JP5591982B2 - 塗布装置、および、塗布体の製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、塗布装置、および、塗布体の製造方法に関し、特に、塗布対象物に向けて液滴を噴射する装置、その液滴の溶質が付着する塗布体の製造方法に関する。

塗布装置は、画像情報の印刷のほか、液晶表示装置、有機ＥＬ（Electro Luminescence）表示装置、電子放出表示装置、プラズマ表示装置及び電気泳動表示装置等の様々な平面型表示装置を製造する際の膜付け工程に利用されている。

塗布装置は、塗布対象物に向けてインク等の溶液を液滴化して噴射する液滴噴射ヘッド（例えば、インクジェットヘッド）及び塗布対象物上に着弾した液滴を乾燥させる乾燥部等を備えている。この塗布装置は、液滴噴射ヘッドにより塗布対象物に複数の液滴を着弾させ、所定のパターンのドット列を形成し、塗布対象物上の各液滴を乾燥させて、液質による塗膜を形成し、さまざまな物品（塗布体）の製造に寄与する。

このような塗膜の形成工程においては、液滴を乾燥させる際、減圧乾燥により各液滴を高速に乾燥させる塗布装置が提案されている（例えば、特許文献１及び２参照）。この塗布装置は、塗布装置本体部とは別に、塗布後の塗布対象物を収容する真空チャンバ等の収容室や、その収容室内の気体を排気して収容室内を減圧する排気部等を備えている。

特開２００１−２３５２７７号公報 特開２００３−２３４２７３号公報

しかしながら、自然乾燥や減圧乾燥等の乾燥により液滴を乾燥させると、収容室内に発生する気流等の影響により基板の塗布面に隣接する雰囲気の溶媒濃度に不均一な分布が生じ、その塗布面内で各液滴が乾燥していく際の振る舞いにばらつきが発生する。このため、各液滴の乾燥後に塗布対象物上に残る各溶質物による塗膜の膜厚分布（厚み方向の断面形状）が、塗布される面全体で個別に観察した際に一致していない。すなわち各溶質物の厚さ方向の断面形状が塗布面内の領域毎に異なる結果となる。これは、物品の品質を不安定にさせる要因になっている。

本発明は上記課題を解決するためになされたものであり、その目的は、形成される塗膜の状態を面内で均一化することができる塗布装置、および、塗布体の製造方法を提供することである。

本発明の実施の形態に係る第１の特徴は、塗布装置において、塗布対象物に向けてピニング機能を有する水溶性高分子材料と吸水性低蒸気圧溶媒とを含んだ溶液を液滴状にして噴射することにより、塗布対象物の表面に辺縁をなして略同一の直径を有する複数の液滴を塗着する液滴噴射部と、塗布対象物の表面に塗着した複数の液滴を減圧乾燥することにより、塗布対象物の表面に液滴の直径を維持した複数の残留物を形成する減圧乾燥部と、塗布対象物の表面に形成された複数の残留物に向けて複数の残留物が溶解可能な溶媒を含む溶解用気体を吹き付けて複数の残留物を溶解させることにより、塗布対象物の表面に液滴の直径を維持した複数の塗着体を形成し、形成した複数の塗着体に向けて乾燥気体を吹き付けて複数の塗着体を乾燥することにより、液滴の直径を維持すると共に略均一な厚さを有する複数の溶質物を形成する復潤乾燥部と、ことである。

本発明の実施の形態に係る第２の特徴は、塗布体の製造方法において、塗布対象物に向けてピニング機能を有する水溶性高分子材料と吸水性低蒸気圧溶媒とを含んだ溶液を液滴状にして噴射することにより、塗布対象物の表面に辺縁をなして略同一の直径を有する複数の液滴を塗着する工程と、塗布対象物の表面に塗着した複数の液滴を減圧乾燥することにより、塗布対象物の表面に液滴の直径を維持した複数の残留物を形成する工程と、塗布対象物の表面に形成された複数の残留物に向けて複数の残留物が溶解可能な溶媒を含む溶解用気体を吹き付けて複数の残留物を溶解させることにより、塗布対象物の表面に液滴の直径を維持した複数の塗着体を形成する工程と、複数の塗着体に向けて乾燥気体を吹き付けて複数の塗着体を乾燥させることにより、塗布対象物の表面に液滴の直径を維持すると共に略均一な厚さを有する複数の溶質物を形成する工程と、を有することである。

なお、本発明の実施の形態に係る第３の特徴として、流体吹出装置において、直方体形状の部材であって、長手方向に平行な第１ブロック主面、第１ブロック主面に垂直で長手方向に平行な第１ブロック長手側面、第１ブロック主面に垂直で短手方向に平行な第１ブロック短手側面、第１ブロック主面から第１ブロック長手側面に連続して傾斜する第１ブロック傾斜面、第１ブロック短手側面から長手方向に伸びる第１ブロック流路、及び、第１ブロック流路より細く第１ブロック主面から第１ブロック流路に直交する方向にそれぞれ伸びて連通し長手方向に並ぶ複数の第１ブロック細流路を有する第１ブロック部材と、直方体形状の部材であって、長手方向に平行な第２ブロック主面、第２ブロック主面に垂直で長手方向に平行な第２ブロック長手側面、第２ブロック主面に垂直で短手方向に平行な第２ブロック短手側面、第２ブロック主面から第２ブロック長手側面に連続して傾斜する第２ブロック傾斜面、第２ブロック短手側面から長手方向に伸びる第２ブロック流路、及び、第２ブロック流路より細く第２ブロック主面から第２ブロック流路に直交する方向にそれぞれ伸びて連通し長手方向に並ぶ複数の第２ブロック細流路を有する第２ブロック部材と、板状の部材であって、第１ブロック長手側面と第２ブロック長手側面とを向け合わせた状態の第１ブロック部材及び第２ブロック部材の長手方向の一端部に位置付けられ、板厚方向が第１ブロック長手側面及び第２ブロック長手側面に垂直にされて、第１ブロック長手側面と第２ブロック長手側面との間に気密に設けられた第１スペーサ部材と、第１スペーサ部材と同じ厚さを有する板状の部材であって、一端部に対する他端部に位置付けられ、板厚方向が第１ブロック長手側面及び第２ブロック長手側面に垂直にされて、第１ブロック長手側面と第２ブロック長手側面との間に気密に設けられた第２スペーサ部材と、直方体形状の部材であって、長手方向に伸びる凹部を有し、第１スペーサ部材及び第２スペーサ部材を介して組み立てられた状態の第１ブロック部材及び第２ブロック部材における第１ブロック主面及び第２ブロック主面上に、凹部が複数の第１ブロック細流路及び複数の第２ブロック細流路を覆うように設けられた蓋部材とを備えることである、としてもよい。

図１は、本発明の第１の実施の形態に係る塗布装置の概略構成を示す平面図である。 図２は、図１に示す塗布装置が備える液滴噴射モジュールの概略構成を示す斜視図である。 図３は、図１に示す塗布装置が備える減圧乾燥モジュールの概略構成を示す斜視図である。 図４は、図１に示す塗布装置が備える復潤乾燥モジュールの概略構成を示す斜視図である。 図５は、図４に示す復潤乾燥モジュールの一部の概略構成を示す側面図である。 図６は、図１に示す塗布装置の液滴塗布処理の流れを示すフローチャートである。 図７は、図６に示す液滴塗布処理に応じて変化する液滴の厚さ方向の断面形状を示す模式図である。 図８は、本発明の第２の実施の形態に係る塗布装置が備える復潤乾燥モジュールの概略構成を示す斜視図である。 図９は、図８に示す復潤乾燥モジュールの一部の概略構成を示す側面図である。 図１０は、図８に示す復潤乾燥モジュールが備える検出部による基板上の検出位置を説明するための説明図である。 図１１は、図８に示す塗布装置の液滴塗布処理の流れを示すフローチャートである。 図１２は、本発明の第３の実施の形態に係る塗布装置の復潤乾燥モジュールが備える溶解吹出ヘッドを示す側面図である。 図１３は、図１２に示す溶解吹出ヘッドに対する比較例である溶解ヘッドを示す側面図である。 図１４は、本発明の第４の実施の形態に係る塗布装置の復潤乾燥モジュールが備える溶解吹出ヘッドを示す分解斜視図である。 図１５は、本発明の第５の実施の形態に係る塗布装置の復潤乾燥モジュールの一部の概略構成を示す側面図である。 図１６は、図１５に示す復潤乾燥モジュールが備える吸引ヘッド及び吸引風速分布調整部を示す斜視図である。 図１７は、本発明の第６の実施の形態に係る塗布装置の復潤乾燥モジュールが備える基板保持テーブルを示す平面図である。 図１８は、図１７のＡ２−Ａ２線断面図である。 図１９は、図１７及び図１８に示す基板保持テーブルの一部を示す斜視図である。 図２０は、本発明の第７の実施の形態に係る流体吹出装置の概略構成を示す分解斜視図である。 図２１は、図２０に示す流体吹出装置を示す正面図である。 図２２は、図２１のＡ１−Ａ１線断面図である。 図２３は、図２０乃至図２２に示す流体吹出装置が備える一対のスペーサ部材を研磨する研磨工程を示す第１の工程側面図である。 図２４は、第２の工程側面図である。 図２５は、第３の工程側面図である。

（第１の実施の形態）
本発明の第１の実施の形態について図１乃至図７を参照して説明する。

図１に示すように、本発明の第１の実施の形態に係る塗布装置１は、塗布対象物である基板２を収容する基板収容部３と、基板２に対してインク等の溶液（第１の溶液）を複数の液滴として噴射し、基板２上に各液滴を塗布する液滴噴射部としての液滴噴射モジュール４と、塗布後の基板２に対して減圧乾燥を行う減圧乾燥部としての減圧乾燥モジュール５と、減圧乾燥済の基板２に対して再溶解及び再乾燥を行う復潤乾燥部としての復潤乾燥モジュール６と、再溶解及び再乾燥済の基板２である塗布体２ａを収容する塗布体収容部７と、それらの基板収容部３、液滴噴射モジュール４、減圧乾燥モジュール５、復潤乾燥モジュール６及び塗布体収容部７の各間の基板搬送を行う搬送部８とを備えている。

基板収容部３は、複数の基板２を収容する階層構造の収容棚３ａを備えている。この収容棚３ａは、架台３ｂ上に着脱可能に取り付けられている。このような基板収容部３は、収容棚３ａの各段に一枚ずつ載置することにより複数の基板２を収容している。なお、収容棚３ａ内の基板２は搬送部８により液滴噴射モジュール４に搬送される。

液滴噴射モジュール４は架台４ｃ上に設けられており、基板２に向けてインクの液滴を噴射し塗着させるインク塗布ボックス４ａと、インク塗布ボックス４ａにインクを供給するインク供給ボックス４ｂとを備えている。インク塗布ボックス４ａは、液滴を噴射する複数の液滴噴射ヘッドＦを具備している。このような液滴噴射モジュール４は、各液滴噴射ヘッドＦにより、インク供給ボックス４ｂから送液されたインクを液滴（インク滴）化して噴射し、基板２の表面に所定のドットパターンを塗着する。インク塗布ボックス４ａの内部は、湿度が一定に、例えば７０％程度に保たれている。これにより、基板２の塗布途中及び基板２の搬送途中に、基板２上に着弾した各液滴が乾燥してしまうことを抑止する。塗布済の基板２は、搬送部８により液滴噴射モジュール４から減圧乾燥モジュール５に搬送される。

減圧乾燥モジュール５は、塗布済の基板２を収容する真空チャンバ等の収容室５ａと、その収容室５ａ内の気体を排気する排気部５ｂとを備えている。この減圧乾燥モジュール５は架台５ｃ上に設けられている。このような減圧乾燥モジュール５は、排気部５ｂにより収容室５ａ内の気体を排気して収容室５ａ内を減圧し、収容室５ａ内に収容した塗布済の基板２上の各液滴の溶媒を蒸発させる。これにより、基板２上の各液滴が乾燥し、溶質とわずかな溶媒成分で構成される残留物が基板２上に残る。乾燥済の基板２は、搬送部８により減圧乾燥モジュール５から復潤乾燥モジュール６に搬送される。

復潤乾燥モジュール６は架台６ｅ上に設けられており、基板２を保持して移動させる基板移動機構６ａと、移動する基板２の塗布面に対して溶解用気体を吹き付ける溶解吹付部６ｂと、その溶解吹付部６ｂより基板２の移動方向の下流側に設けられ、移動する基板２上の塗布面に対して乾燥気体を吹き付ける乾燥吹付部６ｃと、溶解吹付部６ｂと乾燥吹付部６ｃとの間の気体を排気する排気部６ｄとを備えている。復潤乾燥モジュール６は、基板移動機構６ａにより基板２を移動させながら、溶解吹付部６ｂにより基板２の塗布面に溶解用気体を吹き付け、その後、乾燥吹付部６ｃにより基板２の塗布面に乾燥気体を吹き付ける。これにより、減圧乾燥によって各液滴が乾燥し、基板２上に残留した各残留物（第１の溶液の残留物の群）は、溶解用気体に含まれている溶媒成分により再溶解して複数の液滴物（第２の溶液の液滴の群）となり、それらの液滴物（塗着体）が乾燥気体により再乾燥し、基板２上に残る複数の溶質物の群体となる。ここで、復潤とは、溶媒の付与により残留物である溶質の流動性を回復させることであり、溶質や溶媒の種類を問わない。溶解用気体は残留物を溶解可能な溶媒を成分として含む気体であり、乾燥気体は液滴物中に取り込まれた溶媒を乾燥させる気体である。再溶解及び再乾燥済の基板２は搬送部８により復潤乾燥モジュール６から塗布体収容部７に搬送される。

塗布体収容部７は、再溶解及び再乾燥済の基板２である塗布体２ａを収容する階層構造の収容棚７ａを有している。この収容棚７ａは架台７ｂ上に着脱可能に取り付けられている。このような塗布体収容部７は、搬送部８により復潤乾燥モジュール６から搬送された塗布体２ａを収容棚７ａの各段に一枚ずつ載置することにより収容する。

搬送部８は、上下方向に移動可能な昇降軸８ａと、その昇降軸８ａの上端部に連結されて水平面（Ｘ−Ｙ平面）内で回動可能なリンク８ｂ、８ｃと、そのリンク８ｂ、８ｃの先端部に取り付けられたアーム８ｄとを有している。この搬送部８は、昇降軸８ａの昇降及びリンク８ｂ、８ｃの回動を行い、基板収容部３の収容棚３ａから基板２を取り出して液滴噴射モジュール４に搬送し、さらに、塗布済の基板２を液滴噴射モジュール４から減圧乾燥モジュール５に搬送して収容室５ａ内に載置し、加えて、減圧乾燥済の基板２を減圧乾燥モジュール５内から取り出して復潤乾燥モジュール６に載置し、最後に、再溶解及び再乾燥済の基板２である塗布体２ａを塗布体収容部７に搬送して収容棚７ａ内に載置する。複数の基板２を搬送する場合には、各々の基板２が前述の順番で場所を変運するように一枚ずつ取り扱うように制御される。このような搬送部８の内部は、湿度が一定に、例えば７０％程度に保たれている。これにより、基板２の搬送途中に、基板２上の各液滴が乾燥してしまうことを防止することができる。

次いで、液滴噴射モジュール４が備えるインク塗布ボックス４ａ及びインク供給ボックス４ｂについて説明する。

図２に示すように、インク塗布ボックス４ａの内部には、基板２を保持してＸ軸方向及びＹ軸方向に移動させる基板移動機構１１と、液滴噴射ヘッドＦをそれぞれ有する３つのインクジェットヘッドユニット１２と、それらのインクジェットヘッドユニット１２を一体にＸ軸方向に移動させるユニット移動機構１３と、各液滴噴射ヘッドＦを清掃するヘッドメンテナンスユニット１４と、インクを収容する３つのインクバッファタンク１５とが設けられている。

基板移動機構１１は、Ｙ軸方向ガイド板１６、Ｙ軸方向移動テーブル１７、Ｘ軸方向移動テーブル１８及び基板保持テーブル１９が積層されて構成されている。これらのＹ軸方向ガイド板１６、Ｙ軸方向移動テーブル１７、Ｘ軸方向移動テーブル１８及び基板保持テーブル１９は平板状に形成されている。

Ｙ軸方向ガイド板１６は、架台４ｃの上面に固定されて設けられている。このＹ軸方向ガイド板１６の上面には、複数のガイド溝１６ａがＹ軸方向に沿って設けられている。これらのガイド溝１６ａが、Ｙ軸方向にＹ軸方向移動テーブル１７を案内する。

Ｙ軸方向移動テーブル１７は、各ガイド溝１６ａにそれぞれ係合する複数の突起部（図示せず）を下面に有しており、Ｙ軸方向ガイド板１６の上面にＹ軸方向に移動可能に設けられている。また、Ｙ軸方向移動テーブル１７の上面には、複数のガイド溝１７ａがＸ軸方向に沿って設けられている。このようなＹ軸方向移動テーブル１７は、送りネジと駆動モータとを用いた送り機構（図示せず）により各ガイド溝１６ａに沿ってＹ軸方向に移動する。

Ｘ軸方向移動テーブル１８は、各ガイド溝１７ａに係合する突起部（図示せず）を下面に有しており、Ｙ軸方向移動テーブル１７の上面にＸ軸方向に移動可能に設けられている。このＸ軸方向移動テーブル１８は、送りネジと駆動モータとを用いた送り機構（図示せず）により各ガイド溝１７ａに沿ってＸ軸方向に移動する。

基板保持テーブル１９は、Ｘ軸方向移動テーブル１８の上面に固定されて設けられている。この基板保持テーブル１９は、基板２を吸着する吸着機構（図示せず）を備えており、その吸着機構により上面に基板２を固定して保持する。吸着機構としては、例えばエアー吸着機構等を用いる。なお、基板保持テーブル１９は、Ｘ軸方向移動テーブル１８と共にＹ軸方向に往復移動し、基板２に対してインク滴の塗布を行う塗布位置（図１及び図２中の基板２の位置）と、基板保持テーブル１９上に基板２を載せ降ろしする載置位置とに移動する。

ユニット移動機構１３は、架台４ｃの上面に立設された一対の支柱２０と、それらの支柱２０の上端部間に連結されてＸ軸方向に延出するＸ軸方向ガイド板２１と、そのＸ軸方向ガイド板２１にＸ軸方向に移動可能に設けられ各インクジェットヘッドユニット１２を支持するベース板２２とを有している。

一対の支柱２０は、Ｘ軸方向においてＹ軸方向ガイド板１６を挟むように設けられている。また、Ｘ軸方向ガイド板２１の前面には、ガイド溝２１ａがＸ軸方向に沿って設けられている。このガイド溝２１ａが、Ｘ軸方向にベース板２２を案内する。ベース板２２は、ガイド溝２１ａに係合する突起部（図示せず）を背面に有しており、Ｘ軸方向ガイド板２１にＸ軸方向に移動可能に設けられている。このベース板２２は、送りネジと駆動モータとを用いた送り機構（図示せず）によりガイド溝２１ａに沿ってＸ軸方向に移動する。このようなベース板２２の前面には、３つのインクジェットヘッドユニット１２が取り付けられている。

各インクジェットヘッドユニット１２は、ベース板２２に垂設されており、それぞれ液滴噴射ヘッドＦを具備している。これらの液滴噴射ヘッドＦは、各インクジェットヘッドユニット１２の先端にそれぞれ着脱可能に設けられている。液滴噴射ヘッドＦは、貫通孔である複数のノズルを有し、それらの各ノズルから液滴を基板２に向けて噴射する。このようなインクジェットヘッドユニット１２には、基板２面に対して垂直方向、すなわちＺ軸方向に液滴噴射ヘッドＦを移動させるＺ軸方向移動機構１２ａと、液滴噴射ヘッドＦをＹ軸方向に移動させるＹ軸方向移動機構１２ｂと、液滴噴射ヘッドＦをθ方向に回転させるθ方向回転機構１２ｃとが設けられている。これにより、液滴噴射ヘッドＦは、Ｚ軸方向及びＹ軸方向に移動可能であり、θ軸方向に回転可能である。

ヘッドメンテナンスユニット１４は、各インクジェットヘッドユニット１２の移動方向の延長線上であってＹ軸方向ガイド板１６から離反させて配設されている。このヘッドメンテナンスユニット１４は、各インクジェットヘッドユニット１２の液滴噴射ヘッドＦを清掃する。なお、ヘッドメンテナンスユニット１４は、各インクジェットヘッドユニット１２の液滴噴射ヘッドＦがヘッドメンテナンスユニット１４に対向する待機位置に停止した状態で、各液滴噴射ヘッドＦを自動的に清掃する。

インクバッファタンク１５は、その内部に貯留したインクの液面と液滴噴射ヘッドＦのノズル面との水頭差（水頭圧）を利用し、ノズル先端のインクの液面（メニスカス）を調整する。これにより、インクの漏れ出しや吐出不良が防止されている。

インク供給ボックス４ｂの内部には、インクをそれぞれ収容する複数のインクタンク２３が着脱可能に取り付けられている。各インクタンク２３は、供給パイプ２４によりインクバッファタンク１５を介してそれぞれ液滴噴射ヘッドＦに接続されている。すなわち、液滴噴射ヘッドＦは、インクタンク２３からインクバッファタンク１５を介してインクの供給を受ける。

架台４ｃの内部には、塗布装置１の各部を制御するための制御部２５及び各種のプログラムを記憶する記憶部（図示せず）等が設けられている。制御部２５は、各種のプログラムに基づいて、Ｙ軸方向移動テーブル１７の移動、Ｘ軸方向移動テーブル１８の移動、ベース板２２の移動、Ｚ軸方向移動機構１２ａの駆動、Ｙ軸方向移動機構１２ｂの駆動及びθ方向回転機構１２ｃの駆動等の制御を行う。これにより、基板保持テーブル１９上の基板２と、各インクジェットヘッドユニット１２の液滴噴射ヘッドＦとの相対位置を色々と変化させることができる。さらに、制御部２５は、各種のプログラムに基づいて、減圧乾燥モジュール５の駆動、復潤乾燥モジュール６の駆動及び搬送部８の駆動等の制御を行う。

次いで、減圧乾燥モジュール５が備える収容室５ａ及び排気部５ｂについて説明する。

図３に示すように、収容室５ａは、開閉可能なドア３１を有する箱状に形成されている。このドア３１から塗布済の基板２が収容室５ａ内に収容される。まず、ドア３１が開かれ、塗布済の基板２が収容室５ａ内に収容され、その後、そのドア３１は気密となるように閉じられる。乾燥後、再びドア３１が開けられ、乾燥済の基板２が取り出される。なお、基板２は、収容室５ａの底面に設けられた支持ピン等により支持される。また、収容室５ａには、複数の貫通孔を有する分散板（図示せず）が設けられている。これにより、収容室５ａ内の気流の発生を抑えることができる。

排気部５ｂは、収容室５ａの底面に接続された排気経路である排気パイプ３２と、その排気パイプ３２を開閉する開閉弁３３と、排気パイプ３２を介して収容室５ａ内の気体を吸引する吸引部３４と、開閉弁３３と吸引部３４との間に位置付けられて排気径路中に設けられた減圧タンク３５とを有している。この排気部５ｂは、排気速度及び到達真空度等が変更可能に形成されている。

排気パイプ３２は、収容室５ａの底面の略中央に接続されている。開閉弁３３は、制御部２５により制御され、排気パイプ３２を開閉する。この開閉弁３３としては、例えば、バタフライ弁や電磁弁等を用いる。吸引部３４は、収容室５ａに開閉弁３３及び減圧タンク３５を介して排気パイプ３２により接続されている。この吸引部３４としては、例えば吸引ポンプ等を用いる。このような吸引部３４は、制御部２５により制御され、排気パイプ３２を介して収容室５ａ及び減圧タンク３５内の気体を吸引して排気する。減圧タンク３５は、吸引部３４により、例えば数ｋＰａの所定の真空圧まで吸引され、真空状態となる。

このような減圧乾燥モジュール５は、排気部５ｂにより減圧タンク３５内を所定の真空圧にし、その後、開閉弁３３により排気パイプ３２を開放し、収容室５ａ内から気体を排気し、収容室５ａを真空にする。これにより、塗布済の基板２上の各液滴は乾燥し、複数の残留物が基板２上に残る。

次いで、復潤乾燥モジュール６が備える基板移動機構６ａ、溶解吹付部６ｂ、乾燥吹付部６ｃ及び排気部６ｄについて図４及び図５を参照して説明する。

復潤乾燥モジュール６は、塗布対象物上に配置されたいくつもの微細な溶質の塊に対し、この溶質が溶解可能な溶媒を含ませて個々の塊内での溶質の流動性を回復させ、個別に流動性を有する微細な溶質の群に対し、均質な乾燥状態を与えて再び乾燥させるプロセスを提供するものである。このため、溶質の塊の個別性を保ったままで溶媒を付与して流動性を付与する復潤ユニットと基板とを相対変位させる機構と、溶質の流動性が付与された塊の各々から溶媒を蒸発させる乾燥ユニットと基板とを相対変位させる機構とが必要である。これを実現する手段としては、塗布対象物を固定して復潤ユニットや乾燥ユニットを塗布対象物がなす面と平行に変位させるよう構成しても実現可能である。本実施の形態においては、移動させるものの構造の単純さや重量を考慮し、所定距離離間して固定的に配置される復潤ユニット（溶解吹付部６ｂ）と乾燥ユニット（乾燥吹付部６ｃ）、及びこれらの復潤ユニットと乾燥ユニットを連通して単軸方向にテーブルを移動させるテーブル機構（基板移動機構６ａ）を具備することにより、塗布対象物と復潤ユニット、塗布対象物と乾燥ユニットの相対変位を実現している。

図４に示すように、基板移動機構６ａは、Ｙ軸方向ガイド板４１Ａ及び基板保持テーブル４２が積層されて構成されている。この基板移動機構６ａが、溶解吹付部６ｂ及び乾燥吹付部６ｃと基板２とを相対移動させる移動機構として機能する。

Ｙ軸方向ガイド板４１Ａは、架台６ｅの上面に固定されて設けられている。このＹ軸方向ガイド板４１Ａの上面には、複数のガイド溝４１ａがＹ軸方向に沿って並行に設けられている。これらのガイド溝４１ａが、Ｙ軸方向に基板保持テーブル４２を案内する。

基板保持テーブル４２は、Ｙ軸方向ガイド板４１Ａの上面を各ガイド溝４１ａに沿ってＹ軸方向に移動可能に設けられている。この基板保持テーブル４２は、送りネジと駆動モータとを用いた送り機構（図示せず）により各ガイド溝４１ａに沿ってＹ軸方向に移動する。また、基板保持テーブル４２は、基板２を吸着する吸着機構（図示せず）を備えており、その吸着機構により上面に基板２を固定して保持する。吸着機構としては、例えばエアー吸着機構等を用いる。さらに、基板保持テーブル４２は、基板２を支持する突没可能な複数の支持ピンを備えており、基板２の受け渡しを行う場合、それらの支持ピンにより基板２を支持する。このような基板保持テーブル４２は、Ｙ軸方向に往復移動し、減圧乾燥済の基板２を載置する載置位置と、再溶解及び再乾燥後の基板２である塗布体２ａを受け渡す受渡位置とに移動する。なお、基板保持テーブル４２の移動速度は、例えば数十ｍｍ／ｓ程度である。

溶解吹付部６ｂは、基板保持テーブル４２上の基板２に対して溶解用気体を吹き出す溶解吹出ヘッド４３と、その溶解吹出ヘッド４３を基板移動機構６ａに対向させて支持する支持部４４と、溶解吹出ヘッド４３に溶解用気体を供給する溶解用気体供給部４５と、溶解吹出ヘッド４３と溶解用気体供給部４５とを接続し溶解用気体が通過する溶解用気体供給管４６とを備えている。この溶解吹付部６ｂは、溶解用気体の濃度や風量等が変更可能に形成されている。

溶解吹出ヘッド４３は、開口する吹出口４３ａ（図５参照）を有する箱状に形成されている。この吹出口４３ａは、スリット状に形成されている。このような溶解吹出ヘッド４３は、図５に示すように、吹出口４３ａから溶解用気体を吹き出し、移動する基板２上の各残留物に吹き付ける。この溶解用気体により、基板２上の各残留物は再溶解して複数の液滴物となる。ここで、溶解吹出ヘッド４３と基板２の表面との離間距離Ｈ１は、例えば数ｍｍ程度であり、基板２に対して溶解用気体を吹き出す方向ベクトルと基板２がなす平面に含まれる基板２の相対移動方向のベクトルとのなす角である吹出角度θ１は、例えば９０度程度である（図５参照）。

支持部４４は、溶解吹出ヘッド４３に固定させて取り付けられた一対のアーム部材４４ａと、それらのアーム部材４４ａをそれぞれ支持する一対の支柱４４ｂとにより構成されている。一対のアーム部材４４ａは、溶解吹出ヘッド４３と一対の支柱４４ｂとを連結している。また、一対の支柱４４ｂは、架台６ｅの上面に立設されている。これらの支柱４４ｂは、一対のアーム部材４４ａを回動可能に、さらに、それらのアーム部材４４ａを一対の支柱４４ｂの高さ方向に移動可能に支持している。すなわち、溶解吹出ヘッド４３は、基板保持テーブル４２上の基板２に対する溶解吹出ヘッド４３の相対位置、例えば、基板２に対する吹出角度θ１や基板２に対する離間距離Ｈ１等が変更可能に形成されている。したがって、一対のアーム部材４４ａの回動により吹出角度θ１が調整され、一対の支柱４４ｂの移動により離間距離Ｈ１が調整される。

溶解用気体供給部４５は、溶解用気体を収容しており、その溶解用気体を送風ポンプ等により溶解用気体供給管４６を介して溶解吹出ヘッド４３に供給する装置である。ここで、溶解用気体としては、噴射された液滴の溶質が溶ける溶媒を含む気体、例えば水等の溶媒を含む気体を用いる。なお、この溶解用気体の濃度や風量（＝平均風速×吹出口４３ａの開口面積）等を調整することにより、基板２上に残る各溶質物の厚さ方向の断面形状を調整することができる。例えば、風速は数ｍ／ｓ程度である。なお、気化された溶媒を用いずに、液状の溶媒を保持するようにし、必要に応じて気化させる構成としてもよい。

溶解用気体供給管４６は、溶解吹出ヘッド４３と溶解用気体供給部４５とを接続し、溶解用気体供給部４５から溶解吹出ヘッド４３に溶解用気体を供給するための流路である。この溶解用気体供給管４６としては、例えばチューブやパイプ等を用いる。このような溶解用気体供給管４６の外周面には、熱を供給するヒータＮが設けられている。このヒータＮとしては、シート状のヒータが用いられており、溶解用気体供給管４６の外周面に巻かれて設けられている。このヒータＮの発熱を制御することにより、溶解用気体供給管４６及び管内雰囲気の温度を流通する気体の露点より高く保つ。その結果、管内での溶媒の結露やミスト化を防止し、溶解用気体の溶媒濃度を一定に保つことを容易にする。特に、ミスト化は液体が霧状に空中を漂っている状態であるため、そのミスト化を防止することで液体が基板２上や他の装置箇所に付着してしまうことを抑止することができる。

乾燥吹付部６ｃは、基板保持テーブル４２上の基板２に対して乾燥気体を吹き出す乾燥吹出ヘッド４７と、その乾燥吹出ヘッド４７を基板移動機構６ａに対向させて支持する支持部４８と、乾燥吹出ヘッド４７に乾燥気体を供給する乾燥気体供給部４９と、乾燥吹出ヘッド４７と乾燥気体供給部４９とを接続し乾燥気体が通過する乾燥気体供給管５０とを備えている。この乾燥吹付部６ｃは、乾燥気体の濃度や風量等が変更可能に形成されている。

乾燥吹出ヘッド４７は、開口する吹出口４７ａ（図５参照）を有する箱状に形成されている。この吹出口４７ａは、スリット状に形成されている。このような乾燥吹出ヘッド４７は、図５に示すように、吹出口４７ａから乾燥気体を吹き出し、移動する基板２上の各液滴物に吹き付ける。この乾燥気体により各液滴物は再乾燥し、基板２上に残る複数の溶質物となる。ここで、乾燥吹出ヘッド４７と基板２の表面との離間距離Ｈ２は、例えば数ｍｍ〜十数ｍｍ程度であり、基板２に対して乾燥気体を吹き出す方向ベクトルと基板２がなす平面に含まれる基板２の相対移動方向のベクトルとのなす角である吹出角度θ２は、例えば４０度〜７０度程度である（図５参照）。

支持部４８は、乾燥吹出ヘッド４７に固定させて取り付けられた一対のアーム部材４８ａと、それらのアーム部材４８ａをそれぞれ支持する一対の支柱４８ｂとにより構成されている。一対のアーム部材４８ａは、乾燥吹出ヘッド４７と一対の支柱４８ｂとを連結している。また、一対の支柱４８ｂは、架台６ｅの上面に立設されている。これらの支柱４８ｂは、一対のアーム部材４８ａを回動可能に、さらに、それらのアーム部材４８ａを一対の支柱４８ｂの高さ方向に移動可能に支持している。すなわち、乾燥吹出ヘッド４７は、基板保持テーブル４２上の基板２に対する乾燥吹出ヘッド４７の相対位置、例えば、基板２に対する吹出角度θ２や基板２に対する離間距離Ｈ２等が変更可能に形成されている。したがって、一対のアーム部材４８ａの回動により吹出角度θ２が調整され、一対の支柱４８ｂの移動により離間距離Ｈ２が調整される。

乾燥気体供給部４９は、乾燥気体を収容しており、その乾燥気体を送風ポンプ等により乾燥気体供給管５０を介して乾燥吹出ヘッド４７に供給する装置である。ここで、乾燥気体としては、例えば、窒素（Ｎ２）等の乾燥状態の気体を用いる。なお、この乾燥気体の濃度や風量（＝平均風速×吹出口４７ａの開口面積）等を調整することにより、基板２上に残る各溶質物の厚さ方向の断面形状を調整することができる。例えば、風速は数ｍ／ｓ程度である。

乾燥気体供給管５０は、乾燥吹出ヘッド４７と乾燥気体供給部４９とを接続し、乾燥気体供給部４９から乾燥吹出ヘッド４７に乾燥気体を供給するための流路である。この乾燥気体供給管５０としては、例えばチューブやパイプ等を用いる。

排気部６ｄは、溶解吹出ヘッド４３と乾燥吹出ヘッド４７との間の気体を吸引する吸引ヘッド５１と、その吸引ヘッド５１を基板移動機構６ａに対向させて支持する支持部５２と、吸引ヘッド５１に吸引力を供給する吸引部５３と、吸引ヘッド５１と吸引部５３とを接続し、吸引した気体が通過する排気管５４とを備えている。この排気部６ｄは、吸引する気体の風量、すなわち吸引力が変更可能に形成されている。

吸引ヘッド５１は、開口する吸気口５１ａ（図５参照）を有する箱状に形成されている。この吸気口５１ａは、例えば長方形状に形成されている。このような吸引ヘッド５１は、図５に示すように、吸気口５１ａから気体を吸引する。これにより、溶解吹出ヘッド４３と乾燥吹出ヘッド４７との間の気体が吸引され、その間の湿度上昇が抑えられ、高湿度雰囲気の拡散を抑止する。ここで、吸引ヘッド５１と基板２の表面との離間距離Ｈ３は、例えば数ｍｍ〜十数ｍｍ程度であり、基板２に対する角度であって気体を吸引する方向ベクトルと基板２がなす平面に含まれる基板２の相対移動方向のベクトルとのなす角である吸気角度θ３は、例えば９０度程度である（図５参照）。

なお、吸引ヘッド５１の内部には、複数の貫通孔を有する多孔質板が１枚又は複数枚（例えば３枚）、吸気口５１ａの開口面に略平行にして設けられる場合もある。特に、複数の多孔質板を設ける場合には、それらの多孔質板は、吸気口５１ａから排気口に向かって貫通孔の数が減少するように配置される。なお、吸引ヘッド５１の排気口は、排気管５４に接続されている開口である。このように多孔質板を設けることにより、風速分布を無くし、吸気口５１ａから均一な吸引を行うことができる。なお、湿度分布が大きい場合には、その湿度分布に合わせて、多孔質板の貫通孔の数や貫通孔の形成位置等を調整し、風速分布を形成する場合もある。例えば、吸気口５１ａの両端付近の湿度が低く、その中央付近の湿度が高い場合には、吸気口５１ａの両端側を低く、その中央部が高くなるように風速分布を形成する。

支持部５２は、吸引ヘッド５１に固定させて取り付けられた一対のアーム部材５２ａと、それらのアーム部材５２ａをそれぞれ支持する一対の支柱５２ｂとにより構成されている。一対のアーム部材５２ａは、吸引ヘッド５１と一対の支柱５２ｂとを連結している。また、一対の支柱５２ｂは、架台６ｅの上面に立設されている。これらの支柱５２ｂは、一対のアーム部材５２ａを回動可能に、さらに、それらのアーム部材５２ａを一対の支柱５２ｂの高さ方向に移動可能に支持している。すなわち、吸引ヘッド５１は、基板保持テーブル４２上の基板２に対する吸引ヘッド５１の相対位置、例えば、基板２に対する吸気角度θ３や基板２に対する離間距離Ｈ３等が変更可能に形成されている。したがって、一対のアーム部材５２ａの回動により吸気角度θ３が調整され、一対の支柱５２ｂの移動により離間距離Ｈ３が調整される。

吸引部５３は、排気ポンプ等により排気管５４を介して吸引ヘッド５１に吸引力を供給する装置である。なお、この吸引力、すなわち吸引する気体の風量（＝平均風速×吸気口５１ａの開口面積）を調整することにより、基板２上に残る各溶質物の厚さ方向の断面形状を調整することができる。例えば、風速は数ｍ／ｓ程度である。

排気管５４は、吸引ヘッド５１と吸引部５３とを接続し、吸引ヘッド５１により吸引された気体を排気するための流路である。この排気管５４としては、例えばチューブやパイプ等を用いる。

次に、前述の塗布装置１の液滴塗布処理、すなわち塗布装置１による塗布体（物品）２ａの製造工程について説明する。塗布装置１の制御部２５は各種のプログラムに基づいて液滴塗布処理を実行する。

塗布体２ａの製造工程は、基板２に向けて第１の溶媒に溶質を含ませた第１の溶液であるインクを液滴化して噴射し、基板２に複数の液滴を塗着する塗布工程と、基板２上の各液滴から第１の溶媒を蒸発させる乾燥工程と、各液滴が乾燥し基板２上に残留した各残留物（第１の溶液の残留物の群）を第２の溶媒によって再溶解し、残留物を含む第２の溶液である液滴物（第２の溶液の液滴の群）を形成し、基板２上に形成した各液滴物をあらためて乾燥させる復潤乾燥工程（図５参照）とにより構成されている。なお、復潤乾燥工程は、基板２上に残留した各残留物に対して溶解用気体を吹き付け、液体状の各液滴物を形成する溶解吹付工程と、形成した基板２上の各液滴物に対して乾燥気体を吹き付ける乾燥吹付工程とを有している。

ここで、インクの主成分は、基板２上に残留物として残留する溶質と、その溶質を溶解（あるいは分散）させる溶媒とにより構成されている。このインクは、例えば、水及び吸水性低蒸気圧溶媒（例えばＥＧ等）の他、添加剤として、水溶性高分子材料（例えば、ＰＶＰ：ポリビニルピロリドンやＰＶＡ：ポリビニルアルコール等）及び水溶性膜材料等を含む。添加された水溶性高分子材料は液滴の辺縁がなす着弾径を着弾時に拡がった際の最大値に近いとこで固定するピニング剤として機能する。

このインクには、残留物の一部として基板２上に残留する界面活性剤が、溶質として添加されている。この界面活性剤は、減圧乾燥の工程において揮発しない程度の質量を有する材料とする。また、界面活性剤としては、第２の溶媒の表面張力を有意な程度に低減する作用を有するものを選択する。例えば、水を用いる場合にはポリアクリル酸アンモニウム等の陰イオン性界面活性剤を用いるのが好ましい。

溶液に界面活性剤を添加することによって、各残留物の再溶解時に、界面活性剤も同時に溶解し、液滴物の表面張力を下げることが可能になる。これにより、液滴を乾燥させる際に他の溶質が液滴の中心部に寄り集まることなく一様に析出されやすくなるので、膜厚分布が均一化され、平坦な塗膜（例えば、薄膜）を形成することが容易になる。特に、溶媒として水を用いた場合には、液滴物の表面張力が大きくなり、周辺の厚みが大きい膜が形成されやすい傾向にあるが、溶液に界面活性剤を添加することによって、平坦な溶質物（例えば、薄膜）を形成することができる。

界面活性剤は溶媒の表面張力を有意位な程度に低下させることが目的であり、目的にかなう範囲内で溶媒にあわせて適宜選択することができる。ただし、インクを構成する第１の溶質や塗布装置１の各部品と作用して化学反応を起こさないものを選択する観点から、界面活性剤のカウンターイオンとして、アルカリ金属類や金属類・ハロゲン類が用いられているものは避け、アンモニウムイオンやテトラメチルアンモニウムイオンなどが利用されているものを用いることが好ましい。

図６に示すように、制御部２５は、搬送部８を制御し、基板収容部３の収容棚３ａから基板２を取り出して液滴噴射モジュール４に搬送し、その基板２を液滴噴射モジュール４の基板保持テーブル１９上に載置する（ステップＳ１）。このとき、基板保持テーブル１９は載置位置に待機しており、基板２は吸着機構により基板保持テーブル１９上に保持される。

次いで、制御部２５は、液滴噴射モジュール４を制御し、基板保持テーブル１９上の基板２に液滴を噴射して塗布する（ステップＳ２）。詳述すると、制御部２５は、液滴噴射モジュール４を制御し、基板保持テーブル１９を載置位置から塗布位置に移動させ、各インクジェットヘッドユニット１２を待機位置から基板２に対向する位置まで移動させる。その後、制御部２５は、Ｙ軸方向移動テーブル１７及びＸ軸方向移動テーブル１８を制御し、加えて、各インクジェットヘッドユニット１２の液滴噴射ヘッドＦを制御し、各液滴噴射ヘッドＦにより基板２に向かって液滴を噴射する噴射動作を行う。各液滴噴射ヘッドＦは、インクを液滴として各ノズルからそれぞれ噴射し、移動する基板２にそれらの液滴を着弾させ、所定のパターンのドット列を順次形成する。その後、制御部２５は、各インクジェットヘッドユニット１２を待機位置まで戻し、基板保持テーブル１９を塗布位置から載置位置に移動させる。

ここで、基板２上の各液滴の厚さ方向の断面形状は、図７に示すように、断面形状Ｄ１のような半円状になる。このとき、液滴が含むピニング剤（ＰＶＰ）の作用により、液滴の着弾径（直径）は固定されている。

その後、制御部２５は、搬送部８を制御し、載置位置に待機する基板保持テーブル１９から塗布済の基板２を取り出して減圧乾燥モジュール５に搬送し、その基板２を減圧乾燥モジュール５の収容室５ａ内に載置する（ステップＳ３）。この基板２は、収容室５ａ内に密封状態で収容される。

次いで、制御部２５は、減圧乾燥モジュール５を制御し、その収容室５ａ内に収容した塗布済の基板２上の各液滴を減圧乾燥させる（ステップＳ４）。詳述すると、制御部２５は、排気部５ｂを制御し、まず、減圧タンク３５内を例えば数ｋＰａの所定の真空圧にし、その後、開閉弁３３により排気パイプ３２を開放し、収容室５ａ内から気体を排気し、収容室５ａを真空にする。これにより、収容室５ａ内が真空状態になり、塗布済の基板２上の各液滴は乾燥し、複数の残留物が基板２上に残る。

ここで、基板２上に残留した各残留物、特に基板２の周辺部の各残留物の厚さ方向の断面形状は、図７に示すように、乾燥前の液滴の着弾径を維持したまま、断面形状Ｄ２のような中央部が凹む形状になる。このとき、基板２の中央部の各残留物の厚さ方向の断面形状と、基板２の周辺部の各残留物の厚さ方向の断面形状とは異なっている。

なお、基板２上に液滴を塗布した際には、液滴が含むＰＶＰの作用により液滴の着弾径が固定され、その後、減圧乾燥により、遅い乾燥の進行に伴う縮退が起きる前に、液滴が含む溶質が液滴の外周部に集中する。このとき、水はほとんど蒸発するのに対し、ＥＧは微少量残存する。このように、液滴の着弾径が維持された状態で、残留物が生成されるので、基板２上の各残留物の直径を均一化することができる。

その後、制御部２５は、搬送部８を制御し、減圧乾燥モジュール５の収容室５ａ内から乾燥済の基板２を取り出して復潤乾燥モジュール６に搬送し、その基板２を復潤乾燥モジュール６の基板保持テーブル４２上に載置する（ステップＳ５）。このとき、基板保持テーブル４２は載置位置に待機しており、基板２は吸着機構により基板保持テーブル４２上に保持される。

制御部２５は、復潤乾燥モジュール６を制御し、移動する基板保持テーブル４２上の基板２の表面である塗布面に対して溶解用気体を吹き付け、その後、乾燥気体を吹き付ける（ステップＳ６）。詳述すると、制御部２５は、基板移動機構６ａを制御し、基板保持テーブル４２を載置位置から受渡位置に移動させながら、溶解吹付部６ｂ、乾燥吹付部６ｃ及び排気部６ｄを制御し、移動する基板２上の減圧乾燥済の各残留物に溶解用気体を吹き付け、続けて、余剰分の溶解用気体を排気しながら、移動する基板２上の溶解済の各液滴物に乾燥気体を吹き付ける。

これにより、減圧乾燥済の各残留物は溶解用気体により再溶解し、基板２上の各液滴物となり、その後、それらの液滴物が乾燥気体により再乾燥し、基板２上に残る各溶質物（塗膜）となる。このとき、基板２の中央部の各溶質物の厚さ方向の断面形状と、基板２の周辺部の各溶質物の厚さ方向の断面形状とは同じになる。すなわち、再乾燥後の各溶質物の厚さ方向の断面形状は、基板２の中央部や周辺部等の着弾位置に依らずほぼ均一になる。また、溶解吹付部６ｂにより吹き付けられた溶解用気体のうち、各液滴物の形成に寄与しない余剰分の溶解用気体が排気され、高湿度雰囲気の拡散が防止される。なお、各液滴物に向けて吹き付けられた乾燥気体を吸引して排気するようにしてもよい。この場合には、乾燥気体及び乾燥寄与後の溶媒が含まれた気体の拡散を抑制しやすくなる。

ここで、各液滴物の厚さ方向の断面形状は、図７に示すように、減圧乾燥前の液滴の直径を維持したまま、断面形状Ｄ３のような半円状になる。これは、残留物内のＥＧが加湿により給水し、残留物は着弾径を保持したまま、その形状が元の形状（図７に示す断面形状Ｄ１）にリセットされる（これを復潤と呼ぶ）ためである。このときの液組成は、最初の組成よりも水が多くなり、ＥＧが少なくなっている組成である。また、再溶解により、液滴の周辺部のＥＧと溶質が液滴内に分布する。なお、水が多くなっているので、再乾燥時の湿度制御により、断面形状を制御することが容易になる。このとき、形状が着弾当初のものに完全に戻る必要はない。溶質が流動性を回復する程度でよい場合もあり、復潤に用いる溶媒の性質ともあわせて適宜調整される。

また、各溶質物の厚さ方向の断面形状は、図７に示すように、減圧乾燥前の液滴の直径を維持したまま、断面形状Ｄ４のような上端部が平坦となる台形状になる。このとき、水が多い中央部とＥＧが多い周辺部との表面張力差によってマランゴニ対流が発生し、乾燥に伴う外側への流れとバランスを取ることになるので、基板２の表面付近に流れが発生しなくなり、断面形状は平坦化される。加えて、界面活性剤が液滴物内に溶解し、液滴物の表面張力が下がるため、液滴物の再乾燥時に溶質は中央部に寄り集まることなく一様に析出されるので、断面形状は平坦化される。なお、溶質物内に界面活性剤が残留し、問題が生じる場合には、基板２上の各溶質物に対してベーク処理（例えば、４００〜５００℃程度のベーク処理）を施し、界面活性剤を熱分解する。

その後、制御部２５は、搬送部８を制御し、受渡位置に待機する基板保持テーブル４２から塗布体２ａを取り出して塗布体収容部７に搬送し、その基板２を塗布体収容部７の収容棚７ａ内に載置する（ステップＳ７）。

最後に、制御部２５は、所定数の基板２に対する塗布が完了したか否かを判断する（ステップＳ８）。ここでは、塗布体２ａの数をカウントし、そのカウント値が所定値に達しているか否かを判断している。所定数の基板２に対する塗布が完了したと判断した場合には（ステップＳ８のＹＥＳ）、処理を終了する。一方、所定数の基板２に対する塗布が完了していないと判断した場合には（ステップＳ８のＮＯ）、処理をステップＳ１に戻し、前述の処理を繰り返す。

以上説明したように、本発明の第１の実施の形態によれば、基板２上に残留した複数の残留物を溶解し、残留物をそれぞれ含む複数の液滴物を形成し、形成した各液滴物を乾燥させる復潤乾燥モジュール６を設けることによって、基板２上の各残留物が一様な条件で溶解して乾燥し、各溶質物（塗膜）が基板２上に残るので、着弾から乾燥完了までの経過が着弾する領域によってさまざまであった従来に比べ、どこに着弾した液滴でも一様な現象で乾燥することになる。これにより、溶質物の厚さ方向の断面形状を塗布対象面内の各液滴についてほぼ均一にし、それらのばらつきを抑えることが可能になり、塗布対象面内で各溶質物の状態を均一化することができる。その結果、各溶質物の厚さ方向の断面形状のばらつきに起因する塗布体２ａの製造不良の発生を防止することができる。

このように、個別の残留物の流動性を一時的に回復させ、即座に乾燥させる。乾燥気体を流動させて乾燥過程の周辺雰囲気を強制的に移動させるため、周辺液滴の溶媒蒸発との干渉効果が低減され、一滴のみを乾燥させたときと同様の状態に近づけられる。基板全域でこの局所的な形状リセット及び乾燥現象を起こすことによって面均一を得ることができる。

また、塗布工程において、残留物の一部として基板２上に残留する界面活性剤を含む溶液を液滴化して噴射することによって、残留物の再溶解時に界面活性剤も同時に溶解し、液滴物の表面張力が下がるので、液滴物の再乾燥時に溶質は中央部に寄り集まることなく一様に析出される。これにより、平坦な溶質物（例えば、薄膜）を形成することができる。特に、溶媒として水を用い、液滴物の表面張力が大きい場合でも、平坦な溶質物を形成することができる。

また、復潤乾燥モジュール６は、基板２上の各残留物に対し、残留物を溶解する溶解用気体を吹き付ける溶解吹付部６ｂと、基板２上の各液滴物に対し、液滴物を乾燥させる乾燥気体を吹き付ける乾燥吹付部６ｃとを具備していることから、簡単な構成により、各溶質物の厚さ方向の断面形状のばらつきを確実に抑えることができる。さらに、溶解用気体や乾燥気体の濃度や風量等を変更することにより、各溶質物の厚さ方向の断面形状を調整することが可能になるので、各溶質物の厚さ方向の断面形状のばらつきを確実に抑えることができる。

特に、溶解吹付部６ｂは、溶解用気体の風量（例えば、基板２の移動方向と水平面内で垂直な方向における溶解用気体の流量分布）が変更可能に形成されており、また、乾燥吹付部６ｃは、乾燥気体の風量（例えば、基板２の移動方向と水平面内で垂直な方向における乾燥気体の流量分布）が変更可能に形成されていることから、溶解用気体の風量や乾燥気体の風量を変更することにより、各溶質物の厚さ方向の断面形状を調整することが可能になるので、各溶質物の厚さ方向の断面形状のばらつきを確実に抑えることができる。

また、溶解吹付部６ｂは、溶解用気体を吹き出す溶解吹出ヘッド４３と、溶解吹出ヘッド４３に溶解用気体を供給する溶解用気体供給部４５と、溶解吹出ヘッド４３と溶解用気体供給部４５とを接続し溶解用気体が通過する溶解用気体供給管４６とを具備しており、乾燥吹付部６ｃは、乾燥気体を吹き出す乾燥吹出ヘッド４７と、乾燥吹出ヘッド４７に乾燥気体を供給する乾燥気体供給部４９と、乾燥吹出ヘッド４７と乾燥気体供給部４９とを接続し乾燥気体が通過する乾燥気体供給管５０とを具備していることから、簡単な構成により、各溶質物の厚さ方向の断面形状のばらつきを抑えることができる。さらに、溶解吹出ヘッド４３及び乾燥吹出ヘッド４７と基板２とを相対移動させる基板移動機構６ａを設けることによって、溶解吹付部６ｂ及び乾燥吹付部６ｃを小型化することも可能になるので、装置全体の大型化を防止することができる。

また、溶解用気体供給管４６は、その外周面に設けられたヒータＮを有している。溶解用気体の温度と復潤乾燥モジュール６内との温度差に大きな変動があると、溶解用気体に含まれる溶媒の濃度の算定が困難になるため、復潤乾燥モジュール６内に設けた温度センサと、溶解用気体供給管４６内に設けた温度センサとにより溶解用気体の温度が適正化されるように、ヒータＮによって溶解用気体の温度を調整する制御が行われる。なお、溶解用気体供給管４６の温度を制御することによって、溶解用気体が溶解用気体供給管４６を通過する際に、その温度が低下してしまうことを防止することも可能になるので、結露の発生等を抑えることもできる。

また、復潤乾燥モジュール６は、溶解吹付部６ｂにより吹き付けられた溶解用気体のうち、各液滴物の形成に寄与しない余剰分の溶解用気体を排気する排気部６ｄを具備していることから、高湿度雰囲気の拡散を防止することが可能になるので、乾燥が終了した部分の塗膜に影響を与え難くなり、各溶質物の厚さ方向の断面形状のばらつきを確実に抑えることができる。

また、排気部６ｄは、溶解吹出ヘッド４３と乾燥吹出ヘッド４７との間の気体を吸引する吸引ヘッド５１と、吸引ヘッド５１に吸引力を供給する吸引部５３と、吸引ヘッド５１と吸引部５３とを接続し、吸引した気体が通過する排気管５４とを具備していることから、溶解吹出ヘッド４３と乾燥吹出ヘッド４７との間の気体が吸引され、その間の湿度上昇が抑えられるので、簡単な構成により、各溶質物の厚さ方向の断面形状のばらつきを確実に抑えることができる。

また、溶解吹出ヘッド４３は、基板２に対する相対位置が変更可能に設けられていることから、基板２に対する溶解吹出ヘッド４３の相対位置を変更し、各溶質物の厚さ方向の断面形状を容易に調整することができる。特に、溶解吹出ヘッド４３は、基板２に対して溶解用気体を吹き出す吹出角度θ１が変更可能に設けられていることから、その吹出角度θ１を変更することにより各溶質物の厚さ方向の断面形状を容易に調整することができる。また、溶解吹出ヘッド４３は、基板２に対する離間距離Ｈ１が変更可能に設けられていることから、その離間距離Ｈ１を変更することにより各溶質物の厚さ方向の断面形状を容易に調整することができる。

また、乾燥吹出ヘッド４７は、基板２に対する相対位置が変更可能に設けられていることから、基板２に対する乾燥吹出ヘッド４７の相対位置を変更し、各溶質物の厚さ方向の断面形状を容易に調整することができる。特に、乾燥吹出ヘッド４７は、基板２に対して乾燥気体を吹き出す吹出角度θ２が変更可能に設けられていることから、その吹出角度θ２を変更することにより各溶質物の厚さ方向の断面形状を容易に調整することができる。また、乾燥吹出ヘッド４７は、基板２に対する離間距離Ｈ２が変更可能に設けられていることから、その離間距離Ｈ２を変更することにより各溶質物の厚さ方向の断面形状を容易に調整することができる。

また、インク内の溶質はインクを構成する液体に溶けない粒子でも同様に使用でき、これも広義での溶質とみなす。したがって、インクにはコロイドも含まれる。

（第２の実施の形態）
本発明の第２の実施の形態について図８乃至図１１を参照して説明する。

本発明の第２の実施の形態は第１の実施の形態の変形である。したがって、特に、第１の実施の形態と異なる部分、すなわち復潤乾燥モジュール６について説明する。なお、第２の実施の形態においては、第１の実施の形態で説明した部分と同じ部分の説明を省略する。

図８及び図９に示すように、復潤乾燥モジュール６は、基板移動機構６ａ、溶解吹付部６ｂ、乾燥吹付部６ｃ及び排気部６ｄに加え、基板移動機構６ａにより移動する基板２の表面（塗布面）に対する離間距離（第１の離間距離）Ｈ４を検出する検出部６ｆを備えている。

基板移動機構６ａは、Ｙ軸方向ガイド板４１Ｂ及び基板保持テーブル４２が積層されて構成されている。この基板移動機構６ａが、溶解吹付部６ｂ、乾燥吹付部６ｃ、排気部６ｄ及び検出部６ｆと基板２とを相対移動させる移動機構として機能する。

Ｙ軸方向ガイド板４１Ｂは、架台６ｅの上面に固定されて設けられている。このＹ軸方向ガイド板４１Ｂの内部には、送りネジ４１ｂと駆動モータ４１ｃとを用いた送り機構が設けられている。この送り機構が基板保持テーブル４２をＹ軸方向に移動させる。

基板保持テーブル４２は、Ｙ軸方向ガイド板４１Ｂの上面側にＹ軸方向に移動可能に設けられている。この基板保持テーブル４２は、送りネジ４１ｂと駆動モータ４１ｃとを用いた送り機構によりＹ軸方向に移動する。また、基板保持テーブル４２は、基板２を支持する突没可能な複数の支持ピン（リフトアップピン）を備えており、それらの支持ピンにより基板２を支持して、その状態のまま搬送動作を行う。このような基板保持テーブル４２は、Ｙ軸方向に往復移動する。なお、第２の実施の形態では、減圧乾燥済の基板２を載置する載置位置と、再溶解及び再乾燥後の基板２である塗布体２ａを受け渡す受渡位置とは同じ位置になる。基板保持テーブル４２の移動速度は、例えば数十ｍｍ／ｓ程度である。

支持ピンで支持したまま処理を行う理由としては、以下のようなものがある。基板保持テーブル４２に基板２を吸着する場合には、基板２脱着用のリフトピンが挿通可能に形成された孔が基板保持テーブル４２の載置面上に設けられるが、この孔による放熱条件の違いは塗膜の形状に影響を与え、素子抵抗に反映されてしまう。また、基板保持テーブル４２が金属である場合には、基板保持テーブル４２は熱伝導性が良く、基板２の面積が広くなるとその基板２の温度分布に差が生じやすい。また、基板２の平坦度が基板保持テーブル４２の平坦度と異なっている場合には、基板２と基板保持テーブル４２とがあたるところとあたらないところが生じる。これらの問題を防止するため、支持ピンにより基板２を保持し、その状態で処理を行う構成にする必要がある。

溶解吹付部６ｂは、溶解吹出ヘッド４３、支持部４４、溶解用気体供給部４５及び溶解用気体供給管４６に加え、溶解用気体供給管４６の経路途中に設けられた経路切替部６１と、溶解用気体を液体として収容するタンク６２と、経路切替部６１とタンク６２とを連通する排気管６３と、その排気管６３の経路途中に設けられた負荷調整バルブ６４とを備えている。さらに、溶解吹付部６ｂは、溶解吹出ヘッド４３から吹出された溶解用気体を受ける気体受け部６５と、その気体受け部６５を溶解吹出ヘッド４３に対する接離方向であるＺ軸方向に移動させる受け部移動機構６６と、気体受け部６５とタンク６２とを連通する排気管６７とを備えている（図９参照）。

経路切替部６１は、制御部２５の制御に応じて、溶解用気体供給部４５と溶解用気体供給管４６とが連通する第１の経路と、溶解用気体供給部４５と排気管６３とが連通する第２の経路とを切り替える。例えば、溶解及び乾燥を行う場合には、溶解用気体供給部４５と溶解用気体供給管４６とが接続されて第１の経路が選択され、検出部６ｆによる検出を行う場合には、溶解用気体供給部４５と排気管６３とが接続されて第２の経路が選択される。これにより、検出を行う場合、溶解吹付部６ｂがその下方を通過する基板２を加湿してしまうことを防止することが可能になる。

タンク６２は、排気管６３及び排気管６７から流入する溶解用気体を液体として収容する収容部である。排気管６３は、経路切替部６１とタンク６２とを接続する流路であり、特に、溶解吹出ヘッド４３に溶解用気体を供給しない場合、タンク６２に溶解用気体を排出するための流路である。この排気管６３としては、例えばチューブやパイプ等を用いる。

負荷調整バルブ６４は、制御部２５の制御に応じて、排気管６３を通過する溶解用気体の流量を調整する。このとき、負荷調整バルブ６４の抵抗値（流量）は、溶解吹出ヘッド４３と同等の抵抗値（流量）に調整される。これにより、経路が切り替えられた場合でも、溶解用気体供給部４５に対する抵抗は変化しないので、経路の切替により生じる溶解用気体供給部４５における温度や湿度の変動を抑制することが可能になる。なお、溶解用気体供給部４５は、供給する溶解用気体の温度や湿度を例えば４７．５±０．５℃、８５％±１％の範囲で調整し、調整された溶解用気体を供給する。

気体受け部６５は、例えば、開口部６５ａを有する箱状に形成されている。この気体受け部６５は、その開口部６５ａが溶解吹出ヘッド４３に対向する位置に位置付けられ、基板移動機構６ａの内部に設けられている。また、気体受け部６５は、溶解吹出ヘッド４３に対して接離方向であるＺ軸方向に移動可能に設けられており、受け部移動機構６６により移動する。

受け部移動機構６６は、基板２及び基板保持テーブル４２の移動を妨げない位置に位置付けられ、基板移動機構６ａの内部に設けられている。この受け部移動機構６６は、制御部２５による制御に応じて、基板２及び基板保持テーブル４２がＹ軸方向に移動する場合には、それらの基板２及び基板保持テーブル４２の移動を妨げない退避位置に気体受け部６５を移動させ、基板２及び基板保持テーブル４２が移動しない場合には、気体受け部６５に近接して溶解用気体を受ける気体受け位置に気体受け部６５を移動させる。すなわち、受け部移動機構６６は、気体受け部材６５を溶解吹出ヘッド４３に対して溶解用気体の吹出方向に接離可能に移動させる機構として機能する。

排気管６７は、気体受け部６５とタンク６２とを接続する流路であり、特に、基板２に対する溶解及び乾燥を実行しない場合、溶解吹出ヘッド４３により吹き出された溶解用気体を気体受け部６５からタンク６２に排出するための流路である。この排気管６７としては、例えばチューブやパイプ等を用いる。ここで、排気管６７は、排気の圧力を細かく制御するため、気体受け部６５の長手方向に複数本並べて配置されている。これらの排気管６７には、それぞれに流量調整用のバルブが接続されている。これにより、風速分布を調整することが可能になる。

このような溶解吹付部６ｂの溶解用気体供給部４５は常時稼働状態となる。これは、溶解用気体供給部４５が一度停止すると、再び溶解用気体（加湿雰囲気）の温度や湿度等を安定させるまで数十分程度の長い時間が必要となる場合があるので、その待機時間を無くすためである。溶解用気体供給部４５が稼働状態で、基板２及び基板保持テーブル４２が移動しない場合には、気体受け部６５が気体受け位置に存在しており、気体受け部６５は、溶解吹出ヘッド４３から吹き出された溶解用気体を開口部６５ａから受け取り、排気管６７を介して吸引して液化したうえで空気と溶媒に分解し、溶媒をタンク６２に液体として排出する。これにより、溶解用気体（加湿雰囲気）が塗布乾燥システム全域に拡散してしまうことが防止される。

検出部６ｆは、その設置位置から、Ｙ軸方向に移動する基板２の表面（塗布面）までの離間距離（第１の離間距離）Ｈ４をそれぞれ検出する複数の距離センサ７１と、それらの距離センサ７１を基板移動機構６ａに対向させて支持する支持部７２とを備えている。

距離センサ７１は、例えば３個設けられている。これらの距離センサ７１は、基板２の表面上の画素領域Ｒ１を避けた外周領域Ｒ２に対して離間距離Ｈ４の検出を行う（図１０参照）。例えば、２個の距離センサ７１が外周領域Ｒ２において画素領域Ｒ１を挟みＹ軸方向に伸びる一対の領域に対してそれぞれ離間距離Ｈ４の測定を行う。残り１個の距離センサ７１が外周領域Ｒ２において画素領域Ｒ１を挟みＸ軸方向に伸びる一対の領域に対して離間距離Ｈ４の測定を行う。なお、距離センサ７１としては、例えば、反射式のセンサや超音波式のセンサ等を用いる。

ここで、画素領域Ｒ１には、配線や素子、各残留物等が存在している。このため、画素領域Ｒ１に対して離間距離Ｈ４の測定を行うと、正確に離間距離Ｈ４を測定することは困難である。したがって、基板２の表面上の画素領域Ｒ１を避けた外周領域Ｒ２に対して離間距離Ｈ４の測定を行うことによって、正確に離間距離Ｈ４を測定することが可能となる。

この距離センサ７１は、制御部２５の制御に応じて、移動する基板２の表面との離間距離Ｈ４の測定を連続的に行い、基板２の表面のうねり（一直線上のうねり）を検出する（図１０参照）。ここで、基板表面のうねりは、基板２の厚さばらつき、基板２の反り及び基板保持テーブル４２の平面度等が要因となり発生している。例えば、離間距離Ｈ４は、基板２の面内で０．４ｍｍ程度変動し、基板間で０．２ｍｍ程度変動する。なお、距離センサ７１の分解能は例えば１０μｍ程度である。

支持部７２は、各距離センサ７１が固定された支持板７２ａと、その支持板７２ａを支持する一対の支柱７２ｂとにより構成されている。これらの支柱７２ｂは、基板移動機構６ａの上面に設けられている。支持板７２ａは、基板２が通過する位置に各距離センサ７１を対向させて支持しており、一対の支柱７２ｂに架け渡されて設けられている。

ここで、溶解吹付部６ｂの支持部４４は、溶解吹出ヘッド４３を支持し、その溶解吹出ヘッド４３を基板移動機構６ａに対する離間距離Ｈ１（第２の離間距離）が変化する方向（すなわちＺ軸方向）に移動させる第１のヘッド移動機構として機能する。また、乾燥吹付部６ｃの支持部４８は、乾燥吹出ヘッド４７を支持し、その乾燥吹出ヘッド４７を基板移動機構６ａに対する離間距離Ｈ２（第３の離間距離）が変化する方向（すなわちＺ軸方向）に移動させる第２のヘッド移動機構として機能する。

このような復潤乾燥モジュール６は、基板移動機構６ａにより基板２をＹ軸方向に移動させながら、検出部６ｆの各距離センサ７１により基板２の塗布面に対する離間距離Ｈ４を順次測定し、測定データを取得する。このとき、基板２は検出部６ｆ、乾燥吹付部６ｃ、排気部６ｄ及び溶解吹付部６ｂの下方を順次通過して待機位置（載置位置の逆側の位置）で停止する。なお、このような離間距離Ｈ４の測定を行う場合には、溶解吹付部６ｂの下方を通過する基板２を加湿しないように経路切替部６１により溶解用気体供給部４５と排気管６３とが接続され、第２の経路が選択される。また、このとき、乾燥吹付部６ｃは停止状態である。

その後、復潤乾燥モジュール６は、再び、基板移動機構６ａにより基板２を前述と逆方向に移動させ、さらに、測定データに基づいて溶解吹付部６ｂの溶解吹出ヘッド４３の移動及び乾燥吹付部６ｃの乾燥吹出ヘッド４７の移動を制御しながら、溶解吹出ヘッド４３により基板２の塗布面に溶解用気体を吹き付け、その後、乾燥吹出ヘッド４７により基板２の塗布面に乾燥気体を吹き付ける。このとき、基板２は溶解吹付部６ｂ、排気部６ｄ、乾燥吹付部６ｃ及び検出部６ｆの下方を順次通過して受渡位置（載置位置）で停止する。なお、このような溶解及び乾燥を行う場合には、溶解吹付部６ｂの下方を通過する基板２を加湿するために経路切替部６１により溶解用気体供給部４５と溶解用気体供給管４６とが接続され、第１の経路が選択される。また、このとき、乾燥吹付部６ｃは駆動状態である。

次に、前述の塗布装置１の液滴塗布処理、すなわち塗布装置１による塗布体（物品）２ａの製造工程について説明する。塗布装置１の制御部２５は各種のプログラムに基づいて液滴塗布処理を実行する。

通常、溶解用気体供給部４５は生産中、常時駆動状態となる。このとき、基板２及び基板保持テーブル４２が移動しない場合には、気体受け部６５が気体受け位置に存在しており、気体受け部６５は、溶解吹出ヘッド４３から吹き出された溶解用気体を受け取り、排気管６７を介してタンク６２に液体として供給する。これにより、溶解用気体（加湿雰囲気）の拡散が防止されている。なお、乾燥気体供給部４９は停止状態である。

図１１に示すように、制御部２５は、ステップＳ１〜ステップＳ５まで第１の実施の形態と同様に処理を行う。ステップＳ５の後、制御部２５は、経路切替部６１により経路を排出経路である第２の経路に切り替える（ステップＳ１１）。すなわち、制御部２５は、経路切替部６１を制御し、溶解用気体供給部４５と溶解用気体供給管４６とが連通する第１の経路を、溶解用気体供給部４５と排気管６３とが連通する第２の経路に切り替える。さらに、制御部２５は、受け部移動機構６６により気体受け部６５を待機位置に移動させる。

その後、制御部２５は、検出部６ｆにより、Ｙ軸方向に移動する基板２に対する離間距離Ｈ４を測定する（ステップＳ１２）。すなわち、制御部２５は、検出部６ｆを制御し、Ｙ軸方向に移動する基板２の表面との離間距離Ｈ４を連続的に測定する。検出部６ｆは、各距離センサ７１により、基板２の表面上の画素領域Ｒ１を避けた外周領域Ｒ２に対して離間距離Ｈ４の測定を行い、基板２の表面のうねり（一直線上のうねり）を検出する。なお、ここでは、距離センサ７１の分解能は、例えば１０ｍｍ程度であるが、この分解能を上げ、より精度が高い移動制御を実現するようにしてもよい。

次いで、制御部２５は、測定した離間距離Ｈ４のデータである測定データを処理する（ステップＳ１３）。例えば、制御部２５は、検出部６ｆの各距離センサ７１からそれぞれ取得した測定データをＹ軸方向の測定点毎に平均し、その測定データを溶解及び乾燥を行う場合の搬送方向に合わせて反転させる処理を行う。

次に、制御部２５は、経路切替部６１により経路を吹出経路である第１の経路に切り替える（ステップＳ１４）。すなわち、制御部２５は、経路切替部６１を制御し、溶解用気体供給部４５と排気管６３とが連通する第２の経路を、溶解用気体供給部４５と溶解用気体供給管４６とが連通する第１の経路に切り替える。さらに、制御部２５は、乾燥気体供給部４９を駆動状態にする。これにより、溶解用気体が溶解吹出ヘッド４３から吹き出され、乾燥気体が乾燥吹出ヘッド４７から吹き出され、溶解及び乾燥を行う準備が整う。

その後、制御部２５は、ステップＳ６〜ステップＳ８まで第１の実施の形態と同様に処理を行う。なお、このときの基板２の搬送方向は、第１の実施の形態と逆方向となる。また、ステップＳ６の後、制御部２５は、受け部移動機構６６により気体受け部６５を気体受け位置に移動させる。気体受け部６５は、溶解吹出ヘッド４３から吹き出された溶解用気体を受け取り、排気管６７を介してタンク６２に液体として供給する。これにより、溶解用気体（加湿雰囲気）の拡散が防止される。

このように、基板２の厚さばらつき、基板２の反り及び基板保持テーブル４２の平面度等により基板２の表面にうねりが存在する場合でも、基板２の移動に応じて検出部６ｆにより基板２の表面との離間距離Ｈ４が検出され、その離間距離Ｈ４に基づいて、基板２の表面に対する溶解吹出ヘッド４３の離間距離Ｈ１及び乾燥吹出ヘッド４７の離間距離Ｈ２が一定になるように溶解吹出ヘッド４３の移動及び乾燥吹出ヘッド４７の移動が制御される。これにより、基板２のＹ軸方向の移動に応じて溶解吹出ヘッド４３及び乾燥吹出ヘッド４７がＺ軸方向に移動し、離間距離Ｈ１及び離間距離Ｈ２が一定となるので、基板２の全面に亘って加湿及び乾燥が一様に行われる。これにより、基板２の面内で各溶質物の凹凸率の均一性を向上させることができる。

また、通常、溶解用気体供給部４５は生産中、常時駆動状態である。このとき、溶解吹出ヘッド４３から溶解用気体が吹き出されるが、気体受け部６５が気体受け位置に存在し、溶解吹出ヘッド４３から吹き出された溶解用気体を受け取り、排気管６７を介してタンク６２に液体として供給する。これにより、溶解用気体（加湿雰囲気）が拡散することを防止することができる。さらに、検出部６ｆによる離間距離Ｈ４の測定を行う場合には、経路切替部６１により溶解用気体供給部４５と排気管６３とが接続され、溶解吹出ヘッド４３による溶解用気体の吹出しが防止され、Ｙ軸方向に移動する基板２に対する加湿が行われることを防止することが可能になるので、基板２に対して不要な加湿の実行を防止することができる。加えて、溶解用気体供給部４５の駆動状態を維持することが可能になるので、溶解用気体（加湿雰囲気）が安定するまでの待機時間が必要なくなり、生産性を向上させることができる。

以上説明したように、本発明の第２の実施の形態によれば、第１の実施の形態と同様の効果を得ることができる。さらに、相対移動する基板２の表面に対する離間距離Ｈ４を検出する検出部６ｆと、相対移動する基板２の表面と溶解吹出ヘッド４３との離間距離Ｈ１が変化する方向に溶解吹出ヘッド４３を移動させるヘッド移動機構である支持部４４と、相対移動する基板２の表面と乾燥吹出ヘッド４７との離間距離Ｈ２が変化する方向に乾燥吹出ヘッド４７を移動させるヘッド移動機構である支持部４８と、検出した離間距離Ｈ４に基づいて、移動する基板２に対し、離間距離Ｈ１が一定になるように支持部４４を制御し、離間距離Ｈ２が一定になるように支持部４８を制御する制御部２５とを設けることによって、基板２の表面にうねりが存在していても、移動する基板２に対する離間距離Ｈ１及び離間距離Ｈ２は一定となり、基板２の全面に亘って加湿及び乾燥を一様に行うことが可能になる。これにより、塗布対象面内で各溶質物の凹凸率の均一性を向上させることができ、その結果、各溶質物の厚さ方向の断面形状のばらつきに起因する塗布体２ａの製造不良の発生を防止することができる。

また、溶解吹付部６ｂは、溶解用気体供給管４６の途中に接続され、溶解用気体供給部４５から溶解吹出ヘッド４３に供給される溶解用気体を排気するための排気管６３と、溶解用気体供給部４５と溶解用気体供給管４６とが連通する第１の経路と、溶解用気体供給部４５と排気管６３とが連通する第２の経路とを切り替える経路切替部６１と具備することから、基板２に対する離間距離Ｈ４の測定を行う場合には、溶解用気体供給部４５と排気管６３とが接続され、基板２に対する加湿が行われず、溶解用気体供給部４５の駆動状態が維持される。これにより、基板２に対する加湿が行われないので、基板２に対して不要な加湿の実行を防止することができ、加えて、溶解用気体供給部４５の駆動状態が維持されるので、溶解用気体（加湿雰囲気）が安定するまでの待機時間が必要なくなり、生産性を向上させることができる。

（第３の実施の形態）
本発明の第３の実施の形態について図１２及び図１３を参照して説明する。

本発明の第３の実施の形態は第１の実施の形態の変形である。したがって、特に、第１の実施の形態と異なる部分について説明する。なお、第３の実施の形態においては、第１の実施の形態で説明した部分と同じ部分の説明を省略する。

図１２に示すように、スリット調整部８１が溶解吹出ヘッド４３に設けられている。この溶解吹出ヘッド４３の内部には、開口部である吹出口４３ａに連通する吹出用流路Ｆ１が設けられている。すなわち、溶解吹出ヘッド４３は、スリット状の吹出用流路Ｆ１を形成する内面Ｗａ及びその内面Ｗａに対向する外面Ｗｂを有するヘッド基体４３Ａを具備している。なお、吹出用流路Ｆ１は溶解用気体供給管４６に連通している。その溶解用気体供給管４６から流入した溶解用気体は、吹出用流路Ｆ１を通過して吹出口４３ａから吹き出される。

吹出用流路Ｆ１は、溶解用気体が流れる方向に対して垂直方向に長いスリット（細長い隙間）状に形成されており、溶解吹出ヘッド４３の吹出口４３ａは長方形状となる。溶解吹出ヘッド４３は、その吹出口４３ａの長手方向（スリット長手方向）を基板２の移動方向に平面内で直交する方向に平行にして設けられている。

ここで、基板２の大型化に伴って溶解吹出ヘッド４３も大型化し、その吹出口４３ａの長手方向の大きさも例えば１０００ｍｍ程度と大きくなっている。このため、吹出口４３ａの平面形状を長方形にすることは困難であり、特に、吹出口４３ａの短手方向の幅（スリット間隔）が一定とならないことが多い。この場合には、溶解用気体を一様（均一）に吹き出すことが困難となり、基板２の面内で各溶質物の凹凸率の均一性が低下してしまう。このため、吹出口４３ａの短手方向の幅（スリット間隔）を一定に調整するスリット調整部８１が必要となる。

スリット調整部８１は、ヘッド基体４３Ａに設けられたベース部材８２と、ヘッド基体４３Ａの外面Ｗｂ（図１２中の左側の外面）を吹出用流路Ｆ１が狭くなる方向に押す複数の押圧部材８３と、ヘッド基体４３Ａの外面Ｗｂを吹出用流路Ｆ１が広がる方向に引っ張る複数の引張部材８４とにより構成されている。

ベース部材８２は、ヘッド基体４３Ａの外面Ｗｂから離間して略平行にスリット長手方向に伸びる基準部８２ａを有している。このベース部材８２はヘッド基体４３Ａより曲げ強度が高くなるように形成されており、基準部８２ａはスリット間隔を調整する際の基準位置となる。なお、ベース部材８２としては、例えば断面形状がＬ字型に形成された部材等を用いる。

基準部８２ａには、複数の貫通孔Ｎ１、Ｎ２が設けられている。これらの貫通孔Ｎ１、Ｎ２は、溶解用気体が吹出用流路Ｆ１を通過する方向に垂直な方向、すなわちスリット長手方向に並べて二列にそれぞれ設けられている。また、ヘッド基体４３Ａの外面Ｗｂには、各貫通孔Ｎ２に対向させて複数の穴部Ｎ３が設けられている。これらの穴部Ｎ３もスリット長手方向に一列に並ぶことになる。各貫通孔Ｎ１及び各貫通孔Ｎ２には、らせん状の溝がそれぞれ形成されており、各貫通孔Ｎ１及び各貫通孔Ｎ２が雌ネジとして機能する。また、穴部Ｎ３には、引張部材８４を回転可能に保持するベアリング等の軸受（図示せず）が設けられている。

各押圧部材８３は、基準部８２ａの各貫通孔Ｎ１に挿入されてスリット長手方向に並んでおり、ヘッド基体４３Ａの外面Ｗｂを押圧可能にそれぞれ設けられている。各引張部材８４も、基準部８２ａの各貫通孔Ｎ２及びヘッド基体４３Ａの各穴部Ｎ３に挿入されてスリット長手方向に並んでおり、ヘッド基体４３Ａの外面Ｗｂを引張可能にそれぞれ設けられている。各押圧部材８３及び各引張部材８４としては、例えば雄ネジ等を用いる。

このようなスリット調整部８１では、各押圧部材８３及び各引張部材８４が操作者等により回転させられ、ヘッド基体４３Ａの外面Ｗｂを押す押圧力及びその外面Ｗｂを引っ張る引張力が調整される。これにより、ヘッド基体４３Ａの内面Ｗａは変形し、スリット間隔も変化する。このとき、スリット状の吹出口４３ａの平面形状を長方形、すなわち溶解吹出ヘッド４３の吹出用流路Ｆ１の流路断面形状が長方形になるように押圧力及び引張力が調整される。これにより、溶解吹出ヘッド４３が一様（均一）に溶解用気体を吹き出すことが可能になる。

ここで、図１３に示すように、吹出用流路Ｆ１が広がる方向にその吹出用流路Ｆ１を構成する壁面（内面Ｗａ）を押す複数の押圧部材８５と、吹出用流路Ｆ１が狭くなる方向にその吹出用流路Ｆ１を構成する壁面（内面Ｗａ）を引っ張る複数の引張部材８６とが溶解吹出ヘッド４３のヘッド基体４３Ａに直接設けられている場合がある。この場合には、各押圧部材８５及び各引張部材８６が吹出用流路Ｆ１内に存在し、その吹出用流路Ｆ１を通過する溶解用気体の流れを妨げることになる。特に、押圧部材８５及び引張部材８６はそれぞれ複数個一列状に設けられているため、溶解用気体の一様な吹き出しを著しく阻害することになる。

一方、図１２に示すように、前述のスリット調整部８１を用いることによって、各押圧部材８３及び各引張部材８４は吹出用流路Ｆ１内に存在せず、その吹出用流路Ｆ１を通過する溶解用気体の流れを妨げることがなくなる。これにより、各押圧部材８５及び引張部材８６が吹出用流路Ｆ１内に存在する場合に比べ、溶解用気体を一様に吹き出すことが可能になる。その結果、基板２の全面に亘って加湿が一様に行われるので、基板２の面内で各溶質物の凹凸率の均一性を向上させることができる。

このようにスリットの間隔を可変とすることで、基板２の進行方向（ワーク進行方向）に平面内で垂直な方向でみたときの気体流量調整を可能にしているが、スリット調整部８１の各押圧部材８５及び各引張部材８４は、スリット長手方向に離散的に複数箇所にわたって配置されるため、スリット長手方向での流量分布を完全に単調にかつ再現性をもって調整することは難しい。したがって、溶解吹出ヘッド４３と乾燥吹出ヘッド４７との少なくとも一方がスリット長手方向に変位可能に設けられており、スリット調整部８１における流量分布のばらつきは溶解吹出ヘッド４３と乾燥吹出ヘッド４７との相対位置の調整により補われている。

以上説明したように、本発明の第３の実施の形態によれば、第１の実施の形態と同様の効果を得ることができる。さらに、スリット調整部８１を設けることによって、溶解吹出ヘッド４３の吹出用流路Ｆ１のスリット間隔を調整することが可能になるので、溶解吹出ヘッド４３からの溶解用気体の一様な吹き出し、すなわち吹付風速分布（流量分布）の均一化を実現することができる。これにより、塗布対象面内で各溶質物の凹凸率の均一性をさらに向上させることができ、その結果、各溶質物の厚さ方向の断面形状のばらつきに起因する塗布体２ａの製造不良の発生を確実に防止することができる。なお、乾燥吹出ヘッド４７でも同様な問題が生じることがあるため、乾燥吹出ヘッド４７にスリット調整部８１を設けることが好ましい。

また、本実施の形態では、各押圧部材８３及び各引張部材８４を設けているが、これに限るものではなく、各押圧部材８３だけを設けるようにしても良い。この場合には、各押圧部材８３の押圧力が弱められると、溶解吹出塗布ヘッド４３のヘッド基体４３Ａの復元力により吹出用流路Ｆ１のスリット間隔が広がることになる。

（第４の実施の形態）
本発明の第４の実施の形態について図１４を参照して説明する。

本発明の第４の実施の形態は第１の実施の形態の変形である。したがって、特に、第１の実施の形態と異なる部分について説明する。なお、第４の実施の形態においては、第１の実施の形態で説明した部分と同じ部分の説明を省略する。

図１４に示すように、バッファボックス９１が溶解吹出ヘッド４３に設けられている。このバッファボックス９１は、溶解吹出ヘッド４３に対して一様に溶解用気体を流入させるためのボックスであり、緩衝部として機能する。これにより、溶解吹出ヘッド４３からの溶解用気体の一様な吹き出しが実現されている。

溶解吹出ヘッド４３は、長方形状の吹出口４３ａに加え、連通用の開口４３ｂを複数有している。これらの開口４３ｂは吹出口４３ａの長手方向に平行に一直線上に設けられている。また、バッファボックス９１も、連通用の開口９１ａを複数有している。これらの開口９１ａは溶解吹出ヘッド４３の各開口４３ｂにそれぞれ対応させて設けられている。バッファボックス９１の上面（図１４中）には、溶解用気体供給管４６が接続されている。この溶解用気体供給管４６から供給された溶解用気体は、バッファボックス９１内に流入して拡散し、その後、各開口９１ａ及び各開口４３ｂを介して溶解吹出ヘッド４３内に流入し、溶解吹出ヘッド４３の吹出口４３ａから吹き出される。これにより、溶解用気体を一様に吹き出すことが可能になり、基板２の全面に亘って加湿が一様に行われるので、基板２の面内で各溶質物の凹凸率の均一性を向上させることができる。

以上説明したように、本発明の第４の実施の形態によれば、第１の実施の形態と同様の効果を得ることができる。さらに、バッファボックス９１を設けることによって、溶解吹出ヘッド４３に対して一様に溶解用気体を流入させることが可能になるので、溶解吹出ヘッド４３からの溶解用気体の一様な吹き出し、すなわち吹付風速分布の均一化を実現することができる。これにより、塗布対象面内で各溶質物の凹凸率の均一性をさらに向上させることができ、その結果、各溶質物の厚さ方向の断面形状のばらつきに起因する塗布体２ａの製造不良の発生を確実に防止することができる。なお、乾燥吹出ヘッド４７でも同様な問題が生じることがあるため、乾燥吹出ヘッド４７にバッファボックス９１を設けることが好ましい。

（第５の実施の形態）
本発明の第５の実施の形態について図１５及び図１６を参照して説明する。

本発明の第５の実施の形態は第１の実施の形態の変形である。したがって、特に、第１の実施の形態と異なる部分について説明する。なお、第５の実施の形態においては、第１の実施の形態で説明した部分と同じ部分の説明を省略する。

図１５に示すように、吸引ヘッド５１Ａが溶解吹出ヘッド４３に対応させて基板２の搬送方向の下流側に設けられており、吸引ヘッド５１Ｂが乾燥吹出ヘッド４７に対応させて基板２の搬送方向の下流側に設けられている。さらに、吸引ヘッド５１Ａには、吸引する際の吸引風速分布（排気風速分布）を調整するための吸引風速分布調整部１２１Ａが設けられており、同様に、吸引ヘッド５１Ｂにも、吸引風速分布調整部１２１Ｂが設けられている。

ここで、溶解吹出ヘッド４３及び乾燥吹出ヘッド４７は基板２の表面に対して傾けて設けられている。なお、基板２に対して溶解用気体を吹き出す吹出角度θ１は、例えば４５度程度であり、基板２に対して乾燥気体を吹き出す吹出角度θ２も、例えば４５度程度である。また、溶解吹出ヘッド４３及び乾燥吹出ヘッド４７には、例えば、第３の実施の形態に係るスリット調整部８１や第４の実施の形態に係るバッファボックス９１が設けられている（なお、第３及び第４の実施の形態で説明した部分と同じ部分の説明を省略する）。

吸引ヘッド５１Ａは、溶解吹出ヘッド４３に設けられたバッファボックス９１との制約から溶解吹出ヘッド４３に対して所定距離だけ離間するように設けられている。したがって、吸引ヘッド５１Ａは、溶解吹出ヘッド４３から吹き出された溶解用気体を確実に吸引するため、溶解吹出ヘッド４３の吹出口４３ａの近傍まで伸びる突出部Ｔ１を有している。すなわち、吸引ヘッド５１Ａにおける溶解吹出ヘッド４３側の側壁Ｗ１は、Ｚ軸方向に伸びる側壁Ｗ１ａと、その側壁Ｗ１ａから溶解吹出ヘッド４３の吹出口４３ａに向けて徐々に傾斜する傾斜壁Ｗ１ｂとにより構成されている。この傾斜壁Ｗ１ｂが突出部Ｔ１として機能する。これにより、吸引ヘッド５１Ａの吸気口５１ａが溶解吹出ヘッド４３の吹出口４３ａに隣接する状態となることから、吹出口４３ａから吹き出された溶解用気体を確実に吸引することが可能となるので、溶解用気体の拡散を確実に防止することができる。

吸引ヘッド５１Ｂは、乾燥吹出ヘッド４７に設けられたバッファボックス９１との制約から乾燥吹出ヘッド４７に対して所定距離だけ離間するように設けられている。したがって、吸引ヘッド５１Ｂは、乾燥吹出ヘッド４７から吹き出された乾燥気体を確実に吸引するため、乾燥吹出ヘッド４７の吹出口４７ａの近傍まで伸びる突出部Ｔ２を有している。すなわち、吸引ヘッド５１Ｂにおける乾燥吹出ヘッド４７側の側壁Ｗ２は、Ｚ軸方向に伸びる側壁Ｗ２ａと、その側壁Ｗ２ａから乾燥吹出ヘッド４７の吹出口４７ａに向けて徐々に傾斜する傾斜壁Ｗ２ｂとにより構成されている。この傾斜壁Ｗ２ｂが突出部Ｔ２として機能する。これにより、吸引ヘッド５１Ｂの吸気口５１ｂが乾燥吹出ヘッド４７の吹出口４７ａに隣接する状態となることから、吹出口４７ａから吹き出された乾燥気体を確実に吸引することが可能となるので、乾燥気体の拡散を確実に防止することができる。

吸引風速分布調整部１２１Ａは吸引ヘッド５１Ａに接続されており、吸引風速分布調整部１２１Ｂは吸引ヘッド５１Ｂに接続されている。これらの吸引風速分布調整部１２１Ａ及び吸引風速分布調整部１２１Ｂは同じ構造である。したがって、吸引風速分布調整部１２１Ａを例にして説明する。

図１６に示すように、吸引風速分布調整部１２１Ａは、吸引ヘッド５１Ａの長手方向に平行に伸びる箱形状の３本のバッファ１２１ａ、１２１ｂ、１２１ｃと、吸引ヘッド５１Ａとバッファ１２１ａとをそれぞれ連通する８本のパイプＰ１と、バッファ１２１ａとバッファ１２１ｂとをそれぞれ連通する４本のパイプＰ２と、バッファ１２１ｂとバッファ１２１ｃとをそれぞれ連通する２本のパイプＰ３と、バッファ１２１ｃに接続されて吸引部５３に連通する１本のパイプＰ４と、８本のパイプＰ１にそれぞれ設けられた８個のバルブＶ１とを備えている。これらのバルブＶ１は、それぞれ対応するパイプＰ１を通過する気体の流量を調整するバルブである。各バルブとしては、例えばニードルバルブを用いる。ここで、バッファ数を増やして段数を増加させれば、吸引風速分布の均一性を向上させることが可能であるが、調整装置自体が大型化するため、設置スペースなどを考慮して段数が選択される。

この吸引風速分布調整部１２１Ａは、各バッファ１２１ａ、１２１ｂ、１２１ｃ及び各パイプＰ１、Ｐ２、Ｐ３により吸引ヘッド５１Ａから排気管５４としてのパイプＰ４まで伸びる複数の排気経路（気体流路）を有することになり、それらの排気経路の長さが同じになるように構成されており、さらに、パイプの接続数が吸引ヘッド５１ＡからパイプＰ４に向かってバッファ１２１ａ、１２１ｂ、１２１ｃを介する度に減少するように（例えば二分の一になるように）構成されている。これにより、吸込による吸引風速分布を均一化することができる。また、各バルブＶ１が各パイプＰ１にそれぞれ設けられていることから、吸引風速分布を均一化するために微調整することができ、加えて、吸引風速分布を意図的に不均一化することもできる。

ここで、吸引風速分布（排気風速分布）が生じると、塗布対象面内で各溶質物の厚さ方向の断面形状のばらつきが発生してしまう。この場合には、吸引風速分布を均一に調整する。一方、吸引風速分布が均一であっても、溶解用気体や乾燥気体の吹付風速分布が不均一になると、塗布対象面内で各溶質物の厚さ方向の断面形状のばらつきが発生してしまう。この場合には、そのばらつきの発生を抑えるように、塗布対象面内で各溶質物の凹凸率に応じて吸引風速分布を不均一に調整する。

吸引風速分布を調整する場合には、オペレータ等の調整者は、例えば熱線の温度変化により風速を計測する熱線風速計（図示せず）を用いて、吸引ヘッド５１Ａの吸気口５１ａの近傍に熱線を近づけて、その吸気口５１ａの長手方向に等ピッチで移動させながら、各箇所での風速を計測する。その後、調整者は、計測した風速に基づいて各バルブＶ１を微調整して、例えば、吸引風速分布を均一にしたり、あるいは、各バルブＶ１を調整して、塗布対象面内で各溶質物の凹凸率に合わせて吸引風速分布を意図的に不均一化したりする。吸引ヘッド５１Ｂでも同様の調整が行われる。

以上説明したように、本発明の第５の実施の形態によれば、第１の実施の形態と同様の効果を得ることができる。さらに、吸引ヘッド５１Ａに突出部Ｔ１を設けることによって、吸引ヘッド５１Ａの吸気口５１ａが溶解吹出ヘッド４３の吹出口４３ａに隣接する状態となることから、吹出口４３ａから吹き出された溶解用気体を確実に吸引することが可能となるので、溶解用気体の拡散を確実に防止することができる。同様に、吸引ヘッド５１Ｂに突出部Ｔ２を設けることによって、吸引ヘッド５１Ｂの吸気口５１ｂが乾燥吹出ヘッド４７の吹出口４７ａに隣接する状態となることから、吹出口４７ａから吹き出された乾燥気体を確実に吸引することが可能となるので、乾燥気体の拡散を確実に防止することができる。

また、各吸引風速分布調整部１２１Ａ、１２１Ｂを設けることによって、各吸引ヘッド５１Ａ、５１Ｂの吸引風速分布を調整し、各吸引ヘッド５１Ａ、５１Ｂにより一様に気体を吸引することが可能になるので、各吸引ヘッド５１Ａ、５１Ｂによる気体の一様な吸引、すなわち吸引風速分布の均一化を実現することができる。これにより、塗布対象面内で各溶質物の凹凸率の均一性をさらに向上させることができ、その結果、各溶質物の厚さ方向の断面形状のばらつきに起因する塗布体２ａの製造不良の発生を確実に防止することができる。加えて、吸引風速分布は均一であるが、溶解用気体や乾燥気体の吹付風速分布が不均一であるため、塗布対象面内で各溶質物の厚さ方向の断面形状のばらつきが発生した場合でも、各溶質物の凹凸率に合わせて各吸引ヘッド５１Ａ、５１Ｂの吸引風速分布を調整することが可能になるので、溶解用気体や乾燥気体の吹付風速分布の不均一に起因し、塗布対象面内で各溶質物の凹凸率の均一性が低下してしまうことを抑止することができる。

特に、排気部６ｄは、直方体の箱形状のヘッドであって、吹き付けられた溶解用気体を吸引する長方形状の吸気口５１ａを有する吸引ヘッド５１Ａと、吸気口５１ａの長手方向に平行にされ、吸気口５１ａの長手方向及び短手方向の両方に垂直な方向に並べられそれぞれ設けられた複数のバッファ１２１ａ、１２１ｂ、１２１ｃと、吸気口５１ａの長手方向に並べられ、隣接する吸引ヘッド５１Ａとバッファ１２１ａとの間を接続し、かつ、隣接するバッファ１２１ａ、１２１ｂの間及び隣接するバッファ１２１ｂ、１２１ｃの間を接続する複数のパイプＰ１、Ｐ２、Ｐ３と、吸引ヘッド５１Ａから一番遠くに位置するバッファ１２１ｃに接続されたパイプ（排気管）Ｐ４とを具備しており、各パイプＰ１、Ｐ２、Ｐ３は、吸引ヘッド５１ＡからパイプＰ４まで伸びる複数の排気経路が同じ長さになるように、かつ、パイプの接続数が吸引ヘッド５１ＡからパイプＰ４に向かってバッファ１２１ａ、１２１ｂ、１２１ｃを介する度に減少するように（例えば二分の一になるように）配設されている。これにより、吸引ヘッド５１Ａによる気体の一様な吸引、すなわち吸引風速分布の均一化を実現することができる。なお、吸引ヘッド５１Ｂにおいても、同様な構成により吸引ヘッド５１Ａによる気体の一様な吸引、すなわち吸引風速分布の均一化が実現される。

（第６の実施の形態）
本発明の第６の実施の形態について図１７乃至図１９を参照して説明する。

本発明の第６の実施の形態は第１の実施の形態の変形である。したがって、特に、第１の実施の形態と異なる部分について説明する。なお、第６の実施の形態においては、第１の実施の形態で説明した部分と同じ部分の説明を省略する。

図１７乃至図１９に示すように、基板保持テーブル４２は、凹部４２ａ（図１８参照）を有する基体４２ｂと、凹部４２ａの底面に設けられ基板２を支持する複数のピン部材４２ｃ（図１８参照）と、基体４２ｂ上に凹部４２ａを避けて枠状に配置された複数の板部材４２ｄと、それらの板部材４２ｄの位置を決める複数の位置決めピン４２ｅ、４２ｆとを備えている。

各ピン部材４２ｃは、例えばプロキシピンである。これらのピン部材４２ｃは、基板２と基体４２ｂとの間に空間を形成する。これにより、基板２が基体４２ｂに直接接触することがなくなり、基板２における接触部分と不接触部分との温度差の発生が抑えられるので、温度差に起因する各溶質物の凹凸率の不均一化を抑止することができる。各板部材４２ｄは、例えばダミー用のガラス基板である。また、各位置決めピン４２ｅ、４２ｆの中には、１枚の板部材４２ｄ毎に、３つの固定ピン４２ｅと、それらの固定ピン４２ｅに基板２を押し付けて固定する１つの可動ピン４２ｆとが存在している。この可動ピン４２ｆの回転板４２ｇ（図１９参照）は、その中心から回転軸がずらされ回転可能に形成されている。

各板部材４２ｄが基板保持テーブル４２上の基板２の周囲、すなわち基板２が載置される載置領域を囲むように設けられている。これにより、各板部材４２ｄが存在しない場合に比べ、基板２の中央付近及び基板２の縁付近における気体の当たり方や気体の拡散の仕方が同じになるので、基板２の中央付近及び基板２の縁付近における各溶質物の厚さ方向の断面形状を同じにすることが可能になる。ここで、各板部材４２ｄが存在しない場合には、基板２の中央付近及び基板２の縁付近における気体の当たり方や気体の拡散の仕方が異なるため、基板２の中央付近及び基板２の縁付近における各溶質物の厚さ方向の断面形状が異なってしまう。

以上説明したように、本発明の第６の実施の形態によれば、第１の実施の形態と同様の効果を得ることができる。さらに、基板保持テーブル４２上の基板２の周囲に各板部材４２ｄを設けることによって、各板部材４２ｄが存在しない場合に比べ、基板２の中央付近及び基板２の縁付近における気体の当たり方や気体の拡散の仕方が同じになるので、基板２の中央付近及び基板２の縁付近における各溶質物の厚さ方向の断面形状を同じにすることが可能になる。これにより、塗布対象面内で各溶質物の凹凸率の均一性をさらに向上させることができ、その結果、各溶質物の厚さ方向の断面形状のばらつきに起因する塗布体２ａの製造不良の発生を確実に防止することができる。

（第７の実施の形態）
本発明の第７の実施の形態について図２０乃至図２５を参照して説明する。

本発明の第７の実施の形態は第１の実施の形態の変形であり、本発明の第７の実施の形態に係る流体吹出装置１０１Ａは第１の実施の形態に係る溶解吹出ヘッド４３あるいは乾燥吹出ヘッド４７に適応することができる。したがって、第１の実施の形態と異なる部分、流体吹出装置１０１Ａについて説明する。なお、第７の実施の形態においては、第１の実施の形態で説明した部分と同じ部分の説明を省略する。

図２０乃至図２２に示すように、本発明の第７の実施の形態に係る流体吹出装置１０１Ａは、基体となる一対の第１ブロック部材１０１及び第２ブロック部材１０２と、それらの間に設けられた一対の第１スペーサ部材１０３及び第２スペーサ部材１０４と、弾性を有する枠状の弾性部材１０５と、基体上に弾性部材１０５を介して設けられた蓋部材１０６とを備えている。この流体吹出装置１０１Ａは、その吹出口Ｋの長手方向（スリット長手方向）を基板２の移動方向に平面内で直交する方向に平行にして設けられている。

第１ブロック部材１０１及び第２ブロック部材１０２は、第１スペーサ部材１０３及び第２スペーサ部材１０４を介してボルト等の複数の固定部材Ｂ１（図２０参照）により互いに固定されて基体となる。第１スペーサ部材１０３及び第２スペーサ部材１０４は第１ブロック部材１０１及び第２ブロック部材１０２の長手方向の両端部にそれぞれ位置付けられて設けられている。これにより、吹出用流路Ｆ１（図２２参照）が、流体（溶解用気体あるいは乾燥気体）が流れる方向に対して垂直方向に長いスリット（細長い隙間）状に形成され、流体吹出装置１０１Ａの吹出口Ｋが長方形状となる。蓋部材１０６は、ボルト等の複数の固定部材Ｂ２（図２０参照）により基体としての第１ブロック部材１０１及び第２ブロック部材１０２に固定されて設けられている。なお、第１ブロック部材１０１、第２ブロック部材１０２、第１スペーサ部材１０３及び第２スペーサ部材１０４の材料としては、例えばステンレス等を用いる。

第１ブロック部材１０１は、直方体形状に形成された部材であり、長手方向に平行な第１ブロック主面Ｍ１ａ、第１ブロック主面Ｍ１ａに垂直で長手方向に平行な第１ブロック長手側面Ｍ１ｂ、第１ブロック主面Ｍ１ｂに垂直で短手方向に平行な第１ブロック短手側面Ｍ１ｃ、第１ブロック主面Ｍ１ａから第１ブロック長手側面Ｍ１ｂに連続して傾斜する第１ブロック傾斜面Ｍ１ｄ、第１ブロック短手側面Ｍ１ｃから長手方向に伸びる第１ブロック流路１０１ａ、その第１ブロック流路１０１ａより細く第１ブロック主面Ｍ１ａから第１ブロック流路１０１ａに直交する方向にそれぞれ伸びて連通し長手方向に並ぶ複数の第１ブロック細流路１０１ｂを有している。

第１ブロック流路１０１ａは、第１ブロック部材１０１の第１ブロック短手側面Ｍ１ｃに長手方向に伸びる穴を形成することにより生成されている。この第１ブロック流路１０１ａには、流体を供給する供給管（例えば溶解用気体供給管４６あるいは乾燥気体供給管５０）が接続される。また、各第１ブロック細流路１０１ｂは、蓋部材１０６の凹部１０６ａの底面に向かってそれぞれ開口しており、その底面に向かって流体を吹き出す。これらの第１ブロック細流路１０１ｂは、第１ブロック部材１０１の第１ブロック主面Ｍ１ａに第１ブロック流路１０１ａに直交する方向に伸びる穴（オリフィス）を複数形成することにより生成されている。

第２ブロック部材１０２は、直方体形状に形成された部材であり、長手方向に平行な第２ブロック主面Ｍ２ａ、第２ブロック主面Ｍ２ａに垂直で長手方向に平行な第２ブロック長手側面Ｍ２ｂ、第２ブロック主面Ｍ２ｂに垂直で短手方向に平行な第２ブロック短手側面Ｍ２ｃ、第２ブロック主面Ｍ２ａから第２ブロック長手側面Ｍ２ｂに連続して傾斜する第２ブロック傾斜面Ｍ２ｄ、第２ブロック短手側面Ｍ２ｃから長手方向に伸びる第２ブロック流路１０２ａ、その第２ブロック流路１０２ａより細く第２ブロック主面Ｍ２ａから第２ブロック流路１０２ａに直交する方向にそれぞれ伸びて連通し長手方向に並ぶ複数の第２ブロック細流路１０２ｂを有している。

第２ブロック流路１０１ｂは、第２ブロック部材１０２の第２ブロック短手側面Ｍ２ｃに長手方向に伸びる穴を形成することにより生成されている。この第２ブロック流路１０２ａには、流体を供給する供給管（例えば溶解用気体供給管４６あるいは乾燥気体供給管５０）が接続される。また、各第２ブロック細流路１０２ｂは、蓋部材１０６の凹部１０６ａの底面に向かってそれぞれ開口しており、その底面に向かって流体を吹き出す。これらの第２ブロック細流路１０２ｂは、第２ブロック部材１０２の第２ブロック主面Ｍ２ａに第２ブロック流路１０２ａに直交する方向に伸びる穴（オリフィス）を複数形成することにより生成されている。

第１スペーサ部材１０３は、板状の部材であり、第１ブロック長手側面Ｍ１ａと第２ブロック長手側面Ｍ２ａとを向け合わせた状態の第１ブロック部材１０１及び第２ブロック部材１０２の長手方向の一端部に位置付けられ、その板厚方向が第１ブロック長手側面Ｍ１ａ及び第２ブロック長手側面Ｍ２ａに垂直にされて、第１ブロック長手側面Ｍ１ａと第２ブロック長手側面Ｍ２ａとの間に気密に設けられている。

第２スペーサ部材１０４は、第１スペーサ部材１０３と同じ厚さを有する板状の部材であり、前述の一端部に対する他端部に位置付けられ、その板厚方向が第１ブロック長手側面Ｍ１ａ及び第２ブロック長手側面Ｍ２ａに垂直にされて、第１ブロック長手側面Ｍ１ａと第２ブロック長手側面Ｍ２ａとの間に気密に設けられている。

蓋部材１０６は、直方体形状の部材であり、長手方向に伸びる凹部１０６ａ（図２２参照）を有し、第１スペーサ部材１０３及び第２スペーサ部材１０４を介して組み立てられた状態の第１ブロック部材１０１及び第２ブロック部材１０２における第１ブロック主面Ｍ１ａ及び第２ブロック主面Ｍ２ａ上に弾性部材１０５を介して、凹部１０６ａが第１ブロック主面Ｍ１ａの各第１ブロック細流路１０１ｂ及び第２ブロック主面Ｍ２ａの各第２ブロック細流路１０２ｂを覆うように設けられている。

また、第１ブロック部材１０１及び第２ブロック部材１０２には、図２０及び図２２に示すように、各固定部材Ｂ２がそれぞれ挿入される複数の穴部ｈ１が設けられており、弾性部材１０５には、各固定部材Ｂ２がそれぞれ挿入される複数の貫通孔ｈ２が設けられている。さらに、蓋部材１０６にも、各固定部材Ｂ２がそれぞれ挿入される複数の貫通孔ｈ３が設けられている。各穴部ｈ１は各ブロック部材１０１、１０２の周縁に等ピッチで設けられており、各貫通孔ｈ２も弾性部材１０５の形状に沿って等ピッチで設けられており、各貫通孔ｈ３も蓋部材１０６の周縁に等ピッチで設けられている。各穴部ｈ１には、らせん状の溝が形成されており、各穴部ｈ１は雌ネジとして機能する。したがって、各固定部材Ｂ２としては、例えば雄ネジを用いる。

ここで、第１ブロック流路１０１ａ及び第２ブロック流路１０２ａの直径は、例えば１２ｍｍである。第１ブロック細流路１０１ｂ及び第２ブロック細流路１０２ｂの直径は、例えば２ｍｍ±０．００５ｍｍであり、第１ブロック細流路１０１ｂ及び第２ブロック細流路１０２ｂのピッチは、例えば１０ｍｍである。また、吹出用流路Ｆ１のスリット間隔（スリットの短手方向の幅）は、例えば０．５ｍｍあるいは１．５ｍｍである。すなわち、一対の第１スペーサ部材１０３及び第２スペーサ部材１０４の厚さが、例えば０．５ｍｍあるいは１．５ｍｍである。このように一対の第１スペーサ部材１０３及び第２スペーサ部材１０４を他の厚さを有する一対のスペーサ部材に交換するだけでスリット間隔を変更することが可能である。したがって、各種の厚さを有する一対のスペーサ部材を用意しておくことにより、容易にさらに精度良くスリット間隔を変更することができる。

このような流路構造によれば、流体（例えば溶解用気体あるいは乾燥気体）は第１ブロック流路１０１ａ及び第２ブロック流路１０２ａから各第１ブロック細流路１０１ｂ及び各第２ブロック細流路１０２ｂに流れることになるので、その流体の圧力損失が大きくなる。これにより、各第１ブロック細流路１０１ｂ及び各第２ブロック細流路１０２ｂからの吹出風速が一定となる。さらに、各第１ブロック細流路１０１ｂ及び各第２ブロック細流路１０２ｂを通過した流体は、蓋部材１０６の凹部１０６ａの底面に当接して分散された後、第１ブロック傾斜面Ｍ１ｄ及び第２ブロック傾斜面Ｍ２ｄにより導かれて吹出用流路Ｆ１に到達するので、各第１ブロック細流路１０１ｂ及び各第２ブロック細流路１０２ｂの影響を受けない均一な流速分布（吹付風速分布）を得ることができる。

蓋部材１０６は、長手方向に伸びる凹部１０６ａに加え、第１ブロック部材１０１における第１ブロック長手側面Ｍ１ｂに対向する第１ブロック対向側面Ｍ１ｅに沿って離間する基準部１０６ｂと、その基準部１０６ｂに第１ブロック対向側面Ｍ１ｅを押圧可能に長手方向に並べて設けられた複数の押圧部材Ｂ３とを具備している。

各押圧部材Ｂ３は、第１ブロック部材１０１の外面（図２２中の左側の外面）である第１ブロック対向側面Ｍ１ｅを吹出用流路Ｆ１が狭くなる方向にそれぞれ押す部材である。また、基準部１０６ｂは、第１ブロック部材１０１の第１ブロック対向側面Ｍ１ｅから離間して略平行に長手方向に伸びている。この基準部１０６ｂは第１ブロック部材１０１より曲げ強度が高くなるように形成されており、基準部１０６ｂはスリット間隔を調整する際の基準位置となる。

基準部１０６ｂには、各押圧部材Ｂ３がそれぞれ挿入される複数の貫通孔ｈ４が設けられている。これらの貫通孔ｈ４は、流体が吹出用流路Ｆ１を通過する方向に垂直な方向、すなわち長手方向に並べて一列にそれぞれ設けられている。また、第１ブロック部材１０１の第１ブロック対向側面Ｍ１ｅには、各貫通孔ｈ４に対向させて複数の穴部１０１ｃが設けられている。これらの穴部１０１ｃも長手方向に一列に並ぶことになる。各貫通孔ｈ４には、らせん状の溝がそれぞれ形成されており、各貫通孔ｈ４は雌ネジとして機能する。したがって、各押圧部材Ｂ３としては、例えば雄ネジを用いる。各押圧部材Ｂ３は各貫通孔ｈ４及び各穴部１０１ｃにそれぞれ挿入されて設けられている。

また、基準部１０６ｂには、その基準部１０６ａ２の長手方向と同じ方向（スリット長手方向）に伸びる補強部１０６ｃが設けられている。これにより、基準部１０６ｂの反り等が防止されている。ここで、蓋部材１０６及び基準部１０６ｂを有する流体吹出装置１０１Ａは支持部材（例えば支持部４４）により支持されるため、その重量は軽いことが望ましい。このため、基準部１０６ｂができるだけ薄くなるように形成されるため、基準位置となる基準部１０６ｂに反りが生じてしまうことがある。そこで、その基準部１０６ｂの反りを防止するため、基準部１０６ｂを肉厚にする補強部１０６ｃが設けられている。これにより、重量の増加を抑制しながら、基準部１０６ｂの強度を増加させることができる。なお、重量より強度の向上を目的とする場合には、補強部１０６ｃに加え、その補強部１０６ｃに対して垂直な複数の補強部を等ピッチで設けるようにしてもよい。

ここで、図２１に示すように、流体吹出装置１０１Ａの長手方向の長さＬ１は、例えば１０００ｍｍであり、流体吹出装置１０１Ａの短手方向の長さ（例えば、７０ｍｍ程度）に比べ非常に長い。このため、反りが流体吹出装置１０１Ａの長手方向に発生しやすいので、補強部１０６ｃを設ける必要がある。この補強部１０６ｃは、その厚さＬ２が５ｍｍとなるように形成され、長さＬ３が３０ｍｍ、長さＬ４が３０ｍｍとなるように設けられている。なお、各固定部材Ｂ２のピッチＬ５は、例えば４０ｍｍであり、各押圧部材Ｂ３のピッチＬ６は、例えば３０ｍｍである。

なお、基板２の大型化に伴って流体吹出装置１０１Ａも大型化し、その吹出口Ｋの長手方向の大きさも例えば１０００ｍｍ程度と大きくなっている。このため、吹出口Ｋの平面形状を長方形にすることは困難であり、特に、吹出口Ｋの短手方向の幅（スリット間隔）が一定とならないことが多い。この場合には、溶解用気体を一様（均一）に吹き出すことが困難となり、基板２の面内で各溶質物の凹凸率の均一性が低下してしまう。このため、吹出口Ｋの短手方向の幅（スリット間隔）を一定に調整することが必要となる。

スリット間隔の調整を行う場合には、各押圧部材Ｂ３が操作者等により回転させられ、流体吹出装置１０１Ａの第１ブロック部材１０１の外面（第１ブロック対向側面Ｍ１ｅ）を押す押圧力が調整され、吹出用流路Ｆ１のスリット間隔が変更される。このとき、スリット状の吹出口Ｋの平面形状を長方形、すなわち流体吹出装置１０１Ａの吹出用流路Ｆ１の流路断面形状が長方形になるように押圧力が調整される。これにより、吹付風速分布の微調整を行うことが可能になる。なお、この押圧力が弱められると、第１ブロック部材１０１の復元力により吹出用流路Ｆ１のスリット間隔が広がることになる。

ここで、吹付風速分布が生じると、塗布対象面内で各溶質物の厚さ方向の断面形状のばらつきが発生してしまう。また、吹付風速分布が均一でない場合には、風速の弱い部分に合わせて風速条件を設定しなれければならず、気体を必要以上に消費するため、ランニングコストが悪化してしまう。したがって、吹付風速分布を均一に調整する必要がある。

吹付風速分布を調整する場合には、オペレータ等の調整者は、例えば熱線の温度変化により風速を計測する熱線風速計（図示せず）を用いて、流体吹出装置１０１Ａの吹出口Ｋの近傍に熱線を近づけて、その吹出口Ｋの長手方向に等ピッチで移動させながら、各箇所での風速を計測する。詳述すると、調整者は、まず、左端の押圧部材Ｂ３の下方（図２１中）からスリットの長手方向に沿って３０ｍｍピッチで熱線を移動させ、順次、押圧部材Ｂ３の下方の風速を計測する。次いで、調整者は、押圧部材Ｂ３の間の中央（左端の押圧部材Ｂ３から１５ｍｍの位置）の下方からスリットの長手方向に沿って３０ｍｍピッチで熱線を移動させ、順次、押圧部材Ｂ３の間の下方の風速を計測する。その後、調整者は、計測した風速に基づいて各押圧部材Ｂ３を微調整し、吹付風速分布を均一にする。なお、溶解用気体の風速は、用いるインクの種類等に応じて調整されるが、例えば１．５ｍ／ｓ±０．０５ｍ／ｓであり、同様に、乾燥気体の風速も、用いるインクの種類等に応じて調整されるが、例えば３．０ｍ／ｓ±０．０５ｍ／ｓである。

また、吹付風速分布の調整負担、すなわちスリット間隔調整負担を軽減するためには、スリット間隔（吹出口Ｋの短手方向の幅）があらかじめ一定になっていることが好ましい。そのスリット間隔を一定にするためには、第１スペーサ部材１０３及び第２スペーサ部材１０４が互いに同じ平坦度を有することが好ましく、さらに、吹出用流路Ｆ１を形成する壁面を平行にするためには、第１スペーサ部材１０３及び第２スペーサ部材１０４の表裏面が平行になることが好ましい。したがって、第１スペーサ部材１０３及び第２スペーサ部材１０４を同時に研磨する研磨加工が行われる。

すなわち、一対の第１スペーサ部材１０３及び第２スペーサ部材１０４の研磨工程では、図２３に示すように、一対の第１スペーサ部材１０３及び第２スペーサ部材１０４が載置台１１１Ａ上に載置され、その状態で荒削り用の研磨部材１１２Ａにより研磨される（第１研磨）。次いで、図２４に示すように、第１研磨後の一対の第１スペーサ部材１０３及び第２スペーサ部材１０４が載置台１１１Ｂ上に載置され、その状態で砥石のラップ盤等の研磨部材１１２Ｂにより研磨される（第２研磨）。最後に、図２５に示すように、第２研磨後の一対の第１スペーサ部材１０３及び第２スペーサ部材１０４が載置台１１１Ｃ上に載置され、その状態でバフ研磨用の研磨部材１１２Ｃにより研磨される（第３研磨）。

このように、スリット状の吹出用流路Ｆ１を形成するために一対の第１スペーサ部材１０３及び第２スペーサ部材１０４を用いることによって、それらの第１スペーサ部材１０３及び第２スペーサ部材１０４を同時に研磨することが可能になるので、一対の第１スペーサ部材１０３及び第２スペーサ部材１０４の互いの平坦度を同じにすることができ、さらに、第１スペーサ部材１０３及び第２スペーサ部材１０４の表裏面の平行度を向上させることができる。特に、一対の第１スペーサ部材１０３及び第２スペーサ部材１０４が一対の第１ブロック部材１０１及び第２ブロック部材１０２に比べ非常に小さい板部材であることから、それらの第１スペーサ部材１０３及び第２スペーサ部材１０４に対して複数の研磨工程を同時に行うことが可能になるので、所望の面精度（例えば、平坦度０．０２ｍｍ以下）を得ることができる。

したがって、第１スペーサ部材１０３及び第２スペーサ部材１０４を第１ブロック部材１０１及び第２ブロック部材１０２と別体にして流体吹出装置１０１Ａを構成することから、それらの部材が一体である場合に比べ、所望の面精度を容易に得ることができる。各部材のいずれかあるいは全てを一体に構成する場合には、スライス加工等が用いられることになるため、面精度は例えば、平坦度０．１ｍｍ程度となって悪く、所望の面精度（例えば、平坦度０．０２ｍｍ以下）を得ることは難しい。

以上説明したように、本発明の第７の実施の形態によれば、第１の実施の形態と同様の効果を得ることができる。さらに、第１ブロック流路１０１ａ、第２ブロック流路１０２ａ、各第１ブロック細流路１０１ｂ及び各第２ブロック細流路１０２ｂを設けることによって、流体（例えば溶解用気体あるいは乾燥気体）は第１ブロック流路１０１ａ及び第２ブロック流路１０２ａから各第１ブロック細流路１０１ｂ及び各第２ブロック細流路１０２ｂに流れるので、流体の圧力損失が大きくなり、各第１ブロック細流路１０１ｂ及び各第２ブロック細流路１０２ｂからの吹出風速が一定となる。加えて、各第１ブロック細流路１０１ｂ及び各第２ブロック細流路１０２ｂが蓋部材１０６の凹部１０６ａの底面に向けて流体を吹き出すことから、各第１ブロック細流路１０１ｂ及び各第２ブロック細流路１０２ｂを通過した流体は、その凹部１０６ａの底面に当接して分散された後、吹出用流路Ｆ１に到達する。これらのことから、各第１ブロック細流路１０１ｂ及び各第２ブロック細流路１０２ｂの影響を受けずに均一な吹付風速分布（流量分布）を得ることができる。このようにして、塗布対象面内で各溶質物の凹凸率の均一性をさらに向上させることができ、その結果、各溶質物の厚さ方向の断面形状のばらつきに起因する塗布体２ａの製造不良の発生を確実に防止することができる。

また、蓋部材１０６に基準部１０６ｂを設け、その基準部１０６ｂに各押圧部材Ｂ３を長手方向に並べて設けることによって、流体吹出装置１０１Ａの吹出用流路Ｆ１のスリット間隔を調整することが可能になるので、流体吹出装置１０１Ａからの流体（例えば溶解用気体あるいは乾燥気体）の一様な吹き出し、すなわち吹付風速分布の均一化をより確実に実現することができる。さらに、各押圧部材Ｂ３が吹出用流路Ｆ１内に存在せず、各押圧部材が吹出用流路Ｆ１内に存在する場合に比べ、その吹出用流路Ｆ１を通過する流体の流れを妨げることがなくなるので、流体を一様に吹き出すことができる。したがって、流体が溶解用気体である場合には、基板２の全面に亘って加湿が一様に行われるので、基板２の面内で各溶質物の凹凸率の均一性を向上させることができる。

なお、本発明の実施の形態では、流体吹出装置１０１Ａを溶解吹出ヘッド４３あるいは乾燥吹出ヘッド４７等の気体吹出装置に適応させているが、これに限るものではなく、例えば、流体として液体を吹き出す液体吹出装置に適応させることも可能である。

（他の実施の形態）
なお、本発明は、前述の実施の形態に限るものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々変更可能である。

例えば、前述の実施の形態においては、溶解吹付部６ｂの溶解吹出ヘッド４３、乾燥吹付部６ｃの乾燥吹出ヘッド４７及び排気部６ｄの吸引ヘッド５１に対して基板２を移動させるようにしているが、これに限るものではなく、例えば、基板２に対して溶解吹出ヘッド４３、乾燥吹出ヘッド４７及び吸引ヘッド５１を移動させるようにしてもよく、溶解吹出ヘッド４３、乾燥吹出ヘッド４７及び吸引ヘッド５１と基板２とを相対移動させるようにすればよい。

また、前述の実施の形態においては、溶解吹付部６ｂの溶解吹出ヘッド４３、乾燥吹付部６ｃの乾燥吹出ヘッド４７及び排気部６ｄの吸引ヘッド５１を基板２に対する各々の相対位置を変更可能に設けているが、これに限るものではなく、例えば、基板２に対する各々の相対位置を固定して設けるようにしてもよい。

また、前述の実施の形態においては、溶解吹出ヘッド４３と吸引ヘッド５１と別体として設けているが、これに限るものではなく、例えば、溶解吹出ヘッド４３と吸引ヘッド５１とを連結して一体構造にするようにしてもよい。

また、前述の実施の形態においては、排気部６ｄ（吸引ヘッド５１及び排気管５４等）を設けているが、これに限るものではなく、加湿量を適正に維持することや、処理ごとに強制的に装置内の雰囲気を置換すること等を行うことにより、装置内で局所的に湿度が徐々に上がるようなことがなくなる場合には、排気部６ｄ（吸引ヘッド５１及び排気管５４等）を設けないようにしてもよい。

また、前述の実施の形態においては、第２の溶媒を気化して吹き付けているが、これに限るものではなく、溶媒の飛散が十分に防げるように設計されたならば、霧化した溶媒を、乾燥した気体によって溶質に吹き付けるように構成してもよい。

また、前述の実施の形態においては、第１の溶液を噴射して被塗布物に付着させた後、減圧乾燥させる工程を経てから第２の溶媒によって溶質を溶解する工程を示しているが、これに限るものではなく、物品を製造する上で減圧乾燥させる必要がない場合には、その工程を省略するようにしてもよい。

また、第１の溶媒と第２の溶媒とは、同じ組成の液体であってもよいし、異なる組成の液体であってもよい。なお、通常、第１の溶媒としては、液滴噴射ヘッドＦからの液離れ性が良好な溶媒を用い、第２の溶媒としては、作業環境保全の観点から水を用いることが好ましい。溶媒としては、特段の事情がない限り、溶質と化学的な反応をして反応産物が形成されない物質が選択されるが、必要に応じて溶媒を適宜選択してもよい。

また、前述の実施の形態においては、検出部６ｆの各距離センサ７１の下方を通過する基板２を往復移動させ、往路で離間距離Ｈ４を順次測定し、復路で測定データに基づいて溶解及び乾燥を行っているが、これに限るものではなく、例えば、往路で測定、溶解及び乾燥の全てを行うようにしてもよい。この場合には、往路で離間距離Ｈ４を順次測定し、その測定データに基づいて溶解及び乾燥をリアルタイムで順次行う。

また、前述の実施の形態においては、支持部４４及び支持部４８により溶解吹出ヘッド４３及び乾燥吹出ヘッド４７を水平にＺ軸方向に移動させているが、これに限るものではなく、それらに傾きを持たせてＺ軸方向に移動させるようにしてもよい。この場合には、両側に位置する２つの距離センサ７１により測定された２つの測定データを平均することなく、そのまま用いることが可能になる。これにより、移動する基板２に対する離間距離Ｈ１及び離間距離Ｈ２を精度良く一定にすることが可能になるので、基板２の全面に亘って加湿及び乾燥をより一様に行うことができる。

また、前述の実施の形態においては、基板収容部３、液滴噴射モジュール４、減圧乾燥モジュール５、復潤乾燥モジュール６、塗布体収容部７及び搬送部８をモジュール化し、１つのシステムとして構成しているが、これに限るものではなく、例えば、基板収容部３、液滴噴射モジュール４、減圧乾燥モジュール５、復潤乾燥モジュール６、塗布体収容部７及び搬送部８を１つの装置として一体に構成するようにしてもよく、さらに、それらのうちの一部、例えば液滴噴射モジュール４、減圧乾燥モジュール５、復潤乾燥モジュール６だけを１つの装置として一体に構成するようにしてもよい。

最後に、前述の実施の形態においては、各種の数値を挙げているが、それらの数値は例示であり、限定されるものではない。

以上、本発明の実施の形態を説明したが、具体例を例示したに過ぎず、特に本発明を限定するものではなく、各部の具体的構成等は、適宜変更可能である。また、実施形態に記載された作用及び効果は、本発明から生じる最も好適な作用及び効果を列挙したに過ぎず、本発明による作用及び効果は、本発明の実施形態に記載されたものに限定されるものではない。本発明は、例えば、塗布対象物に向けて液滴を噴射する装置やこの液滴の溶質が付着する塗布体の製造方法、流体を吹き出す装置等で用いられる。

１…塗布装置、２…塗布対象物（基板）、２ａ…塗布体、４…液滴噴射部（液滴噴射モジュール）、５…減圧乾燥部（減圧乾燥モジュール）、６…復潤乾燥部（復潤乾燥モジュール）、６ａ…移動機構（基板移動機構）、６ｂ…溶解吹付部、６ｃ…乾燥吹付部、６ｄ…排気部、６ｆ…検出部、８…搬送部、１９…基板保持テーブル、２５…制御部、４２…基板保持テーブル、４２ｄ…板部材、４３…溶解吹出ヘッド、４３Ａ…ヘッド基体、４４…第１のヘッド移動機構（支持部）、４５…溶解用気体供給部、４６…溶解用気体供給管、４７…乾燥吹出ヘッド、４８…第２のヘッド移動機構（支持部）、４９…乾燥気体供給部、５０…乾燥気体供給管、５１…吸引ヘッド、５１ａ、ｂ…吸気口、５３…吸引部、５４…排気管、６１…経路切替部、６３…排気管、６５…気体受け部、６６…受け部移動機構、８２…ベース部材、８２ａ…基準部、８３…押圧部材、１２１ａ〜ｃ…バッファ、Ｈ１…離間距離、Ｈ２…離間距離、Ｈ４…離間距離、Ｐ１〜Ｐ３…パイプ

Claims (19)

1. 塗布対象物に向けてピニング機能を有する水溶性高分子材料と吸水性低蒸気圧溶媒とを含んだ溶液を液滴状にして噴射することにより、前記塗布対象物の表面に辺縁をなして略同一の直径を有する複数の液滴を塗着する液滴噴射部と、
   前記塗布対象物の表面に塗着した前記複数の液滴を減圧乾燥することにより、前記塗布対象物の表面に前記液滴の直径を維持した複数の残留物を形成する減圧乾燥部と、
   前記塗布対象物の表面に形成された前記複数の残留物に向けて前記複数の残留物が溶解可能な溶媒を含む溶解用気体を吹き付けて前記複数の残留物を溶解させることにより、前記塗布対象物の表面に前記液滴の直径を維持した複数の塗着体を形成し、形成した前記複数の塗着体に向けて乾燥気体を吹き付けて前記複数の塗着体を乾燥することにより、前記液滴の直径を維持すると共に略均一な厚さを有する複数の溶質物を形成する復潤乾燥部と、
   を備えることを特徴とする塗布装置。
2. 前記液滴噴射部、前記減圧乾燥部および前記復潤乾燥部の各間の前記塗布対象物の搬送を行う搬送部を備えることを特徴とする請求項１記載の塗布装置。
3. 前記復潤乾燥部は、前記塗布対象物の移動方向と水平面内で垂直な方向における前記溶解用気体の流量分布が変更可能に形成されていることを特徴とする請求項１記載の塗布装置。
4. 前記復潤乾燥部は、前記塗布対象物の移動方向と水平面内で垂直な方向における 前記乾燥気体の流量分布が変更可能に形成されていることを特徴とする請求項１記載の塗布装置。
5. 前記復潤乾燥部は、
   前記塗布対象物の表面に形成された前記複数の残留物に向けて前記溶解用気体を吹き付ける溶解吹付部と、
   前記塗布対象物の表面に形成された前記複数の塗着体に向けて前記乾燥気体を吹き付ける乾燥吹付部と、
   を備え、
   前記溶解吹付部は、前記溶解用気体を吹き出す溶解吹出ヘッドと、前記溶解吹出ヘッドに前記溶解用気体を供給する溶解用気体供給部と、前記溶解吹出ヘッドと前記溶解用気体供給部とを接続し前記溶解用気体が通過する溶解用気体供給管と、を具備しており、
   前記乾燥吹付部は、前記乾燥気体を吹き出す乾燥吹出ヘッドと、前記乾燥吹出ヘッドに前記乾燥気体を供給する乾燥気体供給部と、前記乾燥吹出ヘッドと前記乾燥気体供給部とを接続し前記乾燥気体が通過する乾燥気体供給管と、を具備していることを特徴とする請求項１記載の塗布装置。
6. 前記溶解用気体供給管はその外周にヒータを有することを特徴とする請求項５記載の塗布装置。
7. 前記復潤乾燥部は、前記溶解吹付部により吹き付けられた前記溶解用気体を吸い込んで外部に排気する排気部を具備していることを特徴とする請求項１記載の塗布装置。
8. 前記排気部は、
   前記溶解吹付部により吹き付けられた前記溶解用気体を吸引する吸引ヘッドと、
   前記吸引ヘッドに吸引力を供給する吸引部と、
   前記吸引ヘッドと前記吸引部とを接続し、吸引した前記溶解用気体が通過する排気管と、
   を具備していることを特徴とする請求項７記載の塗布装置。
9. 前記塗布対象物と前記溶解吹出ヘッド及び前記乾燥吹出ヘッドとを、前記塗布対象物の表面と略平行な方向に相対移動させる移動機構と、
   相対移動する前記塗布対象物の表面に対する第１の離間距離を検出する検出部と、
   前記塗布対象物の表面と略垂直な方向に前記溶解吹出ヘッドを移動させる第１のヘッド移動機構と、
   前記塗布対象物の表面と略垂直な方向に前記乾燥吹出ヘッドを移動させる第２のヘッド移動機構と、
   検出した前記第１の離間距離に基づいて、相対移動する前記塗布対象物に対し、相対移動する前記塗布対象物の表面と前記溶解吹出ヘッドとの離間距離が一定になるように前記第１のヘッド移動機構を制御し、相対移動する前記塗布対象物の表面と前記乾燥吹出ヘッドとの離間距離が一定になるように前記第２のヘッド移動機構を制御する制御部と、
   を更に備えることを特徴とする請求項５記載の塗布装置。
10. 前記溶解吹付部は、
    前記溶解用気体供給管の途中に接続され、前記溶解用気体供給部から前記溶解吹出ヘッドに供給される前記溶解用気体を排気するための排気管と、
    前記溶解用気体供給部と前記溶解用気体供給管とに連通する第１の経路と、前記溶解用気体供給部と前記排気管とに連通する第２の経路とを切り替える経路切替部と、
    を具備していることを特徴とする請求項９記載の塗布装置。
11. 前記溶解吹付部は、
    前記溶解吹出ヘッドにより吹き出された前記溶解用気体を受ける気体受け部と、
    前記気体受け部を前記溶解吹出ヘッドに対し前記溶解用気体の吹出方向に接離可能に移動させる受け部移動機構と、
    を具備していることを特徴とする請求項９記載の塗布装置。
12. 前記溶解吹出ヘッドは、
    スリット状の吹出用流路を形成する内面及び前記内面に対向する外面を有するヘッド基体と、
    前記ヘッド基体に設けられた部材であって、前記外面に沿って離間する基準部を有するベース部材と、
    前記基準部に前記外面を押圧可能にスリット長手方向に並べて設けられた複数の押圧部材と、
    を具備していることを特徴とする請求項５記載の塗布装置。
13. 前記乾燥吹出ヘッドは、
    スリット状の吹出用流路を形成する内面及び前記内面に対向する外面を有するヘッド基体と、
    前記ヘッド基体に設けられた部材であって、前記外面に沿って離間する基準部を有するベース部材と、
    前記基準部に前記外面を押圧可能にスリット長手方向に並べて設けられた複数の押圧部材と、
    を具備していることを特徴とする請求項５記載の塗布装置。
14. 前記排気部は、
    直方体の箱形状のヘッドであって、前記溶解吹付部により吹き付けられた前記溶解用気体を吸引する長方形状の吸気口を有する吸引ヘッドと、
    前記吸気口の長手方向に平行にされ、前記吸気口の長手方向及び短手方向の両方に垂直な方向に並べられそれぞれ設けられた複数のバッファと、
    前記吸気口の長手方向に並べられ、隣接する前記吸引ヘッドと前記バッファとの間を接続し、かつ、隣接する前記バッファの間を接続する複数のパイプと、
    前記吸引ヘッドから一番遠くに位置する前記バッファに接続された排気管と、
    を具備しており、
    前記複数のパイプは、前記吸引ヘッドから一番遠くに位置する前記バッファに接続された排気管と、
    を具備しており、
    前記複数のパイプは、前記吸引ヘッドから前記排気管まで伸びる複数の排気経路が同じ長さになるように、かつ、前記パイプの接続数が前記吸引ヘッドから前記排気管に向かって前記バッファを介する度に減少するように配設されていることを特徴とする請求項７記載の塗布装置。
15. 前記復潤乾燥部は、前記塗布対象物が載置される基板保持テーブルを具備しており、
    前記基板保持テーブルは、前記塗布対象物が載置される載置領域を囲むように設けられた複数の板部材を具備していることを特徴とする請求項１記載の塗布装置。
16. 塗布対象物に向けてピニング機能を有する水溶性高分子材料と吸水性低蒸気圧溶媒とを含んだ溶液を液滴状にして噴射することにより、前記塗布対象物の表面に辺縁をなして略同一の直径を有する複数の液滴を塗着する工程と、
    前記塗布対象物の表面に塗着した前記複数の液滴を減圧乾燥することにより、前記塗布対象物の表面に前記液滴の直径を維持した複数の残留物を形成する工程と、
    前記塗布対象物の表面に形成された前記複数の残留物に向けて前記複数の残留物が溶解可能な溶媒を含む溶解用気体を吹き付けて前記複数の残留物を溶解させることにより、前記塗布対象物の表面に前記液滴の直径を維持した複数の塗着体を形成する工程と、
    前記複数の塗着体に向けて乾燥気体を吹き付けて前記複数の塗着体を乾燥させることにより、前記塗布対象物の表面に前記液滴の直径を維持すると共に略均一な厚さを有する複数の溶質物を形成する工程と、
    を有することを特徴とする塗布体の製造方法。
17. 前記溶液は、前記複数の残留物が溶解可能な溶媒の表面張力を下げる作用を有する界面活性剤を含んでいることを特徴とする請求項１６記載の塗布体の製造方法。
18. 前記複数の塗着体を形成する工程では、吹き付けられた、前記複数の残留物が溶解可能な溶媒を吸い込んで外部に排気することを特徴とする請求項１７記載の塗布体の製造方法。
19. 前記複数の塗着体に向けて乾燥気体を吹き付けて前記複数の塗着体を乾燥させる際には、吹き付けられた前記気体を吸い込んで外部に排気することを特徴とする請求項１８記載の塗布体の製造方法。

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