JP5958011B2 - 電荷輸送性膜形成用組成物、電子写真感光体、プロセスカートリッジおよび画像形成装置 - Google Patents
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Description
保護層を形成する材料系としては、例えば、導電粉をフェノール樹脂に分散したもの(例えば特許文献1参照)、有機―無機ハイブリッド材料によるもの(例えば特許文献2参照)、アルコール可溶性電荷輸送材料とフェノール樹脂によるもの(例えば特許文献3参照)等が開示されている。また、アルキルエーテル化ベンゾグアナミン・ホルムアルデヒド樹脂と、電子受容性カルボン酸あるいは、電子受容性ポリカルボン酸無水物の硬化膜(例えば特許文献4参照)、ベンゾグアナミン樹脂にヨウ素、有機スルホン酸化合物、あるいは、塩化第二鉄などをドーピングした硬化膜(例えば特許文献5参照)、特定の添加剤とフェノール樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、シロキサン樹脂、あるいは、ウレタン樹脂との硬化膜(例えば特許文献6参照)が開示されている。
例えば、光硬化型アクリル系モノマーを含有する液を塗布し硬化した膜(例えば特許文献7参照)、炭素−炭素二重結合を有するモノマー、炭素−炭素二重結合を有する電荷移動材および結着樹脂の混合物を熱、あるいは光のエネルギーによって前記モノマーの炭素−炭素二重結合と前記電荷移動材の炭素−炭素二重結合とを反応させることにより形成された膜(例えば特許文献8参照)、同一分子内に二つ以上の連鎖重合性官能基を有する正孔輸送性化合物を重合した化合物からなる膜(例えば特許文献9参照)が開示されている。
一種以上の溶剤と、下記一般式(I)で示される化合物のうち下記(I−a)、(I−b)、(I−c)及び(I−d)の化合物並びに下記一般式(II)で示される化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種の化合物と、フッ素含有樹脂粒子と、フッ素含有分散剤と、を含み、前記一種以上の溶剤の誘電率が全て5.0以上である電荷輸送性膜形成用組成物。
〔一般式(I)中、Fは電荷輸送性骨格を示し、Lはアルキレン基、アルケニレン基、−C(=O)−、−N(R)−、−S−、及び−O−からなる群より選択される2種以上を含む2価の連結基を示し、Rは水素原子、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を示す。mは1以上8以下の整数を示す。〕
〔一般式(II)中、Fは電荷輸送性骨格を示し、L’はアルキレン基、アルケニレン基、−C(=O)−、−N(R)−、−S−、−O−、及びアルカンから誘導される3価又は4価の基からなる群より選択される2種以上を含む(n+1)価の連結基を示し、Rは水素原子、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を示す。 m’は1以上6以下の整数を示し、nは2以上3以下の整数を示す。〕
(I−a)下記一般式(III)で示され、以下に定義される化合物
〔一般式(III)中、Ar1乃至Ar4はそれぞれ独立に置換若しくは未置換のアリール基を示し、Ar5及びAr6はそれぞれ独立に置換若しくは未置換のアリーレン基を示し、Xaはアルキレン基、−O−、−S−、及びエステルから選ばれる基を組み合わせてなる2価の基を示し、Dは下記一般式(IV)で示される基を示す。c1乃至c4はそれぞれ独立に0以上2以下の整数を示し、Dの総数は1又は2である。〕
〔一般式(IV)中、L1は*−(CH2)n”−O−CH2−で示され、*にてAr1乃至Ar4のアリール基に直結した連結基を示す。n”は1又は2を示す。〕
(I−b)下記一般式(V)で示され、以下に定義される化合物
〔一般式(V)中、Ar1乃至Ar4はそれぞれ独立に置換若しくは未置換のアリール基を示し、Ar5は置換若しくは未置換のアリール基、又は置換若しくは未置換のアリーレン基を示し、Dは下記一般式(VI)で示される基を示す。c5乃至c9はそれぞれ0以上2以下の整数を示し、kは0又は1を示し、Dの総数は1又は2である。〕
〔一般式(VI)中、L2はAr1乃至Ar4のアリール基又はAr5のアリール基若しくはアリーレン基に直結した−(CH2)n−O−で示される基を含む2価の連結基を示す。nは3以上6以下の整数を示す。〕
(I−c)下記一般式(V)で示され、以下に定義される化合物
〔一般式(V)中、Ar1乃至Ar4はそれぞれ独立に置換若しくは未置換のアリール基を示し、Ar5は置換若しくは未置換のアリール基、又は置換若しくは未置換のアリーレン基を示し、Dは下記一般式(VI)で示される基を示す。c5乃至c9はそれぞれ0以上2以下の整数を示し、kは0又は1を示し、Dの総数は3以上8以下である。〕
〔一般式(VI)中、L2はAr1乃至Ar4のアリール基又はAr5のアリール基若しくはアリーレン基に直結した−(CH2)n−O−で示される基を含む2価の連結基を示す。nは1以上6以下の整数を示す。〕
(I−d)下記一般式(V)で示され、以下に定義される化合物
〔一般式(V)中、Ar1乃至Ar4はそれぞれ独立に置換若しくは未置換のアリール基を示し、Ar5は置換若しくは未置換のアリール基、又は置換若しくは未置換のアリーレン基を示し、Dは下記一般式(VII)で示される基を示す。c5乃至c9はそれぞれ0以上2以下の整数を示し、kは0又は1を示し、Dの総数は1以上8以下である。〕
〔一般式(VII)中、L3は−C(=O)−、−N(R)−、−S−、または−C(=O)−にさらに−O−、−N(R)−、若しくは−S−を組み合わせた基からなる群より選択される1つ以上の基を含む2価の連結基を示す。Rは水素原子、アルキル基、アリール基またはアラルキル基を示す。〕
前記一般式(VII)で示される基が、下記一般式(VII−1)で示される基である請求項1に記載の電荷輸送性膜形成用組成物。
〔一般式(VII−1)中、p1は0以上4以下の整数を示す。〕
前記一般式(II)で示される化合物が、下記一般式(V)で示される請求項1に記載の電荷輸送性膜形成用組成物。
〔一般式(V)中、Ar1乃至Ar4はそれぞれ独立に置換若しくは未置換のアリール基を示し、Ar5は置換若しくは未置換のアリール基、又は置換若しくは未置換のアリーレン基を示し、Dは下記一般式(VIII)で示される基を示す。c5乃至c9はそれぞれ0以上2以下の整数を示し、kは0又は1を示し、Dの総数は1以上8以下の整数である。〕
〔一般式(VIII)中、Lは、アルキレン基、アルケニレン基、−C(=O)−、−N(R)−、−O−、−S−、及びアルカンから誘導される3価又は4価の基からなる群より選択される2種以上を組み合わせてなる(n+1)価の連結基を示し、Rは水素原子、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を示す。nは2以上3以下の整数を示す。〕
前記一般式(II)で示される化合物のFで示される電荷輸送性骨格に連結する基が、下記一般式(VIII−1)又は(VIII−2)で示される基である請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載の電荷輸送性膜形成用組成物。
〔一般式(VIII−1)又は(VIII−2)中、Xは2価の基を示し、p2は0又は1の整数を示す。〕
前記一般式(II)で示される化合物のFで示される電荷輸送性骨格に連結する基が、下記一般式(VIII−3)又は(VIII−4)で示される基である請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載の電荷輸送性膜形成用組成物。
〔一般式(VIII−3)又は(VIII−4)中、X’は2価の基を示し、p’は0又は1の整数を示す。〕
請求項6の発明は、
熱ラジカル発生剤又はその誘導体を更に含む請求項1乃至請求項5のいずれか一項に記載の電荷輸送性膜形成用組成物。
請求項7の発明は、
導電性支持体と、前記導電性支持体上に配置された感光層と、を有し、
最表面層が、請求項1乃至請求項6のいずれか一項に記載の電荷輸送性膜形成用組成物から形成された硬化膜である電子写真感光体。
請求項8の発明は、
請求項7に記載の電子写真感光体を備え、画像形成装置に着脱するプロセスカートリッジ。
請求項9の発明は、
請求項7に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体の表面を帯電させる帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像をトナーを含む現像剤により現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記トナー像を被転写媒体に転写する転写手段と、
を備える画像形成装置。
請求項2の発明によれば、前記一般式(VII)で示される基が、前記一般式(VII−1)で示される基でない場合に比べ、フッ素含有樹脂粒子の凝集が抑制された電荷輸送性膜が形成される電荷輸送性膜形成用組成物が提供される。
請求項3、4、5の発明によれば、前記一般式(II)で示される化合物のFで示される電荷輸送性骨格に連結する基が、前記一般式(VIII)、(VIII−1)乃至(VIII−4)のいずれかで示される基でない場合に比べ、フッ素含有樹脂粒子の凝集が抑制された電荷輸送性膜が形成される電荷輸送性膜形成用組成物が提供される。
請求項6の発明によれば、熱ラジカル発生剤又はその誘導体を含まない場合に比べ、繰り返し使用後も安定した高画質が得られる電荷輸送性膜形成用組成物が提供される。
請求項7、8、9の発明によれば、細線の再現性が高い電子写真感光体、プロセスカートリッジ、画像形成装置が提供される。
〔一般式(I)中、Fは電荷輸送性骨格を示し、Lはアルキレン基、アルケニレン基、−C(=O)−、−N(R)−、−S−、及び−O−からなる群より選択される2種以上を含む2価の連結基を示し、Rは水素原子、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を示す。mは1以上8以下の整数を示す。〕
〔一般式(II)中、Fは電荷輸送性骨格を示し、L’はアルキレン基、アルケニレン基、−C(=O)−、−N(R)−、−S−、−O−、及びアルカンから誘導される3価又は4価の基からなる群より選択される2種以上を含む(n+1)価の連結基を示し、Rは水素原子、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を示す。 m’は1以上6以下の整数を示し、nは2以上3以下の整数を示す。〕
〔一般式(III)中、Ar1乃至Ar4はそれぞれ独立に置換若しくは未置換のアリール基を示し、Ar5及びAr6はそれぞれ独立に置換若しくは未置換のアリーレン基を示し、Xaはアルキレン基、−O−、−S−、及びエステルから選ばれる基を組み合わせてなる2価の基を示し、Dは下記一般式(IV)で示される基を示す。c1乃至c4はそれぞれ独立に0以上2以下の整数を示し、Dの総数は1又は2である。〕
〔一般式(IV)中、L1は*−(CH2)n”−O−CH2−で示され、*にてAr1乃至Ar4のアリール基に直結した連結基を示す。n”は1又は2を示す。〕
〔一般式(V)中、Ar1乃至Ar4はそれぞれ独立に置換若しくは未置換のアリール基を示し、Ar5は置換若しくは未置換のアリール基、又は置換若しくは未置換のアリーレン基を示し、Dは下記一般式(VI)で示される基を示す。c5乃至c9はそれぞれ0以上2以下の整数を示し、kは0又は1を示し、Dの総数は1又は2である。〕
〔一般式(VI)中、L2はAr1乃至Ar4のアリール基又はAr5のアリール基若しくはアリーレン基に直結した−(CH2)n−O−で示される基を含む2価の連結基を示す。nは3以上6以下の整数を示す。〕
〔一般式(V)中、Ar1乃至Ar4はそれぞれ独立に置換若しくは未置換のアリール基を示し、Ar5は置換若しくは未置換のアリール基、又は置換若しくは未置換のアリーレン基を示し、Dは下記一般式(VI)で示される基を示す。c5乃至c9はそれぞれ0以上2以下の整数を示し、kは0又は1を示し、Dの総数は3以上8以下である。〕
〔一般式(VI)中、L2はAr1乃至Ar4のアリール基又はAr5のアリール基若しくはアリーレン基に直結した−(CH2)n−O−で示される基を含む2価の連結基を示す。nは1以上6以下の整数を示す。〕
〔一般式(V)中、Ar1乃至Ar4はそれぞれ独立に置換若しくは未置換のアリール基を示し、Ar5は置換若しくは未置換のアリール基、又は置換若しくは未置換のアリーレン基を示し、Dは下記一般式(VII)で示される基を示す。c5乃至c9はそれぞれ0以上2以下の整数を示し、kは0又は1を示し、Dの総数は1以上8以下である。〕
〔一般式(VII)中、L3は−C(=O)−、−N(R)−、−S−、または−C(=O)−にさらに−O−、−N(R)−、若しくは−S−を組み合わせた基からなる群より選択される1つ以上の基を含む2価の連結基を示す。Rは水素原子、アルキル基、アリール基またはアラルキル基を示す。〕
本実施形態に係る電子写真感光体は、導電性支持体と、導電性支持体上に配置された感光層とを有し、最表面層が、前記本実施形態に係る電荷輸送性膜形成用組成物から形成されたものである。
最表面層が保護層として機能する層である場合、この保護層の下層には、電荷輸送層及び電荷発生層からなる感光層、又は単層型感光層を有することとなる。そして、この保護層が特定の反応性基含有化合物の重合体である形態が挙げられる。
なお、特定の反応性基含有電荷輸送材料と共に、不飽和結合を有する化合物、反応性を有さない電荷輸送材料(非反応性の電荷輸送材料)を併用してもよい。
図2に示す電子写真感光体7Bにおいては、導電性支持体4上に下引層1が設けられ、その上に、電荷輸送層3、電荷発生層2、及び保護層5が順次形成された構造を有するものである。電子写真感光体7Bにおいては、電荷輸送層3及び電荷発生層2により感光層が構成される。
なお、図1、図2及び図3に示す電子写真感光体において、下引層1は設けてもよいし、設けなくてもよい。
まず、電子写真感光体7Aにおける最表面層である保護層5について説明する。
保護層5は、電子写真感光体7Aにおける最表面層であり、特定の反応性基含有電荷輸送材料の重合体を含有して形成される。つまり、保護層5は、特定の反応性基含有化合物と、誘電率が5.0以上の溶剤と、フッ素含有樹脂粒子と、フッ素含有分散剤と、を含む組成物を硬化させて形成されている。
本実施形態の電荷輸送性膜形成用組成物(特定の反応性基含有電荷輸送材料)は、誘電率が5.0以上の溶剤と、前記一般式(I)で示される化合物のうち前記(I−a)、(I−b)、(I−c)及び(I−d)の化合物並びに前記一般式(II)で示される化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種の化合物(特定の反応性基含有化合物)と、フッ素含有樹脂粒子と、フッ素含有分散剤と、を含んで構成されている。
前記一般式(I)及び(II)中、Fは、電荷輸送性骨格、つまり電荷輸送性を有する構造を示し、具体的には、フタロシアニン系化合物、ポルフィリン系化合物、アゾベンゼン系化合物、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、アリールアルカン系化合物、アリール置換エチレン系化合物、スチルベン系化合物、アントラセン系化合物、ヒドラゾン系化合物、キノン系化合物、フルオレノン系化合物、などの電荷輸送性を有する構造が挙げられる。
アルキレン基中に−C(=O)−O−が介在した2価の連結基、
アルキレン基中に−C(=O)−N(R)−が介在した2価の連結基、
アルキレン基中に−C(=O)−S−が介在した2価の連結基、
アルキレン基中に−O−が介在した2価の連結基、
アルキレン基中に−N(R)−が介在した2価の連結基、
アルキレン基中に−S−が介在した2価の連結基、
が挙げられる。
なお、Lが表す連結基は、アルキレン基中に、−C(=O)−O−、−C(=O)−N(R)−、−C(=O)−S−、−O−、又は−S−の基が2つ介在してもよい。
*−(CH2)p−C(=O)−O−(CH2)q−、
*−(CH2)p−C(=O)−N(R)−(CH2)q−、
*−(CH2)p−C(=O)−S−(CH2)q−、
*−(CH2)p−O−(CH2)q−、
*−(CH2)p−N(R)−(CH2)q−、
*−(CH2)p−S−(CH2)q−、
*−(CH2)p−O−(CH2)r−O−(CH2)q−
等が挙げられる。
ここで、Lが表す連結基中、pは、0、又は1以上6以下(望ましくは1以上5以下)の整数を示す。qは、1以上6以下(望ましくは1以上5以下)の整数を示す。rは、1以上6以下(望ましくは1以上5以下)の整数を示す。
なお、Lが表す連結基中、「*」は、Fと連結する部位を示している。
分枝状に連結したアルキレン基中に−C(=O)−O−が介在した(n+1)価の連結基、
分枝状に連結したアルキレン基中に−C(=O)−N(R)−が介在した(n+1)価の連結基、
分枝状に連結したアルキレン基中に−C(=O)−S−が介在した(n+1)価の連結基、
分枝状に連結したアルキレン基中に−O−が介在した(n+1)価の連結基、
分枝状に連結したアルキレン基中に−N(R)−が介在した(n+1)価の連結基、
分枝状に連結したアルキレン基中に−S−が介在した(n+1)価の連結基、
が挙げられる。
なお、L’が表す連結は、分枝状に連結したアルキレン基中に、−C(=O)−O−、−C(=O)−N(R)−、−C(=O)−S−、−O−、又は−S−の基が2つ介在してもよい。
*−(CH2)p−CH[C(=O)−O−(CH2)q−]2、
*−(CH2)p−CH[C(=O)−N(R)−(CH2)q−]2、
*−(CH2)p−CH[C(=O)−S−(CH2)q−]2、
*−(CH2)p−CH[(CH2)r−O−(CH2)q−]2、
*−(CH2)p−CH[(CH2)r−N(R)−(CH2)q−]2、
*−(CH2)p−CH[(CH2)r−S−(CH2)q−]2、
*−(CH2)p−O−C[(CH2)r−O−(CH2)q−]3
*−(CH2)p−C(=O)−O−C[(CH2)r−O−(CH2)q−]3
等が挙げられる。
なお、Lが表す連結基中、「*」は、Fと連結する部位を示している。
「−N(R)−」のRが表すアリール基としては、炭素数6以上15以下(望ましくは6以上12以下)のアリール基が挙げられ、具体的には、例えば、フェニル基、トルイル基、キシリル基、ナフチル基等が挙げられる。
アラルキル基としては、炭素数7以上15以下(望ましくは7以上14以下)のアラルキル基が挙げられ、具体的には、例えば、ベンジル基、フェネチル基、ビフェニルメチレン基等が挙げられる。
m’は、1以上6以下の整数を示すことが望ましい。
nは、2以上3以下の整数を示すことが望ましい。
具体的には、一般式(I)で表される反応性化合物として望ましくは、下記一般式(III)、(V)で表され、且つ下記一般式(III)中のDが下記一般式(IV)で、また、一般式(V)の中のDが下記一般式(VI)又は(VII)で表される基を示す反応性化合物である。
また、一般式(II)で表される反応性化合物として特に望ましくは、下記一般式(V)で表され、且つ下記一般式(V)中のDが下記一般式(VIII)で表される基を示す反応性化合物である。
一般式(V)中、Dの総数は1又は2で、Dは下記一般式(VI)で示される基を示し、一般式(VI)中、L2は、Ar1乃至Ar4のアリール基、Ar5のアリール基又はアリーレン基に直結した−(CH2)n−O−で示される基を含む2価の連結基を示し、nは3以上6以下の整数を示す。
一般式(V)中、Dの総数は3乃至8で、Dは前記一般式(VI)で示される基を示し、一般式(VI)中、L2は、Ar1乃至Ar4のアリール基、Ar5のアリール基又はアリーレン基に直結した−(CH2)n−O−で示される基を含む2価の連結基を示し、nは1以上6以下の整数を示す。
一般式(V)中、Dの総数は1乃至8で、Dは下記一般式(VII)で示される基を示し、一般式(VII)中、L3は、−C(=O)−、−N(R)−、−S−、または−C(=O)−にさらに−O−、−N(R)−、若しくは−S−を組み合わせた基からなる群より選択される1つ以上の基を含む2価の連結基を示す。Rは水素原子、アルキル基、アリール基またはアラルキル基を示す。
Dの総数は1乃至8で、Dは下記一般式(VIII)で示される基を示し、一般式(VIII)中、Lは、アルキレン基、アルケニレン基、−C(=O)−、−N(R)−、−O−、−S−、及びアルカンから誘導される3価又は4価の基からなる群より選択される2種以上を組み合わせてなる(n+1)価の連結基を示し、Rは水素原子、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を示す。nは2以上3以下の整数を示す。
一般式(III)においてAr1、Ar2、Ar3及びAr4は、それぞれ独立に、置換若しくは未置換のアリール基を示し、Ar1、Ar2、Ar3及びAr4は、それぞれ、同一でもあってもよいし、異なっていてもよい。Ar5、Ar6はそれぞれ独立に、置換若しくは未置換のアリーレン基を示し、Ar5、Ar6は、それぞれ、同一でもあってもよいし、異なっていてもよい。
一般式(V)において、Ar1、Ar2、Ar3及びAr4は、それぞれ独立に、置換若しくは未置換のアリール基を示し、Ar1、Ar2、Ar3及びAr4は、それぞれ、同一でもあってもよいし、異なっていてもよい。
ここで、置換アリール基における置換基としては、−D以外のものとして、炭素数1以上4以下のアルキル基、炭素数1以上4以下のアルコキシ基、炭素数6以上10以下のアリール基等が挙げられ、且つこれらのアルキル基、アルコキシ基、アリール基は置換、未置換の何れであってもよい。
具体的には、一般式(I)及び(II)の電荷輸送性骨格F(一般式(III)、(V)中のDを除く骨格)の具体例、一般式(III)、(V)中の(D)c1乃至(D)c9で表される基の具体例と共に、一般式(I)及び(II)で示される特定の反応性基含有化合物の具体例を示すが、これらに限定されるわけではない。
なお、一般式(I)及び(II)の電荷輸送性骨格F(一般式(III)中のDを除く骨格)の具体例の「*」部分は、(D)c1乃至(D)c9で表される基の具体例の「*」部分が連結していることを意味する。
即ち、特定の反応性基含有化合物は、前駆体であるカルボン酸、あるいは、アルコールと、対応するクロロメチルスチレンなどでのエーテル化などにより合成できる。
この際、溶剤としては、種々のものが挙げられるが、メタノール、エタノール、エチレングリコールなどのアルコール系を用いるか、これに水を混合して用いることがよい。
さらに、アリールアミン化合物の溶解性が低い場合には、塩化メチレン、クロロホルム、トルエン、ジメチルスルホキシド、エーテル、テトラヒドロフランなどを加えてもよい。
反応温度は、例えば、室温(例えば25℃)以上溶剤の沸点以下の範囲で設定され、反応速度の問題上、50℃以上が望ましい。
触媒の量については、特に制限はないが、例えば、エステル基を含有するアリールアミン化合物1質量部に対して0.001質量部以上1質量部以下、望ましくは0.01質量部以上0.5質量部以下で用いることがよい。
加水分解反応後、塩基性触媒で加水分解を行った場合には、生成した塩を酸(例えば塩酸等)で中和し、遊離させる。さらに、十分に水洗した後、乾燥して使用するか、必要によっては、メタノール、エタノール、トルエン、酢酸エチル、アセトンなど、適当な溶剤により、再結晶精製を行った後、乾燥して使用してもよい。
溶剤としては、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、N,N−ジメチルホルムアミド等の非プロトン性極性溶剤、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン系溶剤、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶剤、トルエン、クロロベンゼン、1ークロロナフタレンなどの芳香族系溶剤などが有効であり、アリールアミン化合物カルボン酸の1質量部に対して、1質量部以上100質量部以下、望ましくは2質量部以上50質量部以下の範囲で用いられることがよい。
反応温度は特に制限はない。反応終了後、反応液を水にあけ、トルエン、ヘキサン、酢酸エチルなどの溶剤で抽出、水洗し、さらに、必要により活性炭、シリカゲル、多孔質アルミナ、活性白土などの吸着剤を用いて精製を行ってもよい。
アリールアミン化合物アルコールのアルコールに対し、ハロゲン化メチルスチレンを1当量以上、望ましくは、1.2当量以上、より望ましくは1.5当量以上加えることがよく、塩基はハロゲン化メチルスチレンに対し0.8当量以上2.0当量以下、望ましくは、1.0当量以上1.5当量以下で用いることがよい。
溶剤としては、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、N,N−ジメチルホルムアミド等の非プロトン性極性溶剤、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン系溶剤、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶剤、トルエン、クロロベンゼン、1ークロロナフタレンなどの芳香族系溶剤などが有効であり、アリールアミン化合物アルコールの1質量部に対して、1質量部以上100質量部以下、望ましくは2質量部以上50質量部以下の範囲で用いることがよい。
反応温度は特に制限はない。反応終了後、反応液を水にあけ、トルエン、ヘキサン、酢酸エチルなどの溶剤で抽出、水洗し、さらに、必要により活性炭、シリカゲル、多孔質アルミナ、活性白土などの吸着剤を用いて精製を行ってもよい。
フッ素含有樹脂粒子としては、フルオロオレフィンのホモポリマーや、2種以上の共重合体であって、フルオロオレフィンの1種又は2種以上と非フッ素系のモノマーとの共重合体が用いられる。
フッ素含有樹脂粒子の平均粒子径としては0.01μm以上100μm以下が好ましく、特に0.03μm以上5μm以下であることが好ましい。
尚、上記フッ素含有樹脂粒子の平均粒子径は、レーザー回折式粒度分布測定装置LA−700(堀場製作所製)を用いて測定した値をいう。
フルエンス:50mJ/cm2/パルス以上
入射エネルギー:0.1J/cm2以上
ショット数:100以下
KrF
フルエンス:100mJ/cm2/パルス以上500mJ/cm2/パルス以下
入射エネルギー:0.2J/cm2以上2.0J/cm2以下
ショット数:1以上20以下
フルエンス:50mJ/cm2/パルス以上150mJ/cm2/パルス以下
入射エネルギー:0.1J/cm2以上1.0J/cm2以下
ショット数:1以上20以下
フッ素含有分散剤は、フッ素含有樹脂粒子を表面層中に分散させるために用いられるものであるため、界面活性作用を有していることが好ましく、つまり分子内に親水基と疎水基とを持つ物質であることが好ましい。
また、フッ素を有さないモノマーとしては、例えば、イソブチルアクリレート、t−ブチルアクリレート、イソオクチルアクリレート、ラウリルアクリレート、ステアリルアクリレート、イソボルニルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、2−メトキシエチルアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、2−エトキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ベンジルアクリレート、エチルカルビトールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、4−ヒドロキシブチルアクリレート、メトキシポリエチレングリコールアクリレート、メトキシポリエチレングリコールメタクリレート、フェノキシポリエチレングリコールアクリレート、フェノキシポリエチレングリコールメタクリレート、ヒドロキシエチルo−フェニルフェノールアクリレート、o−フェニルフェノールグリシジルエーテルアクリレートが挙げられる。また、米国特許5637142号明細書、特許第4251662号公報、特許第4251662号公報などに開示されたブロック又はブランチポリマーなどが挙げられる。またその他に、フッ素系界面活性剤が挙げられる。フッ素系界面活性剤の具体例としては、サーフロンS−611、サーフロンS−385(AGCセイミケミカル社製)、フタージェント730FL、フタージェント750FL(ネオス社製)、PF−636、PF−6520(北村化学社製)、メガファックEXP,TF−1507、メガファックEXP、TF−1535(大日本インキ社製)、FC−4430、FC−4432(3M社製)などが挙げられる。
尚、上記特定樹脂の重量平均分子量は100以上50000以下が好ましい。
表面保護層では、他の界面活性剤を添加してもよい。但し、その量としては極力少ないことが好ましく、フッ素含有樹脂粒子1質量部に対し、0質量部以上0.1質量部以下が好ましく、更に0質量部以上0.05質量部以下がより好ましく、0質量部以上0.03質量部以下が特に好ましい。
本実施形態に係る電荷輸送性膜形成用組成物を用いた表面保護層の形成においては、誘電率が5.0以上の溶剤(以下、「特定の溶剤」と称する場合がある。)が用いられる。なお、溶剤の誘電率は、例えば日本ルフト製液体用誘電率計Model871によって特定される値である。
誘電率が5.0以上の溶剤としては、例えば水(誘電率80;25.0℃)等の水系媒体、メタノール(誘電率33;25.0℃)、エタノール(誘電率24;25.0℃)、1−プロパノール(誘電率20;25.0℃)、2−プロパノール(誘電率18;25.0℃)、n−ブタノール(誘電率17.4;25.0℃)、t−ブタノール、1−ペンタノール(誘電率14.8;25.0℃)、2−ペンタノール、3−ペンタノール、シクロペンタノール(誘電率16.5;25.0℃)、2−メチル−2−ブタノール(誘電率5.7;25.0℃)、3−メチル−1−ブタノール、2−メチル−1−プロパノール(誘電率17.4;25.0℃)、2−エチル−1−ブタノール、3,5−ジメチル−1−ヘキシン−3−オール、2−ブタノール(誘電率16.1;25.0℃)、2−メチル−2−プロパノール(誘電率11.5;25.0℃)、2−プロピン−1−オール、2−メチル−1−ブタノール、3−メチル−2−ブタノール、3−メチル−1−ブチン−3−オール、4−メチル−2−ペンタノール、3−メチル−1−ペンチン−3−オール などの未分岐、分岐および環状脂肪族アルコール類、エチレングリコール(誘電率38.7;25.0℃)、プロピレングリコール(誘電率32;25.0℃)などのグリコール類、アセトン(誘電率19.5;25.0℃)、アセチルアセトン、エチル−n−ブチルケトン、ジエチルケトン、メチル−n−アミルケトン、メチル−n−ブチルケトン、メチル−n−プロピルケトン、メチルイソブチルケトン(誘電率13.5;25.0℃)、メチルエチルケトン(誘電率15.5;25.0℃)、シクロペンタノン(誘電率13.5;25.0℃)、ジノルマルプロピルケトン(誘電率12.3;25.0℃)、ジイソプロピルケトン(誘電率12.9;25.0℃)などのケトン類、イソ吉草酸エチル、ギ酸イソアミル、ギ酸イソブチル、ギ酸ブチル、ギ酸プロピル、酢酸アミル、酢酸アリル、酢酸イソブチル(誘電率5.0;25.0℃)、酢酸イソプロピル(誘電率6.0;25.0℃)、酢酸エチル(誘電率6.4;25.0℃)、酢酸n−ブチル、酢酸s−ブチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、炭酸ジエチル、炭酸ジメチル、乳酸アミル、乳酸エチル、乳酸メチル(誘電率16.7;25.0℃)、プロピオン酸イソアミル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸ブチル、プロピオン酸メチル、酪酸イソプロピル、酪酸エチル、酪酸メチルなどのエステル類、テトラヒドロフラン(誘電率7.6;25.0℃)、テトラヒドロピラン(誘電率7.3;25.0℃)などのエーテル類、プロピレングリコールモノメチルエーテル(誘電率11.9;25.0℃)、プロピレングリコールモノエチルエーテル(誘電率10.1;25.0℃)、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル(誘電率10.7;25.0℃)、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(誘電率7.8;25.0℃)などの多価アルコールエーテルとそのエステル類などの群より選ばれた一種以上の溶剤を単独、又は混合して有機溶剤として用いることができる。
尚、乾燥時間の点から溶剤は沸点が150℃以下のものが好ましい。
保護層(最表面層)5を構成する膜は、不飽和結合を有する化合物を併用してもよい。
不飽和結合を有する化合物としては、モノマー、オリゴマー、ポリマーのいずれであってもよく、また、電荷輸送性骨格を有していてもよい。
1官能のモノマーは、例えば、イソブチルアクリレート、t−ブチルアクリレート、イソオクチルアクリレート、ラウリルアクリレート、ステアリルアクリレート、イソボルニルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、2−メトキシエチルアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、2−エトキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ベンジルアクリレート、エチルカルビトールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、4−ヒドロキシブチルアクリレート、メトキシポリエチレングリコールアクリレート、メトキシポリエチレングリコールメタクリレート、フェノキシポリエチレングリコールアクリレート、フェノキシポリエチレングリコールメタクリレート、ヒドロキシエチルo−フェニルフェノールアクリレート、o−フェニルフェノールグリシジルエーテルアクリレート、スチレン、などが挙げられる。
3官能のモノマーは、例えば、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、脂肪族トリ(メタ)アクリレート、トリビニルシクロヘキサン等が挙げられる。
4官能のモノマーは、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、脂肪族テトラ(メタ)アクリレート等が挙げられる。
5官能以上のモノマーは、例えば、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等の他、ポリエステル骨格、ウレタン骨格、フォスファゼン骨格を有する(メタ)アクリレート等が挙げられる。
・連鎖重合性官能基(スチリル基を除く連鎖重合性官能基)及び電荷輸送性骨格を同一分子内に持つ化合物
連鎖重合性官能基及び電荷輸送性骨格を同一分子内に持つ化合物における連鎖重合性官能基としては、ラジカル重合しうる官能基であれば特に限定されるものではなく、例えば、少なくとも炭素二重結合を含有する基を有する官能基である。具体的には、ビニル基、ビニルエーテル基、ビニルチオエーテル基、スチリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、及びそれらの誘導体から選択される少なくも一つを含有する基等が挙げられる。なかでも、その反応性に優れることから、連鎖重合性官能基としては、ビニル基、スチリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、及びそれらの誘導体から選択される少なくも一つを含有する基であることが望ましい。
また、連鎖重合性官能基及び電荷輸送性骨格を同一分子内に持つ化合物における電荷輸送性骨格としては電子写真感光体における公知の構造であれば特に限定されるものではなく、例えば、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、ヒドラゾン系化合物などの含窒素の正孔輸送性化合物に由来する骨格であって、窒素原子と共役している構造が挙げられる。これらの中でも、トリアリールアミン骨格が望ましい。
ここで、一般式(B)及び(C)によりそれぞれ表される部分構造を含むポリマーの末端基としては、ラジカル重合反応による停止反応で生じた構造である。
Xが表す2価の有機基として具体的には、例えば、−C(=O)−O−(CH2)n−(但し、nは0又は1以上10以下の整数を表す)等が挙げられる。
Yが表す2価の有機基として具体的には、−(CH)n−(但し、nは1以上10以下の整数を表す)、−(CH2)n−O−C(=O)−(但し、nは0又は1以上10以下の整数を表し、「(CH2)n」の水素原子の一部は水酸基が置換していてもよい)、−(CH2)n−Ar−(但し、Arは芳香環数1以上3以下のアリーレン基を表し、nは0又は1以上10以下の整数を表す)、−Ar−O−(CH2)n−O−C(=O)−(但し、Arは芳香環数1以上3以下のアリーレン基を表し、nは0又は1以上10以下の整数を表す)等が挙げられる。
m、nはそれぞれ5以上の整数を表し、10<m+n<2000、かつ0.2<m/(m+n)<0.95であり、強度、可とう性、電気特性の観点から、15<m+n<2000、かつ0.3<m/(m+n)<0.95が望ましく、20<m+n<2000、かつ0.4<m/(m+n)<0.95がさらに望ましい。
なお、一般式(D)中、Xが表す2価の有機基、及びCTが表す電荷輸送性骨格を持つ有機基としては、一般式(B)及び(C)中のX、CTと同義である。
1官能のモノマーとしては、例えば、イソブチルアクリレート、t−ブチルアクリレート、イソオクチルアクリレート、ラウリルアクリレート、ステアリルアクリレート、イソボルニルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、2−メトキシエチルアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、2−エトキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ベンジルアクリレート、エチルカルビトールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、4−ヒドロキシブチルアクリレート、メトキシポリエチレングリコールアクリレート、メトキシポリエチレングリコールメタクリレート、フェノキシポリエチレングリコールアクリレート、フェノキシポリエチレングリコールメタクリレート、ヒドロキシエチルo−フェニルフェノールアクリレート、o−フェニルフェノールグリシジルエーテルアクリレート、などのアクリレート、あるいは、メタクリレート、スチレン、α−メチルスチレン、4−メチルスチレンなどのスチレン誘導体などが挙げられる。
これらを共重合する際に使用される量(l)は、溶解性及び可とう性を付与する観点から、上記一般式(D)中のmに対してl/m<0.3が望ましく、l/m<0.2がより望ましい。
保護層(最表面層)5を構成する膜は、非反応性の電荷輸送材料を併用してもよい。非反応性の電荷輸送材料は電荷輸送を担っていない反応性基を有さないため、非反応性の電荷輸送材料を保護層(最表面層)5に用いた場合には実質的に電荷輸送成分の濃度が高まり、電気特性を更に改善するのに有効である。また、非反応性の電荷輸送材料を添加して架橋密度を減じ、強度を調整してもよい。
中でも、モビリティー、相溶性など点から、トリフェニルアミン骨格を有するものが望ましい。
保護層(最表面層)5を構成する膜は、更に成膜性、可とう性、潤滑性、接着性を調整するなどの目的から、他のカップリング剤、特にフッ素含有のカップリング剤と混合して用いてもよい。このような化合物として、各種シランカップリング剤、及び市販のシリコーン系ハードコート剤が用いられる。また、ラジカル重合性基を有するシリコン化合物、フッ素含有化合物を用いてもよい。
市販のハードコート剤としては、KP−85、X−40−9740、X−8239(以上、信越化学工業社製)、AY42−440、AY42−441、AY49−208(以上、東レダウコーニング社製)等が挙げられる。
ラジカル重合性基を有するシリコン化合物、フッ素含有化合物としては、特開2007−11005号公報に記載の化合物などが挙げられる。
劣化防止剤の添加量としては20質量%以下が望ましく、10質量%以下がより望ましい。
ヒンダードアミン系酸化防止剤としては、サノールLS2626、サノールLS765、サノールLS770、サノールLS744、以上三共ライフテック社製、チヌビン144、チヌビン622LD、、以上、チバ・ジャパン社製、マークLA57、マークLA67、マークLA62、マークLA68、マークLA63、以上、アデカ社製が挙げられ、チオエーテル系として、スミライザーTPS、スミライザーTP−D、以上、住友化学社製が挙げられ、ホスファイト系として、マーク2112、マークPEP−8、マークPEP−24G、マークPEP−36、マーク329K、マークHP−10、以上、アデカ社製等が挙げられる。
この粒子の一例として、ケイ素含有粒子が挙げられる。ケイ素含有粒子とは、構成元素にケイ素を含む粒子であり、具体的には、コロイダルシリカ及びシリコーン粒子等が挙げられる。ケイ素含有粒子として用いられるコロイダルシリカは、望ましくは平均粒径1nm以上100nm以下、より望ましくは10nm以上30nm以下のシリカを、酸性若しくはアルカリ性の水分散液、あるいはアルコール、ケトン、エステル等の有機溶媒中に分散させたものから選ばれる。該粒子としては一般に市販されているものを使用してもよい。
これらのシリコーン粒子は球状で、その平均粒径は望ましくは1nm以上500nm以下、より望ましくは10nm以上100nm以下である。
表面層中のシリコーン粒子の含有量は、保護層5の全固形分全量を基準として、望ましくは0.1質量%以上30質量%以下、より望ましくは0.5質量%以上10質量%以下である。
シリコーンオイルとしては、ジメチルポリシロキサン、ジフェニルポリシロキサン、フェニルメチルシロキサン等のシリコーンオイル;アミノ変性ポリシロキサン、エポキシ変性ポリシロキサン、カルボキシル変性ポリシロキサン、カルビノール変性ポリシロキサン、メタクリル変性ポリシロキサン、メルカプト変性ポリシロキサン、フェノール変性ポリシロキサン等の反応性シリコーンオイル;ヘキサメチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、ドデカメチルシクロヘキサシロキサン等の環状ジメチルシクロシロキサン類;1,3,5−トリメチル−1.3.5−トリフェニルシクロトリシロキサン、1,3,5,7−テトラメチル−1,3,5,7−テトラフェニルシクロテトラシロキサン、1,3,5,7,9−ペンタメチル−1,3,5,7,9−ペンタフェニルシクロペンタシロキサン等の環状メチルフェニルシクロシロキサン類;ヘキサフェニルシクロトリシロキサン等の環状フェニルシクロシロキサン類;3−(3,3,3−トリフルオロプロピル)メチルシクロトリシロキサン等のフッ素含有シクロシロキサン類;メチルヒドロシロキサン混合物、ペンタメチルシクロペンタシロキサン、フェニルヒドロシクロシロキサン等のヒドロシリル基含有シクロシロキサン類;ペンタビニルペンタメチルシクロペンタシロキサン等のビニル基含有シクロシロキサン類等が挙げられる。
これらは単独で、又は2種以上を組み合わせて用いる。2種以上を組み合わせて用いる場合は、単に混合しても、固溶体や融着での混合でもよい。導電性粒子の平均粒径は0.3μm以下、特に0.1μm以下が望ましい。
保護層形成用塗布液(本実施形態に係る電荷輸送性膜形成用組成物)は、被塗布面(図1に示す態様では電荷輸送層3)の上に、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法、インクジェット塗布法等の通常の方法により塗布される。
その後、得られた塗膜に対して、光、電子線又は熱を付与してラジカル重合を生起させて、該塗膜を重合、硬化させる。
電子線を用いる場合、加速電圧は300KV以下が望ましく、最適には150KV以下である。また、線量は望ましくは1Mrad以上100Mrad以下の範囲、より望ましくは3Mrad以上50Mrad以下の範囲である。加速電圧が300KV以下であることにより感光体特性に対する電子線照射のダメージが抑制される。また、線量が1Mrad以上であることにより架橋が十分に行なわれ、100Mrad以下であることにより感光体の劣化が抑制される。
光源としては、高圧水銀灯、低圧水銀灯、メタルハライドランプなどが用いられ、バンドパスフィルター等のフィルターを用いて好適な波長を選択してもよい。照射時間、光強度は自由に選択されるが、例えば照度(365nm)は300mW/cm2以上、1000mW/cm2以下が望ましく、例えば600mW/cm2のUV光を照射する場合、5秒以上360秒以下照射すればよい。
より具体的には、ベンジルケタール系として、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オンが挙げられる。
アミノアルキルフェノン系としては、p−ジメチルアミノアセトフェノン、p−ジメチルアミノプロピオフェノン、2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1,2−(ジメチルアミノ)−2−[(4−メチルフェニル)メチル]−1−[4−(4−モリホニル)フェニル]−1−ブタノンなどが挙げられる。
ホスフィノキサイド系としては、2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−ホスフィンオキサイド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルホスフィンキサイドなどが挙げられる。
チタノセン系としては、ビス(η5−2,4−シクロペンタジエン−1−イル)−ビス(2,6−ジフルオロ−3−(1H−ピロール−1−イル)−フェニル)チタニウムなどが挙げられる。
オキシム系としては、1,2−オクタンジオン,1−[4−(フェニルチオ)−,2−(O−ベンゾイルオキシム)]、エタノン,1−[9−エチル−6−(2−メチルベンゾイル)−9H−カルバゾール−3−イル]−,1−(O−アセチルオキシム)などが挙げられる。
より具体的には、ベンゾフェノン系として、2−ベンゾイル安息香酸、2−クロロベンゾフェノン、4,4’−ジクロロベンゾフェノン、4−ベンゾイル−4’−メチルジフェニルスルフィド、p,p’−ビスジエチルアミノベンゾフェノンなどが挙げられる。
チオキサントン系としては、2,4−ジエチルチオキサンテン−9−オン、2−クロロチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントンなどが挙げられる。
ベンジル系としては、ベンジル、(±)−カンファーキノン、p−アニシルなどが挙げられる。
熱重合開始剤としては、熱ラジカル発生剤又はその誘導体が挙げられ、具体的には、V−30、V−40、V−59、V601、V65、V−70、VF−096、VE−73、Vam−110、Vam−111(和光純薬製)、OTazo−15、OTazo−30、AIBN、AMBN、ADVN、ACVA(大塚化学)等のアゾ系開始剤;パーテトラA、パーヘキサHC、パーヘキサC、パーヘキサV、パーヘキサ22、パーヘキサMC、パーブチルH、パークミルH、パークミルP、パーメンタH、パーオクタH、パーブチルC、パーブチルD、パーヘキシルD、パーロイルIB、パーロイル355、パーロイルL、パーロイルSA、ナイパーBW、ナイパーBMT−K40/M、パーロイルIPP、パーロイルNPP、パーロイルTCP、パーロイルOPP、パーロイルSBP、パークミルND、パーオクタND、パーヘキシルND、パーブチルND、パーブチルNHP、パーヘキシルPV、パーブチルPV、パーヘキサ250、パーオクタO、パーヘキシルO、パーブチルO、パーブチルL、パーブチル355、パーヘキシルI、パーブチルI、パーブチルE、パーヘキサ25Z、パーブチルA、パーヘキシルZ、パーブチルZT、パーブチルZ(日油化学社製)、カヤケタールAM−C55、トリゴノックス36−C75、ラウロックス、パーカドックスL−W75、パーカドックスCH−50L、トリゴノックスTMBH、カヤクメンH、カヤブチルH−70、ペルカドックスBC−FF、カヤヘキサAD、パーカドックス14、カヤブチルC、カヤブチルD、カヤヘキサYD−E85、パーカドックス12−XL25、パーカドックス12−EB20、トリゴノックス22−N70、トリゴノックス22−70E、トリゴノックスD−T50、トリゴノックス423−C70、カヤエステルCND−C70、カヤエステルCND−W50、トリゴノックス23−C70、トリゴノックス23−W50N、トリゴノックス257−C70、カヤエステルP−70、カヤエステルTMPO−70、トリゴノックス121、カヤエステルO、カヤエステルHTP−65W、カヤエステルAN、トリゴノックス42、トリゴノックスF−C50、カヤブチルB、カヤカルボンEH−C70、カヤカルボンEH−W60、カヤカルボンI−20、カヤカルボンBIC−75、トリゴノックス117、カヤレン6−70(化薬アクゾ社製)、ルルペロックス610、ルペロックス188、ルペロックス844、ルペロックス259、ルペロックス10、ルペロックス701、ルペロックス11、ルペロックス26、ルペロックス80、ルペロックス7、ルペロックス270、ルペロックスP、ルペロックス546、ルペロックス554、ルペロックス575、ルペロックスTANPO、ルペロックス555、ルペロックス570、ルペロックスTAP、ルペロックスTBIC、ルペロックスTBEC、ルペロックスJW、ルペロックスTAIC、ルペロックスTAEC、ルペロックスDC、ルペロックス101、ルペロックスF、ルペロックスDI、ルペロックス130、ルペロックス220、ルペロックス230、ルペロックス233、ルペロックス531などが挙げられる。
特に、特定の反応性基含有電荷輸送材料と熱による硬化とを組み合わせることで、塗膜の構造緩和の促進が図られ、表面性状に優れた高い保護層5(最表面層)が得られ易くなる。
導電性支持体4としては、例えば、アルミニウム、銅、亜鉛、ステンレス、クロム、ニッケル、モリブデン、バナジウム、インジウム、金、白金等の金属又は合金を用いて構成される金属板、金属ドラム、及び金属ベルトが挙げられる。また、導電性支持体4としては、導電性ポリマー、酸化インジウム等の導電性化合物やアルミニウム、パラジウム、金等の金属又は合金を塗布、蒸着又はラミネートした紙、プラスチックフィルム、ベルト等も挙げられる。
ここで、「導電性」とは体積抵抗率が1013Ωcm未満であることをいう。
陽極酸化膜の膜厚については、0.3μm以上15μm以下が望ましい。
先ず、酸性処理液を調製する。酸性処理液におけるリン酸、クロム酸及びフッ酸の配合割合は、リン酸が10質量%以上11質量%以下の範囲、クロム酸が3質量%以上5質量%以下の範囲、フッ酸が0.5質量%以上2質量%以下の範囲であって、これらの酸全体の濃度は13.5質量%以上18質量%以下の範囲が望ましい。処理温度は42℃以上48℃以下が望ましいが、処理温度を高く保つことにより、一層速く、かつ厚い被膜が形成される。被膜の膜厚は、0.3μm以上15μm以下が望ましい。
下引層1は、例えば、金属酸化物粒子及び結着樹脂を含有して構成され、厚さ7μm以上である。
金属酸化物粒子としては、粉体抵抗(体積抵抗率)102Ω・cm以上1011Ω・cm以下のものが望ましく用いられる。
金属酸化物粒子のBET法による比表面積は、10m2/g以上が望ましい。
金属酸化物粒子の体積平均粒径は50nm以上2000nm以下(望ましくは60nm以上1000nm以下)の範囲であることが望ましい。
アクセプター性化合物としては、上記特性が得られるものであれば限定されず、クロラニル、ブロモアニル等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン系化合物、2,4,7−トリニトロフルオレノン、2,4,5,7−テトラニトロ−9−フルオレノン等のフルオレノン化合物、2−(4−ビフェニル)−5−(4−t−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾールや2,5−ビス(4−ナフチル)−1,3,4−オキサジアゾール、2,5−ビス(4−ジエチルアミノフェニル)1,3,4オキサジアゾール等のオキサジアゾール系化合物、キサントン系化合物、チオフェン化合物、3,3’,5,5’テトラ−t−ブチルジフェノキノン等のジフェノキノン化合物等の電子輸送性物質などが望ましく、特にアントラキノン構造を有する化合物が望ましい。更にヒドロキシアントラキノン系化合物、アミノアントラキノン系化合物、アミノヒドロキシアントラキノン系化合物等、アントラキノン構造を有するアクセプター性化合物が望ましく用いられ、具体的にはアントラキノン、アリザリン、キニザリン、アントラルフィン、プルプリン等が挙げられる。
金属酸化物粒子表面にアクセプター化合物を付与させる方法としては、乾式法、又は、湿式法が挙げられる。
また、下引層1に含有される結着樹脂として、電荷輸送性基を有する電荷輸送性樹脂やポリアニリン等の導電性樹脂等を用いてもよい。なかでも上層の塗布溶剤に不溶な樹脂が好適であり、特にフェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂等が好適である。これらを2種以上組み合わせて使用する場合には、その混合割合は、必要に応じて設定される。
添加物としては、多環縮合系、アゾ系等の電子輸送性顔料、ジルコニウムキレート化合物、チタニウムキレート化合物、アルミニウムキレート化合物、チタニウムアルコキシド化合物、有機チタニウム化合物、シランカップリング剤等の公知の材料が用いられる。シランカップリング剤は前述のように無機粒子の表面処理に用いられるが、添加剤として更に下引層形成用塗布液に添加してもよい。
また、ジルコニウムキレート化合物の例としては、ジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセト酢酸エチル、ジルコニウムトリエタノールアミン、アセチルアセトネートジルコニウムブトキシド、アセト酢酸エチルジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセテート、ジルコニウムオキサレート、ジルコニウムラクテート、ジルコニウムホスホネート、オクタン酸ジルコニウム、ナフテン酸ジルコニウム、ラウリン酸ジルコニウム、ステアリン酸ジルコニウム、イソステアリン酸ジルコニウム、メタクリレートジルコニウムブトキシド、ステアレートジルコニウムブトキシド、イソステアレートジルコニウムブトキシド等が挙げられる。
溶媒として、具体的には、例えば、メタノール、エタノール、n−プロパノール、iso−プロパノール、n−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸n−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロルベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤が用いられる。
更に、下引層1を設けるときに用いる塗布方法としては、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が用いられる。
下引層1の表面粗さ(十点平均粗さ)は、使用される露光用レーザー波長λの1/4n(nは上層の屈折率)から1/2λまでに調整することが望ましい。
表面粗さ調整のために下引層中に樹脂などの粒子を添加してもよい。樹脂粒子としてはシリコーン樹脂粒子、架橋型ポリメタクリル酸メチル樹脂粒子等が用いられる。
また、表面粗さ調整のために下引層表面を研磨してもよい。研磨方法としては、バフ研磨、サンドブラスト処理、湿式ホーニング、研削処理等が用いられる。LED,有機ELイメージアレーなどの非干渉性光源を用いる場合には平滑な表面を用いてもよい。
電荷発生層2は、電荷発生材料及び結着樹脂を含有する層である。また、結着樹脂を含有しない蒸着膜として形成してもよい。特に、LED,有機ELイメージアレーなどの非干渉性光源を用いる場合には望ましい。
これは、三方晶系セレンや、フタロシアニン顔料などのp-型半導体で暗電流を生じやすい電荷発生材料を用いた時に顕著となる。
450nm以上780nm以下に発光の中心波長があるLED,有機ELイメージアレーなどの非干渉性光源を用い、平滑な基材、下引層を形成し、さらにn-型の電荷発生材料を用いることで、感光層を20μm以下の薄膜にしても画像欠陥を生じず、長期に渡って高解像度の画像が得られる。
n-型の電荷発生材料としては、具体的に以下の例があげられるがこれに限られるものではない。なお、n-型の判定は、通常使用されるタイムオブフライト法を用い、流れる光電流の極性によって判定され、正孔よりも電子をキャリアとして流しやすいものをn-型とする。
更にこの分散の際、電荷発生材料の平均粒径を0.5μm以下、望ましくは0.3μm以下、更に望ましくは0.15μm以下にすることが有効である。
電荷輸送層3は、電荷輸送材料と結着樹脂を含有して、又は高分子電荷輸送材を含有して形成される。
これらの結着樹脂は1種を単独で又は2種以上で用いる。電荷輸送材料と結着樹脂との配合比は質量比で10:1から1:5までが望ましい。
なお、電荷輸送層3に用いる結着樹脂の粘度平均分子量の上限値としては100000以下が望ましい。
ここで、本実施形態における結着樹脂の粘度平均分子量は、毛細管粘度計によって測定した値である。
なお、最表面層が電荷輸送層である場合には、その下層中に含まれる結着樹脂の粘度平均分子量が上記の範囲であることが望ましい。
電荷輸送層形成用塗布液に用いる溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロルベンゼン等の芳香族炭化水素類、アセトン、2−ブタノン等のケトン類、塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン等のハロンゲン化脂肪族炭化水素類、テトラヒドロフラン、エチルエーテル等の環状若しくは直鎖状のエーテル類等の通常の有機溶剤を単独又は2種以上混合して用いられる。また、上記各構成材料の溶解方法としては、公知の方法が使用される。
図4は、第1実施形態に係る画像形成装置100を示す概略構成図である。
図4に示される画像形成装置100は、電子写真感光体7を備えるプロセスカートリッジ300と、露光装置(静電潜像形成手段)9と、転写装置(転写手段)40と、中間転写体50と、を備える。なお、画像形成装置100において、露光装置9はプロセスカートリッジ300の開口部から電子写真感光体7を露光する位置に配置されており、転写装置40は中間転写体50を介して電子写真感光体7に対向する位置に配置されており、中間転写体50はその一部が電子写真感光体7に接触して配置されている。
かかるトナーとしては、平均形状係数(ML2/A×π/4×100、ここでMLはトナー粒子の最大長を表し、Aはトナー粒子の投影面積を表す)が100以上150以下であることが望ましく、100以上140以下であることがより望ましい。更に、トナーとしては、体積平均粒子径が2μm以上12μm以下であることが望ましく、3μm以上12μm以下であることがより望ましく、3μm以上9μm以下であることが更に望ましい。この如く平均形状係数及び体積平均粒子径を満たすトナーを用いることにより、他のトナーと比べ、高い現像、転写性、及び高画質の画像が得られる。
図5に示される画像形成装置120は、プロセスカートリッジ300を4つ搭載したタンデム方式のフルカラー画像形成装置である。
画像形成装置120では、中間転写体50上に4つのプロセスカートリッジ300がそれぞれ並列に配置されており、1色に付き1つの電子写真感光体が使用される構成となっている。なお、画像形成装置120は、タンデム方式であること以外は、画像形成装置100と同様の構成を有している。
更に、放電生成物の堆積をより長期に亘って抑制する観点から、現像ロール表面の移動速度の絶対値を、感光体表面の移動速度の絶対値(プロセススピード)の1.5倍以上2.5倍以下とすることが望ましく、1.7倍以上2.0倍以下とすることがより望ましい。
図6に示す画像形成装置130は、主に、ベルト状中間転写体401と、各色画像形成ユニット481,482,483,484と、加熱部450(層状化手段の一例)と、転写定着部460と、から構成されている。
フィルムフォーム化する現像剤とは、室温より低いガラス転移点(温度)を有する微小物質(微小トナーのようなもの)がキャリア液中に分散されている液体現像剤であり、通常は互いに接触凝集することはないが、キャリア液を除去するとその物質だけになり、膜状に付着されると室温で結合しフィルム化するものをいう。この物質は、エチルアルコールとメチルメタアクリレートとを配合することにより得られ、その配合比によってガラス転移温度が設定されるものである。
まず、画像形成ユニット481では、帯電装置411によりその表面を帯電された電子写真感光体410は、LEDアレイヘッド412によりイエロー画像情報に従った画像露光がなされて静電潜像が形成される。この静電潜像は、現像装置414にてイエロー液体現像剤で現像される。
図8は、他の実施形態に係る画像形成装置を示す概略構成図である。
図10は、図6又は図8に示す画像形成装置における他の現像装置を示す概略構成図である。
(電子写真感光体の作製)
−下引層の作製−
酸化亜鉛:(平均粒子径70nm:テイカ社製:比表面積値15m2/g)100質量部をトルエン500質量部と攪拌混合し、シランカップリング剤(KBM503:信越化学社製)1.3質量部を添加し、2時間攪拌した。その後トルエンを減圧蒸留にて留去し、120℃で3時間焼き付けを行い、シランカップリング剤表面処理酸化亜鉛を得た。
表面処理を施した酸化亜鉛110質量部を500質量部のテトラヒドロフランと攪拌混合し、アリザリン0.6質量部を50質量部のテトラヒドロフランに溶解させた溶液を添加し、50℃にて5時間攪拌した。その後、減圧ろ過にてアリザリンを付与させた酸化亜鉛をろ別し、さらに60℃で減圧乾燥を行いアリザリン付与酸化亜鉛を得た。
得られた分散液に触媒としてジオクチルスズジラウレート:0.005質量部、シリコーン樹脂粒子(トスパール145、GE東芝シリコーン社製):40質量部を添加し、下引層形成用塗布液を得た。
電荷発生物質としてのCukα特性X線を用いたX線回折スペクトルのブラッグ角度(2θ±0.2°)が少なくとも7.3゜,16.0゜,24.9゜,28.0゜の位置に回折ピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン15質量部、結着樹脂としての塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体樹脂(VMCH、日本ユニカー社製)10質量部、及びn−酢酸ブチル200質量部からなる混合物を、直径1mmφのガラスビーズを用いてサンドミルにて4時間分散した。得られた分散液にn−酢酸ブチル175質量部、及びメチルエチルケトン180質量部を添加し、攪拌して電荷発生層形成用塗布液を得た。
得られた電荷発生層形成用塗布液を先に円筒状アルミニウム支持体に形成した下引層上に浸漬塗布し、常温(25℃)で乾燥して、膜厚が0.2μmの電荷発生層を形成した。
N,N’−ジフェニル−N,N’−ビス(3−メチルフェニル)−[1,1’]ビフェニル−4,4’−ジアミン(TPD)40部、N,N−ビス(3,4−ジメチルフェニル)ビフェニル−4−アミン10部、及びビスフェノールZポリカーボネート樹脂(PC(Z):粘度平均分子量:6万)55部をクロルベンゼン800部に加えて溶解し、電荷輸送層用塗布液を得た。この塗布液を電荷発生層上に塗布し、130℃、45分の乾燥を行って膜厚が25μmの電荷輸送層を形成した。
次に、ルブロンL5(ダイキン工業(株)社製)5質量部及びフッ素系グラフトポリマー(アロンGF300:東亜合成製)0.2部を、酢酸エチル(誘電率:7.6)300部とともに、20℃の恒温槽内にて超音波ホモジナイザー(日本精機製作所(株)製)で10分間の分散処理を3回繰り返し、懸濁液を得た。その懸濁液に、電荷輸送性構造を有する連鎖重合性モノマーとして、前記(I)−7で表される化合物と、重合開始剤のVE−73(和光純薬工業(株)製)2部を加え、室温で12時間撹拌撹拌混合して、表面保護層形成用塗布液を作成した。
得られた表面保護層形成用塗布液を、先に円筒状アルミニウム支持体上に形成した電荷輸送層上にリング塗布法によって、突き上げ速度150mm/minで塗布した。その後、酸素濃度計を有する窒素乾燥機にて、酸素濃度200ppm以下の状態で、温度160±5℃、時間60分の硬化反応を実施し、表面保護層を形成した。表面保護層の膜厚は7μmであった。
実施例1に記載の方法により円筒状アルミニウム支持体に下引層、電荷発生層、電荷輸送層を順次塗布により形成した。その後、下記表1に従って表面保護層形成用塗布液の組成を変更した以外は、実施例1に記載の方法により表面保護層を形成して電子写真感光体を作製した。
各例で得られた電子写真感光体のフッ素含有樹脂粒子の分散性を以下の方法で評価した。感光体の基材から、片刃トリミング用カミソリ(日新EM(株)製)を用いて、下引層から表面層までの積層の切片を切り出し、光硬化性アクリル樹脂(品名D−800:日本電子データム製)を用いて切片を包埋した。次にダイアモンドナイフを用いるミクロトーム法(ミクロトーム装置:LEICA社製)で、積層の切片の断面が表れるように切削した。切片の断面を、オリンパス光学工業社製のレーザ顕微鏡OLS−1100にて、ステップ量0.01μmの条件で観察し、以下の基準で判断した。
A:均一に分散し、凝集なし。
B:部分的に弱い凝集あり。
C:強い凝集あり。
各例で得られた電子写真感光体を、富士ゼロックス社製 Docucentre−IV C2260に装着し、28.5℃、85%RHの環境下において、A4紙に、画像濃度100%のベタ塗り画像部分、画像濃度20%のハーフトーン画像部分および細線画像部分を有する印刷画像を連続して10000枚画像形成した。
100枚目の初期、10000枚目の経時での画像について、下記画像評価テストを行った。また、電子写真感光体の耐傷付性の評価も行った。結果を表2に示す。
なお、画像形成テストには、富士ゼロックス製P紙(A4サイズ、横送り)を用いた。
初期スジ状画像欠陥評価は、100枚目の印刷画像のハーフトーン画像部分を用いて目視にて観察し、以下の基準で判断した。
A:スジ状画像欠陥の発生なし。
B:部分的にスジ状画像欠陥の発生あり。
C:画質上問題となるスジ状画像欠陥発生。
経時後スジ状画像欠陥評価は、10000枚目の印刷画像のハーフトーン画像部分を用いて目視にて観察し、以下の基準で判断した。
A:スジ状画像欠陥の発生なし。
B:部分的にスジ状画像欠陥の発生あり。
C:画質上問題となるスジ状画像欠陥発生。
初期細線評価は、100枚目の印刷画像の細線画像部分を10倍のルーペを用いて拡大し、カスレの有無を目視で観察し、以下の基準で判断した。
A:ほとんどカスレなし。
B:僅かにカスレあり。
C:画質上問題となるカスレあり。
経時後細線評価は、10000枚目の印刷画像の細線画像部分を10倍のルーペを用いて拡大し、カスレの有無を目視で観察し、以下の基準で判断した。
A:ほとんどカスレなし。
B:僅かにカスレあり。
C:画質上問題となるカスレあり。
10000枚印刷後の電子写真感光体表面を目視にて観察し、以下の基準で判断した。
A+:傷の発生がない。
A :ごく一部に傷が発生した。
B :一部に傷が発生した。
C :全体的に傷が発生した。
[連鎖重合性モノマー]
・(a−1):(I)−7で表される化合物
・(a−2):(I)−363で表される化合物
・(a−3):(I)−143で表される化合物
・(a−4):(I)−43で表される化合物
・(a−5):(I)−178で表される化合物
・(a−6):(I)−226で表される化合物
・(a−7):(I)−238で表される化合物
・(a−8):下記構造式で表される化合物
・(b−1):酢酸エチル
・(b−2):テトラヒドロフラン
・(b−3):メチルイソブチルケトン
・(b−4):ジオキサン
・(b−5):シクロペンチルメチルエーテル
なお、各例で用いた溶剤の誘電率は、日本ルフト製液体用誘電率計Model871による値であり、表2に示した。
・(c−1):V−59(和光純薬工業(株)製)
・(c−2):VE−73(和光純薬工業(株)製)
・(c−3):OTazo−15(大塚化学(株)製)
・(c−4):パーヘキシルZ(日油(株)製)
・(d−1):N,N’−ジフェニル-N,N’−ビス(3-メチルフェニル)−[1,1’]ビフェニル−4,4’−ジアミン
・(e−1):t−ブチルアクリレート(和光純薬(株)製)
・(e−2):エトキシ化ビスフェノールAメタクリレート(新中村化学工業(株)製)
・(e−3):トリメチロールプロパントリアクリレート(日本化薬(株)製)
・(f−1):PCZ−400(ビスフェノール(Z)ポリカーボネート、三菱ガス化学(株)製)
Claims (9)
- 一種以上の溶剤と、下記一般式(I)で示される化合物のうち下記(I−a)、(I−b)、(I−c)及び(I−d)の化合物並びに下記一般式(II)で示される化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種の化合物と、フッ素含有樹脂粒子と、フッ素含有分散剤と、を含み、前記一種以上の溶剤の誘電率が全て5.0以上である電荷輸送性膜形成用組成物。
〔一般式(I)中、Fは電荷輸送性骨格を示し、Lはアルキレン基、アルケニレン基、−C(=O)−、−N(R)−、−S−、及び−O−からなる群より選択される2種以上を含む2価の連結基を示し、Rは水素原子、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を示す。mは1以上8以下の整数を示す。〕
〔一般式(II)中、Fは電荷輸送性骨格を示し、L’はアルキレン基、アルケニレン基、−C(=O)−、−N(R)−、−S−、−O−、及びアルカンから誘導される3価又は4価の基からなる群より選択される2種以上を含む(n+1)価の連結基を示し、Rは水素原子、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を示す。 m’は1以上6以下の整数を示し、nは2以上3以下の整数を示す。〕
(I−a)下記一般式(III)で示され、以下に定義される化合物
〔一般式(III)中、Ar1乃至Ar4はそれぞれ独立に置換若しくは未置換のアリール基を示し、Ar5及びAr6はそれぞれ独立に置換若しくは未置換のアリーレン基を示し、Xaはアルキレン基、−O−、−S−、及びエステルから選ばれる基を組み合わせてなる2価の基を示し、Dは下記一般式(IV)で示される基を示す。c1乃至c4はそれぞれ独立に0以上2以下の整数を示し、Dの総数は1又は2である。〕
〔一般式(IV)中、L1は*−(CH2)n”−O−CH2−で示され、*にてAr1乃至Ar4のアリール基に直結した連結基を示す。n”は1又は2を示す。〕
(I−b)下記一般式(V)で示され、以下に定義される化合物
〔一般式(V)中、Ar1乃至Ar4はそれぞれ独立に置換若しくは未置換のアリール基を示し、Ar5は置換若しくは未置換のアリール基、又は置換若しくは未置換のアリーレン基を示し、Dは下記一般式(VI)で示される基を示す。c5乃至c9はそれぞれ0以上2以下の整数を示し、kは0又は1を示し、Dの総数は1又は2である。〕
〔一般式(VI)中、L2はAr1乃至Ar4のアリール基又はAr5のアリール基若しくはアリーレン基に直結した−(CH2)n−O−で示される基を含む2価の連結基を示す。nは3以上6以下の整数を示す。〕
(I−c)下記一般式(V)で示され、以下に定義される化合物
〔一般式(V)中、Ar1乃至Ar4はそれぞれ独立に置換若しくは未置換のアリール基を示し、Ar5は置換若しくは未置換のアリール基、又は置換若しくは未置換のアリーレン基を示し、Dは下記一般式(VI)で示される基を示す。c5乃至c9はそれぞれ0以上2以下の整数を示し、kは0又は1を示し、Dの総数は3以上8以下である。〕
〔一般式(VI)中、L2はAr1乃至Ar4のアリール基又はAr5のアリール基若しくはアリーレン基に直結した−(CH2)n−O−で示される基を含む2価の連結基を示す。nは1以上6以下の整数を示す。〕
(I−d)下記一般式(V)で示され、以下に定義される化合物
〔一般式(V)中、Ar1乃至Ar4はそれぞれ独立に置換若しくは未置換のアリール基を示し、Ar5は置換若しくは未置換のアリール基、又は置換若しくは未置換のアリーレン基を示し、Dは下記一般式(VII)で示される基を示す。c5乃至c9はそれぞれ0以上2以下の整数を示し、kは0又は1を示し、Dの総数は1以上8以下である。〕
〔一般式(VII)中、L3は−C(=O)−、−N(R)−、−S−、または−C(=O)−にさらに−O−、−N(R)−、若しくは−S−を組み合わせた基からなる群より選択される1つ以上の基を含む2価の連結基を示す。Rは水素原子、アルキル基、アリール基またはアラルキル基を示す。〕 - 前記一般式(VII)で示される基が、下記一般式(VII−1)で示される基である請求項1に記載の電荷輸送性膜形成用組成物。
〔一般式(VII−1)中、p1は0以上4以下の整数を示す。〕 - 前記一般式(II)で示される化合物が、下記一般式(V)で示される請求項1に記載の電荷輸送性膜形成用組成物。
〔一般式(V)中、Ar1乃至Ar4はそれぞれ独立に置換若しくは未置換のアリール基を示し、Ar5は置換若しくは未置換のアリール基、又は置換若しくは未置換のアリーレン基を示し、Dは下記一般式(VIII)で示される基を示す。c5乃至c9はそれぞれ0以上2以下の整数を示し、kは0又は1を示し、Dの総数は1以上8以下の整数である。〕
〔一般式(VIII)中、Lは、アルキレン基、アルケニレン基、−C(=O)−、−N(R)−、−O−、−S−、及びアルカンから誘導される3価又は4価の基からなる群より選択される2種以上を組み合わせてなる(n+1)価の連結基を示し、Rは水素原子、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を示す。nは2以上3以下の整数を示す。〕 - 前記一般式(II)で示される化合物のFで示される電荷輸送性骨格に連結する基が、下記一般式(VIII−1)又は(VIII−2)で示される基である請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載の電荷輸送性膜形成用組成物。
〔一般式(VIII−1)又は(VIII−2)中、Xは2価の基を示し、p2は0又は1の整数を示す。〕 - 前記一般式(II)で示される化合物のFで示される電荷輸送性骨格に連結する基が、下記一般式(VIII−3)又は(VIII−4)で示される基である請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載の電荷輸送性膜形成用組成物。
〔一般式(VIII−3)又は(VIII−4)中、X’は2価の基を示し、p’は0又は1の整数を示す。〕 - 熱ラジカル発生剤又はその誘導体を更に含む請求項1乃至請求項5のいずれか一項に記載の電荷輸送性膜形成用組成物。
- 導電性支持体と、前記導電性支持体上に配置された感光層と、を有し、
最表面層が、請求項1乃至請求項6のいずれか一項に記載の電荷輸送性膜形成用組成物から形成された硬化膜である電子写真感光体。 - 請求項7に記載の電子写真感光体を備え、画像形成装置に着脱するプロセスカートリッジ。
- 請求項7に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体の表面を帯電させる帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像をトナーを含む現像剤により現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記トナー像を被転写媒体に転写する転写手段と、
を備える画像形成装置。
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