JP6958597B2 - メタルマスク用基材の製造方法、および、蒸着用メタルマスクの製造方法 - Google Patents
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Description
レジスト用処理面にレジスト層が形成されるとき、そのレジスト層とメタルマスク用基材との密着性を粗化前よりも高めることが可能である。そして、レジスト層がメタルマスク用シートから剥がれることなどに起因した形状精度の低下を、マスク開口の形成において抑えることが可能である。
ていると、マスク開口を形成するためのエッチングが粒子によって妨げられるおそれがある。
図1を参照してメタルマスク用基材の構成を説明する。
図1が示すように、メタルマスク用基材10は、メタルマスク用シートの一例であって、インバー製のメタルマスクシートであるインバーシート11を含み、インバーシート11は、表面11aと表面11aとは反対側の面である裏面11bとを備えている。インバーシート11において、表面11aおよび裏面11bがレジスト用処理面であって、インバーシート11をエッチングするときに、レジスト層を形成することが可能な面である。
用メタルマスクをガラス基板に対する成膜に適用することが可能である。
図2から図12を参照して蒸着用メタルマスクの製造方法を説明する。
図2が示すように、蒸着用メタルマスクの製造方法は、メタルマスク用基材10の製造方法を含み、メタルマスク用基材10の製造方法では、まず、金属圧延シートの一例であるインバー圧延シート21を準備する。インバー圧延シート21は、表面21aと表面21aとは反対側の面である裏面21bとを備え、インバー圧延シート21のうち、表面21aおよび裏面21bが、メタルマスク用基材10の製造方法における処理対象である。
を混合した溶液である。裏面21bのエッチングは、インバー圧延シート21を酸性エッチング液に浸漬するディップ式であってもよいし、インバー圧延シート21の裏面21bに対して酸性エッチング液を吹き付けるスプレー式であってもよいし、スピナーによって回転するインバー圧延シート21に酸性エッチング液を滴下するスピン式であってもよい。
。
間の距離は小さいことが好ましい。
通孔51cのうち、表面51aにおける開口は、矩形状を有している。なお、貫通孔51cのうち、裏面51bにおける開口も、矩形状を有している。複数の貫通孔51cは、1つの方向に沿って等間隔で並び、かつ、1つの方向と直交する他の方向に沿って等間隔で並んでいる。蒸着用メタルマスク51は、蒸着用メタルマスク51の裏面51bが成膜対象と対向する状態で、蒸着源と成膜対象との間に配置される。
図15から図20を参照して試験例を説明する。
[試験例1]
30μmの厚さを有したインバー圧延シートを準備し、試験例1のインバー圧延シートとした。
30μmの厚さを有したインバー圧延シートを準備し、インバー圧延シートの表面に対して酸性エッチング液を吹き付けることによってインバー圧延シートの表面を3μmエッチングし、レジスト用処理面を有する試験例2のインバーシートを得た。なお、酸性エッチング液として、過塩素酸第二鉄液と塩化第二鉄液との混合液に対して過塩素酸を混合した溶液を用いた。
30μmの厚さを有したインバー圧延シートを準備し、試験例2と同じ条件でインバー圧延シートの表面を4.5μmエッチングし、レジスト用処理面を有する試験例3のインバーシートを得た。
30μmの厚さを有したインバー圧延シートを準備し、試験例2と同じ条件でインバー圧延シートの表面を10μmエッチングし、レジスト用処理面を有する試験例4のインバーシートを得た。
試験例1の表面、および、試験例2から試験例4の各々におけるレジスト用処理面を走査電子顕微鏡により撮影し、SEM画像を生成した。走査電子顕微鏡(JSM−7001F、日本電子(株)製)における倍率を10000倍に設定し、加速電圧を10.0kVに設定し、作動距離を9.7mmに設定した。
試験例1のインバー圧延シートにおける表面を表面として含む試験片を作成し、かつ、試験例2から試験例4の各々におけるインバーシートのレジスト用処理面を表面として含む試験片を作成した。そして、各試験片の表面において、一辺の長さが5μmである正方形状を有した領域である走査領域における表面粗さを測定した。
0.13であることが認められた。また、試験例4のインバーシートにおけるレジスト用処理面では、表面積率が1.22であることが認められた。
30μmの厚さを有したインバー圧延シートを準備し、試験例5のインバー圧延シートとした。
30μmの厚さを有したインバー圧延シートを準備し、試験例2と同じ条件でインバー圧延シートの表面を3μmエッチングし、レジスト用処理面を有する試験例6のインバーシートを得た。
30μmの厚さを有したインバー圧延シートを準備し、試験例2と同じ条件でインバー圧延シートの表面を10μmエッチングし、レジスト用処理面を有する試験例7のインバ
ーシートを得た。
30μmの厚さを有したインバー圧延シートを準備し、試験例2と同じ条件でインバー圧延シートの表面を15μmエッチングし、レジスト用処理面を有する試験例8のインバーシートを得た。
30μmの厚さを有したインバー圧延シートを準備し、試験例2と同じ条件でインバー圧延シートの表面を16μmエッチングし、レジスト用処理面を有する試験例9のインバーシートを得た。
試験例5のインバー圧延シートにおける表面の一部を表面として含む3つの試験片であって、一辺の長さが2mmである正方形状を有する試験片を作成した。また、試験例6から試験例9の各々のインバーシートにおけるレジスト用処理面の一部を表面として含む3つの試験片であって、一辺の長さが2mmである正方形状を有する試験片を作成した。
・支持層12は、インバーシート11から物理的に剥がされてもよい。すなわち、支持層12とインバーシート11の界面において剥離が生じるように、支持層12とインバーシート11との少なくとも一方に外力が加えられてもよい。こうした構成であっても、レジスト用処理面の表面粗さRzが0.2μm以上となるように粗し、かつ、エッチング後のインバー圧延シート21における厚さが10μm以下となるようにインバー圧延シート21をエッチングすれば、上述した(1)と同等の効果を得ることはできる。
厚さ方向において、インバーシート11が有する貫通孔11cと重なる部分のみをインバーシート11から除去してもよい。言い換えれば、メタルマスク用基材10から支持層12を除去するとき、インバーシート11の裏面11bと対向する平面視において、支持層12のうち、支持層12の縁部であって、全ての貫通孔11cよりも外側に位置する部分以外の部分のみを除去してもよい。
(5)レジスト用処理面71aから上述した粒子が既に取り除かれているために、レジスト用処理面71aは、長径方向が揃った楕円錘状の複数の第2粒子痕73を有する。そのため、マスク開口の形成時には、インバーシート71の中に粒子が残存している場合と比べて、マスク開口の形状や寸法の精度を高めることが可能でもある。
ぶ一方で、上述した変形例における複数の貫通孔51cは、有機ELデバイスにおけるデルタ配列に対応するように並んでいる。
Claims (8)
- 表面と、前記表面とは反対側の面である裏面とを備える金属圧延シートであって、前記表面および前記裏面の少なくとも一方が処理対象である前記金属圧延シートを準備することと、
前記処理対象に酸性エッチング液を吹き付けることによって前記処理対象を3μm以上エッチングすることによって、前記金属圧延シートが有する厚さを10μm以下まで薄くするとともに、0.2μm以上の表面粗さRzを有したレジスト用処理面となるように前記処理対象を粗らし、それによって、金属製のメタルマスク用シートを得ることと、を含み、
前記金属圧延シートは、金属酸化物から構成される粒子を含む
メタルマスク用基材の製造方法。 - 前記処理対象は、前記表面および前記裏面の両方である
請求項1に記載のメタルマスク用基材の製造方法。 - 前記処理対象は、前記表面および前記裏面のいずれか一方であり、
前記製造方法は、前記処理対象とは反対側の面に樹脂製の支持層を積層することをさらに含み、
前記金属圧延シートと前記支持層とが積み重なる状態で前記処理対象がエッチングされ、それによって、前記メタルマスク用シートと前記支持層とが積層されたメタルマスク用基材を得る
請求項1に記載のメタルマスク用基材の製造方法。 - 前記エッチングすることは、前記表面および前記裏面の一方である第1処理対象をエッチングすることと、その後に、前記表面および前記裏面の他方である第2処理対象をエッチングすることと、を含み、
前記製造方法は、前記第1処理対象をエッチングした後、前記第1処理対象のエッチングによって得られた前記レジスト用処理面に樹脂製の支持層を積層することをさらに含み、
前記金属圧延シートと前記支持層とが積み重なる状態で前記第2処理対象がエッチング
され、それによって、前記メタルマスク用シートと前記支持層とが積層されたメタルマスク用基材を得る
請求項2に記載のメタルマスク用基材の製造方法。 - 前記金属圧延シートは、36質量%のニッケルと鉄とを含むニッケル鉄合金から形成され、
前記メタルマスク用シートが前記ニッケル鉄合金製である
請求項1から4のいずれか一項に記載のメタルマスク用基材の製造方法。 - 前記レジスト用処理面は、楕円錘状を有した複数の窪みである粒子痕を有し、前記各粒子痕における長径方向が揃っている
請求項1から5のいずれか一項に記載のメタルマスク用基材の製造方法。 - 少なくとも1つのレジスト用処理面を備えるメタルマスク用基材を形成することと、
1つの前記レジスト用処理面にレジスト層を形成することと、
前記レジスト層をパターニングすることによってレジストマスクを形成することと、
前記レジストマスクを用いて前記メタルマスク用基材をエッチングすることと、を含み、
請求項1から6のいずれか一項に記載のメタルマスク用基材の製造方法を用いて、前記メタルマスク用基材を形成する
蒸着用メタルマスクの製造方法。 - 前記メタルマスク用基材は、前記メタルマスク用シートと樹脂製の支持層との積層体を含み、
前記レジストマスクが形成された後の前記メタルマスク用基材をアルカリ溶液に曝すことによって前記メタルマスク用基材から前記支持層を化学的に除去することをさらに含む
請求項7に記載の蒸着用メタルマスクの製造方法。
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