JP5874173B2 - 化合物半導体装置及びその製造方法 - Google Patents
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 292
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 title claims description 149
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 32
- 229910002704 AlGaN Inorganic materials 0.000 claims description 106
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 66
- 229910018871 CoO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910002367 SrTiO Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 218
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 35
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 35
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 30
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 30
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 26
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 24
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 18
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 18
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 17
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 16
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 16
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 14
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 14
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 13
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 13
- 238000000231 atomic layer deposition Methods 0.000 description 12
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 12
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 10
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 10
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 9
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 8
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 8
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 8
- 230000003071 parasitic effect Effects 0.000 description 8
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 8
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 8
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 8
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 6
- -1 for example Substances 0.000 description 6
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 6
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 6
- 238000004380 ashing Methods 0.000 description 5
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 5
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 4
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 4
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 4
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 4
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- JLTRXTDYQLMHGR-UHFFFAOYSA-N trimethylaluminium Chemical compound C[Al](C)C JLTRXTDYQLMHGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XCZXGTMEAKBVPV-UHFFFAOYSA-N trimethylgallium Chemical compound C[Ga](C)C XCZXGTMEAKBVPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 3
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 3
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 3
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 3
- 230000005533 two-dimensional electron gas Effects 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 2
- USZGMDQWECZTIQ-UHFFFAOYSA-N [Mg](C1C=CC=C1)C1C=CC=C1 Chemical compound [Mg](C1C=CC=C1)C1C=CC=C1 USZGMDQWECZTIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 230000002269 spontaneous effect Effects 0.000 description 2
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 2
- IBEFSUTVZWZJEL-UHFFFAOYSA-N trimethylindium Chemical compound C[In](C)C IBEFSUTVZWZJEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N Gallium nitride Chemical compound [Ga]#N JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000005669 field effect Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000002513 implantation Methods 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 238000001451 molecular beam epitaxy Methods 0.000 description 1
- JHJNPOSPVGRIAN-SFHVURJKSA-N n-[3-[(1s)-1-[[6-(3,4-dimethoxyphenyl)pyrazin-2-yl]amino]ethyl]phenyl]-5-methylpyridine-3-carboxamide Chemical class C1=C(OC)C(OC)=CC=C1C1=CN=CC(N[C@@H](C)C=2C=C(NC(=O)C=3C=C(C)C=NC=3)C=CC=2)=N1 JHJNPOSPVGRIAN-SFHVURJKSA-N 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001721 transfer moulding Methods 0.000 description 1
- 238000000927 vapour-phase epitaxy Methods 0.000 description 1
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- H01L29/7787—Field effect transistors with two-dimensional charge carrier gas channel, e.g. HEMT ; with two-dimensional charge-carrier layer formed at a heterojunction interface with direct single heterostructure, i.e. with wide bandgap layer formed on top of active layer, e.g. direct single heterostructure MIS-like HEMT with wide bandgap charge-carrier supplying layer, e.g. direct single heterostructure MODFET
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- H01L29/0607—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape; characterised by the shapes, relative sizes, or dispositions of the semiconductor regions ; characterised by the concentration or distribution of impurities within semiconductor regions characterised by particular constructional design considerations, e.g. for preventing surface leakage, for controlling electric field concentration or for internal isolations regions for preventing surface leakage or controlling electric field concentration
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Description
なお、以下の図面において、図示の便宜上、相対的に正確な大きさ及び厚みに示していない構成部材がある。
本実施形態では、化合物半導体装置としてAlGaN/GaN・HEMTを開示する。
図1〜図4は、第1の実施形態によるAlGaN/GaN・HEMTの製造方法を工程順に示す概略断面図である。
GaN−HEMTは、一般的にアバランシェ耐量が無く、サージに対して極めて弱いという欠点がある。また、Si系の半導体デバイスと異なり、ボディダイオードを有しておらず、例えばインバータ回路(フルブリッジインバータ回路)等に適用するためには、いわゆるフリーウィールダイオード(FWD)として外部にダイオードを接続する必要がある。
化合物半導体積層構造2は、バッファ層2a、電子走行層2b、中間層2c、電子供給層2d、及びキャップ層2eを有して構成される。
Si基板1上に、AlNを0.1μm程度の厚みに、i(インテンショナリ・アンドープ)−GaNを3μm程度の厚みに、i−AlGaNを5nm程度の厚みに、n−AlGaNを30nm程度の厚みに、n−GaNを10nm程度の厚みに順次成長する。これにより、バッファ層2a、電子走行層2b、中間層2c、電子供給層2d、及びキャップ層2eが形成される。
詳細には、化合物半導体積層構造2の素子分離領域に、例えばアルゴン(Ar)を注入する。これにより、化合物半導体積層構造2及びSi基板1の表層部分に素子分離構造3が形成される。素子分離構造3により、化合物半導体積層構造2上で活性領域が画定される。
なお、素子分離は、上記の注入法の代わりに、例えばSTI(Shallow Trench Isolation)法等既知の他の方法を用いて行っても良い。このとき、化合物半導体積層構造2のドライエッチングには、例えば塩素系のエッチングガスを用いる。
詳細には、先ず、化合物半導体積層構造2の表面におけるソース電極及びドレイン電極の形成予定位置(電極形成予定位置)に電極用リセス2A,2Bを形成する。
化合物半導体積層構造2の表面にレジストを塗布する。レジストをリソグラフィーにより加工し、レジストに、電極形成予定位置に相当する化合物半導体積層構造2の表面を露出する開口を形成する。以上により、当該開口を有するレジストマスクが形成される。
レジストマスクは、灰化処理等により除去される。
このレジストマスクを用いて、電極材料として、例えばTa/Alを、例えば蒸着法により、電極用リセス2A,2Bを露出させる開口内を含むレジストマスク上に堆積する。Taの厚みは20nm程度、Alの厚みは200nm程度とする。リフトオフ法により、レジストマスク及びその上に堆積したTa/Alを除去する。その後、Si基板1を、例えば窒素雰囲気中において400℃〜1000℃の温度、例えば600℃程度で熱処理し、残存したTa/Alを電子供給層2dとオーミックコンタクトさせる。Ta/Alの電子供給層2dとのオーミックコンタクトが得られるのであれば、熱処理が不要な場合もある。以上により、電極用リセス2A,2Bを電極材料の一部で埋め込むソース電極4及びドレイン電極5が形成される。
詳細には、先ず、化合物半導体積層構造2の表面にレジストを塗布する。レジストをリソグラフィーにより加工し、レジストに、ゲート電極の形成予定位置(電極形成予定位置)に相当する化合物半導体積層構造2の表面を露出する開口を形成する。以上により、当該開口を有するレジストマスクが形成される。
レジストマスクは、灰化処理等により除去される。
詳細には、電極用リセス2Cの内壁面を覆うように、化合物半導体積層構造2上に絶縁材料として例えばAl2O3を堆積する。Al2O3は、例えば原子層堆積法(Atomic Layer Deposition:ALD法)により膜厚2nm〜200nm程度、ここでは10nm程度に堆積する。これにより、ゲート絶縁膜6が形成される。
詳細には、先ず、ゲート絶縁膜6上にレジストを塗布する。レジストをリソグラフィーにより加工し、レジストに、フィールドプレートの形成予定位置(電極形成予定位置)に相当するゲート絶縁膜6の表面を露出する開口を形成する。以上により、当該開口を有するレジストマスクが形成される。なお、この電極形成予定位置は、ゲート電極の電極用リセス2Cとドレイン電極5との間における所定箇所とされる。
レジストマスクは、灰化処理等により除去される。
詳細には、先ず、ゲート電極を形成するためのレジストマスクを形成する。ここでは、蒸着法及びリフトオフ法に適した例えば庇構造2層レジストを用いる。このレジストをゲート絶縁膜6上に塗布し、電極用リセス2Cの部分を露出させる開口を形成する。以上により、当該開口を有するレジストマスクが形成される。
詳細には、先ず、フィールドプレート用リセス2D内を含む全面に、化合物半導体積層構造2の有する導電型と逆導電型の半導体、即ちp型半導体として、ここでは形成された際にp型半導体の性質を示す導電性酸化物を、例えばスパッタ法により堆積する。この導電性酸化物としては、NiO,FeO2,CoO2,MnO,CuO,ZnO,In2O3,SnO2,Y2O3,SrTiO3,SrPbO3,及びTiO2のうちから選択された1つ又は複数の材料、ここではNiOを用い、例えば50nm程度の厚みに堆積する。
先ず、接続電極を形成するためのレジストマスクを形成する。レジストを全面に塗布し、p型半導体層8aの部分を露出させる開口を形成する。以上により、当該開口を有するレジストマスクが形成される。
詳細には、CVD法等により、ソース電極4及びドレイン電極5、並びにゲート電極7及びフィールドプレート8を覆うように、Si基板1の全面に絶縁物、例えばSiNを堆積する。これにより、層間絶縁膜9が形成される。
詳細には、先ず、リソグラフィー及びドライエッチングにより層間絶縁膜9及びゲート絶縁膜6を加工する。これにより、ソース電極4及びフィールドプレート8の各表面の一部を露出する開口9a,9bが形成される。
堆積されたAuを、リソグラフィー及びドライエッチングにより加工する。以上により、層間絶縁膜9上に、開口9a,9b内を導電材料で埋め込んでソース電極4とフィールドプレート8とを電気的に接続する配線層11が形成される。
本実施形態では、ソース電極4とフィールドプレート8の接続電極8bとを電気的に接続する場合を例示したが、ゲート電極7とフィールドプレート8との間に配線層を形成し、両者を電気的に接続する場合も考えられる。
以下、第1の実施形態よるAlGaN/GaN・HEMTの諸変形例について説明する。
本例では、第1の実施形態と同様にAlGaN/GaN・HEMTを開示するが、化合物半導体積層構造のキャップ層が異なる点で相違する。なお、第1の実施形態と同様の構成部材等については、同符号を付して詳しい説明を省略する。
図9は、第1の実施形態の変形例1によるAlGaN/GaN・HEMTの製造方法の主要工程を示す概略断面図である。
化合物半導体積層構造2は、バッファ層2a、電子走行層2b、中間層2c、電子供給層2d、及びキャップ層22を有して構成される。
なお、この積層構造のキャップ層としては、上記の場合以外にも、例えばn−GaNとAlNとが順次積層された2層構造としたり、或いは4層以上の積層構造とすることも考えられる、
このとき、化合物半導体積層構造21の電極用リセス21A,21Bにはソース電極4及びドレイン電極5が形成され、化合物半導体積層構造21上には電極用リセス21Cの内壁面を覆うようにゲート絶縁膜6が形成される。
詳細には、先ず、ゲート絶縁膜6上にレジストを塗布する。レジストをリソグラフィーにより加工し、レジストに、フィールドプレートの形成予定位置(電極形成予定位置)に相当するゲート絶縁膜6の表面を露出する開口を形成する。以上により、当該開口を有するレジストマスクが形成される。なお、この電極形成予定位置は、ゲート電極の電極用リセス21Cとドレイン電極5との間における所定箇所とされる。
レジストマスクは、灰化処理等により除去される。
なお、電子供給層2dの表面が露出するまでキャップ層22をエッチングして形成したり、また電子供給層2dのより深い箇所までエッチングして形成することも考えられる。
ゲート電極7の電極用リセス2E、フィールドプレート8のフィールドプレート用リセス2Fは共に電子供給層2dの途中までドライエッチングにより掘り込まれて形成される。
本例では、第1の実施形態と同様にAlGaN/GaN・HEMTを開示するが、フィールドプレートのp型半導体層が異なる点で相違する。なお、第1の実施形態と同様の構成部材等については、同符号を付して詳しい説明を省略する。
図11〜図12は、第1の実施形態の変形例2によるAlGaN/GaN・HEMTの製造方法の主要工程を示す概略断面図である。
化合物半導体積層構造2は、バッファ層2a、電子走行層2b、中間層2c、電子供給層2d、及びキャップ層2eを有して構成される。
詳細には、p型半導体膜23をリソグラフィー及びドライエッチングにより加工し、化合物半導体積層構造2上のフィールドプレートの形成予定位置(電極形成予定位置)のみにp型半導体膜23を残す。これにより、電極形成予定位置にp型半導体層24aが形成される。
詳細には、電極用リセス2Cの内壁面、及びp型半導体層24a上を覆うように、化合物半導体積層構造2上に絶縁材料として例えばAl2O3を堆積する。Al2O3は、例えば原子層堆積法(Atomic Layer Deposition:ALD法)により膜厚2nm〜200nm程度、ここでは10nm程度に堆積する。これにより、ゲート絶縁膜25が形成される。
詳細には、先ず、ゲート電極を形成するためのレジストマスクを形成する。ここでは、蒸着法及びリフトオフ法に適した例えば庇構造2層レジストを用いる。このレジストをゲート絶縁膜25上に塗布し、電極用リセス2Cの部分を露出させる開口を形成する。以上により、当該開口を有するレジストマスクが形成される。
詳細には、先ず、リソグラフィー及びドライエッチングによりゲート絶縁膜25を加工する。これにより、ゲート絶縁膜25に、p型半導体層24aの表面の一部を露出させる開口25aが形成される。
本実施形態では、第1の実施形態と同様にAlGaN/GaN・HEMTを開示するが、化合物半導体積層構造とフィールドプレートとの間に絶縁膜が形成される点で相違する。なお、第1の実施形態と同様の構成部材等については、同符号を付して詳しい説明を省略する。
図13〜図14は、第2の実施形態によるAlGaN/GaN・HEMTの製造方法の主要工程を示す概略断面図である。
このとき、化合物半導体積層構造2の電極用リセス2A,2Bにはソース電極4及びドレイン電極5が形成され、化合物半導体積層構造2にゲート電極の電極用リセス2Cが形成される。
詳細には、先ず、化合物半導体積層構造2上にレジストを塗布する。レジストをリソグラフィーにより加工し、レジストに、フィールドプレートの形成予定位置(電極形成予定位置)に相当するキャップ層2eの表面を露出する開口を形成する。以上により、当該開口を有するレジストマスクが形成される。なお、この電極形成予定位置は、ゲート電極の電極用リセス2Cとドレイン電極5との間における所定箇所とされる。
レジストマスクは、灰化処理等により除去される。
詳細には、電極用リセス2C,2Gの内壁面を覆うように、化合物半導体積層構造2上に絶縁材料として例えばAl2O3を堆積する。Al2O3は、例えば原子層堆積法(Atomic Layer Deposition:ALD法)により膜厚2nm〜200nm程度、ここでは10nm程度に堆積する。これにより、ゲート絶縁膜27が形成される。
詳細には、先ず、ゲート電極を形成するためのレジストマスクを形成する。ここでは、蒸着法及びリフトオフ法に適した例えば庇構造2層レジストを用いる。このレジストをゲート絶縁膜27上に塗布し、電極用リセス2Cの部分を露出させる開口を形成する。以上により、当該開口を有するレジストマスクが形成される。
詳細には、ゲート絶縁膜27を介したフィールドプレート用リセス2G内を含む全面に、化合物半導体積層構造2の有する導電型と逆導電型の半導体、即ちp型半導体として、ここでは形成された際にp型半導体の性質を示す導電性酸化物を、例えばスパッタ法により堆積する。この導電性酸化物としては、NiO,FeO2,CoO2,MnO,CuO,ZnO,In2O3,SnO2,Y2O3,SrTiO3,SrPbO3,及びTiO2のうちから選択された1つ又は複数の材料、ここではNiOを用いる場合を例示する。
先ず、接続電極を形成するためのレジストマスクを形成する。レジストを全面に塗布し、p型半導体層29aの部分を露出させる開口を形成する。以上により、当該開口を有するレジストマスクが形成される。
以下、第2の実施形態よるAlGaN/GaN・HEMTの変形例について説明する。
本例では、第2の実施形態と同様にAlGaN/GaN・HEMTを開示するが、フィールドプレートのp型半導体層が異なる点で相違する。なお、第2の実施形態と同様の構成部材等については、同符号を付して詳しい説明を省略する。
図15〜図16は、第2の実施形態の変形例によるAlGaN/GaN・HEMTの製造方法の主要工程を示す概略断面図である。
このとき、化合物半導体積層構造2の電極用リセス2A,2Bにはソース電極4及びドレイン電極5が形成され、化合物半導体積層構造2にゲート電極の電極用リセス2Cが形成される。
詳細には、電極用リセス2Cの内壁面を覆うように、化合物半導体積層構造2上に絶縁材料として例えばAl2O3を堆積する。Al2O3は、例えば原子層堆積法(Atomic Layer Deposition:ALD法)により膜厚2nm〜200nm程度、ここでは10nm程度に堆積する。これにより、ゲート絶縁膜31が形成される。
詳細には、先ず、ゲート絶縁膜31上にp型半導体膜を形成する。具体的には、MOVPE法等により、ゲート絶縁膜31上にp−GaNを50nm程度の厚みに成長する。これにより、p型半導体膜が形成される。p−GaNを成長する際に、p型不純物として例えばMgを含む例えばビス(シクロペンタジエニル)マグネシウムガスを所定の流量で原料ガスに添加し、GaNにMgをドーピングする。Mgのドーピング濃度は、1×1016/cm3程度〜1×1020/cm3程度、例えば1×1018/cm3程度とする。p型不純物としては、Mgの代わりにCa,Srを用いることもできる。また、p型不純物をドーピングする代わりに、成長したi−GaNにp型不純物をイオン注入しても良い。
詳細には、先ず、接続電極を形成するためのレジストマスクを形成する。レジストを全面に塗布し、p型半導体層32aの部分を露出させる開口を形成する。以上により、当該開口を有するレジストマスクが形成される。
詳細には、先ず、ゲート電極を形成するためのレジストマスクを形成する。ここでは、蒸着法及びリフトオフ法に適した例えば庇構造2層レジストを用いる。このレジストをゲート絶縁膜31上に塗布し、電極用リセス2Cの部分を露出させる開口を形成する。以上により、当該開口を有するレジストマスクが形成される。
このディスクリートパッケージでは、上述したAlGaN/GaN・HEMTのチップが搭載される。以下、第1及び第2の実施形態、並びに諸変形例によるAlGaN/GaN・HEMTのチップ(以下、HEMTチップと言う)のディスクリートパッケージについて例示する。
HEMTチップ30では、その表面に、上述したAlGaN/GaN・HEMTのドレイン電極が接続されたドレインパッド34と、ゲート電極が接続されたゲートパッド35と、ソース電極が接続されたソースパッド36とが設けられている。
ディスクリートパッケージを作製するには、先ず、HEMTチップ30を、ハンダ等のダイアタッチ剤41を用いてリードフレーム42に固定する。リードフレーム42にはドレインリード42aが一体形成されており、ゲートリード42b及びソースリード42cがリードフレーム42と別体として離間して配置される。
その後、モールド樹脂44を用いて、トランスファーモールド法によりHEMTチップ30を樹脂封止し、リードフレーム42を切り離す。以上により、ディスクリートパッケージが形成される。
本実施形態では、第1及び第2の実施形態、並びに諸変形例から選ばれたAlGaN/GaN・HEMTを備えたPFC(Power Factor Correction)回路を開示する。
図19は、PFC回路を示す結線図である。
本実施形態では、第1の実施形態及びその諸変形例から選ばれたAlGaN/GaN・HEMTを備えた電源装置を開示する。
図20は、第3の実施形態による電源装置の概略構成を示す結線図である。
一次側回路61は、第3の実施形態によるPFC回路50と、PFC回路50のコンデンサ55の両端子間に接続されたインバータ回路、例えばフルブリッジインバータ回路60とを有している。フルブリッジインバータ回路60は、複数(ここでは4つ)のスイッチ素子64a,64b,64c,64dを備えて構成される。
二次側回路62は、複数(ここでは3つ)のスイッチ素子65a,65b,65cを備えて構成される。
本実施形態では、第1及び第2の実施形態、並びに諸変形例から選ばれたAlGaN/GaN・HEMTを備えた高周波増幅器を開示する。
図21は、第4の実施形態による高周波増幅器の概略構成を示す結線図である。
ディジタル・プレディストーション回路71は、入力信号の非線形歪みを補償するものである。ミキサー72aは、非線形歪みが補償された入力信号と交流信号をミキシングするものである。パワーアンプ73は、交流信号とミキシングされた入力信号を増幅するものであり、第1及び第2の実施形態、並びに諸変形例から選ばれたAlGaN/GaN・HEMTを有している。特に、動作速度に優れた第2の実施形態及びその変形例のAlGaN/GaN・HEMTが好適である。なお図21では、例えばスイッチの切り替えにより、出力側の信号をミキサー72bで交流信号とミキシングしてディジタル・プレディストーション回路71に送出できる構成とされている。
第1及び第2の実施形態並びに諸変形例、第3〜第5の実施形態では、化合物半導体装置としてAlGaN/GaN・HEMTを例示した。化合物半導体装置としては、AlGaN/GaN・HEMT以外にも、以下のようなHEMTに適用できる。
本例では、化合物半導体装置として、InAlN/GaN・HEMTを開示する。
InAlNとGaNは、組成によって格子定数を近くすることが可能な化合物半導体である。この場合、上記した第1及び第2の実施形態並びに諸変形例、第3〜第5の実施形態では、電子走行層がi−GaN、中間層がi−InAlN、電子供給層がn−InAlN、キャップ層がn−GaNで形成される。また、この場合のピエゾ分極がほとんど発生しないため、2次元電子ガスは主にInAlNの自発分極により発生する。
本例では、化合物半導体装置として、InAlGaN/GaN・HEMTを開示する。
GaNとInAlGaNは、後者の方が前者よりも組成によって格子定数を小さくすることができる化合物半導体である。この場合、上記した第1及び第2の実施形態並びに諸変形例、第3〜第5の実施形態では、電子走行層がi−GaN、中間層がi−InAlGaN、電子供給層がn−InAlGaN、キャップ層がn−GaNで形成される。
前記化合物半導体積層構造の上方に形成されたゲート電極と、
前記化合物半導体積層構造の上方に形成された、前記化合物半導体積層構造の有する導電型と逆導電型の半導体層と
を含むことを特徴とする化合物半導体装置。
前記半導体層は、前記リセス内を埋め込むように形成されることを特徴とする付記1に記載の化合物半導体装置。
前記化合物半導体積層構造の上方に、前記化合物半導体積層構造の有する導電型と逆導電型の半導体層を形成する工程と
を含むことを特徴とする化合物半導体装置の製造方法。
前記半導体層を、前記リセス内を埋め込むように形成することを特徴とする付記8に記載の化合物半導体装置の製造方法。
前記半導体層を、前記化合物半導体積層構造との間に前記絶縁膜を介して形成することを特徴とする付記8又は9に記載の化合物半導体装置の製造方法。
前記高圧回路はトランジスタを有しており、
前記トランジスタは、
化合物半導体積層構造と、
前記化合物半導体積層構造の上方に形成されたゲート電極と、
前記化合物半導体積層構造の上方に形成された、前記化合物半導体積層構造の有する導電型と逆導電型の半導体層と
を含むことを特徴とする電源装置。
前記PFC回路に設けられる第1のスイッチ素子が前記トランジスタとされていることを特徴とする付記15に記載の電源装置。
前記インバータ回路に設けられる第2のスイッチ素子が前記トランジスタとされていることを特徴とする付記16に記載の電源装置。
トランジスタを有しており、
前記トランジスタは、
化合物半導体積層構造と、
前記化合物半導体積層構造の上方に形成されたゲート電極と、
前記化合物半導体積層構造の上方に形成された、前記化合物半導体積層構造の有する導電型と逆導電型の半導体層と
を含むことを特徴とする高周波増幅器。
2,21 化合物半導体積層構造
2a バッファ層
2b 電子走行層
2c 中間層
2d 電子供給層
2e,22 キャップ層
2A,2B,2C,2E,21A,21B,21C,21D 電極用リセス
2D,2F,2G フィールドプレート用リセス
3 素子分離構造
4 ソース電極
5 ドレイン電極
6,25,27,31 ゲート絶縁膜
7,26,28,33 ゲート電極
8,24,29,32 フィールドプレート
8a,24a,29a,32a p型半導体層
8b,24b,29b,32b 接続電極
9 層間絶縁膜
9a,9b 開口
11 配線層
22a,22c n−GaN
22b AlN
23 p型半導体膜
25a 開口
30 HEMTチップ
34 ドレインパッド
35 ゲートパッド
36 ソースパッド
41 ダイアタッチ剤
42 リードフレーム
42a ドレインリード
42b ゲートリード
42c ソースリード
43 Alワイヤ
44 モールド樹脂
50 PFC回路
51,64a,64b,64c,64d,65a,65b,65c スイッチ素子
52 ダイオード
53 チョークコイル
54,55 コンデンサ
56 ダイオードブリッジ
60 フルブリッジインバータ回路
61 一次側回路
62 二次側回路
63 トランス
71 ディジタル・プレディストーション回路
72a,72b ミキサー
73 パワーアンプ
Claims (6)
- 化合物半導体積層構造と、
前記化合物半導体積層構造の上方に形成されたゲート電極と、
前記化合物半導体積層構造の上方に形成された半導体層と、
前記半導体層上に当該半導体層と接するように形成された接続電極と
を含み、
前記半導体層は、前記化合物半導体積層構造の当該半導体層の下部に位置する層の導電型と逆導電型であり、前記化合物半導体積層構造との間に絶縁膜を介して形成されていることを特徴とする化合物半導体装置。 - 前記化合物半導体積層構造にリセスが形成されており、
前記半導体層は、前記リセス内を埋め込むように形成されることを特徴とする請求項1に記載の化合物半導体装置。 - 前記半導体層はp型であり、Si,GaN,AlGaN,AlN,InN,InAlN,InAlGaN,NiO,FeO2,CoO2,MnO,CuO,ZnO,In2O3,SnO2,Y2O3,SrTiO3,SrPbO3,及びTiO2のうちから選択された1つ又は複数の半導体からなることを特徴とする請求項1又は2に記載の化合物半導体装置。
- 化合物半導体積層構造上に絶縁膜を形成する工程と、
前記化合物半導体積層構造の上方にゲート電極を形成する工程と、
前記化合物半導体積層構造の上方に半導体層を形成する工程と、
前記半導体層上に当該半導体層と接するように接続電極を形成する工程と
を含み、
前記半導体層は、前記化合物半導体積層構造の当該半導体層の下部に位置する層の導電型と逆導電型であり、前記化合物半導体積層構造との間に前記絶縁膜を介して形成されることを特徴とする化合物半導体装置の製造方法。 - 前記化合物半導体積層構造にリセスを形成する工程を更に含み、
前記半導体層を、前記リセス内を埋め込むように形成することを特徴とする請求項4に記載の化合物半導体装置の製造方法。 - 前記半導体層はp型であり、Si,GaN,AlGaN,AlN,InN,InAlN,InAlGaN,NiO,FeO2,CoO2,MnO,CuO,ZnO,In2O3,SnO2,Y2O3,SrTiO3,SrPbO3,及びTiO2のうちから選択された1つ又は複数の半導体からなることを特徴とする請求項4又は5に記載の化合物半導体装置の製造方法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011040617A JP5874173B2 (ja) | 2011-02-25 | 2011-02-25 | 化合物半導体装置及びその製造方法 |
US13/326,533 US8872232B2 (en) | 2011-02-25 | 2011-12-15 | Compound semiconductor device and method for manufacturing the same |
TW100149136A TWI470803B (zh) | 2011-02-25 | 2011-12-28 | 化合物半導體裝置及其製造方法 |
CN201110456942.7A CN102651388B (zh) | 2011-02-25 | 2011-12-30 | 化合物半导体器件及其制造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011040617A JP5874173B2 (ja) | 2011-02-25 | 2011-02-25 | 化合物半導体装置及びその製造方法 |
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012178464A JP2012178464A (ja) | 2012-09-13 |
JP5874173B2 true JP5874173B2 (ja) | 2016-03-02 |
Family
ID=46693350
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011040617A Active JP5874173B2 (ja) | 2011-02-25 | 2011-02-25 | 化合物半導体装置及びその製造方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8872232B2 (ja) |
JP (1) | JP5874173B2 (ja) |
CN (1) | CN102651388B (ja) |
TW (1) | TWI470803B (ja) |
Families Citing this family (71)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7501669B2 (en) | 2003-09-09 | 2009-03-10 | Cree, Inc. | Wide bandgap transistor devices with field plates |
US9773877B2 (en) | 2004-05-13 | 2017-09-26 | Cree, Inc. | Wide bandgap field effect transistors with source connected field plates |
US11791385B2 (en) | 2005-03-11 | 2023-10-17 | Wolfspeed, Inc. | Wide bandgap transistors with gate-source field plates |
JP5789967B2 (ja) * | 2010-12-03 | 2015-10-07 | 富士通株式会社 | 半導体装置及びその製造方法、電源装置 |
US9887139B2 (en) | 2011-12-28 | 2018-02-06 | Infineon Technologies Austria Ag | Integrated heterojunction semiconductor device and method for producing an integrated heterojunction semiconductor device |
JP2013207107A (ja) * | 2012-03-28 | 2013-10-07 | Fujitsu Ltd | 化合物半導体装置及びその製造方法 |
US9136341B2 (en) | 2012-04-18 | 2015-09-15 | Rf Micro Devices, Inc. | High voltage field effect transistor finger terminations |
US9184275B2 (en) * | 2012-06-27 | 2015-11-10 | Transphorm Inc. | Semiconductor devices with integrated hole collectors |
US9124221B2 (en) | 2012-07-16 | 2015-09-01 | Rf Micro Devices, Inc. | Wide bandwidth radio frequency amplier having dual gate transistors |
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US9142620B2 (en) | 2012-08-24 | 2015-09-22 | Rf Micro Devices, Inc. | Power device packaging having backmetals couple the plurality of bond pads to the die backside |
US9917080B2 (en) | 2012-08-24 | 2018-03-13 | Qorvo US. Inc. | Semiconductor device with electrical overstress (EOS) protection |
US8988097B2 (en) | 2012-08-24 | 2015-03-24 | Rf Micro Devices, Inc. | Method for on-wafer high voltage testing of semiconductor devices |
US9147632B2 (en) | 2012-08-24 | 2015-09-29 | Rf Micro Devices, Inc. | Semiconductor device having improved heat dissipation |
US9129802B2 (en) * | 2012-08-27 | 2015-09-08 | Rf Micro Devices, Inc. | Lateral semiconductor device with vertical breakdown region |
US9070761B2 (en) | 2012-08-27 | 2015-06-30 | Rf Micro Devices, Inc. | Field effect transistor (FET) having fingers with rippled edges |
JP2014078565A (ja) * | 2012-10-09 | 2014-05-01 | Advanced Power Device Research Association | 半導体装置 |
US9325281B2 (en) | 2012-10-30 | 2016-04-26 | Rf Micro Devices, Inc. | Power amplifier controller |
KR101927410B1 (ko) * | 2012-11-30 | 2018-12-10 | 삼성전자주식회사 | 고전자 이동도 트랜지스터 및 그 제조방법 |
US9087718B2 (en) | 2013-03-13 | 2015-07-21 | Transphorm Inc. | Enhancement-mode III-nitride devices |
TWI525820B (zh) | 2013-03-14 | 2016-03-11 | 廣鎵光電股份有限公司 | 增強型場效電晶體 |
JP6171435B2 (ja) * | 2013-03-18 | 2017-08-02 | 富士通株式会社 | 半導体装置及びその製造方法、電源装置、高周波増幅器 |
JP6083548B2 (ja) * | 2013-04-23 | 2017-02-22 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 窒化物半導体装置 |
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US9847411B2 (en) * | 2013-06-09 | 2017-12-19 | Cree, Inc. | Recessed field plate transistor structures |
US9755059B2 (en) * | 2013-06-09 | 2017-09-05 | Cree, Inc. | Cascode structures with GaN cap layers |
US9111750B2 (en) | 2013-06-28 | 2015-08-18 | General Electric Company | Over-voltage protection of gallium nitride semiconductor devices |
US9997507B2 (en) | 2013-07-25 | 2018-06-12 | General Electric Company | Semiconductor assembly and method of manufacture |
CN103594508A (zh) * | 2013-11-26 | 2014-02-19 | 电子科技大学 | 一种栅单场板的氮化镓高电子迁移率晶体管 |
JP6229501B2 (ja) * | 2014-01-08 | 2017-11-15 | 富士通株式会社 | 半導体装置 |
JP6268007B2 (ja) * | 2014-03-14 | 2018-01-24 | 株式会社東芝 | 半導体装置 |
CN105280694A (zh) * | 2014-05-27 | 2016-01-27 | 晶元光电股份有限公司 | 半导体功率元件 |
US10229978B2 (en) | 2014-06-06 | 2019-03-12 | Delta Electronics, Inc. | Semiconductor device and manufacturing method thereof |
US9455327B2 (en) | 2014-06-06 | 2016-09-27 | Qorvo Us, Inc. | Schottky gated transistor with interfacial layer |
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US10062684B2 (en) | 2015-02-04 | 2018-08-28 | Qorvo Us, Inc. | Transition frequency multiplier semiconductor device |
JP2016152255A (ja) * | 2015-02-16 | 2016-08-22 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置 |
JP6478395B2 (ja) * | 2015-03-06 | 2019-03-06 | 住友電工デバイス・イノベーション株式会社 | 半導体装置 |
CN105633144B (zh) * | 2015-06-26 | 2019-09-24 | 苏州能讯高能半导体有限公司 | 一种半导体器件及其制备方法 |
JP6304155B2 (ja) * | 2015-07-14 | 2018-04-04 | 株式会社デンソー | 窒化物半導体装置 |
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JP6701767B2 (ja) * | 2015-09-22 | 2020-05-27 | 株式会社デンソー | 半導体装置 |
WO2017051688A1 (ja) * | 2015-09-22 | 2017-03-30 | 株式会社デンソー | 半導体装置 |
JP6642883B2 (ja) * | 2015-10-08 | 2020-02-12 | ローム株式会社 | 窒化物半導体装置およびその製造方法 |
US10056478B2 (en) * | 2015-11-06 | 2018-08-21 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Ltd. | High-electron-mobility transistor and manufacturing method thereof |
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TWI686873B (zh) * | 2019-05-09 | 2020-03-01 | 世界先進積體電路股份有限公司 | 半導體裝置及其製造方法 |
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JP7176475B2 (ja) * | 2019-05-29 | 2022-11-22 | 株式会社デンソー | 半導体装置 |
CN112242443A (zh) * | 2019-07-18 | 2021-01-19 | 联华电子股份有限公司 | 高电子迁移率晶体管及其形成方法 |
US11398546B2 (en) | 2019-08-06 | 2022-07-26 | Vanguard International Semiconductor Corporation | Semiconductor devices and methods for fabricating the same |
CN117832265A (zh) | 2019-09-12 | 2024-04-05 | 联华电子股份有限公司 | 半导体装置及其制作方法 |
CN112490286B (zh) | 2019-09-12 | 2023-09-19 | 联华电子股份有限公司 | 半导体装置及其制作方法 |
TWI769431B (zh) * | 2020-01-22 | 2022-07-01 | 大陸商聚力成半導體(重慶)有限公司 | 增強型氮化鎵電晶體之結構與使用該結構之封裝晶片 |
US11855198B2 (en) * | 2020-04-09 | 2023-12-26 | Qualcomm Incorporated | Multi-gate high electron mobility transistors (HEMTs) employing tuned recess depth gates for improved device linearity |
US20220375926A1 (en) * | 2020-04-29 | 2022-11-24 | Innoscience (Zhuhai) Technology Co., Ltd. | Electronic device |
CN112038336B (zh) * | 2020-06-15 | 2023-03-24 | 湖南三安半导体有限责任公司 | 氮化物器件及其esd防护结构和制作方法 |
US20220037518A1 (en) * | 2020-07-31 | 2022-02-03 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Gallium Nitride-Based Device with Step-Wise Field Plate and Method Making the Same |
CN113658998A (zh) * | 2021-07-19 | 2021-11-16 | 中国船舶重工集团公司第七二三研究所 | 一种具有沟槽源极场板的AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59222988A (ja) * | 1983-06-01 | 1984-12-14 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 化合物半導体素子およびその製造方法 |
JP3326704B2 (ja) * | 1993-09-28 | 2002-09-24 | 富士通株式会社 | Iii/v系化合物半導体装置の製造方法 |
JP2000216256A (ja) * | 1998-11-16 | 2000-08-04 | Nec Corp | 半導体集積回路の製造方法 |
JP2001332568A (ja) * | 2000-05-24 | 2001-11-30 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 電界効果型トランジスタ及びその製造方法 |
JP4041075B2 (ja) * | 2004-02-27 | 2008-01-30 | 株式会社東芝 | 半導体装置 |
JP4451811B2 (ja) * | 2005-05-09 | 2010-04-14 | ローム株式会社 | 窒化物半導体素子の製法 |
JP2008071988A (ja) | 2006-09-15 | 2008-03-27 | Elpida Memory Inc | 半導体装置の欠陥検査装置及び欠陥検査方法 |
JP5417693B2 (ja) | 2007-08-22 | 2014-02-19 | 日本電気株式会社 | 半導体装置 |
JP5597921B2 (ja) * | 2008-12-22 | 2014-10-01 | サンケン電気株式会社 | 半導体装置 |
JP5487615B2 (ja) | 2008-12-24 | 2014-05-07 | サンケン電気株式会社 | 電界効果半導体装置及びその製造方法 |
-
2011
- 2011-02-25 JP JP2011040617A patent/JP5874173B2/ja active Active
- 2011-12-15 US US13/326,533 patent/US8872232B2/en active Active
- 2011-12-28 TW TW100149136A patent/TWI470803B/zh active
- 2011-12-30 CN CN201110456942.7A patent/CN102651388B/zh active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TWI470803B (zh) | 2015-01-21 |
US20120218783A1 (en) | 2012-08-30 |
CN102651388B (zh) | 2015-04-08 |
CN102651388A (zh) | 2012-08-29 |
US8872232B2 (en) | 2014-10-28 |
TW201242026A (en) | 2012-10-16 |
JP2012178464A (ja) | 2012-09-13 |
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JP2018198255A (ja) | 化合物半導体装置及びその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20131106 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20141211 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20141216 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150216 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150519 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150721 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20151222 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20160104 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5874173 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |