CN105565657B - 可陶瓷化生坯玻璃部件及其制造方法和玻璃陶瓷件 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种用于制造可陶瓷化生坯玻璃部件的方法、一种用于实施这种方法的装置、以及一种能够通过该方法制造的可陶瓷化生坯玻璃部件。该方法是一种再拉伸方法,其中在变形区中将预型件加热至允许玻璃再拉伸的温度。该方法的特征在于,变形区特别小。由此实现了,能够再拉伸可陶瓷化生坯玻璃体,而不会在再拉伸过程中就已经经历陶瓷化。通过该方法可以获得板状或片状的生坯玻璃部件,其特征特别在于具有特别光滑的表面。
Description
技术领域
本发明涉及一种用于制造可陶瓷化生坯玻璃部件、特别是片状或板状的可陶瓷化生坯玻璃部件的方法,该生坯玻璃部件适合于陶瓷化并且能够进一步用于生成扁平的玻璃陶瓷件。本发明还涉及一种可陶瓷化玻璃、可陶瓷化生坯玻璃部件和由此生产的玻璃带、玻璃陶瓷件以及该玻璃陶瓷件的应用。
背景技术
玻璃陶瓷应用于许多技术领域中。众所周知,LAS(锂铝硅酸盐)玻璃陶瓷板由于其低的热膨胀而用作炉灶面盖板,用于此目的的板具有大约3至6mm的厚度。用作炉灶盖板的玻璃陶瓷板的制造通常包括玻璃熔融、熔融玻璃轧制成板状、以及随后在单独的陶瓷化炉中陶瓷化。通过结晶处理和陶瓷化能够转化成玻璃陶瓷的玻璃一般称为生坯玻璃(Grünglas)。生坯玻璃通常包括诸如TiO2、ZrO2、SnO2或Ta2O5的组分,该组分在生坯玻璃再次加热时适于形成晶核并且基于其比例能够影响获得玻璃陶瓷所获得的晶体结构。
许多应用需要明显较低厚度的玻璃陶瓷件。作为电容器中的电介质例如需要小于500μm、优选小于100μm的厚度的片材。在此情况下,通常需要具有低粗糙度的高表面品质,并且该表面还应当不含异物杂质。
然而,使用传统的轧制处理不能生产厚度小于1mm的薄玻璃陶瓷片。诸如在US2012304695和US2011314870中所描述的薄玻璃陶瓷的轧制处理例如没有形成火抛光的表面。通过玻璃熔体和辊子的接触还会导致异物的表面污染。
一般来说可以通过较厚玻璃陶瓷体的冷处理制得薄的玻璃陶瓷片。例如,可以通过线锯将玻璃陶瓷切割成多个薄片,并且层厚和表面品质随后可以通过研磨和抛光处理精确地调整。这种冷处理非常耗费成本和耗费时间。另外,可以实现的层厚局限到不小于200μm,因为更薄的片在后冷冷处理期间会破裂。由于研磨和抛光处理以及表面浸析或者表面改性也可能引起表面污染。
通过传统的薄玻璃拉伸法、诸如浮法、下拉法、溢流熔融下拉法以及随后的结晶而由熔融玻璃生产生坯玻璃片来进行薄玻璃陶瓷片的制造极其困难并且基本上不予考虑。一些专门适于浮法处理的生坯玻璃当然可以在浮法处理中进行生产。然而,大多数的玻璃陶瓷具有过高的结晶趋势,使得在玻璃具有1000℃或更高输入侧温度的浮法处理中发生结晶。另外,仅能够制得厚度为至少0.5mm的片材。
在US 2012/135848中提出,通过使用溢流熔融处理生产玻璃片、随后将Li2O通过扩散引入到玻璃片中以及然后进行陶瓷化来生产薄的玻璃陶瓷。通过之后添加必要的玻璃陶瓷组分Li2O,应该能够应用传统的拉伸法。然而,通过扩散处理事后添加Li2O非常复杂且昂贵,并且另外,获得的玻璃陶瓷部件可能不均质。
在EP 0 853 071中提出,通过再拉伸处理来提供玻璃陶瓷,其中,对具有残余玻璃相的已经陶瓷化的玻璃陶瓷预型件进行拉伸,并且玻璃陶瓷预型件在再拉伸处理中不再陶瓷化。在此情况下,生坯玻璃的软化温度保持低于生坯玻璃的结晶温度,必须预期在该结晶温度下会进一步结晶并且因此减少剩余玻璃相。该方法同样局限于专门为该处理优化的玻璃陶瓷并且一般情况下无法应用,因为在传统的再拉伸处理期间,会发生生坯玻璃的结晶,这造成破裂、增厚以及总体上不稳定的处理。
此外,在具有一定宽度-厚度比的扁平的预型件的再拉伸处理中,宽度-厚度比一般会在再拉伸过程中倾向于减小。在US 7,231,786中描述了如何通过再拉伸制备扁平玻璃片。为了得到较宽的产品,使用夹具在棱边辊轮将玻璃沿长度方向拉长之前沿宽度方向拉伸和拉长软玻璃。
在US 3,635,687中描述了一种再拉伸处理,其中通过冷却扁平预型件的边缘区域实现宽度-厚度比的变化。在这些文献中描述的措施仅仅造成预型件的几何形状相对于生坯玻璃部件或相对于经拉伸部件的形状较小的变化。此外,这些方法相对复杂并且昂贵。特别是当使用夹具或辊时,需要复杂的再拉伸设备,该装置容易产生缺陷。
发明内容
因此,本发明的目的在于,提供一种用于生产可陶瓷化生坯玻璃部件、特别是片状或板状的可陶瓷化生坯玻璃部件的有效方法,该生坯玻璃部件可以用来生成扁平的玻璃陶瓷件。
可陶瓷化生坯玻璃部件应当优选具有小的厚度和高均匀性以及高的表面品质、优选火抛光的品质。
此外,应当提供扁平的玻璃陶瓷件,其特征在于小的厚度、高均匀性以及高的表面品质。
令人惊讶地,该目的根据独立权利要求中的任一项通过一种用于制造可陶瓷化生坯玻璃部件的方法、通过一种可陶瓷化生坯玻璃部件以及通过一种由此制造的玻璃陶瓷件而简单地实现。
本发明优选的实施方式和扩展方案从各个从属权利要求中获得。
相应地,本发明涉及一种用于制造可陶瓷化生坯玻璃部件的方法,其包括以下步骤:
-制备可陶瓷化玻璃的玻璃熔体;
-生产可陶瓷化生坯玻璃体作为用于再拉伸的预型件;
-在再拉伸设备中提供该预型件;
-加热预型件的至少一个部分;
-将预型件再拉伸成可陶瓷化生坯玻璃部件;
其中
-该可陶瓷化生坯玻璃部件具有小于20体积%、优选小于10体积%以及特别优选小于5体积%的结晶含量。
使用已知的方法再拉伸可陶瓷化生坯玻璃基本上是不适用的,因为在使用已知的再拉伸方法时经常会在再拉伸过程中发生生坯玻璃的结晶。此原因是在再拉伸过程中所要求的高温,该温度通常处于可陶瓷化生坯玻璃的晶核形成温度范围或者甚至在该范围以上并且因而可以导致晶核形成和/或生坯玻璃开始陶瓷化。这接着又造成生坯玻璃体的裂纹或者引起破裂。此外也可能导致不期望的增厚。
但是发明人现在发现,可陶瓷化生坯玻璃在某些特定的条件下也能够进行再拉伸处理。在此情况下关键之处在于,再拉伸仅在具有非常短的变形区和/或保证再拉伸处理的、特别在高温范围内、非常短的通过时间。
这样,可以以令人惊讶的简单方式再拉伸可陶瓷化生坯玻璃体,从而可以制造非常成本有效地生产薄的或者薄壁的可陶瓷化生坯玻璃部件,其具有特别高的表面品质、特别优选具有至少局部的火抛光的表面品质。根据本发明的方法在此也可以用于已知的可陶瓷化生坯玻璃。
通常,为了根据本发明生产玻璃熔体,在玻璃熔融装置内加入并熔化具有适合于之后陶瓷化的组分的混合物。已知的各种方法可以用于制造玻璃体,此玻璃也称为所谓的生坯玻璃。因此,生坯玻璃是指这样的玻璃,该玻璃直接由玻璃熔体获得。如果该生坯玻璃可陶瓷化,在本发明的意义中可陶瓷化玻璃是指,该生坯玻璃适合于在陶瓷化处理中进行陶瓷化并且转化成玻璃陶瓷,但同样也表示,该陶瓷化处理还没有进行。
因此,可陶瓷化生坯玻璃是这样的一种玻璃,该玻璃虽然可以陶瓷化从而转化成玻璃陶瓷,但是其中尚未进行任何显著程度的陶瓷化。因此在本发明的意义中,可陶瓷化生坯玻璃体是这样一种玻璃件,其通过之后的陶瓷化处理转化成玻璃陶瓷件。
在本发明的意义中,陶瓷化的概念是指制造由玻璃陶瓷构成的产品或者制造玻璃陶瓷件,该制造通常通过合适的原材料玻璃、即生坯玻璃的加热处理来进行。
为了促进该处理,通常在玻璃中添加成核剂,诸如TiO2、ZrO2、SnO2或Ta2O5,该成核剂允许产生足够数量的晶核。其他的生坯玻璃在加热时呈现相分离,相分离接着用于晶核形成。在加热处理过程中或者说在陶瓷化过程中,该处理可以通过两阶段的温度处理来促进,其中首先将生坯玻璃加热至晶核形成温度,以便于随后在促进晶体生长的更高温度下进行结晶。该温度也称为晶体生长温度。此外,已知玻璃陶瓷体系,其中迅速进行晶核形成,使得无需专门的晶核形成步骤。
因此,根据本发明的可陶瓷化生坯玻璃体包括一种适合于陶瓷化的玻璃并且可以具有不同的形状。例如,可以通过轧制处理从尚未固化的熔融玻璃生成板状或片状的可陶瓷化生坯玻璃体。也可以制造棒状的可陶瓷化生坯玻璃体。
适合于再拉伸的、可陶瓷化生坯玻璃体接下来也称为预型件。经过再拉伸之后,由此生成的、即由预型件变形的可陶瓷化生坯玻璃体称为可陶瓷化生坯玻璃部件。再拉伸可以使得生坯玻璃部件的宽度-厚度比相对于预型件发生变化。经过再拉伸后面的陶瓷化之后,可以由生坯玻璃部件生成玻璃陶瓷件。
根据本发明,生坯玻璃部件、即通过再拉伸变形的生坯玻璃同样也是可陶瓷化生坯玻璃。就是说,再拉伸优选在启动陶瓷化处理的情况下进行。
因此,同预型件一样,可陶瓷化生坯玻璃体的生坯玻璃部件仅包括小结晶含量,该结晶含量小于20体积%,优选小于10体积%并且特别优选小于5体积%。在一个特别优选的实施例中,可陶瓷化生坯玻璃体的生坯玻璃部件具有小于4体积%、优选小于3体积%以及特别优选小于2.5体积%的结晶含量。这允许可陶瓷化生坯玻璃部件毫无问题地进行接下来的陶瓷化处理。
玻璃的再拉伸的原理是已知的。在再拉伸处理中,局部加热一片玻璃并且使用合适的机械设备沿长度方向进行拉伸。如果预型件以恒定的速度前进到加热区中并且以恒定的速度拉伸加热的玻璃,结果是预型件横截面的形状基于两种速度之比而减小。
因此,如果例如使用棒状或管状的预型件,得到的生坯玻璃部件还是棒状或管状,但其具有更小的直径。相似地,片状的预型件可以再拉伸。生坯玻璃部件可以具有与预型件相似的横截面形状,以表示预型件的横截面形状的真实、缩小图像。但是预型件也同样可以再变形,使得在板状预型件的情况下产生厚度减小的带状生坯玻璃部件。
在玻璃的再拉伸时,通常将长形的预型件在一端夹在保持器上并且例如在马弗炉中在另一端进行加热。如果玻璃开始可变形,那么该玻璃通过在夹于保持器中的预型件端部处施加拉力而拉伸。如果在此将预型件进一步进给到马弗炉中,那么在选择合适的温度情况下获得更小横截面的、但几何形状类似的生坯玻璃部件。
类似地,由片状的预型件通过再拉伸可以生产大致带状生坯玻璃部件,该生坯玻璃部件比预型件具有明显更小的厚度。
拉伸生坯玻璃部件的速度和进给预型件的速度的选择决定了横截面的变形比例或者说减小比例。
在本发明的意义中,可以提供一种可陶瓷化生坯玻璃体的预型件、特别是板状或片状的预型件,其具有平均厚度D以及平均宽度B。随后加热预型件的至少一个部分区,特别是变形区。接下来,将预型件拉伸至平均厚度d和平均宽度b,由此确定生坯玻璃部件的横截面形状。因此,通过再拉伸可以实现预型件的横截面几何形状横向于拉伸方向的变化。
变形区指的是预型件的这样一部分,该部分中预型件具有在0.95*D和1.05*d之间的厚度并且其中该变形区具有不大于50*D、优选不大于10*D、特别优选不大于6*D(特别是最高100mm)、最优选不大于5*D(特别是最高40mm)以及特别优选不大于4*D(特别是最高30mm)的高度。
根据本发明用于再拉伸可陶瓷化生坯玻璃体的方法的特征在于,与现有技术相比,变形区非常小。令人惊讶地,因此也可以将适合于陶瓷化的生坯玻璃在还未经历不期望的和/或不受控的陶瓷化情况下进行再拉伸处理。
在此情况下,变形区(=弯月面)具有不大于50*D、优选不大于10*D、特别优选不大于6*D(特别是最高100mm)、非常特别优选不大于5*D(特别是最高40mm)以及特别优选不大于4*D(特别是最高30mm)的高度。
变形区优选在预型件的整个宽度上延伸。变形区的“高度”是指其在预型件拉伸的方向上的尺寸。变形区是这样的区域,该区域中预型件具有在0.95*D和1.05*d之间的厚度。因此也是这样的区域,在该区域中玻璃发生变形。该厚度小于最初的厚度D,但尚未达到最终的厚度d。在变形区中的温度例如可以是温度T2,在该温度时,预型件玻璃具有在η2=104dPas和η2=108dPas之间的粘度η2。
拉伸的生坯玻璃部件的宽度b随变形区中的粘度增大而逐步减小。例如,如果在软化情况下,提高拉伸速度以获得生坯玻璃部件的厚度d为100μm,那么生坯玻璃部件的宽度b与预型件的宽度B相比显著减小。为了获得具有高的b/d比的扁平的生坯玻璃部件,因此有利的是,预型件玻璃在变形区中具有粘度η2,该粘度η2低于相应玻璃在软化点(SP)的粘度。因此优选地,预型件玻璃在变形区中优选具有不大于η2=107.6dPas、更优选不大于η2=107.5dPas、进一步优选不大于η2=107.0dPas、非常特别优选不大于η2=106.5dPas的粘度η2。
另外,粘度η2小于相应玻璃在软化点的粘度也是有利的,因为拉伸生坯玻璃所需的拉伸力随粘度提高而逐步增大。因此低的粘度意味着需要低的拉伸力。
然而,预型件的可陶瓷化生坯玻璃在变形区中的粘度η2不应当过低,因为否则的话会增大玻璃均匀拉伸的难度。预型件玻璃在变形区中优选具有至少η2=104.0dPas、进一步优选至少η2=104.5dPas、更进一步优选至少η2=105.0dPas、最优选至少η2=105.8dPas的粘度η2。
根据本发明的再拉伸可以额外地与类似于US 3,635,687的预型件边缘区域冷却相结合,该文献因此通过引用而完全合并进来,以实现更大的宽度和/或更好的厚度分布。同样地,更高的边缘温度也是有可行的,以实现更好的厚度分布。
变形区是预型件的这样一部分,该部分具有0.95*D和1.05*d之间的厚度。优选地,其是预型件的这样一部分,该部分在该处理过程中在特定的时间点具有温度T2。在该温度下,预型件玻璃的粘度处于允许玻璃变形的范围内。
在变形区以外,预型件温度优选小于T2。由此,预型件的变形基本上只发生在变形区的范围内。在变形区上游和下游,厚度和宽度都优选保持恒定。
优选基本由此实现预型件的宽度与厚度比的增大,即,制得的生坯玻璃部件的厚度d明显小于预型件的厚度D。厚度d为优选不大于D/10、进一步优选不大于D/30并且特别优选不大于D/75。生坯玻璃部件于是具有优选小于10mm、进一步优选小于1mm、更优选小于100μm、更进一步优选小于50μm并且特别优选小于30μm的厚度d。本发明能够生产高品质和相对较大面积的这样薄的可陶瓷化生坯玻璃部件。
生产的生坯玻璃部件的宽度b相对于预型件的宽度B优选几乎没有减小。这是指,B/b比为优选最高2、进一步优选最高1.6并且特别优选不大于1.25。
该方法可以在也在本发明范围中的再拉伸设备中进行。为了进行加热,可以将预型件引入到再拉伸设备中。该再拉伸设备优选包括保持器,预型件的一端可以夹在该保持器中。该保持器优选位于再拉伸设备的上部中。在此情况下,预型件的上端夹在保持器中。
再次拉伸设备具有至少一个加热装置。该加热装置优选布置在再次拉伸设备的中间区域中。该加热装置可以优选为电阻加热器、燃烧器组件、辐射加热器、含激光扫描镜或不含激光扫描镜的激光器或者上述的结合。该加热装置优选构造成,其能够加热位于变形区域中的预型件,使得根据本发明设计的变形区获得温度T2。变形区域是这样一个区域,其优选位于再次拉伸设备的内部。加热装置将变形区域和/或预型件的一部分加热至足够高的温度,使得位于变形区域中的预型件在其变形区内获得温度T2。当使用适合于选择性地仅加热预型件一部分的加热装置、如激光器时,几乎不加热变形区域。
变形区域优选具有一个形成变形区的高度,其具有不大于50*D、优选不大于10*D、特别优选不大于6*D(特别最高100mm)、非常特别优选不大于5*D(特别最高40mm)以及最优选不大于4*D(特别最高30mm)的高度H。因此根据预型件的加热种类和尺寸,变形区域可以具有不同长度。
预型件或者预型件意欲变形的部分优选首先加热至结晶温度(即开始晶体形成时的温度)以下的一个温度,并且该温度低于生坯玻璃的软化点。这样,可以防止晶体形成。在变形区内,将预型件加热至温度T2,该温度T2在软化点以上(玻璃的粘度=107.6dPas)。
对于本发明来说特别重要的是,可陶瓷化生坯玻璃仅在非常短的时间经受位于结晶临界温度以上的温度。在本发明的意义中,该温度是指这样的温度,在该温度下可以开始陶瓷化和/或结晶。这样,可以在变形区域的变形过期间防止过早且不期望地开始陶瓷化。
最大的时间间隔基于变形区中的温度以及相应可陶瓷化生坯玻璃。基本上,不大于5s范围中的时间间隔已经证明是无关紧要的。该时间间隔优选更小,因此有利的是其小于4s,特别有利的是小于3s。该时间间隔在此是指这样的时间段,在该时间段内通过再拉伸预定变形的预型件玻璃体积具有在结晶临界温度以上的温度。
预型件在变形区中的停留时间在此情况下为小于10分钟,优选小于5分钟,特别优选小于1分钟以及最优选小于30秒,从而可靠地防止不期望的陶瓷化。
加热装置加热预型件的变形区域和/或这样一部分,该部分具有足够的尺寸,使得根据本发明的预型件的变形区加热至温度T2。预型件的位于变形区上游和下游的部分优选处于小于T2的温度下。根据本发明,这优选由此实现,即,加热装置包括一个或多个屏蔽件,该屏蔽件遮蔽预型件的位于变形区域以外的部分。替代性地或者额外地,可以使用能够在变形区域中聚焦加热预型件的加热装置,例如激光器或者激光扫描镜。另一个替换性的实施例涉及一种加热装置,该加热装置本身仅具有较小高度并且定位成靠近变形区域,使得加热基本上不会穿过变形区域以外的区域中。
加热装置可以是辐射加热器,其加热作用通过适当的射束引导和/或射束阻挡件而聚焦或者局限在变形区域。例如可以使用短波红外加热,在此情况下,通过遮蔽而获得根据本发明的较小变形区。也可以使用冷却(气冷、水冷或空气冷却)的屏蔽件。也可以使用的其他的加热装置为激光器。为引导激光的射束,可以采用激光扫描镜。
装置可以包括冷却装置,其优选布置在再次拉伸设备的下部,特别是直接位于加热装置的下方。由此优选地,生坯玻璃在变形之后直接变为大于109dPas的粘度,从而不会再显著变形。优选以此方式进行冷却,使得实现至少106dPas/s的粘度变化。基于预型件的生坯玻璃,此对应于从约400至1000℃范围中的温度T3。
根据本发明的方法优选还包括在从变形区域离开之后冷却可陶瓷化生坯玻璃部件。可以通过在环境温度或室温(例如10至25℃)下自然冷却使可陶瓷化生坯玻璃部件进一步冷却到>109dPas的粘度。但是该可陶瓷化生坯玻璃部件也可以在流体中、例如在气流中主动冷却。特别优选地,可陶瓷化生坯玻璃部件穿过变形区下游的冷却区并且在那里缓慢冷却,使得剩余应力至少允许随后的横向切割或者无裂缝切边。
优选地,变形区域布置和/或加热装置构造成,使得在预型件中形成变形区。通过加热预型件的变形区,玻璃的粘度在相应的位置上降低到能够拉伸预型件的程度。
由此,预型件在几乎保持其宽度的情况下而明显变长。这意味着,预型件的拉伸使得厚度D显著减小。由于预型件的上端优选夹在保持器中,该保持器优选位于再次拉伸设备的上部,所以仅通过重力的作用就已经可以实现预型件的拉伸。
在一个优选的实施例中,再次拉伸设备包括拉伸装置,其优选在预型件的位于变形区域下方的部分、特别在预型件的下端上施加拉力。
拉伸装置优选布置在再次拉伸设备的下部。拉伸装置可以构造成包括结合在预型件相对侧上的辊轮。该预型件的下端可以可松动地附接到第二保持器上。该第二保持器特别形成拉伸装置的一部分。例如,在该第二保持器上可以附接随后沿长度方向拉伸预型件的配重。
优选地,所采用的拉伸力小于350N/400mm预型件宽度(B),进一步优选小于300N/400mm预型件宽度,更进一步优选小于100N/400mm预型件宽度,最优选小于50N/400mm预型件宽度。优选地,该拉伸力大于1N/400mm预型件宽度,进一步优选大于5N/400mm预型件宽度,更进一步优选大于10N/400mm预型件宽度,最优选大于20N/400mm预型件宽度。
在一个优选的实施例中,朝变形区域的方向持续进给预型件,使得该方法能够持续运行。为此,再拉伸设备优选包括适合于将预型件前进到变形区域的进给装置(Nachschubeinrichtung)。因此,再拉伸设备可以应用于持续操作。进给装置优选以速度v1将预型件前进到变形区域,该速度V1小于拉伸预型件的速度v2。所以,在长度上拉伸预型件。v1和v2之比特别为v1/v2<1,优选不大于0.8,进一步优选不大于0.4并且最优选不大于0.1。这两个速度之间的差决定了预型件的宽度和厚度减小的程度。
优选在加热之前预热预型件。为此,再拉伸设备优选包括预热区,在该预热区中能够将预型件加热至温度T1。该预热区优选布置在再拉伸设备的上部。温度T1大致对应于1010至1014dPas的粘度η1。因此,预型件优选在进入变形区域之前进行预热。这允许更快地穿过变形区域,因为达到温度T2需要更少的时间。此外,在预热区情况下,可以防止具有高的热膨胀系数的玻璃由于过高的温度梯度而破裂。
一个特别的优点在于,由于预热,预型件暴露到陶瓷化或结晶临界温度以上的温度的时间段减小,并且这样可靠地避免了非预期的陶瓷化。
在一个优选的实施例中,变形区加热至温度T2,该温度T2对应于105.8至107.6dPas、特别是105.8至<107.6dPas之间的预型件生坯玻璃的粘度。可陶瓷化生坯玻璃的粘度与温度相关。可陶瓷化生坯玻璃在任何温度下都具有特定的粘度。在变形区中获得期望的粘度η2所需的温度T2与该玻璃有关。根据DIN ISO 7884-2、-3、-4、-5确定玻璃的粘度。
本发明的主题还包括一种生坯玻璃部件。
前述的再拉伸方法能够生产薄壁的可陶瓷化生坯玻璃部件,其具有小于2000μm、小于1000μm、小于500μm、小于100μm、优选小于50μm、更优选小于40μm、小于30μm、小于20μm、小于10μm的厚度d,其中该可陶瓷化生坯玻璃部件的至少一个表面的至少部分区段具有火抛光的表面品质。
火抛光的表面在此是指一种由热成型工艺形成的玻璃表面,该表面是在玻璃熔体不接触异物材料、例如压模或辊的情况下获得的。火抛光的表面通常特征在于具有非常低的粗糙度,通过传统的机械精加工工艺无法实现这样的粗糙度。此外,火抛光的表面通过如B2O3或碱金属的玻璃组分的蒸发而能够与块状材料相比具有微小变化的化学成分。特别是火抛光的表面不具有机械冷精加工典型的研磨或抛光痕迹。因此,经相应分析,可以将火抛光的玻璃表面从经机械抛光的玻璃表面分辨出来。
可陶瓷化生坯玻璃部件优选具有板状形状,其具有两个表面和周边,其中可陶瓷化生坯玻璃部件的至少一个表面的至少部分区段地具有Ra<=20nm的火抛光表面品质。
生坯玻璃部件可以具有不大于1:200、优选不大于1:20000并且特别优选不大于1:200000的厚度-宽度比d/b。根据本发明的可陶瓷化生坯玻璃部件能够具有非常高的表面品质,其特别优选至少局部地具有火抛光的品质。
另外,根据本发明生产的可陶瓷化生坯玻璃部件的特征还在于,该部件不包含析出晶体或者没有大量的析出晶体。如果存在晶体,该晶体也非常小。因此最大的晶粒尺寸为小于20nm,优选小于10nm。这确保,该生坯玻璃部件之后可以进行至陶瓷化处理,而不需要为陶瓷化进行特别措施。
此外,本发明的主题在于根据权利要求15和16所述的玻璃陶瓷件。
对于根据本发明的可陶瓷化生坯玻璃的再拉伸来说,能够使用不同成分的玻璃。该生坯玻璃特别优选地包括下述成分中的一种(按摩尔%计):
成分1:
成分2:
“其余”在此是指在总式中没有提到的所有元素或其氧化物的总和。
成分3:
“其余”在此是指在总式中没有提到的所有元素或其氧化物的总和。
RE在各种情况下是指原子序数为57至71和39的一种或多种稀土元素。
其他可陶瓷化玻璃同样也可以用于本发明的方法,包括具有下述成分的锂铝硅酸盐玻璃陶瓷(LAS)、锂硅酸盐玻璃陶瓷、镁/锌铝硅酸盐玻璃陶瓷(MAS)、镁硅酸盐玻璃陶瓷、钠/钾铝硅酸盐玻璃陶瓷(NaAS,KAS)、磷酸盐玻璃陶瓷(磷酸盐GC)、钙铝硅酸盐玻璃陶瓷。
锂-铝-硅酸盐玻璃陶瓷(LAS,按重量%计):
锂-硅酸盐-玻璃陶瓷(Li-二硅酸盐,偏硅酸盐),(按重量%计):
镁/锌铝硅酸盐玻璃陶瓷(MAS),(尖晶石、锌尖晶石、堇青石、顽火辉石)
尖晶石/锌尖晶石(按重量%计):
堇青石(按重量%计):
顽火辉石(按重量%计):
镁硅酸盐(镁橄榄石)(按重量%计):
钠/钾铝硅酸盐玻璃陶瓷(NaAS,KAS)(霞石、六方钾霞石)(按重量%计):
优选:
Na2O+K2O: 10-30重量%,,
Al2O3: 10-35重量%,
SiO2: 30-55重量%
磷酸盐玻璃陶瓷(磷灰石、锗酸锌锂、BPO4)(按重量%计):
磷灰石(按重量%计):
锗酸锌锂(按重量%计):
BPO4(按重量%计):
钙铝硅酸盐(按重量%计):
钙硅石(按重量%计):
钙长石(按重量%计):
适于生产可陶瓷化生坯玻璃部件的方法的其他玻璃是光敏玻璃。这样的玻璃是易于感光的,就是说,其对于紫外光的照射更敏感并且可以更容易结晶,并且具有比相同成分的非光敏玻璃具有更大的纵横比。下面也将其称为感光可光度图案化玻璃。
虽然合适的玻璃也呈现明显的结晶倾向,使得它们可以通过光度图案进行处理,它们另一方面不需要呈现极高的结晶倾向。这通过处理控制和/或通过玻璃成分来实现。例如,为此使用的玻璃具有从硅酸盐化学计量很大偏离的化学计量,此外,它们优选以相对氧化的方式熔融。
造成根据本发明的预型件和玻璃件的明显但中度的结晶倾向的主要方面是它们的成分。在很大程度上,这基于阳离子的相对摩尔比例(结晶化学计量)的适当调整。因此,有必要通过阳离子的百分比的量来表征玻璃成分。术语“阳离子的百分比”(缩写为“阳离子%”)是指玻璃中的阳离子在阳离子总量中的相对摩尔份额。当然,玻璃也包含阴离子,其相对于玻璃中的阴离子总量的相比摩尔份额在此称为“阴离子的百分比”(缩写为“阴离子%”)。
优选的光敏玻璃包括如下部分,以阳离子%计:
Si<sup>4+</sup> | 45-65 |
结晶促进剂 | 30-45 |
结晶抑制剂 | 3.5-9 |
相应地,感光可光度图案化玻璃优选包括Si4+、一种或多种结晶促进剂、一种或多种结晶抑制剂以及一对成核剂,其中
-结晶促进剂选自:N+、K+和Li+;
-结晶抑制剂选自:Al3+、B3+、Zn2+、Sn2+、和Sb3+;以及
-该对成核剂包括:铈和选自含银、金和铜组中的至少一个。
在优选实施例中,光敏玻璃包括如下组分,以阳离子%计:
除了阳离子外,光敏玻璃包括阴离子,阴离子优选选自O2-、F-、Br-、Cl-、以及SO4 2-所构成的组。阴离子O2-的摩尔份额应当优选为至少50%(阴离子%),更优选为至少70%,进一步优选为至少90%,并且最优选为至少98%。在具体实施例中,光敏元件是完全氧化的,就是说,其只含有O2-,不包含其他阴离子。
光敏玻璃优选仅包括少量的卤化物。优选地,卤化物在阴离子中的份额限制到不大于5阴离子%,更优选不大于3阴离子%,并最优选不大于1阴离子%。在本发明的上下文中,优选地,卤化物是指Cl、F、和Br的阴离子。在具体实施例中,玻璃不含有任何Cl、F和/或Br的阴离子,或者含有的这些组分的份额优选不大于3阴离子%、2阴离子%或1阴离子%。
在用UV光照射之前,光敏玻璃优选基本不包括胶质银。优选存在于光敏玻璃中的银在照射前以Ag+的形式存在,Ag+的比例特别为至少95%,更优选为至少99%。
光敏玻璃优选应包含不大于5阴离子%的Ti4+(钛)。钛影响玻璃、特别在UV范围中的透射,其对可以实现的图案深度具有负面影响。优选地,钛的含量限制为最多3阴离子%、更优选最多1阴离子%。优选的实施例包含少于0.2阴离子%量的钛或不含钛。
光敏玻璃优选不含上述未提及的组分,特别不含La、Nb、W、Hf、Bi、Y、Yb、Pb、As、Ta、Gd、和/或Eu的阴离子。
下表示出可以使用的光敏玻璃的成分,以阴离子%计。列出的所有玻璃上氧化物玻璃,即除了氧之外的阴离子量不大于2阴离子%。
表:光敏玻璃的示例B1-B5,以阴离子%计:
组分 | B1 | B2 | B3 | B4 | B5 |
Si<sup>4+</sup> | 59.6 | 52.1 | 60.4 | 53 | 60.1 |
K<sup>+</sup> | 3.8 | 5.6 | 3.4 | 3.78 | 4.08 |
Na<sup>+</sup> | 2.5 | 2.8 | 0.15 | 3.79 | 2.51 |
Ag<sup>+</sup> | 0.06 | 0.06 | 0.004 | 0.044 | 0.043 |
B<sup>3+</sup> | 0.26 | 0.94 | 0 | 0 | 0 |
Al<sup>3+</sup> | 3.8 | 5.14 | 4.27 | 6.05 | 3.86 |
Li<sup>+</sup> | 29.2 | 32.2 | 31.4 | 33.3 | 28.8 |
Σ(Ce<sup>4+</sup>,Ce<sup>3+</sup>) | 0.011 | 0.01 | 0.003 | 0.007 | 0.005 |
Zn<sup>2+</sup> | 0.56 | 1.07 | 0.27 | 0 | 0.54 |
Sb<sup>3+</sup> | 0.17 | 0.12 | 0.07 | 0.118 | 0.13 |
组分的和 | 99.96 | 100.04 | 99.97 | 100.09 | 100.07 |
Li<sup>+</sup>/Si<sup>4+</sup> | 0.49 | 0.62 | 0.52 | 0.63 | 0.48 |
Σ(Li<sup>+</sup>,Na<sup>+</sup>,K<sup>+</sup>) | 35.5 | 40.6 | 34.95 | 40.9 | 35.4 |
Σ(Li<sup>+</sup>,Na<sup>+</sup>,K<sup>+</sup>)/Si<sup>4+</sup> | 0.6 | 0.78 | 0.58 | 0.77 | 0.59 |
Σ(B<sup>3+</sup>,Al<sup>3+</sup>,Zn<sup>2+</sup>) | 4.6 | 7.2 | 4.5 | 6.1 | 4.4 |
Ag<sup>+</sup>/Σ(Ce<sup>4+</sup>,Ce<sup>3+</sup>) | 5.45 | 6 | 1.33 | 6.3 | 8.6 |
接下来应根据多个实施例进一步描述根据本发明的再拉伸的方法。
实施例1:BaTiO3玻璃陶瓷
通过轧制处理而生产的可陶瓷化玻璃的生坯玻璃片、优选BaTiO3可以提供作为初始体。由该可陶瓷化生坯玻璃片然后可以通过划片和折断而生成100mm x 50mm x 2mm尺寸的生坯玻璃体作为用于再拉伸的预型件。该预型件以1mm/s的恒定进给速度从上引入电阻加热炉中并且预热至690℃。优选选择预热温度,使得其处于可陶瓷化生坯玻璃的成核温度以下。这样,防止生坯玻璃开始不期望的过早陶瓷化。
预型件可以在其下端例如通过配重而受力。此外,加热炉可以具有开口,激光射束能够引导穿过该开口并且聚焦到玻璃上。例如可以是以400W的功率运行的CO2激光。
特别有利地,激光射束可以在入射到预型件之前经过扫描镜,该扫描镜使激光射束以大约200m/s的速度振荡地转向到预型件上。由此可以将大约3mm区加热至生坯玻璃软化点以上的温度。
在此,激光射束的反转点位于预型件以外。通过施加的力,加热的部分受到恒定的拉伸力,使得该生坯玻璃在加热的部分上拉长并且变薄。
对于本发明来说特别重要的是,生坯玻璃仅在非常短的时间间隔暴露到结晶临界温度以上的温度。由此,可以防止开始过早且不期望的陶瓷化。
已发现,不大于5s范围内的时间间隔是无关紧要的。该时间间隔优选更短,因此该时间间隔优选小于4s,更优选小于3s。在这样短的时间间隔情况下(生坯玻璃在该时间间隔内经受结晶临界温度以上的温度),可以可靠地防止开始不期望的陶瓷化。
这样,可以由可陶瓷化生坯玻璃体获得可陶瓷化生坯玻璃部件作为具有上述几何结构的预型件,其设计成带状并且具有0.01至0.7mm的厚度d以及大致45mm的宽度b。获得具有20mm至35mm宽度的、恒定厚度的区域并且沿外边缘的两侧都形成增厚的边沿区域,该边沿区域在之后的处理步骤中可以进行切边。恒定的厚度在本文中理解成,相对于中间区域中期望的厚度,在中间区域中的最大厚度偏差为小于5%,优选小于2%并且最优选小于1%。
以这种方式获得的可陶瓷化生坯玻璃部件具有比预型件明显改善的表面品质,该表面品质优选至少在中间区域中为火抛光的品质。火抛光的表面理解成表面的这样一种品质,其具有不大于Ra=20nm的粗糙度。
虽然预型件呈现的平均粗糙度值Ra可以在不小于Ra=8nm的范围,但通过根据本发明的方法可以生成Ra=4nm的可陶瓷化的薄玻璃片。在此粗糙深度Rt优选为最高Rt=6nm,进一步优选为最高Rt=4nm并且特别优选为最高Rt=2nm。根据DIN EN ISO 4287通过白光轮廓仪来测定粗糙深度。
其中可陶瓷化生坯玻璃部件在冷却到300℃以下、优选冷却到室温之后再次加热并陶瓷化,通过之后的陶瓷化可以由此成本有利地且大批量地制造具有小于500μm、100μm、50μm、40μm、30μm、20μm或10μm的厚度d并具有至少一个火抛光的表面的玻璃陶瓷件。在此可以实现玻璃陶瓷件的厚度-宽度比为1:2至1:20000。
生坯玻璃部件的陶瓷化可以在与再拉伸处理分离开的处理步骤中进行,优选在陶瓷化炉中进行,其中该生坯玻璃部件在冷却到300℃以下、优选冷却到室温之后再次加热并陶瓷化。
以这种方式制得的玻璃陶瓷件可以具有至少20体积%、优选至少50体积%并且特别优选至少90体积%的结晶含量。
实施例2:BaTiO3玻璃陶瓷
提供优选由BaTiO3构成的可陶瓷化生坯玻璃体作为预型件,用于生产具有特别电介质特性的薄玻璃陶瓷。
为了获得预型件,可以将生坯玻璃浇注成具有例如B=120mm和D=14mm尺寸的棒状中。由这些棒制造具有B=120mm的宽度和L>1000mm的长度以及D=2mm的厚度的片状预型件。该预型件然后引入到再拉伸设备中并且在预热区中加热至一定温度,该温度对应于玻璃转化点(大约1013dPas)并且低于结晶温度和成核温度。
通过以1mm/s的速度使预型件下降进入变形区域中,其中变形区的高度在5-10mm之间,使用具有3000W功率和扫描光学系统的CO2激光器使玻璃具有这样的温度,该温度至少对应于<107.6dPas的粘度并且最大对应于大约104dPas的粘度。
比预型件的前进速度更快速地拉伸获得的可陶瓷化生坯玻璃部件。由此生成具有例如b=80mm的宽度和d=0.02mm的中央区域厚度的可陶瓷化生坯玻璃带。这样生成的生坯玻璃带基本上不含晶体。该生坯玻璃带可以陶瓷化成玻璃陶瓷件并且具有期望的电介质特性。
实施例3:光学玻璃(氟磷酸盐玻璃)的拉伸
在此,将玻璃浇注成具有例如B=120mm和D=14mm尺寸的棒状中。将该棒引入到再拉伸设备中并且在预热区中加热至对应于玻璃转化点(大约1013dPas)的温度。通过使预型件下降到具有40mm高度的变形区域中,其中,预型件被加热到至少对应于<107.6dPas的粘度并且最大对应于大约104dPas的粘度。离开的玻璃穿过冷却区以及夹在拉伸装置中并且比预型件的前进速度更快地进行拉伸。由此生成具有100mm的宽度和0.3mm的中央区域厚度的玻璃带。
提供具有宽度300mm和厚度10mm的扁平玻璃作为预型件。该预型件在穿过预热区(大约Tg)之后前进到变形区域中。在该区域中,在其整个宽度以及20mm的高度上,使得预型件被加热到对应于104dPas至<107.6dPas之间粘度的温度。离开的玻璃在通过冷却区之后夹在拉伸装置中。通过适当地选择预型件以及产品的速度而调整最高100μm的中央厚度并且将产品缠卷到卷筒上。由此生成具有至少250mm宽度的产品。
实施例5:在用于拉伸扁平玻璃的再拉伸系统中可陶瓷化生坯玻璃的传统再拉伸
提供具有B=50mm的宽度和D=21.1mm的厚度的生坯玻璃(Robax组成)或扁平玻璃的预型件。该预型件在穿过预热区之后前进到变形区域中。在该变形区域中,将玻璃在整个宽度以及300mm的高度上加热至对应于大约107dPas粘度的温度。
该玻璃不可以进行拉伸,因为在变形区域中已经开始成核处理并且结晶。因此会导致预型件的断裂。
根据本发明生产的玻璃陶瓷件可以有多种应用,例如作为电容器中的电介质部件;天线;作为电子构件中的内插器;作为电池中的隔板或者作为电子部件衬底。
可以特别有利地以大批量制造扁平的、具有非常高的表面品质的、可陶瓷化生坯玻璃部件。
附图说明
本发明的其他细节由示出的实施例描述和权利要求给出。
附图示出了:
图1是根据本发明的再拉伸设备的示例性实施例构造的示意性侧视图;
图2示意性示出根据现有技术的方法流程;
图3示意性示出预型件;
图4示意性图示包括激光的构造;
图5示意性示出可选辐射加热器作为加热装置的作用方式;
图6图示再拉伸过程中变形区域高度的影响;
图7示出可能的厚度分布;
图8示出再拉伸的生坯玻璃部件的平均宽度b(总宽度)以及所需拉力分别作为预型件的玻璃的粘度的函数的示例;以及
图9示出再拉伸的玻璃部件的平均宽度b(总宽度)与平均厚度d(有效厚度)之比以及所需拉力的示例分别作为变形区域中的预型件玻璃粘度的函数的示例。
具体实施方式
在接下来对优选实施方式的详细表述中,为清楚起见,相同的附图标记表示在这些实施方式中基本相同的部件。
图1示出了根据本发明的再拉伸设备的示例性实施例构造的示意性侧视图。在该再拉伸设备中,预型件1从上往下移动穿过设备。该再拉伸设备包括两个加热装置2,该加热装置布置在设备的中央区域中。在该实施方式中,用屏蔽件3屏蔽加热装置,以限定变形区域4。这样加热预型件1位于变形区域4中的部分,使得其达到温度T2。这部分是具有高度H的变形区5。通过在此设计为两个从动辊形式的拉伸装置6向下拉伸预型件1。通过在此同样设计为辊形式的进给装置7比拉伸装置6拉伸速度更慢地进给预型件1,预型件1在变形区域4中变形。因此,预型件1变薄,就是说,变形后的厚度d小于变形前的厚度D。
在将预型件1进给至变形区域4之前,使用在此用火焰表示的预热装置8将预型件预热至温度T1。穿过变形区域4之后,预型件1暴露至冷却装置9,该冷却装置在此用冰晶表示。
图2示意性示出根据现有技术的方法的流程。该图与图1的区别在于,其示出了预型件的宽度B的变化。预型件1前进至变形区域4中。通过加热装置2(在此为电阻加热器)加热变形区域4。这样加热预型件1,使得在玻璃中形成变形区4,玻璃在变形区具有低的粘度。但是由于缺少边界以及加热装置2的高度,变形区4显著大于根据本发明的变形区。因此,预型件1宽度的减小特别显著。此外,示出了拉伸装置6,该拉伸装置在纵向上拉伸预型件1。
图3示意性地示出了具有长度L、厚度D和宽度B的预型件。
图4示意性地示出了包括激光器10的加热装置的构造。激光束通过扫描镜11转向到可陶瓷化生坯玻璃上。通过移动扫描镜,均匀地加热变形区。未示出可选的波束形成系统。
图5示意性地示出了可能的辐射加热器6的作用方式,该辐射加热器可以用作加热装置2。变形区5的高度根据变形区和预型件1的间距而不同。在图中还示出了,如何能够通过使用屏蔽件3遮蔽来限定变形区5,以获得很小高度的变形区5。
因此,加热器的间距和构造都能够用来调整变形区5的高度。
图6示出了再拉伸过程中玻璃产品的宽度如何基于变形区的高度。可以看出,更小高度的变形区具有降低了预型件的宽度减小量的效果。
图7示出了根据示例3的扁平玻璃产品的厚度d在产品的宽度b上的分布。其中可以看出,在玻璃产品边缘上的边沿相对较窄。具有均匀且低厚度的部分可以应用于玻璃产品应用,边沿必须切掉。在此创造性的方法下,生产效率特别高。
图8示出经拉伸的生坯玻璃部件的平均宽度b(总宽度)和拉伸所需的拉力分别作为变形区中的预型件玻璃粘度的函数,其针对以下情况:4mm厚和400mm宽的预型件以5mm/min引入40mm高的马弗炉中。以200mm/min拉伸该玻璃。明显可见的是,所需的拉力随粘度增大而逐步增大。此外可见,获得产品的平均宽度b随粘度增大而逐步减小。
图9示出了拉伸玻璃部件的平均宽度b(总宽度)与平均厚度d(有效厚度)以及拉伸所需的拉力分别作为变形区中的预型件的玻璃粘度的函数,针对以下情况:4mm厚和400mm宽的预型件以5mm/min引入40mm高的马弗炉中。以200mm/min拉伸该玻璃。可以看出,得到产品的宽度-厚度比b/d随粘度增大而逐步减小。与图7中示出的平均宽度b随粘度增大而减小相比,比例b/d甚至于随粘度增大而更剧烈地减小。
接下来的表格通过示例示出了一种再拉伸方法,其可以如在US3635687中描述地借助两个实施例来进行该方法,其中在第一个实施例1中没有边缘冷却而在第二个实施例2中具有边缘冷却。
这些现有技术示例与本发明方法的第三个示例3相比,该方法具有非常小的变形区域。变形区域的长度在此情况下比在根据前两个实施例的现有技术方法中的变形区域长度的十分之一小。
表1:实施例和比较例
根据本发明的方法可以生产可陶瓷化生坯玻璃部件,其特征在于:
-厚度d小于2000μm、小于1000μm、小于500μm、小于100μm、优选小于50μm、特别优选小于40μm、小于30μm、小于20μm、小于10μm,和/或
-生坯玻璃部件的厚度-宽度比d/b为不大于1:200,优选不大于1:20000以及特别优选不大于1:200000,和/或
-至少一个表面的至少部分区段具有Ra<=20nm的火抛光的表面品质。
以这种方式生产的可陶瓷化生坯玻璃部件进一步特征在于,可陶瓷化生坯玻璃部件具有小于20体积%、优选小于10体积%以及特别优选小于5体积%的结晶含量并且因此能够在常规的陶瓷化过程中陶瓷化。
可陶瓷化生坯玻璃部件可以为板状并且具有两个相对的面以及周边。
至少其中一个面的至少部分区段可以具有Ra<=20nm的火抛光的表面品质。
此外,该可陶瓷化生坯玻璃部件可以具有不大于1:200至1:20000、优选最高1:20000、特别优选最高1:200000的厚度-宽度比d/b。
该可陶瓷化生坯玻璃部件能够进行含中间处理或不含中间处理的陶瓷化处理,以生产玻璃陶瓷件。在此情况下,在冷却至低于300℃、优选冷却至室温之后,该生坯玻璃部件可以再加热并陶瓷化。
陶瓷化之后,该玻璃陶瓷件可以具有至少20体积%、优选至少50体积%以及特别优选至少90体积%的结晶含量。
这样制造的玻璃陶瓷件可以用作电容器中的电介质部件;用作天线;用作电子部件中的内插器(interposer);用作电池中的隔板;用作薄层电池的衬底;用作显示器的柔性衬底;用作显示领域的掩膜(maske)或滤波器;用作高温沉积处理、例如晶体生长(Kristallzucht)的衬底;用作光学或电子部件的盖板或保护件;或者用作电子部件衬底。
附图标记列表
1 预型件
2 加热装置
3 屏蔽件
4 变形区域
5 变形区
6 拉伸装置
7 进给装置
8 预热装置
9 冷却装置
10 激光器
11 扫描镜
Claims (55)
1.一种用于生产用于制造玻璃陶瓷件的可陶瓷化生坯玻璃部件的方法,其包括以下步骤:
-制备可陶瓷化玻璃的玻璃熔体;
-生成可陶瓷化生坯玻璃体作为用于再拉伸的预型件(1),其中还尚未进行任何显著程度的陶瓷化;
-在再拉伸设备中提供所述预型件(1);
-加热所述预型件的至少一个部分;
-将所述预型件再拉伸成可陶瓷化生坯玻璃部件;
其中所述预型件设计成板状或片状,并具有厚度D、宽度B和长度L,并且其中,再拉伸的可陶瓷化生坯玻璃部件设计成板状或片状或带状,并具有厚度d、宽度b和长度l,
其中在所述预型件的再拉伸过程中,形成变形区,其具有不大于10*D的高度H,所述变形区是所述预型件的这样一部分,在该部分中所述预型件具有在0.95*D和1.05*d之间的厚度,并且其中
-所述可陶瓷化生坯玻璃部件具有小于20体积%的结晶含量。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述可陶瓷化生坯玻璃部件具有小于10体积%的结晶含量。
3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述可陶瓷化生坯玻璃部件具有小于5体积%的结晶含量。
4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述可陶瓷化生坯玻璃部件具有小于4体积%的结晶含量。
5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述可陶瓷化生坯玻璃部件具有小于3体积%的结晶含量。
6.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述可陶瓷化生坯玻璃部件具有小于2.5体积%的结晶含量。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的方法,其特征在于,其中宽度-厚度比由于再拉伸而变化。
8.根据权利要求1至6中任一项所述的方法,其特征在于,在所述预型件的再拉伸过程中,形成变形区,其具有不大于6*D的高度H。
9.根据权利要求1至6中任一项所述的方法,其特征在于,所述预型件以恒定的速度v1前进并且所述可陶瓷化生坯玻璃部件以恒定的速度v2拉伸,同时所述预型件在变形区域中的停留时间为小于10分钟。
10.根据权利要求1至6中任一项所述的方法,其特征在于,所述预型件以恒定的速度v1前进并且所述可陶瓷化生坯玻璃部件以恒定的速度v2拉伸,同时所述预型件在变形区域中的停留时间为小于5分钟。
11.根据权利要求1至6中任一项所述的方法,其特征在于,所述预型件以恒定的速度v1前进并且所述可陶瓷化生坯玻璃部件以恒定的速度v2拉伸,同时所述预型件在变形区域中的停留时间为小于1分钟。
12.根据权利要求1至6中任一项所述的方法,其特征在于,所述预型件以恒定的速度v1前进并且所述可陶瓷化生坯玻璃部件以恒定的速度v2拉伸,同时所述预型件在变形区域中的停留时间为小于30秒。
13.根据权利要求1至6中任一项所述的方法,其特征在于,在所述预型件的再拉伸过程中,预定玻璃体积的所述预型件处于结晶临界温度以上的温度下的时间段不大于5s。
14.根据权利要求1至6中任一项所述的方法,其特征在于,在所述预型件的再拉伸过程中,预定玻璃体积的所述预型件处于结晶临界温度以上的温度下的时间段小于4s。
15.根据权利要求1至6中任一项所述的方法,其特征在于,在所述预型件的再拉伸过程中,预定玻璃体积的所述预型件处于结晶临界温度以上的温度下的时间段小于3s。
16.根据权利要求1至6中任一项所述的方法,其特征在于,所述预型件首先加热至结晶温度以下并低于所述可陶瓷化生坯玻璃体的软化点的温度并且在所述变形区中具有软化点以上的温度。
17.根据权利要求1至6中任一项所述的方法,其特征在于,所述可陶瓷化生坯玻璃体选自一个组,所述组包括:钛酸钡玻璃陶瓷、锂铝硅酸盐玻璃陶瓷、锂硅酸盐玻璃陶瓷、镁/锌铝硅酸盐玻璃陶瓷、镁硅酸盐玻璃陶瓷、钠/钾铝硅酸盐玻璃陶瓷、磷酸盐玻璃陶瓷、钙铝硅酸盐玻璃陶瓷。
20.根据权利要求1至6中任一项所述的方法,其特征在于,所述可陶瓷化生坯玻璃部件的特征在于:
-小于2000μm的厚度d。
21.根据权利要求1至6中任一项所述的方法,其特征在于,所述可陶瓷化生坯玻璃部件的特征在于:
-小于1000μm的厚度d。
22.根据权利要求1至6中任一项所述的方法,其特征在于,所述可陶瓷化生坯玻璃部件的特征在于:
-小于500μm的厚度d。
23.根据权利要求1至6中任一项所述的方法,其特征在于,所述可陶瓷化生坯玻璃部件的特征在于:
-小于100μm的厚度d。
24.根据权利要求1至6中任一项所述的方法,其特征在于,所述可陶瓷化生坯玻璃部件的特征在于:
-小于50μm的厚度d。
25.根据权利要求1至6中任一项所述的方法,其特征在于,所述可陶瓷化生坯玻璃部件的特征在于:
-小于40μm的厚度d。
26.根据权利要求1至6中任一项所述的方法,其特征在于,所述可陶瓷化生坯玻璃部件的特征在于:
-小于30μm的厚度d。
27.根据权利要求1至6中任一项所述的方法,其特征在于,所述可陶瓷化生坯玻璃部件的特征在于:
-小于20μm的厚度d。
28.根据权利要求1至6中任一项所述的方法,其特征在于,所述可陶瓷化生坯玻璃部件的特征在于:
-小于10μm的厚度d。
29.根据权利要求1至6中任一项所述的方法,其特征在于,所述可陶瓷化生坯玻璃部件的特征在于:
-不大于1:200的厚度-宽度比d/b。
30.根据权利要求1至6中任一项所述的方法,其特征在于,所述可陶瓷化生坯玻璃部件的特征在于:
-不大于1:20000的厚度-宽度比d/b。
31.根据权利要求1至6中任一项所述的方法,其特征在于,所述可陶瓷化生坯玻璃部件的特征在于:
-不大于1:200000的厚度-宽度比d/b。
32.根据权利要求1至6中任一项所述的方法,其特征在于,所述可陶瓷化生坯玻璃部件的特征在于:
-至少一个表面的至少部分区段地具有Ra≤20nm的火抛光的表面品质。
33.一种通过根据权利要求1至32中任一项所述的方法生产的可陶瓷化生坯玻璃部件,其具有小于2000μm的厚度,其中所述可陶瓷化生坯玻璃部件的至少一个表面的至少部分区段具有火抛光的表面品质。
34.根据权利要求33所述的可陶瓷化生坯玻璃部件,其特征在于,所述厚度小于1000μm。
35.根据权利要求33所述的可陶瓷化生坯玻璃部件,其特征在于,所述厚度小于500μm。
36.根据权利要求33所述的可陶瓷化生坯玻璃部件,其特征在于,所述厚度小于100μm。
37.根据权利要求33所述的可陶瓷化生坯玻璃部件,其特征在于,所述厚度小于50μm。
38.根据权利要求33所述的可陶瓷化生坯玻璃部件,其特征在于,所述厚度小于40μm。
39.根据权利要求33所述的可陶瓷化生坯玻璃部件,其特征在于,所述厚度小于30μm。
40.根据权利要求33所述的可陶瓷化生坯玻璃部件,其特征在于,所述厚度小于20μm。
41.根据权利要求33所述的可陶瓷化生坯玻璃部件,其特征在于,所述厚度小于10μm。
42.根据权利要求33至41中任一项所述的可陶瓷化生坯玻璃部件,其中所述可陶瓷化生坯玻璃部件具有小于20体积%的结晶含量。
43.根据权利要求33至41中任一项所述的可陶瓷化生坯玻璃部件,其中所述可陶瓷化生坯玻璃部件具有小于10体积%的结晶含量。
44.根据权利要求33至41中任一项所述的可陶瓷化生坯玻璃部件,其中所述可陶瓷化生坯玻璃部件具有小于5体积%的结晶含量。
45.根据权利要求33至41中任一项所述的可陶瓷化生坯玻璃部件,其特征在于,所述可陶瓷化生坯玻璃部件设计成板状,其具有两个表面和周边,并且其中所述可陶瓷化生坯玻璃部件的至少一个表面的至少部分区段具有Ra≤20nm的火抛光表面品质。
46.根据权利要求33至41中任一项所述的可陶瓷化生坯玻璃部件,其特征在于,所述可陶瓷化生坯玻璃部件具有不大于1:200的厚度-宽度比d/b。
47.根据权利要求33至41中任一项所述的可陶瓷化生坯玻璃部件,其特征在于,所述可陶瓷化生坯玻璃部件具有不大于1:20000的厚度-宽度比d/b。
48.根据权利要求33至41中任一项所述的可陶瓷化生坯玻璃部件,其特征在于,所述可陶瓷化生坯玻璃部件具有不大于1:200000的厚度-宽度比d/b。
49.由根据前述权利要求33至48中任一项所述的可陶瓷化生坯玻璃部件制造的玻璃陶瓷件,其中所述可陶瓷化生坯玻璃部件在具有中间处理或不具有中间处理情况下进行陶瓷化处理,在冷却至低于300℃之后,在所述陶瓷化处理期间,所述可陶瓷化生坯玻璃部件再次加热并陶瓷化。
50.由根据前述权利要求33至48中任一项所述的可陶瓷化生坯玻璃部件制造的玻璃陶瓷件,其中所述可陶瓷化生坯玻璃部件在具有中间处理或不具有中间处理情况下进行陶瓷化处理,在冷却至室温之后,在所述陶瓷化处理期间,所述可陶瓷化生坯玻璃部件再次加热并陶瓷化。
51.根据权利要求49或50所述的玻璃陶瓷件,其特征在于,所述玻璃陶瓷件具有至少20体积%的结晶含量。
52.根据权利要求49或50所述的玻璃陶瓷件,其特征在于,所述玻璃陶瓷件具有至少50体积%的结晶含量。
53.根据权利要求49或50所述的玻璃陶瓷件,其特征在于,所述玻璃陶瓷件具有至少90体积%的结晶含量。
54.根据权利要求49至53中任一项所述的玻璃陶瓷件的用途,其作为电容器中的电介质部件;作为天线;作为电子部件中的内插器;作为电池中的隔板;作为薄膜电池的衬底;作为显示器的柔性衬底、作为显示器领域的研磨或滤波器;作为高温沉积处理的衬底;作为光学或电子部件的盖板或保护件;或者作为电子部件衬底。
55.根据权利要求49至53中任一项所述的玻璃陶瓷件的用途,其作为晶体成长的衬底。
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