JP6483211B2 - 透析装置内部の荷重を懸架する懸架システム、及び懸架方法 - Google Patents
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Description
析装置における取外し可能なリザーバユニット用の荷重懸架及び計量システムに関する。
透膜を有する交換器に血液を体外循環させることに関与する。このようなシステムは、さ
らに、血液を循環させる液圧システム、及び健常者の血液に近似する濃度の血中電解質を
含む交換流体又は透析液を循環させる液圧システムを有する。普通に利用可能な血液浄化
システムのおおくは、しかし、サイズが極めて大型であり、また操作が困難である。さら
に、これらシステムの設計は大き過ぎてシステムを扱いにくくし、また使い捨てコンポー
ネントの使用及び設置につながらない。
害な物質及び老廃物(通常は小分子)が半透膜を介して血液から透析液に通過する透析、
及び(b) 血液回路と透析液回路との間における差圧、より正確には透析液回路における減
少した圧力が、水分の血液含有量を所定量だけ減少させる限外濾過というフェーズを有す
る。
時間透析センターに拘束する必要がある。携帯型透析システムが開発されたが、従来の携
帯型透析システムは若干の欠点がある。第1に、それらは十分モジュール式ではなく、し
たがって、簡単なセットアップ、移動、輸送、及びシステムのメンテナンスを阻害する。
第2に、従来システムは、患者が信頼性高くかつ正確に使用するに十分な程度に簡素化さ
れていない。使い捨てコンポーネントを使用するシステムインタフェース及び方法は、患
者による乱用及び/又は誤用を受け易い。携帯型透析システムを真に有効なものとするた
めには、医療従事者ではない個人が容易かつ信頼性高く使用でき、不正確な使用を防止す
るため使い捨て入力及びデータは十分制約をかけるべきである。
ことができる携帯型システムに対する必要性がある。とくに、透析処置における流体送給
要件を満たすとともに、様々な他の厳密な機能、例えば、流体加熱、流体測定及びモニタ
リング、漏洩検出、並びに接続部断絶検出を統合するコンパクトな透析液リザーバシステ
ムに対する必要性がある。リザーバシステムは一貫的かつ正確に計量して、リザーバ内の
液量を常に把握するのを確実にし、ひいては計算した水量レベルに基づいて容量制御を行
えるようにしなければならない。さらに、リザーバシステムはユーザーが透析装置に対し
て出し入れするので、リザーバパンの不正確な位置決め又は重量測定システムにおける液
漏れによって重量測定の変動が生ずる可能性を最小限にするよう構成しなければならない
。したがって、リザーバシステムにおける液体レベルを効果的に測定できる重量測定シス
テムに対する必要性がある。
譲渡された、米国特許出願公開第13/023,490号である米国特許出願公開第20
11/0315611号(参照により全体が本明細書に組み入れられるものとする)には
、制御ユニットを備え、この制御ユニットは、内側面を有するドアと、パネルを有するハ
ウジングであって、ハウジング及びパネルがドアの内側面を収容するよう構成した窪み付
き領域を画定する、該ハウジングと、パネルに固着したマニホルド受容器と、流体容器を
収容する平面状表面、この平面状表面に一体化した秤、平面状表面に熱連通するヒータ、
平面状表面に電磁連通するナトリウムセンサを有するベースユニットと、を有する透析装
置を記載している。
水は、吸着剤濾過プロセスを通過し、次に透析プロセスを通過し、最後にリザーバに帰還
する。透析装置は、さらに、リザーバパンを屈曲可能に収容及び懸架するための、また水
の重量を測定するための屈曲システムを有する。屈曲システムは、一連の4個の屈曲体を
有し、各屈曲体は、長方形形状のリザーバパンのコーナーに配置し、それぞれホールセン
サを組み込む。4コーナー付き屈曲システムは、改善することができる若干の機能性を有
することが分かっている。とくに、4コーナー付き屈曲システムは、システムの振動から
くる不正確な計量、及び4個の屈曲ユニットに対する平均化するデータ動作からくるクリ
ープに至るおそれがある。したがって、必要となるのは、不正確な計量を少なくするよう
構成した改善したリザーバユニットの重量測定システムである。
屈曲アセンブリは、複数個の第1磁石を有する頂部アセンブリと、複数個の第2磁石を有
する底部アセンブリとを備え、前記複数個の第1磁石及び前記複数個の第2磁石は前記屈
曲アセンブリ内で磁場を発生する。本発明屈曲アセンブリは、さらに、前記頂部アセンブ
リと前記底部アセンブリとの間に配置した回路板を備える。この回路板は複数個の磁場セ
ンサ及びプロセッサを有する。本発明屈曲アセンブリは少なくとも1個のリング、頂部ア
センブリに取付けかつ頂部アセンブリと回路板との間に配置した屈曲リングを有する。屈
曲リングは、頂部アセンブリが前記回路板に対し、また底部アセンブリと歩調を合わせて
移動する、とくに垂直移動するのを可能にする、少なくとも1個の曲線状アームを有する
。さらに、少なくとも1個のリング、底部アセンブリに取付けかつ底部アセンブリと回路
板との間に配置した第2屈曲リングを有する。第2屈曲リングは、底部アセンブリが前記
回路板に対し、また頂部アセンブリと歩調を合わせて移動する、とくに垂直移動するのを
可能にする、少なくとも1個の曲線状アームを有する。
した2個の屈曲リング、及び前記底部アセンブリと前記回路板との間に配置した2個の屈
曲リングを有する。
成する。取付けポイントは、前記透析装置の中心を通って延在する垂直軸線に沿って配置
する。一実施形態において、底部アセンブリは透析装置の第1内部フレームにおける取付
けポイントに取り付けるよう構成する。前記第1内部フレームにおける取付けポイントは
、前記透析装置の中心を通って延在する垂直軸線に沿って配置する。
前記回路板との間に少なくとも1個のスペーサ素子を備える。
ンブリから懸架し、また底部アセンブリに取り付けた構体の機械的振動を磁気的に減衰す
るよう構成する
、この計量及び懸架方法は、透析装置の垂直軸線に沿うポイントに取り付ける屈曲アセン
ブリを準備するステップであって、屈曲アセンブリは、複数個の第1磁石を有する頂部ア
センブリと、複数個の第2磁石を有する底部アセンブリとを備えるものとした屈曲アセン
ブリ準備ステップを有する。複数個の第1磁石及び複数個の第2磁石は屈曲アセンブリ内
に磁場を発生する。回路板は、頂部アセンブリと底部アセンブリとの間に配置し、また複
数個の磁場センサ、及びプロセッサを有する。少なくとも1個の屈曲リングは、頂部アセ
ンブリに取り付け、また頂部アセンブリと回路板との間に配置する。少なくとも1個の屈
曲リングは、頂部アセンブリが回路板に対して、また底部アセンブリに歩調を合わせて移
動する、とくに、垂直方向に移動するのを可能にする、少なくとも1個の曲線状アームを
有する。底部アセンブリに取り付け、かつ底部アセンブリと回路板との間に配置した少な
くとも1個の第2屈曲リングを設ける。少なくとも1個の第2屈曲リングは、底部アセン
ブリが回路板に対して、また頂部アセンブリに歩調を合わせて移動する、とくに、垂直方
向に移動するのを可能にする、少なくとも1個の第2曲線状アームを有する。計量及び懸
架方法は、さらに、前記屈曲アセンブリの前記底部アセンブリに荷重を加える荷重印加ス
テップを有し、前記荷重印加は前記屈曲アセンブリを引っ張り、この結果、前記回路板周
りの磁場を変位させ、複数個のセンサを用いて前記磁場の変位を感知し、センサからプロ
セッサへの電圧出力を発生し、また前記プロセッサを用いて前記電圧出力に基づき重量測
定値を決定する。
テムを企図し、このシステムは、透析装置の内部に取り付けた屈曲アセンブリを備え、屈
曲アセンブリは、複数個の第1磁石を有する頂部アセンブリ;複数個の第2磁石を有する
底部アセンブリであって、前記複数個の第1磁石及び前記複数個の第2磁石が前記屈曲ア
センブリ内で磁場を発生する、該底部アセンブリ;前記頂部アセンブリと前記底部アセン
ブリとの間に配置し、また複数個の磁場センサ、及びプロセッサを有する回路板;前記頂
部アセンブリに取り付け、かつ前記頂部アセンブリと前記回路板との間に配置した少なく
とも1個の屈曲リングであって、前記頂部アセンブリが、前記回路板に対して、また底部
アセンブリと歩調を合わせて移動できるようにする少なくとも1個の曲線状アームを有す
る、該少なくとも1個の屈曲リング;及び前記底部アセンブリに取り付け、かつ前記底部
アセンブリと前記回路板との間に配置した少なくとも1個の屈曲リングであって、前記底
部アセンブリが、前記回路板に対して、また頂部アセンブリと歩調を合わせて移動できる
ようにする少なくとも1個の曲線状アームを有する、該少なくとも1個の屈曲リング;前
記底部アセンブリに取り付けた第1内部フレームであって、前記底部アセンブリに取り付
けた頂部プレート、リザーバユニットを摺動可能に受け入れるよう構成した少なくとも2
個の軌道、及びリザーバユニットの接触プレートに物理的及び電気的に接触するよう構成
した複数個の電気的接点素子を有する背面プレートを有する、該第1内部フレーム;並び
に前記第1内部フレーム及び前記屈曲アセンブリとは個別にかつ独立的して前記透析装置
に取り付けた第2内部フレームであって、透析装置に取り付けた頂部区域、リザーバユニ
ット内に載置しかつ液体を収納するよう構成した内張り付きバッグを有する天井フレーム
を摺動可能に受け入れるよう構成した少なくとも2個の軌道、前記リザーバユニットから
液体を取り出す少なくとも1個のチューブ、及びリザーバユニットに液体を帰還させる少
なくとも1個のチューブを有する、該第2内部フレーム、を備えるものとする。
曲リング、及び底部アセンブリと回路板との間に配置した2個の屈曲リングを備える。
、取付けポイントは、前記透析装置の中心を通って延在する垂直軸線に沿って配置する。
一実施形態において、屈曲アセンブリの底部アセンブリは、透析装置の第1内部フレーム
における取付けポイントに取り付けるよう構成し、第1内部フレームにおける取付けポイ
ントは、前記透析装置の中心を通って延在する垂直軸線に沿って配置する。
路板との間の少なくとも1個のスペーサ素子を有する。
センブリから懸架し、また底部アセンブリに取り付けた構体の機械的振動を磁気的に減衰
するよう構成する。
る。アセンブリは、1) 1,2,3,4,5,6,7,8,9,10又はそれ以上の複数個の第1磁石を有する
第1コンポーネントと、2) 1,2,3,4,5,6,7,8,9,10又はそれ以上の複数個の第2磁石を有
する第2コンポーネントであって、複数個の第1磁石及び複数個の第2磁石がアセンブリ
内で磁場を発生する、該第2コンポーネントと、及び3) 第1コンポーネントと第2コン
ポーネントとの間に配置し、かつ1,2,3,4,5,6,7,8,9,10又はそれ以上の複数個のセンサで
あって、磁場の変化に基づいて電圧を出力する該センサ、及びセンサから電圧出力を受け
取り、電圧出力に基づく重量測定値を出力するよう構成したプロセッサを有する回路板と
、を備える。
ーネントと回路板との間に配置した少なくとも1個の屈曲構体であって、第1コンポーネ
ントを回路板に対して移動させることができる少なくとも1個の曲線状部材を有する、該
屈曲構体を備える。さらに、第2コンポーネントに取り付け、かつ第2コンポーネントと
回路板との間に配置した少なくとも1個の屈曲構体であって、第2コンポーネントを回路
板に対して移動させることができる少なくとも1個の曲線状部材を有する、該屈曲構体を
備える。
ムであって、第2コンポーネントに取り付けた頂部プレートと、リザーバユニットを摺動
可能に受け入れるよう構成した少なくとも2個の軌道と、及びリザーバユニットにおける
接触プレートに物理的及び電気的に接触するよう構成した複数個の電気接点素子を有する
プレートとを有する、該第1内部フレームを備える。
載する。
ことによって、よりよく理解できるであろう。
図する。一実施形態において、システムは、長方形形状のリザーバユニットにおける各コ
ーナーに位置する4個の個別屈曲体ではなく、単独の中心に配置した屈曲アセンブリを備
え、これにより個別の屈曲データを平均化することから生ずる計量の不正確さを排除する
。一実施形態において、屈曲アセンブリは、透析装置内におけるベースユニットを画定す
るフレームの頂部の下面に取り付ける。一実施形態において、屈曲アセンブリは、取付け
プレート、磁石、屈曲リング、スペーサ、及び回路板を有する。回路板における安価なホ
ールセンサは、重量測定の計算を行うための磁石移動によって生ずる磁場変化を抵抗的に
感知する。回路板及びホールセンサは固定的であり、2組の磁石セット(一方は回路板上
方、及び他方は回路板下方)は、回路板に対して垂直方向に移動し、磁石相互は位置関係
を固定にする。重量が加わって磁石セットが移動するとき、ホールセンサは磁場変化を感
知する。磁場変化は、ホールセンサから電圧出力を生ずる。回路板におけるプロセッサは
電圧出力を処理して重量を決定する。一軸移動の屈曲アセンブリを使用することにより、
低コスト性、高信頼性、堅牢性、並びに透析装置に対する組立て及び組込みの容易性を有
する秤システムを得る。
に取り付ける。一実施形態において、第1内部フレームは、頂部プレート、電気接点素子
を収容する背面プレート、及びリザーバユニットを懸架する2個の軌道を有する。リザー
バユニットは第1内部フレームの軌道上で摺動し、また透析装置内に載置し、これにより
リザーバユニットの挿入側における電気接点プレートが第1内部フレームの電気接点素子
と物理的に接触及び整列する。第1内部フレームに組み込み、またリザーバユニット上方
に配置することによって、屈曲アセンブリは、リザーバ内容物の正確で一貫した重量測定
を行い、またリザーバの流体がこぼれ出すことによるダメージを回避する。
を実施できるようにするために提示する。本明細書で使用する用語は、任意な1つの特別
な実施形態を全否定するものとして、又は本明細書で使用する用語の意味を越えて特許請
求の範囲を限定するものと解釈すべきではない。本発明で定義される全体的原理は、本発
明の精神及び範囲から逸脱することなく他の実施形態及び用途にも適用することができる
。さらに、使用する専門用語及び言葉遣いは、例示的実施形態を説明するためのものであ
り、限定的と考えるべきではない。したがって、本明細書は、最も広い範囲を包含して、
記載する原理及び特徴に一致する多くの代案、変更及び均等物を許容する。分かり易くす
るため、本発明に関連する技術分野で既知の技術的材料に関する詳細は、本発明を不必要
に曖昧にしない限り詳細に説明しない。
ブリ100の個別コンポーネントを示す。図1Bで分かるように、アセンブリ100は、
頂部リングクランプ110により透析装置フレームに取り付けるよう構成した秤支持プレ
ート102に連結する。一実施形態において、頂部リングクランプ110は6個のねじ1
04により秤支持体102に固定し、ねじ104は支持体102を経てクランプ110の
孔に挿通する。2個のドウェルピン107は、屈曲アセンブリ100における頂部中心リ
ング105に挿入し、屈曲アセンブリ100のコンポーネントを互いに整列及び固定する
手段をなす。
通過させるための孔を中心に有する。中心ねじ106は屈曲アセンブリ100の底部にお
ける中心リング135に挿通し、屈曲アセンブリ100全体をともに固定する。頂部リン
グクランプ110は、ねじ111によって底部雌ねじ孔付きリングクランプ130固定す
る。好適には、頂部リングクランプ110は透析ハウジングフレームに固定し、この透析
ハウジングフレームは中心フレームであり、この中心フレームの周りに、透析装置におけ
る少なくとも底部ユニットのハウジングを形成して、システム上に配置する任意の荷重が
荷重懸架アセンブリを介して直接的に透析装置内の最も強度のある構体まで並進移動し、
リザーバ組立体のコントローラ回路板125のような繊細な構体にいかなる荷重をもかか
るのを回避する。
から突出する3個のスポークを有するスポーク構体である。頂部リングクランプ110は
、リング状の形状であり、また複数個のねじ111を有し、これらねじ111は、アセン
ブリ100の残りのコンポーネントの周縁に沿う孔に挿通し、また対応の底部リングクラ
ンプ130に固定する。屈曲アセンブリ100は底部中心リング135で第1内部フレー
ム198に固定する。図1Bにつき説明すると、第1内部フレーム198は、中心近傍に
4個のねじ孔139を設けたパンホルダ137を有する。ねじは、パンホルダ137にお
けるねじ孔139に挿通し、また底部雌ねじ孔付き中心リング135における対応のねじ
孔に固定する。
フレーム198は、リザーバユニットを懸架する2個の軌道と、電気接点素子を有する背
面プレートを有する。一実施形態において、リザーバユニットは、リザーバユニットを完
全に透析装置内に挿入するとき第1内部フレームの接点素子に接触することになる挿入側
に電気接点プレートを有する。第2内部フレームは、天井フレームを懸架し、この天井フ
レームは、リザーバ及びリザーバから液体を取出しまたリザーバに液体を戻す管材内に液
体を保持するバッグを有する。第2内部フレームは、第1内部フレームとは別個にかつ独
立的して透析装置に取り付け、また重量測定計算に関与しない。
複数個の屈曲構体を有する。屈曲構体は、一部がほぼ平面状である任意のコンポーネント
とし、部材、アーム、構体、又はほぼ平面状部分に直交する平面内で屈曲又は湾曲する他
のコンポーネントとする。一実施形態において、屈曲構体は、中心に配置したリザーバ組
立体コントローラ回路板125(回路板125と略称する場合もある)の上方に位置する
少なくとも1個の屈曲リング115A、及び回路板125の下方に位置する少なくとも1
個の屈曲リング115Bを有する屈曲リング115とする。好適な実施形態において、2
個の屈曲リング115Aを中心に配置したリザーバ組立体コントローラ回路板125の上
方に配置し、また2個の屈曲リング115Bを回路板125の下方に配置する。図1A及
び1Bから分かるように、屈曲リング115A,115Bはそれぞれリザーバ組立体コン
トローラ回路板125から離間させ、これら離間は、回路板125の上方に配置した上側
スペーサ121及び回路板125の下方に配置した下側スペーサ122によって行う。屈
曲リング115A,115Bは、それぞれ頂部リングクランプ110とリザーバ組立体コ
ントローラ回路板125の上方の上側スペーサ121との間、及び底部リングクランプ1
30と回路板125の下方の下側スペーサ122との間に拘束する。さらに、リザーバ組
立体コントローラ回路板125の中心孔に配置した中心スペーサ120を設ける。
上方及び下方に単に1個のリング状スペーサ121及び1個のスペーサ122のみを有す
るものとして示すが、任意の数の間隔付けユニットを使用することができ、また間隔付け
ユニットは異なる形状とすることもできるが、円形又はリング形状が好ましい。間隔付け
ユニットは、屈曲アセンブリのコンポーネントが互いに正確に適合するよう構成する。一
実施形態において、間隔付けユニットは汎用アルミニウムで構成する。好適な実施形態に
おいて、スペーサは、中心にクリアランス孔を設けたリング形状とし、リザーバ組立体コ
ントローラ回路板に対する屈曲アームのクリアランスを確保する。一実施形態において、
上側スペーサは2.54〜7.62mm(0.1〜0.3インチ)の厚さを有し、及び下側ス
ペーサは、上側スペーサより小さく、1.27mm〜5.08mm(0.05〜0.2インチ
)の範囲内の厚さを有する。
、リザーバ重量が変化するとき屈曲アセンブリ100内における磁石の移動、とくに、垂
直方向の移動を可能にする。磁場の変化を表す信号はリザーバ組立体コントローラ回路板
125が処理し、重量測定値を出力する。磁石を屈曲アセンブリ100における頂部中心
リング105及び底部中心リング135に対して接着ペーストで固定する。
それぞれ円形ハブ219に連結した3個のスポーク210を、各スポーク210の端部に
配置、位置決め及び/又は埋設した磁石215とともに示す。さらに、ドウェルピン孔2
09及び中心ねじ孔208を示す。磁石215は、各スポーク210の端部に順次に12
0゜の角度離して配置する。
態であって、リング335の周縁に配置した3個の磁石315を示す。磁石315は、底
部リング335の中心から測って順次に120゜の角度をなすよう配置する。さらに、ね
じ収容孔339、ドウェルピン収容孔309及び中心ねじ収容孔308が見える。底部中
心リング335は、取り付けたリザーバ構体からの荷重をアセンブリ全体に伝達する。他
の様々な実施形態において、3個よりも多い又は少ない磁石を頂部中心リング及び底部中
心リングに使用し、ただし、各リングは、同一数の磁石を収容し、また磁石は同一垂直軸
線上で整列するようにする。
215,315はネオジム(NdFeB)N42等級のディスク磁石とし、直径12.7
mm(0.5インチ)、厚さ3.175mm(0.125インチ)の計測値を有するものと
する。一実施形態において、磁石215,315は、組付け前に所定時間の期間にわたり
加熱し、熱とともに時間の経過で自然に生ずる不可逆磁気損失に対する処理をする。一実
施形態において、磁石は組付け前に100時間にわたりベイクする。屈曲アセンブリを完
全に組み立てた後、頂部中心リング及び底部雌ねじ孔付き中心リングは、頂部中心リング
における各磁石215が底部中心リングにおける対応の磁石315の直接上方にくる相対
的関係となる位置をとる。好適には、完全に組み立てたシステムにおいて、一定距離又は
ギャップが頂部中心リングの各磁石215と底部中心リングの対応磁石315との間に生
ずる。一実施形態において、一定ギャップは、名目平面内で10.16〜25.4mm(0
.4〜1.0インチ)、より具体的には、約17.78mm(約0.7インチ)とする。
減衰する結果となる。とくに、磁石配置と関連するアームの形状は磁石からの読みを平均
化することによってアセンブリ全体のバランスを改善する。磁石配置は、システムの運動
中及び振動を伴う測定値を平均化するのに有利である。さらに、以下に詳述するように、
回路板における銅溶入によれば、アセンブリ内の渦電流によって生ずる振動を減衰する磁
場を発生する。
おいて、各屈曲リング400は、同一平面内で湾曲する3個の曲折ビーム又は曲線状アー
ム405を有し、これらビーム又はアームにより、屈曲アセンブリに重量が加わるときリ
ング415の中心が垂直平面内で変位することができる。各アーム405は、一方の端部
をほぼ三角形形状のハブ415に連結し、他方の端部を円形の外側リング425に連結す
る。各アーム405は、好適には、一方の端部がリング425に連結し、他方の端部が曲
線状部分405Bに終端する第1直線状部分405Aを有する。曲線状部分405Bは第
2直線状部分405Cに連結し、この第2直線状部分405Cの他方の端部は、中心ハブ
415に取り付けた第2曲線状部分405Dで終端する。各屈曲リングは、円形外側リン
グに複数個のねじ孔410を有し、これらねじ孔410にねじを挿通し、屈曲アセンブリ
のコンポーネントを互いにに固定する。他の実施形態において、磁石の位置及び数に基づ
いて変化する屈曲リング形状を使用することができる。一実施形態において、屈曲リング
400はアルミニウム2024−T3で形成し、ステンレス鋼は含まないものとし、なぜ
ならステンレス鋼は、時間の経過とともに力印加に起因するクリープ又は変形を防止でき
ないからである。アルミニウム2024−T3によれば、344.8〜379.2MPa(
50,000〜55,000PSI)の高い降伏強さ、及び73087MPa(約10,
600,000PSI)の弾性率を付与する。一実施形態において、屈曲アセンブリは、
25kgもの重量測定を計算することができる。一実施形態において、リザーバ内容物の
運転重量は17〜18kgである。
応力ポイント450及び最大応力ポイント455を示す。一実施形態において、互いに隣
接する2個組の屈曲リングのセットを2つ有する並列形態であって、それぞれアルミニウ
ム2024−T3で構成し、また図4Bに示す形態にしたものを使用すると、18kgの
中心荷重は、ポイント450で0MPa(0.0PSI)の最小応力、ポイント455で
261.0MPa(37,860.0PSI)又は約259.3MPa(約37,600P
SI)の最大応力を生ずる。最大応力ポイント455は、各リングの周縁から内方に移動
するときに見えるような、各アームにおける第1U字状曲げ部の位置にある。最小応力ポ
イント450はリングの周縁に位置する。測定可能な応力は、各屈曲アームにおける、第
1直線状部分405Aとリング425との間の取付けポイント、第1曲線状部分405B
、及び第2曲線状部分405Dで見られる。
ひずみポイント460及び最大ひずみポイント465を示す。一実施形態において、互い
に隣接する2個組の屈曲リングのセットを2つ有する並列形態であって、それぞれアルミ
ニウム2024−T3で構成し、また図4Cに示す形態にしたものを使用すると、18k
gの中心荷重は、ポイント460で1.290e−018の最小ひずみ、ポイント465
で2.620e−003又は約0.0026IN/INの最大ひずみを生ずる。最大ひずみ
ポイント465は、各リングの周縁から内方に移動するときに見えるような、各アームに
おける第1U字状曲げ部の位置にある。最小ひずみポイント460はリングの周縁に位置
する。測定可能な応力は、各屈曲アームにおける、第1直線状部分405Aとリング42
5との間の取付けポイント、第1曲線状部分405B、及び第2曲線状部分405Dで見
られる。
変位ポイント470及び最大変位ポイント475を示す。一実施形態において、互いに隣
接する2個組の屈曲リングのセットを2つ有する並列形態であって、それぞれアルミニウ
ム2024−T3で構成し、また図4Dに示す形態にしたものを使用すると、18kgの
中心荷重は、ポイント470で3.937e−032の最小変位、ポイント475で1.5
81e−001又は約0.158インチの最大変位を生ずる。最大変位ポイント475は
各リングの中心にある。最小変位ポイント470はリングの周縁に位置する。一実施形態
において、約17kgの荷重を使用するとき、リングは約3.3mm(約0.130インチ
)の変位を示す。
応力、最大応力における0.0026IN/INの最大ひずみ、三角形形状の中心ハブに
おける0.158インチの最大変位を示す。好適な実施形態において、屈曲アセンブリは
、リザーバ組立体コントローラ回路板上方の屈曲リングセット、及び回路板下方の屈曲リ
ングセットを有し、各セットは、順次直接上下に積層した2個の屈曲リングを有する。図
4A及び4Dに示す屈曲リングの形状は、中心における最大変位を可能にしつつ、アーム
に対して応力及びひずみを均等に分布させかつ最小化するものが理想的であり、これによ
って一層正確な重量測定を得ることができる。さらに、複数個の屈曲リングを使用するこ
とによって、クリープ発生を少なくする。クリープを最小化することにより、屈曲アセン
ブリの耐用寿命を延ばすことができる。
ある。予測及び実験結果曲線505から分かるように、ひずみは400メガパスカル(M
Pa)の応力まで指数関数的に上昇し、次に水平になり始め、応力は600MPaに近づ
いていく。応力が400MPaを越えて上昇するときの曲線の線形性は、アルミニウム2
024−T3が高応力に応答するひずみがほとんど増加せず、したがって、クリープに耐
えるのに理想的な材料になることを意味する。
を最小化する。種々の実施形態において、各屈曲リングは0.254〜2.54mm(0.
01〜0.1インチ)の厚さを有する。一実施形態において、各屈曲リングは1.27mm
(0.05インチ)の厚さを有する。中心スペーサ、頂部中心リング、及び底部中心リン
グは三角形形状の中心ハブに2個のドウェルピンによって連結し、これにより磁石を収容
するアセンブリのコンポーネントは、リザーバ組立体コントローラ回路板が固定されてい
る状態で移動できるようになる。
施形態であり、回路板の底面601及び頂面603をそれぞれ示す。図6A及び6B双方
につき説明すると、リザーバ組立体コントローラ回路板600は、屈曲アセンブリを完全
に組み立てた後には中心スペーサを収容する円形開口610を中心に有する。回路板60
0は、さらに、中心円形開口610を包囲する円形経路に沿って複数個のねじ孔605を
有する。ねじをこれらねじ孔605に挿通し、屈曲アセンブリのコンポーネントを互いに
固定する。図6Aにつき説明すると、リザーバ組立体コントローラ回路板600の底面6
01は、3対のホールセンサ615を有する。種々の実施形態において、アセンブリに含
まれる磁石の数に応じて、3個よりも多い又は少ないホールセンサ対を使用する。ホール
センサ対615は、頂部中心リング及び底部中心リングに含まれる磁石の中心磁気軸線か
らオフセットさせる。ホールセンサ対615は順次120゜の角度離して配置し、リザー
バパンの重力中心の不均衡を補償する。一実施形態において、ホールセンサ対615は1
.3mV/ガウスの感度を有する。
インチ)×奥行30.48mm(12インチ)を測定し、また互いに120゜の角度ずつ
離間する空気温度センサを有する。一実施形態において、リザーバ組立体コントローラ回
路板は、さらに、振動を減衰するため回路板に銅を溶入して生ずる磁場によってできる渦
流ダンパを有する。回路板の銅溶入で生ずる磁場は、効果的に屈曲アセンブリを包囲する
。磁石が移動して磁場が変化するとき、振動を生ずる渦電流が発生し、これにより重量測
定を誤らせる。回路板の銅溶入は、渦電流を除去又は減衰することによって振動を排除す
る磁場を発生する。
図である。リザーバ組立体コントローラ回路板の頂面703、頂部リングクランプ710
、頂部中心リング705、及び最上部の屈曲リング715がこの図面では見える。さらに
、6個の周縁ねじ711、1個の中心ねじ706、及び屈曲アセンブリ700を互いに固
定する2個のドウェルピン707を示す。
側面図である。リザーバ組立体コントローラ回路板825の上方に位置するのは、頂部中
心リング805、頂部リングクランプ810、複数個の上側磁石813のうち1個、上側
屈曲リングセット814、及び上側スペーサ821である。中心スペーサ820は、リザ
ーバ組立体コントローラ回路板825における中心開口内に位置する。リザーバ組立体コ
ントローラ回路板の下方に位置するのは、下側スペーサ822、下側屈曲リングセット8
15、複数個の下側磁石816のうち1個、底部雌ねじ孔付きリングクランプ830、及
び底部中心リング835である。アセンブリ800には頂部からまた周縁に6個の固定ね
じ811を挿通する。中心ねじ806は、アセンブリ800の中心で中心スペーサ820
を含めてアセンブリ800に挿通する。2個のドウェルピン807もアセンブリ800の
中心でアセンブリ800に挿通する。第2内部フレームを屈曲アセンブリ800に固定す
るため、4個のねじ840を第2内部フレーム(図示せず)の中心部材から底部中心リン
グ835に挿通する。
902を上方から見下した斜視図である。ねじ904を秤支持体902の頂部から屈曲ア
センブリ900における頂部リングクランプ910の孔ないに挿通する。図10は、図9
に示す完全に組み立てた屈曲アセンブリ1000の実施形態及び秤支持体1002の一部
断面とする側面図である。ねじ1004を秤支持体1002の頂部から頂部リングクラン
プ1010に挿通し、屈曲アセンブリ1000を秤支持体1002に固定し、秤支持体1
002は透析装置ハウジングを画定する第1フレームと一体化するのが望ましい。
ハンガ1137を下方から見上げた斜視図である。ねじ1140をパンハンガ1137か
ら屈曲アセンブリ1100の底部雌ねじ孔付き中心リング1135に挿通する。図12は
、図11の完全に組み立てた屈曲アセンブリ1200及びパンハンガ1237の一部断面
とする側面図である。ねじ1240をパンハンガ1237の底部から底部雌ねじ孔付き中
心リング1235に挿通し、屈曲アセンブリ1200をパン又はリザーバハンガ1237
に固定する。
明細書に記載の屈曲アセンブリ1312、及び第1内部フレーム1360及び第2内部フ
レーム1365を示す。透析装置の前面及び側面は透明にし、またリザーバユニットは、
取外して可視化を高めている。透析装置は、頂部区域1301及び底部区域1303を有
する。一実施形態において、底部区域1303は屈曲アセンブリ1312及び関連のコン
ポーネントを収容する。第2内部フレーム1365は、透析装置の底部区域1303のハ
ウジングを画定するフレームの頂部部分における底面に取り付ける。第2内部フレーム1
365は、頂部プレート、第1内部フレーム1360の頂部プレートが通過できる開口1
366を有する2個の側壁、及び1対の水平軌道1348を有する。一実施形態において
、第2内部フレーム1365の水平軌道1348は、透析装置の前後方向軸線に沿って、
透析装置の前面近傍のポイントから透析装置の背面近傍のポイントまで延在する。
グを画定するフレームの頂部部分における底面に取り付ける。一実施形態において、第1
内部フレーム1360の頂部プレートは屈曲アセンブリ1312の底部に連結する。第1
内部フレームは、頂部プレート、水平軌道1345を有する2個の側面、及び電気接点素
子1333を有する背面プレート1332を有する。一実施形態において、第1内部フレ
ーム1360の水平軌道1345は、透析装置の前後方向軸線に沿って透析装置の前面近
傍のポイントから透析装置の背面近傍のポイントまで延在する。一実施形態において、背
面プレート1332は長方形形状とし、リザーバユニットの挿入側面における電気接点プ
レートに整列しまた接触する電気接点素子1333を有する。第1内部フレーム1360
は、透析装置の両側の各側面に沿って各個に延在する1対の軌道1345を有する。各軌
道1345は、その後端部を背面プレート1332に連結する。リザーバユニットは、挿
入したとき、第1内部フレーム1360の軌道1345に懸架される。
を測定するのにアセンブリを使用するとき、磁場は垂直軸線上で移動し、この移動を用い
てリザーバ内容物の重量を計算する。重量を加える前、アセンブリは電圧出力がゼロとな
るよう較正する。上側磁石及び下側磁石の磁場は互いに反発し合い、中心ラインでゼロに
なる磁気面を生ずる。磁石の磁極配向は、重量が加わり、磁石がホールセンサに対して移
動するとき、増加する電圧出力を確実にする。回路板におけるプロセッサは、電圧関数を
用いて電圧変化を重量測定値に変換する。当然のことながら、重量は電圧変化の関数であ
り、異なる重量を異なる電圧レベル及び/又は電圧変化にプロッティングすることによっ
て経験的に導き出すことができる。経験的に導き出されるそのプロッティングは、重量値
に対して測定された電圧レベル又は測定された電圧変化に関連する実装可能な関数をもた
らし、これによりプロセッサは入力された電圧レベル又は電圧変化から重量を正確に計算
できるようになる。
力は、アナログーデジタル変換器(ADC)によってデジタル信号に変換されて、より高
い分解能を得る。一実施形態において、リザーバユニット内容物のグラム単位の重量が以
下の等式を用いて計算される。
重量=w3+w2+w1+w0 (式1)
だだし、w0=k0
w1=k1×ホールセンサ(Hall)のADC値(ミリボルト)
w2=k2×ADC基準電圧(Vref値)
w3=k3×ADC(Hall)×ADC(Vref)値
k0〜k3 は定数であり、種々の実施形態で以下の値を有する。すなわち、
k0=-7925.4+/-0.10;k1=328.741e-3+/-1.0e-6;k2=-73.688e-3+/-1.0e-6;及び
k3=935.35e-9+/-10e-12である。
実施形態であって、アセンブリが荷重を支持していないときの、ゼロ磁気面1450の相
対位置を示すブロック図である。上側磁石1405及び下側磁石1410双方は、一定ゼ
ロ磁気面1450を確立する2つの磁石間の中心ポイントから一定距離、例えば2.54
〜12.7mm(0.1〜0.5インチ)の範囲内における特定量を維持する。パンを装荷
しない場合、リザーバ組立体コントローラ回路板1425のホールセンサ1415は、底
面から下側磁石1410までの予め規定されたクリアランス、例えば2.54〜7.62m
m(0.1〜0.3インチ)の範囲内における特定量を有し、またゼロ磁気面1450から
予め規定された距離、例えば1.27〜6.36mm(0.05〜0.25インチ)の範囲内
における特定量を有する。
実施形態であって、アセンブリに空のリザーバパンを装荷するときの、ゼロ磁気面145
0の相対位置を示すブロック図である。空のパンで加わった荷重は約7kgであり、風袋
重量である。上側磁石1405及び下側磁石1410双方は、上述したように、一定ゼロ
磁気面1450を確立する2つの磁石間の中心ポイントから同一の一定距離を維持する。
空のパンを装荷する場合、リザーバ組立体コントローラ回路板1425のホールセンサ1
415は、ゼロ磁気面1450により接近する異なる位置をとる。例えば、荷重を加える
前ではホールセンサ1415からゼロ磁気面1450までの距離は2.717mm(0.
107インチ)であるが、空のパンをアセンブリに装荷するとき、1.276mm(0.0
5インチ)に減少する。
実施形態であって、アセンブリに半充填リザーバパンを装荷するときの、ゼロ磁気面14
50の相対位置を示すブロック図である。半充填パンで加わった荷重は約12.5kgで
ある。上側磁石1405及び下側磁石1410双方は、上述したように、一定ゼロ磁気面
1450を確立する2つの磁石間の中心ポイントから同一の一定距離を維持する。半充填
パンを装荷する場合、リザーバ組立体コントローラ回路板1425のホールセンサ141
5は、ほぼゼロ磁気面1450上に直接位置する。
実施形態であって、アセンブリに全充填リザーバパンを装荷するときの、ゼロ磁気面14
50の相対位置を示すブロック図である。全充填パンで加わった荷重は約18kgである
。上側磁石1405及び下側磁石1410双方は、上述したように、一定ゼロ磁気面14
50を確立する2つの磁石間の中心ポイントから同一の一定距離を維持する。全充填パン
を装荷する場合、リザーバ組立体コントローラ回路板1425のホールセンサ1415は
、その頂面から上側磁石1405まで5.232mm(0.206インチ)のクリアラン
スを有し、またホールセンサ1415はゼロ磁気面1450上方1.27mm(0.05イ
ンチ)の位置をとる。
以下に、本願出願の当初の特許請求の範囲に記載された発明を付記する。
〔1〕
荷重を計量及び懸架する屈曲アセンブリにおいて、a. 複数個の第1磁石を有する頂部アセンブリと、b. 複数個の第2磁石を有する底部アセンブリであって、前記複数個の第1磁石及び前記複数個の第2磁石が前記屈曲アセンブリ内で磁場を発生する、該底部アセンブリと、c. 前記頂部アセンブリと前記底部アセンブリとの間に配置し、また複数個の磁場センサ及びプロセッサを有する回路板と、d. 前記頂部アセンブリに取り付け、また前記頂部アセンブリと前記回路板との間に配置した少なくとも1個の頂部屈曲構体であって、前記少なくとも1個の頂部屈曲構体は、前記頂部アセンブリを、前記回路板に対し、また前記底部アセンブリと歩調を合わせて移動させることができる少なくとも1個の屈曲部材を有する、該少なくとも1個の頂部屈曲構体と、及びe. 前記底部アセンブリに取り付け、また前記底部アセンブリと前記回路板との間に配置した少なくとも1個の底部屈曲構体であって、前記少なくとも1個の底部屈曲構体は、前記底部アセンブリを、前記回路板に対し、また前記頂部アセンブリと歩調を合わせて移動させることができる少なくとも1個の屈曲部材を有する、該少なくとも1個の底部屈曲構体と、を備える、屈曲アセンブリ。
〔2〕
〔1〕記載の屈曲アセンブリにおいて、前記頂部アセンブリに取り付けた前記少なくとも1個の頂部屈曲構体は屈曲リングとし、また前記少なくとも1個の屈曲部材は曲線状アームを有する、屈曲アセンブリ。
〔3〕
〔2〕記載の屈曲アセンブリにおいて、前記底部アセンブリに取り付けた前記少なくとも1個の底部屈曲構体は屈曲リングとし、また前記少なくとも1個の屈曲部材は曲線状アームを有する、屈曲アセンブリ。
〔4〕
〔3〕記載の屈曲アセンブリにおいて、前記頂部アセンブリと前記回路板との間に配置した付加的屈曲リング、及び前記底部アセンブリと前記回路板との間に配置した付加的屈曲リングを備える、屈曲アセンブリ。
〔5〕
〔1〕記載の屈曲アセンブリにおいて、前記頂部アセンブリを透析装置の取付けポイントに取り付けるよう構成し、また前記取付けポイントは、前記透析装置の中心を通って延在する垂直軸線に沿って配置する、屈曲アセンブリ。
〔6〕
〔1〕記載の屈曲アセンブリにおいて、前記底部アセンブリを透析装置の第1内部フレームにおける取付けポイントに取り付けるよう構成し、また前記第1内部フレームにおける取付けポイントは、前記透析装置の中心を通って延在する垂直軸線に沿って配置する、屈曲アセンブリ。
〔7〕
〔3〕記載の屈曲アセンブリにおいて、前記屈曲アセンブリは、前記少なくとも1個の各屈曲リングと前記回路板との間の少なくとも1個のスペーサ素子を有する、屈曲アセンブリ。
〔8〕
〔1〕記載の屈曲アセンブリにおいて、さらに、銅を装備し、前記銅は、前記屈曲アセンブリから懸架し、また底部アセンブリに取り付けた構体の機械的振動を磁気的に減衰するよう構成する、屈曲アセンブリ。
〔9〕
〔3〕記載の屈曲アセンブリにおいて、前記屈曲リングはアルミニウムで構成する、屈曲アセンブリ。
〔10〕
透析装置におけるリザーバユニットの荷重を計量及び懸架する荷重計量及び懸架方法において、a. 前記透析装置の垂直軸線に沿うポイントに取り付ける屈曲アセンブリを準備する屈曲アセンブリ準備ステップであって、前記屈曲アセンブリは、
i. 複数個の第1磁石を有する頂部アセンブリ;
ii. 複数個の第2磁石を有する底部アセンブリであって、前記複数個の第1磁石及び前記複数個の第2磁石が前記屈曲アセンブリ内で磁場を発生する、該底部アセンブリ;
iii. 前記頂部アセンブリと前記底部アセンブリとの間に配置し、また少なくとも1個の磁場センサ及びプロセッサを有する回路板;
iv. 前記頂部アセンブリに取り付け、また前記頂部アセンブリと前記回路板との間に配置した少なくとも1個の頂部屈曲構体であって、前記少なくとも1個の頂部屈曲構体は、前記頂部アセンブリを、前記回路板に対して移動させることができる少なくとも1個の屈曲部材を有する、該少なくとも1個の頂部屈曲構体;及び
v. 前記底部アセンブリに取り付け、また前記底部アセンブリと前記回路板との間に配置した少なくとも1個の底部屈曲構体であって、前記少なくとも1個の底部屈曲構体は、前記底部アセンブリを、前記回路板に対して移動させることができる少なくとも1個の屈曲部材を有する、該少なくとも1個の底部屈曲構体;を備えるものとした、該屈曲アセンブリ準備ステップと、b. 前記屈曲アセンブリの前記底部アセンブリに荷重を加える荷重印加ステップであって、前記荷重印加は前記屈曲アセンブリを引っ張り、この結果、前記回路板周りの磁場を変位させ、前記少なくとも1個の磁場センサが前記磁場の変位を感知して電圧出力を発生し、また前記プロセッサが前記電圧出力を受け取って前記電圧出力に基づき重量測定値を発生する、該荷重印加ステップとを有する、荷重計量及び懸架方法。
〔11〕
〔10〕記載の荷重計量及び懸架方法において、前記頂部アセンブリに取り付けた前記少なくとも1個の屈曲構体は屈曲リングとし、また前記少なくとも1個の屈曲部材は曲線状アームを有する、荷重計量及び懸架方法。
〔12〕
〔11〕記載の荷重計量及び懸架方法において、前記底部アセンブリに取り付けた前記少なくとも1個の底部屈曲構体は屈曲リングとし、また前記少なくとも1個の屈曲部材は曲線状アームを有する、荷重計量及び懸架方法。
〔13〕
〔12〕記載の荷重計量及び懸架方法において、前記底部アセンブリに取り付けた前記屈曲リング又は前記頂部アセンブリに取り付けた前記屈曲リングのうち少なくとも一方はアルミニウムで構成する、荷重計量及び懸架方法。
〔14〕
〔12〕記載の荷重計量及び懸架方法において、前記頂部アセンブリと前記回路板との間に配置した付加的屈曲リング、及び前記底部アセンブリと前記回路板との間に配置した付加的屈曲リングを備える、荷重計量及び懸架方法。
〔15〕
〔11〕記載の荷重計量及び懸架方法において、前記複数個の第1磁石は、同一平面内に、120゜の角度だけ離れて位置する、荷重計量及び懸架方法。
〔16〕
〔12〕記載の荷重計量及び懸架方法において、前記複数個の第2磁石は、同一平面内で120゜の角度だけ離れて位置する、荷重計量及び懸架方法。
〔17〕
荷重を計量及び懸架するアセンブリを有する透析システムにおいて、前記アセンブリは、
複数個の第1磁石を有する第1コンポーネントと、
複数個の第2磁石を有する第2コンポーネントであって、前記複数個の第1磁石及び前記複数個の第2磁石が前記アセンブリ内で磁場を発生する、該第2コンポーネントと、
前記第1コンポーネントと前記第2コンポーネントとの間に配置し、また前記磁場の変化に基づいて電圧を出力する複数個の磁場センサ、及び前記電圧出力に基づく重量測定値を出力するよう構成したプロセッサを有する回路板と、を備えるものとする、透析システム。
〔18〕
〔17〕記載の透析システムにおいて、さらに、前記第1コンポーネントに取り付け、また前記第1コンポーネントと前記回路板との間に配置した少なくとも1個の第1屈曲構体であって、前記少なくとも1個の第1屈曲構体は、前記第1コンポーネントを、前記回路板に対して移動させることができる少なくとも1個の曲線状部材を有する、該少なくとも1個の第1屈曲構体を備える、透析システム。
〔19〕
〔18〕記載の透析システムにおいて、さらに、前記第2コンポーネントに取り付け、また前記第2コンポーネントと前記回路板との間に配置した少なくとも1個の第2屈曲構体であって、前記少なくとも1個の第2屈曲構体は、前記第2コンポーネントを、前記回路板に対して移動させることができる少なくとも1個の曲線状部材を有する、該少なくとも1個の第2屈曲構体を備える、透析システム。
〔20〕
〔17〕記載の透析システムにおいて、さらに、前記第2コンポーネントに取り付けた第1内部フレームであって、前記第2コンポーネントに取り付けた頂部プレートを有する、該第1内部フレームと、リザーバユニットを摺動可能に受け入れるよう構成した少なくとも2個の軌道、及び前記リザーバユニットの接触プレートに物理的及び電気的に接触するよう構成した複数個の電気接点素子を有するプレートとを備える、透析システム。
Claims (22)
- 透析装置内部の荷重を懸架する懸架システムであって、
複数の第1部材を有するフレームであって、その周りに前記透析装置の一部が形成される構体を画定する該フレームと、
第1コネクタによって前記複数の第1部材の少なくとも1つに取り付けられた頂部部材と、
第2コネクタによって複数の第2部材に取り付けられた底部部材であって、該複数の第2部材は流体容器、及び前記頂部部材と前記底部部材との間に配置された回路板を懸架するように構成されており、前記頂部部材、前記底部部材、及び前記回路板は、前記頂部部材及び前記底部部材を介して荷重が前記フレームに移動し、前記回路板に荷重がかかるのを回避するように構成されている、前記底部部材とを備える懸架システム。 - 前記頂部部材は複数の第1磁石を更に有し、前記底部部材は複数の第2磁石を更に有し、前記複数の第1磁石及び前記複数の第2磁石は、前記システム内において磁場を生成する、請求項1に記載の懸架システム。
- 前記回路板は、前記底部部材から懸架された流体容器による荷重がかけられたときに、前記回路板周りの前記磁場の感知された変位に基づく電圧を出力するように構成された複数のセンサと、前記電圧出力に基づく重量測定値を出力するプロセッサとを更に備える、請求項2に記載の懸架システム。
- 前記複数の第1磁石は、前記複数の第2磁石と同一数の磁石を備える、請求項2又は3に記載の懸架システム。
- 前記磁石はネオジウム磁石を有し、前記磁石は前記システムの組付け前に所定時間の期間にわたり加熱され、熱とともに時間の経過で自然に生ずる不可逆磁気損失に対する処理を行う、請求項2乃至4のいずれか一項に記載の懸架システム。
- 前記複数の第2部材は、前記流体容器を摺動可能に受け入れるように構成した少なくとも2つの軌道を有する、請求項1乃至5のいずれか一項に記載の懸架システム。
- 前記少なくとも2つの軌道の各々は、前記透析装置の前後方向軸線に沿って延在し、前端及び後端を有し、前記複数の第2部材は、前記少なくとも2つの軌道の前記後端に連結された背面プレートを更に有する、請求項6に記載の懸架システム。
- 前記頂部部材に取り付けられる少なくとも1つの屈曲構体を更に有し、該少なくとも1つの屈曲構体は、前記頂部部材と前記回路板との間に配置され、前記回路板と物理的に接続されており、前記少なくとも1つの屈曲構体は、前記頂部部材が前記回路板に対し、また前記底部部材と歩調を合わせて移動するのを可能にする、少なくとも1つの屈曲部材を有する、請求項1乃至7のいずれか一項に記載の懸架システム。
- 前記底部部材に取り付けられた少なくとも1つの屈曲構体を更に有し、前記少なくとも1つの屈曲構体は、前記底部部材と前記回路板との間に配置され、前記回路板と物理的に接続されており、前記少なくとも1つの屈曲構体は、前記底部部材が前記回路板に対し、また前記頂部部材と歩調を合わせて移動するのを可能にする、少なくとも1つの屈曲部材を有する、請求項8に記載の懸架システム。
- 前記頂部部材に取り付けられた前記少なくとも1つの屈曲構体は、屈曲リングであり、前記少なくとも1つの屈曲部材は曲線状アームであり、前記底部部材に取り付けられた前記少なくとも1つの屈曲構体は屈曲リングであり、前記少なくとも1つの屈曲部材は曲線状アームである、請求項9に記載の懸架システム。
- 各屈曲リングは、前記荷重が懸架されると前記リングの中心部の周りで同一平面内で変位可能な3本の曲線状アームを有する、請求項10に記載の懸架システム。
- 前記頂部部材と前記回路板との間に配置された付加的な屈曲リング、及び前記底部部材と前記回路板との間に配置された付加的な屈曲リングを有する、請求項10又は11に記載の懸架システム。
- 前記屈曲リングの前記曲線状アームは平行に配置され、前記システムの面外モーメントを最小化する、請求項12に記載の懸架システム。
- 前記システムは、前記少なくとも1つの屈曲リングの各々と前記回路板との間にある少なくとも1つのスペーサ素子を有する、請求項10乃至13のいずれか一項に記載の懸架システム。
- 前記第1コネクタは、前記透析装置の中心を通って延在する垂直軸線に沿う位置において、前記フレームの前記複数の第1部材の少なくとも1つにマウントされるように構成されている、請求項1乃至14のいずれか一項に記載の懸架システム。
- 前記第2コネクタは、前記透析装置の中心を通って延在する垂直軸線に沿う位置において、前記複数の第2部材に取り付けられるように構成されている、請求項1乃至15のいずれか一項に記載の懸架システム。
- 前記回路板は更に銅を有し、前記銅は、前記システムから懸架されている前記荷重の機械的振動を磁気的に減衰するように構成され、前記底部部材に取り付けられている、請求項1乃至16のいずれか一項に記載の懸架システム。
- 前記底部部材を前記頂部部材に固定し、これによって前記頂部部材と前記底部部材が前記回路板と歩調を合わせて、また前記回路板に対して移動可能である、第3コネクタを更に有する、請求項1乃至17のいずれか一項に記載の懸架システム。
- 透析装置内部で荷重を懸架する懸架方法であって、前記懸架方法は、
前記透析装置の垂直軸線に沿うポイントに取り付ける懸架システムを準備するステップであって、前記システムは、
複数の第1部材を有するフレームであって、その周りに前記透析装置の一部が形成される構体を画定する、該フレームと、
前記フレームの前記複数の第1部材の少なくとも1つに頂部部材を取り付けるための第1コネクタを有する、該頂部部材と、
流体容器を懸架するように構成された複数の第2部材に底部部材を取り付けるための第2コネクタを有する、該底部部材と、
前記頂部部材と前記底部部材との間に配置された回路板とを備え、
前記頂部部材、前記底部部材、及び前記回路板は前記フレームに取り付けられ、これによって前記底部部材にかかる荷重が前記回路板にかかることなく、前記底部部材及び前記頂部部材を介して直接前記フレームに移動する、前記ステップと、
流体容器を前記複数の第2部材に配置することによって、前記システムの前記底部部材に荷重をかけるステップとを含む懸架方法。 - 前記頂部部材は複数の第1磁石を更に有し、前記底部部材は複数の第2磁石を更に有し、前記複数の第1磁石及び前記複数の第2磁石は、前記システム内において磁場を生成し、前記回路板は、前記底部部材から懸架された流体容器による荷重がかけられたときに、前記回路板周りの前記磁場の感知された変位に基づく電圧を出力するように構成された複数のセンサと、前記電圧出力に基づく重量測定値を出力するプロセッサとを更に備え、前記流体容器の内容物の重量を算出するためにセンサの前記電圧出力を用いるステップを更に含む、請求項19に記載の荷重を懸架する懸架方法。
- 前記懸架システムは、
前記頂部部材に取り付けられる少なくとも1つの屈曲構体であって、前記少なくとも1つの屈曲構体は、前記頂部部材と前記回路板との間に配置され、前記回路板と物理的に接続されており、前記少なくとも1つの屈曲構体は、前記頂部部材が前記回路板に対し、また前記底部部材と歩調を合わせて移動するのを可能にする、少なくとも1つの屈曲部材を有する、前記少なくとも1つの屈曲構体と、
前記底部部材に取り付けられる少なくとも1つの屈曲構体であって、前記少なくとも1つの屈曲構体は、前記底部部材と前記回路板との間に配置され、前記回路板と物理的に接続されており、前記少なくとも1つの屈曲構体は、前記底部部材が前記回路板に対し、また前記頂部部材と歩調を合わせて移動するのを可能にする、少なくとも1つの屈曲部材を有する、前記少なくとも1つの屈曲構体とを更に有する、請求項20に記載の荷重を懸架する懸架方法。 - 前記懸架システムは、前記底部部材を前記頂部部材に固定し、これによって前記頂部部材と前記底部部材が前記回路板と歩調を合わせて、また前記回路板に対して移動可能である第3コネクタを更に有する、請求項21に記載の荷重を懸架する懸架方法。
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