JP7315542B2 - 薄板ガラス基板、特にホウケイ酸ガラス薄板ガラス基板、その製造方法および製造装置 - Google Patents

Description

本発明は、薄板ガラス基板、特にホウケイ酸ガラス薄板ガラス基板、その製造方法および製造装置に関する。さらに、特に前記方法によって製造された薄板ガラス基板の光学品質を調べるための測定方法を記載する。

薄板ガラス基板は、自動車工学においても重要性を増している。なぜなら、薄板ガラス基板を用いると、自動車の軽量化が可能であるだけでなく、その窓ガラスの光学特性にも決定的に影響を及ぼせるためである。

例えば、二次元情報をリアプロジェクションに挿入する際、または自動車の周辺から光学データをセンシングにより取得する際の、その基板の光学特性に課される要求の増加に伴って、光学的に高品質の薄板ガラス基板、およびその重量の低下に適切なさらなる開発への需要の増大が生じる。特に、ｅ－モビリティ、つまり電気駆動車両においては、車両の窓ガラスの軽量化が非常に重要である。

独国特許出願公開第２３０９４４５号明細書は、溶融ガラスが、自由降下中に金属浴に注がれる、厚さが２．５ｍｍ未満の薄板フロートガラスの製造方法であって、その金属浴上では、１０^５．２５ポアズまでの粘度範囲において、溶融ガラスが、側面ガイドローラの介入なしに均等な厚さの層へと自由に広がり、次いでガラスリボンが、フロートバスの次の区間において変形可能状態に維持され、かつその速度が上昇する中で縦方向に引き伸ばされ、ただし、その変形領域では、ガラスリボンの周縁領域に対して上方から作用するローラのみによってガラスリボンへと力が加わり、その力が、所定の厚さへと徐々に延伸させるために引張力の延伸効果を徐々に制御する方法に関する。

特開平７－５３２２３号公報には、主要な成形の後に、トップロール延伸設備を使用した後に、光学品質を向上させるため、特に、マイクロコルゲーションと呼ばれる光学特性を軽減させるための、オーバーヘッドクーラと呼ばれる冷却設備が記載されている。しかしながら、その際、マイクロコルゲーションの軽減は、筋（Ｚｉｅｈｓｔｒｅｉｆｉｇｋｅｉｔ）の視覚的顕著性に対して副次的な影響しか及ぼさない。

さらに、熱成形設備に進入する際にじかに熱を除去することも可能であるが、これは、従来はわずかな程度にすぎない。

国際公開第２０１６／０４８８１５号には、ガラスリボンの熱成形中にその局所温度に影響を及ぼせる装置が記載されている。

米国特許第３８４３３４４号明細書には、フロート設備の横断面図が示されている。その横断面図に示されるツイールまたは貫流量を制御するための設備の近傍では、ガラスが自由に流動できる必要があると開示されており、ただし、ガラスがいかなる応力、つまりいかなる引張応力またはせん断応力も受けず、かつそれらの応力を流動によって緩和できることになるほどに、温度が高く粘度が低い必要がある。この文献には、より詳細には、その位置でのｌｏｇ_１０粘度が３．０より低いことが望ましいと記載されている。

米国特許第３９６１９３０号明細書には、少なくとも部分的に成形されたガラスが、そのさらなる成形前に加熱されることが教示されている。

豪国特許出願公開第４６３１９７２号明細書には、フロート前にガラスを、処理量を制御するための部材、特に制御ゲートを備えた窓を通して移動させることが記載されており、その窓の中では、該ガラスが、およそ１２５０℃から１３００℃の温度へと加熱され、その際、およそ１０^３ポアズの粘度になる。

国際公開第２０１６／００７８１２号には、様々なプロセスパラメータ、例えば、フロートバス上のガラスリボンの粘度を調整するためのフィードバックループが開示されているが、それに関して、それぞれの具体的な値は挙げられていない。

国際公開第２０１１／１０３８０１号には、その構成のガラスが酸化ホウ素および特にホウケイ酸ガラスを含有し得る高速列車用ガラス板構成が記載されている。

本発明の課題は、光学品質が向上した薄板ガラス基板、特にホウケイ酸ガラス薄板ガラス基板、その製造方法および製造装置を提供することである。さらに本発明は、光学品質が向上した薄板ガラス基板、特にホウケイ酸ガラス薄板ガラス基板の有利な使用にも関する。さらに、光学品質を調べるための有利な方法が提供される。

前記課題は、それぞれ、独立請求項に記載される方法および装置によって解決される。有利な発展形態は、各従属請求項および明細書から読み取れる。

驚くべきことに、本発明者は、薄板ガラス基板の製造方法であって、好ましくは薄板ガラス基板、特に筋目（Ｚｉｅｈｓｔｒｅｉｆｅｎ）が減少した薄板ガラス基板の連続的な製造方法によって、溶融後でかつ熱成形前に、成形すべきまたは少なくとも部分的に成形されたガラスの粘度を、得るべき薄板ガラス基板のために定義された方法で調整し、かつ熱成形すべきガラスを、熱成形設備に供給する前に、その粘度を定義された方法で調整し、特に定義された冷却によって調整することによって、その筋目を減少できることを見出した。以下の粘度に関する全データ、特に数値データは、簡潔にするためにおよびこの技術分野では習慣的であるとおり常に明示されなくとも、ｌｇ η／ｄＰａｓで示されている。

この場合、筋目の減少とは、筋目の大きさが低下することと理解され、それは、理想平面の基板、特に薄板ガラス基板と比べた、筋目によって形成される山部の体積の低下を意味する。その際、低下の比較には、熱成形すべきガラスの、リップストーン部（Ｌｉｐｐｅｎｓｔｅｉｎ）またはスパウトの上流での粘度、例えば、ｌｇ η／ｄＰａｓが３．４７である方法を利用し、その方法に関しては、以下の詳細な説明の中で、具体的な測定結果をもとにさらに詳細に説明する。本発明によるガラスと同様に、従来の比較ガラスの場合も、以下の比較測定にはそれぞれ、薄板ガラス基板を用いて行う測定に関する以下の記載においてさらに詳しく具体化される組成を有するガラスを使用した。

さらに、総じて、薄板ガラス基板とは、筋目が減少した薄板ガラス基板であって、該薄板ガラス基板の主表面のうちの一方に、山部、特に長く伸びた山部が形成され、該山部は、ほぼ法線方向に隆起し、かつ該山部において、縦方向長さ（Ｌａｅｎｇｓｅｒｓｔｒｅｃｋｕｎｇ）が、該山部の横方向長さの２倍超、好ましくは３倍超、特に好ましくは５倍超であり、該山部は、Ｖ字形の厚さ変動および反りを補正した１０×１０ｃｍ^２の分析面の算術平均で、好ましくは延伸方向に対して垂直な熱成形されたガラスリボンの中央において、平均で１００ｎｍ未満、好ましくは９０ｎｍ未満、特に好ましくは８０ｎｍ未満の高さ、およびホウケイ酸ガラス薄板ガラス基板の場合は８５ｎｍ未満、好ましくは７５ｎｍ未満、特に好ましくは６５ｎｍの高さを有し、かつ該山部の横方向長さはそれぞれ４０ｍｍ未満である薄板ガラス基板と理解される。

薄板とは、ガラス、特に、さらにはホウケイ酸ガラスの製造プロセスのフロートから明確になる。フロート時には、高温のガラス、特にホウケイ酸ガラスが液体スズ上へと単に流出する際に、およそ７ｍｍの平衡厚さが生じる。本発明の趣旨での薄板ホウケイ酸ガラスは、高温のガラスの、特にホウケイ酸ガラスの流出後に、ガラス厚が５ｍｍ以下になるように長さおよび幅が引き伸ばされる。以前の数理モデルから、加工温度を比較的高くすると光学品質も比較的高くなることが明らかであったため、当初は、温度低下に伴う粘度の増大が光学品質の向上を達成するための有望な措置とは考えられなかった。

特に、薄板ガラス基板の連続的な製造において、従来は、熱成形すべきガラスを供給する溶融窯と液体金属を含むフロートバスとの間の区間を、空間的に可能な限り短くかつプロセス工学上、直接的に構成することが重視されていた。さらに、低温に伴う、溶融すべきガラスの高粘度は、溶融窯にとってむしろ不利である。なぜなら、粘度の上昇と共に、ガラスの均質化も困難になるためである。さらに、熱成形すべきガラスの冷却は、通常は、高処理量の妨げとなる。なぜなら、その場合、粘性にしか流動しないガラスが、熱成形プロセスチェーン内で、貫流速度を下げる傾向を示すためである。それゆえ従来は、熱成形のプロセスチェーンに対して温度を低下させる介入を行うことは、特に不利であると考えられていた。これは特に、その介入が早い時点で行われることでプロセスチェーン全体に影響が及ぶ場合に言えることである。

薄板ガラス基板を製造するための好ましい一方法では、粘度の調整を、液体ガラスを供給するためのリップストーン部、つまりスパウトの上流で行い、特に金属浴上へ供給する前に行う。本開示において、リップストーン部およびスパウトの用語は同義で使用され、その際、それぞれ、本分野での当業者には公知の同一用語を意味する。

この本発明によるスパウトまたはリップストーン部の上流でのプロセス工学上の介入は、驚くべきものである。なぜなら、従来のフロート設備は、通常は、構造上、スパウトまたはリップストーン部の上流での介入を許容するようには設計されていないためである。

本開示において、「上流」および「下流」なる用語は、まず空間的な意味を有する。その際、「上流」なる用語は、ガラスの流動または延伸方向において、さらなる対象の空間的に前方に位置する場所を表し、「下流」または「後方」なる用語は、ガラスの流動または延伸方向において、さらなる対象の空間的に後方または下流に位置する場所を表す。しかしながら、本発明の場合、ガラスを連続的に移動させる、またはガラスが連続的に移動するため、その結果、特に方法の実施に関して、特に工業上のプロセスチェーン内でも、各工程段階の該当する時間系列も生じ得る。

薄板ガラス基板を製造するための好ましい一方法では、粘度の調整を、制御ゲート、つまりガラス流の処理量を制御するための、ツイールとも呼ばれる部材の上流で行い、特に、金属浴上へ供給する前、つまりフロートバスの液体金属上へ供給する前に行う。

その際、定義された方法で調整されるとは、本開示において、粘度が定義された範囲内で調整されるように粘度の調整が行われることを意味する。それは特に、この調整後のガラスが、つまりガラスの調整された粘度ηが、実際に望ましい値に関する偏差を伴って存在し、つまり、定義された方法で調整された粘度からの偏差が、処理量を制御するための部材のすぐ後方の位置から１２ｍの距離では、つまり、ツイールのすぐ後方の位置から１２ｍの距離ではΔｌｇ η／ｄＰａｓ＝０．３未満であり、処理量を制御するための部材のすぐ後方の位置から１．５ｍの距離では、つまり、ツイールのすぐ後方の位置から１．５ｍの距離ではΔｌｇ η／ｄＰａｓ＝０．２未満であり、処理量を制御するための部材のすぐ上流では、つまり、ツイールのすぐ上流ではΔｌｇ η／ｄＰａｓ＝０．１未満であることも意味する。

薄板ガラス基板を製造するための好ましい一方法では、成形すべきまたは少なくとも部分的に成形されたガラスの粘度が、好ましくは溶融窯の流路端、および処理量を制御するための部材またはツイールの上流で、特に、処理量を制御するための部材またはツイールのすぐ上流において、少なくともｌｇ η／ｄＰａｓ＝３．７５～好ましくは最高で４．５であり、かつ／または処理量を制御するための部材またはツイールのすぐ後方において、ｌｇ η／ｄＰａｓ＝３．７５～好ましくは最高で４．５であり、かつ／または浴槽区間１またはベイ１の開始部および／または延伸方向で処理量を制御するための部材またはツイールの下流１．５ｍの距離において、少なくともｌｇ η／ｄＰａｓ＝５．２５～好ましくは最高で５．８５であり、かつ／または浴槽区間４またはベイ４の開始部、つまり延伸方向で処理量を制御するための部材またはツイールの下流１２ｍの距離において、少なくともｌｇ η／ｄＰａｓ＝７．０５～好ましくは最高で７．６である。

特に好ましい一実施形態では、処理量を制御するための部材またはツイールの下流１．５ｍまでの距離にわたる第１区間の粘度η_１に対して次の等式が成り立つが、ただし、ｙ_１は、それぞれ、処理量を制御するための部材またはツイールのすぐ後方の位置までの距離を表すため、処理量を制御するための部材またはツイールのすぐ後方では値がゼロである：
ｌｇ η_１（ｙ_１）／ｄＰａｓ＝（ｌｇ η_０１／ｄＰａｓ＋ａ_１（ｙ_１））
ここで、
０ｍ≦ｙ_１≦１．５ｍ
３．７５≦ｌｇ η_０１／ｄＰａｓ≦４．５
ａ_１（ｙ_１）＝１．００／ｍ×ｙ_１
である。

この等式は、値ｙに対する、ｌｇ η_１（ｙ_１）／ｄＰａｓの線形従属を、たとえそれが断片的には大部分において存在するとしても、必ずしも指定するものではなく、それぞれ、ｌｇ η_０１が前記の区間内を変動する場合には、固定位置ｙ_１でのｌｇ η_１（ｙ_１）の値範囲をも指定する。

本発明の好ましい実施形態では、１メートルの単位長あたりの０ｍ≦ｙ_１≦１．５ｍの範囲での粘度の変化は、特に好ましくはΔｌｇ η／ｄＰａｓ／Δｙ＝０．６６６／ｍ＋／－０．１／ｍであるが、しかしながら、０．３３４／ｍ超でかつ０．８／ｍ未満である値を有し、ただし、Δｌｇ η／ｄＰａｓという表現は、この等式では、実際に望ましい値に関する粘度の偏差ではなく、間隔範囲Δｙでの粘度の変化を表す。

さらなる好ましい一実施形態では、処理量を制御するための部材またはツイールの下流１２ｍの距離から、処理量を制御するための部材またはツイールの下流１６ｍまでの距離を有する第２区間の粘度η_２に対して次の等式が成り立つが、ただし、ｙ_２は、それぞれ、処理量を制御するための部材またはツイールのすぐ後方の位置までの距離を表すものとする：
ｌｇ η_２（ｙ_２）／ｄＰａｓ＝（ｌｇ η_０２／ｄＰａｓ＋ａ_２（ｙ_２））
ここで、
１２ｍ≦ｙ_２≦１６ｍ
７．０５≦ｌｇ η_０２／ｄＰａｓ≦７．６
ａ_２（ｙ_２）＝０．７８８／ｍ×（ｙ_２－１２ｍ）
である。

この等式は、値ｙに対する、ｌｇ η_２（ｙ_２）／ｄＰａｓの線形従属を、たとえそれが断片的には大部分において存在するとしても、必ずしも指定するものではなく、それぞれ、ｌｇ η_０２が前記の区間内を変動する場合には、固定位置ｙ_２でのｌｇ η_２（ｙ_２）の値範囲も指定する。

ここでは、本開示の全体と同様に、「ツイールの下流」または「ツイールの後方」の間隔または距離の指定は、たとえそれぞれ明示されなくても、ツイール１７のすぐ下流に位置するか、または流動方向で見てツイール１７の背後側に位置する場所から、その間隔または該当する距離がそれぞれ指定する場所までのＹ方向での間隔を示す。

したがって、ここでは、本開示の全体と同様に、「処理量を制御するための部材の下流」または「処理量を制御するための部材の後方」の間隔または距離の指定は、たとえそれぞれ明示されなくても、内容的には同じく、処理量を制御するための部材１７のすぐ後方に位置するか、または流動方向で見て処理量を制御するための部材１７の背後側に位置する場所から、その間隔または該当する距離がそれぞれ指定する場所までのＹ方向での間隔を示す。

その距離は、例示的に、図３において、Ｙ方向での値としてｍで示される。構造上、フロートバスの開始部が、ここではそうであるように、処理量を制御するための部材またはツイールの末端部、特にその、流動または延伸方向の最後方部と一致することも可能である。

薄板ガラス基板を製造するための好ましい方法では、成形すべきまたは少なくとも部分的に成形されたガラスの温度が、それに対して表面の筋目または長く伸びた山部の以下の測定およびその厚さが第１および第２の測定系列に関して記載されるガラスにおいて、好ましくは溶融窯の流路端、および処理量を制御するための部材またはツイールの上流で、特に処理量を制御するための部材のすぐ上流において、少なくとも１１００℃および最高で１１８０℃であり、かつ／または浴槽区間１またはベイ１の開始部および／または延伸方向で１．５ｍの距離において、少なくとも８５０℃および最高で９１０℃であり、かつ／または浴槽区間４またはベイ４の開始部および／または延伸方向で処理量を制御するための部材またはツイールの下流１２ｍの距離において、少なくとも７２０℃および最高で７６０℃である。

薄板ガラス基板を製造するための好ましい方法では、成形すべきまたは少なくとも部分的に成形されたホウケイ酸ガラスの温度が、それに対して表面の筋目または長く伸びた山部の以下の測定およびその厚さが第３および第４の測定系列に関して記載されるガラスにおいて、同じく、好ましくは溶融窯の流路端、および処理量を制御するための部材またはツイールの上流で、特に処理量を制御するための部材またはツイールのすぐ上流において、少なくとも１１８０℃および最高で１３３０℃であり、かつ／または浴槽区間１またはベイ１の開始部および／または延伸方向で１．５ｍの距離において、少なくとも１０００℃および最高で１０８０℃であり、かつ／または浴槽区間４またはベイ４の開始部および／または延伸方向でツイールの下流１２ｍの距離において、少なくとも８３０℃および最高で８８０℃である。

その際、それぞれ、最高で１０℃の最大温度偏差が存在した。温度の定義された調整とは、本開示の趣旨では、熱成形すべきガラスの、熱成形前または熱成形最中に行う、前記の最大温度偏差の範囲内にある温度調整を含む。ガラスの定義された冷却とは、本開示の趣旨では、熱成形すべきガラスの、熱成形前または熱成形最中に行う温度の低下を含み、その低下においても同様に、指定される温度は、前記の最大温度偏差の範囲内にある。

スズ浴の温度を制御するための方法、さらにはスズ浴の、異なる浴槽区間またはベイ中での温度を調整するための方法は、当業者には公知である。

好ましくは、薄板ガラス基板の製造方法において、熱成形に、延伸法、特にフロート法、ダウンドロー法、および／またはフュージョン法、特にオーバーフローフュージョンダウンドロー法を使用する。

薄板ガラス基板の製造方法では、有利には、薄板ガラス基板の熱成形に、Ｌｉ－Ａｌ－Ｓｉガラス、Ａｌ－Ｓｉガラス、ホウケイ酸ガラス、特に以下の成分（重量％）：
ＳｉＯ_２ ７０～８７
Ｂ_２Ｏ_３ ７～２５
Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ ０．５～９
Ａｌ_２Ｏ_３ ０～７
ＣａＯ ０～３
を含有するホウケイ酸ガラスを使用できる。

薄板ガラス基板の一製造方法では、薄板ガラス基板を熱成形するための一実施形態において、以下の組成：
ＳｉＯ_２ ７０～８６重量％
Ａｌ_２Ｏ_３ ０～５重量％
Ｂ_２Ｏ_３ ９．０～２５重量％
Ｎａ_２Ｏ ０．５～５．０重量％
Ｋ_２Ｏ ０～１．０重量％
Ｌｉ_２Ｏ ０～１．０重量％
を有するホウケイ酸ガラス、または
ＳｉＯ_２ ７８．３～８１．０重量％
Ｂ_２Ｏ_３ ９．０～１３．０重量％
Ａｌ_２Ｏ_３ ３．５～５．３重量％
Ｎａ_２Ｏ ３．５～６．５重量％
Ｋ_２Ｏ ０．３～２．０重量％
ＣａＯ ０．０～２．０重量％
を含有するホウケイ酸ガラス、特にアルカリホウケイ酸ガラスを使用する。

特に、さらには、特に、４．６重量％～５．４重量％のＬｉ_２Ｏ含有量、および８．１重量％～９．７重量％のＮａ_２Ｏ含有量、および１６重量％～２０重量％のＡｌ_２Ｏ_３含有量を有するＬｉ－Ａｌ－Ｓｉガラスも使用できる。

薄板ガラス基板を製造するための特に好ましい一方法では、薄板ガラス基板の主表面のうちの一方に、山部、特に長く伸びた山部が形成され、該山部は、ほぼ法線方向に隆起し、該山部の横方向長さの２倍超、好ましくは３倍超、特に好ましくは５倍超の縦方向長さを有し、かつＶ字形の厚さ変動および反りを補正した１０×１０ｃｍ^２の分析面の算術平均で、好ましくは延伸方向に対して垂直な熱成形されたガラスリボンの中央において、平均で１００ｎｍ未満、好ましくは９０ｎｍ未満、特に好ましくは８０ｎｍ未満の高さ、およびホウケイ酸ガラス薄板ガラス基板の場合は８５ｎｍ未満、好ましくは７５ｎｍ未満、特に好ましくは６５ｎｍの高さを有し、かつ該山部の横方向長さは、それぞれ４０ｍｍ未満である。

薄板ガラス基板の製造方法では、一実施形態において、熱成形により、薄板ガラス基板が、延伸方向に対して垂直な１ｍの長さについて１００μｍ未満の値、さらにホウケイ酸ガラスの場合は４０μｍ未満の値のほぼＶ字形の厚さ変動を有する。

薄板ガラス基板の製造方法では、一実施形態において、熱成形により、薄板ガラス基板が、さらに、延伸方向に対して垂直な１ｍの長さについて６００μｍ未満の値、さらにホウケイ酸ガラスの場合は３００μｍ未満の値の反りを有する。

熱成形により、薄板ガラス基板が、好ましくは、少なくとも１０ｃｍ×１０ｃｍの、該薄板ガラス基板の第１の主表面および第２の主表面の面積で算術平均して、０．３ｍｍ～２．６ｍｍの平均厚さを得ることができ、好ましくは０．７ｍｍ～２．５ｍｍの厚さを得ることができ、特に好ましくはおよそ０．７ｍｍの厚さまたはおよそ２．５４ｍｍの厚さを得ることができる。

さらなる形態では、１０ｍｍまで、その上１２ｍｍまでのガラス基板の厚ささえも本発明のすべての利点を伴って使用でき、かつ筋目の高さを減少させることができる。

薄板ガラス基板の製造方法では、好ましい実施形態において、薄板ガラス基板を、１日当たりの熱成形された薄板ガラスの処理量がガラス４００ｔ未満、好ましくは２００ｔ未満、最も好ましくは１００ｔ未満で熱成形した後に、良品ガラスの割合が、ガラス処理量全体の１５％超である。

薄板ガラス基板、特に、筋目が減少した薄板ガラス基板を製造するため、特に本明細書で開示される方法を実施するための本発明による装置は、溶融設備と、熱成形設備と、薄板ガラス基板へと成形すべきガラスの粘度を定義された方法で調整するための設備とを備え、該装置では、薄板ガラス基板へと成形すべきガラスの粘度を定義された方法で調整するための設備、特に前記設備が、熱成形設備の上流に配置されている。

この設備または薄板ガラス基板へと成形すべきガラスの粘度を定義された方法で調整するための設備は、特に好ましい実施形態では、リップストーン部またはスパウトの上流に配置されている。

好ましい一実施形態では、薄板ガラス基板へと成形すべきガラスの粘度を定義された方法で調整するための設備、特に前記設備が、処理量を制御するための部材またはツイールの上流、特に、処理量を制御するための部材またはツイールのすぐ上流に配置されていることも可能である。

特に好ましくは、粘度を定義された方法で調整するための設備は、冷却設備を備えている。

その際、粘度を定義された方法で調整するための設備は、熱成形すべきガラスから熱を吸収する流体貫流領域、特に水が貫流する領域を備えていてよい。

その熱吸収は、例示的には、直接熱伝導によって起こり得るが、さらには対流熱の吸収によっても起こり得る。

この装置では、本明細書に記載されるガラス粘度を、有利には、それぞれ、処理量を制御するための部材またはツイールのすぐ上流の位置ではΔｌｇ η／ｄＰａｓ＝０．１、処理量を制御するための部材またはツイールの下流１．５ｍの距離ではΔｌｇ η／ｄＰａｓ＝０．２、処理量を制御するための部材またはツイールの下流１２ｍの距離ではΔｌｇ η／ｄＰａｓ＝０．３の最大偏差となるように調整できる。

さらに、好ましい一装置では、センシングユニットが、熱成形すべきガラスの温度を特に１０℃の最大偏差で検知でき、かつ／または熱成形すべきガラスの粘度を検知でき、特に処理量を制御するための部材またはツイールのすぐ上流ではΔｌｇ η／ｄＰａｓ＝０．１、処理量を制御するための部材またはツイールの下流１．５ｍではΔｌｇ η／ｄＰａｓ＝０．２、および処理量を制御するための部材またはツイールの下流１２ｍではΔｌｇ η／ｄＰａｓ＝０．３の最大偏差で検知できる。

熱成形設備は、好ましい実施形態では、延伸設備、フロート設備、特にダウンドロー延伸設備、特にオーバーフローダウンドローフュージョン延伸設備を含み得る。

好ましい一実施形態の薄板ガラス基板は、薄板ガラス基板の主表面のうちの一方に、山部、特に長く伸びた山部を有し、該山部は、ほぼ法線方向に隆起し、かつ縦方向長さは、該山部の横方向長さの２倍超、好ましくは３倍超、特に好ましくは５倍超であり、かつ該山部は、Ｖ字形の厚さ変動および反りを補正した１０×１０ｃｍ^２の分析面の算術平均で、好ましくは延伸方向に対して垂直な熱成形されたガラスリボンの中央において、平均で１００ｎｍ未満、好ましくは９０ｎｍ未満、特に好ましくは８０ｎｍ未満の高さ、およびホウケイ酸ガラス薄板ガラス基板の場合は８５ｎｍ未満、好ましくは７５ｎｍ未満、特に好ましくは６５ｎｍの高さを有し、かつ該山部の横方向長さはそれぞれ４０ｍｍ未満である。前記の値は、それぞれ、本明細書に記載される方法とは異なる測定法を用いて、例えば、薄板ガラス基板上での機械的走査法によっても算出可能であり、その際、同一の測定値が得られる。しかしながら、光学的方法は非接触式に使用できるため、表面の変化、特に、例えば、測定場所での主表面のかき傷による損傷が生じない。

薄板ガラス基板の熱成形により、薄板ガラス基板は、延伸方向に対して垂直な１ｍの長さについて１００μｍ未満の値、さらにホウケイ酸ガラスの場合は４０μｍ未満の値を有するほぼＶ字形の厚さ変動Ｋ、および／または延伸方向に対して垂直な１ｍの長さについて６００μｍ未満の値、さらにホウケイ酸ガラスの場合は３００μｍ未満の値を有する反りＶを有し得る。

薄板ガラス基板は、好ましい実施形態では、少なくとも１０ｃｍ×１０ｃｍの、薄板ガラス基板の第１の主表面および第２の主表面の面積について平均して、０．５ｍｍ～２．６ｍｍの平均厚さを得ることができ、好ましくは０．７ｍｍ～２．５ｍｍの厚さを得ることができ、特に好ましくはおよそ０．７ｍｍの厚さまたはおよそ２．５４ｍｍの厚さを得ることができる。さらに、１０ｍｍまで、その上１２ｍｍまでの厚さを有するガラス基板をも製造することが可能である。

薄板ガラス基板は、ホウケイ酸ガラスを含んでいてもよく、その際、以下の成分を含有し得る（重量％）：
ＳｉＯ_２ ７０～８７
Ｂ_２Ｏ_３ ７～２５
Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ ０．５～９
Ａｌ_２Ｏ_３ ０～７
ＣａＯ ０～３。

薄板ガラス基板は、以下の組成：
ＳｉＯ_２ ７０～８６重量％
Ａｌ_２Ｏ_３ ０～５重量％
Ｂ_２Ｏ_３ ９．０～２５重量％
Ｎａ_２Ｏ ０．５～５．０重量％
Ｋ_２Ｏ ０～１．０重量％
Ｌｉ_２Ｏ ０～１．０重量％
を有するホウケイ酸ガラスも含み得る。

さらなる一実施形態では、薄板ガラス基板が、
ＳｉＯ_２ ７８．３～８１．０重量％
Ｂ_２Ｏ_３ ９．０～１３．０重量％
Ａｌ_２Ｏ_３ ３．５～５．３重量％
Ｎａ_２Ｏ ３．５～６．５重量％
Ｋ_２Ｏ ０．３～２．０重量％
ＣａＯ ０．０～２．０重量％
を含有するホウケイ酸ガラス、特にアルカリホウケイ酸ガラスを含む。

薄板ガラス基板は、Ｌｉ－Ａｌ－Ｓｉガラス、Ａｌ－Ｓｉガラス、ホウケイ酸ガラス、またはＫ－Ｎａ－Ｓｉガラスを含み得る。

しかしながら、好ましくは、薄板ガラス基板がＬｉ－Ａｌ－Ｓｉガラスを含み、特に、４．６重量％～５．４重量％のＬｉ_２Ｏ含有量、および８．１重量％～９．７重量％のＮａ_２Ｏ含有量、および１６重量％～２０重量％のＡｌ_２Ｏ_３含有量を有するリチウムアルミニウムシリケートガラスを含む。

本明細書で開示される薄板ガラス基板は、自動車用ガラス中に含まれていてもよく、特に合わせガラス板中に含まれていてもよい。

さらに、陸上、水上または水中および空中で運転される車両、特にモータ駆動車両用のフロントガラス投影設備、特にヘッドアップディスプレイも、有利には、本明細書で開示される薄板ガラス基板を、特に後方反射（Ｒｕｅｃｋｒｅｆｌｅｘｉｏｎ）面として含み得る。

したがって、薄板ガラス基板の使用が、合わせガラス板の一部としても、特に自動車用ガラスの一部として特に有利である。

本発明者は、薄板ガラス基板のすべての光学的欠点が、必ずしも同様に妨害またはその光学特性の低下を招く訳ではないことも確認した。

薄板ガラス基板の主表面のうちの一方の山部、特に長く伸びた山部は、フロートガラス上での一主要方向である熱成形すべきガラスの延伸方向または移動方向に延在し、従来は筋目とも呼ばれるが、これが一定サイズを超え、しかもそれぞれの光線路において円柱レンズの作用を有すると、光学特性の顕著な悪化を招きかねない。その種の山部または筋目は、典型的には４０ｍｍ未満の横方向長さを有する。

その種の光学的損傷の分類には、例えばシャドウキャスティング法が用いられ、その方法は、例えばＤＩＮ ５２３０５に記載されている。

しかしながら、このシャドウキャスティング法は、通常は透過光で操作されてガラス基板の両面が検知され、片面のみの光学相互作用に関する情報は得られないという欠点を有する。しかしながら、その薄板ガラス基板が、例えば自動車内で使用されるヘッドアップディスプレイに使用される場合、眺めの場合とは異なり、両主表面のうちの一方のみの光学品質がすでに決定的に重要である。後方反射での測定において光学測定光の最大偏差角を求める場合、この値も副次的な意味しかもたない。なぜなら、その場合、その被測定主表面で形成される系の特性に関する十分な情報が存在しないためである。

したがって、ガラス基板、特に薄板ガラス基板の光学特性を、より高い妥当性で把握可能にすることも重要である。その際、その種の方法によって、光学系内の挙動に関する直接的な説明、例えば、被測定領域全体のレンズのような屈折力に関する説明が得られれば有利であろう。

その際、ガラス基板、特に薄板ガラス基板の各主表面を、該薄板ガラス基板のそれぞれ他方の主表面と独立して測定できれば特に有利であろう。

以下、本発明に関して、添付の図面をもとに、また好ましい例示的実施形態および特に好ましい例示的実施形態に関連づけて、より詳細に説明する。

図１は、本発明の好ましい一実施形態の薄板ガラス基板の製造装置の断面図を示し、その断平面は、該装置のほぼ中央を通って垂直に延びる。 図２は、従来のフロート設備の薄板ガラス基板の製造装置の断面図を示し、その断平面は装置のほぼ中央を通って垂直に延びる。 図３は、好ましい一実施形態の薄板ガラス基板の製造装置の一部の上面図、特にフロートバス上の熱成形すべきガラスリボンの上面図を示す。 図４は、フロートバス上に存在するガラスの粘度推移を、デカルト座標系のＹ方向として指定されている流動または延伸方向において示す。 図５は、レーザ干渉計、特に位相シフトレーザ干渉計を使って光学的距離を測定するための、薄板ガラス基板の主表面上の測定領域および分析領域を図示する。 図６は、レーザ干渉計を用いて得られた薄板ガラス基板表面データ、特に表面構造の任意単位での斜視図を示す。 図７は、第１および第２の測定系列を測定した薄板ガラス基板の、レーザ干渉計を用いて得られた表面データのグレースケール図を示し、その表面データでは、筋目の厚さ値が濃淡値として識別できる。 図８は、第１および第２の測定系列を実施した薄板ガラス基板の、レーザ干渉計を用いて得られた表面データのＸ方向での導関数のグレースケール図を示し、その表面データでは、微分値が濃淡値として識別できる。 図９は、第１および第２の測定系列を実施した従来の薄板ガラス基板の、レーザ干渉計を用いて得られた表面データの光学的屈折力のグレースケール図を示し、その表面データでは、屈折力が濃淡値として識別できる。 図１０は、第１および第２の測定系列を実施した本発明による薄板ガラス基板の、レーザ干渉計を用いて得られた表面データの光学的屈折力のグレースケール図を示し、その表面データでは、屈折力が濃淡値として識別できる。 図１１は、白色光干渉計、特にフーリエ変換白色光干渉計、ＦＲＴ干渉計を使って光学的距離を測定するための、薄板ガラス基板の主表面上の測定領域ならびに分析領域を図示する。 図１２は、第１および第２の測定系列を実施した薄板ガラス基板の、ＦＲＴ干渉計を用いて得られた表面データのグレースケール図を示し、その表面データでは、筋目の上側主表面上の山部の値が濃淡値として識別できる。 図１３は、第１および第２の測定系列を実施した従来の薄板ガラス基板の、ＦＲＴ干渉計を用いて得られた表面データの光学的屈折力のグレースケール図を示し、その表面データでは、屈折力が濃淡値として識別できる。 図１４は、第１および第２の測定系列を実施した本発明による薄板ガラス基板の、ＦＲＴ干渉計を用いて得られた表面データの光学的屈折力のグレースケール図を示し、その表面データでは、屈折力が濃淡値として識別できる。 図１５は、第３および第４の測定系列を実施した従来の薄板ガラス基板の、レーザ干渉計を用いて得られた表面データのグレースケール図を示し、その表面データでは、筋目の厚さ値が濃淡値として識別できる。 図１６は、第３および第４の測定系列を実施した、本発明の方法により熱成形した薄板ガラス基板の、レーザ干渉計を用いて得られた表面データのグレースケール図を示し、その表面データでは、筋目の厚さ値が濃淡値として識別できる。 図１７は、本発明の好ましい実施形態による合わせガラス板を図示し、その合わせガラス板は、ヘッドアップディスプレイ用の反射面を有する。 図１８は、本発明の好ましい実施形態による合わせガラス板を図示し、その合わせガラス板は、ヘッドアップディスプレイ用の反射面を有する。

好ましい実施形態の詳細な説明
好ましい実施形態および特に好ましい実施形態に関する以下の記載では、異なる図面における同一の参照符号は、本明細書においてそれぞれ開示される装置の同一のまたは同一の作用を有する構成要素を表す。

薄板ガラス基板の厚さＤに関するデータは、図１７中で識別できるように、薄板ガラス基板の２つの主表面の間隔に相当し、かつ図１７中の参照符号Ｄの隣の２つの矢印が示すように、それぞれ該主表面に対して垂直に測定する。

優先権の基礎となる出願中ですでに記載したように、薄板ガラス基板、特にホウケイ酸ガラス薄板ガラス基板は、熱成形により、好ましくは、少なくとも１０ｃｍ×１０ｃｍの、該薄板ガラス基板の第１の主表面および第２の主表面の面積で算術平均して、０．３ｍｍ～２．６ｍｍの平均厚さを得ることができ、好ましくは０．７ｍｍ～２．５ｍｍの厚さを得ることができ、特に好ましくはおよそ０．７ｍｍの厚さまたはおよそ２．５４ｍｍの厚さを得ることができる。

まず、図２に示される、フロートガラスを製造するための従来設備に関し、その設備には、以下での本発明による装置と同様に、参照符号１が付されている。

このフロート設備は、溶融窯とも呼ばれる溶融炉２を有し、その溶融炉へは、溶融すべきガラスバッチ３を、公知のやり方で供給し、バーナー４を用いて、望みの組成のガラス溶融体５が形成されるまで加熱する。ガラス溶融体のさらなる均質化装置は当業者には公知であるため、詳細には記載しない。

流路６を介して、ガラス溶融体５の溶融ガラスが、通常は重力の作用下に、液体スズを有するフロートバス７上へと到達し、そのフロートバス上では、熱成形すべきガラス８が、その熱成形の一部として、重力の作用下に、その高さを下げつつ側方に広がることができる。

熱成形すべきガラスの温度を調整するために、スズ浴７が、フロートバス炉９中に配置されていてもよく、そのフロートバス炉も同じくバーナー１０を有し、それを使用して、熱成形すべきガラスの温度が調整可能である。

溶融窯２を離れると、熱成形すべき溶融ガラス８は、リップストーン部またはスパウトとも呼ばれる斜め下向きに延びるインレットリップ部１１を介してスズ浴７上へと案内され、そのインレットリップ部上ですでにガラスが広がり始める。延伸設備としてのローラ形状のトップローラ１２により、スズ浴７上で形成されるガラスリボン１３が、その拡散移動において、側方からその後の移動において、定義された方法で影響を受ける。図１および２には、それぞれ２つのトップローラのみが例示的に示されているが、必要に応じて、２つを超えるこのトップローラが存在し使用されることも可能である。

その熱成形後に、適宜、ガラスリボン１３を冷却炉１４へと移送してもよく、その冷却炉も同じく、ガラスリボンの、定義された温度低下のためのバーナー１５を有し得る。

冷却炉１４を離れた後、ガラスリボン１３は、次いでさらなる加工、特に、ガラス板またはガラス基板への個別化に提供される。

本発明による実施形態の以下の記載において、様々なアセンブリの空間配置、または例えば熱成形すべきガラスまたは薄板ガラス基板の特性をより明確に描写できるようにするため、まず、図３中に示す直交するＸ、Ｙ、およびＺ方向を定義するデカルト座標系が参照され、以下では、様々な図におけるすべての記載が、引き続きその方向を基準とする。

ＸおよびＹ方向は、水平に延在する、したがって実質的にはスズ浴７の表面に対して平行にも延びる平面に広がる。この平面に対して垂直に延びるＺ方向は上向きに延在し、それゆえ、このＺ方向は、ガラスリボン１３に対する法線方向をも定める。

以下は、薄板ガラス基板、特に筋目が減少した薄板ガラス基板の製造装置として、全体的に参照符号１’が付されたフロート設備を含む図１に関し、そのフロート設備は、図２に関連づけて記載されたすべての装置を有する。

その際、溶融設備１６としては、溶融窯または溶融炉２’、ガラスバッチ３の供給装置、およびバーナー４が含まれている。さらに、溶融窯２’は、熱成形すべき溶融ガラス８を、スズ浴７’上へと移送する流路６’を有する。

例示的に、流路６’の下流に、制御ゲート１７、つまりガラス流の処理量を制御するための、ツイールとも呼ばれる部材が配置されている。処理量を制御するための部材１７を形成する制御ゲートまたはツイール１７を、参照符号１７の隣に示す両向き矢印の方向にずらすことにより、流路６の横断面を狭くしたり大きくしたりできるため、溶融窯２’から単位時間ごとに流出する熱成形すべき溶融ガラス８の量を制御でき、特に定義された方法で調整できる。さらに、溶融窯２’とフロートバス炉９との間、特にツイール１７の上流に、この場合は流路６を、特に、さらには図１に示されるよりも長い区間にわたって形成する、供給溝が配置されていてもよい。処理量制御のより詳細な説明は、参照により同様に本願の主題とされる、同一出願人の独国特許出願公開第１０２０１３２０３６２４号明細書に見出される。

熱成形すべき溶融ガラス８の流動方向で見て、熱成形すべき溶融ガラス８の粘度を定義された方法で調整するための設備１８が、処理量を制御するための部材１７の上流およびリップストーン部またはスパウト１１の上流に配置されている。

好ましい実施形態では、粘度を定義された方法で調整するための設備１８が、該リップストーン部または該スパウトのすぐ上流に配置されていることも可能である。

この、粘度を定義された方法で調整するための設備１８は、チャンバ１９を含み、そのチャンバは、溶融窯２’から分離されていてもよいし溶融窯の一部を形成してもよく、かつ薄板ガラス基板へと成形すべき溶融ガラス８を、その粘度を定義された方法で調整するために受容する。

さらに、粘度を定義された方法で調整するための設備１８は、流体貫流領域２０、２１、特に水が貫流する領域を含み、その領域は、熱成形すべきガラス８から熱を吸収し、かつ金属配管系として形成されていてもよい。その金属配管系は、熱吸収を改善するために着色されているか、または耐熱塗料がその表面に施されていることも可能である。

別法としてまたは付加的に、チャンバ１９の隔壁２２、２３、２４および２５も、その温度が、例えばさらなる冷却設備により定義された方法で調整されるというようにして、熱成形すべきガラス８から熱を吸収できる。

チャンバ１９は、その隔壁２２、２３、２４および２５により、溶融窯２’から空間的に分離して形成されていることも可能であり、改善された放熱を提供するために、高温耐熱金属壁を有してもよく、それに関して、以下でさらに、図３に関連づけてより詳細に説明する。

粘度を定義された方法で調整するための設備１８、したがってチャンバ１９が、その隔壁２２、２３、２４および２５により、溶融窯２’から空間的に分離して形成されており、したがってもはや溶融窯２’の一部を形成しない場合、その実施形態に関しては、好ましくは溶融窯の流路端、および処理量を制御するための部材またはツイールの上流に該当する粘度および温度に関するいずれの記載も、処理量を制御するための部材またはツイールのすぐ上流の位置にしか関連せず、その場合は、該位置から空間的に離れた溶融窯の流路端を、もはや含まない。

前記のように、粘度を定義された方法で調整するための設備１８は、少なくとも１つの冷却設備を含み、それを使用して、熱成形すべきガラス８の温度、ひいては粘度も、定義された方法で調整可能である。それにより、ガラス８の粘度は、それぞれ、処理量を制御するための部材またはツイールのすぐ上流の位置ではΔｌｇ η／ｄＰａｓ＝０．１、処理量を制御するための部材またはツイールのすぐ後方の位置から１．５ｍの距離ではΔｌｇ η／ｄＰａｓ＝０．２、および処理量を制御するための部材またはツイールのすぐ後方の位置から１２ｍの距離ではΔｌｇ η／ｄＰａｓ＝０．３の最大偏差で調整可能である。

粘度を定義された方法で調整するための設備１８はさらに、センシングユニット２６を含み、このセンシングユニット２６は、熱成形すべきガラス８の温度を、特に１０℃の最大偏差で検知し、それゆえ熱成形すべきガラスの粘度も、特に、処理量を制御するための部材またはツイールのすぐ上流の位置ではΔｌｇ η／ｄＰａｓ＝０．１、処理量を制御するための部材またはツイールのすぐ後方の位置から１．５ｍの距離ではΔｌｇ η／ｄＰａｓ＝０．２、および処理量を制御するための部材またはツイールのすぐ後方の位置から１２ｍの距離ではΔｌｇ η／ｄＰａｓ＝０．３の最大偏差で検知する。

粘度測定は、本技術分野の当業者には十分に公知である。

しかしながら、粘度測定または粘度ηの算出は、それぞれ指定の位置で各ガラスの温度Ｔを測定し、次いでこの温度Ｔから粘度値ηに適切に換算することによっても行うことができる。

その場合、各ガラスに対して、その温度－粘度曲線を、温度値Ｔから粘度値ηへの換算に使用できる。この温度－粘度曲線は、各ガラスの測定すべきすべての温度Ｔに対して、その粘度ηを従来の様式で測定することにより、予め算出できる。

しかしながら、そのために、特に、当業者には公知のフォーゲル－フルチャー－タマン式ｌｇ η＝Ａ＋Ｂ／（Ｔ－Ｔｏ）（この場合、温度の記載は℃）も、各ガラスに対して使用できる。

それには、各ガラスに対して、該当する係数Ｔｏ、ＡおよびＢを、まず実験により求めてから、粘度ηの特定に使用できる。その場合、測定した温度Ｔの値によって、相応に測定され、かつこの式で換算された粘度ηの値が定められる。

非接触式温度測定、および別法としてまたは付加的に、被測定ガラスと接触する直接温度測定は、当業者には公知である。該当するセンサは、本開示において、例えばセンシング装置またはユニット２６により示されている。

センシング設備またはユニット２６は、ガラスと直接接触した状態であってよく、それゆえ温度の直接測定を行うことができるか、または熱成形すべきガラス８からの放射スペクトルを、スペクトルそれ自体および／もしくは放出される放射線の強度をもとに検知することにより温度を検知する放射線測定装置を含むことも可能である。センシングユニット２６は、ツイール１７のすぐ上流の位置に配置されていてもよく、その際、その、流動方向の前方側のすぐそばに配置されているか、または例示的に図１からも見て取れるように、ツイール１７までわずかな間隔を置いて配置されていることも可能である。唯一のセンシングユニット２６の代わりに、さらなるセンシングユニットが、別の位置、特に、流動方向に離れたさらなる位置に配置されていることも可能であり、例えば、もう１つのセンシングユニットが、さらに浴槽区間１またはベイ１の開始部、つまり延伸方向で処理量を制御するための部材またはツイールの下流１．５ｍまでの距離にも、さらには浴槽区間４またはベイ４の開始部および／または延伸方向で処理量を制御するための部材の下流１２ｍまでの距離にも配置され得るが、説明を簡潔にするために、図１に改めて独自には図示しなかった。

薄板ガラス基板、特に筋目が減少した薄板ガラス基板の製造装置１’は、流動または延伸方向で、粘度を定義された方法で調整するための設備１８の後方に存在し、かつリップストーン部またはスパウト１１を介して熱成形すべきガラス８を受容する熱成形設備４７を含む。この熱成形設備４７については、後で、さらに図３に関連づけながらより詳細に説明する。

リップストーン部またはスパウト１１は、熱成形すべきガラス８を、フロートバス炉９’内に収容されているスズ浴７’上へと導く。フロートバス炉９’の床には、スズ浴を複数のベイ３２～３７に区分するクロスバー２７～３１が存在する。その際、それぞれ、そのクロスバーで区分された浴槽区間をベイと呼ぶ。参照符号３２が付された第１の浴槽区間１またはベイ３２が、流動または延伸方向で見てインレットリップ部１１のすぐ後方にある、処理量を制御するための部材１７または制御ゲート１７から１．５ｍの距離において開始する。それぞれ、さらなる浴槽区間またはベイ３３～３７の開始部が、それぞれ、流動方向で後続のクロスバー２７～３１によって定められる。その際、流動方向で、クロスバー２７～３１の最前部が、それぞれ、後続の浴槽区間３３～３７またはベイ３３～３７の開始部を定める。つまり、浴槽区間４またはベイ４の開始部、つまり流動方向で第４のベイまたは第４の浴槽区間の開始部が、処理量を制御するための部材１７または制御ゲートから１２ｍの距離にある。フロートバスは、通常、７つまたは８つのベイに区分されるのに対して、図１には例示的に、順々に位置する６つのベイのみが示されており、それらは、参照符号３２～３７が付されたベイ１～ベイ６である。さらなる記載として、対応するベイを有するフロートバスが開示されている独国特許出願公開第１０２００６０５１６３７号明細書が参照される。

スズ浴７’上で形成されるガラスリボン１３の上方には、図３からも容易に識別できるように、ガラスリボン１３を機械的移動させるために、トップローラ１２’の他に、さらなるトップローラ３８～４４が配置されている。

参照符号３２を有するベイ１の開始部までは、延伸または流動方向で、処理量を制御するための部材またはツイール１７の末端部からの距離が１．５ｍであり、参照符号３５を有するベイ４の開始部までは、延伸または流動方向で、処理量を制御するための部材１７またはツイール１７の末端部からの距離が１２ｍであり、それは、図３のデカルト座標系のＹ方向にスケーリングされた説明からも読み取れる。

図３からは、さらに、別法としてまたは付加的な、粘度を定義された方法で調整するための設備１８の一形態が見て取れる。溶融ガラス８が、図３には示されていない溶融窯２’からフロートバス炉９’へと通じる流路６’中に存在する。流路６’の隔壁４５、４６は、高温耐熱金属、例えば白金から形成されており、その高温耐熱金属は同じく、無機耐火材上の金属層として配置されていてもよい。隔壁４５、４６の温度の定義された調整により、ガラス８から熱を除去することができ、ガラスの温度に加えて粘度も定義された方法で調整できる。この実施形態においても、前記のセンシングユニット２６が、好ましくはツイール１７の近傍に配置可能である。

前記では、熱成形設備４７用に、フロート設備、特に、スズ浴７’を有するフロートバス炉９’を含む延伸設備を記載した。

しかしながら、本発明はさらなる形態において、図には示されていないダウンドロー延伸設備、特にオーバーフロー・ダウンドロー・フュージョン延伸設備も含むことができ、かつ本方法は、フロート法のみならず、ダウンドロー法、特にオーバーフロー・フュージョン・ダウンドロー法をも含む。

以下では、図４に関し、この図は、フロートバス７’上に存在するガラス８またはガラスリボン１３の粘度推移を、デカルト座標系のＹ方向としても指定されている中心線Ｍに沿って流動または延伸方向において示し、その際、ガラス８またはガラスリボン１３のそれぞれの粘度ηを、Ｙ方向の位置の関数として示す。

図４には、Ｙ方向で、処理量を制御するための部材１７またはツイール１７の上流、およびリップストーン部１１またはスパウト１１の上流にある位置に矢印４８が示されている。Ｙ方向でのこの位置は、好ましい実施形態では、処理量を制御するための部材１７またはツイール１７のすぐ上流、つまり流動方向で見て、処理量を制御するための部材またはツイールの前端の直前にある。本開示において、特に粘度または温度に関して「処理量を制御するための部材の上流」または「ツイールの上流」に関する記載がなされる限り、その記載は、好ましい実施形態では、処理量を制御するための部材の上流のこの位置またはツイールの上流のこの位置に関する。本開示において、特に粘度または温度に関して「スパウトの上流」に関する記載がなされる限り、その記載は、好ましい実施形態では、流動方向でスパウトのすぐ上流の位置に関する。

本開示において、特に粘度または温度に関して「リップストーン部の上流」に関する記載がなされる限り、その記載は、好ましい実施形態では、流動方向でリップストーン部のすぐ上流の位置に関する。

矢印４９は、Ｙ方向において、流動または延伸方向で、処理量を制御するための部材またはツイール１７の後端に相当する、つまり処理量を制御するための部材１７またはツイール１７のすぐ後方の位置でもある位置に存在し、この位置が、本明細書で開示される間隔および距離指定の基準である。矢印５０は、Ｙ方向で、その、処理量を制御するための部材またはツイール１７の後端まで１．５ｍの距離にあり、それゆえ、好ましい一実施形態では、流動または延伸方向で、ベイ１の開始部に相当する位置にある。矢印５１は、Ｙ方向で、処理量を制御するための部材１７またはツイールの後端まで１２ｍの距離にあり、それは、この好ましい実施形態では、流動または延伸方向で、ベイ４の開始部に相当する。

前記の装置および設備を用いて、薄板ガラス基板を製造する、好ましくは薄板ガラス基板、特に筋目が減少した薄板ガラス基板を連続的に製造するための本発明による方法を実施できる。

この方法では、溶融後でかつ熱成形前に、成形すべき、特に熱成形すべきガラス８または少なくとも部分的に成形されたガラス１３の粘度ηを、得るべき薄板ガラス基板のために定義された方法で調整する。

この、粘度ηの定義された方法での調整は、熱成形設備４７への供給前、特にフロートバス炉９’への供給前に行い、ただし、特に、熱成形すべきガラス８の定義された冷却を、装置１８を使って行う。

粘度ηの調整は、液体ガラスを供給するためのリップストーン部またはインレットリップ部であるスパウト１１の上流で行われ、特に、金属浴、フロートバス炉９’のスズ浴７’上への供給前に行われる。

粘度の調整は、制御ゲート１７、つまりガラス流の処理量を制御するための部材１７、ツイール１７の上流でも行える。

その際、成形すべきガラスの粘度は、溶融窯２’の流路端、つまり流路６’の末端部でかつ処理量を制御するための部材またはツイール１７の上流において、少なくともｌｇ η／ｄＰａｓ＝３．７５であり、かつ／または処理量を制御するための部材またはツイールのすぐ後方において、ｌｇ η／ｄＰａｓ＝３．７５～好ましくは最高で４．５である。

ベイ１の開始部および／または延伸方向で処理量を制御するための部材１７またはツイール１７の下流１．５ｍまでまたは１．５ｍの距離において、粘度は、好ましい一実施形態では少なくともｌｇ η／ｄＰａｓ＝５．２５～好ましくは最高で５．８５であり得、かつ／またはベイ４の開始部および／または延伸方向で処理量を制御するための部材またはツイールの下流１２ｍまでまたは１２ｍの距離において、少なくともｌｇ η／ｄＰａｓ＝７．０５～好ましくは７．６であり得る。

その際、成形すべきまたは少なくとも部分的に成形されたガラスの温度は、それに対して表面の筋目または長く伸びた山部に関する以下の測定およびその厚さが記載されるガラスにおいて、処理量を制御するための部材またはツイールの上流では、少なくとも１１８０℃および最高で１３３０℃であり、かつ／またはベイ１の開始部および／または延伸方向で１．５ｍの距離において、少なくとも１０００℃および最高で１０８０℃であり、かつ／またはベイ４の開始部および／または延伸方向で処理量を制御するための部材またはツイールの下流およそ１２ｍの距離において、少なくとも８３０℃および最高で８８０℃であり得る。その際、それぞれ、最高で１０℃の最大温度偏差が存在した。

特に好ましい一実施形態では、処理量を制御するための部材またはツイールの下流１．５ｍまでの距離にわたる第１区間の粘度η_１に対して次の等式が成り立つが、ただし、ｙ_１は、それぞれ、処理量を制御するための部材１７またはツイール１７のすぐ後方の位置までの距離または間隔を表すため、処理量を制御するための部材またはツイールのすぐ後方の位置では値がゼロである：
ｌｇ η_１（ｙ_１）／ｄＰａｓ＝（ｌｇ η_０１／ｄＰａｓ＋ａ_１（ｙ_１））
ここで、
０ｍ≦ｙ_１≦１．５ｍ
３．７５≦ｌｇ η_０１／ｄＰａｓ≦４．５
ａ_１（ｙ_１）＝１．００／ｍ×ｙ_１
である。

この好ましい実施形態では、１メートルの単位長あたりの０ｍ≦ｙ_１≦１．５ｍの範囲での粘度の変化は、特に好ましくはΔｌｇ η／ｄＰａｓ／Δｙ＝０．６６６／ｍ＋／－０．１／ｍであるが、しかしながら、０．３３４／ｍ超でかつ０．８／ｍ未満である値を有し、ただし、Δｌｇ η／ｄＰａｓは、この等式では、間隔範囲Δｙでの粘度の変化を表す。

したがって、前記不等式は、ｙ_１＝０にある、処理量を制御するための部材、つまりツイールまたは制御ゲートのすぐ後方にある位置に関して、成形すべきまたは少なくとも部分的に成形されたガラスの粘度η（ｙ_１＝０）に対して、次の区間を教示する。
ｌｇ η（ｙ_１＝０）／ｄＰａｓ＝ｌｇ η_１（ｙ_１＝０）／ｄＰａｓ＝（ｌｇ η_０１／ｄＰａｓ＋ａ_１（ｙ_１＝０））
したがって、前記不等式は、好ましくは制御ゲートとして形成されている、処理量を制御するための部材またはツイールのすぐ後方にある位置に関して、その位置ではａ_１（ｙ_１＝０）の値がゼロであるため、成形すべきまたは少なくとも部分的に成形されたガラスの粘度η（ｙ_１＝０）に対して、以下を指定する。
ｌｇ η（ｙ_１＝０）／ｄＰａｓ＝ｌｇ η_１（ｙ_１＝０）／ｄＰａｓ＝ｌｇ η_０１／ｄＰａｓ
したがって、制御ゲートとして形成されている、処理量を制御するための部材のすぐ後方にあるその位置での粘度η（ｙ_１＝０）に関して、前記の記載３．７５≦ｌｇ η_０１／ｄＰａｓ≦４．５により、その区間が、ｌｇ η（ｙ_１＝０）にも当てはまる：
３．７５≦ｌｇ η（ｙ_１＝０）／ｄＰａｓ≦４．５
これらの値は、実質的には、ガラスが処理量を制御するための部材を通過する際、特に制御ゲートを通過する際に、測定精度において顕著な温度変化、つまり測定精度において顕著な粘度変化を受けないという事実から生じる。

したがって、成形すべきまたは少なくとも部分的に成形されたガラスの粘度ηは、処理量を制御するための部材を通過する際、特に制御ゲートを通過する際に、測定精度において変化しない。

前記のように、粘度ηに対するその種の区間は、ｙ_１およびｙ_２のあらゆる値に関して相応に指定できる。

さらなる好ましい一実施形態では、処理量を制御するための部材またはツイールの下流１２ｍの距離から、処理量を制御するための部材またはツイールの下流１６ｍまでの距離を有する第２区間の粘度η_２に対して次の等式が成り立つが、ただし、ｙ_２は、それぞれ、処理量を制御するための部材またはツイールのすぐ後方の位置までの距離を表すものとする：
ｌｇ η_２（ｙ_２）／ｄＰａｓ＝（ｌｇ η_０２／ｄＰａｓ＋ａ_２（ｙ_２））
ここで、
１２ｍ≦ｙ_２≦１６ｍ
７．０５≦ｌｇ η_０２／ｄＰａｓ≦７．６
ａ_２（ｙ_２）＝０．７８８／ｍ×（ｙ_２－１２ｍ）
である。

すべての距離指定は、本開示において、それが、粘度および特に粘度η、η_１、η_２、またはガラス温度に関する限り、それぞれ、処理量を制御するための部材、つまりツイールまたは制御ゲートのすぐ後方の位置を起点に記載されており、それぞれ延伸または流動方向、つまりＹ方向で記載されている。その、処理量を制御するための部材のすぐ下流または後方の位置は、ツイールを有する溶融窯の実施形態では、流動方向で見て、ツイールまたは制御ゲート１７の背後側に相当する。

粘度を定義された方法で調整するための設備１８が溶融窯の一部を形成する第１の実施形態では、溶融窯２’の流路６’の末端部が、処理量を制御するための部材１７またはツイール１７のすぐ上流に位置する。

それぞれの粘度に関するデータは、本開示において、それぞれＸおよびＺ方向で見て、それぞれ少なくとも、ガラス８またはガラスリボン１３の中央に対して当てはまる。Ｘ方向でガラス８またはガラスリボン１３の中央に延びる該当する中心線Ｍを、図３に例示的に示してある。

前記の粘度は、薄板ガラス基板の熱成形設備において、１日当たりの処理量がガラス４００ｔ未満、好ましくは２００ｔ、特に好ましくは１００ｔで、特に都合よく実現できた。

薄板ガラス基板を、処理量が１日当たりガラス４００ｔ未満、好ましくは１日当たりガラス２００ｔ、特に好ましくは１日当たりガラス１００ｔで熱成形した後に、良品ガラスの割合は、１日当たり、ガラス処理量全体の１５％超であった。その際、良品ガラスとは、本明細書に記載される山部の最大高さＨ、つまり筋目の最大高さＨが、１０×１０ｃｍ^２の分析面のＶ字形の厚さ変動および反りを補正した、算術平均の平均値で、好ましくは延伸方向に対して垂直な熱成形されたガラスリボンの中央において、１００ｎｍ未満であり、かつ山部の横方向長さがそれぞれ４０ｍｍ未満であるガラス基板と理解される。

本開示において、Ｖ字形の厚さ変動Ｋおよび反りＶの影響が５％未満の値に軽減されている場合に、厚さおよび高さの測定値がＶ字形の厚さ変動および反りを補正したと見なされる。

総じて、溶融体から構成されるガラス、特に、以下では薄板ガラス基板の表面および厚さの測定において示されており、かつ溶融窯２’から粘度を定義された方法で調整するための設備１８へと進入するガラスが、設備１８では、例えば１５００℃、またはホウケイ酸ガラスの場合はさらに例えば１６５０℃の第１の温度で受容され、熱成形に入るために、例えば１０５０℃の第２の温度へと、またはホウケイ酸ガラスの場合は例えば１３００℃へと冷却され、次いでその温度で熱成形設備４７へと移された。

ただしその際、冷却は、少なくとも２５０℃、好ましくは３００℃、特に好ましくは４５０℃であり、ホウケイ酸ガラスの場合は特に好ましくは３５０℃であったが、５００℃の冷却も設備１８により可能であった。

好ましいガラスの実施形態
本発明による方法では、特に本明細書に記載される装置において、以下に挙げるガラスを有利に使用できる：
１．ホウケイ酸ガラス
２．アルミノケイ酸ガラス
３．リチウムアルミノケイ酸ガラス。

本明細書において開示する組成においては、記載されるいずれの値も、各組成に関して、異なる指定がない限り、本明細書中と同様に特許請求の範囲においてもそれぞれ重量％で示される。

その際、当業者は、特に、以下の成分を含有するガラスをホウケイ酸ガラスと理解する（重量％）：
ＳｉＯ_２ ７０～８７
Ｂ_２Ｏ_３ ７～２５
Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ ０．５～９
Ａｌ_２Ｏ_３ ０～７
ＣａＯ ０～３。

好ましい第１のホウケイ酸ガラスは、以下の組成を有し、
ＳｉＯ_２ ７０～８６重量％
Ａｌ_２Ｏ_３ ０～５重量％
Ｂ_２Ｏ_３ ９．０～２５重量％
Ｎａ_２Ｏ ０．５～５．０重量％
Ｋ_２Ｏ ０～１．０重量％
Ｌｉ_２Ｏ ０～１．０重量％
を含む。

好ましい第２のホウケイ酸ガラスは、優れた熱強化特性を有するアルカリホウケイ酸ガラスであり、
ＳｉＯ_２ ７８．３～８１．０重量％
Ｂ_２Ｏ_３ ９．０～１３．０重量％
Ａｌ_２Ｏ_３ ３．５～５．３重量％
Ｎａ_２Ｏ ３．５～６．５重量％
Ｋ_２Ｏ ０．３～２．０重量％
ＣａＯ ０．０～２．０重量％
を含有する。

２．アルミノケイ酸ガラスは、好ましくは以下の組成（重量％）を有し得る：
ＳｉＯ_２ ５５～６５
Ｎａ_２Ｏ １２超１７以下
Ａｌ_２Ｏ_３ １６．５～２０
Ｋ_２Ｏ ２～４．４
ＭｇＯ ３．９～１０
ＺｒＯ_２ ０～５
ＺｎＯ ０～４
ＣａＯ ０～４
Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ＋ＭｇＯ＋ＺｎＯ＋ＣａＯ １５～２８
ＳｎＯ_２ ０～１
ＴｉＯ_２＋ＣｅＯ_２ １以下。

３．リチウムアルミノケイ酸ガラスは、以下の成分を含有する組成を有し得る（重量％）：
ＳｉＯ_２ ６０～７５
Ａｌ_２Ｏ_３ １０～２８
Ｌｉ_２Ｏ ３～１５。

有利には、モル％で
６０～７０ ＳｉＯ_２
１０～１３ Ａｌ_２Ｏ_３
０．０～０．９ Ｂ_２Ｏ_３
９．５～１５ Ｌｉ_２Ｏ
８．２～＜１２ Ｎａ_２Ｏ
０．０～０．７ Ｋ_２Ｏ
０．０～０．２ ＭｇＯまたは０．０～１．０のＭｇＯ
０．２～２．３ ＣａＯ
０．０～０．４ ＺｎＯ
１．３～２．６ ＺｒＯ_２
０．０～０．５ Ｐ_２Ｏ_５
０～０．１のＦｅ_２Ｏ_３、好ましくは０．０００３～０．１００のＦｅ_２Ｏ_３
０．０～０．３ ＳｎＯ_２
０～０．２のＣｅＯ_２、好ましくは０．０００４～０．２００のＣｅＯ_２
から構成される組成物を含むリチウムアルミノケイ酸ガラスも使用できるが、
ただし、好ましくは、
－ 該リチウムアルミノケイ酸ガラスは、少なくとも８０ＧＰａのヤング率を有し、
－ ５４０℃未満のガラス転移温度Ｔ_ｇおよび／または１１５０℃未満の加工温度を有し、
－ フロート法による成形に適切であり、かつ
－ 化学強化および／または熱強化可能であるため、ＥＮ １２８８－５に準拠するダブルリング法を用いて測定した場合に、少なくとも５５０Ｎ／ｍｍ^２の曲げ強さを有するものとする。

本発明の好ましい一実施形態によれば、例えば、特に自動車用の合わせガラスにおいて、第２のガラス板は、４．６重量％～５．４重量％のＬｉ_２Ｏ含有量、および８．１重量％～９．７重量％のＮａ_２Ｏ含有量、および１６重量％～２０重量％のＡｌ_２Ｏ_３含有量を有するリチウムアルミニウムシリケートガラスを有する、本発明による方法で熱成形された薄板ガラス基板を含む。

本発明のさらなる一実施形態によれば、例えば、特に自動車用の合わせガラスにおける第１のガラス板は、４．６重量％～５．４重量％のＬｉ_２Ｏ含有量、および８．１重量％～９．７重量％のＮａ_２Ｏ含有量、および１６重量％～２０重量％のＡｌ_２Ｏ_３含有量を有するリチウムアルミニウムシリケートガラスを含む。

本発明のさらなる一実施形態によれば、合わせガラスにおいて薄板ガラス基板として存在する第２のガラス板は、以下の成分：
５８～６５重量％のＳｉＯ_２
１６～２０重量％のＡｌ_２Ｏ_３
０．１～１重量％のＢ_２Ｏ_３
４．６～５．４重量％のＬｉ_２Ｏ
８．１～９．７重量％のＮａ_２Ｏ
適宜、０．０５～１．０重量％のＫ_２Ｏ
０．２～２．０重量％のＣａＯ
２．５～５．０重量％のＺｒＯ_２
を含む。

その際、適宜、成分ＳｎＯ_２、ＣｅＯ_２、Ｐ_２Ｏ_５およびＺｎＯのうちの１つまたは複数が、全体として０重量％～２．５重量％の分率で含まれていてもよい。

薄板ガラス基板、特に第２のガラス板用のさらなる好ましい一組成範囲は、
６０～６２重量％のＳｉＯ_２
１７．５～１９．５重量％のＡｌ_２Ｏ_３
０．５～０．７重量％のＢ_２Ｏ_３
４．８～５．２重量％のＬｉ_２Ｏ
８．５～９．５重量％のＮａ_２Ｏ
０．２～０．５重量％のＫ_２Ｏ
０．５～１．２重量％のＣａＯ
３．２～３．８重量％のＺｒＯ_２
を含む。

適宜、成分ＳｎＯ_２、ＣｅＯ_２、Ｐ_２Ｏ_５およびＺｎＯの１つまたは複数が、全体として０．２５重量％～１．６重量％の分率で含まれていてもよい。

図１７は、合わせガラス板５９を縮尺どおりではなく図示したものであり、その合わせガラス板は、第１のガラス板６０、第１のガラス板６０と第２のガラス板６２との間に配置されておりそれらを結合するポリマー層６１、および最終的には第２のガラス板６２を含む。

しかしながら、総じて、本明細書に図示される例示的実施形態に制限されることなく、合わせガラス板が２枚を超えるガラス板を含むことも可能である。例示的には、特に高い機械的負荷が見込まれ、相応して、合わせガラス板の特に高い強度が目指される場合に、このことが該当し得る。

ポリマー層６１は、少なくとも０．５ｍｍから最高で１．７ｍｍの間の厚さを有する。ポリマー層は、フィルム、例えば、ＥＶＡおよび／またはポリビニルブチラールを含むフィルムとして、または複数のフィルムを含む層として、ないしは多層フィルムとして形成されていてもよい。しかしながら、ポリマー層を、２枚のガラス板６０、６２のうちの一方へのモノマーの施与により、および重合反応の開始によりイン・サイチュでポリマー層を形成することも可能である。総じて、ポリマー層６１が複合フィルムから形成されていることも可能である。特に、フィルムは、ＰＥＴおよび／またはＰＥも含み得る。多層フィルムの場合、各層は異なる組成および物理的特性を有してもよい。総じて、フィルム、または多層フィルムの層が、Ｌｏｗ－Ｅ（低放射）コーティング、ないしはいわゆるソーラコントロールコーティングを有してもよい。

さらに、図示される例示的実施形態では、第１のガラス板６０が、第２のガラス板６２よりも厚く形成されている。これは、例えば、第１のガラス板がガラス板６２よりも低い固有強度を有するため、合わせガラス板５９の全体として十分な強度を保証するために第１のガラス板６０の厚さを相応に大きくさせる場合に有利である。

第２のガラス板６２は、好ましくは、少なくとも０．３ｍｍから最高で１．５ｍｍの間の厚さを有し、本明細書に記載される筋目が減少した薄板ガラス基板５４を含むか、またはその薄板ガラス基板からなる。単に例示的に、図１７中でのみ薄板ガラス基板５４の厚さに参照符号Ｄを付すが、その際、本明細書に記載される、薄板ガラス基板５４の実施形態すべてに対する開示としても示されている。

第１および第２のガラス板６０、６２のガラスは、好ましくは、第１および第２のガラス板の両ガラスが、ｌｇ η／ｄＰａｓ＝７～ｌｇ η／ｄＰａｓ＝１０の間の粘度範囲において同一粘度を有する各温度が、互いに最高で５０℃、好ましくは最高で３０℃、特に好ましくは最高で２０℃、とりわけ好ましくは最高で１０℃しか異ならないように互いに調整されている。

好ましくは、第２のガラス板６２が、化学強化されたガラス板として、好ましくは少なくとも４０μｍの厚さの圧縮応力領域を有する化学強化ガラス板として存在し、ただし、圧縮応力は、少なくとも１５０ＭＰａおよび最高で９００ＭＰａである。

本発明のさらなる一実施形態によれば、圧縮応力が、最高で８００ＭＰａ、好ましくは最高で６００ＭＰａである。そのような圧縮応力は、特に、硝酸ナトリウム－硝酸カリウム混合物を用いた強化により得られる。

本発明のさらなる一実施形態によれば、圧縮応力が、最高で５００ＭＰａ、好ましくは最高で４００ＭＰａ、特に好ましくは最高で３００ＭＰａ、とりわけ好ましくは最高で２５０ＭＰａである。そのような圧縮応力は、特に、純硝酸ナトリウム溶融体を用いた強化により達成され得る。

図１８に示される本発明の一実施形態によれば、合わせガラス板５９が、曲げ合わせガラス板として、特に自動車用ガラスとして存在するため、第２のガラス板６２の外向き側が凹面に湾曲していることになる。湾曲を生じさせるためのこの成形では、第２のガラス板６２の本発明による薄板ガラス基板が、厚さＤのわずかな厚さ変動を受ける場合がある。

図１７中の合わせガラス板５９同様に図１８中で示される合わせガラス板５９も、特に自動車用ガラスとしての使用時に、特に、陸上、水上または水中および空中で運転される車両、特にモータ駆動車両用のヘッドアップディスプレイにおいて使用される場合、ヘッドアップディスプレイ用の反射面６５を形成できる。合わせガラス板５９のそのような使用においては、第１のガラス板６０が車両の外側を向き、第２のガラス板６２が車両の内側を向いていてもよい。その際、ヘッドアップディスプレイ用の反射面６５は、その場合は車両の内部空間の方を向いた、第２のガラス板６２の表面６３上に位置し得る。その際、反射面６５は、表面６３全体にわたって延在するか、さらには表面６３の一部領域にわたってのみ延在してもよく、その部分領域は、図１７および１８中で、例示的に両向き矢印６６で示されている。ヘッドアップディスプレイは、当業者にはよく知られているため、さらなるより詳細な説明は不要である。

本発明のさらなる一実施形態によれば、第２のガラス板６２が、０．７ｍｍの厚さにおいて、４５°以上、特に５０°以上、特に好ましくは５５°以上のゼブラ角（Ｚｅｂｒａｗｉｎｋｅｌ）を有する。ゼブラ角および以下で言及するリングオン曲げ強さに関しては、援用により同じく本出願の主題となるものの、本出願に対するその優先権は請求されない出願ＤＥ １０２０１６１２５４８８が参照される。なぜなら、それぞれ、該先願ＤＥ １０２０１６１２５４８８に対応する薄板ガラス基板は、特に自動車用ガラスに使用する場合も、本開示においては筋目が減少した薄板ガラス基板であるが、該先願ＤＥ １０２０１６１２５４８８ではそれが開示されていないためである。

本発明のさらなる一実施形態によれば、第２のガラス板６２が、１５０ＭＰａ超、特に２５０ＭＰａ超、好ましくは３００ＭＰａ超、さらに好ましくは４００ＭＰａ超、特に好ましくは５００ＭＰａ超、とりわけ好ましくは６００ＭＰａ超、および９００ＭＰａ未満のリングオンリング曲げ強さを有する。

さらに、合わせガラス板５９が、さらなる一実施形態によれば、第２のガラス板６２が０．７ｍｍの厚さの場合、８４０ｎｍの波長において９１．５％超、５６０ｎｍの波長において９１．５％超、および３８０ｎｍにおいて９０％超の透過率を有するように形成されている。それは、すでに前記したように、ガラス板５９を通した良好な眺めの実現にとって特に有利であるため、それによって、乗客安全性がさらに向上することになる。

合わせガラス板５９は、好ましくは、第１のガラス板６０および第２のガラス板６２のガラスが、ｌｇ η／ｄＰａｓ＝７～ｌｇ η／ｄＰａｓ＝１０の間の粘度範囲において同一の粘度値を有する各温度が、それぞれ同一の粘度においては、互いに最高で５０℃、好ましくは最高で３０℃、特に好ましくは最高で２０℃、とりわけ好ましくは最高で１０℃しか互いに異ならないように仕上げられている。

本発明の改めてさらなる一実施形態によれば、第２のガラス板６２が、実質的には、リチウムイオンおよび／またはナトリウムイオンをナトリウムイオンおよび／またはカリウムイオンで交換することにより化学強化されて存在する。第２のガラス板６２が「実質的には、リチウムイオンをナトリウムイオンで交換することにより強化された」と見なされるのは、強化の実質的な分率、つまり生じた強化の少なくとも８０％が、リチウムイオンの、ナトリウムイオンでの交換に起因する場合である。特に、強化がその交換によってのみ得られる場合、ガラス板は、実質的に、リチウムイオンをナトリウムイオンで交換することにより強化されている。

第２のガラス板６２は、化学強化が実質的にはナトリウムイオンをカリウムイオンで交換することにより行われたアルミノケイ酸ガラスからもなり得る。第２のガラス板６２は、従来のソーダ石灰ガラス、または同様にナトリウムイオンをカリウムイオンで交換した、化学強化性に向けて特別に調整したソーダ石灰ガラスからもなり得る。

図１８は、特に自動車用ガラスであり得る合わせガラス板５９の実施形態を示す。その際、ここでも同様に、第１のガラス板６０、ポリマー層６１および第２のガラス板６２が、合わせガラス板５９に含まれている。しかし今回は、合わせガラス板５９が湾曲して形成されている。その際、図示されるように、個々のガラス板６０、６２の厚さおよびポリマー層６１の厚さが、合わせガラス板５９の中央から周縁部に向かって小さくなることが可能である。しかしながら、個々のガラス板６０、６２の厚さおよびポリマー層６１の厚さもそれぞれ一定であることも可能であるし、合わせガラス板５９を構成する層６０、６１、６２の個々の層のみが、ガラス板５９の横断面にわたって変化する厚さを有することも可能である。例えば、層の１つまたは複数が、Ｖ字形に形成されて存在してもよい。

ここでは、第２のガラス板６２の外向き表面６３が凹面に湾曲しているように、合わせガラス板５９が形成されている。

総じて、本明細書に図示される例に制限されることなく、第１のガラス板６０の外向き表面６４が凹面に湾曲しているように、合わせガラス板５９が形成されていることも可能である。

薄板ガラス基板、特に、筋目が減少した、合わせガラスの第２のガラス板用の改めてさらなる好ましい一組成範囲は、
６１～６２重量％のＳｉＯ_２
１７．５～１８．５重量％のＡｌ_２Ｏ_３
０．５～０．７重量％のＢ_２Ｏ_３
４．９～５．１重量％のＬｉ_２Ｏ
８．８～９．３重量％のＮａ_２Ｏ
０．２～０．５重量％のＫ_２Ｏ
０．５～１．２重量％のＣａＯ
３．２～３．８重量％のＺｒＯ_２
を含む。

その際、適宜、成分ＳｎＯ_２、ＣｅＯ_２、Ｐ_２Ｏ_５およびＺｎＯの１つまたは複数が、全体として０．５重量％～１．０重量％の分率で含まれていてもよい。

本発明のさらなる好ましい一実施形態によれば、薄板ガラス基板、特に合わせガラスの第２のガラス板は、モル％で、以下の組成
６０～７０ ＳｉＯ_２
１０～１３ Ａｌ_２Ｏ_３
０．０～０．９ Ｂ_２Ｏ_３
９．６～１１．６ Ｌｉ_２Ｏ
８．２以上１０未満 Ｎａ_２Ｏ
０．０～０．７ Ｋ_２Ｏ
０．０～０．２ ＭｇＯまたは０～１．０のＭｇＯ
０．２～２．３ ＣａＯ
０．０～０．４ ＺｎＯ
１．３～２．６ ＺｒＯ_２
０．０～０．５ Ｐ_２Ｏ_５
０．００３～０．１００ Ｆｅ_２Ｏ_３
０．０～０．３ ＳｎＯ_２
０．００４～０．２００ ＣｅＯ_２
を含む。

その際、好ましくは、リチウムアルミニウムシリケートガラスの組成に関して、以下の関係が成り立つ：
（Ｌｉ_２Ｏ＋Ａｌ_２Ｏ_３）／（Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ）＞２、
０．４７＜Ｌｉ_２Ｏ／（Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ）＜０．７
０．８＜ＣａＯ＋Ｆｅ_２Ｏ_３＋ＺｎＯ＋Ｐ_２Ｏ_５＋Ｂ_２Ｏ_３＋ＣｅＯ_２＜３
ただし、６つの酸化物のうち少なくとも４つが、ガラス組成物に含まれている。

さらに好ましくは、その際、リチウムアルミニウムシリケートガラスが、５４０℃未満のガラス転移温度Ｔ_ｇおよび／または１１５０℃未満の加工温度を有する。

本発明による方法において得られた薄板ガラス基板を、ｚ方向でのその寸法およびその光学特性の点で測定後に分析および算出したところ、従来の方法と比べて、筋目の減少が認められた。

その際、第１の測定系列では、理想平面薄板ガラス基板からの厚さ偏差を求めるための、薄板ガラス基板の厚さ測定としての両主表面の測定を行い、第２の測定系列では、薄板ガラス基板５４の上側主表面上の山部または筋目の測定を行った。

したがって、第１の測定系列のデータは、光が上側主表面と下側主表面とを通り抜ける薄板ガラス基板の光学効果を捉え、その効果を、さらに、その結果生じる両面によって形成される光学的屈折力に基づいても示す。これにより、例えば、薄板ガラス基板５４の後方に配置された、例えば自動車の周辺のセンシングによる検知に利用されるセンシング設備用の光線路への影響を示すことができる。

第２の測定系列のデータは、片方の主表面のみの光学効果を捉え、それは、例えば、透過光中で使用される薄板ガラス基板５４において、そのガラス基板が、例えば、片側で平面研削および研磨されているか、または片側が、同じ屈折率を有する材料に、例えば合わせガラス板中に埋め込まれている場合に生じる。

これに関して、以下では、第１の測定系列、つまり理想平面薄板ガラス基板からの厚さ偏差を求めるための両主表面の測定を説明するために、まず図５に関連づける。図５は、上側主表面と下側主表面との間の光学的距離、つまりＺ方向での寸法を測定するための測定領域の図解を示す。レーザ干渉計を使って、特に位相シフトレーザ干渉計を使って、薄板ガラス基板５４の上側主表面５３全体にわたって延在する測定を行った。

薄板ガラス基板またはガラス基板の主表面と呼ばれるのは、通常、それぞれ最大の面状広がりを有する、基板の向かい合う両面である。

さらに、以下で記載する評価を行った分析領域５２が示され、その評価結果は、表１に示してある。分析領域５２には、例示的に、輪郭線Ｖ_Ｌ１およびＶ_Ｌ２も示し、これらの輪郭線は、理想平面薄板ガラス基板５４に対する反りＶを大まかにのみ図示し、かつ簡潔にするために著しく誇張して示す。この種の反りＶは、理想平面薄板ガラス基板５４の主要平面に対して、典型的には正または負のＺ方向に隆起し、延伸またはＹ方向に対称的に、特に中心線Ｍに対して対称的に形成されている場合もあるし、その縦方向と同じ方向に、延伸またはＹ方向に延在する場合もある。以下の測定技術上の説明ゆえ、輪郭線Ｖ_Ｌ１およびＶ_Ｌ２は、例示的に分析領域５２に対してのみ示されているものの、その種の反りは、薄板ガラス基板５４全体にわたっても延在し得る。その際、反りＶの値は、反った薄板ガラス基板の主表面上の一点の、理想平面薄板ガラス基板の主表面上の対応する一点に対する最大間隔である。

薄板ガラス基板を、厚さ偏差の各測定に先立ち、本発明による方法の実施後に、ガラスリボン１３から角形基板の形で個別化した。厚さ偏差の測定は、図５に示された形で、３００ｍｍの直径を有する円形測定面上で行った。

比較のために、従来の薄板ガラス基板も同じく、ガラスリボンから同様に個別化し、以下の測定および評価を行った。その際、測定されるすべての薄板ガラス基板が、熱成形後のガラスリボンから、ガラスリボンの、延伸方向に対して垂直な中央から、つまりｘ方向でのガラスリボン１３の中央から取り出されるように注意した。

その際、デカルト座標系のＺ方向で主表面５３の測定を行い、薄板ガラス基板５４は、それぞれ、その主表面で、Ｘ－Ｙ平面に対して平行に平面土台上に載っており、それは、本明細書で開示されるすべてのさらなる測定にも該当した。

理想平面ガラス基板からの厚さ偏差の測定を行い、その測定は、表１中にも厚さ変動Ｄ_ｍ／ｍとして示してあり、その際、理想平面ガラス基板に関して、上側主表面と下側主表面との間の光学的距離の差異を測定することにより、両主表面のｚ方向での山部の測定を行った。

第１の測定系列の、両面の山部の厚さにより形成される、理想平面基板からの厚さ偏差、つまり厚さ変動、さらには異常拡張（ｖａｒｉｋｏｓ）厚さ変動のこの測定を、ＺＹＧＯ社のレーザ干渉計（位相シフト干渉計）を用いて行った。

レーザ干渉計は、３００ｍｍの開口を有するフィゾー干渉計である。その際、３０ｃｍの測定スポット（円形）を有するＺｙｇｏ Ｖｅｒｉｆｉｒｅシステムを使用した。

ＱＰＳＩ（商標）ｒａｐｉｄ ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ ｐｈａｓｅ－ｓｈｉｆｔｉｎｇモードで測定し、カメラ設定は１０２４×１０２４であり、ＸおよびＹ方向においてそれぞれ１０２４個の測定点に相応した。

Ｚ方向での測定不確かさは、＜３０ｎｍであり、６３３ｎｍの波長におけるλ／２０に相当した。

ＸおよびＹ方向での横方向不確かさは、０．３１ｍｍであった。

ピストン・ゼルニケの除去を作動させ、データは、Ｖ字形厚さ変動Ｋおよび反りＶの影響を抑制するためにのみ、ならびにカットオフが４０ｍｍのガウシアンスプラインハイパスフィルタを装備したＺｙｇｏ Ｍｘソフトウェア（バージョン７．０．０．１５）の使用下に使用した。スプライン・ビートン係数およびスプライン・テンションコントロールは、デフォルトセッティングに設定した。

Ｖ字形厚さ変動Ｋならびに反りＶの影響は、それぞれの厚さ変動Ｄ_ｍ／ｍの測定の測定結果に関する前記のフィルタリングにより、５％未満の値に下げることができた。これにより、各測定位置での厚さ変動Ｄ_ｍ／ｍの測定からＶ字形厚さ変動および反りを補正できた。

この種の厚さ測定、さらには表面測定を光学的屈折力に変換する方法をより良く理解するために、以下の説明を提供する。

ｚ方向での高さＨの山部を有するガラス、特に薄板ガラス基板の表面の光学的屈折力Ｐ（ｘ、ｙ）は、ｘ方向に延びる直線に沿って、それぞれ固定値ｙにおいて特定した場合、

となり、
ただし、
ｎは、測定した薄板ガラス基板の屈折率であり、それぞれ、測定した薄板ガラス基板の場合、１．５２５の値を有し、
ｚ′（ｘ）およびｚ″（ｘ）は、高さｚ（ｘ）のｘ方向での一次導関数および二次導関数であり、
ｚ（ｘ）は、位置ｘにおけるｚ方向での高さＨである。

さらに、薄板ガラス基板５４の両主表面の全屈折力に関しては、

が成り立ち、
ここで、
Ｐ_{ｇｅｓａｍｔ（全体）}（ｘ）は、位置ｘにおける薄板ガラス基板の両主表面の全屈折力であり、
Ｐ_ｔｏｐ（ｘ）は、位置ｘにおける薄板ガラス基板の上側主表面の屈折力であり、
Ｐ_{ｂｏｔｔｏｍ}（ｘ）は、位置ｘにおける薄板ガラス基板の下側主表面の屈折力である。

使用した厚さ測定の方法により位置ｙでのＰ_{ｇｅｓａｍｔ（全体）}（ｘ）を、および以下で記載する、フーリエ干渉計を使用した第２の測定系列の方法により、位置ｙにおける薄板ガラス基板５４の、値ｚ_ｔｏｐ（ｘ）としての上側主表面５３のみならず値ｚ_{ｂｏｔｔｏｍ}（ｘ）の下側主表面も測定でき、それらの屈折力Ｐ_ｔｏｐ（ｘ）およびＰ_{ｂｏｔｔｏｍ}（ｘ）を求め、それらから、薄板ガラス基板５４の全屈折力Ｐ_{ｇｅｓａｍｔ（全体）}（ｘ）を示すことも、さらには、薄板ガラス基板５４の両主表面の単に片側の屈折力Ｐ_ｔｏｐ（ｘ）またはＰ_{ｂｏｔｔｏｍ}（ｘ）のみを示すこともできた。

その他の点では、つまり山部以外は理想平面と仮定される薄板ガラス基板５４の厚さの影響は、特に、薄板ガラス基板内の光学的距離が、光学的屈折力に対してわずかな影響しか有さなかったことからも、それぞれ無視できた。

したがって、それらの測定から、それぞれ、以下で記載する第２の測定系列においてＸ方向の線形測定走査を行った位置ｙでは、異常拡張変動とも呼ばれる、薄板ガラス基板の厚さ変動として、

が得られ、ここで、
ｚ_{ｂｏｔｔｏｍ}（ｘ）は、位置ｘにおける薄板ガラス基板の下側主表面までの距離であり、
ｚ_ｔｏｐ（ｘ）は、位置ｘにおける薄板ガラス基板の上側主表面までの距離であり、
Ｄ_{Ｇｌａｓ（ガラス）}は、理想平面平行と想定される薄板ガラス基板の、位置ｘにおける厚さである。

ガラスリボンの中央に由来する測定された薄板ガラス基板の、本明細書に記載されたフィルタリングに基づいて、Ｖ字形厚さ変動Ｋおよび反りＶの影響を低下させ、それによってその影響を補正できた。

このようにして、以下で記載する第２の測定系列の、フーリエ干渉計を使用して測定した測定値から求められたＰ_ｔｏｐ（ｘ）、Ｐ_{ｂｏｔｔｏｍ}（ｘ）の値、および第１の測定系列の白色光干渉計、特にＺｙｇｏ白色光干渉計を使用して測定されたＰ_{ｇｅｓａｍｔ（全体）}（ｘ）は、薄板ガラス基板の光学性能、特に達成可能な分解能、および光学系内で得られ得るコントラストに関して、従来のシャドウキャスティング法が成し得たよりも著しく正確なデータである。

このことは、特に、本発明による薄板ガラス基板が、陸上、水上または水中および空中で運転される車両用のフロントガラス投影設備、特にヘッドアップディスプレイの部材を形成する場合、またはその薄板ガラス基板後方に、そのような車両の周辺を検知するための光学センサが配置されている場合に当てはまる。

それらの第１および第２の測定系列では、例示的にそれぞれ、厚さが０．７ｍｍで以下の組成
６０～６２重量％のＳｉＯ_２
１７．５～１９．５重量％のＡｌ_２Ｏ_３
０．５～０．７重量％のＢ_２Ｏ_３
４．８～５．２重量％のＬｉ_２Ｏ
８．５～９．５重量％のＮａ_２Ｏ
０．２～０．５重量％のＫ_２Ｏ
０．５～１．２重量％のＣａＯ
３．２～３．８重量％のＺｒＯ_２
のガラスを有する薄板ガラス基板５４を使用した。

このガラスでは、成分ＳｎＯ_２、ＣｅＯ_２、Ｐ_２Ｏ_５およびＺｎＯの１つまたは複数が、全体として０．２５重量％～１．６重量％の分率で含まれていることが可能であった。

ここでの測定値はｘ方向で測定され、ｙ方向での値を取得するために、それぞれ１行ずつ、ｘ方向に平行に延在する並置するｘ方向の測定値を並べたため、その際、１つのｙ値の行ごとに、その行に帰属する複数のｘ値が得られた。

前記の測定でのこのライン・バイ・ライン走査により、薄板ガラス基板５４の全厚さ偏差を、ｘ方向同様にｙ方向でも取得できた。以下の表１で評価した、図５の正方形分析領域５２は、その際、１８×１８ｃｍ^２の大きさを有した。

それは、主表面５３の二次元画像へと組み立てられた一次元近似である。しかしながら、この近似は正当化されるが、なぜなら、うねりおよび強い湾曲は、それぞれ延伸方向に対して垂直、つまりＸ方向にしか生じなかったため、同じく、それに応じて捕捉できたためである。その縦方向と同じ方向で、ほぼ延伸方向、つまりＹ方向に延在する山部、つまり筋目の構造も、同じく図６から見て取れるように、この近似を許容した。

例えば、シャドウキャスティング法において平行光の偏角を測定する従来の方法に対しても、本方法、特に第２の測定系列の方法を用いて対応する値を提供するため、およびその値を、例えば角度の分で計算するために、その偏角を、ここに存在する測定値を用いて、例えば、本明細書において開示する、フーリエ干渉計を使用した第２の測定系列の方法により、以下のように、それぞれ薄板ガラス基板の主表面の１つに対して特定できる。次いで、偏角は、既存の値から、以下の式により、角度の分で算出される。

この偏角は、実質的に従来の測定方法に相当し、したがって、この値も、前記の測定・分析方法により提供され得る。

図６には、例示的に、第２の測定系列において、フーリエ変換白色光干渉計、ＦＲＴ干渉計を用いて得られた、前記の薄板ガラス基板５４の上側表面、つまり主表面５３に対する任意単位での測定値を斜視図で示す。

この図から、薄板ガラス基板５４の主表面５３上に、ほぼ法線方向に、つまりＺ方向に隆起し、かつその縦方向長さと同じ方向で、ほぼ延伸方向、つまりＹ方向に延在する山部、特に長く伸びた山部が形成されたことが確かに読み取れる。この、筋目とも呼ばれる長く伸びた山部においては、Ｙ方向の縦方向長さが、それぞれの山部のＸ方向の横方向長さの、それぞれ２倍超、特に３倍超、通常は５倍超であった。この、筋目とも呼ばれる山部には、図６中で参照符号５５～５８が付されている。山部のそれぞれの横方向長さの模範として、山部５７のｘ方向の横方向長さＱに両向き矢印Ｑを付して示し、山部の縦方向に対して垂直な、つまり山部、またはその山部によって形成される筋目の縦方向に対して横向きの最大長さを表す。

測定面または分析面５２上のすべてのさらなる点の高さ測定に関しても、例示的に、位置ｙ＝０、ｘ＝ｘ_１における筋目５７または山部５７の、両向き矢印で示される高さＨが、ｚ＝Ｈの値で記載されている。この高さＨは、薄板ガラス基板５４の主表面５３の理想的平坦面に対して、デカルト座標系の位置ｙ＝０で測定された高さｚ_ｔｏｐ（ｘ）に相当する。理想的平坦面は、図６中で、位置ｙ＝０に対してＸ方向に基準線Ｏ_ｐｌとして示されている。

さらに、参照符号ＫでＶ字形厚さ変動を示し、参照符号Ｖで、理想的平坦面に対する反りを示す。

筋目を形成するこの山部は、以下で、第２の測定系列に関してさらに詳細に説明されるように、Ｚ方向の高さＨを有し、この高さは、Ｖ字形の厚さ変動および反りを補正した、図１１の１０×１０ｃｍ^２の分析面５２にわたる算術平均の平均値で、好ましくは熱成形されたガラスリボンの中央において延伸方向に対して垂直に、つまりＸ方向に測定して、測定されたすべてのケースで、１００ｎｍ未満であった。

測定した薄板ガラス基板５４の特に好ましい一実施形態は、しかも、Ｖ字形の厚さ変動および反りを補正して、平均で９０ｎｍ未満、しかも８０ｎｍ未満である、山部のＺ方向での高さＨを有した。

厚さ変動とも呼ばれる厚さ偏差の平均値を求めるために、同じく、図５の１８×１８ｃｍ^２の分析面５２全体にわたる、前記のようにフィルタリングされた測定値の算術平均を行った。

前記の第１の測定系列の方法を用いて、以下の表１に示される薄板ガラス基板５４の厚さ変動または厚さ偏差に関する測定値を得た。

前記の表１中では、１０進指数が、それぞれＥの値として示されており、簡潔にするため、例えば、係数×１０^－９に対してＥ－９を、係数×１０^－３に対してＥ－３を使用した。

光学的屈折力Ｐ_{ｇｅｓａｍｔ（全体）}（ｘ）として、前記の表中ではその用語をＯｐｔ．Ｐｏｗｅｒと略記し、それにより、薄板ガラス基板の両主表面の位置ｘでの全屈折力を示した。

前記の表１ならびにさらなる明細書および特許請求の範囲においては、下付き文字ｍは、それぞれ、その文字で記される各値が、分析領域全体にわたってＸ方向に算術平均されたことを表す。

表１および２中で、それぞれ旧薄板ガラスと記された値は、表１および２中で新規薄板ガラスと記された本発明による薄板ガラス基板と同じガラス組成を有する従来の薄板ガラス基板において得られた。

この表から、前記のようにフィルタリングされ算術平均された山部または筋目の厚さの値が、著しく低下したということが読み取れる。つまり、例えば、ガラスリボン１３の中央では（Ｘ方向、つまり流動方向に対して垂直に見て）、１５６×１０^－９ｍの平均値から１０５×１０^－９ｍの値への低下が認められる。

この表１からは、明らかに低下した算術平均傾斜値（ΔＤ／Δｘ）_ｍ／（ｍ／ｍｍ）も読み取れ、それは、偏角に関する前記の等式により、明らかに低下した平均偏角ももたらす。光学的屈折力の測定値および分析値に対して同じことが当てはまる。

前記のようにフィルタリングされた測定のこれらの平均値から、９７．５％分位数として、測定点の９７．５％が、本発明の方法により熱成形された薄板ガラス基板の場合２９２ｎｍ未満、および従来のように熱成形された薄板ガラス基板の場合４４１ｎｍ未満の異常拡張厚さ偏差、つまり両主表面の全体的な厚さ偏差を有したことが分かった。

（ΔＤ／Δｘ）_ｍに関しては、従来の薄板ガラス基板には、測定点の９７．５％に対して、１８７×１０^－９／（ｍ／ｍｍ）未満の値が得られ、本発明による薄板ガラス基板には１０８×１０^－９ｍ／ｍｍ未満の値が得られた。

屈折力に関しては、従来の薄板ガラス基板については、測定点の９７．５％に対して、前記のようにフィルタリングされた、つまりＶ字形厚さ変動Ｋおよび反りＶの影響を補正して平均をとった、９９ｍｄｐｔ未満の値が得られ、本発明による薄板ガラス基板については、それに応じて、６６．０ｍｄｐｔ未満の値が得られた。

図７～１０は、具体化するために、さらなる結果をグレースケール図の形で示し、それぞれ、図７中では、レーザ干渉計を用いて得られた、本発明による薄板ガラス基板５４の表面データのグレースケール図を示し、その表面データでは、筋目の厚さ値が濃淡値として識別でき、図８中では、レーザ干渉計を用いて得られた、薄板ガラス基板５４の厚さデータ、つまり異常拡張表面データのＸ方向での導関数のグレースケール図を示し、その表面データでは、微分値が濃淡値として識別できる。

図７～１６の図示では、それぞれの測定の生データを示すのではなく、すでにフィルタリングを使った反りの補正を提供し、その補正は、以下でそれぞれの測定系列に関してさらに詳細に説明する。

図９は、レーザ干渉計を用いて得られた、従来の薄板ガラス基板の表面データの光学的屈折力のグレースケール図を示し、図１０は、本発明による基板の光学的屈折力のグレースケール図を示し、その場合、屈折力が同じくそれぞれ濃淡値として識別できる。

本発明による薄板ガラス基板の光学的屈折力が、従来の薄板ガラス基板の光学的屈折力よりもはるかに低いことが明らかに見て取れる。

前記の値を、第２の測定系列での、白色光干渉計、特にフーリエ変換白色光干渉計、ＦＲＴ干渉計を用いて行った第２の測定方法で補い、その方法を、以下で、図１１～１４に関連づけて説明する。

図１１は、図５と類似して、正方形薄板ガラス基板５４の上側主表面全体にわたって延在する１８×１８ｃｍ^２の大きさの測定領域または分析領域５２の図解を示す。

図５の図示とは異なり、図１１で示す測定領域５２には、１８ｃｍ×１８ｃｍの寸法および１０ｃｍ×１０ｃｍの分析領域を有する正方形の薄板ガラス基板を使用した。図１１の分析領域５２中には、例示的に、輪郭線Ｋ_Ｌ１、Ｋ_Ｌ２、およびＫ_Ｌ３も示してあり、これらの輪郭線は、理想平面薄板ガラス基板５４に対する、薄板ガラス基板５４のほぼＶ字形の厚さ変動Ｋを大まかにのみ、かつ簡潔にするために著しく誇張して示す。この種のほぼＶ字形の厚さ変動Ｋは、理想平面薄板ガラス基板５４の主要平面に対して、典型的には正または負のＺ方向で隆起し、かつその縦方向と同じ方向で、延伸またはＹ方向に延在する。以下の測定技術上の説明ゆえ、輪郭線Ｋ_Ｌ１、Ｋ_Ｌ２およびＫ_Ｌ３は、例示的に分析領域５２に対してのみ示されているものの、その種のＶ字形山部は、薄板ガラス基板５４全体にわたっても延在し得る。その際、Ｖ字形厚さ変動Ｋの値は、Ｖ字形厚さ変動を有する薄板ガラス基板５４の主表面上の一点の、理想平面薄板ガラス基板の主表面上の対応する一点に対する最大間隔である。

従来の薄板ガラス基板の測定には、第１の測定系列同様に第２の測定系列においても、それぞれ、本発明により熱成形された薄板ガラス基板用と同じ組成、つまり同じガラスおよび同じ寸法を有する薄板ガラス基板を使用した。

第２の測定系列では、Ｆｒｉｅｓ Ｒｅｓｅａｒｃｈ ＆ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ ＧｍｂＨ、Ｆｒｉｅｄｒｉｃｈ－Ｅｂｅｒｔ－Ｓｔｒ．、Ｄ－５１４２９ Ｂｅｒｇｉｓｃｈ Ｇｌａｄｂａｃｈ製のフーリエ変換干渉計Ｍｉｃｒｏｐｒｏｆ（登録商標）（ＭＰＲ ２００ ３０型、ＦＲＴ ＣＷＬ ６００μｍセンサ使用）を使用した。

その際、以下の条件が存在した。

測定は、１８×１８ｃｍ^２の面積を有する正方形面上で行ったが、ここで記載する測定値に関しては、分析領域５２内のみを評価した。

５００スキャン、つまりＹ方向に互いに並ぶライン・バイ・ライン測定を、それぞれ５００の点を利用してＸ方向での０．３６ｍｍの点間隔で行った。Ｙ方向でのラインのオフセットは、それぞれ、０．３６ｍｍの間隔を有した。評価したのは、例示的に、０．７ｍｍ厚の薄板ガラス基板の分析領域５２内の上側面、つまりその上側主表面５３の分析領域５２のみであった。

走査ユニット（ｇａｎｔｒｙ ｄｅｓｉｇｎ）は、３００ｍｍ／ｓの可能最高速度において、測定速度として１５ｍｍ／ｓの速度で運転した。横方向分解能は、ＸおよびＹ方向で＜２μｍであり、垂直方向、つまりＺ方向での分解能は６ｎｍであった。測定範囲は、ＸおよびＹ方向に、１８０×１８０ｍｍを網羅し、５００のラインを測定し、測定したライン間の間隔は、３６０μｍであった。その際、ラインごとに５００の測定点を捉え、測定点間の間隔はそれぞれ３６０μｍであった。

各測定ラインに沿った個々のスキャンの測定方向は、それぞれ、延伸方向に対して垂直、つまりＸ方向に延びていた。

センサと測定面との間の間隔は、それぞれ測定された薄板ガラス基板の０．７ｍｍの厚さにおいて、およそ３．７４ｍｍであった。高周波ノイズを抑制するために、得られた値を、ラインごとに平滑化した。

それぞれ、薄板ガラス基板の反りＶおよびＶ字形厚さ変動Ｋの影響を抑制するために、フレキシビリティパラメータλ＝５を有する３次スプライン、およびフレキシビリティパラメータλ＝１００００を有する３次スプラインを使用し、それは、長さが４０ｍｍのハイパスフィルタに相当した。そのために、ＳＡＳ ＪＭＰ（商標）プログラムを使用した。

双方のフィルタリングされたラインを、互いにｚ（ｘ，λ＝５）－ｚ（ｘ，λ＝１００００）差し引いて、実質的に、各測定値のノイズを除去した、山部に関する事実上の測定値ｚ（ｘ）のみを提供するバンドパスフィルタを得て、これはおよそ７～３５ｍｍの３ｄＢバンドパス長を有するバンドパスフィルタに相当した。

Ｖ字形厚さ変動Ｋならびに反りＶの影響は、それぞれの高さＨの測定の測定結果に関する前記のフィルタリングにより、５％未満の値に下げることができた。これにより、各測定位置での高さの測定からＶ字形厚さ変動および反りを補正できた。

１０×１０ｃｍ^２の寸法を有する分析領域５２を同じく、前記のように得られた上側主表面５３のデータをそれぞれ算術平均するための基礎とした。

図１２は、ＦＲＴ干渉計を用いて得られた、本発明による薄板ガラス基板５４の表面データのグレースケール図を示し、その表面データでは、筋目の厚さ値が濃淡値として識別できる。

従来の薄板ガラス基板と本発明による薄板ガラス基板との比較が、図１３および１４から読み取ることができ、図１３は、ＦＲＴ干渉計を用いて得られた、従来の薄板ガラス基板の表面データの光学的屈折力のグレースケール図であり、図１４は、ＦＲＴ干渉計を用いて得られた、本発明による薄板ガラス基板５４の上側主表面の表面データの光学的屈折力のグレースケール図である。

その際、以下の表２に挙げる結果が、分析面５２にわたって平均された算術平均として得られた。

この表において、
Ｚ_ｍ：薄板ガラス基板５４の上側主表面５３上の１０×１０ｃｍ^２の分析面５２上の山部の高さＨのフィルタリングされた、つまりＶ字形の厚さ変動および反りを補正した値の算術平均、
（ΔＺ／Δｘ）_ｍ：１０×１０ｃｍ^２の分析面上の筋目の表面うねりの延伸方向に対して垂直な導関数の算術平均、
（Ｏｐｔ． Ｐｏｗｅｒ）_ｍ、片面：１０×１０ｃｍ^２の平均算出面上で算出された上側主表面５３の光学的屈折力の算術平均、
（角度）_ｍ：１０×１０ｃｍ^２の分析面にわたって算術平均された、主表面５３上への垂直入射光線において算出された偏角の算術平均
を表す。

したがって、本明細書に記載する薄板ガラス基板の製造方法により、該薄板ガラス基板の主表面のうちの一方の山部、特に長く伸びた山部であって、ほぼ法線方向に隆起し、該山部の横方向長さの２倍超、好ましくは３倍超、特に好ましくは５倍超の縦方向長さを有し、かつ１０×１０ｃｍ^２の分析面の平均による算術平均で、好ましくは熱成形されたガラスリボンの中央において延伸方向に対して垂直に、１００ｎｍ未満、好ましくは９０ｎｍ未満、特に好ましくは８０ｎｍ未満の高さＨ、およびホウケイ酸ガラス薄板ガラス基板の場合は８５ｎｍ未満、好ましくは７５ｎｍ未満、特に好ましくは６５ｎｍの高さＨを有し、かつ該山部の横方向長さがそれぞれ４０ｍｍ未満である山部を形成することができた。

平均値のみならず、絶対値の分布も、本発明の方法により著しく改善された。

本発明により熱成形された薄板ガラス基板の測定点の９７．５％が、１７３．９ｎｍ未満のＺ方向での偏差、つまり筋目の最大山部を有し、従来のように成形された薄板ガラス基板では、２７３．５ｎｍであった。

測定点の９７．５％に関して、本発明により熱成形されたガラスの（ΔＤ／Δｘ）_ｍ／（ｍ／ｍｍ）の値は、５７．１未満であり、従来のように成形されたガラスでは、７８．３であった。測定点の９７．５％に関して、従来のように成形された薄板ガラス基板の片側屈折力の値は、２２．３ｍｄｐｔ未満であり、本発明により熱成形された薄板ガラス基板では１７．５ｍｄｐｔ未満であった。

この薄板ガラス基板の製造方法を用いると、熱成形により、薄板ガラス基板５４が、延伸方向に対して垂直な、つまりＸ方向の１ｍの長さについて１００μｍ未満の値を有するほぼＶ字形の厚さ変動Ｋを有した。さらに、その際、熱成形により、薄板ガラス基板５４が、延伸方向に対して垂直な、つまりＸ方向の１ｍの長さについて６００μｍ未満の値を有する反りＶを有した。

前記の記載では、すべての平均が、それぞれの分析面５２内で行った算術平均であり、ただし、厚さ測定、つまり異常拡張厚さ偏差の測定では、１８×１８ｃｍ^２の分析および平均算出面を使用し、主表面５３上のみでの山部の高さＨの測定においては、１０×１０ｃｍ^２の分析または平均算出面を使用した。

前記の方法を用いると、熱成形により、少なくとも１０ｃｍ×１０ｃｍの、薄板ガラス基板５４の第１の主表面および第２の主表面の面積について平均して、０．３ｍｍ～２．６ｍｍの平均厚さを有する薄板ガラス基板５４が得られた。

しかしながら、０．７～２．５ｍｍの厚さを有する、薄板ガラス基板５４のさらなる好ましい実施形態、ならびにおよそ０．７ｍｍの厚さまたはおよそ２．５４ｍｍの厚さを有する特に好ましい実施形態も得ることができた。さらに、本発明による方法を用いて、１０ｍｍまでの厚さ、その上１２ｍｍまでの厚さを有するガラス基板をも製造することができた。

第３および第４の測定系列の以下の測定は、以下の組成：
ＳｉＯ_２ ７０～８６重量％
Ａｌ_２Ｏ_３ ０～５重量％
Ｂ_２Ｏ_３ ９．０～２５重量％
Ｎａ_２Ｏ ０．５～５．０重量％
Ｋ_２Ｏ ０～１．０重量％
Ｌｉ_２Ｏ ０～１．０重量％
を有する２ｍｍ厚のホウケイ酸ガラスを用いて行った。

第３の測定系列の、両面の山部の厚さにより形成される、理想平面基板からの厚さ偏差、つまり厚さ変動、さらには異常拡張厚さ変動の測定を、同じくＺＹＧＯ社のレーザ干渉計（位相シフト干渉計）を用いて行った。

レーザ干渉計は、２４″の開口を有するフィゾー干渉計である。その際、２４″の測定スポット（円形）を有するＺｙｇｏ Ｖｅｒｉｆｉｒｅシステムを使用した。

標準ＴＷＦモードで測定し、カメラ設定は１０２４×１０２４であり、ＸおよびＹ方向においてそれぞれ１０２４個の測定点に相応した。

Ｚ方向での測定不確かさは、＜３０ｎｍであり、６３３ｎｍの波長におけるλ／２０に相当した。

ＸおよびＹ方向での横方向不確かさは、０．６２ｍｍであった。

ピストン・チルトゼルニケの除去を作動させ、データは、Ｖ字形厚さ変動Ｋおよび反りＶの影響を抑制するためにのみ、ならびにカットオフが４０ｍｍのガウシアンスプラインハイパスフィルタを装備したＺｙｇｏ Ｍｘソフトウェア（バージョン７．０．０．１５）の使用下に使用した。スプライン・ビートン係数およびスプライン・テンションコントロールは、デフォルトセッティングに設定した。

Ｖ字形厚さ変動Ｋならびに反りＶの影響は、それぞれの厚さ変動Ｄ_ｍ／ｍの測定の測定結果に関する前記のフィルタリングにより、５％未満の値に下げることができた。これにより、各測定位置での厚さ変動Ｄ_ｍ／ｍの測定からＶ字形厚さ変動および反りを補正できた。

前記の第３の測定系列の方法を用いて、以下の表３に示される薄板ガラス基板５４の厚さ変動または厚さ偏差に関する測定値を得た。

前記の表３中では、１０進指数が、それぞれＥの値として示されており、簡潔にするため、例えば、係数×１０^－９に対してＥ－９を、係数×１０^－３に対してＥ－３を使用した。

光学的屈折力Ｐ_{ｇｅｓａｍｔ（全体）}（ｘ）として、前記の表中ではその用語をＯｐｔ．Ｐｏｗｅｒと略記し、それにより、薄板ガラス基板の両主表面の位置ｘでの全屈折力を示した。

前記の表３ならびにさらなる明細書および特許請求の範囲においては、下付き文字ｍはそれぞれ、同じく、その文字で記される各値が、分析領域全体にわたってＸ方向に算術平均されたことを表す。

第３および第４の測定系列の測定も同様に、本発明により改善された値を示す。図１５および１６は、具体化するために、さらなる結果をグレースケール図の形で示す。

本発明による薄板ガラス基板の光学的屈折力が、従来の薄板ガラス基板の光学的屈折力よりもはるかに低いことが明らかに見て取れる。

第３の測定系列の前記の値を、第４の測定系列での、白色光干渉計、特にフーリエ変換白色光干渉計、ＦＲＴ干渉計を用いて行ったさらなる測定方法で補い、その方法は、図１１～１４に関連づけてすでに説明した。

第４の測定系列でも同様に、Ｆｒｉｅｓ Ｒｅｓｅａｒｃｈ ＆ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ ＧｍｂＨ、Ｆｒｉｅｄｒｉｃｈ－Ｅｂｅｒｔ－Ｓｔｒ．、Ｄ－５１４２９ Ｂｅｒｇｉｓｃｈ Ｇｌａｄｂａｃｈ製のフーリエ変換干渉計Ｍｉｃｒｏｐｒｏｆ（登録商標）（ＭＰＲ ２００ ３０型、ＦＲＴ ＣＷＬ ６００μｍセンサ使用）を使用した。

その際、以下の条件が存在した。

測定は、１８×１８ｃｍ^２の面積を有する正方形面上で行ったが、ここで記載する測定値に関しては、分析領域５２内のみを評価した。

５００スキャン、つまりＹ方向に互いに並ぶライン・バイ・ライン測定を、それぞれ５００の点を利用してＸ方向での０．３６ｍｍの点間隔で行った。Ｙ方向でのラインのオフセットは、それぞれ、０．３６ｍｍの間隔を有した。評価したのは、例示的に、２ｍｍ厚の薄板ガラス基板の分析領域５２内の上側面、つまりその上側主表面５３の分析領域５２のみであった。

走査ユニット（ｇａｎｔｒｙ ｄｅｓｉｇｎ）は、３００ｍｍ／ｓの可能最高速度において、測定速度として１５ｍｍ／ｓの速度で運転した。横方向分解能は、ＸおよびＹ方向で＜２μｍであり、垂直方向、つまりＺ方向での分解能は６ｎｍであった。測定範囲は、ＸおよびＹ方向に、１８０×１８０ｍｍを網羅し、５００のラインを測定し、測定したライン間の間隔は、３６０μｍであった。その際、ラインごとに５００の測定点を捉え、測定点間の間隔はそれぞれ３６０μｍであった。

各測定ラインに沿った個々のスキャンの測定方向は、それぞれ、延伸方向に対して垂直、つまりＸ方向に延びていた。

センサと測定面との間の間隔は、それぞれ測定された薄板ガラス基板の２．０ｍｍの厚さにおいて、およそ５．０４ｍｍであった。高周波ノイズを抑制するために、得られた値を、ラインごとに平滑化した。

それぞれ、薄板ガラス基板の反りＶおよびＶ字形厚さ変動Ｋの影響を抑制するために、フレキシビリティパラメータλ＝５を有する３次スプライン、およびフレキシビリティパラメータλ＝１００００を有する３次スプラインを使用し、それは、長さが４０ｍｍのハイパスフィルタに相当した。そのために、ＳＡＳ ＪＭＰ（商標）プログラムを使用した。

双方のフィルタリングされたラインを、互いにｚ（ｘ，λ＝５）－ｚ（ｘ，λ＝１００００）差し引いて、実質的に、各測定値のノイズを除去した、山部に関する事実上の測定値ｚ（ｘ）のみを提供するバンドパスフィルタを得て、これはおよそ７～３５ｍｍの３ｄＢバンドパス長を有するバンドパスフィルタに相当した。

Ｖ字形厚さ変動Ｋならびに反りＶの影響は、それぞれの高さＨの測定の測定結果に関する前記のフィルタリングにより、５％未満の値に下げることができた。これにより、各測定位置での高さの測定からＶ字形厚さ変動および反りを補正できた。

１０×１０ｃｍ^２の寸法を有する分析領域５２を同じく、前記のように得られた上側主表面５３のデータをそれぞれ算術平均するための基礎とした。

その際、以下の表４に挙げる結果が、分析面５２にわたって平均された算術平均として得られた。

この表３および４において、
新規ホウケイ酸ガラスは、本開示の方法により熱成形されたホウケイ酸ガラス、
旧ホウケイ酸ガラスは、従来の方法により熱成形されたホウケイ酸ガラス、
Ｚ_ｍ：薄板ガラス基板５４の上側主表面５３上の１０×１０ｃｍ^２の分析面５２上の山部の高さＨのフィルタリングされた、つまりＶ字形の厚さ変動および反りを補正した値の算術平均、
（ΔＺ／Δｘ）_ｍ：１０×１０ｃｍ^２の分析面上の筋目の表面うねりの延伸方向に対して垂直な導関数の算術平均、
（Ｏｐｔ． Ｐｏｗｅｒ）_ｍ、片面：１０×１０ｃｍ^２の平均算出面上で算出された上側主表面５３の光学的屈折力の算術平均、
（角度）_ｍ：１０×１０ｃｍ^２の分析面にわたって算術平均された、主表面５３上への垂直入射光線において算出された偏角の算術平均
を表す。

本明細書で開示した、薄板ガラス基板の製造方法、特にその熱成形法では、筋目とも呼ばれる山部の高さを、薄板ガラス基板の厚さに応じて、それぞれ少なくとも、以下の等式で示される値だけ減少させることができた。以下の不等式は、特に、薄板ガラス基板の主表面のうちの一方の、その横方向長さが、Ｖ字形の厚さ変動および反りを補正した１０×１０ｃｍ^２の分析面の算術平均で、それぞれ平均で４０ｍｍ未満である厚さ依存性の山部で成り立つ。
Ｈ_新規／ｎｍ＜Ｈ_旧／ｎｍ×（０．８５－０．１×Ｄ／ｍｍ）
ここで、
Ｄは、０．３ｍｍ～２．６ｍｍの範囲にある薄板ガラス基板の厚さ（ｍｍ）であり、
Ｈ_新規は、本発明による薄板ガラス基板の主表面のうちの一方の山部の高さ（ｎｍ）であり、
Ｈ_旧は、従来の薄板ガラス基板の主表面のうちの一方の山部の高さ（ｎｍ）である。

通常は、その上さらに著しい改善、つまり筋目の高さＨのさらに著しい減少も得られたため、前記の等式は、通常達成可能な成果の一範囲を示すにすぎない。

この等式は、厳密には、特に０．３ｍｍ～２．６ｍｍの厚さを有する薄板ガラス基板に当てはまる。しかしながら、２．６ｍｍ超の厚さを有する薄板ガラス基板も類似の改善を示したが、その改善は、２．６ｍｍを超える大きな厚さ値、特に６ｍｍ以上の厚さ値に対しては、この不等式によって、もはや正確には示されない。本発明による方法は、薄板ガラス基板の主表面のうちの一方の、その横方向長さが、Ｖ字形の厚さ変動および反りを補正した１０×１０ｃｍ^２の分析面の算術平均で、それぞれ平均で４０ｍｍ未満である厚さ依存性の山部が、以下の等式：
ＳＱＲＴ（Ｄ／ｍｍ）×Ｈ／ｎｍ＜８５
を満たす、薄板ガラス基板の製造を可能にし、
ここで、
Ｄは、薄板ガラス基板の厚さ（ｍｍ）であり、
Ｈは、本発明による薄板ガラス基板の主表面のうちの一方の山部の高さ（ｎｍ）であり、ＳＱＲＴ（）は、（）内にある値の平方根を意味する。

この関係は、厳密には、特に０．３ｍｍ～２．６ｍｍの厚さを有する薄板ガラス基板に当てはまるが、２．６ｍｍ超の厚さを有する薄板ガラス基板も類似の挙動を示した。

したがって、本明細書に記載する薄板ガラス基板の製造方法により、ホウケイ酸ガラスにおいて、該薄板ガラス基板の主表面のうちの一方の山部、特に長く伸びた山部であって、ほぼ法線方向に隆起し、該山部の横方向長さの２倍超、好ましくは３倍超、特に好ましくは５倍超の縦方向長さを有し、かつＶ字形の厚さ変動および反りを補正した１０×１０ｃｍ^２の分析面の平均による算術平均で、好ましくは熱成形されたガラスリボンの中央において延伸方向に対して垂直に、８５ｎｍ未満、好ましくは７５ｎｍ未満、特に好ましくは６５ｎｍ未満の高さＨを有し、かつ該山部の横方向長さがそれぞれ４０ｍｍ未満である山部を形成することができた。

平均値のみならず、絶対値の分布も、本発明の方法により著しく改善された。

ホウケイ酸ガラス薄板ガラス基板の製造方法を用いると、熱成形により、ホウケイ酸ガラス薄板ガラス基板５４が、延伸方向に対して垂直な、つまりＸ方向の１ｍの長さについて４０μｍ未満の値を有するほぼＶ字形の厚さ変動Ｋを有した。さらに、その際、熱成形により、薄板ガラス基板５４が、延伸方向に対して垂直な、つまりＸ方向の１ｍの長さについて３００μｍ未満の値を有する反りＶを有した。

前記の記載では、すべての平均、さらには第３および第４の測定系列の平均も、それぞれの分析面５２内で行った算術平均であり、ただし、厚さ測定、つまり異常拡張厚さ偏差の測定では、１８×１８ｃｍ^２の分析および平均算出面を使用し、主表面５３上のみでの山部の高さＨの測定においては、１０×１０ｃｍ^２の分析または平均算出面を使用した。

前記の方法を用いると、熱成形により、少なくとも１０ｃｍ×１０ｃｍの、薄板ガラス基板５４の第１の主表面および第２の主表面の面積について平均して、０．３ｍｍ～２．６ｍｍの平均厚さを有するホウケイ酸ガラス薄板ガラス基板５４が得られた。

しかしながら、０．７～２．５ｍｍの厚さを有する、ホウケイ酸ガラス薄板ガラス基板５４のさらなる好ましい実施形態、ならびにおよそ０．７ｍｍの厚さまたはおよそ２．５４ｍｍの厚さを有する特に好ましい実施形態も得ることができた。さらに、本発明による方法を用いて、１０ｍｍまでの厚さ、その上１２ｍｍまでの厚さを有するガラス基板をも製造することができた。

１ フロートガラスを製造するための設備、フロート設備
１’ 薄板ガラス基板の本発明による製造装置、フロート設備
２ 溶融窯または溶融炉
２’ 溶融窯または溶融炉
３ ガラスバッチ
４ バーナー
５ ガラス溶融体
６ 溶融窯の流路
６’ 溶融窯の流路
７ フロートバス、特にスズ浴
７’ フロートバス、特にスズ浴
８ 熱成形すべき溶融ガラス
９ フロートバス炉
９’ フロートバス炉
１０ バーナー
１１ インレットリップ部、リップストーン部またはスパウト
１２ トップローラ
１２’トップローラ
１３ ガラスリボン
１４ 冷却炉
１５ バーナー
１６ 溶融設備
１７ 処理量を制御するための部材、制御ゲート、ツイール
１８ 粘度を定義された方法で調整するための設備
１９ チャンバ
２０ 流体貫流領域
２１ 流体貫流領域
２２ チャンバ１９の隔壁
２３ チャンバ１９の隔壁
２４ チャンバ１９の隔壁
２５ チャンバ１９の隔壁
２６ センシングユニット
２７ クロスバー
２８ クロスバー
２９ クロスバー
３０ クロスバー
３１ クロスバー
３２ ベイまたは浴槽区間１
３３ ベイまたは浴槽区間２
３４ ベイまたは浴槽区間３
３５ ベイまたは浴槽区間４
３６ ベイまたは浴槽区間５
３７ ベイまたは浴槽区間６
３８ トップローラ
３９ トップローラ
４０ トップローラ
４１ トップローラ
４２ トップローラ
４３ トップローラ
４４ トップローラ
４５ 流路６’の隔壁
４６ 流路６’の隔壁
４７ 熱成形設備
４８ ツイール１７の上流およびリップストーン部１１またはスパウト１１の上流の位置にある矢印
４９ 流動または延伸方向で、ツイール１７の後端、つまりツイールのすぐ下流の位置に相当する位置にある矢印
５０ 流動または延伸方向で、ベイ１の開始部に相当する１．５ｍの距離にある矢印
５１ 流動または延伸方向で、ベイ４の開始部に相当する１２ｍの距離にある矢印
５２ 分析領域
５３ 上側主表面
５４ 薄板ガラス基板
５５ 筋目
５６ 筋目
５７ 筋目
５８ 筋目
５９ 合わせガラス板
６０ 第１のガラス板
６１ ポリマー層
６２ 第２のガラス板
６３ 第２のガラス板６２の外向き表面
６４ 第１のガラス板６０の外向き表面
６５ 第２のガラス板６２の外向き表面６３上のヘッドアップディスプレイ用反射面
６６ 両向き矢印
Ｍ ガラスまたはガラスリボンのＸ方向での中心線
Ｄ 薄板ガラス基板５４の厚さ
Ｋ 薄板ガラス基板５４の、ほぼＶ字形の厚さ変動
Ｋ_Ｌ１ 薄板ガラス基板５４の、ほぼＶ字形の厚さ変動Ｋの輪郭線
Ｋ_Ｌ２ 薄板ガラス基板５４の、ほぼＶ字形の厚さ変動Ｋの輪郭線
Ｋ_Ｌ３ 薄板ガラス基板５４の、ほぼＶ字形の厚さ変動Ｋの輪郭線
Ｖ 薄板ガラス基板５４の反り
Ｖ_Ｌ１ 薄板ガラス基板５４の反りＶの輪郭線
Ｖ_Ｌ２ 薄板ガラス基板５４の反りＶの輪郭線
Ｈ 山部または筋目の高さ
Ｈ_旧 従来の薄板ガラス基板の山部または筋目の高さ
Ｈ_新規 本開示の方法により熱成形された薄板ガラス基板の山部または筋目の高さ
Ｏ_ｐｌ 理想平面薄板ガラス基板の表面
Ｑ 特に、山部または筋目の縦方向に対して垂直な、山部または筋目の横方向長さ

Claims (33)

1. 薄板ガラス基板の製造方法であって、好ましくは薄板ガラス基板を連続的に製造する方法において、
   溶融後でかつ熱成形前に、成形すべきガラスを熱成形設備に供給する前に、その粘度を冷却設備により冷却によって調整し、前記成形すべきガラスの粘度は、処理量を制御するための部材またはツイールのすぐ後方において、ｌｇ η／ｄＰａｓ＝３．７５～好ましくは最高で４．５である、方法。
2. 前記粘度の調整を、リップストーン部またはスパウトの上流で行い、特に、金属浴上へ供給する前に行う、請求項１記載の薄板ガラス基板の製造方法。
3. 前記粘度の調整を、処理量を制御するための部材またはツイールの上流で行い、特に、金属浴上へ供給する前に行う、請求項１または２記載の薄板ガラス基板の製造方法。
4. 前記成形すべきガラスの粘度が、
   好ましくは溶融窯の流路端および前記処理量を制御するための部材またはツイールの上流で、少なくともｌｇ η／ｄＰａｓ＝３．７５～好ましくは最高で４．５であり、かつ／または
   ベイ１または浴槽区間１の開始部および／または延伸方向で前記処理量を制御するための部材またはツイールの下流１．５ｍの距離において、少なくともｌｇ η／ｄＰａｓ＝５．２５～好ましくは最高で５．８５であり、かつ／または
   ベイ４または浴槽区間４の開始部および／または延伸方向で前記処理量を制御するための部材またはツイールの下流１２ｍの距離において、少なくともｌｇ η／ｄＰａｓ＝７．０５～好ましくは７．６であり、
   かつ／または
   前記処理量を制御するための部材またはツイールの下流１．５ｍまでの距離にわたる第１区間の粘度η_１に対して次の等式が成り立つが、ただし、ｙ_１は、それぞれ、前記処理量を制御するための部材またはツイールのすぐ後方の位置までの距離を表すものとする：
   ｌｇ η_１（ｙ_１）／ｄＰａｓ＝（ｌｇ η_０１／ｄＰａｓ＋ａ_１（ｙ_１））
   ここで、
   ０ｍ≦ｙ_１≦１．５ｍ
   ３．７５≦ｌｇ η_０１／ｄＰａｓ≦４．５
   ａ_１（ｙ_１）＝１．００／ｍ×ｙ_１
   であり、かつ／または
   前記処理量を制御するための部材またはツイールの下流１２ｍの距離から、前記処理量を制御するための部材の下流１６ｍまでの距離を有する第２区間の粘度η_２に対して次の等式が成り立つが、ただし、ｙ_２は、それぞれ、前記処理量を制御するための部材またはツイールのすぐ後方の位置までの距離を表すものとする：
   ｌｇ η_２（ｙ_２）／ｄＰａｓ＝（ｌｇ η_０２／ｄＰａｓ＋ａ_２（ｙ_２））
   ここで、
   １２ｍ≦ｙ_２≦１６ｍ
   ７．０５≦ｌｇ η_０２／ｄＰａｓ≦７．６
   ａ_２（ｙ_２）＝０．７８８／ｍ×（ｙ_２－１２ｍ）
   である、請求項１から３までのいずれか１項記載の薄板ガラス基板の製造方法。
5. 熱成形に、延伸法、特にフロート法、ダウンドロー法、および／またはフュージョン法、特にオーバーフローフュージョンダウンドロー法を使用する、請求項１から４までのいずれか１項記載の薄板ガラス基板の製造方法。
6. 前記薄板ガラス基板の熱成形に、Ｌｉ－Ａｌ－Ｓｉガラス、Ａｌ－Ｓｉガラス、Ｋ－Ｎａ－Ｓｉガラス、またはホウケイ酸ガラスを使用する、請求項１から５までのいずれか１項記載の薄板ガラス基板の製造方法。
7. 前記薄板ガラス基板の熱成形に、以下の成分（重量％）：
   ＳｉＯ_２ ７０～８７
   Ｂ_２Ｏ_３ ７～２５
   Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ ０．５～９
   Ａｌ_２Ｏ_３ ０～７
   ＣａＯ ０～３
   を含有するホウケイ酸ガラスを使用する、請求項１から６までのいずれか１項記載の薄板ガラス基板の製造方法。
8. 前記薄板ガラス基板の熱成形に、特に以下の組成：
   ＳｉＯ_２ ７０～８６重量％
   Ａｌ_２Ｏ_３ ０～５重量％
   Ｂ_２Ｏ_３ ９．０～２５重量％
   Ｎａ_２Ｏ ０．５～５．０重量％
   Ｋ_２Ｏ ０～１．０重量％
   Ｌｉ_２Ｏ ０～１．０重量％
   を有するホウケイ酸ガラスを使用するか、または
   ＳｉＯ_２ ７８．３～８１．０重量％
   Ｂ_２Ｏ_３ ９．０～１３．０重量％
   Ａｌ_２Ｏ_３ ３．５～５．３重量％
   Ｎａ_２Ｏ ３．５～６．５重量％
   Ｋ_２Ｏ ０．３～２．０重量％
   ＣａＯ ０．０～２．０重量％
   を含有するホウケイ酸ガラス、特にアルカリホウケイ酸ガラスを使用する、請求項１から７までのいずれか１項記載の薄板ガラス基板の製造方法。
9. 前記薄板ガラス基板の熱成形に、Ｌｉ－Ａｌ－Ｓｉガラス、特に４．６重量％～５．４重量％のＬｉ_２Ｏ含有量、および８．１重量％～９．７重量％のＮａ_２Ｏ含有量、および１６重量％～２０重量％のＡｌ_２Ｏ_３含有量を有するＬｉ－Ａｌ－Ｓｉガラスを使用する、請求項１から８までのいずれか１項記載の薄板ガラス基板の製造方法。
10. 前記薄板ガラス基板の主表面のうちの一方に、山部、特に長く伸びた山部が形成され、前記山部は、ほぼ法線方向に隆起し、前記山部の横方向長さの２倍超、好ましくは３倍超、特に好ましくは５倍超の縦方向長さを有し、かつＶ字形の厚さ変動および反りを補正した１０×１０ｃｍ^２の分析面の算術平均で、好ましくは延伸方向に対して垂直な熱成形されたガラスリボンの中央において、平均で１００ｎｍ未満、好ましくは９０ｎｍ未満、特に好ましくは８０ｎｍ未満の高さ、およびホウケイ酸ガラス薄板ガラス基板の場合は８５ｎｍ未満、好ましくは７５ｎｍ未満、特に好ましくは６５ｎｍの高さを有し、かつ前記山部の横方向長さは、それぞれ４０ｍｍ未満である、請求項１から９までのいずれか１項記載の薄板ガラス基板の製造方法。
11. 前記熱成形により、前記薄板ガラス基板が、延伸方向に対して垂直な１ｍの長さについて１００μｍ未満の値、およびホウケイ酸ガラスの場合は４０μｍ未満の値のほぼＶ字形の厚さ変動Ｋを有する、請求項１から１０までのいずれか１項記載の薄板ガラス基板の製造方法。
12. 前記熱成形により、前記薄板ガラス基板が、延伸方向に対して垂直な１ｍの長さについて６００μｍ未満の値、およびホウケイ酸ガラスの場合は３００μｍ未満の値の反りＶを有する、請求項１から１１までのいずれか１項記載の薄板ガラス基板の製造方法。
13. 前記熱成形により、前記薄板ガラス基板が、少なくとも１０ｃｍ×１０ｃｍの、前記薄板ガラス基板の第１の主表面および第２の主表面の面積について平均して、０．３ｍｍ～２．６ｍｍの平均厚さを得る、好ましくは０．７ｍｍ～２．５ｍｍの厚さを得る、特に好ましくはおよそ０．７ｍｍの厚さまたはおよそ２．５４ｍｍの厚さを得る、請求項１から１２までのいずれか１項記載の薄板ガラス基板の製造方法。
14. 前記薄板ガラス基板を、１日当たりの処理量がガラス４００ｔ未満、好ましくは２００ｔ未満、特に好ましくは１００ｔ未満で熱成形した後に、良品ガラスの割合が、ガラス処理量全体の１５％超である、請求項１から１３までのいずれか１項記載の薄板ガラス基板の製造方法。
15. 請求項１から１４までのいずれか１項記載の方法を実施するための、薄板ガラス基板、特に、ホウケイ酸ガラス薄板ガラス基板を製造するための装置において、前記装置は、
    溶融設備と、
    熱成形設備と、
    前記薄板ガラス基板へと成形すべきガラスの粘度を冷却によって調整するための設備とを備え、
    前記薄板ガラス基板へと成形すべきガラスの粘度を冷却によって調整するための設備、特に前記設備が、熱成形設備、特に前記熱成形設備の上流に配置されており、前記粘度を冷却によって調整するための設備が、冷却設備を備えている、装置。
16. 請求項２に記載の方法を実施するための、薄板ガラス基板を製造するための装置において、前記装置は、
    溶融設備と、
    熱成形設備と、
    前記薄板ガラス基板へと成形すべきガラスの粘度を冷却によって調整するための設備とを備え、
    前記薄板ガラス基板へと成形すべきガラスの粘度を冷却によって調整するための設備、特に前記設備が、前記スパウトの上流に配置されており、前記粘度を冷却によって調整するための設備が、冷却設備を備えている、装置。
17. 請求項１から１４までのいずれか１項記載の方法を実施するための、薄板ガラス基板を製造するための装置において、前記装置は、
    溶融設備と、
    熱成形設備と、
    前記薄板ガラス基板へと成形すべきガラスの粘度を冷却によって調整するための設備とを備え、
    前記薄板ガラス基板へと成形すべきガラスの粘度を冷却によって調整するための設備、特に前記設備が、前記処理量を制御するための部材またはツイールの上流に配置されており、前記粘度を冷却によって調整するための設備が、冷却設備を備えている、装置。
18. 前記粘度を冷却によって調整するための設備が、前記熱成形すべきガラスから熱を吸収する流体貫流領域を備えている、請求項１５から１７までのいずれか１項記載の薄板ガラス基板の製造装置。
19. ９００℃～１５００℃の範囲における前記ガラスの粘度を、前記処理量を制御するための部材またはツイールのすぐ上流の位置ではΔｌｇ η／ｄＰａｓ＝０．１の偏差で調整可能であり、前記処理量を制御するための部材またはツイールのすぐ後方の位置から１．５ｍの距離ではΔｌｇ η／ｄＰａｓ＝０．２の偏差で調整可能であり、かつ前記処理量を制御するための部材またはツイールのすぐ後方の位置から１２ｍの距離ではΔｌｇ η／ｄＰａｓ＝０．３の偏差で調整可能である、請求項１５から１７までのいずれか１項記載の薄板ガラス基板の製造装置。
20. 前記成形すべきガラスの温度が、９００℃～１５００℃の範囲において、１０℃未満の偏差で調整可能である、請求項１５から１７までのいずれか１項記載の薄板ガラス基板の製造装置。
21. センシングユニットが、前記熱成形すべきガラスの温度を特に１０℃の最大偏差で検知し、かつ／または前記熱成形すべきガラスの粘度を検知する、特に前記処理量を制御するための部材またはツイールのすぐ上流の位置ではΔｌｇ η／ｄＰａｓ＝０．１、前記処理量を制御するための部材またはツイールのすぐ後方の位置から１．５ｍの距離ではΔｌｇ η／ｄＰａｓ＝０．２、および前記処理量を制御するための部材またはツイールのすぐ後方の位置から１２ｍの距離ではΔｌｇ η／ｄＰａｓ＝０．３の最大偏差で検知する、請求項１５から１７までのいずれか１項記載の薄板ガラス基板の製造装置。
22. 前記熱成形設備が、延伸設備、フロート設備、特にダウンドロー延伸設備、または特にオーバーフローダウンドロー延伸設備である、請求項１５から１８までのいずれか１項記載の薄板ガラス基板の製造装置。
23. ホウケイ酸ガラス薄板ガラス基板において、前記薄板ガラス基板は、前記薄板ガラス基板の主表面のうちの一方に、長く伸びた山部を含み、前記山部は、ほぼ法線方向に隆起し、かつ前記山部において、縦方向長さは、前記山部の横方向長さの２倍超、好ましくは３倍超、特に好ましくは５倍超であり、かつ前記山部は、Ｖ字形の厚さ変動および反りを補正した１０×１０ｃｍ^２の分析面の算術平均で、好ましくは延伸方向に対して垂直なガラスリボンの中央において、７５ｎｍ未満、好ましくは６５ｎｍの高さＨを有し、かつ前記山部の横方向長さはそれぞれ４０ｍｍ未満である、前記薄板ガラス基板。
24. 前記薄板ガラス基板が、延伸方向に対して垂直な１ｍの長さについて４０μｍ未満の値のほぼＶ字形の厚さ変動を有する、請求項２３記載の薄板ガラス基板。
25. 前記薄板ガラス基板が、延伸方向に対して垂直な１ｍの長さについて３００μｍ未満の値の反りを有する、請求項２３または２４記載の薄板ガラス基板。
26. 前記薄板ガラス基板が、少なくとも１０ｃｍ×１０ｃｍの、前記薄板ガラス基板の第１の主表面および第２の主表面の面積について平均して、０．５ｍｍ～２．６ｍｍの平均厚さを得る、好ましくは０．７ｍｍ～２．５ｍｍの厚さを得る、特に好ましくはおよそ０．７ｍｍの厚さまたはおよそ２．５４ｍｍの厚さを得る、請求項２３から２５までのいずれか１項記載の薄板ガラス基板。
27. 以下の成分（重量％）：
    ＳｉＯ_２ ７０～８７
    Ｂ_２Ｏ_３ ７～２５
    Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ ０．５～９
    Ａｌ_２Ｏ_３ ０～７
    ＣａＯ ０～３
    を含む、請求項２３から２６までのいずれか１項記載の薄板ガラス基板。
28. 以下の組成：
    ＳｉＯ_２ ７０～８６重量％
    Ａｌ_２Ｏ_３ ０～５重量％
    Ｂ_２Ｏ_３ ９．０～２５重量％
    Ｎａ_２Ｏ ０．５～５．０重量％
    Ｋ_２Ｏ ０～１．０重量％
    Ｌｉ_２Ｏ ０～１．０重量％
    を有するホウケイ酸ガラス、または
    ＳｉＯ_２ ７８．３～８１．０重量％
    Ｂ_２Ｏ_３ ９．０～１３．０重量％
    Ａｌ_２Ｏ_３ ３．５～５．３重量％
    Ｎａ_２Ｏ ３．５～６．５重量％
    Ｋ_２Ｏ ０．３～２．０重量％
    ＣａＯ ０．０～２．０重量％
    を含有するホウケイ酸ガラス、特にアルカリホウケイ酸ガラスを含む、請求項２３から２６までのいずれか１項記載の薄板ガラス基板。
29. 第１のガラス板と請求項２３から２８までのいずれか１項記載の薄板ガラス基板とを含む、合わせガラス板。
30. 請求項２３から２８までのいずれか１項記載の薄板ガラス基板を含む、自動車用ガラス。
31. 請求項２３から２８までのいずれか１項記載の薄板ガラス基板を含む、陸上、水上または水中および空中で運転される車両、特にモータ駆動車両用の、フロントガラス投影設備、特にヘッドアップディスプレイ。
32. 合わせガラス板の部材としての、請求項２３から２８までのいずれか１項記載の薄板ガラス基板の使用。
33. 自動車用ガラスの部材としての、請求項２３から２８までのいずれか１項記載の薄板ガラス基板の使用。

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