CN111511695A - 薄玻璃基板，特别是硼硅酸盐玻璃薄玻璃基板及其制造方法和设备 - Google Patents
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Abstract
本发明一般涉及一种薄玻璃基板，优选地硼硅酸盐玻璃薄玻璃基板及其制造方法和设备，并且提供了一种光学质量得到改进的薄玻璃基板及其制造方法和设备，其中，在该方法中，在熔融之后和热成型工艺之前，针对要获得的薄玻璃基板，以限定的方式调节待成型的或者至少已部分成型的玻璃的粘度。该设备包括熔融装置、热成型装置以及用于待成型为薄玻璃基板的玻璃的粘度限定调节装置；该用于待成型为薄玻璃基板的玻璃的粘度限定调节装置布置在热成型装置的上游。
Description
技术领域
本发明涉及一种薄玻璃基板，特别是硼硅酸盐玻璃薄玻璃基板及其制造方法和设备。此外，还规定了用于确定光学质量、特别是根据该方法制造的薄玻璃基板的光学质量的测量方法。
背景技术
薄玻璃基板尤其在汽车工程中具有越来越重要的意义，因为它们不仅能够减轻机动车辆的重量，而且还可以对其玻璃窗的光学性能产生显著影响。
随着人们对这种基板的光学性能的要求不断提高，例如结合对在背投影中显示二维信息的要求，或者结合对从机动车辆的环境中感测光学数据的要求，越来越需要光学质量优良的薄玻璃基板，而且越来越需要在其重量减轻方面取得相应的进步。减轻车辆玻璃窗的重量特别对EV(即，电动车辆)机动性而言，有着非常重要的作用。
文献DE 23 09 445 A1涉及一种用于制造厚度小于2.5mm的薄浮法玻璃的方法。在该方法中，将熔融玻璃以自由下落的形式倒入金属熔池上，其中其自由地扩散，在没有侧向导辊介入的情况下，形成粘度范围最高至105.25泊的均匀厚度层；于是玻璃带在浮法熔池的下一部分中保持可变形状态，并通过增加其速度而在纵向上拉伸；并且在该变形部分中，通过仅从上方作用在玻璃带的边缘区域上的辊子，对玻璃带施加力以便连续控制拉力的拉伸效果，从而将玻璃带逐渐拉伸到预定厚度。
文献JP 7-53223 A公开了一种被称为塔顶冷却器(overhead coolers)的冷却器件，其用于在使用顶部辊子拉伸器件之后，在原理成型工艺后改善光学质量，特别是降低被称为微观波纹度的光学特性。然而，降低微观波纹度仅对拉伸条纹的视觉显著性有着很小的影响。
此外，还可以在进入热成型系统时直接清除热量，但是根据现有技术，这仅在小范围内进行。
国际申请文件WO 2016048815A1描述了能够在玻璃带的热成型期间影响玻璃带的局部温度的装置。
文献US 3843344A示出了浮法系统的横截面图。公开了在该横截面图所示的闸板或流量控制装置附近，玻璃必须能够自由流动，并且温度必须足够高且粘度必须足够低，从而玻璃不会吸收任何应力，因此没有拉应力或剪应力，而应该能够在流动时缓解这种应力。更准确地说，该文献指定此时的log10粘度应低于3.0。
申请文件US 3961930A教导了至少部分成型的玻璃在进一步成型之前被加热。
文献AU 4631972 A描述了在进行浮法之前，使玻璃通过流量控制组件，特别是通过具有控制闸门的孔，然后将其加热到约1250℃至1300℃的温度，从而呈现的粘度约为103泊。
国际申请文件WO 2016007812 A1公开了用于调节若干工艺参数(例如浮法熔池上的玻璃带的粘度)的反馈回路，但是在每种情况下均未给出具体值。
国际申请文件WO 2011/103801 A1描述了一种用于高速列车的窗格组件，其中该组件的玻璃可以包含氧化硼，尤其是硼硅酸盐玻璃。
发明内容
本发明的目的是提供一种薄玻璃基板，特别是光学质量得到改进的硼硅酸盐玻璃薄玻璃基板，及其制造方法和设备。此外，本发明还涉及薄玻璃基板，特别是光学质量得到改进的硼硅酸盐玻璃薄玻璃基板的有利用途。另外，提供了一种用于确定光学质量的有利方法。
该目的是通过独立权利要求中描述的相应方法和设备实现的。各个从属权利要求和说明书中详细说明了有利的实施例。
令人惊讶的是，本发明人已经发现这种拉伸条纹能够通过以下方法减轻：用于制造薄玻璃基板的方法，优选用于连续制造薄玻璃基板、特别是拉伸条纹减少的薄玻璃基板的方法。在该方法中，在熔融之后和热成型工艺之前，针对要获得的所述薄玻璃基板，以限定的方式调节待成型的或者至少已部分成型的玻璃的粘度。在该方法中，在输送到热成型装置之前，以限定的方式，特别是通过限定冷却，来调节待热成型的玻璃的粘度。关于粘度的所有数据，特别是数值数据，下面将以lgη/dPa·s为单位给出。因为这是该技术领域的常识，因此，为了简洁起见，并未一一对此进行明确说明。
这里，减轻拉伸条纹应被理解为减小了拉伸条纹的尺寸，即，与理想平面基板、特别是薄玻璃基板相比，减小了由拉伸条纹限定的凸起的体积。为了对减轻情况进行比较，使用一种方法，其中例如待热成型的玻璃在唇口石(Lippenstein)或喷口上游的粘度为3.47lgη/dPa·s，这将基于特定的测量结果，在以下详细描述中进行更详细的阐述。对于以下比较测量，针对根据本发明的玻璃和现有技术的比较玻璃，结合在薄玻璃基板上进行的测量的描述，所使用的玻璃的组成将在以下更详细说明。
此外，一般而言，薄玻璃基板被认为是具有拉伸条纹减少的薄玻璃基板，如果薄玻璃基板的一个主表面上形成凸起、特别是基本上在法线方向上升高的细长凸起，并且该凸起的纵向长度是横向长度的2倍多、优选3倍多、更优选5倍多，针对楔形厚度变化和翘曲对该凸起的平均高度进行调节，并且优选在垂直于拉伸方向的热成型的玻璃带的中心，对10*10cm2的分析表面区域进行算术平均；该凸起的平均高度小于100nm，优选小于90nm，更优选小于80nm，并且在硼硅酸盐玻璃薄玻璃基板的情况下，该凸起的平均高度小于85nm，优选小于75nm，最优选小于65nm；并且在每种情况下，该凸起的横向长度小于40mm。
“薄”是由浮法玻璃制造工艺确定的，特别是对于硼硅酸盐玻璃也是如此。在浮法过程中，当热玻璃，特别是硼硅酸盐玻璃流出到液态锡上时，建立了约7mm的平衡厚度。在热玻璃，特别是硼硅酸盐玻璃流出后，将本发明意义上的薄硼硅酸盐玻璃在长度和宽度上拉伸，使得玻璃厚度小于或等于5mm。之前的数学模型表明，加工温度越高，光学质量也会越好。因此，对于提高光学质量来说，最初与降低温度有关的粘度的增加似乎不是有前景的措施。
特别是在薄玻璃基板的连续生产中，目前已经采取了措施以尽可能在空间延伸方面缩短分配待热成型的玻璃的熔融槽与含有液态金属的浮法槽之间的距离，并且尽可能实现其连续处理。此外，与低温度相关的待熔融的玻璃的较高粘度对熔融槽相当不利，因为随着粘度的增加，玻璃的均匀化可能会变得更加困难。此外，对待热成型的玻璃进行冷却通常会妨碍高产量的实现，因为在热成型工艺链中，后续更粘的流动玻璃有流速降低的趋势。为此，迄今一直认为干预热成型工艺链来降低温度是特别不利的，特别是如果在早期采取干预，那么这会影响整个工艺链。
在用于制造薄玻璃基板的优选方法中，在用于排出液态玻璃的唇口石(称为喷口)的上游，特别是在液态玻璃被输送到金属熔池上之前，进行粘度调节。在本公开的上下文中，术语唇口石和喷口将被同义地使用，并且在每种情况下表示本领域技术人员已知的相同部件。
令人惊奇的是根据本发明的在喷口或唇口石上游的程序干预，因为现有技术的浮法系统通常设计成不允许在喷口或唇口石上游的干预。
在本发明的上下文中，术语“上游”和“下游”是空间上的意义。因此，“上游”是指在玻璃的流动或拉伸方向上看到的在空间上位于另一物品前面的位置，“下游”或“后面”是指在玻璃的流动或拉伸方向上看到的在空间上位于另一物品后面或下游的位置。然而，由于在本发明中玻璃连续移动或被连续移动，特别对方法的实施而言，这可能还意指相应的工艺步骤的对应的时间顺序，尤其是还在工业工艺链中。
在用于制造薄玻璃基板的优选方法中，特别是在被输送到金属熔池之前，即，在被输送到浮法熔池的液态金属上之前，在控制闸门的上游调节粘度，该控制闸门是用于控制玻璃流的流速的部件，也被称为闸板。
在本发明的上下文中，以限定的方式调节是指在限定的限值内调节粘度。特别地，这意味着通过调节，玻璃具有调节后的粘度η，其与限定的粘度的偏差如下：在与紧靠流量控制组件下游的位置相距12m处(即，在与紧靠闸板下游的位置相距12m处)，偏差小于Δlgη/dPa·s＝0.3；在与紧靠流量控制组件下游的位置相距1.5m处(即，在与紧靠闸板下游的位置相距1.5m处)，偏差Δlg η/dPa·s＝0.2；在紧靠流量控制组件上游处(即，在紧靠闸板上游处)，偏差Δlgη/dPa·s＝0.1。
在用于制造薄玻璃基板的优选方法中，待成型或者至少已部分成型的玻璃的粘度如下：在熔融槽通道的端部和流量控制组件或闸板上游处，特别是在紧靠流量控制组件或闸板上游处，优选为至少lg η/dPa·s＝3.75至优选至多lg η/dPa·s＝4.5，并且在紧靠流量控制组件或闸板下游处，lg η/dPa·s＝3.75至优选至多lgη/dPa·s＝4.5；和/或，在槽段1或分割间1的上游端处，和/或在拉伸方向上与流量控制组件或闸板下游相距1.5m处，优选为至少lg η/dPa·s＝5.25至优选至多lg η/dPa·s＝5.85；和/或，在槽段4或分割间4的上游端处，即，在拉伸方向上与流量控制组件或闸板下游相距12m处，为至少lg η/dPa·s＝7.05至优选至多lgη/dPa·s＝7.6。
在特别优选的实施例中，下列等式适用于在流量控制组件或闸板下游最远1.5m距离上的第一次拉伸时的粘度η1，其中，y1表示到紧靠流量控制组件或闸板下游的位置的距离，因此在紧靠流量控制组件或闸板下游处的值为零：
lg η1(y1)/dPa·s＝(lg η01/dPa·s+a1(y1))
其中，0m≤y1≤1.5m
3.75≤lg η01/dPa·s≤4.5
a1(y1)＝1.00/m*y1。
该等式不只用于限定lg η1(y1)/dPa·s与值y之间的线性相关性，尽管这在大多数情况下如此，但其也表示当lg η01在上述区间中变化时，lg η1(y1)在固定位置y1处的值的范围。
在本发明的优选实施例中，在0m≤y1≤1.5m范围内的粘度变化在每1米单位长度下的最优选值为Δlg η/dPa·s/Δy＝0.666/m±0.1/m，但是该值大于0.334/m且小于0.8/m。在该等式中，术语Δlg η/dPa·s并不表示粘度相对于实际期望值的偏差，而是表示粘度随距离范围Δy的变化。
在另一个优选实施例中，下列等式适用于从流量控制组件或闸板下游12m距离处直到所述流量控制组件或闸板下游16m距离处的第二次拉伸时的粘度η2，其中，y2表示到紧靠流量控制组件或闸板下游的位置的距离：
lg η2(y2)/dPa·s＝(lg η02/dPa·s+a2(y2))
其中，12m≤y2≤16m
7.05≤lgη02/dPa·s≤7.6
a2(y2)＝0.788/m*(y2-12m)。
该等式不只用于限定lgη2(y2)/dPa·s与值y之间的线性相关性，尽管这在大多数情况下如此，其也表示当lg η02在上述区间中变化时，lg η2(y2)在固定位置y2处的值的范围。
在此处和整个本发明中，在每种情况下，尽管没有明确指出，但是所提及的“在闸板下游”或“在闸板后面”的距离描述了在流动方向上看时，从紧靠处于闸板17后面的位置或者闸板17后端的位置到相应位置在Y方向上的距离，该相应位置是该距离所指示到达的位置。
在此处和整个本发明中，在每种情况下，尽管没有明确指出，但是所详述的“在流量控制组件后面”或“在流量控制组件下游”的距离描述了在流动方向上看时，从紧靠流量控制组件17下游的位置或者流量控制组件17下游端上的位置到这个间距或相应距离所指示的位置在Y方向上的距离。
举例来说，在图3中，在Y方向上的该距离表示为以米为单位的值。如在当前情况下，浮法熔池的上游端可以在构造上与流量控制组件或闸板的端部、特别是在流动或拉伸方向上与流量控制组件或闸板的后端重合。
在用于制造薄玻璃基板的优选方法中，针对待成型的或者至少已部分成型的玻璃，将描述对表面上的拉伸条纹或细长凸起及其厚度进行的第一或第二系列测量的后续测量，进行该后续测量的玻璃温度如下：在熔融槽通道的端部和流量控制组件或闸板上游处(特别是紧靠流量控制组件上游处)，优选至少为1100℃且至多为1180℃；和/或，在槽段1或分割间1的上游端处，和/或在拉伸方向上相距1.5m处，至少为850℃且至多为910℃；和/或，在槽段4或分割间4上游端处，和/或在拉伸方向上与流量控制组件或闸板下游相距12m处，至少为720℃且至多为760℃。
在用于制造薄玻璃基板的优选方法中，针对待成型的或者至少已部分成型的玻璃，将描述对表面上的拉伸条纹或细长凸起及其厚度进行的第三或第四系列测量的后续测量，进行该后续测量的硼硅酸盐玻璃温度如下：在熔融槽通道的端部和流量控制组件或闸板上游处(特别是紧靠流量控制组件上游处)，优选至少为1180℃且至多为1330℃；和/或，在槽段1或分割间1的上游端处，和/或在拉伸方向上相距1.5m处，至少为1000℃且至多为1080℃；和/或，在槽段4或分割间4的上游端处，和/或在拉伸方向上与流量控制组件或闸板下游相距12m处，至少为830℃且至多为880℃。
在每种情况下，此处的最大温度偏差至多为10℃。出于本发明的目的，限定的温度调节包括在热成型之前或期间，在以上指定的最大温度偏差内调节待热成型的玻璃的温度。出于本发明的目的，限定的玻璃冷却包括降低待热成型的玻璃的温度，使得在玻璃热成型之前或期间，所指示的温度同样在以上指定的最大温度偏差内。
本领域技术人员知悉如何控制锡熔池的温度，以及如何调节锡熔池的不同槽段或分割间中的温度。
用于制造薄玻璃基板的方法优选使用拉伸工艺，特别是浮法工艺、下拉工艺和/或熔融工艺，特别是溢流熔融下拉工艺，来进行热成型。
针对热成型薄玻璃基板，用于制造薄玻璃基板的方法可以有利地包括：使用Li-Al-Si玻璃、Al-Si玻璃、硼硅酸盐玻璃，特别是包含以下成分的硼硅酸盐玻璃(以wt％计)：
在用于制造薄玻璃基板的方法中，用于热成型薄玻璃基板的实施例使用具有以下组成的硼硅酸盐玻璃，该硼硅酸盐玻璃包括：
或硼硅酸盐玻璃，特别是碱金属硼硅酸盐玻璃，其包含：
特别地，也可以使用Li-Al-Si玻璃，特别是其中Li2O含量为4.6wt％至5.4wt％，Na2O含量为8.1wt％至9.7wt％以及Al2O3含量为16wt％至20wt％的Li-Al-Si玻璃。
在特别优选的用于制造薄玻璃基板的方法中，在薄玻璃基板的一个主表面上形成凸起，特别是基本上在法线方向上升高的细长凸起；该凸起的纵向长度是该凸起的横向长度的2倍多，优选3倍多，更优选5倍多；针对楔形厚度变化和翘曲对该凸起平均高度进行调节；并且优选在垂直于拉伸方向的热成型玻璃带的中心，对10*10cm2的分析表面区域进行算术平均；该凸起的平均高度小于100nm，优选小于90nm，更优选小于80nm，并且在硼硅酸盐玻璃薄玻璃基板的情况下，该凸起的平均高度小于85nm，优选小于75nm，最优选小于65nm；并且在每种情况下，该凸起的所述横向长度小于40mm。
在用于制造薄玻璃基板的方法的实施例中，在垂直于拉伸方向的1m的长度上，薄玻璃基板的由热成型引起的基本上呈楔形的厚度变化K的值小于100μm，在硼硅酸盐玻璃的情况下，甚至小于40μm。
此外，在用于制造薄玻璃基板的方法的实施例中，在垂直于拉伸方向的1m的长度上，薄玻璃基板的由所述热成型引起的翘曲的值小于600μm，在硼硅酸盐玻璃的情况下，甚至小于300μm。
通过热成型，可以得到的薄玻璃基板的平均厚度为0.3mm至2.6mm，优选地厚度为0.7mm至2.5mm，最优选地厚度约为0.7mm、或厚度约为2.54mm；该平均厚度是在薄玻璃基板的第一和第二主表面的至少为10cm*10cm的表面区域上进行平均得到的。
根据另一实施例，可以使用的玻璃基板的厚度最高至10mm或者甚至最高至12mm，其具有本发明的所有优点。并且，可以减少拉伸条纹的高度。
在用于制造薄玻璃基板的方法的优选实施例中，在热成型该薄玻璃基板之后，以每天热成型的玻璃产量小于400t、优选200t、且最优选100t计，优质玻璃的比例超过玻璃总产量的15％。
用于制造根据本发明的薄玻璃基板、特别是拉伸条纹减少的薄玻璃基板的设备，特别是用于实施本文所公开的方法的设备，其包括：熔融装置、热成型装置、以及用于待成型为薄玻璃基板的玻璃的粘度限定调节装置，其中，将一台装置，特别是用于待成型为薄玻璃基板的玻璃的粘度限定调节装置布置在热成型装置的上游。
在特别优选的实施例中，将该装置或者用于待成型为薄玻璃基板的玻璃的粘度限定调节装置布置在唇口石或喷口的上游。
在优选实施例中，一台装置，特别是用于待成型为薄玻璃基板的玻璃的粘度限定调节装置，还可以布置在流量控制组件或闸板上游，特别是直接布置在流量控制组件或闸板前面。
特别优选地，粘度限定调节装置包括冷却器件。
在这种情况下，粘度限定调节装置可以包括流体流动区域，特别是供水流过并从待热成型的玻璃中吸收热量的区域。
举例来说，这种热量吸收可以通过直接热传导或者通过吸收对流热来实现。
在该设备中，此处指定的玻璃粘度可以在以下最大偏差情况下进行有利的调节：在紧靠流量控制组件或闸板上游的位置处，最大偏差为Δlg η/dPa·s＝0.1；在与流量控制组件或闸板下游相距1.5m处，最大偏差为Δ lg η/dPa·s＝0.2；在与流量控制组件或闸板下游相距12m处，最大偏差为Δlgη/dPa·s＝0.3。
此外，在优选设备中，感测单元能够捕捉待热成型的玻璃的温度，特别地，温度最大偏差为10℃；和/或捕捉待热成型的玻璃的粘度，特别地，在紧靠流量控制组件或闸板上游处的最大粘度偏差为Δlgη/dPa·s＝0.1，在流量控制组件或闸板下游1.5m处的最大粘度偏差为Δlgη/dPa·s＝0.2，在流量控制组件或闸板下游12m处的最大粘度偏差为Δlgη/dPa·s＝0.3。
在优选实施例中，热成型装置可以包括拉伸系统，浮法系统，特别是下拉系统，特别是溢流下拉熔融拉伸系统。
根据优选实施例的薄玻璃基板在所述薄玻璃基板的一个主表面上形成凸起，特别是基本上在法线方向上升高的细长凸起；该凸起的纵向长度是该凸起的横向长度的2倍多，优选3倍多，更优选5倍多；针对楔形厚度变化和翘曲对该凸起平均高度进行调节；并且优选在垂直于拉伸方向的热成型玻璃带的中心，对10*10cm2的分析表面区域进行算术平均；该凸起的平均高度小于100nm，优选小于90nm，更优选小于80nm，并且在硼硅酸盐玻璃薄玻璃基板的情况下，小于85nm，优选小于75nm，最优选小于65nm；并且在每种情况下，该凸起的所述横向长度小于40mm。或者，上述值也可以采用不同于本文所讨论的测量步骤进行确定，例如通过在薄玻璃基板上进行机械扫描步骤进行确定。在这种情况下，产生的测量值相同。然而，可以使用光学步骤进行测量而不需要接触，从而不会引起表面变化，特别是没有损坏，例如由于在测量位置处刮擦主表面而导致的损坏。
由于薄玻璃基板的热成型，薄玻璃基板可以在垂直于拉伸方向的1m的长度上呈现出基本上呈楔形的厚度变化K，厚度变化值小于100μm，在硼硅酸盐玻璃的情况下，甚至小于40μm；和/或在垂直于拉伸方向的1m长度上呈现翘曲V，翘曲值小于600μm，在硼硅酸盐玻璃的情况下，甚至小于300μm。
在优选实施例中，薄玻璃基板的平均厚度可以为0.5mm至2.6mm，优选地厚度为0.7mm至2.5mm，更优选地厚度约为0.7mm、或厚度约为2.54mm。该平均厚度是在薄玻璃基板的第一和第二主表面的至少为10cm*10cm的表面区域上进行平均得到的。此外，还可以制造出厚度达10mm或者甚至12mm的玻璃基板。
薄玻璃基板可以包括硼硅酸盐玻璃，在这种情况下，它包含以下成分(以wt％计)：
薄玻璃基板还可以包括具有以下组成的硼硅酸盐玻璃：
在另一个实施例中，薄玻璃基板包括硼硅酸盐玻璃，特别是碱金属硼硅酸盐玻璃，其包含：
薄玻璃基板可以包括Li-Al-Si玻璃、Al-Si玻璃、硼硅酸盐玻璃或K-Na-Si玻璃。
然而，优选地，薄玻璃基板包括Li-Al-Si玻璃，特别是Li2O含量为4.6wt％至5.4wt％、Na2O含量为8.1wt％至9.7wt％以及Al2O3含量为16wt％至20wt％的锂铝硅酸盐玻璃。
本文所公开的薄玻璃基板可以形成机动车辆玻璃窗的一部分，特别是层叠玻璃板的一部分。
并且，一种用于在陆地上、水上或水中以及空中操作的车辆、特别是电机驱动式车辆的挡风玻璃投影装置、特别是平视显示器，可以有利地包括本文所公开的薄玻璃基板，特别是将其作为背向反射表面。
因此，使用薄玻璃基板作为层叠玻璃板的部件，特别是作为机动车辆玻璃窗的部件，是特别有利的。
而且，发明人已经发现，并非薄玻璃基板的每个光学缺陷都一定会以相同的方式导致其光学特性受到干扰或劣化。
对于薄玻璃基板的一个主表面上的凸起，特别是在浮法玻璃上在主方向(待热成型的玻璃的拉伸或前进方向)上延伸的细长凸起(通常称为拉伸条纹)，如果其超出特定尺寸，则可能会导致光学特性明显下降，甚至可能在相应的光束路径中产生柱面透镜的效果。这种凸起或拉伸条纹的横向长度通常小于40mm。
为了对这种光学损伤进行分类，例如，已经使用了例如在DIN 52305中描述的阴影投射步骤。
然而，这些阴影投射步骤的缺点在于在通常采用的透射光操作模式下捕捉玻璃基板的两个面，因此无法获得仅关于一个面的光学相互作用的信息。然而，例如，如果这些薄玻璃基板用于机动车辆中采用的平视显示器，则两个主表面中只有一个面的光学质量起到主要作用，而非透射。如果在背向反射中的测量中确定了光学测量光束的最大偏离角，则这个值也仅是次要的，因为在这种情况下，关于利用该测量的主表面形成的系统的特性的信息不足。
所以，能够对玻璃基板的、特别是薄玻璃基板的光学特性进行识别，还有着重大的意义。在这种情况下，如果这种方法能得到关于光学系统内的行为的直接说明，例如关于整个测量场的类透镜的折光力
的说明，将会是非常有利的。
如果玻璃基板的、特别是薄玻璃基板的相应主表面可以独立于该薄玻璃基板的相应的另一主表面进行测量，那么将会是特别有利的。
附图说明
现在，将通过优选实施例和特别优选实施例并参考附图，对本发明进行更详细的描述，其中，
图1是根据本发明的优选实施例的用于制造薄玻璃基板的设备的示意性剖视图，其中，剖面大致垂直地延伸穿过设备中心；
图2是现有技术的浮法系统的用于制造薄玻璃基板的设备的示意性剖视图，其中，剖面大致垂直地延伸穿过设备中心；
图3是根据优选实施例的用于制造薄玻璃基板、特别是在浮法熔池上待热成型的玻璃带的设备的示意性局部平面图；
图4示出了浮法熔池上的玻璃在流动或拉伸方向上的粘度曲线图，该流动或拉伸方向表示为笛卡尔坐标系的Y方向；
图5是薄玻璃基板的主表面上的测量场和分析场的示意图，该测量场和分析场用于使用激光干涉仪(特别是相移干涉仪)进行光路长度测量；
图6是以任意单位由激光干涉仪获得的表面数据(特别是薄玻璃基板的表面纹理)的透视图；
图7示出了由激光干涉仪获得的在其上进行了第一和第二系列测量的薄玻璃基板的表面数据的灰度图，其中，拉伸条纹的厚度值显示为灰度值；
图8示出了由激光干涉仪获得的在其上进行了第一和第二系列测量的薄玻璃基板的表面数据的X方向导数的灰度图，其中，导数值显示为灰度值；
图9示出了由激光干涉仪获得的在其上进行了第一和第二系列测量的现有技术薄玻璃基板的表面数据的光学折光力
的灰度图，其中，折光力显示为灰度值；
图10示出了由激光干涉仪获得的在其上进行了第一和第二系列测量的根据本发明的薄玻璃基板的表面数据的光学折光力的灰度图，其中，折光力显示为灰度值；
图11是薄玻璃基板的主表面上的测量场和分析场的示意图，该测量场和分析场使用白光干涉仪，特别是傅里叶变换白光干涉仪、FRT干涉仪，来测量光路长度；
图12是由FRT干涉仪获得的在其上进行了第一和第二系列测量的薄玻璃基板的表面数据的灰度图，其中，上部主表面上的拉伸条纹的凸起值显示为灰度值；
图13是由FRT干涉仪获得的在其上进行了第一和第二系列测量的现有技术薄玻璃基板的表面数据的光学折光力的灰度图，其中，折光力显示为灰度值；
图14是由FRT干涉仪获得的在其上进行了第一和第二系列测量的根据本发明的薄玻璃基板的表面数据的光学折光力的灰度图，其中，折光力显示为灰度值；
图15是由激光干涉仪获得的在其上进行了第三和第四系列测量的现有技术薄玻璃基板的表面数据的灰度图，其中，拉伸条纹的厚度值显示为灰度值；
图16是由激光干涉仪获得的在其上进行了第三和第四系列测量的由本发明的方法热成型的薄玻璃基板的表面数据的灰度图，其中，拉伸条纹的厚度值显示为灰度值；以及
图17和图18各自示出了根据本发明的优选实施例的层叠玻璃板的示意图，每个层叠玻璃板都具有用于平视显示器的反射表面。
具体实施方式
在以下对优选实施例和特别优选实施例的描述中，各个附图中相同的附图标记表示本文公开的相应设备的相同或等同的部件。
如图17所示，薄玻璃基板的厚度D的数据对应于薄玻璃基板两个主表面之间的距离，并且在每种情况下都必须垂直于这些主表面进行测量，如图17中附图标记D旁边的两个箭头所示。
如原始优先权申请中已经陈述的那样，薄玻璃基板，特别是硼硅酸盐玻璃薄玻璃基板，可以优选通过热成型获得。薄玻璃基板的平均厚度可以为0.3mm至2.6mm，优选地厚度为0.7mm至2.5mm，最优选地厚度约为0.7mm、或厚度约为2.54mm；该平均厚度是在薄玻璃基板的第一和第二主表面的至少为10cm*10cm的表面区域上进行算数平均得到的。
首先参照图2所示的现有技术中用于制造浮法玻璃的系统，其与根据本发明的设备类似，总体上使用附图标记1表示。
该浮法系统包括熔融炉2，也称为熔融槽。将待熔融的玻璃坯料3以已知方式进料到熔融炉2，并通过燃烧器4加热坯料，直到获得所需组成的玻璃熔体5。用于熔融玻璃均匀化的其他装置对于本领域技术人员而言是已知的，因此不再赘述。
通过通道6，玻璃熔体5的熔融玻璃通常在重力的作用下到达浮法熔池7，该浮法熔池包括液态锡。待热成型的玻璃8在重力的作用下，可以作为其热成型步骤的一部分在液态锡上横向扩散，从而降低其高度。
为了调节待热成型的玻璃的温度，锡熔池7可以包含在浮法熔池炉9中，该熔池炉9同样具有可以用来调节待热成型的玻璃的温度的燃烧器10。
待热成型的熔融玻璃8在离开熔融槽2时，经由进给唇口(inletlip)11被引导至锡熔池7上。进给唇口11，也被称为唇口石或喷口，向下倾斜地延伸，并且玻璃已经在其上开始扩散。辊形的顶部辊子12用作拉伸器件，以限定的方式影响玻璃带13，该玻璃带13在其扩散运动中，在从侧面的进一步移动中在锡熔池7上成型。图1和图2通过示例的方式仅示出了两个顶部辊子，然而，根据需要，可以提供和使用两个以上的这种顶部辊子。
在已经热成型之后，可任选地将玻璃带13转移到退火窑14中，退火窑14也可以具有燃烧器15，以便对玻璃带进行限定的降温。
玻璃带13一旦离开退火窑14，就可以进行进一步的处理，特别是将其切割成玻璃板或玻璃基板。
为了能够更清楚地说明诸如在本发明的实施例的以下描述中待热成型的玻璃或薄玻璃基板的特定组件或特性的空间关系，首先参照图3所示的笛卡尔坐标系，图3定义了正交的X、Y和Z方向，各图中的所有信息都将参照该方向。
X方向和Y方向跨越水平延伸的平面，因此，它们基本上与锡熔池7的表面平行。Z方向垂直于该平面向上延伸，从而限定了相对于玻璃带13的法线方向。
现在参照图1，图1示出了整体使用附图标记1'表示的浮法系统，该系统作为用于制造薄玻璃基板、特别是拉伸条纹减少的薄玻璃基板的设备，并且包括参照图2描述的所有装置。
这包括作为熔融装置16的熔融槽或熔融炉2'、用于玻璃坯料3的进料装置、和燃烧器4。此外，熔融槽2'具有通道6'，用于将待热成型的熔融玻璃8转移到锡熔池7'上。
举例而言，控制闸门17位于通道6'的下游，控制闸门17即用于对玻璃流进行流量控制的部件，也称为闸板。通过沿着附图标记17旁边所示的双箭头的方向移动控制闸门或闸板17(即，流量控制组件17)，可以使通道6的横截面变窄或扩大，从而控制并且特别是以限定的方式调节每单位时间离开槽2'的待热成型的熔融玻璃8的量。此外，进料通道可以布置在熔融槽2'和浮法熔池炉9之间，特别是在闸板17上游。在这种情况下，闸板17限定了通道6，特别是还在比图1所示的更长的距离上限定了通道6。对流量控制的更详细描述可以在本申请人的DE 10 2013 203 624 A1中找到，该文献通过引用并入到本申请的主题中。
如在待热成型的熔融玻璃8的流动方向上所见，用于待热成型的熔融玻璃8的粘度限定调节装置18布置在流量控制组件17的上游和唇口石或喷口11的上游。
在优选实施例中，粘度限定调节装置18也可以紧靠唇口石或喷口上游布置。
粘度限定调节装置18包括腔室19，腔室19与熔融槽2'分离或者也可以形成其一部分，并且腔室19接收待成型为薄玻璃基板的熔融玻璃8，以便以限定的方式对其粘度进行调节。
此外，粘度限定调节装置18包括流体流动区域20、21，特别是水流过的区域，该区域从待成型的玻璃8吸收热量，并且可以配置为金属管道系统。也可以对该金属管道系统进行染色以便更好地吸收热量，或者可以在其表面上设置耐高温涂料。
任选地或另外地，可以通过限定的方式设定腔室19的壁22、23、24和25的温度，例如通过另外的冷却器件，从待热成型的玻璃8中吸收热量。
腔室19及其壁22、23、24和25还可以在空间上与熔融槽2'分开设置，腔室19可以具有耐高温的金属壁以改善散热情况，这将在下面参照图3进行更详细的描述。
如果粘度限定调节装置18以及腔室19及其壁22、23、24和25在空间上与熔融槽2'分开设置，并由此它们不形成熔融槽2'的一部分，则优选地针对熔融槽通道的端部和流量控制组件或闸板上游给出的所有关于粘度和温度的信息将仅指紧靠流量控制组件或闸板上游的位置，不包括之后在空间上与该位置分开的熔融槽通道的端部。
如上所述，粘度限定调节装置18包括至少一个冷却器件，该冷却器件可以用来调节温度。因此，其以限定方式调节待热成型的玻璃8的粘度。这允许在以下最大偏差情况下对玻璃8进行粘度调节：在紧靠流量控制组件或闸板上游的位置处，最大偏差为Δlg η/dPa·s＝0.1；在与紧靠流量控制组件或闸板下游的位置相距1.5m处，Δlg η/dPa·s＝0.2；在与紧靠流量控制组件或闸板下游的位置相距12m处，Δlg η/dPa·s＝0.3。
粘度限定调节装置18进一步包括感测单元26，该单元捕捉待热成型的玻璃8的温度，特别地最大温度偏差为10℃。而且，该单元还由此获取待热成型的玻璃的粘度，特别地，在紧靠流量控制组件或闸板上游的位置处，最大粘度偏差为Δlg η/dPa·s＝0.1，在与紧靠流量控制组件或闸板下游的位置相距1.5m处，最大粘度偏差为Δlgη/dPa·s＝0.2，在与紧靠流量控制组件或闸板下游的位置相距12m处，最大粘度偏差为Δlgη/dPa·s＝0.3。
粘度测量是本领域技术人员所公知的。
然而，还可以通过测量相应玻璃在相应指定位置处的温度T，并随后将温度T换算成粘度值η，来实现粘度测量或粘度η的测定。
在这种情况下，相应的玻璃的温度-粘度曲线可以用于将温度值T换算成粘度值η。对于该温度-粘度曲线，可以通过以常规方式测量每个待测温度T时的粘度η来提前确定。
然而，为此目的，也可以对相应的玻璃使用Vogel-Fulcher-Tammann等式lgη＝A+B/(T-To)，在这种情况下以℃为单位表示温度。
为此目的，可以首先通过实验确定相应的玻璃的对应系数To、A和B，然后可以使用它们来确定粘度η。之后，测得的温度T的值将会限定对应测量的粘度η的相应值，并使用该等式进行换算。
非接触温度测量，以及任选地或另外地，与待测玻璃接触的直接温度测量，是本领域技术人员已知的。在本发明的上下文中，例如使用传感装置或单元26对相应的传感器进行描述。
传感装置或单元26可以和玻璃直接接触，并由此可以进行直接温度测量；或者传感装置或单元26可以包括辐射测量装置，其通过捕捉由待热成型的玻璃8发射的光谱，基于光谱本身和/或发射的辐射的强度来识别温度。传感装置26可以布置在紧靠闸板17上游的位置，并且在这种情况下，如在流动方向上所见，传感装置26直接靠近闸板17的前端，或者在距闸板17的一小段距离处，例如在图1中所看到的。可以将另外的感测单元(而不是仅一个感测单元26)布置在其他位置处，特别是在流动方向上间隔开的其他位置处。例如，另一个感测单元也可以位于槽段1或分割间1的上游端，即，在拉伸方向上流量控制组件或闸板下游最远1.5m距离处；其也可以位于槽段4或分割间4的上游端，和/或在拉伸方向上流量控制组件或闸板下游最远12m距离处，为了图示清晰起见，并未在图1中再次示出。
用于制造薄玻璃基板、特别是拉伸条纹减少的薄玻璃基板的设备1'包括热成型装置47，其将参考图3在下文中进行更详细的描述；如在流动或拉伸方向上所见，热成型装置47位于粘度限定调节装置18的下游，并且通过唇口石或喷口11接收待热成型的玻璃8。
唇口石或喷口11将待热成型的玻璃8引导至容纳在浮法熔池炉9'中的锡熔池7'上。在浮法熔池炉9'的底部，横杆27至31将锡熔池分成多个分割间32至37。这里，分割间指的是由这些横杆限定的相应的槽段。如从流动方向或拉伸方向所见，由附图标记32表示的第一槽段1或分割间32的上游端直接位于进给唇口11的下游，与流量控制组件17或控制闸门17相距1.5m处。在每种情况下，各个另外的槽段或分割间33至37的上游端分别在流动方向上由相应的下一个横杆27至31限定。在每种情况下，每个横杆27至31的下游端分别限定相应的随后的槽段33至37或分割间33至37的上游端。因此，槽段4或分割间4的上游端(即，在流动方向上的第四分割间或第四槽段的起点)与流量控制组件17或控制闸门相距12m。浮法熔池通常细分为7或8个分割间，而图1仅通过示例的方式示出了六个后续分割间，即，由附图标记32至37指示的分割间1至分割间6。为了进一步的描述，还参考DE 10 2006 051637 A1，其公开了具有相应分割间的浮法熔池。
还可以从图3中清晰地看出，另外的顶部辊子38至44在锡熔池7'上成型的玻璃带13上方布置在顶部辊子12'旁边，用于机械式移动玻璃带13。
在拉伸或流动方向上，从流量控制组件或闸板17的端部到由附图标记32指示的分割间1的上游端的距离是1.5m；并且在拉伸或流动方向上，从流量控制组件或闸板17的端部到由附图标记35指示的分割间4的上游端的距离是12m，这也可以从图3的笛卡尔坐标系看到，该坐标系在X方向上缩放。
图3还示出了粘度限定调节装置18的替代或附加的实施例。熔融玻璃8位于通道6'中，通道6'从熔融槽2'(图3中未示出)延伸到浮法熔池炉9'。通道6'的壁45、46由耐高温金属(诸如铂)形成，其也可以作为金属层设置在矿物耐火材料上。通过对壁45、46进行限定的温度调节，可以排出玻璃8中的热量，并且也可以以限定的方式调节其温度和粘度。在该实施例中，上述感测单元26同样可以优选地设置在闸板17附近。
上面描述了热成型装置47的拉伸装置，其包括浮法装置，特别是具有锡熔池7'的浮法熔池炉9'。
然而，在又一个实施例中，本发明还可以包括下拉拉伸装置，特别是图中未示出的溢流下拉熔融拉伸装置。该方法不仅可以包括浮法工艺，还可以包括下拉工艺，特别是溢流熔融下拉工艺。
现在参照图4，其示出了在流动或拉伸方向上沿着中心线M设置在浮法熔池7'上的玻璃8或玻璃带13的粘度曲线图，其也表示为笛卡尔坐标系的Y方向。这里给出了玻璃8或玻璃带13的相应粘度η随着沿Y方向的位置的变化。
在图4中，箭头48表示在流量控制组件17或闸板17上游和唇口石11或喷口11上游在Y方向上的点。在优选实施例中，在Y方向上的这个位置紧靠在流量控制组件17或闸板17的上游，即，从流动方向上看，直接位于其前端的前面。只要在本发明的上下文中涉及“流量控制组件上游”或“闸板上游”，特别是关于粘度或温度的陈述，这些陈述在优选实施例中均是指在流量控制组件前面的这个位置或闸板前面的这个位置。只要在本发明的上下文中涉及“喷口上游”，特别是关于粘度或温度的陈述，这些陈述在优选实施例中均是指在流动方向上紧靠喷口上游的位置。
只要在本发明的上下文中涉及“唇口石上游”，特别是关于粘度或温度的陈述，这些陈述在优选实施例中均是指在流动方向上紧靠唇口石上游的位置。
箭头49位于Y方向上沿着流动或拉伸方向对应于流量控制组件或闸板17后端的点处，因此，其还指示紧靠在流量控制组件17或闸板17下游的位置，本文所公开的距离指示均基于该位置。箭头50位于Y方向上与流量控制组件或闸板17后端相距1.5m的点处，因此，在优选实施例中，其位于对应于流动或拉伸方向上分割间1的上游端的位置处。箭头51位于Y方向上与流量控制组件17或闸板后端相距12m处，在该优选实施例中，其对应于分割间4在流动或拉伸方向上的上游端。
上述装置和设备可以用来执行根据本发明的用于制造薄玻璃基板的方法，优选地用于连续生产薄玻璃基板、特别是拉伸条纹减少的薄玻璃基板的方法。
所述方法包括：在熔融之后和热成型之前，针对要获得的薄玻璃基板，以限定的方式调节待成型的、特别是待热成型的玻璃8的粘度η，或者至少已部分成型的玻璃13的粘度η。
这种对粘度η的限定调节在输送到热成型装置47之前进行，特别是在输送到浮法熔池炉9'之前进行，特别包括使用装置18以限定的方式冷却待热成型的玻璃8。
对粘度η的调节在用于排出液态玻璃的唇口石或进给唇口(称为喷口11)的上游进行，特别是在排放到金属熔池(浮法熔池炉9'的锡熔池7')之前进行。
粘度调节也可以在也称为闸板17的控制闸门17(即，用于玻璃流的流量控制组件17)的上游进行。
待成型的玻璃的粘度在熔融槽2'的通道末端处(即，在通道6'的末端处且在流量控制组件或闸板17的上游处)至少为lgη/dPa·s＝3.75；和/或，在紧靠流量控制组件或闸板的下游处，为lgη/dPa·s＝3.75至优选地至多4.5。
在分割间1的上游端，和/或在拉伸方向上与流量控制组件17或闸板17的下游相距最远1.5m或相距1.5m处，在优选实施例中粘度可以为至少lgη/dPa·s＝5.25至优选地至多5.85；和/或在分割间4的上游端，和/或在拉伸方向上与流量控制组件或闸板下游相距最远12m或相距12m处，可以为至少lgη/dPa·s＝7.05至优选地7.6。
这里，对于将对其表面上的拉伸条纹或细长凸起及其厚度进行后续测量的玻璃，将对其进行描述，该待成型的或者至少已部分成型的玻璃的温度可以如下：在流量控制组件或闸板上游处，为至少1180℃且至多1330℃；和/或，在分割间1的上游端处，和/或在拉伸方向上1.5m距离处，为至少1000℃且至多1080℃；和/或，在分割间4的上游端处，和/或在拉伸方向上与流量控制组件或闸板下游相距约12m处，为至少830℃且至多880℃。在每种情况下，最大温度偏差为至多10℃。
在特别优选的实施例中，下列等式适用于在流量控制组件或闸板下游最远1.5m距离上的第一次拉伸时的粘度η1，其中，y1表示到紧靠流量控制组件17或闸板17下游的位置的距离，因此在紧靠流量控制组件或闸板下游处的值为零：
lgη1(y1)/dPa·s＝(lgη01/dPa·s+a1(y1))
其中，0m≤y1≤1.5m
3.75≤lg η01/dPa·s≤4.5
a1(y1)＝1.00/m*y1。
在本发明的该优选实施例中，粘度在0m≤y1≤1.5m范围内变化在每1米单位长度下的最优选值为Δlg η/dPa·s/Δy＝0.666/m±0.1/m，但是该值大于0.334/m且小于0.8/m。并且在该式中，Δlg η/dPa·s表示在距离范围Δy内的粘度变化。
因此，对于紧靠流量控制组件(即y1＝0处的闸板或控制闸门)下游的位置，上述不等式教导了针对以下待成型的或至少已部分成型的玻璃的粘度η(y1＝0)所阐述的区间：
lg η(y1＝0)/dPa·s＝lg η1(y1＝0)/dPa·s＝(lg η01/dPa·s+a1(y1＝0))。
但是，由于a1(y1＝0)在紧靠流量控制组件或闸板(最好是控制闸门的形式)下游处的位置的值为零，因此上述不等式得出：
lg η(y1＝0)/dPa·s＝lg η1(y1＝0)/dPa·s＝lg η01/dPa·s
在该位置上，对于待成型或已经至少部分成型的玻璃的粘度η(y1＝0)。
因此，根据上述的陈述3.73≤lgη01/dPa·s≤4.5，针对粘度η(y1＝0)的lg η(y1＝0)，在紧靠流量控制组件(控制闸门的形式)下游的位置处，该区间也适用：
3.75≤lg η(y1＝0)/dPa·s≤4.5。
这些值的产生主要是由于以下事实：当玻璃通过流量控制组件时，特别是通过控制闸门时，在测量精度范围内温度不会发生任何明显的变化，因此在测量精度范围内粘度也不会发生明显的变化。
因此，当通过流量控制组件时，特别是当通过控制闸门时，待成型的或已经至少部分成型的玻璃在测量精度范围内不会改变其粘度η。
如上所示，针对y1和y2的每个相应的值可以给出这样的粘度η区间。
在另一个优选实施例中，下列等式适用于从流量控制组件或闸板下游12m距离处直到所述流量控制组件或闸板下游16m距离处的第二次拉伸时的粘度η2，其中，y2表示到紧靠流量控制组件或闸板下游的位置的距离：
lg η2(y2)/dPa·s＝(lg η02/dPa·s+a2(y2))
其中，12m≤y2≤16m
7.05≤lg η02/dPa·s≤7.6
a2(y2)＝0.788/m*(y2-12 m)。
在本发明的上下文中，所有与粘度相关的距离指示，特别是与粘度η、η1、η2或玻璃温度相关的距离指示，均是从紧靠在流量控制组件(即，闸板或控制闸门)下游的位置开始指示，并且在拉伸或流动方向上进行指示，即，在每种情况下在Y方向上进行指示。在采用带有闸板的熔融槽的实施例中，该位置紧靠在流量控制组件后面或下游，对应于如在流动方向上所看到的闸板或控制闸门17的后侧。
在第一实施例中，其中粘度限定调节装置18形成熔融槽的一部分，熔融槽2'的通道6'的端部紧靠在流量控制组件17或闸板17上游。
在本发明的上下文中，针对各个粘度给出的数据至少适用于在X和Z方向上看到的玻璃8或玻璃带13的中心。图3通过示例的方式示出了沿着玻璃8或玻璃带13的中心在X方向上延伸的相应中心线M。
在每天玻璃产量小于400t、优选200t、更优选100t的用于热成型薄玻璃基板的系统中，上述粘度实现得特别好。
在以每天小于400t、优选200t、最优选100t的玻璃产量下薄玻璃基板的热成型后，每天的优质玻璃的比例超过玻璃总产量的15％。这里，优质玻璃应理解为以下玻璃基板：优选在垂直于拉伸方向的热成型玻璃带的中心，对10*10cm2的分析表面区域进行算术平均，并且针对楔形厚度变化和翘曲进行调节，本文所述的凸起的最大高度H以及因此拉伸条纹的最大高度H小于100nm，并且在每种情况下，凸起的横向长度小于40mm。
在本发明的上下文中，如果楔形厚度变化K和翘曲V的影响减小到小于5％的值，则考虑针对楔形厚度变化和翘曲对厚度和高度的测量值进行调节。
一般而言，熔融玻璃，特别是下面给出薄玻璃基板的表面和厚度的测量值并从熔融槽2'中进入粘度限定调节装置18的玻璃，例如是在第一温度为1500℃(或例如在硼硅酸盐玻璃的情况下，甚至为1650℃)下被装置18接收，并且例如冷却至第二温度1050℃(或例如在硼硅酸盐玻璃的情况下，至1300℃)，以进入热成型工艺，然后在该温度下转移到热成型装置47中。
然而，通过使用装置18冷却至少250℃、优选300℃、更优选450℃，在硼硅酸盐玻璃的情况下，最优选350℃，甚至冷却500℃是可能的。
优选玻璃的实施例
在根据本发明的方法中，特别是在本文所述的设备中，可以有利地使用以下玻璃：
1.硼硅酸盐玻璃，
2.铝硅酸盐玻璃，
3.锂铝硅酸盐玻璃。
对于本文所公开的组成，除非对特定组合物另有说明，否则在说明书和权利要求书中所有值均以重量百分比(wt％)给出。
对本领域技术人员而言，硼硅酸盐玻璃特别是含有以下成分的玻璃(以wt％计)：
第一种优选的硼硅酸盐玻璃具有以下组成，并且包括：
第二种优选的硼硅酸盐玻璃是碱金属硼硅酸盐玻璃，具有良好的热钢化特性。该碱金属硼硅酸盐玻璃包含：
2.铝硅酸盐玻璃可以优选地具有以下组成(以wt％计)：
3.锂铝硅酸盐玻璃可以具有含有以下成分的组成(以wt％计)：
SiO2 60-75，
Al2O3 10-28，以及
Li2O 3-15。
有利地，可以使用锂铝硅酸盐玻璃，其包括含有以下成分的组成(以mol％计)：
其中，锂铝硅酸盐玻璃优选具有以下特点：
-杨氏模量为至少80GPa；
-玻璃化转变温度Tg小于540℃和/或加工温度小于1150℃；
-适于使用浮法工艺成型；以及
-可实现化学钢化和/或热钢化，因此其弯曲强度为至少550N/mm2，该值根据符合EN1288-5的双套环法测得。
根据本发明的优选实施例，例如在层叠玻璃中，特别是用在机动车辆中的层叠玻璃中，第二玻璃片包括通过根据本发明的方法热成型的薄玻璃基板，该薄玻璃基板包括锂铝硅酸盐玻璃，其中Li2O含量为4.6wt％至5.4wt％，Na2O含量为8.1wt％至9.7wt％以及Al2O3含量为16wt％至20wt％。
根据本发明的另一个实施例，例如层叠玻璃中的第一玻璃片，特别是用在机动车辆的层叠玻璃中的第一玻璃片，包括锂铝硅酸盐玻璃，其中Li2O含量为4.6wt％至5.4wt％、Na2O含量为8.1wt％至9.7wt％以及Al2O3含量为16wt％至20wt％。
根据本发明的另一实施例，层叠玻璃的薄玻璃基板形式的第二玻璃片包括以下成分：
可选地，可以以总计0wt％至2.5wt％的比例包含以下一种或多种成分：SnO2、CeO2、P2O5和ZnO。
薄玻璃基板、特别是第二玻璃片的另一个优选的组成范围包括：
可选地，可以以总计0.25wt％至1.6wt％的比例包含以下一种或多种成分：SnO2、CeO2、P2O5和ZnO。
图17是未按比例绘制的层叠玻璃板59的示意图，该层叠玻璃板59包括第一玻璃片60、设置在第一玻璃片60和第二玻璃片62之间并使二者结合的聚合物层61、以及最后的第二玻璃片62。
然而，更一般地说，不限于此处示出的示例性实施例，层叠玻璃板也可以包括两个以上玻璃片。例如，当期望机械载荷特别高，并由此预期层叠玻璃板需要具有特别高的强度时，情况可能如此。
聚合物层61的厚度在至少0.5mm和至多1.7mm之间。可以以膜的形式提供聚合物层，例如包含EVA和/或聚乙烯醇缩丁醛的膜；或者以包含多个膜的层或多层膜的形式提供聚合物层。但是也可以通过将单体施加到两个玻璃片60、62中的一个上并开始聚合反应，来原位形成聚合物层。通常，也可以由层叠膜形成聚合物层61。特别地，所述膜还可以包含PET和/或PE。在多层膜的情况下，这些层可以具有不同的组成和物理特性。通常，膜或多层膜的层可以具有低辐射涂层或者所谓的阳光控制涂层。
此外，在所示实施例中，第一玻璃片60比第二玻璃片62厚。这是有利的，例如，如果第一玻璃片的内在强度低于玻璃片62的内在强度，就会相应地增加第一玻璃片60的厚度，以确保整个层叠玻璃板59具有足够的强度。
优选地，第二玻璃片64的厚度在至少0.3mm和至多1.5mm之间，并且第二玻璃片64包括本文所述的具有减少的拉伸条纹的薄玻璃基板54或由其组成。薄玻璃基板54的厚度例如仅在图17中用附图标记D表示，但这也意指本文所述的薄玻璃基板54的其他所有实施例中公开的厚度。
优选地，第一和第二玻璃片60、62的玻璃彼此匹配，使得第一和第二玻璃片的两个玻璃在lg η/dPa·s＝7和lg η/dPa·s＝10之间的粘度范围内具有相同的粘度时，此时的温度彼此之间仅相差最多50℃，优选最多30℃，更优选最多20℃，最优选最多10℃。
优选地，提供的第二玻璃片62的形式为化学钢化片，优选为压缩应力区的厚度为至少40μm的化学钢化片，其中压缩应力为至少150MPa且至多900MPa。
根据本发明的另一个实施例，压缩应力为至多800MPa，优选至多600MPa。这样的压缩应力特别通过使用硝酸钠-硝酸钾混合物进行钢化来实现。
根据本发明的另一个实施例，压缩应力为至多500MPa，优选至多400MPa，更优选至多300MPa，最优选至多250MPa。这种压缩应力特别可以通过使用纯硝酸钠熔体进行钢化来实现。
根据图18所示的本发明的实施例，提供的层叠玻璃板59的形式为弯曲的层叠玻璃板，特别是作为机动车辆玻璃窗，使得第二玻璃片62的朝向外的侧面是凹形弯曲的。在这种成形用于产生弯曲的情况下，第二玻璃片62的根据本发明的薄玻璃基板可能在厚度D上发生轻微的厚度变化。
尤其是当用作机动车辆玻璃窗时，图17和图18中所示的两个复合玻璃板59都可以限定用于平视显示器的反射表面65，特别是用于在陆地上、水上或水中以及空中操作的车辆(特别是电机驱动式车辆)中的平视显示器。通过这样使用层叠玻璃板59，第一玻璃片60可以朝向车辆外部，而第二玻璃片62可以朝向车辆内部。这里，用于平视显示器的反射表面65可以设置在第二玻璃片62的朝向车辆内部的表面63上。在这种情况下，反射表面65可以在整个表面63上延伸，或者可以仅在表面63的一部分上延伸，例如这在图17和图18中由双箭头66示出。平视显示器是本领域技术人员所公知的，因此不需要进一步详细讨论。
根据本发明的另一个实施例，在厚度为0.7毫米的情况下，第二玻璃片62的斑马角大于或等于45°，特别是大于或等于50°，最优选地大于或等于55°。关于以下提到的斑马角和环上弯曲强度，参考申请文件DE 10 2016 125 488，该文献也通过引用并入本申请的主题，但是并未要求本申请的优先权，因为与该先前申请DE 10 2016 125 488相对应的薄玻璃基板，特别是当用于机动车辆玻璃窗时，是当前在本公开范围内拉伸条纹减少的薄玻璃基板，其在先前申请DE 102016 125 488中没有公开。
根据本发明的另一个实施例，第二玻璃片62呈现的环上环弯曲强度大于150MPa，特别是大于250MPa，优选地大于300MPa，更优选地大于400MPa，特别优选地大于500MPa，最优选地大于600MPa，且小于900MPa。
此外，根据另一个实施例，形成层叠玻璃板59使得第二玻璃片6在厚度为0.7mm时，在840nm的波长下呈现出大于91.5％的透射率，在560nm的波长下呈现出大于91.5％的透射率，并且在380nm的波长下呈现出大于90％的透射率。如上文所述，这对于通过玻璃板59实现良好视野而言特别有利，因此以这种方式进一步提高了乘客安全性。
优选地，设计层叠玻璃板59使得第一玻璃片60和第二玻璃片62的玻璃在lg η/dPa·s＝7和lg η/dPa·s＝10之间的粘度范围内具有相同的粘度时，此时的温度彼此仅相差最多50℃，优选最多30℃，更优选最多20℃，最优选最多10℃。
根据本发明的再一个实施例，以化学钢化的形式提供第二玻璃片62，其中钢化基本上是通过用钠离子和/或钾离子交换锂离子和/或钠离子来实现的。如果初始应力的主要部分(即，所产生的初始应力的至少80％)是由通过用钠离子交换锂离子引起的，第二玻璃片62则被称为“通过用钠离子交换锂离子而基本上钢化”。如果初始应力唯一通过这种交换实现，则玻璃片特别是通过用钠离子交换锂离子而基本上钢化。
第二玻璃片62也可以由铝硅酸盐玻璃制成，其中化学钢化基本上是通过钾离子交换钠离子来实现的。第二玻璃片62也可以由常规的钠钙玻璃或特别适合于化学钢化的钠钙玻璃制成，其中钠离子又被钾离子交换。
图18示出了层叠玻璃板59的实施例，该玻璃板特别可以是机动车辆玻璃窗。在这种情况下，层叠玻璃板59同样包括第一玻璃片60、聚合物层61和第二玻璃片62。然而，这时，层叠玻璃板59是弯曲的。如图所示，在这种情况下，各个玻璃片60、62和聚合物层61的厚度可能从层叠玻璃板59的中心向边缘减小。然而，各个玻璃片60、62以及聚合物层61也可以各自具有一致的厚度，或者仅构成层叠玻璃板59的层中的各个层60、61、62的厚度可以在层叠玻璃板59的横截面上变化。例如，一个或多个层可以是楔形的。
在这种情况下，形成层叠玻璃板59使得第二玻璃片62的朝向外的侧面63是凹形弯曲的。
更一般地，不限于此处所描绘示例，也可以形成层叠玻璃板59使得第一玻璃片60的朝向外的侧面64是凹形弯曲的。
薄玻璃基板，特别是拉伸条纹减少的层叠玻璃的第二玻璃片的另一个优选组成范围包括：
可选地，可以以总计0.5wt％至1.0wt％的比例包含以下一种或多种成分：SnO2、CeO2、P2O5和ZnO。
根据本发明的另一个优选实施例，薄玻璃基板，特别是层叠玻璃的第二玻璃片，具有以下组成(以mol％计)：
优选地，以下比例适用于锂铝硅酸盐玻璃的组成：
(Li2O+Al2O3)/(Na2O+K2O)>2
0.47<Li2O/(Li2O+Na2O+K2O)<0.7
0.8<CaO+Fe2O3+ZnO+P2O5+B2O3+CeO2<3。
其中，玻璃组成包含六种氧化物中的至少四种。
此外，优选地，锂铝硅酸盐玻璃的玻璃化转变温度Tg小于540℃，和/或加工温度小于1150℃。
根据本发明的方法获得的薄玻璃基板在测量之后，针对其在Z方向上的尺寸及其光学特性进行分析和计算，并且与现有技术方法相比确定了拉伸条纹的减少情况。
在第一系列测量中，测量薄玻璃基板的两个主表面上的厚度，以确定其与理想平面的薄玻璃基板的厚度偏差；在第二系列测量中，对薄玻璃基板54的上主表面上的凸起或拉伸条纹进行测量。
因此，第一系列测量的数据捕捉了当光穿过上、下主表面时，薄玻璃基板的光学效应，并且基于由两个表面限定的所得光学折光力对该效应进行描述。这可以描述对例如传感装置的光束路径的影响，该传感装置设置在薄玻璃基板54后面，并可以用来感测例如机动车辆的周围环境。
第二系列测量的数据仅捕捉一个主表面的光学效应，例如在透射光中使用的薄玻璃基板54发生的光学效应，例如，如果薄玻璃基板在一侧已经磨平且抛光或者一侧嵌入到具有相同折射率的材料(例如，层叠玻璃板)中，就只能捕捉一个主表面的光学效应。
以下，首先参照图5对第一系列测量(即，通过对薄玻璃基板的两个主表面的测量以确定其与理想平面薄玻璃基板的厚度偏差)进行说明。该图示意性地示出了用于测量上主表面和下主表面之间的光路长度的测量域，并且因此测量了Z方向上的尺寸。使用激光干涉仪，特别是相移干涉仪，在薄玻璃基板54的整个上主表面53上进行测量。
薄玻璃基板或玻璃基板的主表面通常被理解为表示基板的两个相对面，每个面展现出最大表面积。
此外，示出了分析场52，在分析场52中进行如下评估，评估结果如表1所示。在分析场52中，还通过示例的方式示出了等高线VL1和VL2，等高线VL1和VL2仅示意性地表示与理想平面的薄玻璃基板54相比的翘曲V。为了清晰起见，该翘曲被夸大示出。这种翘曲V通常相对于理想平面的薄玻璃基板54的主平面在正或负Z方向上升高，可能在拉伸或Y方向上对称，特别是与中心线M对称，并且可以在拉伸或Y方向上纵向延伸。尽管等高线VL1和VL2仅针对分析场52通过示例的方式示出，但是这种翘曲也可能在整个薄玻璃基板54上延伸，以用于随后的计量学说明。这里，翘曲V的值给出了翘曲的薄玻璃基板的主表面上的点相对于理想平面的薄玻璃基板的主表面上的对应点的最大距离。
在根据本发明的方法之后并且在进行相应的厚度偏差测量之前，从玻璃带13中切出矩形基板形式的薄玻璃基板。厚度偏差的测量是在直径为300mm的圆形测量表面区域上进行的，其形式如图5所示。
为了比较，还以相同的方式从玻璃带上切出现有技术的薄玻璃基板，随后进行测量和评估。确保在热成型之后，从垂直于拉伸方向的玻璃带的中心，即，从玻璃带13在X方向上的中心，取出所有测量的薄玻璃基板。
在笛卡尔坐标系的Z方向上对主表面53进行测量，并且将薄玻璃基板54支撑在其主表面与X-Y平面平行的平坦表面上，本文公开的所有其他测量亦是如此。
通过测量薄玻璃基板54的上、下主表面之间的光路长度与理想平面的玻璃基板的差值，测量其与理想平面玻璃基板的厚度偏差(在表1中称为厚度变化Dm/m)，从而测量两个主表面在Z方向上的凸起。
由两个面的凸起的厚度限定的与理想平面基板的厚度偏差的测量，即，第一系列测量的厚度变化或曲张厚度变化，是通过使用ZYGO激光干涉仪(相移干涉仪)进行的。
激光干涉仪是Fizeau干涉仪，孔径为300mm。使用具有30cm(圆形)测量点的ZygoVerifire系统。
测量在QPSITM快速机械相移模式下进行，相机设置为1024×1024时，对应于X和Y方向上的1024个测量点。
Z方向上的测量不确定度＜30nm，对应于波长为633nm下的λ/20。
X和Y方向上的横向不确定度为0.31mm。
激活“Zernike活塞去除(Piston Zernike Removal)”，数据仅用于抑制楔形厚度变化K和翘曲V的影响。并且Zygo Mx软件(版本7.0.0.15)与高斯高通样条滤波器(GaussianSpline Filter High-pass)搭配使用，该滤波器的截止深度为40mm。样条Beaton系数(Spline Beaton coefficient)和样条张力控制设置为默认设置。
对于各个厚度变化Dm/m测量的测量结果，上述滤波可以将楔形厚度变化K和翘曲V的影响减小到小于5％的值。这样，就能针对楔形厚度变化和翘曲，对相应的测量点处的厚度变化Dm/m测量结果进行校正。
为了更好地理解如何将这种厚度或表面测量结果换算成光学折光力，现作如下说明。
如果固定值y沿着在X方向上延伸的直线进行确定，获得玻璃表面、特别是具有在Z方向上高度为H的凸起的薄玻璃基板的表面的光学折光力P(x,y)：
其中，
n表示测量的薄玻璃基板的折射率，在每种情况下，在所测量的薄玻璃基板中的值为1.525；
z′(x)和z″(x)是高度z(x)在X方向上的一阶和二阶导数；以及
z(x)是在位置x处在Z方向上的高度H。
此外，以下适用于薄玻璃基板54的两个主表面的总折光力：
Ptotal(x)＝Ptop(x)+Pbottom(x)
其中，
Ptotal(x)是在位置x处的薄玻璃基板的两个主表面的总折光力；
Ptop(x)是在位置x处的薄玻璃基板的上主表面的折光力；以及
Pbottom(x)是在位置x处的薄玻璃基板的下主表面的折光力。
利用在位置y处的Ptotal(x)的厚度测量方法以及利用如下所述的傅里叶干涉测量法进行的第二系列测量的方法，可以测量出位置y处的薄玻璃基板54的上主表面53的值ztop(x)，以及其下主表面的值zbottom(x)，以确定上主表面和下主表面的折光力Ptop(x)和Pbottom(x)；并且基于此，示出了薄玻璃基板54的总折光力Ptotal(x)，或者仅示出了薄玻璃基板54的两个主表面中的仅一个的折光力Ptop(x)或Pbottom(x)。
假设薄玻璃基板54除了凸起之外为理想平面，其厚度的影响可以忽略不计，特别是薄玻璃基板内的光路长度对光学折光力的影响可忽略不计。
薄玻璃基板的厚度变化也称为曲张变化，是从位置y处的这些测量得到的。在位置y处，在如下测量第二系列测量时在X方向上进行相应的线性测量扫描：
D(x)＝zbottom(x)-ztop(x)-Dglass(x)
其中，
zbottom(x)是在位置x处到薄玻璃基板的下主表面的距离；
ztop(x)是在位置x处到薄玻璃基板的上主表面的距离；
Dglass是在位置x处假设理想平面平行的薄玻璃基板的厚度。
由于对从本文所描述的玻璃带的中心截取的所测量的薄玻璃基板进行滤波，所述可以减小楔形厚度变化K和翘曲V的影响，并且因此可以消除对测量的这种影响。
Ptop(x)、Pbottom(x)的值是根据通过下面描述的第二系列测量的傅里叶干涉测量法测得的测量值确定的，Ptotal(x)的值是通过白光干涉仪、特别是第一系列测量的Zygo白光干涉仪测得的；对于薄玻璃基板的光学性能，特别是对于可以在光学系统内获得的可实现的分辨率和对比度，与通过现有技术的阴影投射技术获得的值相比，这些值表示了明显更精确的数据。
如果根据本发明的薄玻璃基板构成了挡风玻璃投影装置的一部分，特别是构成了用于在陆地上、水上或水中以及在空气中操作的车辆的平视显示器的一部分，或者如果将用于检测这种车辆周围环境的光学传感器布置在这种薄玻璃基板后面，则特别如此。
在这些第一和第二系列测量中，作为示例，在每种情况下均使用由厚度为0.7mm的玻璃制成的薄玻璃基板54，该玻璃基板具有以下组成：
在该玻璃中，可以以总计0.25wt％至1.6wt％的比例包含以下一种或多种成分：SnO2、CeO2、P2O5和ZnO。
由于当前的测量值是在X方向上测得的，并且通过将在X方向上沿着平行线测量的相应值并置以获取Y方向上的值，所以针对Y值的每条线获得了该条线的相关X值。
利用这条线，通过采用上述测量的线扫描，可以在X和Y方向上捕捉薄玻璃基板54的整个厚度偏差。对于下表1评价的图5的方形分析场52的尺寸为18×18cm2。
这是组合的一维近似，以给出主表面53的二维图像。然而，这种近似是合理的，因为波纹和强曲率仅在垂直于拉伸方向上发生，因此仅在X方向上发生，从而可以相应地进行检测。凸起的结构(即，如图6所示，基本上在纵向拉伸方向上(即在Y方向上)延伸的拉伸条纹)允许进行这种近似。
为了使用本方法、特别是第二系列测量的方法(同样对于其中例如在阴影投射技术中测量平行光的偏转角的现有技术的方法)提供相应的值，并计算这些值(例如以弧分为单位)，可以通过如下方式确定该偏转角：通过傅里叶干涉测量法，例如，利用本文公开的第二系列测量的方法，使用薄玻璃基板的相应一个主表面的当前测量值；然后以弧分为单位，基于根据下式所提供的值计算偏转角：
该偏转角基本上对应于现有技术的测量方法，因此也可以使用上文所述的测量和分析方法提供该值。
图6以透视图和示例的方式示出了使用傅里叶变换白光干涉仪、FRT干涉仪在第二系列测量中获得的上表面(即任意单位的前述薄玻璃基板54的主表面53)的测量值。
从该视图中可以清楚地看出，在薄玻璃基板54的主表面53上形成了凸起，特别形成了细长凸起。这些细长凸起基本上在法线方向和Z方向上升高，并且基本上在拉伸方向上沿其纵向长度(即，在Y方向上)延伸。对于这些又称为拉伸条纹的细长凸起，在Y方向上的纵向长度是相应凸起的在X方向上的横向长度的两倍以上，特别是三倍以上，并且通常是五倍以上。这些被称为拉伸条纹的凸起在图6中由附图标记55至58指示。凸起57的在X方向上的横向长度Q由双箭头Q表示为凸起的相应的横向长度的示例，并且表示垂直于该凸起的纵向延伸并由此横向于该凸起或由该凸起限定的拉伸条纹的纵向延伸的最大长度。
此外，拉伸条纹57或凸起57在位置y＝0，x＝x1处的高度H由z＝H的值给出，其通过双箭头表示，作为测量或分析表面区域52上的所有其他点的高度测量的示例。该高度H对应于薄玻璃基板54的主表面53相对于理想平面表面的笛卡尔坐标系的位置y＝0处的高度测量值ztop(x)。图6示出了作为参照线Op1的X方向上的位置y＝0的理想平面表面。
此外，附图标记K表示厚度的楔形变化，附图标记V表示相对于理想平面表面的翘曲。
限定拉伸条纹的这些凸起在Z方向上具有平均高度H，其在每个测量情况下小于100nm；针对楔形厚度变化和翘曲，采用对图11的10*10cm2的分析表面区域52进行算术平均对该值进行调节，该分析表面区域优选地在垂直于拉伸方向的热成型玻璃带的中心(即，在X方向上)测得。
所测量的薄玻璃基板54的特别优选的实施例甚至展现出凸起在Z方向上的高度H，该高度平均小于90nm，甚至小于80nm；针对楔形厚度变化和翘曲对该值进行调节。
为了对厚度偏差(也称为厚度变化)进行平均，再次在图5的18*18cm2的整个分析表面区域52上，对如上所述的滤波的测量值进行算术平均。
利用根据上述第一系列测量的方法，获得薄玻璃基板54的厚度变化或厚度偏差的测量值，所述测量值如表1所示。
表1
在表1中，在每种情况下，为了简洁起见，十进制指数都以E的值的形式给出，例如，E-9用于因子*10-9，而E-3用于因子*10-3。
在上表中，术语光学折光力Ptotal(x)缩写为“Opt.power”，以表示薄玻璃基板的两个主表面在位置x处的总折光力。
在表1以及在说明书和权利要求中，相应的下标m表示所示的相应值在X方向上的整个分析场上进行算术平均。
表1和表2中分别称为“旧式薄玻璃”的值，均从具有与根据本发明的薄玻璃基板相同玻璃组成的现有技术薄玻璃基板获得。根据本发明的薄玻璃基板在表1和表2中被称为“新型薄玻璃”。
从该表可以看出，经过如上所述的滤波和算术平均，凸起或拉伸条纹的厚度值显著减小。例如，在玻璃带13的中心(在X方向上并由此垂直于流动方向)，观察到从平均值156*10-9m减小到值105*10-9m。
表1还示出：算术平均斜率值(ΔD/Δx)m/(m/mm)显著减小；通过上面给出的偏转角等式，通过这些值还导致平均偏转角显著减小。这同样适用于光学折光力的测量值和分析值。
基于如上所述经过滤波的测量值的这些平均值，发现对于97.5％的分位数，97.5％的测量点呈现出曲张式厚度偏差，即，两个主表面的总厚度之间的偏差，其中，对于根据本发明的方法热成型的薄玻璃基板，该偏差小于292nm；对于以常规方式热成型的薄玻璃基板的情况，该偏差小于441nm。
关于(ΔD/Δx)m，对于97.5％的测量点，发现现有技术的薄玻璃基板的值小于187*10-9/(m/mm)，并且对于根据本发明的薄玻璃基板，其值小于108*10-9m/mm。
至于折光力，对于97.5％的测量点，从如上所述经过滤波(即，消除了楔形厚度变化K和翘曲V的影响并对其进行平均)的现有技术提供的薄玻璃基板得到的值小于99mdpt；而从根据本发明的薄玻璃基板得到值小于66.0mdpt。
为了便于说明，图7至10以灰度图的形式示出了进一步的结果。图7示出了使用激光干涉仪获得的根据本发明的薄玻璃基板54的表面数据的灰度图，其中，拉伸条纹的厚度数据显示为灰度值；图8示出了由激光干涉仪获得的厚度数据(即，薄玻璃基板54的曲张表面数据)在X方向上的偏差的灰度图，其中，导数值显示为灰度值。
图7至图16的示图未示出各个测量的原始数据，而是已经包括了由滤波引入的翘曲的校正，这将在下面针对各个测量系列进行更详细地描述。
图9示出了由激光干涉仪获得的现有技术薄玻璃基板的表面数据的光学折光力的灰度图；图10示出了根据本发明的基板的光学折光力的灰度图，其中，折光力也显示为灰度值。
可以清楚地看出，根据本发明的薄玻璃基板的光学折光力基本上低于现有技术的薄玻璃基板的光学折光力。
上述值通过使用第二测量方法的第二系列测量进行补充，第二测量方法使用白光干涉仪、特别是傅里叶变换白光干涉仪、FRT干涉仪进行测量，这将在下面参照图11至图14进行描述。
与图5类似，图11示意性地示出了测量或分析场52，其在方形薄玻璃基板54的整个上主表面上延伸，尺寸为18*18cm2。
与图5的视图相反，图11所示，方形薄玻璃基板的尺寸为18cm*18cm，其具有的分析场为10cm*10cm，用于测量场52。此外，图11通过示例的方式示出了分析场52中的等高线KL1、KL2和KL3，这些等高线仅示意性地表示薄玻璃基板54与理想平面的薄玻璃基板54相比的基本上呈楔形的厚度变化K。为了清楚起见，这些等高线被夸大示出。这种基本上呈楔形的厚度变化K通常相对于理想平面的薄玻璃基板54的主平面在正或负Z方向上升高，并且在拉伸或Y方向上纵向延伸。尽管仅通过示例的方式示出了分析场52的等高线KL1、KL2和KL3以用于随后的计量学说明，但这种楔形凸起也可以在整个薄玻璃基板54上延伸。这里，楔形厚度变化K的值给出了呈楔形厚度变化的薄玻璃基板54的主表面上的点相对于理想平面的薄玻璃基板的主表面上的对应点的最大距离。
为了测量现有技术的薄玻璃基板，在第一和第二系列测量中使用具有相同组成的薄玻璃基板，即，所采用的玻璃基板的玻璃和尺寸与本发明的热成型的薄玻璃基板的玻璃和尺寸相同。
在第二系列测量中，使用由Fries Research&Technology公司(Friedrich-Ebert-Str.,D-51429Bergisch Gladbach)生产的傅里叶变换干涉仪
(MPR 20030型，具有FRT CWL 600μm传感器)。
条件如下。
在表面积为18*18cm2的正方形表面上进行测量，但仅在分析场52内对这里给出的测量值进行评估。
进行500次扫描，即，在Y方向上并排逐行测量。每次测量对象为500个扫描点，这些扫描点在X方向上的间距为0.36mm。在每种情况下，在Y方向上的线偏移量为0.36mm。举例来说，仅评估0.7mm厚的薄玻璃基板的分析场52内的上表面，即，上主表面53的分析场52。
扫描单元(门式设计)以15mm/s的速度作为测量速率，可能的最大速率为300mm/s。X和Y方向的横向分辨率小于2μm，而垂直方向(即，Z方向)的分辨率为6nm。
测量范围在X和Y方向上的覆盖范围是180×180mm，有500条测量线且测量线之间的间距为360μm。每条线捕捉500个测量点，并且在每种情况下，测量点之间的间距为360μm。
在每种情况下，沿着相应测量线的各个扫描的测量方向垂直于拉伸方向，即X方向。
传感器和测量表面之间的距离约为3.74mm，每个测量的薄玻璃基板的厚度为0.7mm。
逐行对所获得的值进行平滑以抑制高频噪声。
为了抑制薄玻璃基板的翘曲V和楔形厚度变化K的影响，使用具有柔性参数λ＝5的三次样条，以及具有柔性参数λ＝10000的三次样条，其对应于长度为40mm的高通滤波器。为此，使用了SAS JMPTM程序。
将两条滤波过的线彼此相减z(x,λ＝5)-z(x,λ＝10000)，以获得带通滤波器，该带通滤波器实质上只提供针对凸起z(x)的相应的实际测量值，无噪声，这对应于3dB带通长度为约7-35mm的带通滤波器。
通过上述滤波，相对于测量各个高度H的测量结果，可以将楔形厚度变化K和翘曲V的影响减小到小于5％的值。这允许针对楔形厚度变化和翘曲，对在相应测量点处的高度测量进行校正。
分析场52的尺寸为10*10cm2，其也用作对上述获得的上主表面53的数据进行相应算术平均的基础。
图12通过示例的方式示出了由FRT干涉仪获得的根据本发明的薄玻璃基板54的表面数据的灰度图，其中，拉伸条纹的厚度值显示为灰度值。
现有技术的薄玻璃基板与根据本发明的玻璃基板的比较可以在图13和图14中看到，其中，图13示出了由FRT干涉仪获得的现有技术薄玻璃基板的表面数据的光学折光力的灰度图，图14是由FRT干涉仪获得的根据本发明的薄玻璃基板54的上主表面的表面数据的光学折光力的灰度图。
作为在分析表面区域52上进行平均得到的算术平均值，获得的结果在下表2中列出。
表2
在该表中：
Zm：是薄玻璃基板54的上主表面53上的10*10cm2的分析表面区域52上的凸起的高度H值的算术平均值，针对楔形厚度变化和翘曲进行滤波并调整该算术平均值；
(ΔD/Δx)m：是在10*10cm2的分析表面区域上，拉伸条纹的表面波度垂直于拉伸方向的导数的算术平均值；
(光学折光力)m,单面：是在10*10cm2的平均表面区域上计算的上主表面53的光学折光力的算术平均值；
(角度)m：是主表面53上垂直入射光束的计算的偏转角的算术平均值，其在10*10cm2的分析表面区域上进行算术平均。
因此，在用于制造上述薄玻璃基板的方法中，在薄玻璃基板的一个主表面上形成凸起，特别是基本上在法线方向上升高的细长凸起；该凸起的纵向长度是该凸起的横向长度的2倍多，优选3倍多，更优选5倍多；优选在垂直于拉伸方向的热成型玻璃带的中心，对10*10cm2的分析表面区域进行算术平均；该凸起的平均高度小于100nm，优选小于90nm，更优选小于80nm，并且在硼硅酸盐玻璃薄玻璃基板的情况下，该凸起的平均高度小于85nm，优选小于75nm，最优选小于65nm；并且在每种情况下，该凸起的所述横向长度小于40mm。
通过根据本发明的方法不仅显著改善了平均值，而且还显著改善了绝对值的分布。
根据本发明的热成型的薄玻璃基板的97.5％的测量点在Z方向上展现出的偏差(即拉伸条纹的最大凸起)均小于173.9nm，相比之下，以常规方式成型的薄玻璃基板的偏差为273.5nm。
对于97.5％的测量点，本发明的热成型玻璃的(ΔD/Δx)m/(m/mm)的值小于57.1，而以常规方式成型的玻璃的值小于78.3。对于97.5％的测量点，以常规方式成型的薄玻璃基板的单面的折光力值小于22.3mdpt，而根据本发明热成型的薄玻璃基板的折光力值小于17.5mdpt。
通过制造薄玻璃基板的方法，由于热成型，薄玻璃基板54在垂直于拉伸方向(即，X方向)的1m的长度上，基本上呈现的楔形厚度变化K小于100μm。此外，由于热成型，薄玻璃基板54在垂直于拉伸方向(即，X方向)的1m长度上，呈现的翘曲V小于600μm。
在以上描述中，所有平均数均为在相应的分析表面区域52内取得的算术平均数。其中，在厚度测量中，即，在曲张厚度偏差的测量中，使用18*18cm2的分析和平均区域；在仅对主表面53上的凸起的高度H的测量中，使用10*10cm2的分析或平均表面区域。
通过上述方法，由于热成型，获得的薄玻璃基板54的平均厚度为0.3mm至2.6mm，该平均厚度是在薄玻璃基板54的第一和第二主表面的至少10cm*10cm的区域上进行平均得到的。
然而，还获得了厚度为0.7mm至2.5mm的薄玻璃基板54的其他优选的实施例，以及厚度为约0.7mm或厚度为约2.54mm的特别优选的实施例。此外，甚至可以通过根据本发明的方法制造出厚度达10mm或厚度达12mm的玻璃基板。
第三和第四系列测量的以下测量是在厚度为2mm的硼硅酸盐玻璃上进行的，该玻璃具有以下组成：
由两个面的凸起的厚度限定的与理想平面基板的厚度偏差的测量，即，第三系列测量的厚度变化或曲张厚度变化，是通过使用ZYGO激光干涉仪(相移干涉仪)进行的。
激光干涉仪是孔径为24"的Fizeau干涉仪。使用Zygo Verifire系统，其(圆形)测量点为24"。
测量在标准TWF模式下进行，相机设置为1024×1024时，对应于X和Y方向上的1024个测量点。
Z方向上的测量不确定度＜30nm，对应于波长为633nm下的λ/20。
X和Y方向上的横向不确定度为0.62mm。
激活“Zernike活塞去除(Piston Zernike Removal)”，数据仅用于抑制楔形厚度变化K和翘曲V的影响。并且Zygo Mx软件(版本7.0.0.15)与高斯高通样条滤波器(GaussianSpline Filter High-pass)搭配使用，该滤波器的截止深度为40mm。样条Beaton系数(Spline Beaton coefficient)和样条张力控制设置为默认设置。
对于各个厚度变化Dm/m测量的测量结果，上述滤波可以将楔形厚度变化K和翘曲V的影响减小到小于5％的值。这样，就能针对楔形厚度变化和翘曲，对相应的测量点处的厚度变化Dm/m测量结果进行校正。
利用根据上述第三系列测量的方法，获得薄玻璃基板54的厚度变化或厚度偏差的测量值，所述测量值如表3所示。
表3
在上表3中，在每种情况下，为了简洁起见，十进制指数都以E的值的形式给出，例如，E-9用于因子*10-9，而E-3用于因子*10-3。
在上表中，术语光学折光力Ptotal(x)缩写为“Opt.power”，以表示薄玻璃基板的两个主表面在位置x处的总折光力。
在上表3以及在说明书和权利要求中，相应的下标m表示所示的相应值在X方向上的整个分析场上进行算术平均。
第三和第四系列测量的测量值还揭示出利用本发明已经改进的值。图15和16以灰度图的形式示出了进一步的结果。
可以清楚地看出，根据本发明的薄玻璃基板的光学折光力基本上低于现有技术的薄玻璃基板的光学折光力。
上述第三系列的测量值通过使用第二测量方法的第四系列测量进行补充，第二测量方法使用白光干涉仪、特别是傅里叶变换白光干涉仪、FRT干涉仪来进行，这将在下面参照图11至图14进行描述。
在第四系列测量中，使用由Fries Research&Technology公司(Friedrich-Ebert-Str.,D-51429Bergisch Gladbach)生产的傅里叶变换干涉仪
(MPR 20030型，具有FRT CWL 600μm传感器)。
条件如下。
在表面积为18*18cm2的正方形表面上进行测量，但仅在分析场52内对这里给出的测量值进行评估。
进行500次扫描，即，在Y方向上并排逐行测量。每次测量对象为500个扫描点，这些扫描点在X方向上的间距为0.36mm。在每种情况下，在Y方向上的线偏移量为0.36mm。举例来说，仅评估2mm厚的薄玻璃基板的分析场52内的上表面，即，上主表面53的分析场52。
扫描单元(门式设计)以15mm/s的速度作为测量速率，可能的最大速率为300mm/s。X和Y方向的横向分辨率小于2μm，而垂直方向(即，Z方向)的分辨率为6nm。
测量范围在X和Y方向上的覆盖范围是180*180mm，有500条测量线且测量线之间的间距为360μm。每条线捕捉500个测量点，并且在每种情况下，测量点之间的间距为360μm。
在每种情况下，沿着相应测量线的各个扫描的测量方向垂直于拉伸方向，即X方向。
传感器和测量表面之间的距离约为5.04mm，每个测量的薄玻璃基板的厚度为2.0mm。
逐行对所获得的值进行平滑以抑制高频噪声。
为了抑制薄玻璃基板的翘曲V和楔形厚度变化K的影响，使用具有柔性参数λ＝5的三次样条，以及具有柔性参数λ＝10000的三次样条，其对应于长度为40mm的高通滤波器。为此，使用了SAS JMPTM程序。
将两个滤波过的线彼此相减z(x,λ＝5)-z(x,λ＝10000)，以获得带通滤波器，该带通滤波器实质上只提供针对凸起z(x)的相应的实际测量值，无噪声，这对应于3dB带通长度为约7-35mm的带通滤波器。
通过上述滤波，相对于测量各个高度H的测量结果，可以将楔形厚度变化K和翘曲V的影响减小到小于5％的值。这允许针对楔形厚度变化和翘曲，对在相应测量点处的高度测量进行校正。
分析场52的尺寸为10*10cm2，其也用作对上述获得的上主表面53的数据进行相应算术平均的基础。
作为在分析表面区域52上进行平均得到的算术平均值，获得的结果在下表4中列出。
表4
在表3和表4中，
Boro新是通过本文公开的方法热成型的硼硅酸盐玻璃；
Boro旧是通过现有技术方法热成型的硼硅酸盐玻璃；
Zm：是薄玻璃基板54的上主表面53上的10*10cm2的分析表面区域52上的凸起的高度H值的算术平均值，针对楔形厚度变化和翘曲进行滤波并调整该算术平均值；
(ΔD/Δx)m：是在10*10cm2的分析表面区域上，拉伸条纹的表面波度垂直于拉伸方向的导数的算术平均值；
(光学折光力)m,单面：是在10*10cm2的平均表面区域上计算的上主表面53的光学折光力的算术平均值；
(角度)m：是主表面53上垂直入射光束的计算的偏转角的算术平均值，其在10*10cm2的分析表面区域上进行算术平均。
利用如本文所公开的用于制造，特别是热成型薄玻璃基板的方法，可以将凸起(也称为拉伸条纹)的高度至少减小以下等式中给出的值，该值取决于薄玻璃基板的厚度。以下等式尤其适用于薄玻璃基板主表面之一上的厚度相关的凸起，针对楔形厚度变化和翘曲对该凸起的平均横向长度进行调节；对10*10cm2的分析表面区域进行算术平均；该凸起的所述横向长度小于40mm。
H新/nm<H旧/nm*(0.85-0.1*D/mm)
其中，
D是薄玻璃基板的厚度，单位为mm，范围为0.3mm至2.6mm；
H新是在根据本发明的薄玻璃基板的主表面之一上的凸起的高度，单位为nm；
H旧是在根据现有技术薄玻璃基板的主表面之一上的凸起的高度，单位为nm。
通常，还可以获得更大的改进，即更大程度地减小拉伸条纹的高度H，因而上述不等式仅对通常可以实现的益处提供了限制。
从严格意义上讲，该不等式尤其适用于厚度为0.3mm至2.6mm的薄玻璃基板。然而，厚度大于2.6mm的薄玻璃基板也表现出类似的改进，然而，对于大于2.6mm的厚度值，特别是对于6mm以上的厚度值，这种类似的改进不再能够通过该不等式正确地再现。
根据本发明的方法允许制造薄玻璃基板，其中薄玻璃基板主表面之一上的厚度相关的凸起满足以下不等式；针对楔形厚度变化和翘曲对该凸起的平均横向长度进行调节；对10*10cm2的分析表面区域进行算术平均；该凸起的所述横向长度小于40mm。
SQRT(D/mm)*H/nm<85
其中，
D是薄玻璃基板的厚度，单位为mm；
H是在根据本发明的薄玻璃基板的主表面之一上的凸起的高度，单位为nm；以及
表达式SQRT()是括号()中值的平方根。
从严格意义上讲，这种关系尤其适用于厚度为0.3mm至2.6mm的薄玻璃基板。但是，厚度大于2.6mm的薄玻璃基板也表现出类似的行为。
因此，在硼硅酸盐玻璃的情况下，本文所述的用于制造薄玻璃基板的方法允许在薄玻璃基板的一个主表面上形成凸起，特别是基本上在法线方向上升高的细长凸起；该凸起的纵向长度是该凸起的横向长度的2倍多，优选3倍多，更优选5倍多；优选地，在垂直于拉伸方向的热成型玻璃带的中心，对10*10cm2的分析表面区域进行平均而得到的；针对楔形厚度变化和翘曲，对凸起的高度进行调节，该凸起的高度H的算数平均值小于85nm，优选小于75nm，更优选小于65nm；在每种情况下，该凸起的横向长度小于40mm。
通过本发明的方法，不仅平均值而且绝对值的分布都得到了显著改善。
在制造硼硅酸盐玻璃薄玻璃基板的方法中，硼硅酸盐玻璃薄玻璃基板54在垂直于拉伸方向(即，X方向)的1m的长度上基本上具有楔形厚度变化K，楔形厚度变化值小于40μm。此外，薄玻璃基板54由于热成型而在垂直于拉伸方向(即，X方向)的1m的长度上呈现出翘曲V，该翘曲值小于300μm。
在以上描述中，所有平均值(包括第三和第四系列测量的平均值)都是在相应分析表面积52上得出的算术平均值，其中，将18*18cm2的分析和平均表面区域用于厚度测量，即曲张厚度偏差的测量。并且，仅在主表面53上使用10*10cm2的分析或平均表面区域来测量凸起的高度H。
通过上述的热成型方法，可以得到平均厚度为0.3mm至2.6mm的硼硅酸盐玻璃薄玻璃基板54，该平均厚度是在薄玻璃基板54的第一和第二主表面的至少10cm*10cm的表面区域上进行平均得到的。
然而，还获得了厚度为0.7mm至2.5mm的硼硅酸盐玻璃薄玻璃基板54的其他优选的实施例，以及厚度为约0.7mm或厚度为约2.54mm的特别优选的实施例。此外，甚至可以通过根据本发明的方法制造出厚度最高为10mm或厚度甚至最高为12mm的玻璃基板。
附图标记列表
1 制造浮法玻璃的设备、浮法系统
1' 制造根据本发明的薄玻璃基板的设备、浮法系统
2 熔融槽或熔融炉
2' 熔融槽或熔融炉
3 玻璃坯料
4 燃烧器
5 熔融玻璃
6 熔融槽的通道
6' 熔融槽的通道
7 浮法熔池，特别是锡熔池
7' 浮法熔池，特别是锡熔池
8 待热成型的熔融玻璃
9 浮法熔池炉
9' 浮法熔池炉
10 燃烧器
11 进给唇口、唇口石或喷口
12 顶部辊子
12' 顶部辊子
13 玻璃带
14 退火窑
15 燃烧器
16 熔融装置
17 流量控制组件、控制闸门、闸板
18 粘度限定调节装置
19 腔室
20 流体流动区域
21 流体流动区域
22 腔室19的壁
23 腔室19的壁
24 腔室19的壁
25 腔室19的壁
26 感测单元
27 横杆
28 横杆
29 横杆
30 横杆
31 横杆
32 分割间或槽段1
33 分割间或槽段2
34 分割间或槽段3
35 分割间或槽段4
36 分割间或槽段5
37 分割间或槽段6
38 顶部辊子
39 顶部辊子
40 顶部辊子
41 顶部辊子
42 顶部辊子
43 顶部辊子
44 顶部辊子
45 通道6'的壁
46 通道6'的壁
47 热成型装置
48 在闸板17上游和唇口石11或喷口11上游位置处的箭头
49 在对应于闸板17的下游端的位置(即，在流动或拉伸方向上紧靠闸板下游的位置)处的箭头
50 1.5m距离处的箭头，对应于分割间1在流动或拉伸方向上的上游端
51 12m距离处的箭头，对应于分割间4在流动或拉伸方向上的上游端
52 分析场
53 上主表面
54 薄玻璃基板
55 拉伸条纹
56 拉伸条纹
57 拉伸条纹
58 拉伸条纹
59 层叠玻璃板
60 第一玻璃片
61 聚合物层
62 第二玻璃片
63 第二玻璃片62的朝向外的表面
64 第一玻璃片60的朝向外的表面
65 第二玻璃片62的朝向外的表面63上的平视显示器的反射表面
66 双箭头
M 玻璃或玻璃带在X方向上的中心线
D 薄玻璃基板54的厚度
K 薄玻璃基板54中基本上呈楔形的厚度变化
KL1 薄玻璃基板54中基本上呈楔形的厚度变化K的等高线
KL2 薄玻璃基板54中基本上呈楔形的厚度变化K的等高线
KL3 薄玻璃基板54中基本上呈楔形的厚度变化K的等高线
V 薄玻璃基板54的翘曲
VL1 薄玻璃基板54的翘曲V的等高线
VL2 薄玻璃基板54的翘曲V的等高线
H 凸起或拉伸条纹的高度
H旧 现有技术薄玻璃基板的凸起或拉伸条纹的高度
H新 通过本发明公开的方法热成型的薄玻璃基板的凸起或拉伸条纹的高度
Opl 理想平面薄玻璃基板的表面
Q 横向上(特别是垂直于凸起或拉伸条纹的纵向延伸)的凸起或拉伸条纹的横向长度
Claims (37)
1.一种用于制造薄玻璃基板，优选地用于连续制造薄玻璃基板、特别是拉伸条纹减少的薄玻璃基板的方法；
其中，在熔融之后和热成型工艺之前，针对要获得的所述薄玻璃基板，以限定的方式调节待成型的或者至少已部分成型的玻璃的粘度；以及
其中，在输送到热成型装置之前，以限定的方式，特别是通过限定冷却，调节待热成型的玻璃的粘度。
2.根据权利要求1所述的用于制造薄玻璃基板的方法，其中，在唇口石或喷口上游，特别是在输送到金属熔池上之前，调节所述粘度。
3.根据权利要求1或2所述的用于制造薄玻璃基板的方法，其中，在流量控制组件或闸板上游，特别是在输送到金属熔池上之前，调节所述粘度。
4.根据权利要求1、2或3中任一项所述的用于制造薄玻璃基板的方法，其中，所述待成型的或者至少已部分成型的玻璃的粘度如下：
在熔融槽通道的端部和所述流量控制组件或闸板上游处，优选至少lg η/dPa·s＝3.75至优选至多lg η/dPa·s＝4.5；和/或
在紧靠所述流量控制组件或闸板下游处，优选lg η/dPa·s＝3.75至优选至多lg η/dPa·s＝4.5；和/或
在分割间1或槽段1的上游端处，和/或在拉伸方向上与所述流量控制组件或闸板下游相距1.5m处，至少lg η/dPa·s＝5.25至优选至多lg η/dPa·s＝5.85；和/或
在分割间4或槽段4的上游端处，和/或在所述拉伸方向上与所述流量控制组件或闸板下游相距12m处，至少lg η/dPa·s＝7.05至优选lg η/dPa·s＝7.6；和/或
其中，下列等式适用于在所述闸板下游最远1.5m距离上的第一次拉伸时的粘度η1，其中，y1表示到紧靠所述闸板下游的位置的距离：
lg η1(y1)/dPa·s＝(lg η01/dPa·s+a1(y1))
其中，0m≤y1≤1.5m
3.75≤lg η01/dPa·s≤4.5
a1(y1)＝1.00/m*y1；
和/或
其中，下列等式适用于从所述流量控制组件或闸板下游12m距离处直到所述流量控制组件或闸板下游16m距离处的第二次拉伸时的粘度η2，其中，y2表示到紧靠所述闸板下游的位置的距离：
lg η2(y2)/dPa·s＝(lg η02/dPa·s+a2(y2))
其中，12m≤y2≤16m
7.05≤lg η02/dPa·s≤7.6
a2(y2)＝0.788/m*(y2-12m)。
5.根据前述权利要求中任一项所述的用于制造薄玻璃基板的方法，其包括：使用拉伸工艺，特别是浮法工艺、下拉工艺和/或熔融工艺，特别是溢流熔融下拉工艺，来进行热成型。
6.根据前述权利要求中任一项所述的用于制造薄玻璃基板的方法，其包括：使用Li-Al-Si玻璃、Al-Si玻璃、K-Na-Si玻璃、或硼硅酸盐玻璃中的一种，来热成型所述薄玻璃基板。
7.根据前述权利要求中任一项所述的用于制造薄玻璃基板的方法，其包括：利用包含以下成分(以wt％计)的硼硅酸盐玻璃来热成型所述薄玻璃基板：
8.根据前述权利要求中任一项所述的用于制造薄玻璃基板的方法，其包括：利用硼硅酸盐玻璃来热成型所述薄玻璃基板，所述硼硅酸盐玻璃特别具有下列组成：
或硼硅酸盐玻璃，特别是碱金属硼硅酸盐玻璃，其包含：
9.根据前述权利要求中任一项所述的用于制造薄玻璃基板的方法，其包括：使用Li-Al-Si玻璃，特别是Li2O含量为4.6wt％至5.4wt％、Na2O含量为8.1wt％至9.7wt％以及Al2O3含量为16wt％至20wt％的Li-Al-Si玻璃，来热成型所述薄玻璃基板。
10.根据前述权利要求中任一项所述的用于制造薄玻璃基板的方法，其包括：在所述薄玻璃基板的一个主表面上形成凸起，特别是基本上在法线方向上升高的细长凸起；所述凸起的纵向长度是所述凸起的横向长度的2倍多，优选3倍多，更优选5倍多；针对楔形厚度变化和翘曲对所述凸起的平均高度进行调节，并且优选在垂直于所述拉伸方向的热成型玻璃带的中心，对10*10cm2的分析表面区域进行算术平均；所述凸起的平均高度小于100nm，优选小于90nm，更优选小于80nm，并且在硼硅酸盐玻璃薄玻璃基板的情况下，小于85nm，优选小于75nm，最优选小于65nm；并且在每种情况下，所述凸起的横向长度小于40mm。
11.根据前述权利要求中任一项所述的用于制造薄玻璃基板的方法，其中，在垂直于所述拉伸方向的1m的长度上，所述薄玻璃基板的由所述热成型引起的基本上呈楔形的厚度变化K的值小于100μm，并且在硼硅酸盐玻璃的情况下，小于40μm。
12.根据前述权利要求中任一项所述的用于制造薄玻璃基板的方法，其中，在垂直于所述拉伸方向的1m的长度上，所述薄玻璃基板的由所述热成型引起的翘曲V的值小于600μm，并且在硼硅酸盐玻璃的情况下，小于300μm。
13.根据前述权利要求中任一项所述的用于制造薄玻璃基板的方法，其中，通过所述热成型，得到的所述薄玻璃基板的平均厚度为0.3mm至2.6mm，优选地厚度为0.7mm至2.5mm，更优选地厚度为约0.7mm、或厚度为约2.54mm，所述平均厚度是在所述薄玻璃基板的第一和第二主表面的至少为10cm*10cm的表面区域上进行平均得到的。
14.根据前述权利要求中任一项所述的用于制造薄玻璃基板的方法，其中，在热成型所述薄玻璃基板之后，以每天玻璃产量小于400t、优选200t、更优选100t计，优质玻璃的比例超过玻璃总产量的15％。
15.一种用于制造薄玻璃基板，特别是硼硅酸盐玻璃薄玻璃基板，特别是拉伸条纹减少的薄玻璃基板的设备，特别是一种用于实施前述权利要求中任一项所述的方法的设备，其包括：
熔融装置；
热成型装置；以及
用于待成型为薄玻璃基板的玻璃的粘度限定调节装置，
其中，将一台装置特别是所述用于待成型为薄玻璃基板的玻璃的所述粘度限定调节装置布置在一台装置特别是所述热成型装置的上游。
16.一种用于制造薄玻璃基板、特别是拉伸条纹减少的薄玻璃基板的设备，特别是用于实施前述权利要求中任一项所述的方法的设备，其中，将一台装置特别是所述用于待成型为薄玻璃基板的玻璃的粘度限定调节装置布置在所述喷口的上游。
17.一种用于制造薄玻璃基板、特别是拉伸条纹减少的薄玻璃基板的设备，特别是用于实施前述权利要求中任一项所述的方法的设备，其包括：
熔融装置；
热成型装置；以及
用于待成型为薄玻璃基板的玻璃的粘度限定调节装置，
其中，将一台装置特别是所述用于待成型为薄玻璃基板的玻璃的粘度限定调节装置布置在所述流量控制组件或闸板的上游。
18.根据权利要求14或15所述的用于制造薄玻璃基板的设备，其中，所述粘度限定调节装置包括冷却器件。
19.根据权利要求14至16中任一项所述的用于制造薄玻璃基板的设备，其中，所述粘度限定调节装置包括从所述待热成型的玻璃中吸收热量的流体流动区域。
20.根据权利要求14至17中任一项所述的用于制造薄玻璃基板的设备，其中，所述玻璃的所述粘度可以在900℃至1500℃的范围内进行调节，粘度偏差如下：在紧靠所述流量控制组件或闸板上游的位置处，粘度偏差为Δlg η/dPa·s＝0.1；在与紧靠所述流量控制组件或闸板下游的位置相距1.5m处，粘度偏差为Δlg η/dPa·s＝0.2；并且在与紧靠所述流量控制组件或闸板下游的所述位置相距12m处，粘度偏差为Δlg η/dPa·s＝0.3/dPa·s。
21.根据权利要求14至18中任一项所述的用于制造薄玻璃基板的设备，其中，所述待成型的玻璃的温度可以在900℃至1500℃的范围内进行调节，偏差小于10℃。
22.根据权利要求14至18中任一项所述的用于制造薄玻璃基板的设备，其中，感测单元捕捉所述待热成型的玻璃的温度，特别地最大温度偏差为10℃；和/或捕捉所述待热成型的玻璃的粘度，特别地，在紧靠所述流量控制组件或闸板上游的位置处，最大粘度偏差为Δlgη/dPa·s＝0.1，在与紧靠所述流量控制组件或闸板下游的所述位置相距1.5m处，最大粘度偏差为Δlg η/dPa·s＝0.2，并且在与紧靠所述流量控制组件或闸板下游的所述位置相距12m处，最大粘度偏差为Δlg η/dPa·s＝0.3/dPa·s。
23.根据前述权利要求14至19中任一项所述的用于制造薄玻璃基板的设备，其中，所述热成型装置是拉伸系统、浮法系统，特别是下拉拉伸系统，或者特别是溢流下拉拉伸系统。
24.一种薄玻璃基板，特别是硼硅酸盐玻璃薄玻璃基板，特别是根据权利要求1至12所述的方法制造的或能制造的薄玻璃基板，并且特别是在根据权利要求13至21所述的设备中制造的薄玻璃基板。
25.特别是根据权利要求22所述的薄玻璃基板，特别是硼硅酸盐玻璃薄玻璃基板，其包括：在所述薄玻璃基板的一个主表面上的凸起，特别是基本上在法线方向上升高的细长凸起；所述凸起的纵向长度是所述凸起的横向长度的2倍多，优选3倍多，更优选5倍多；针对楔形厚度变化和翘曲对所述平均高度进行调节，并且优选在垂直于所述拉伸方向的热成型玻璃带的中心，对10*10cm2的分析表面区域进行算术平均；所述凸起的高度H，优选平均高度，小于100nm，优选小于90nm，更优选小于80nm，并且在硼硅酸盐玻璃薄玻璃基板的情况下，小于85nm，优选小于75nm，更优选小于65nm；并且在每种情况下，所述凸起的横向长度小于40mm。
26.根据权利要求22或23所述的薄玻璃基板，其中，由于所述薄玻璃基板进行的所述热成型，所述薄玻璃基板在垂直于所述拉伸方向的1m长度上呈现出基本上楔形的厚度变化，厚度变化值小于100μm，并且在硼硅酸盐玻璃的情况下，小于40μm。
27.根据权利要求22至24中任一项所述的薄玻璃基板，其中，由于所述薄玻璃基板进行的所述热成型，所述薄玻璃基板在垂直于所述拉伸方向的1m长度上呈现出翘曲，翘曲值小于600μm，并且在硼硅酸盐玻璃的情况下，小于300μm。
28.根据权利要求22至25中任一项所述的薄玻璃基板，其中，所得到的所述薄玻璃基板的平均厚度为0.5mm至2.6mm，优选地厚度为0.7mm至2.5mm，更优选地厚度为约0.7mm、或厚度为约2.54mm；所述平均厚度是在所述薄玻璃基板的所述第一和第二主表面的至少为10cm*10cm的表面区域上进行平均得到的。
29.根据前述权利要求22至26中任一项所述的薄玻璃基板，其包括Li-Al-Si玻璃、Al-Si玻璃、K-Na-Si玻璃或硼硅酸盐玻璃中的一种。
30.根据前述权利要求22至26中任一项所述的薄玻璃基板，其包括Li-Al-Si玻璃，特别是Li2O含量为4.6wt％至5.4wt％、Na2O含量为8.1wt％至9.7wt％以及Al2O3含量为16wt％至20wt％的锂铝硅酸盐玻璃。
31.根据前述权利要求22至26中的任一项所述的薄玻璃基板，其包括以下成分(以wt％计)：
32.根据权利要求27所述的薄玻璃基板，其包含具有以下组成的硼硅酸盐玻璃：
或硼硅酸盐玻璃，特别是碱金属硼硅酸盐玻璃，其包含：
33.一种层叠玻璃板，其特别包括第一玻璃片和根据前述权利要求22至28中任一项所述的薄玻璃基板。
34.一种机动车辆玻璃窗，其包括根据前述权利要求22至28中任一项所述的薄玻璃基板。
35.一种用于在陆地上、水上或水中以及空中操作的车辆、特别是电机驱动式车辆的挡风玻璃投影装置，特别是平视显示器，其包括根据前述权利要求22至28中任一项所述的薄玻璃基板。
36.根据前述权利要求22至28中任一项所述的薄玻璃基板作为层叠玻璃板的一部分的用途。
37.根据前述权利要求22至28中任一项所述的薄玻璃基板作为机动车辆玻璃窗的一部分的用途。
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