは少なくとも９９重量％、あるいは少なくとも９９．５重量％、あるいは少なくとも９９．９重量％で形成されてもよい。便宜上、ｐ－ドーパントのみを堆積することによって製造される第１の輸送層の任意の副層は、純水な（正孔注入）ｐ－ドーパント副層として割り当てることができる。

第１の正孔輸送層と同様に、金属塩および／または金属錯体と接触する類似の正孔輸送マトリックスの組み合わせを含み得るディスプレイデバイス中の任意の他の層にも、同じことが当てはまり得る。

例えば、ディスプレイデバイスに含まれる画素は、一実施形態ではｐ－ドーパントで均一にドープされた正孔輸送マトリックスからなる正孔生成層を含んでもよい。別の一実施形態では、正孔生成層は、ｐ－ドーパントの量が重量および／または体積において、他の成分の総量を超える副層を含んでもよい。

陽極は、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）またはアルミニウム亜鉛酸化物（ＡＺＯ）のような透明導電性酸化物（ＴＣＯ）から作製されてもよい。あるいは、陽極は、半透明の陽極となる１つ以上の薄い金属層から作製されてもよい。別の一実施形態では、陽極が可視光に対して透明でない厚い金属層から作製されてもよい。

ＯＬＥＤ画素は、第１の正孔輸送層と発光層との間に設けられた電子阻止層（ＥＢＬ）を含んでもよい。ＥＢＬは、第１のＨＴＬおよびＥＭＬと直接接触していてもよい。電子阻止層は、有機正孔輸送マトリックス材料から作製される電気的にドープされていない層（言い換えれば、電子素子層が電気的ドーパントを含まない）であってもよい。第１の正孔輸送層の有機正孔輸送マトリックス材料の組成は、電子阻止層の有機正孔輸送マトリックス材料の組成と同じであってもよい。本発明の別の一実施形態では、両方の正孔輸送マトリックス材料の組成は異なっていてもよい。

ＥＢＬの層厚は、３０ｎｍ超、５０ｎｍ超、７０ｎｍ超、１００ｎｍ超、または１１０ｎｍ超であり得る。

ＥＢＬの厚さは、２００ｎｍ未満、１７０ｎｍ未満、１４０ｎｍ未満、または１３０ｎｍ未満であり得る。ＥＢＬと比較して、共通ＨＴＬは、約１段階薄くてもよい。

電子阻止層を形成する各化合物は、共通の正孔輸送層の正孔輸送マトリックス材料を形成する任意の化合物の最高被占軌道（ＨＯＭＯ）準位よりも高い、ＨＯＭＯエネルギー準位を有し得る。前記ＨＯＭＯエネルギー準位は、真空エネルギー準位がゼロの場合と比較した絶対尺度で表される。

電子阻止層の有機マトリックス材料は、正孔輸送層のマトリックス材料の正孔移動度以上の正孔移動度を有し得る。

共通のＨＴＬおよび／またはＥＢＬの正孔輸送マトリックス（ＨＴＭ）材料は、非局在化電子の共役系を含む化合物から選択することができ、前記共役系は、少なくとも２つの第３級アミン窒素原子の孤立電子対を含む。

ドープされた正孔輸送層および／または共通正孔輸送層の正孔輸送マトリックス材料に好適な化合物は、公知の正孔輸送マトリックス（ＨＴＭ）、例えばトリアリールアミン化合物から選択することができる。ドープされた正孔輸送材料のためのＨＴＭは、非局在化電子の共役系を含む化合物であってもよく、前記共役系は少なくとも２つの第３級アミン窒素原子の孤立電子対を含む。例えば、Ｎ４，Ｎ４’－ジ（ナフタレン－１－イル）－Ｎ４，Ｎ４’－ジフェニル－［１，１’－ビフェニル］－４，４’－ジアミン（ＨＴ１）、およびＮ４，Ｎ４，Ｎ４”，Ｎ４”－テトラ（［１，１’－ビフェニル］－４－イル）－［１，１’：４’，１”－テルフェニル］－４，４”－ジアミン（ＨＴ４）である。テルフェニルジアミンＨＴＭの合成は、例えば、ＷＯ２０１１／１３４４５８Ａ１、ＵＳ２０１２／２２３２９６Ａ１またはＷＯ２０１３／１３５２３７Ａ１に記載されており；１，３－フェニレンジアミンマトリックスは例えば、ＷＯ２０１４／０６０５２６Ａ１に記載されている。これらの文書は、本明細書に参考として援用される。多くのトリアリールアミンＨＴＭは市販されている。

ＯＬＥＤディスプレイの発光層は、前記副領域の各々は複数の画素のうちの１つに割り当てられる。ディスプレイの発光層の副領域に対応する個々の画素の発光層は、隣接する画素の発光層に接触しないことが好ましい。ディスプレイ製造プロセスでは、個々の画素のＥＭＬを含む有機層が、例えば、上面発光、底面発光、または底面発光マイクロキャビティのいずれかにおいて、ファインメタルマスク（ＦＭＭ）、レーザ励起熱転写法（ＬＩＴＩ）、および／またはインクジェット印刷（ＩＪＰ）などの公知の方法によってパターン化され得る（例えば、Chung et al. (2006), 70.1: Invited Paper: Large-Sized Full
Color AMOLED TV: Advancements and Issues. SID Symposium Digest of Technical Papers, 37: 1958-1963. doi: 10.1889/1.2451418; Lee et al. (2009), 53.4: Development
of 31-Inch Full-HD AMOLED TV Using LTPS-TFT and RGB FMM. SID Symposium Digest of Technical Papers, 40: 802-804. doi: 10.1889/1.3256911を参照のこと）。ＲＧＢ位置決めが設けられてもよい。

複数のＯＬＥＤ画素について、共通の電子輸送層は、複数のＯＬＥＤ画素の有機層の積層体中に設けられた電子輸送層によって形成されてもよい。

共通電子輸送層は、有機電子輸送マトリックス（ＥＴＭ）材料を含むことができる。さらに、共通電子輸送層は、１つ以上のｎ－ドーパントを含んでもよい。ＥＴＭに好適な化合物は、例えば文献ＥＰ１９７０３７１Ａ１またはＷＯ２０１３／０７９２１７Ａ１に開示されているように、芳香族またはヘテロ芳香族の構造部分を含む。

陰極は、低い仕事関数を有する金属または金属合金から作製することができる。ＴＣＯから作製された透明な陰極も、当該技術分野で周知である。

有機層の積層体は、２０００ｇ／ｍｏｌ未満の分子量を有する有機化合物から作製することができる。また別の一実施形態では、有機化合物が１０００ｇ／ｍｏｌ未満の分子量を有し得る。

以下には、さらなる実施形態を、図面を参照した実施例によって、さらに詳細に説明する。図面では以下のものが示されている。
ディスプレイが複数のＯＬＥＤ画素を有する、アクティブＯＬＥＤディスプレイの概略の図である。本発明の例示的な実施形態に係る有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）の概略の断面図である。本発明の例示的な実施形態に係るＯＬＥＤの概略の断面図である。本発明の例示的な実施形態に係る、電荷発生層を含むタンデムＯＬＥＤの概略の断面図である。略式Ｃ_４２Ｆ_４８Ｎ_６Ｏ_１３Ｓ_６Ｚｎ_４を有する逆配位錯体Ｅ３の結晶構造を示す。

図１は、ＯＬＥＤディスプレイ１に設けられた複数のＯＬＥＤ画素２、３、４を有するアクティブＯＬＥＤディスプレイ１の概略の図を示す。

ＯＬＥＤディスプレイ１において、各画素２、３、４には、駆動回路（図示せず）に接続される陽極２ａ、３ａ、４ａが設けられている。アクティブマトリックスディスプレイのための駆動回路として機能することができる種々の装置が、当技術分野で知られている。一実施形態では、陽極２ａ、３ａ、４ａはＴＣＯ、例えばＩＴＯから作製される。

陰極６は、電気的にドープされた正孔輸送層（ＨＴＬ）７、電子阻止層（ＥＢＬ）５、画素２、３、４に割り当てられ、電子輸送層（ＥＴＬ）９内に別々に設けられた副領域２ｂ、３ｂ、４ｂを有する発光層（ＥＭＬ）を含む有機積層体の上に設けられる。例えば、副領域２ｂ、３ｂ、４ｂは、カラーディスプレイのためのＲＧＢの組み合わせ（Ｒ－赤、Ｇ－緑、Ｂ－青）を提供することができる。別の一実施形態では、個々の色の画素が、カラーフィルタの適切な組み合わせが設けられた類似の白色ＯＬＥＤを含むことができる。陽極２ａ、３ａ、４ａおよび陰極６を介して画素２、３、４に個別の駆動電流を加えることにより、表示画素２、３、４は独立して操作される。

図２は、本発明の例示的な実施形態に係るディスプレイデバイス中のＯＬＥＤ画素を代表し得る、有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）１００の概略の断面図である。ＯＬＥＤ１００は、基板１１０、陽極１２０、正孔注入層（ＨＩＬ）１３０、正孔輸送層（ＨＴＬ）１４０、発光層（ＥＭＬ）１５０、電子輸送層（ＥＴＬ）１６０を含む。電子輸送層（ＥＴＬ）１６０は、ＥＭＬ１５０上に直接形成される。電子輸送層（ＥＴＬ）１６０上には、電子注入層（ＥＩＬ）１８０が配置されている。陰極１９０は、電子注入層（ＥＩＬ）１８０上に直接配置される。

単一の電子輸送層１６０の替わりに、任意選択で電子輸送層積層体（ＥＴＬ）を使用してもよい。

図３は、本発明の別の例示的な実施形態に係るディスプレイデバイス中のＯＬＥＤ画素を代表し得る、ＯＬＥＤ１００の概略の断面図である。図３は、図３のＯＬＥＤ１００が電子阻止層（ＥＢＬ）１４５および正孔阻止層（ＨＢＬ）１５５を含む点で、図２と異なる。

図３を参照すると、ＯＬＥＤ１００は、基板１１０、陽極１２０、正孔注入層（ＨＩＬ）１３０、正孔輸送層（ＨＴＬ）１４０、電子阻止層（ＥＢＬ）１４５、発光層（ＥＭＬ）１５０、正孔阻止層（ＨＢＬ）１５５、電子輸送層（ＥＴＬ）１６０、電子注入層（ＥＩＬ）１８０および陰電極１９０を含む。

図４は、本発明の別の例示的な実施形態に係るディスプレイデバイス中のＯＬＥＤ画素を代表し得る、タンデムＯＬＥＤ２００の概略の断面図である。図４は、図３のＯＬＥＤ１００が電荷発生層および第２の発光層をさらに含む点で図３と異なる。

図４を参照すると、ＯＬＥＤ２００は、基板１１０、陽極１２０、第１の正孔注入層（ＨＩＬ）１３０、第１の正孔輸送層（ＨＴＬ）１４０、第１の電子阻止層（ＥＢＬ）１４５、第１の発光層（ＥＭＬ）１５０、第１の正孔阻止層（ＨＢＬ）１５５、第１の電子輸送層（ＥＴＬ）１６０、ｎ型電荷発生層（ｎ型ＣＧＬ）１８５、正孔発生層（ｐ型電荷発生層；ｐ型ＧＣＬ）１３５、第２の正孔輸送層（ＨＴＬ）１４１、第２の電子阻止層（ＥＢＬ）１４６、第２の発光層（ＥＭＬ）１５１、第２の正孔阻止層（ＥＢＬ）１５６、第２の電子輸送層（ＥＴＬ）１６１、第２の電子注入層（ＥＩＬ）１８１および陰極１９０を含む。

図２、図３および図４には示されていないが、ＯＬＥＤ１００、２００を封止するために、陰電極１９０上に封止層をさらに形成することができる。また、他にも種々の変形が可能である。

〔合成実施例〕
＜ＬｉＰＦＰＩ＞

１．０ｇ（１．２９ｍｍｏｌ）のＮ－（ビス（パーフルオロフェニル）ホスホリル）－Ｐ，Ｐ－ビス（パーフルオロフェニル）ホスフィンアミドを、２０ｍＬの乾燥トルエンに溶解し、０℃に冷却し、１０ｍｇ（１２．９ｍｍｏｌ、１．０当量）の水素化リチウムを添加する。混合物を、２時間加熱還流する。室温に冷却した後、生成物を２０ｍＬのｎ－ヘキサンで沈殿させ、濾過し、ｎ－ヘキサン（２×１０ｍＬ）で洗浄する。高真空中で乾燥させた後、０．６２ｇ（６１％）の生成物を白色固体として得た。

＜ＺｎＰＦＰＩ＞

２．０ｇ（２．５７ｍｍｏｌ）のＮ－（ビス（パーフルオロフェニル）ホスホリル）－Ｐ，Ｐ－ビス（パーフルオロフェニル）ホスフィンアミドを、５０ｍＬの乾燥トルエンに溶解し、０℃に冷却する。１．６ｍＬ（１．４０ｍｍｏｌ、０．５５当量）の０．９Ｍジエチル亜鉛・ヘキサン溶液を添加する。混合物を、２時間加熱還流する。室温に冷却した後、生成物を５０ｍＬのｎ－ヘキサンで沈殿させ、濾過し、ｎ－ヘキサン（２×１０ｍＬ）で洗浄する。高真空中で乾燥させた後、１．０５ｇ（５１％）の生成物を白色固体として得た。

＜リチウムビス（（パーフルオロヘキシル）スルホニル）アミド＞
［工程１：リチウムビス（（パーフルオロヘキシル）スルホニル）アミド］

乾燥シュレンクフラスコ中、１０．２５ｇ（２５．７ｍｍｏｌ）のパーフルオロヘキシルスルホニルアミドを、１００ｍＬの乾燥ＴＨＦに溶解する。Ａｒ向流下で、０．５１ｇ（６４．２ｍｍｏｌ、２．５当量）の水素化リチウムを、氷冷した当該溶液に添加する。得られた懸濁液に、１０．３３ｇ（２５．７ｍｍｏｌ、１．０当量）のパーフルオロヘキシルスルホニルフルオリドを滴下する。混合物を６０℃で約１８時間加熱する。混合物を室温に冷却し、濾過し、溶媒を減圧下で除去する。残渣を５０ｍＬのトルエンで処理し、再び濃縮する。懸濁液である粗生成物を、５０ｍＬのヘキサンで洗浄し、固体を濾過し、真空中で乾燥させる。１３．４９ｇ（６７％）の生成物を淡黄色粉末として得た。

［工程２：リチウムビス（（ペルフルオロヘキシル）スルホニル）アミン］

５．０ｇ（６．３５ｍｍｏｌ）のビス（（パーフルオロヘキシル）スルホニル）アミドを、１００ｍＬのジエチルエーテルに溶解し、４０ｍＬの２５％硫酸水溶液を氷冷下で慎重に添加する。混合物を１５分間激しく撹拌する。有機相を分離し、硫酸マグネシウム上で乾燥させ、５ｍＬのトルエンを発泡しないように加え、溶媒を減圧下で蒸発させる。残渣を、約１４０℃の温度および約４Ｐａの圧力下で、バルブトゥバルブ(bulb to bulb)蒸留装置を用いて精製する。３．７０ｇ（７５％）の生成物を、黄色がかった蝋状固体として得た。

［工程３：リチウムビス（（パーフルオロヘキシル）スルホニル）アミド］

１．０ｇ（１．２８ｍｍｏｌ）のビス（（パーフルオロヘキシル）スルホニル）アミンを５ｍＬの乾燥メチル－ｔｅｒｔ－ブチルエーテル（ＭＴＢＥ）に溶解する。Ａｒ向流下で、１２ｍｇ（１．２４ｍｍｏｌ、１．０当量）のＬｉＨを添加する。反応混合物を一晩撹拌し、次いで、溶媒を減圧下で除去する。淡いピンク色の固体残渣を真空中、６０℃で乾燥させる。０．８９ｇ（８８％）の生成物を黄色がかった白色固体として得た。

エレクトロスプレーイオン化法を用いたマススペクトル（ＭＳ－ＥＳＩ）において、中間体であるビス（（パーフルオロヘキシル）スルホニル）アミン中ならびにＬｉ塩中のｍ／ｚが、７８０（アニオンＣ_１２Ｆ_２６ＮＯ_４Ｓ_２）と主要な存在であることから、予想されていた合成結果が確認された。

＜亜鉛ビス（（パーフルオロヘキシル）スルホニル）アミド＞

１．０ｇ（１．２８ｍｍｏｌ）のビス（（パーフルオロヘキシル）スルホニル）アミンを６ｍＬの乾燥ＭＴＢＥに溶解する。０．７１ｍＬ（０．６４ｍｍｏｌ、０．５当量）のジエチル亜鉛・ヘキサン溶液を滴下する。反応混合物を一晩撹拌し、溶媒を減圧下で除去する。真空中６０℃で乾燥させた後、０．７９４ｇ（７８％）の淡いピンク色の固体を得た。

同様に、亜鉛ビス（パーフルオロプロピル）スルホニルアミド（ＣＡＳ１０４０３５２－８４－８、ＺｎＨＦＳＩ）を製造した。

＜亜鉛ビス（（パーフルオロプロパン－２－イル）スルホニル）アミド＞

０．５ｇ（１．０４ｍｍｏｌ）のビス（（パーフルオロプロパン－２－イル）スルホニル）アミンを、１０ｍＬの乾燥ＭＴＢＥに溶解し、０．４７ｍＬ（０．５２ｍｍｏｌ、０．５当量）のジエチル亜鉛・ヘキサン溶液を滴下する。混合物を室温で一晩撹拌する。１０ｍＬのヘキサンを添加し、得られた沈殿固体を濾過し、高真空中で乾燥させる。０．３４ｇ（３３％）の生成物を白色粉末として得た。

＜マグネシウムビス（（パーフルオロプロパン－２－イル）スルホニル）アミド＞

０．５ｇ（１．０４ｍｍｏｌ）のビス（（パーフルオロプロパン－２－イル）スルホニル）アミンを、１０ｍＬの乾燥ＭＴＢＥに溶解し、０．５２ｍＬ（０．５２ｍｍｏｌ、０．５当量）のジブチルマグネシウム・ヘプタン溶液を滴下し、混合物を室温で一晩撹拌する。溶媒を減圧下で除去し、残渣を高真空下で乾燥させる。０．３８ｇ（７４％）の生成物を白色粉末として得た。

＜トリス（４，５，６，７－テトラフルオロ－３－（トリフルオロメチル）－１Ｈ－インダゾール－１－イル）ヒドロホウ酸リチウム（ＰＢ－１）＞
［工程１：４，５，６，７－テトラフルオロ－３－（トリフルオロメチル）－１Ｈ－インダゾール］

１１．０９ｇ（４５．１ｍｍｏｌ）のパーフルオロアセトフェノンを１００ｍＬのトルエンに溶解する。溶液を氷浴で冷却し、２．３ｍＬ（２．３７ｇ、４７．３ｍｍｏｌ、１．０５当量）のヒドラジン一水和物を滴下して添加する。混合物を３日間、加熱還流する。室温まで冷却した後、前記混合物を、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液１００ｍＬで２回、および水１００ｍＬで２回洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥させ、溶媒を減圧下で除去する。黄色の油状残渣を約１４０℃の温度および約１２Ｐａの圧力でバルブトゥバルブ蒸留する。粗生成物を熱ヘキサンに溶解し、溶液を－１８℃で保存する。沈殿固体を濾別し、懸濁液を１０ｍＬのヘキサンで２回洗浄する。５．０ｇ（４３％）の生成物をわずかに黄色の固体として得た。
ＧＣＭＳ：予想されるＭ／ｚ（質量／電荷）比２５８を確認した。

［工程２：トリス（４，５，６，７－テトラフルオロ－３－（トリフルオロメチル）－１Ｈ－インダゾール－１－イル）ヒドロホウ酸リチウム］

Ａｒ向流下で、５．１ｇ（１９．８ｍｍｏｌ）の４，５，６，７－テトラフルオロ－３－（トリフルオロメチル）－１Ｈ－インダゾールを、焼き出した(out-baked) シュレンクフラスコに添加し、３ｍＬのトルエンで処理する。新たに粉砕した水素化ホウ素リチウムを出発材料に添加する。混合物を、水素形成が停止するまで（約４時間）、１００℃に加熱する。わずかに冷却した後、１５ｍＬのヘキサンを添加し、混合物を１０分間、加熱還流し、室温に冷却する。沈殿固体を濾別し、１０ｍＬの熱ヘキサンで洗浄し、高真空中で乾燥させる。２．５５ｇ（４９％）の生成物を黄色がかった白色の固体として得た。

＜トリス（３，５－ビス（トリフルオロメチル）－１Ｈ－ピラゾール－１－イル）ヒドロホウ酸リチウム（ＰＢ－２）＞

焼き出したシュレンクフラスコ中、２．０ｇ（９．８ｍｍｏｌ、５当量）の３，５－ビス（トリフルオロメチル）ピラゾールを５ｍＬの乾燥トルエンに溶解する。Ａｒ向流下で、４３ｍｇ（１．９６ｍｍｏｌ、１当量）の新たに粉砕した水素化ホウ素リチウムを添加し、混合物を３日間、加熱還流する。溶媒および過剰の出発材料を減圧下での蒸留によって除去し、残渣をｎ－クロロヘキサンから結晶化させる。０．２５ｇ（２０％）の生成物を白色固体として得た。

＜トリス（４，５，６，７－テトラフルオロ－３－（パーフルオロフェニル）－１Ｈ－インダゾール－１－イル）ヒドロホウ酸リチウム（ＰＢ－３）＞
［工程１：４，５，６，７－テトラフルオロ－３－（パーフルオロフェニル）－１Ｈ－インダゾール］

２０．０ｇ（５４．８ｍｍｏｌ）のパーフルオロベンゾフェノンを２００ｍＬのトルエンに溶解する。４．０ｍＬ（４．１１ｇ、８２．１ｍｍｏｌ、約１．５当量）のヒドラジン一水和物を、氷冷した溶液に滴下して添加する。４０ｇの硫酸ナトリウムを添加し、混合物を２日間、加熱還流する。冷却後、１０ｍＬのアセトンを反応混合物に添加し、得られた懸濁液を室温で１時間撹拌する。固体を濾別し、４×５０ｍＬのトルエンで十分に洗浄し、有機画分を合わせ、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で２回洗浄する。溶媒を減圧下で除去し、残渣をカラムクロマトグラフィーにより精製した。７．９２ｇ（４１％）の生成物を淡黄色固体として得た。
ＧＣ－ＭＳ：予想されるＭ／ｚ（質量／電荷）比３５６を確認した。

［工程２：トリス（４，５，６，７－テトラフルオロ－３－（パーフルオロフェニル）－１Ｈ－インダゾール－１－イル）ヒドロホウ酸リチウム］

焼き出したシュレンクフラスコ中、１．０２ｇ（２．８６ｍｍｏｌ、３．０当量）の４，５，６，７－テトラフルオロ－３－（パーフルオロフェニル）－１Ｈ－インダゾールを、５ｍＬのクロロベンゼンに溶解させる。Ａｒ向流下で、新たに粉砕した水素化ホウ素リチウム（２１ｍｇ、０．９５ｍｍｏｌ、１．０当量）を添加する。混合物を１５０℃で２日間加熱し、室温に冷却する。溶媒を減圧下で除去し、残渣を高真空下で乾燥させる。粗生成物をさらに、約１５０℃の温度および約１２Ｐａの圧力下、バルブトゥバルブ蒸留装置中で乾燥させることで精製する。０．５７ｇ（７０％）の生成物を、黄色がかった白色の固体として得た。

＜トリス（３－シアノ－５，６－ジフルオロ－１Ｈ－インダゾール－１－イル）ヒドロホウ酸リチウム（ＰＢ－４）＞

新たに粉砕した水素化ホウ素リチウム（１５ｍｇ、０．７ｍｍｏｌ、１．０当量）を焼き出した圧力管に入れ、Ａｒ向流下で、０．５ｇ（２．７９ｍｍｏｌ、４．０当量）の５，６－ジフルオロ－１Ｈ－インダゾール－３－カルボニトリルを添加し、１ｍＬのトルエンで洗浄する。圧力管を閉じ、約１６０℃の温度に約２１時間加熱する。室温に冷却した後、超音波浴中で約３０分間、混合物を５ｍＬのヘキサンで処理する。沈殿固体を濾別し、ヘキサン（合計２０ｍＬ）で洗浄する。乾燥後、０．４８ｇの黄色がかった固体を得た。

＜トリス（３，５－ビス（トリフルオロメチル）－１Ｈ－ピラゾール－１－イル）ヒドロホウ酸亜鉛（ＩＩ）（ＰＢ－５）＞

０．５７ｇ（０．９１ｍｍｏｌ）のトリス（３，５－ビス（トリフルオロメチル）－１Ｈ－ピラゾール－１－イル）ヒドロホウ酸リチウムを６ｍＬのＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミドに溶解する。水１ｍＬ中に二塩化亜鉛６２ｍｇを含む水溶液を滴下して添加する。２０ｍＬの水をさらに添加し、混合物を超音波浴中で２時間処理する。沈殿物を濾別し、高真空中で乾燥させる。０．４８５ｇ（８２％）の生成物を、黄色がかった白色固体として得た。

＜例示的な化合物Ｅ３＞
前駆体化合物Ｅ２をスキーム１に従って製造した。

［工程１：１，１，１－トリフルオロ－Ｎ－（パーフルオロフェニル）メタンスルホンアミドの合成］
２５０ｍＬのシュレンクフラスコを真空中で加熱し、冷却後、窒素でパージする。パーフルオロアニリンを１００ｍＬのトルエンに溶解し、溶液を－８０℃まで冷却する。１．７Ｍのｔ－ブチルリチウム・ヘキサン溶液を、シリンジを介して、１０分間かけて滴下して添加する。反応溶液は透明から濁った状態に変化し、前記反応溶液を－８０℃で１時間撹拌する。その後、溶液を－６０℃に温め、１．１当量のトリフルオロメタンスルホン酸無水物を前記溶液に滴下して添加する。次いで、冷却浴を除去し、反応混合物を周囲温度までゆっくりと温め、一晩撹拌すると、色が明るい橙色に変化する。さらに、白色固体が形成される。沈殿した副生成物であるトリフルオロメタンスルホン酸リチウムを、焼結ガラスフィルター上での吸引濾過によって濾別し、２×３０ｍＬのトルエンおよび３０ｍＬのｎ－ヘキサンで洗浄する。橙色の濾液を蒸発させ、高真空中で乾燥させて、結晶を形成する。粗生成物をバルブトゥバルブ蒸留（１３５℃、１．２×１０^－１ｍｂａｒ）によって精製し、結晶性の無色固体（主画分）を得た。

^１ＨＮＭＲ［ｄ^６－ＤＭＳＯ、ｐｐｍ］δ：１３．０９（ｓ、１Ｈ、Ｎ－Ｈ）。

^１３Ｃ｛^１Ｈ｝ＮＭＲ［ｄ^６－ＤＭＳＯ、ｐｐｍ］δ：１１６．７５（ｍ、Ｃｉ－Ｃ_６Ｆ_５）、１２０．７４（ｑ、^１Ｊ_ＣＦ＝３２５Ｈｚ、ＣＦ_３）、１３６．３９、１３８．３５（２ｍ、^２Ｊ_ＣＦ＝２４７Ｈｚ、ｍ－Ｃ_６Ｆ_５）、１３７．０８、１３９．０６（２ｍ、^２Ｊ_ＣＦ＝２４７Ｈｚ、ｐ－Ｃ_６Ｆ_５）、１４２．９８、１４４．９３（２ｍ、^２Ｊ_ＣＦ＝２４７、Ｈｚｏ－Ｃ_６Ｆ_５）。

^１９ＦＮＭＲ［ｄ^６－ＤＭＳＯ、ｐｐｍ］δ：－７７．４５（ｍ、ＣＦ_３）、－１４８．１２（ｍ、Ｃ_６Ｆ_５）、－１６０．７９（ｍ、ｐ－Ｃ_６Ｆ_５）、－１６４．５１（ｍ、Ｃ_６Ｆ_５）。

ＥＳＩ－ＭＳ：ｍ／ｚ－ｎｅｇ＝３１４（Ｍ－Ｈ）。
ＥＩ－ＭＳ：ｍ／ｚ＝３１５（Ｍ）、１８２（Ｍ－ＳＯ_２ＣＦ_３）、６９（ＣＦ_３）。

［工程２：ビス（（１，１，１－トリフルオロ－Ｎ－（パーフルオロフェニル）メチル）－スルホンアミド）亜鉛の合成］
１００ｍＬのシュレンクフラスコを真空中で加熱し、冷却後、窒素でパージする。１，１，１－トリフルオロ－Ｎ－（パーフルオロフェニル）メタンスルホンアミドを１０ｍＬのトルエンに溶解し、周囲温度で、ヘキサン中で０．５当量のジエチル亜鉛を、シリンジを介して溶液に滴下して添加する。添加中、フラスコ中に靄が形成され、反応溶液はゼリー状になり、濁った状態になる。水溶液をこの温度でさらに３０分間撹拌する。その後、３０ｍＬのｎ－ヘキサンを添加し、白色沈殿を形成する。次いでこれを不活性雰囲気下で焼結ガラスフィルター（細孔４）上で濾過する。濾過ケーキを１５ｍＬのｎ－ヘキサンで２回洗浄し、高真空中、１００℃で２時間乾燥させた。

収量：６６０ｍｇ（０．９５ｍｍｏｌ、１，１，１－トリフルオロ－Ｎ－（パーフルオロフェニル）メタンスルホンアミドに対して６０％）を、白色固体として得た。
^１３Ｃ｛^１Ｈ｝ＮＭＲ［ｄ^６－ＤＭＳＯ、ｐｐｍ］δ：１２１．６８（ｑ、^１Ｊ_ＣＦ＝３２８Ｈｚ、ＣＦ_３）、１２３．５６（ｍ、Ｃｉ－Ｃ_６Ｆ_５）、１３３．９８、１３５．９１（２ｍ、^２Ｊ_ＣＦ＝２４３Ｈｚ、ｐ－Ｃ_６Ｆ_５）、１３６．１５、１３８．１３（２ｍ、^２Ｊ_ＣＦ＝２４９Ｈｚ、ｍ－Ｃ_６Ｆ_５）、１４２．３３、１４４．２４（２ｍ、^２Ｊ_ＣＦ＝２４０、Ｈｚｏ－Ｃ_６Ｆ_５）。
^１９ＦＮＭＲ［ｄ^６－ＤＭＳＯ、ｐｐｍ］δ：－７７．５２（ｍ、ＣＦ_３）、－１５０．４３（ｍ、Ｃ_６Ｆ_５）、－１６６．７７（ｍ、Ｃ_６Ｆ_５）、－１６８．２３（ｍ、ｐ－Ｃ_６Ｆ_５）
ＥＳＩ－ＭＳ：ｍ／ｚ－ｎｅｇ＝３１４（Ｍ－Ｚｎ－Ｌ）。
ＥＩ－ＭＳ：ｍ／ｚ＝６９２（Ｍ）、５５９（Ｍ－ＳＯ_２ＣＦ_３）、３１５（Ｃ_６Ｆ_５ＮＨＳＯ_２ＣＦ_３）、１８２（Ｃ_６Ｆ_５ＮＨ）、６９（ＣＦ_３）。

［例示的な化合物Ｅ３］
９．１ｇのＥ２を２４０℃および１０^－３Ｐａの圧力で昇華させる。

収量５．９ｇ（６５％）。

昇華した材料は無色の結晶を形成する。適切な形および大きさ（０．０９４×０．０５２×０．０４３ｍｍ^３）の１つの結晶を、アルゴン雰囲気下でガラスキャピラリー中に封入し、モリブデン陰極（λ＝７１．０７３ｐｍ）を備えた光源からの単色Ｘ線放射を用いてＫａｐｐａＡｐｅｘＩＩ回折計（Bruker-AXS、Karlsruhe、Germany）で分析した。シータ範囲１．８８１～２８．３０６°内で、全３７３６２回の反射を収集した。

前記化合物の構造は、直接法（Shelxs-97、Sheldrick、2008）によって分解され、完全行列最小二乗法（SHELXL-2014/7、Olex2（Dolomanov、2017））によって精密化された。

ＡＢＨ－１１３は発光宿主であり、ＮＵＢＤ－３７０およびＤＢ－２００は青色蛍光発光ドーパントであり、全て韓国のＳＦＣから商業的に入手可能である。

真空蒸着プロセスに使用する前に、ＭｇＴＦＳＩ（Alfa Aesar、ＣＡＳ１３３３８５－１６－１）、ＭｎＴＦＳＩ（Alfa Aesar、ＣＡＳ２０７８６１－５５－０）、ＳｃＴＦＳＩ（Alfa Aesar、ＣＡＳ１７６７２６－０７－１）、Ｆｅ（ＩＩＩ）（ＴＦＳＩ）（Alfa Aesar、ＣＡＳ２０７８６１－５９－４）、ＬｉＮＦＳＩ（American Custom Chemicals Corporation、ＣＡＳ１１９２２９－９９－１）のような市販のスルホニルイミド塩を含む、補助材料および試験化合物を、分取真空昇華によって精製した。

［装置例］
＜装置例１＞（純粋な正孔生成副層中に濃縮されたｐ－ドーパントとして、金属錯体または金属塩を含む底面発光白色ＯＬＥＤ画素）
厚さ９０ｎｍのＩＴＯ陽極を備えたガラス基板上に、８重量％のＰＤ－２でドープされたＦ１から作製される１０ｎｍの正孔注入層と、純粋なＦ１からなる厚さ１４０ｎｍの非ドープ正孔輸送層と、３重量％のＢＤ２００でドープされたＡＢＨ１１３（両方とも韓国、ＳＦＣ社によって提供される）から形成される厚さ２０ｎｍの第１の発光層と、純粋なＦ２から作製される厚さ２５ｎｍの第１の電子輸送層と、５重量％のＹｂでドープされたＦ３から作製される厚さ１０ｎｍの電荷発生層の電子発生部（ｎ－ＣＧＬ）と、Ｆ４から作製される厚さ２ｎｍの中間層と、ＰＢ－１から作製される厚さ３０ｎｍの電荷発生層の正孔発生部（ｐ－ＣＧＬ）と、純粋なＦ１から作製される厚さ１０ｎｍの第２の正孔輸送層と、第１の発光層と同じ厚さおよび組成の２０ｎｍの第２の発光層と、純粋なＦ２から作製される厚さ２５ｎｍの第１の電子輸送層と、５重量％のＹｂでドープされたＦ３から作製される厚さ１０ｎｍの電子注入層（ＥＩＬ）と、１００ｎｍのＡｌ陰極と、を順に堆積させた。

全ての層を、真空熱蒸着（ＶＴＥ）によって堆積させた。

電流密度１０ｍＡ／ｃｍ^２における、デバイスの動作電圧８Ｖおよび観測されたルミナンスは、ＰＢ－１の替わりに市販の最新技術のｐ－ドーパントを含む同じデバイスに十分に匹敵した。この実験では、照度／効率比較に必要な測定装置の精密な較正は行わなかった。

＜装置例２＞（純粋な正孔注入副層に濃縮されたｐ－ドーパントとして、金属錯体または金属塩を含む底面発光青色ＯＬＥＤ画素）
次に、装置例１と同じＩＴＯ陽極を備えたガラス基板上に、以下の層をＶＴＥによって順に堆積させた：化合物ＰＢ－１から作製される１０ｎｍの正孔注入層；純粋なＦ１から作製される厚さ１２０ｎｍのＨＴＬ；３重量％のＮＵＢＤ３７０でドープされたＡＢＨ１１３（両方とも韓国、ＳＦＣ社によって供給される）から作製される２０ｎｍのＥＭＬ；５０重量％のＬｉＱでドープされたＦ２から作製される３６ｎｍのＥＩＬ／ＥＴＬ；１００ｎｍのＡｌ陰極。

比較デバイスは、ＰＢ－１の替わりに化合物ＣＮ－ＨＡＴ（ＣＡＳ１０５５９８－２７－４）から作製されるＨＩＬを含んでいた。

本発明のデバイスは動作電圧５．２Ｖで電流密度１５ｍＡ／ｃｍ^２および外部量子効率（ＥＱＥ）５．４％を達成したが、比較デバイスは有意に高い電圧５．４Ｖおよび有意に低いＥＱＥ４．９％で同じ電流密度を示した。

＜装置例３＞（金属錯体または金属塩で均一にドープされた正孔輸送マトリックスからなる正孔注入副層を含む底面発光青色ＯＬＥＤ画素）
次に、装置例２と同じＩＴＯ陽極を備えたガラス基板上に、以下の層をＶＴＥによって順に堆積させた：８重量％のＰＢ－１でドープされたマトリックス化合物Ｆ２から作製される１０ｎｍの正孔注入層；純粋なＦ１から作製される１２０ｎｍの厚さのＨＴＬ；３重量％のＮＵＢＤ３７０でドープされたＡＢＨ１１３（両方とも韓国、ＳＦＣ社によって供給される）から作製される２０ｎｍのＥＭＬ；５０重量％のＬｉＱでドープされたＦ２から作製される３６ｎｍのＥＩＬ／ＥＴＬ；１００ｎｍのＡｌ陰極。

本発明のデバイスは、電圧５．６Ｖで電流密度１５ｍＡ／ｃｍ^２およびＥＱＥ５．６％を達成した。ＬＴ９７（電流密度１５ｍＡ／ｃｍ^２において、照度が最初の値の９７％に低下するのに要する動作時間）は、１３５時間であった。

＜装置例４＞（金属錯体または金属塩で均一にドープされた正孔輸送マトリックスからなる正孔発生副層を含む白色ディスプレイ画素）
装置例１と同様に製造したデバイスにおいて、純粋なＰＢ－１層を、３５重量％のＰＢ－１でドープされたＦ２からなる同じ厚さの層で置き換えた。

＜装置例５＞（純粋な正孔生成副層中に濃縮されたｐ－ドーパントとして、金属錯体または金属塩を含む青色ディスプレイ画素）
表２ａは、モデルデバイスを概略的に示す。

２種類の例示的なｐ－ドーパントについての結果を表２ｂに示す。

＜装置例６＞（金属錯体または金属塩で均一にドープされた正孔輸送マトリックスからなる正孔注入副層を含む青色ディスプレイ画素）
表３ａは、モデルデバイスを概略的に示す。

２種類の例示的なｐ－ドーパントについての結果を表３ｂに示す。

＜装置例７＞（純粋な正孔生成副層中に濃縮されたｐ－ドーパントとして、金属錯体または金属塩を含む青色ディスプレイ画素）
表４ａは、モデルデバイスを概略的に示す。

２種類の例示的なｐ－ドーパントについての結果を表４ｂに示す。

＜装置例８＞（金属錯体または金属塩で均一にドープされた正孔輸送マトリックスからなる正孔生成副層を含む青色ディスプレイ画素）
表５ａは、モデルデバイスを概略的に示す。

２種類の例示的なｐ－ドーパントについての結果を表５ｂに示す。

前述の説明および従属請求項に開示される特徴は、別々に、およびその任意の組み合わせの両方で、独立請求項においてなされた開示の態様をその多様な形態で実現するための材料であり得る。

本明細書を通して使用される主要な記号および略語：
ＣＶサイクリックボルタンメトリー
ＤＳＣ示差走査熱量測定
ＥＢＬ電子阻止層
ＥＩＬ電子注入層
ＥＭＬ発光層
ｅｑ．当量
ＥＴＬ電子輸送層
ＥＴＭ電子輸送マトリックス
Ｆｃフェロセン
Ｆｃ^＋フェリセニウム
ＨＢＬ正孔阻止層
ＨＩＬ正孔注入層
ＨＯＭＯ最高被占軌道
ＨＰＬＣ高速液体クロマトグラフィー
ＨＴＬ正孔輸送層
ｐ－ＨＴＬｐ－ドープされた正孔輸送層
ＨＴＭ正孔輸送マトリックス
ＩＴＯインジウムスズ酸化物
ＬＵＭＯ最低空軌道
ｍｏｌ％モルパーセント
ＮＭＲ核磁気共鳴
ＯＬＥＤ有機発光ダイオード
ＯＰＶ有機光起電力
ＱＥ量子効率
Ｒ_ｆＴＬＣ遅延因子
ＲＧＢ赤－緑－青
ＴＣＯ透明導電性酸化物
ＴＦＴ薄膜トランジスタ
Ｔ_ｇガラス遷移温度
ＴＬＣ薄層クロマトグラフィー
ｗｔ％重量パーセント

Claims

少なくとも２つのＯＬＥＤ画素を含む複数のＯＬＥＤ画素であって、前記ＯＬＥＤ画素は、陽極、陰極、および有機層の積層体を含み、前記有機層の積層体は、前記陰極と前記陽極との間に、前記陰極と前記陽極とに接するように配置され、前記有機層の積層体は、第１の電子輸送層、第１の正孔輸送層、および当該第１の正孔輸送層と当該第１の電子輸送層との間に設けられた第１の発光層を含む、ＯＬＥＤ画素、ならびに
前記複数のＯＬＥＤ画素の画素を別々に駆動するように構成された駆動回路
を含むディスプレイデバイスであって、
ここで、前記複数のＯＬＥＤ画素において、前記第１の正孔輸送層は、前記複数のＯＬＥＤ画素によって共有される共通の正孔輸送層として、前記有機層の積層体に設けられ、
前記第１の正孔輸送層は
（ｉ）共有結合原子からなる、少なくとも１つの第１の正孔輸送マトリックス化合物、
（ｉｉ）金属塩、および金属カチオンならびに少なくとも６つの共有結合原子からなる少なくとも１つのアニオンおよび／または少なくとも６つの共有結合原子からなる少なくとも１つのアニオン性配位子を含む電気的に中性の金属錯体から選択される少なくとも１つの電気的ｐ－ドーパント、
を含み、
前記電気的ｐ－ドーパントの前記金属カチオンは、
アルカリ金属；
アルカリ土類金属、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｃｄ；
酸化状態（ＩＩ）または酸化状態（ＩＩＩ）である希土類金属；
および
酸化状態（ＩＶ）以下のＴｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、ＭｏならびにＷから選択される、ディスプレイデバイス。
前記アニオンおよび／またはアニオン性配位子が、Ｂ、Ｃ、Ｎから選択される少なくとも１つの原子を含む、請求項１に記載のディスプレイデバイス。
前記アニオンおよび／またはアニオン性配位子が、共有結合によって互いに結合している、Ｂ、ＣおよびＮから選択される少なくとも２つの原子を含む、請求項１または２に記載のディスプレイデバイス。
前記アニオンおよび／またはアニオン性配位子が、Ｈ、Ｎ、Ｏ、Ｆ、Ｃｌ、ＢｒおよびＩから選択される少なくとも１つの末端原子を含む、請求項１～３のいずれか１項に記載のディスプレイデバイス。
前記アニオンおよび／またはアニオン性配位子が、ハロゲン化アルキル、ハロゲン化（ヘテロ）アリール、ハロゲン化（ヘテロ）アリールアルキル、ハロゲン化アルキルスルホニル、ハロゲン化（ヘテロ）アリールスルホニル、ハロゲン化（ヘテロ）アリールアルキルスルホニル、シアノから選択される少なくとも１つの電子求引基を含む、請求項１～４のいずれか１項に記載のディスプレイデバイス。
前記電子求引基が過ハロゲン化基である請求項５に記載のディスプレイデバイス。
前記過ハロゲン化電子求引基が過フッ素化基である請求項６に記載のディスプレイデバイス。
前記ｐ－ドーパントの前記金属カチオンが、Ｌｉ（Ｉ）、Ｎａ（Ｉ）、Ｋ（Ｉ）、Ｒｂ（Ｉ）、Ｃｓ（Ｉ）；Ｍｇ（ＩＩ）、Ｃａ（ＩＩ）、Ｓｒ（ＩＩ）、Ｂａ（ＩＩ）、Ｍｎ（ＩＩ）、Ｆｅ（ＩＩ）、Ｃｏ（ＩＩ）、Ｎｉ（ＩＩ）、Ｚｎ（ＩＩ）、Ｃｄ（ＩＩ）；酸化状態（ＩＩＩ）の希土類金属、Ｖ（ＩＩＩ）、Ｎｂ（ＩＩＩ）、Ｔａ（ＩＩＩ）、Ｃｒ（ＩＩＩ）、Ｍｏ（ＩＩＩ）、Ｗ（ＩＩＩ）およびＴｉ（ＩＶ）、Ｚｒ（ＩＶ）、Ｈｆ（ＩＶ）から選択される、請求項１～７のいずれか１項に記載のディスプレイデバイス。
前記ｐ－ドーパント分子において、前記金属カチオンに最も近い前記アニオンおよび／または前記アニオン性配位子の原子が、Ｃ原子またはＮ原子である、請求項２～８のいずれか１項に記載のディスプレイデバイス。
前記電気的ｐ－ドーパントが、標準量子化学法によって計算された最低空軌道のエネルギー準位を有し、標準量子化学法によって計算された前記第１の正孔輸送マトリックス化合物の最高被占軌道のエネルギー準位を超え、絶対真空尺度で少なくとも０．５ｅＶを示し、前記標準量子化学法は、基底系ｄｅｆ２－ＴＺＶＰを有するＤＦＴ機能Ｂ３ＬＹＰを使用するソフトウェアパッケージTURBOMOLEを使用する、請求項１～９のいずれか１項に記載のディスプレイデバイス。
前記第１の正孔輸送マトリックス化合物が有機化合物である、請求項１～１０のいずれか１項に記載のディスプレイデバイス。
前記第１の正孔輸送マトリックス化合物および前記電気的ｐ－ドーパントが５０℃を超える温度で曝露され、相接する少なくとも１つの工程を含む、請求項１～１１のいずれか１項に記載のディスプレイデバイスの製造方法。
（ｉ）前記ｐ－ドーパントおよび前記第１の正孔輸送マトリックス化合物を、溶媒中に分散させ、
（ｉｉ）当該分散液を、固体支持体上に堆積させ、かつ
（ｉｉｉ）前記溶媒を、高温で蒸発させる、
請求項１２に記載の方法。
減圧下、前記ｐ－ドーパントを蒸発させる工程をさらに含む、請求項１２に記載の方法。
前記ｐ－ドーパントが、固体水和物の形態で使用される、請求項１２～１４のいずれか１項に記載の方法。
前記ｐ－ドーパントが、０．１０重量％未満の水を含む無水固体として使用される、請求項１４に記載の方法。