JP6149108B2 - セリア系複合研磨粉およびその製造方法 - Google Patents

セリア系複合研磨粉およびその製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP6149108B2
JP6149108B2 JP2015518841A JP2015518841A JP6149108B2 JP 6149108 B2 JP6149108 B2 JP 6149108B2 JP 2015518841 A JP2015518841 A JP 2015518841A JP 2015518841 A JP2015518841 A JP 2015518841A JP 6149108 B2 JP6149108 B2 JP 6149108B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ceria
powder
magnesium
based composite
polishing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2015518841A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2015528833A (ja
Inventor
ホアン,シャオウェイ
ユー,イン
ロン,ジーチー
ワン,リアンシ
ツゥイ,ダーリー
ヨンカー ホウ
ヨンカー ホウ
ツゥイ,メイシェン
Original Assignee
グリレム アドヴァンスド マテリアルズ カンパニー,リミテッド
グリレム アドヴァンスド マテリアルズ カンパニー,リミテッド
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by グリレム アドヴァンスド マテリアルズ カンパニー,リミテッド, グリレム アドヴァンスド マテリアルズ カンパニー,リミテッド filed Critical グリレム アドヴァンスド マテリアルズ カンパニー,リミテッド
Publication of JP2015528833A publication Critical patent/JP2015528833A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6149108B2 publication Critical patent/JP6149108B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09GPOLISHING COMPOSITIONS; SKI WAXES
    • C09G1/00Polishing compositions
    • C09G1/02Polishing compositions containing abrasives or grinding agents

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
  • Compounds Of Alkaline-Earth Elements, Aluminum Or Rare-Earth Metals (AREA)
  • Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)

Description

本発明はセリア系複合研磨粉およびその製造方法に関し、希土類材料分野に属する。
前世紀の40年代から、セリア含有量の高い希土類研磨粉は酸化鉄の代わりにガラス研磨(polishing)に用いられるようになり、ガラス研磨工程において重要な工程材料の一つとなっている。伝統的な研磨粉に比べて、希土類研磨粉は研磨速度が速く、表面仕上げ度(surface finish)が高く、寿命が長いという利点を有するとともに、研磨の品質と作業環境を改善することができる。希土類研磨粉はその独特の化学機械的機能原理による高い研磨効率をもって、ガラス研磨材料の最も好適な選択として、ミラー、光学素子(レンズ、プリズム)、カラーテレビのスクリーン、フラットパネルディスプレイ用電子ガラス、ウエハ、ディスクガラス基板などの製品の研磨加工に広く利用されている。
セリア(CeO)は研磨粒子としての性能は、その化学的構成、純粋度に関わるばかりでなく、CeOの結晶形態や、粒度分布、粒子サイズなどの指標に関係があるので、CeOの製造工程におけるコントロールに対してより厳しく求められている。したがって、形態の真円度が高く、粒度分布が均一で、研磨能力が強いCeO研磨材の開発は特に重要なことになる。現在の、CeOの製造技術について多く報道されているが、顆粒の塊が多く、粒度が均一ではなく、性能の安定性が悪いなどの問題が多く存在し、CeO研磨材の性能に影響をもたらしている。
研磨工程において、最も有害なのは、あまり固い粒子により機械の損害になり、さらに研磨表面でかき傷ができ、被研磨物の表面の欠陥度や粗度が増加されることである。弱い凝集塊の粒子でも被研磨物の表面品質に影響を与えることがある。
本発明は、研磨性能が優れ、研磨工程をするときに研磨液における顆粒の分布が均一で、凝集塊が生じないセリア系複合研磨粉を提供することを目的とする。
本発明のもう1つの目的は、前記セリア系複合研磨粉の製造方法を提供することである。
本発明の一側面によると、マグネシウムを、酸化マグネシウムで計算して0.005wt%〜5wt%含有するセリア系複合研磨粉を提供する。
さらに、マグネシウムの含有量は、酸化マグネシウムで計算して0.01wt%〜2wt%である。
さらに、セリウム以外の希土元素の少なくとも一種類を含有する。
さらに、フッ素を0.2wt%〜8wt%含有する。
さらに、リン元素を0.1wt%〜5wt%含有する。
さらに、セリアの含有量は40wt%〜99.99wt%である。
さらに、セリア系複合研磨粉のメジアン粒径D50は0.02〜5μmで、好ましくは0.5〜3μmである。
本発明のもう一つの側面によると、セリア、マグネシウム及びセリウム以外の希土元素の少なくとも一種類を含むセリア系複合研磨粉であって、セリアの含有量は40wt%〜99.99wt%で、マグネシウム元素の含有量は、酸化マグネシウムで計算して0.005wt%〜5wt%で、セリウム以外の希土元素の少なくとも一種類の含有量は0〜59.995wt%であるセリア系複合研磨粉を提供する。
さらに、マグネシウムの含有量は、酸化マグネシウムで計算して0.01wt%〜2wt%である。
さらに、フッ素を0.2wt%〜8wt%含有する。
さらに、リンを0.1wt%〜5wt%含有する。
さらに、セリア系複合研磨粉のメジアン粒径D50は0.02〜5μmで、好ましくは0.5〜3μmである。
本発明のもう一つの側面によると、上記セリア系複合研磨粉の製造方法を提供する。当該製造方法は、(1)研磨粉の主要成分であるセリウムを含有する塩溶液をむらなく混合するステップと、(2)炭酸水素マグネシウム溶液を沈殿剤として、ステップ(1)の混合溶液にむらなく混合させ、スラリーを得るステップと、(3)ステップ(2)のスラリーを30℃〜90℃で保温しながら0〜48hエイジングし、濾過して研磨粉の前駆体粉体を得るステップと、(4)前駆体粉体を600℃〜1000℃でバーニングされて、得られる粉体に対する分散、選別の後処理を経て、セリア系複合研磨粉製品を得るステップとを含む。
さらに、ステップ(1)における塩溶液は硝酸塩、硫酸塩又は塩化物溶液である。
さらに、ステップ(2)における炭酸水素マグネシウムの水溶液の濃度は、酸化マグネシウムで計算して5〜25g/Lである。
さらに、ステップ(2)における沈殿剤の使用量は、理論量の100〜130%であり、沈殿温度は15℃〜30℃で、撹拌時間は0.5〜5hである。
さらに、ステップ(2)の沈殿工程において、混合溶液へ界面活性剤であるポリエチレングリコールまたはエチレングリコールを添加し、むらなく混合させ、界面活性剤の添加量は、研磨粉の理論重量の0.1〜5.0wt%である。
さらに、ステップ(2)またはステップ(3)においてフッ素またはリンを含有する化合物を添加し、リンを含有する化合物はリン酸またはリン酸塩で、フッ素を含有する化合物はフッ化アンモニウム、フッ化水素酸、フッ化ケイ素酸ナトリウム及びフッ化ナトリウムの中の少なくとも一つである。
さらに、沈殿及びロースト工程にて生成されたCOが収集し回収され、炭酸水素マグネシウムの水溶液の製造に用いられる。
本発明のもう一つの側面によると、上記セリア系複合研磨粉の製造方法を提供する。当該製造方法は(1)研磨粉の主要成分であるセリウムを含有する塩溶液をむらなく混合し、混合溶液を得るステップと、(2)フッ素イオン及び/又はリン酸塩基を含有する水溶液を底層水として、まずフッ素または/およびリンと反応するのに必要とする理論量の50%〜100%の炭酸水素マグネシウムの水溶液を添加し、それからステップ(1)の混合溶液と炭酸水素マグネシウムの水溶液とを並流で同時に加入し、混合し反応させてスラリーを得るステップと、(3)ステップ(2)のスラリーを30℃〜90℃で保温しながら0〜48hエイジングし、濾過、洗浄して研磨粉の前駆体粉体を得るステップと、(4)前駆体粉体を600℃〜1000℃でバーニングされて、得られる粉体に対する分散、選別処理を経て、セリア系複合研磨粉製品を得るステップとを含む。
さらに、ステップ(1)における塩溶液は硝酸塩、硫酸塩または塩化物溶液で、塩溶液の稀土濃度はREOで計算して10〜300g/Lである。
さらに、ステップ(2)における炭酸水素マグネシウムの水溶液の濃度は酸化マグネシウムで計算して5〜25g/Lである。
さらに、ステップ(2)における炭酸水素マグネシウム溶液の合計使用量は理論量の100〜130%で、スラリーのpH値は5〜8であり、沈殿温度は15℃〜50℃で、撹拌時間は0.5〜5hである。
さらに、ステップ(2)の沈殿工程において、混合溶液へ界面活性剤であるポリエチレングリコールまたはエチレングリコールを添加し、むらなく混合させ、界面活性剤の添加量は、研磨粉の理論重量の0.1〜5.0wt%である。
さらに、ステップ(2)におけるリン酸塩基イオンを含有する水溶液はリン酸、リン酸ナトリウム、リン酸水素ナトリウム、リン酸アンモニウム、リン酸水素アンモニウム溶液の少なくとも一種類で、フッ素イオンを含有する溶液はフッ化アンモニウム、フッ化水素酸、フッ化ケイ素酸ナトリウム及びフッ化ナトリウムの水溶液の中の少なくとも一つである。
さらに、ステップ(2)及びステップ(4)で生成したCOは収集し、回収され、炭酸水素マグネシウムの水溶液の製造に用いる。
本発明の技術によると、セリア系複合研磨粉に微量のマグネシウムが導入され、研磨粉の研磨性能が大いに高められ、研磨粉のサスペンション性能が上昇し、研磨スラリーにおける顆粒の分布が均一ではなく凝集顆粒が生成されることが回避されている。
本発明は炭酸水素マグネシウムを沈殿剤としてセリア系複合研磨粉の前駆体(炭酸セリウムなど)を製造し、沈殿工程において先に形成された少量なフッ化マグネシウムまたは/及びマグネシウムのリン酸塩は、研磨粉の結晶度を高め、球状化を促進し、粒度の分布が狭く、研磨粉スラリーの分散性とサスペンション性能を向上でき、研磨粉の研磨腐食能力を強化させ、研磨の引っ掻き傷率を低下させることができる。
上記製造工程によると、最終的には、従来の製品とは異なる新しい研磨粉材料が得られ、当該セリア系稀土研磨粉には、マグネシウムを含むとともに、フッ素や、リンの少なくとも一種類を含む。当該セリウム系研磨粉に含まれるフッ素または/及びリンはマグネシウムと結合して、優れた相乗効果を有し、研磨粉の研磨腐食能力をさらに強化させ、球状化や分散性を促進し、粒度を減少することができ、研磨粉のスラリー製造のサスペンション性と均一性を向上させ、研磨の引っ掻き傷率を減少し、研磨粉の総合的な利用性能を高めることができる。
本発明は、炭酸水素マグネシウムの水溶液を沈殿剤としてセリア系研磨粉を製造し、環境に優しく、アンモニア態窒素の排出がないとともに、沈殿やロースト工程で生成したCO2が回収し利用され、低炭素排出を実現することができる。
なお、互いに衝突がない場合、本出願における実施例および実施例における特徴は互いに組み合わせることができる。以下、実施例を結合して本発明を詳しく説明する。
本発明の代表的な実施形態によると、マグネシウムを、酸化マグネシウムで計算して0.005wt%〜5wt%含有するセリア系複合研磨粉を提供する。該セリア系複合研磨粉の製造方法は、(1)研磨粉の主要成分であるセリウムを含有する塩溶液をむらなく混合するステップと、(2)炭酸水素マグネシウムの水溶液を沈殿剤として、ステップ(1)の混合溶液にむらなく混合させ、スラリーを得るステップと、(3)ステップ(2)のスラリーを30℃〜90℃で保温しながら0〜48hエイジングし、濾過し洗浄して研磨粉の前駆体粉体を得るステップと、(4)前駆体粉体を600℃〜1000℃でバーニングされて、得られる粉体に対する分散、選別の後処理を経て、セリア系複合研磨粉製品を得るステップとを含む。
前記セリア系複合研磨粉に微量のマグネシウム元素が導入され、マグネシウムにより研磨粉スラリーにおけるZata電位をよりマイナスになり、研磨粉スラリーの凝集性を低減させ、マグネシウム元素を添加することで、硬い粒子を消去できる。かつ2価マグネシウムにより4価セリウムの研磨粉が被加工材とより吸着しやすくなり、研磨粉の性能は研磨粉と被加工材との吸着に強く依存するため、両者の緊密な吸着は、研磨効果を効果的に改善することができる。また、一部のセリウムイオンがマグネシウムイオンに置換され、そのラティスが一部歪みを発生し、その化学的活性が増加することになる。マグネシウムのドーピングで、研磨粉の表面の球状化を高め、研磨粉の研磨性能を向上させることができ、また、マグネシウム元素の添加により、研磨粉のサスペンション性能を改善でき、研磨スラリーにおける顆粒の分布が均一でなく凝集顆粒を生じることを避けることができる。
反応において、過量な炭酸水素マグネシウムを添加し、加熱することで、過量な炭酸水素マグネシウムを、炭酸マグネシウム沈殿として分解させ、炭酸マグネシウムを炭酸セリウム沈殿に均一に分布させ、ローストして所定量の酸化マグネシウムを含有するセリア系複合研磨粉が得られる。
様々な被研磨物に対して、セリアの含有量が異なる複合研磨粉を採用することができる。そのセリアの含有量は、40wt%〜99.99wt%である。
前記セリア系複合研磨粉のメジアン粒径D50は0.02〜5μmで、好ましくは0.5〜3μmである。
前記ステップ(1)における塩溶液は硝酸塩、塩酸塩、または硫酸塩溶液である。
前記ステップ(2)における炭酸水素マグネシウム溶液の濃度は、酸化マグネシウムで計算して5〜25g/Lである。
前記ステップ(2)における沈殿剤の使用量は、理論量の100〜130%であり、沈殿温度は15℃〜30℃で、撹拌時間は0.5〜5hである。
前記ステップ(2)の沈殿工程において、混合溶液へポリエチレングリコールまたはエチレングリコールなどの界面活性剤を添加剤として添加し、むらなく混合させ、界面活性剤の添加量は、研磨粉の理論重量の0.1〜5.0wt%である。
前記ステップ(2)において、リン酸塩基イオンを含有する水溶液はリン酸またはリン酸塩で、前記フッ素イオンを含有する水溶液はフッ化アンモニウム、フッ化水素酸、フッ化ケイ素酸ナトリウム及びフッ化ナトリウム溶液の中の少なくとも一つである。
本発明のある代表的な実施形態によると、セリア、マグネシウム元素及びセリウム以外の希土元素の少なくとも一種類を含むセリア系複合研磨粉であって、セリアの含有量は40wt%〜99.99wt%で、マグネシウム元素の含有量は、酸化マグネシウムで計算して0.005wt%〜5wt%で、セリウム以外の希土元素の少なくとも一種類の含有量は0〜59.995wt%であるセリア系複合研磨粉を提供する。該セリア系複合研磨粉の製造方法は、(1)研磨粉の主要成分であるセリウムを含有する塩溶液をむらなく混合し、混合溶液を得るステップと、(2)フッ素イオン及び/又はリン酸塩基イオンを含有する水溶液を底層水として、まずフッ素または/およびリンと反応するのに必要とする理論量の50%〜100%の炭酸水素マグネシウム溶液を添加し、それからステップ(1)の混合溶液と炭酸水素マグネシウムの水溶液とを並流で同時に加入し、混合し反応させてスラリーを得るステップと、(3)ステップ(2)のスラリーを30℃〜90℃で保温しながら0〜48hエイジングし、濾過し洗浄して研磨粉の前駆体粉体を得るステップと、(4)前駆体粉体を600℃〜1000℃でバーニングされて、得られる粉体に対する分散、選別の後処理を経て、セリア系複合研磨粉製品を得るステップとを含む。
前記セリア系複合研磨粉に微量のマグネシウム元素が導入され、マグネシウムにより研磨粉スラリーにおけるZata電位をよりマイナスになり、研磨粉スラリーの凝集性を低減させ、マグネシウム元素を添加することで、硬い粒子を消去できる。かつ2価マグネシウムにより4価セリウムの研磨粉が被加工材とより吸着しやすくなり、研磨粉の性能は研磨粉と被加工材との吸着に強く依存するため、両者の緊密な吸着は、研磨効果を効果的に改善することができる。また、一部のセリウムイオンがマグネシウムイオンに置換され、そのラティスが一部歪みを発生し、その化学的活性が増加することになる。マグネシウムのドーピングで、研磨粉の表面の球状化を高め、研磨粉の研磨性能を向上させることができ、また、マグネシウム元素の添加により、研磨粉のサスペンション性能を改善でき、研磨スラリーにおける顆粒の分布が均一でなく凝集顆粒を生じることを避けることができる。前記セリア系複合研磨粉のメジアン粒径D50は0.02〜5μmで、好ましくは0.5〜3μmであり、粒度分布(D90−D10)/2D50≦1で、研磨粉の粒度分布が狭く、研磨の引っ掻き傷率の低減に有利である。
また、上記方法によると、炭酸水素マグネシウムを沈殿剤としてセリア系複合研磨粉の前駆体(炭酸セリウムなど)を製造し、沈殿工程において先に形成された少量なフッ化マグネシウムまたは/及びマグネシウムのリン酸塩は、研磨粉の結晶度を高め、球状化を促進し、粒度の分布が狭く、研磨粉スラリーの分散性とサスペンション性能を向上でき、研磨粉の研磨腐食能力を強化させ、研磨の引っ掻き傷率を低下させることができる。
反応において、過量な炭酸水素マグネシウムを添加し、加熱することで、過量な炭酸水素マグネシウムを、炭酸マグネシウム沈殿として分解させ、炭酸マグネシウムを炭酸セリウム沈殿に均一に分布させ、ローストをして所定量の酸化マグネシウムを含有するセリア系複合研磨粉が得られる。
ステップ(1)における塩溶液は硝酸塩、硫酸塩または塩化物溶液で、塩溶液の稀土濃度はREOで計算して10〜300g/Lであることが好ましい。
ステップ(2)における炭酸水素マグネシウム溶液の濃度は酸化マグネシウムで計算して5〜25g/Lであることが好ましい。
ステップ(2)における沈殿剤の使用量は理論量の100〜130%で、スラリーのpH値は5〜8であり、沈殿温度は15℃〜50℃で、撹拌時間は0.5〜5hであることが好ましい。炭酸水素マグネシウムでセリア−ジルコニアを沈殿する場合、pH値は5〜8にすることができる。
ステップ(2)の沈殿工程において、混合溶液へ界面活性剤であるポリエチレングリコールまたはエチレングリコールを添加し、むらなく混合させ、界面活性剤の添加量は、研磨粉の理論重量の0.1〜5.0wt%であることが好ましい。
ステップ(2)におけるリン酸塩基イオンを含有する水溶液はリン酸、リン酸ナトリウム、リン酸水素ナトリウム、リン酸アンモニウム、リン酸水素アンモニウム溶液の少なくとも一種類で、その中に、特にリン酸アンモニウム、リン酸水素アンモニウムはマグネシウムイオンと反応して安定したリン酸マグネシウムアンモニウム沈殿を生成でき、フッ素イオンを含有する溶液はフッ化アンモニウム、フッ化水素酸、フッ化ケイ素酸ナトリウム及びフッ化ナトリウムの水溶液の中の少なくとも一つである。
ステップ(2)及びステップ(4)で生成したCOは収集し回収され、炭酸水素マグネシウム溶液の製造に用いる。
以下、実施例を参照して、本発明をさらに説明する。
実施例1
(1)塩化ランタンセリウム混合溶液と炭酸水素マグネシウム溶液とを均一な速度で同時に反応装置に加入し、少量なフッ化アンモニウムを添加する。炭酸水素マグネシウムの加入量は、理論量の110%で、反応温度は25℃で、3h撹拌して、むらなく混合させて、スラリーが得られる。
(2)ステップ(1)のスラリーを60℃で保温しながら12hエージングして、濾過や、洗浄、乾燥を経て、研磨粉の前駆体粉体が得られる。
(3)上記前駆体粉体を900℃で4hバーニングして、得られる粉体に対する分散、選別の後処理を経て、セリア系複合研磨粉製品が得られる。その中のセリアの含有量は63.3wt%で、酸化マグネシウムの含有量は0.01wt%、フッ素の含有量は2.2wt%で、当該研磨粉のD50は2.6μmである。
得られるセリア系複合研磨粉をスラリーに調製して(pulp conditioning)、平らなガラス検体に対して研磨実験を行った結果、その研磨腐食量は0.48mg/minに達し、同種類製品に比べて優れた表面仕上げ度が示されている。
比較実施例1(従来の工程による製造)
(1)塩化ランタンセリウム混合溶液と炭酸水素アンモニウムの水溶液とを均一な速度で同時に反応装置に加入し、少量なフッ化アンモニウムを添加する。炭酸水素アンモニウムの加入量は、理論量の110%で、反応温度は25℃で、3h撹拌して、むらなく混合させて、スラリーが得られる。
(2)ステップ(1)のスラリーを60℃で保温しながら12hエージングして、濾過や、洗浄、乾燥を経て、研磨粉の前駆体粉体が得られる。
(3)上記前駆体粉体を900℃で4hバーニングして、得られる粉体に対する分散、選別の後処理を経て、セリア系複合研磨粉製品が得られる。その中のセリアの含有量は63.3wt%で、酸化マグネシウムの含有量は0wt%、フッ素の含有量は2.2wt%で、当該研磨粉のD50は3.5μmである。
得られるセリア系複合研磨粉をスラリーに調製して、平らなガラス検体に対して研磨実験を行った結果、その研磨腐食量は0.43mg/minに達し、その表面仕上げ度が同種類製品に近いことが示されている。
実施例2
(1)塩化セリウム、塩化ランタンを所定の比率で混合溶液に調製し、稀土含有量はREO(稀土酸化物)で計算して120g/Lである。
(2)炭酸水素マグネシウムの水溶液を沈殿剤として、濃度(酸化マグネシウムで計算)15g/Lの沈殿剤を均一な速度でステップ(1)の混合溶液に加入し、沈殿させる。炭酸水素マグネシウムの加入量は理論量の105%で、反応温度は20℃、0.5h撹拌して、スラリーが得られる。スラリーに研磨粉の理論重量の2%のポリエチレングリコールを添加してむらなく混合させる。
(3)ステップ(2)の混合スラリーを50℃で保温しながら24hエイジングし、濾過や、洗浄、乾燥を経て研磨粉の前駆体粉体が得られる。
(4)上記前駆体粉体を1000℃で3hバーニングされて、得られる粉体に対する分散、選別の後処理を経て、セリア系複合研磨粉製品が得られる。その中のセリアの含有量は62wt%で、酸化マグネシウムの含有量は0.005wt%、当該研磨粉のD50は4.8μmである。
実施例3
(1)塩化セリウム、塩化ランタンを所定の比率で混合溶液に調製し、稀土含有量はREOで計算して150g/Lである。
(2)炭酸水素マグネシウム溶液を沈殿剤として、濃度(酸化マグネシウムで計算)5g/Lの沈殿剤を均一な速度でステップ(1)の混合溶液に加入し、沈殿させる。炭酸水素マグネシウムの加入量は理論量の105%で、反応温度は20℃、3h撹拌して、スラリーが得られる。スラリーに研磨粉の理論重量の5%のポリエチレングリコールを添加してむらなく混合させ、濾過や、洗浄、乾燥を経て研磨粉の前駆体粉体が得られる。
(3)上記前駆体粉体を950℃で4hバーニングされて、得られる粉体に対する分散、選別の後処理を経て、セリア系複合研磨粉製品が得られる。その中のセリアの含有量は62wt%で、酸化マグネシウムの含有量は0.05wt%、当該研磨粉のD50は2.5μmである。
実施例4
(1)炭酸水素マグネシウム溶液(酸化マグネシウムで計算して20g/Lである)と塩化セリウムランタン混合溶液(REOで計算して100g/L)とを所定の速度で連続して反応釜に加入し、炭酸水素マグネシウムの加入量は理論量の115%で、反応温度は25℃で、材料が反応釜に10min留まってから、熟成タンクに入り、70℃で2hエージングしてから、濾過や、洗浄、乾燥を経て研磨粉の前駆体粉体が得られる。
(2)上記前駆体粉体を700℃で8hバーニングされて、得られる粉体に対する分散、選別を経て、セリア系複合研磨粉製品が得られる。その中のセリアの含有量は60wt%で、酸化マグネシウムの含有量は0.5wt%、当該研磨粉のD50は1.2μmである。
実施例5
(1)炭酸水素マグネシウム溶液(酸化マグネシウムで計算して15g/Lである)と塩化セリウム混合溶液(REOで計算して100g/L)とを所定の速度で連続して反応釜に加入し、炭酸水素マグネシウムの加入量は理論量の102%で、反応温度は35℃で、材料が反応釜に10min留まってから、熟成タンクに入り、60℃で5hエージングしてから、濾過や、洗浄、乾燥を経て研磨粉の前駆体粉体が得られる。
(2)上記前駆体粉体を850℃で6hバーニングされて、得られる粉体に対する分散、選別を経て、セリア系複合研磨粉製品が得られる。その中のセリアの含有量は99.99wt%で、酸化マグネシウムの含有量は0.005wt%、当該研磨粉のD50は2.3μmである。
実施例6
(1)塩化ランタンセリウムプラセオジムネオジム混合溶液と炭酸水素マグネシウム溶液とを所定の速度で同時に反応装置に加入するとともに、少量なフッ化水素を加入し、炭酸水素マグネシウムの加入量は理論量の130%で、反応温度は15℃、2h撹拌してスリラーが得られる。
(2)ステップ(1)のスラリーを30℃で保温しながら48hエイジングし、濾過や、乾燥を経て研磨粉の前駆体粉体が得られる。
(3)上記前駆体粉体を950℃で6hバーニングされて、得られる粉体に対する分散、選別の後処理を経て、セリア系複合研磨粉製品が得られる。その中のセリアの含有量は40.5wt%で、酸化マグネシウムの含有量は4.8wt%、フッ素の含有量は0.2wt%で、当該研磨粉のD50は3.8μmである。
実施例7
(1)塩化セリウム溶液と炭酸水素マグネシウムの水溶液とを均一な速度で同時に反応装置に加入し、反応温度は55℃で、2h撹拌してから、フッ化ナトリウムを加入し、混合させてスリラーが得られる。
(2)スラリーを60℃で保温しながら5hエイジングし、濾過や、乾燥を経て研磨粉の前駆体粉体が得られる。
(3)上記前駆体粉体を800℃で4hバーニングされて、得られる粉体に対する分散、選別の後処理を経て、セリア系複合研磨粉製品が得られる。その中のセリアの含有量は96.7wt%で、プラセオジミアの含有量は1wt%で、酸化マグネシウムの含有量は1wt%、フッ素の含有量は1.2wt%で、当該研磨粉のD50は3.3μmである。
実施例8
(1)炭酸水素マグネシウムを沈殿剤として、その使用量は理論量の110%で、硫酸セリウム溶液を沈殿剤に加入して反応させてスリラーが形成される。
(2)ステップ(1)のスラリーを90℃で保温しながら2hエイジングし、濾過や、洗浄、乾燥を経て研磨粉の前駆体粉体が得られる。
(3)上記前駆体粉体を600℃で10hバーニングされて、得られる粉体に対する分散、選別の後処理を経て、セリア系複合研磨粉製品が得られる。その中のセリアの含有量は99.9wt%で、酸化マグネシウムの含有量は1.15wt%で、当該研磨粉のD50は1.2μmである。
実施例9
(1)硝酸セリウム、硝酸ランタンを所定の比率で混合溶液に調製する(REOで計算して200g/L)。
(2)炭酸水素マグネシウム溶液(酸化マグネシウムで計算して12g/L)を沈殿剤として、その使用量は理論量の115%であり、それをステップ(1)の混合溶液と共沈法で反応させてスラリーが得られ、当該スラリーに研磨粉理論重量の3.1%の界面活性剤であるエチレングリコールを添加して、むらなく混合させる。
(3)ステップ(2)の混合スリラーを80℃で保温しながら5hエージングして、その中にフッ化アンモニウムを添加し、むらなく混合させ、濾過や乾燥してから、研磨粉の前駆体粉体が得られる。
(4)前記前駆体粉体を750℃で4hバーニングして、得られる粉体に対する分散、選別の後処理を経て、セリア系複合研磨粉製品が得られる。その中のセリアの含有量は70wt%で、酸化マグネシウムの含有量は1.5wt%で、フッ素の含有量は6.8wt%で、当該研磨粉のD50は0.92μmである。
実施例10
(1)塩化ランタンセリウムプラセオジム混合溶液と炭酸水素マグネシウム溶液とを所定の速度で同時に反応装置に加入するとともに、少量なリン酸を加入し、炭酸水素マグネシウムの加入量は理論量の116%で、反応温度は25℃、1h撹拌する。
(2)ステップ(1)の混合スラリーを60℃で保温しながら2hエイジングし、濾過や、洗浄、乾燥を経て研磨粉の前駆体粉体が得られる。
(3)前記前駆体粉体を850℃で4hバーニングして、得られる粉体に対する分散、選別の後処理を経て、セリア系複合研磨粉製品が得られる。その中のセリアの含有量は60.5wt%で、酸化マグネシウムの含有量は0.3wt%で、リンの含有量は0.2wt%で、当該研磨粉のD50は1.8μmである。
実施例11
(1)塩化ランタンセリウムプラセオジム混合溶液と炭酸水素マグネシウム溶液とを所定の速度で同時に反応装置に加入し、炭酸水素マグネシウムの加入量は理論量の110%で、反応温度は25℃、1h撹拌してスラリーが得られる。
(2)ステップ(1)で得られたスラリーに少量なリン酸ナトリウム加入し、むらなく混合させ、60℃で保温しながら3hエイジングし、濾過や、洗浄、乾燥を経て研磨粉の前駆体粉体が得られる。
(3)前記前駆体粉体を950℃で4hバーニングして、得られる粉体に対する分散、選別の後処理を経て、セリア系複合研磨粉製品が得られる。その中のセリアの含有量は58.5wt%で、酸化マグネシウムの含有量は0.08wt%で、リンの含有量は2.6wt%で、当該研磨粉のD50は2.5μmである。
実施例12
(1)塩化ランタンセリウム混合溶液と炭酸水素マグネシウム溶液とを所定の速度で同時に反応装置に加入し、炭酸水素マグネシウムの加入量は理論量の110%で、反応温度は25℃、1h撹拌してスラリーが得られる。
(2)ステップ(1)で得られたスラリーに少量なフッ化ナトリウム加入し、むらなく混合させ、60℃で保温しながら3hエイジングし、濾過や、洗浄、乾燥を経て研磨粉の前駆体粉体が得られる。
(3)前記前駆体粉体を800℃で4hバーニングして、得られる粉体に対する分散、選別の後処理を経て、セリア系複合研磨粉製品が得られる。その中のセリアの含有量は63.5wt%で、酸化マグネシウムの含有量は0.03wt%で、フッ素の含有量は3.6wt%で、当該研磨粉のD50は1.5μmである。
比較実施例2(従来の工程による製造)
(1)塩化ランタンセリウム混合溶液(稀土濃度はREOで計算して90g/Lである)と炭酸水素アンモニウム溶液とを同時に反応装置に加入するとともに、少量なフッ化アンモニウムを加入し、炭酸水素アンモニウムの加入量は理論量の110%で、反応温度は25℃、反応pH値は6.5で、研磨粉理論重量の2%のポリエチレングリコールを加入し、3h撹拌してスラリーが得られる。
(2)ステップ(1)のスラリーを、60℃で保温しながら12hエイジングし、濾過や、洗浄、乾燥を経て研磨粉の前駆体粉体が得られる。
(3)前記前駆体粉体を900℃で4hバーニングして、得られる粉体に対する分散、選別の後処理を経て、セリア系複合研磨粉製品が得られる。その中のセリアの含有量は63.5wt%で、酸化マグネシウムの含有量は0wt%で、フッ素の含有量は2.2wt%で、当該研磨粉のD50は3.5μmで、(D90−D10)/2D50は2.5である。
得られるセリア系複合研磨粉をスラリーに調製して、平らなガラス検体に対して研磨実験を行い、その研磨腐食量は0.43mg/minで、引っ掻き傷率は25%である。
研磨腐食量とは、所定のテスト条件において、被検定の稀土研磨粉サンブルがガラスに対して、単位時間、単位面積における研磨量で、引っ掻き傷率とは、高エネルギーハロゲンランプで観察して、ガラスの引っ掻き傷が表面、裏面のいずれにおいても反射し、かつ引っ掻き傷の長さはガラスの半径以上である場合、当該ガラスが引っ掻き傷が存在すると判断し、引っ掻き傷があるガラスの数と被研磨ガラスの数との比は引っ掻き傷率である。
実施例13
(1)塩化ランタンセリウム混合溶液(稀土濃度はREOで計算して90g/Lである)と炭酸水素マグネシウム溶液(濃度は酸化マグネシウムで計算して10g/Lである)とを同時に反応装置に加入し、炭酸水素マグネシウムの加入量は理論量の110%で、反応温度は25℃、反応pH値は6.5で、研磨粉理論重量の2%のポリエチレングリコールを加入し、3h撹拌してスラリーが得られる。
(2)ステップ(1)のスラリーを、60℃で保温しながら12hエイジングし、濾過や、洗浄、乾燥を経て研磨粉の前駆体粉体が得られる。
(3)前記前駆体粉体を900℃で4hバーニングして、得られる粉体に対する分散、選別の後処理を経て、セリア系複合研磨粉製品が得られる。その中のセリアの含有量は65.3wt%で、酸化マグネシウムの含有量は0.01wt%で、当該研磨粉のD50は3.3μmで、(D90−D10)/2D50は1.78であり、形態は球状に近い。
得られたセリア系複合研磨粉をスラリーに調製して、平らなガラス検体に対して研磨実験を行った結果、その研磨腐食量は0.35mg/minに達し、引っ掻き傷率は18%である。
実施例14
(1)塩化ランタンセリウム混合溶液 (稀土濃度はREOで計算して90g/Lである)と炭酸水素マグネシウム溶液(濃度は酸化マグネシウムで計算して10g/Lである)とを同時に反応装置に加入し、少量なフッ化アンモニウムを加入する。炭酸水素マグネシウムの加入量は理論量の110%で、反応温度は25℃、反応pH値は6.5で、研磨粉理論重量の2%のポリエチレングリコールを加入し、3h撹拌してスラリーが得られる。
(2)ステップ(1)のスラリーを、60℃で保温しながら12hエイジングし、濾過や、洗浄、乾燥を経て研磨粉の前駆体粉体が得られる。
(3)前記前駆体粉体を900℃で4hバーニングして、得られる粉体に対する分散、選別の後処理を経て、セリア系複合研磨粉製品が得られる。その中のセリアの含有量は65.3wt%で、酸化マグネシウムの含有量は0.01wt%で、フッ素の含有量は2.2wt%で、当該研磨粉のD50は2.6μmで、(D90−D10)/2D50は1.66であり、形態は球状に近い。
得られたセリア系複合研磨粉をスラリーに調製して、平らなガラス検体に対して研磨実験を行った結果、その研磨腐食量は0.40mg/minに達し、引っ掻き傷率は15%である。
実施例15
(1)塩化セリウム、塩化ランタンを所定の比率で混合溶液に調製し、稀土含有量はREO(稀土酸化物)で計算して120g/Lである。
(2)炭酸水素マグネシウム溶液を沈殿剤として、濃度(酸化マグネシウムで計算)は15h/Lで、均一な速度でステップ(1)の混合溶液に加入し、沈殿させ、炭酸水素マグネシウムの加入量は理論量の105%で、反応温度は20℃、反応pH値は5で、0.5h撹拌して混合溶液が得られる。
(3)ステップ(2)の混合溶液を50℃まで加熱して、少量なフッ化ケイ素酸ナトリウムを添加し、保温しながら24hエージングして、濾過、洗浄、乾燥してから、研磨粉の前駆体粉体が得られる。
(4)前記前駆体粉体を1000℃で3hバーニングして、得られる粉体に対する分散、選別の後処理を経て、セリア系複合研磨粉製品が得られる。その中のセリアの含有量は62wt%で、酸化マグネシウムの含有量は0.005wt%で、フッ素の含有量は5wt%で、当該研磨粉のD50は4.8μmで、(D90−D10)/2D50は1であり、形態は球状に近い。
得られたセリア系複合研磨粉をスラリーに調製して、平らなガラス検体に対して研磨実験を行った結果、その研磨腐食量は0.47mg/minに達し、引っ掻き傷率は14%である。
実施例16
(1)塩化セリウム、塩化ランタンを所定の比率で混合溶液に調製し、稀土含有量はREOで計算して150g/Lである。
(2)炭酸水素マグネシウム溶液を沈殿剤として、濃度(酸化マグネシウムで計算)は20h/Lで、均一な速度でステップ(1)の混合溶液に加入し、沈殿させ、少量なリン酸アンモニウムを加入する。炭酸水素マグネシウムの加入量は理論量の105%で、反応温度は20℃、反応pH値は5.5で、研磨粉の理論重量の5%のポリエチレングリコールを加入してむらなく混合させ、3h撹拌して混合溶液が得られ、濾過、洗浄、乾燥してから、研磨粉の前駆体粉体が得られる。
(3)前記前駆体粉体を950℃で4hバーニングして、得られる粉体に対する分散、選別の後処理を経て、セリア系複合研磨粉製品が得られる。その中のセリアの含有量は62wt%で、酸化マグネシウムの含有量は0.05wt%で、リンの含有量は5wt%で、当該研磨粉のD50は2.5μmで、(D90−D10)/2D50は1.2であり、形態は球状に近い。
得られたセリア系複合研磨粉をスラリーに調製して、平らなガラス検体に対して研磨実験を行った結果、その研磨腐食量は0.41mg/minに達し、引っ掻き傷率は13%である。
実施例17
(1)炭酸水素マグネシウム溶液(酸化マグネシウムで計算して20g/Lである)と塩化セリウムランタン混合溶液 (REOで計算して100g/Lである)とを同時に反応釜に加入し、少量なリン酸ナトリウムを加入する。炭酸水素マグネシウムの加入量は理論量の115%で、反応温度は25℃、反応pH値は7で、、4h撹拌して、研磨粉理論重量の0.1%のポリエチレングリコールを加入しむらなく混合させ、それから熟成タンクに入らせて、70℃で2hエイジングしてから、濾過、洗浄、乾燥し、研磨粉の前駆体粉体が得られる。
(2)前記前駆体粉体を700℃で8hバーニングして、得られる粉体に対する分散、選別を経て、セリア系複合研磨粉製品が得られる。その中のセリアの含有量は60wt%で、酸化マグネシウムの含有量は0.5wt%で、リンの含有量は0.1wt%で、当該研磨粉のD50は1.2μmで、(D90−D10)/2D50は0.89であり、形態は球状に近い。
得られたセリア系複合研磨粉をスラリーに調製して、平らなガラス検体に対して研磨実験を行った結果、その研磨腐食量は0.36mg/minに達し、引っ掻き傷率は11%である。
実施例18
(1)炭酸水素マグネシウム溶液(酸化マグネシウムで計算して15g/Lである)と塩化セリウム混合溶液 (REOで計算して100g/Lである)とを所定の速度で連続して反応釜に加入し、少量なリン酸を加入する。炭酸水素マグネシウムの加入量は理論量の100%で、反応温度は30℃、反応pH値は5で、研磨粉理論重量の3.2%のポリエチレングリコールを加入しむらなく混合させ、5h撹拌し、それから熟成タンクに入らせて、60℃で5hエイジングしてから、濾過、洗浄、乾燥し、研磨粉の前駆体粉体が得られる。
(2)前記前駆体粉体を850℃で6hバーニングして、得られる粉体に対する分散、選別を経て、セリア系複合研磨粉製品が得られる。その中のセリアの含有量は99.99wt%で、酸化マグネシウムの含有量は0.005wt%で、リンの含有量は0.001wt%で、当該研磨粉のD50は3.4μmで、(D90−D10)/2D50は1.4であり、形態は球状に近い。
得られたセリア系複合研磨粉をスラリーに調製して、平らなガラス検体に対して研磨実験を行った結果、その研磨腐食量は0.45mg/minに達し、引っ掻き傷率は14%である。
実施例19
(1)塩化ランタンセリウムプラセオジムネオジム混合溶液 (REOで計算して200g/Lである)と炭酸水素マグネシウム溶液(酸化マグネシウムで計算して25g/Lである)とを同時に反応装置に加入し、少量なフッ化水素を加入する。炭酸水素マグネシウムの加入量は理論量の130%で、反応温度は15℃、反応pH値は8で、研磨粉理論重量の1%のポリエチレングリコールを加入しむらなく混合させ、2h撹拌し、スラリーが得られる。
(2)ステップ(1)のスラリーを30℃で保温しながら48hエイジングして、濾過、乾燥してから、研磨粉の前駆体粉体が得られる。
(3)前記前駆体粉体を950℃で6hバーニングして、得られる粉体に対する分散、選別の後処理を経て、セリア系複合研磨粉製品が得られる。その中のセリアの含有量は40.5wt%で、酸化マグネシウムの含有量は4.8wt%で、フッ素の含有量は0.2wt%で、当該研磨粉のD50は3.8μmで、(D90−D10)/2D50は1.5であり、形態は球状に近い。
得られたセリア系複合研磨粉をスラリーに調製して、平らなガラス検体に対して研磨実験を行った結果、その研磨腐食量は0.44mg/minに達し、引っ掻き傷率は15%である。
実施例20
(1)塩化セリウム混合溶液 (稀土濃度はREOで計算して20g/Lである)と炭酸水素マグネシウム溶液(酸化マグネシウムで計算して10g/Lである)とを同時に反応装置に加入し、少量なフッ化ナトリウムを加入する。炭酸水素マグネシウムの加入量は理論量の117%で、反応温度は28℃、反応pH値は6.8で、研磨粉理論重量の0.1%のエチレングリコールを加入しむらなく混合させ、2h撹拌し、スラリーが得られる。
(2)スラリーを60℃で保温しながら5hエイジングして、濾過、乾燥してから、研磨粉の前駆体粉体が得られる。
(3)前記前駆体粉体を800℃で5hバーニングして、得られる粉体に対する分散、選別の後処理を経て、セリア系複合研磨粉製品が得られる。その中のセリアの含有量は96.7wt%で、プラセオジミアの含有量は1wt%で、酸化マグネシウムの含有量は1wt%で、フッ素の含有量は8wt%で、当該研磨粉のD50は3.3μmで、(D90−D10)/2D50は0.91であり、形態は球状に近い。
得られたセリア系複合研磨粉をスラリーに調製して、平らなガラス検体に対して研磨実験を行った結果、その研磨腐食量は0.43mg/minに達し、引っ掻き傷率は13%である。
実施例21
(1)炭酸水素マグネシウムを沈殿剤とし、濃度は酸化マグネシウムで計算して10g/Lであり、その使用量は理論量の110%である。硫酸セリウム溶液を(稀土濃度はREOで計算して5g/Lである)を沈殿剤に加入し、反応させてスラリーを形成させる。それから、少量なリン酸水素ナトリウムとフッ化ナトリウムを加入し、反応温度は25℃、反応pH値は6.4で、研磨粉理論重量の5%のエチレングリコールを加入しむらなく混合させ、1h撹拌し、スラリーが得られる。
(2)ステップ(1)のスラリーを90℃で保温しながら2hエイジングして、濾過、乾燥してから、研磨粉の前駆体粉体が得られる。
(3)前記前駆体粉体を600℃で2hバーニングして、得られる粉体に対する分散、選別の後処理を経て、セリア系複合研磨粉製品が得られる。その中のセリアの含有量は94.8wt%で、酸化マグネシウムの含有量は1.15wt%で、フッ素の含有量は0.8wt%で、リンの含有量は0.5wt%で、当該研磨粉のD50は0.5μmで、(D90−D10)/2D50は0.85であり、形態は球状に近い。
得られたセリア系複合研磨粉をスラリーに調製して、平らなガラス検体に対して研磨実験を行った結果、その研磨腐食量は0.31mg/minに達し、引っ掻き傷率は7%である。
実施例22
(1)硝酸セリウム、硝酸ランタンを所定の比率で混合溶液に調製する(稀土濃度はREOで計算して300g/Lである)。
(2)炭酸水素マグネシウム溶液(酸化マグネシウムで計算して25g/L)を沈殿剤とし、その使用量は理論量の120%である。それをステップ(1)の混合溶液と共沈法で反応させて、反応温度は30℃、反応pH値は7.5で、当該スラリーに研磨粉理論重量の3.1%の界面活性剤であるエチレングリコールを加入し、0.5h撹拌し、スラリーが得られる。
(3)ステップ(2)の混合スラリーを80℃で保温しながら5hエイジングして、その中に少量なリン酸水素アンモニウムを加入し、むらなく混合させ、濾過、乾燥してから、研磨粉の前駆体粉体が得られる。
(4)前記前駆体粉体を750℃で4hバーニングして、得られる粉体に対する分散、選別の後処理を経て、セリア系複合研磨粉製品が得られる。その中のセリアの含有量は70wt%で、酸化マグネシウムの含有量は1.9wt%で、リンの含有量は2.8wt%で、当該研磨粉のD50は0.02μmで、(D90−D10)/2D50は1.27であり、形態は球状に近い。
得られたセリア系複合研磨粉をスラリーに調製して、平らなガラス検体に対して研磨実験を行った結果、その研磨腐食量は0.20mg/minに達し、引っ掻き傷率は9%である。
実施例23
(1)塩化セリウム、塩化ランタンを所定の比率で混合溶液に調製する(稀土濃度はREOで計算して90g/Lである)。
(2)フッ化アンモニウムの水溶液を底層水として、まず、フッ化アンモニウムと反応するのに必要とする理論量の100%の炭酸水素マグネシウム溶液(濃度は酸化マグネシウムで計算して10g/L)を加入し、、それからステップ(1)の混合溶液と炭酸水素マグネシウムの水溶液とを並流の形で同時に加入し、炭酸水素マグネシウムの加入量はフッ化アンモニウムとランタンセリウム混合溶液の必要ととする理論量の合計使用量の110%で、反応温度は25℃、反応pH値は6.5で、研磨粉理論重量の2%のポリエチレングリコールを加入し、3h撹拌してスラリーが得られる。
(3)ステップ(2)の前記スラリーを60℃で保温しながら12hエイジングして、濾過、乾燥してから、研磨粉の前駆体粉体が得られる。
(4)前記前駆体粉体を900℃で4hバーニングして、得られる粉体に対する分散、選別処理を経て、セリア系複合研磨粉製品が得られる。その中のセリアの含有量は63wt%で、酸化マグネシウムの含有量は0.01wt%で、フッ素の含有量は2.3wt%で、当該研磨粉のD50は2.3μmで、(D90−D10)/2D50は0.63であり、形態は球状に近い。
得られたセリア系複合研磨粉をスラリーに調製して、平らなガラス検体に対して研磨実験を行った結果、その研磨腐食量は0.42mg/minに達し、引っ掻き傷率は6%である。
実施例24
(1)塩化セリウム、塩化ランタンを所定の比率で混合溶液に調製する(稀土濃度はREOで計算して120g/Lである)。
(2)フッ化ケイ素酸ナトリウム溶液を底層水として、まず、フッ化ケイ素酸ナトリウムと反応するのに必要とする理論量の100%の炭酸水素マグネシウムの水溶液(濃度は酸化マグネシウムで計算して15g/L)を加入し、それからステップ(1)の混合溶液と炭酸水素マグネシウムの水溶液とを並流の形で同時に加入し、炭酸水素マグネシウムの加入量は必要ととする理論量の合計使用量の105%で、反応温度は20℃、反応pH値は5で、0.5h撹拌してスラリーが得られる。
(3)ステップ(2)の前記スラリーを50℃で保温しながら24hエイジングして、濾過、乾燥してから、研磨粉の前駆体粉体が得られる。
(4)前記前駆体粉体を1000℃で3hバーニングして、得られる粉体に対する分散、選別処理を経て、セリア系複合研磨粉製品が得られる。その中のセリアの含有量は60wt%で、酸化マグネシウムの含有量は0.005wt%で、フッ素の含有量は5wt%で、当該研磨粉のD50は3.5μmで、(D90−D10)/2D50は0.92であり、形態は球状に近い。
得られたセリア系複合研磨粉をスラリーに調製して、平らなガラス検体に対して研磨実験を行った結果、その研磨腐食量は0.46mg/minに達し、引っ掻き傷率は9%である。
実施例25
(1)塩化セリウム、塩化ランタンを所定の比率で混合溶液に調製する(稀土濃度はREOで計算して150g/Lである)。
(2)リン酸アンモニウム溶液を底層水として、まず、リン酸アンモニウムと反応するのに必要とする理論量の100%の炭酸水素マグネシウム溶液(濃度は酸化マグネシウムで計算して20g/L)を加入し、それからステップ(1)の混合溶液と炭酸水素マグネシウムの水溶液とを並流の形で同時に加入し、炭酸水素マグネシウムの加入量は必要ととする理論量の合計使用量の105%で、反応温度は20℃、反応pH値は5.5で、研磨粉の理論量の5%のポリエチレングリコールを加入し、3h撹拌してスラリーが得られ、濾過、洗浄、及び乾燥を経て、研磨粉の前駆体が得られる。
(3)前記前駆体粉体を950℃で4hバーニングして、得られる粉体に対する分散、選別処理を経て、セリア系複合研磨粉製品が得られる。その中のセリアの含有量は62wt%で、酸化マグネシウムの含有量は0.05wt%で、リンの含有量は5wt%で、当該研磨粉のD50は2μmで、(D90−D10)/2D50は0.77であり、形態は球状に近い。
得られたセリア系複合研磨粉をスラリーに調製して、平らなガラス検体に対して研磨実験を行った結果、その研磨腐食量は0.42mg/minに達し、引っ掻き傷率は7%である。
実施例26
(1)塩化セリウム、塩化ランタンを所定の比率で混合溶液に調製する(稀土濃度はREOで計算して100g/Lである)。
(2)リン酸ナトリウム溶液を底層水として、まず、リン酸ナトリウムと反応するのに必要とする理論量の80%の炭酸水素マグネシウムの水溶液(濃度は酸化マグネシウムで計算して20g/L)を加入し、それからステップ(1)の混合溶液と炭酸水素マグネシウムの水溶液とを並流の形で同時に加入し、炭酸水素マグネシウムの加入量は必要ととする理論量の合計使用量の115%で、反応温度は25℃、反応pH値は7で、研磨粉の理論重量の0.1%のポリエチレングリコールを加入し、4h撹拌してスラリーが得られる。
(3)ステップ(2)の前記スラリーを70℃で保温しながら2hエイジングして、濾過、洗浄してから、研磨粉の前駆体粉体が得られる。
(4)前記前駆体粉体を700℃で8hバーニングして、得られる粉体に対する分散、選別処理を経て、セリア系複合研磨粉製品が得られる。その中のセリアの含有量は60wt%で、酸化マグネシウムの含有量は0.5wt%で、リンの含有量は0.1wt%で、当該研磨粉のD50は1.8μmで、(D90−D10)/2D50は0.65であり、形態は球状に近い。
得られたセリア系複合研磨粉をスラリーに調製して、平らなガラス検体に対して研磨実験を行った結果、その研磨腐食量は0.38mg/minに達し、引っ掻き傷率は6%である。
実施例27
(1)塩化セリウム溶液を調製する(稀土濃度はREOで計算して100g/Lである)。
(2)リン酸溶液を底層水として、まず、リン酸と反応するのに必要とする理論量の100%の炭酸水素マグネシウム溶液(濃度は酸化マグネシウムで計算して15g/L)を加入し、それからステップ(1)の混合溶液と炭酸水素マグネシウムの水溶液とを並流の形で同時に加入し、炭酸水素マグネシウムの加入量は必要ととする理論量の合計使用量の100%で、反応温度は30℃、反応pH値は5で、研磨粉の理論重量の3.2%のポリエチレングリコールを加入し、5h撹拌してスラリーが得られる。
(3)前記ステップ(2)の前記スラリーを60℃で保温しながら5hエイジングして、濾過、洗浄してから、研磨粉の前駆体粉体が得られる。
(4)前記前駆体粉体を850℃で6hバーニングして、得られる粉体に対する分散、選別処理を経て、セリア系複合研磨粉製品が得られる。その中のセリアの含有量は99.99wt%で、酸化マグネシウムの含有量は0.005wt%で、リンの含有量は0.003wt%で、当該研磨粉のD50は2.3μmで、(D90−D10)/2D50は0.8であり、形態は球状に近い。
得られたセリア系複合研磨粉をスラリーに調製して、平らなガラス検体に対して研磨実験を行った結果、その研磨腐食量は0.42mg/minに達し、引っ掻き傷率は7%である。
実施例28
(1)塩化ランタンセリウムプラセオジムネオジム溶液を調製する(稀土濃度はREOで計算して200g/Lである)。
(2)フッ化水素溶液を底層水として、まず、フッ化水素と反応するのに必要とする理論量の50%の炭酸水素マグネシウム溶液(濃度は酸化マグネシウムで計算して25g/L)を加入し、それからステップ(1)の混合溶液と炭酸水素マグネシウムの水溶液とを並流の形で同時に加入し、炭酸水素マグネシウムの加入量は必要ととする理論量の合計使用量の130%で、反応温度は15℃、反応pH値は8で、研磨粉の理論重量の1%のポリエチレングリコールを加入し、2h撹拌してスラリーが得られる。
(3)前記ステップ(2)の前記スラリーを30℃で保温しながら48hエイジングして、濾過、洗浄してから、研磨粉の前駆体粉体が得られる。
(4)前記前駆体粉体を950℃で6hバーニングして、得られる粉体に対する分散、選別処理を経て、セリア系複合研磨粉製品が得られる。その中のセリアの含有量は40wt%で、酸化マグネシウムの含有量は5wt%で、フッ素の含有量は0.2wt%で、当該研磨粉のD50は5μmで、(D90−D10)/2D50は1であり、形態は球状に近い。
得られたセリア系複合研磨粉をスラリーに調製して、平らなガラス検体に対して研磨実験を行った結果、その研磨腐食量は0.48mg/minに達し、引っ掻き傷率は10%である。
実施例29
(1)稀土濃度はREOで計算して20g/Lである塩化セリウム溶液を調製する。
(2)フッ化ナトリウム溶液を底層水として、まず、フッ化ナトリウムと反応するのに必要とする理論量の70%の炭酸水素マグネシウム溶液(濃度は酸化マグネシウムで計算して10g/L)を加入し、それからステップ(1)の混合溶液と炭酸水素マグネシウムの水溶液とを並流の形で同時に加入し、炭酸水素マグネシウムの加入量は必要ととする理論量の合計使用量の117%で、反応温度は28℃、反応pH値は6.8で、研磨粉の理論重量の0.1%のエチレングリコールを加入し、2h撹拌してスラリーが得られる。
(3)前記ステップ(2)の前記スラリーを60℃で保温しながら5hエイジングして、濾過、洗浄してから、研磨粉の前駆体粉体が得られる。
(4)前記前駆体粉体を800℃で5hバーニングして、得られる粉体に対する分散、選別処理を経て、セリア系複合研磨粉製品が得られる。その中のセリアの含有量は97.5wt%で、酸化マグネシウムの含有量は1wt%で、フッ素の含有量は8wt%で、当該研磨粉のD50は3μmで、(D90−D10)/2D50は0.81であり、形態は球状に近い。
得られたセリア系複合研磨粉をスラリーに調製して、平らなガラス検体に対して研磨実験を行った結果、その研磨腐食量は0.44mg/minに達し、引っ掻き傷率は7%である。
実施例30
(1)稀土濃度はREOで計算して10g/Lである硫酸セリウム溶液を調製する。
(2)リン酸水素ナトリウムとフッ化ナトリウムとの混合溶液を底層水として、まず、リン酸水素ナトリウムとフッ化ナトリウムと反応するのに必要とする理論量の100%の炭酸水素マグネシウム溶液(濃度は酸化マグネシウムで計算して5g/L)を加入し、それからステップ(1)の混合溶液と炭酸水素マグネシウムの水溶液とを並流の形で同時に加入し、炭酸水素マグネシウムの加入量は必要ととする理論量の合計使用量の110%で、反応温度は25℃、反応pH値は6.4で、研磨粉の理論重量の3.1%のエチレングリコールを加入し、1h撹拌してスラリーが得られる。
(3)前記ステップ(2)の前記スラリーを90℃で保温しながら2hエイジングして、濾過、洗浄してから、研磨粉の前駆体粉体が得られる。
(4)前記前駆体粉体を600℃で2hバーニングして、得られる粉体に対する分散、選別処理を経て、セリア系複合研磨粉製品が得られる。その中のセリアの含有量は95wt%で、酸化マグネシウムの含有量は1.15wt%で、フッ素の含有量は0.7wt%で、リンの含有量は0.5wt%で、当該研磨粉のD50は0.75μmで、(D90−D10)/2D50は0.57であり、形態は球状に近い。
得られたセリア系複合研磨粉をスラリーに調製して、平らなガラス検体に対して研磨実験を行った結果、その研磨腐食量は0.32mg/minに達し、引っ掻き傷率は3%である。
実施例31
(1)硝酸セリウム、硝酸ランタンを所定の比率で混合溶液に調製する(稀土濃度はREOで計算して300g/Lである)。
(2)リン酸水素アンモニウム溶液を底層水として、まず、リン酸水素アンモニウムと反応するのに必要とする理論量の100%の炭酸水素マグネシウムの水溶液(濃度は酸化マグネシウムで計算して25g/L)を加入し、それからステップ(1)の混合溶液と炭酸水素マグネシウムの水溶液とを並流の形で同時に加入し、炭酸水素マグネシウムの加入量は必要ととする理論量の合計使用量の110%で、反応温度は30℃、反応pH値は7.5で、研磨粉の理論重量の5%のエチレングリコールを加入し、0.5h撹拌してスラリーが得られる。
(3)前記ステップ(2)の前記スラリーを80℃で保温しながら5hエイジングして、濾過、洗浄してから、研磨粉の前駆体粉体が得られる。
(4)前記前駆体粉体を750℃で4hバーニングして、得られる粉体に対する分散、選別処理を経て、前記セリア系複合研磨粉が得られる。その中のセリアの含有量は70wt%で、酸化マグネシウムの含有量は2wt%で、リンの含有量は3wt%で、当該研磨粉のD50は0.04μmで、(D90−D10)/2D50は0.73であり、形態は球状に近い。
得られたセリア系複合研磨粉をスラリーに調製して、平らなガラス検体に対して研磨実験を行った結果、その研磨腐食量は0.26mg/minに達し、引っ掻き傷率は5%である。
実施例32
(1)硝酸セリウムを所定の比率で混合溶液に調製する(稀土濃度はREOで計算して60g/Lである)。
(2)フッ化ナトリウム溶液を底層水として、まず、フッ化ナトリウムと反応するのに必要とする理論量の60%の炭酸水素マグネシウム溶液(濃度は酸化マグネシウムで計算して13g/L)を加入し、それからステップ(1)の混合溶液と炭酸水素マグネシウムの水溶液とを並流の形で同時に加入し、炭酸水素マグネシウムの加入量は必要ととする理論量の合計使用量の115%で、反応温度は25℃、反応pH値は7で、研磨粉の理論重量の2.5%のエチレングリコールを加入し、3h撹拌してスラリーが得られる。
(3)前記ステップ(2)の前記スラリーを65℃で保温しながら8hエイジングして、濾過、洗浄してから、研磨粉の前駆体粉体が得られる。
(4)前記前駆体粉体を900℃で3hバーニングして、得られる粉体に対する分散、選別処理を経て、前記セリア系複合研磨粉が得られる。その中のセリアの含有量は99wt%で、酸化マグネシウムの含有量は0.1wt%で、フッ素の含有量は0.5wt%で、当該研磨粉のD50は0.05μmで、(D90−D10)/2D50は0.8であり、形態は球状に近い。
得られたセリア系複合研磨粉をスラリーに調製して、平らなガラス検体に対して研磨実験を行った結果、その研磨腐食量は0.25mg/minに達し、引っ掻き傷率は2%である。
以上は本発明の好適な実施例に過ぎず、本発明を限定するものではない。当業者であれば、本発明の様々な変更や変形が可能である。本発明の精神や原則を逸脱しないいずれの変更、置換、改良なども本発明の保護範囲内に含まれる。

Claims (19)

  1. マグネシウム元素を含有し、前記マグネシウム元素が酸化マグネシウムおよび酸化マグネシウムと酸化セリウムとの複合酸化物の形態で存在し、前記マグネシウム元素の含有量は、酸化マグネシウムで計算して0.01wt%〜2wt%であるセリア系複合研磨粉。
  2. セリウム以外の希土類元素の少なくとも一種類をさらに含有することを特徴とする請求項1に記載のセリア系複合研磨粉。
  3. フッ素元素を0.2wt%〜8wt%さらに含有することを特徴とする請求項1に記載のセリア系複合研磨粉。
  4. リン元素を0.1wt%〜5wt%さらに含有することを特徴とする請求項1に記載のセリア系複合研磨粉。
  5. セリアの含有量は40wt%〜99.99wt%であることを特徴とする請求項1に記載のセリア系複合研磨粉。
  6. 前記セリア系複合研磨粉のメジアン粒径D50は0.02〜5μmであることを特徴とする請求項1に記載のセリア系複合研磨粉。
  7. 前記セリア系複合研磨粉のメジアン粒径D50は0.5〜3μmであることを特徴とする請求項6に記載のセリア系複合研磨粉。
  8. セリア、マグネシウム元素及びセリウム以外の希土類元素の少なくとも一種類を含むセリア系複合研磨粉であって、前記マグネシウム元素が酸化マグネシウムおよび酸化マグネシウムと酸化セリウムとの複合酸化物の形態で存在し、前記セリアの含有量は40wt%〜99.99wt%で、前記マグネシウムの含有量は、酸化マグネシウムで計算して0.01wt%〜2wt%で、前記セリウム以外の希土類元素の少なくとも一種類の含有量は0〜59.995wt%であることを特徴とするセリア系複合研磨粉。
  9. フッ素を0.2wt%〜8wt%さらに含有することを特徴とする請求項8に記載のセリア系複合研磨粉。
  10. リン元素を0.1wt%〜5wt%さらに含有することを特徴とする請求項8に記載のセリア系複合研磨粉。
  11. 前記セリア系複合研磨粉のメジアン粒径D50は0.02〜5μmであることを特徴とする請求項8に記載のセリア系複合研磨粉。
  12. 前記セリア系複合研磨粉のメジアン粒径D50は0.5〜3μmであることを特徴とする請求項11に記載のセリア系複合研磨粉。
  13. セリア系複合研磨粉の製造方法であって、
    (1)研磨粉の主要成分であるセリウムを含有する塩溶液をむらなく混合するステップと、
    (2)炭酸水素マグネシウムの水溶液を沈殿剤として、ステップ(1)の混合溶液にむらなく混合させ、スラリーを得るステップと、
    (3)ステップ(2)のスラリーを30℃〜90℃で保温しながら0〜48hエイジングし、濾過して研磨粉の前駆体粉体を得るステップと、
    (4)前駆体粉体を600℃〜1000℃でバーニングされて、得られる粉体に対する分散、選別の後処理を経て、マグネシウム元素を、酸化マグネシウムで計算して0.005wt%〜5wt%含有するセリア系複合研磨粉製品を得るステップと、を含むことを特徴とするセリア系複合研磨粉の製造方法。
  14. 前記ステップ(1)における塩溶液は硝酸塩、硫酸塩又は塩化物溶液であることを特徴とする請求項13に記載のセリア系複合研磨粉の製造方法。
  15. 前記ステップ(2)における炭酸水素マグネシウムの水溶液の濃度は、酸化マグネシウムで計算して5〜25g/Lであることを特徴とする請求項13に記載のセリア系複合研磨粉の製造方法。
  16. 前記ステップ(2)における沈殿剤の使用量は、理論量の100〜130%であり、沈殿温度は15℃〜30℃で、撹拌時間は0.5〜5hであることを特徴とする請求項13に記載のセリア系複合研磨粉の製造方法。
  17. 前記ステップ(2)の沈殿工程において、混合溶液へ界面活性剤であるポリエチレングリコールまたはエチレングリコールを添加し、むらなく混合させ、界面活性剤の添加量は、研磨粉の理論重量の0.1〜5.0wt%であることを特徴とする請求項13に記載のセリア系複合研磨粉の製造方法。
  18. 前記ステップ(2)またはステップ(3)においてフッ素またはリンを含有する化合物を添加し、前記リンを含有する化合物はリン酸またはリン酸塩で、前記フッ素を含有する化合物はフッ化アンモニウム、フッ化水素酸、フッ化ケイ素酸ナトリウム及びフッ化ナトリウムの中の少なくとも一つであることを特徴とする請求項13に記載のセリア系複合研磨粉の製造方法。
  19. 沈殿及びロースト工程にて生成されたCOを収集し回収して、炭酸水素マグネシウム溶液の製造に用いられることを特徴とする請求項13に記載のセリア系複合研磨粉の製造方法。
JP2015518841A 2012-11-07 2013-11-07 セリア系複合研磨粉およびその製造方法 Active JP6149108B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201210441638.X 2012-11-07
CN201210441638.XA CN103382369B (zh) 2012-11-07 2012-11-07 一种氧化铈基复合抛光粉及其制备方法
PCT/CN2013/086705 WO2014071859A1 (zh) 2012-11-07 2013-11-07 一种氧化铈基复合抛光粉及其制备方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2015528833A JP2015528833A (ja) 2015-10-01
JP6149108B2 true JP6149108B2 (ja) 2017-06-14

Family

ID=49490308

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2015518841A Active JP6149108B2 (ja) 2012-11-07 2013-11-07 セリア系複合研磨粉およびその製造方法

Country Status (5)

Country Link
US (1) US9725620B2 (ja)
JP (1) JP6149108B2 (ja)
KR (1) KR101720517B1 (ja)
CN (2) CN103382369B (ja)
WO (1) WO2014071859A1 (ja)

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103382369B (zh) * 2012-11-07 2015-07-29 有研稀土新材料股份有限公司 一种氧化铈基复合抛光粉及其制备方法
KR102245055B1 (ko) * 2013-08-30 2021-04-26 쇼와덴코머티리얼즈가부시끼가이샤 슬러리, 연마액 세트, 연마액, 기체의 연마 방법 및 기체
CN105733445B (zh) * 2016-03-21 2017-12-26 四川大学 一种纳米CeO2抛光粉的制备方法
CN106590442A (zh) * 2017-01-22 2017-04-26 海城海美抛光材料制造有限公司 一种二氧化铈抛光粉液的制备方法
CN107254259A (zh) * 2017-06-08 2017-10-17 包头海亮科技有限责任公司 新型稀土抛光粉及其制备方法
KR102210251B1 (ko) * 2017-11-10 2021-02-01 삼성에스디아이 주식회사 유기막 cmp 슬러리 조성물 및 이를 이용한 연마 방법
US11161751B2 (en) 2017-11-15 2021-11-02 Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. Composition for conducting material removal operations and method for forming same
CN109111854A (zh) * 2018-08-24 2019-01-01 甘肃稀土新材料股份有限公司 一种钇铈稀土抛光粉及其制备工艺
KR102282872B1 (ko) * 2019-11-11 2021-07-28 주식회사 켐톤 세륨 산화물 입자의 제조방법, 연마입자 및 이를 포함하는 연마용 슬러리 조성물
EP4112554A4 (en) * 2020-03-27 2024-05-15 Nippon Kayaku Kk HETEROMETALLIC DOPED CERIUM OXIDE AND PRODUCTION METHOD THEREFOR
CN111393998B (zh) * 2020-04-21 2020-12-08 山东麦丰新材料科技股份有限公司 一种镧铈改性氧化铝复合抛光粉的制备方法
CN111363479B (zh) * 2020-04-21 2020-11-06 山东麦丰新材料科技股份有限公司 一种镧铈改性氧化镁复合抛光粉的制备方法
CN112725623B (zh) * 2020-12-02 2022-09-09 北京工业大学 一种从废稀土抛光粉中分离提取稀土与再生稀土抛光粉的方法
CN112646497B (zh) * 2021-01-23 2021-10-29 深圳市瑞来稀土材料有限公司 改性氧化镁复合抛光粉的制备方法
CN114220979B (zh) * 2021-11-13 2024-04-16 深圳信息职业技术学院 催化剂载体及其制备方法、催化剂、燃料电池
CN115305057B (zh) * 2022-07-27 2023-11-21 安徽禾臣新材料有限公司 一种超细精密抛光粉及其制备方法

Family Cites Families (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2783330B2 (ja) * 1989-11-01 1998-08-06 株式会社フジミインコーポレーテッド ガラス研磨用研磨材
JPH07286171A (ja) * 1993-08-09 1995-10-31 Nichia Chem Ind Ltd 近赤外発光の希土類アルミニウム酸化物蛍光体とこの蛍光体の製造方法並びにこの蛍光体を使用した陰極線管及び液晶ライトバルブ
JP3600725B2 (ja) * 1998-03-24 2004-12-15 三井金属鉱業株式会社 セリウム系研摩材の製造方法
JP3995411B2 (ja) * 2000-11-24 2007-10-24 三井金属鉱業株式会社 セリウム系研摩材の製造方法
AU2003275697A1 (en) * 2002-10-28 2004-05-13 Nissan Chemical Industries, Ltd. Cerium oxide particles and process for the production thereof
JP4248889B2 (ja) 2002-11-22 2009-04-02 Agcセイミケミカル株式会社 研磨材粒子の品質評価方法、研磨方法及びガラス研磨用研磨材
KR100706096B1 (ko) * 2003-06-30 2007-04-13 미쓰이 긴조꾸 고교 가부시키가이샤 세륨계 연마재 및 그 원료
TWI334882B (en) * 2004-03-12 2010-12-21 K C Tech Co Ltd Polishing slurry and method of producing same
TWI283008B (en) * 2004-05-11 2007-06-21 K C Tech Co Ltd Slurry for CMP and method of producing the same
JP2006206870A (ja) * 2004-12-28 2006-08-10 Mitsui Mining & Smelting Co Ltd セリウム系研摩材用原料及びセリウム系研摩材用原料の製造方法、並びに、セリウム系研摩材及びセリウム系研摩材の製造方法
AT502308B1 (de) * 2005-07-20 2010-03-15 Treibacher Ind Ag Glasschleifmittel auf ceroxidbasis und verfahren zu dessen herstellung
CN100445207C (zh) * 2005-07-22 2008-12-24 中国科学院物理研究所 花状结构的纳米氧化铈基复合材料及其制备方法和用途
JP4585991B2 (ja) * 2006-07-04 2010-11-24 三井金属鉱業株式会社 セリウム系研摩材
CN1903962A (zh) * 2006-08-14 2007-01-31 北京蓝景创新科技有限公司 以二氧化铈为主体的超细精密抛光粉的制备方法及抛光粉
CN101284983B (zh) * 2007-04-12 2011-10-19 北京有色金属研究总院 一种超细、球化稀土抛光粉及其制备工艺
CN101284952B (zh) * 2007-04-12 2011-03-23 北京有色金属研究总院 化学机械抛光磨料粒子CeO2及其制备方法
CN101735768B (zh) * 2008-11-25 2013-08-14 西安迈克森新材料有限公司 一种稀土类抛光粉制备方法
CN101798627B (zh) 2009-02-09 2013-07-03 有研稀土新材料股份有限公司 一种沉淀稀土的方法
WO2011067898A1 (ja) * 2009-12-01 2011-06-09 パナソニック株式会社 非水電解質二次電池用正極活物質およびその製造法
CN102417352B (zh) * 2010-09-28 2015-02-11 有研稀土新材料股份有限公司 一种含锆稀土复合氧化物的制备方法
CN102559138B (zh) * 2010-12-23 2014-01-08 有研稀土新材料股份有限公司 一种掺杂氟离子和金属离子的氧化铈基纳米紫外屏蔽材料及其制备方法
CN102337083B (zh) * 2011-07-19 2013-08-07 上海华明高纳稀土新材料有限公司 精密型稀土抛光粉及其制备方法
CN102643614B (zh) * 2012-04-17 2014-02-12 江苏中晶科技有限公司 玻璃抛光粉及其制备方法
CN103382369B (zh) * 2012-11-07 2015-07-29 有研稀土新材料股份有限公司 一种氧化铈基复合抛光粉及其制备方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP2015528833A (ja) 2015-10-01
KR20150020603A (ko) 2015-02-26
KR101720517B1 (ko) 2017-03-28
US20150184027A1 (en) 2015-07-02
CN103382369A (zh) 2013-11-06
CN103382369B (zh) 2015-07-29
WO2014071859A1 (zh) 2014-05-15
CN104884556B (zh) 2017-09-26
CN104884556A (zh) 2015-09-02
US9725620B2 (en) 2017-08-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6149108B2 (ja) セリア系複合研磨粉およびその製造方法
JP5862578B2 (ja) 研磨材微粒子及びその製造方法
JPWO2005070832A1 (ja) 酸化物固溶体粉末
CN101899281B (zh) 稀土抛光粉及其制造方法
CN103361030A (zh) 一种含镨超细高精密度稀土抛光粉及其制备方法
CN103571334A (zh) 氧化铈抛光粉及其制备方法
CN103666372A (zh) 氧化硅为内核的氧化铈复合磨料及其制备方法
JP2012011526A (ja) 研磨材およびその製造方法
CN103571335A (zh) 稀土抛光粉及其制备方法
CN102850938A (zh) 一种球型复合稀土抛光粉的制备方法
CN102352188B (zh) 精密型铈锆基固溶体稀土抛光粉及其制备方法
CN106915761A (zh) 一种氧化铈制备方法及其在sti化学机械抛光中的应用
CN102329571B (zh) 稀土-硅复配精密型稀土抛光粉及其制备方法
JP2013104023A (ja) ジルコニア研磨剤及びその製造方法
CN102079950A (zh) 单分散稀土抛光粉制备方法
CN107556922B (zh) 一种含钐稀土抛光粉及其制备工艺
CN103865403A (zh) 一种粒度小且分布窄的稀土抛光粉制备方法
CN110885637A (zh) 一种氟化稀土抛光粉及氟化稀土抛光液的制备方法
CN103130262B (zh) 一种低抛氧化铈抛光粉的制备方法
CN107603490B (zh) 一种含钐铈基抛光粉及其制备工艺
JP2007106890A (ja) セリウム系研摩材
CN108658088B (zh) 一种利用煤矸石制备磁性3a型分子筛的方法
CN111004580A (zh) 氟化稀土抛光粉及氟化稀土抛光液的制备方法
JP5861277B2 (ja) ジルコニア系研磨剤
CN103805067B (zh) 一种铈基抛光粉的制备工艺

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20160112

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20160329

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20160629

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20161115

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20170314

A911 Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20170406

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20170516

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20170522

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6149108

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250