JP2011124342A - 基板処理装置、基板処理方法及びこの基板処理方法を実行させるためのプログラムを記録した記録媒体 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板を搬送する搬送路34と、搬送路34の途中に設けられ、気体を噴出する多数の噴出孔が狭ピッチで形成されたステージ面111を有し、被処理面に処理液が塗布処理された基板に噴出孔から噴出した気体を吹き付けることにより、基板をステージ面111の上で浮上させ、基板を乾燥処理する浮上ステージ110と、噴出孔から噴出する気体を常温より高い温度で噴出孔に供給する第1の供給源と、搬送路34の搬送方向に沿って浮上ステージ110の上流側に設けられ、基板を浮上ステージ110に搬入駆動する搬入駆動部150と、搬送路34の搬送方向に沿って浮上ステージ110の下流側に設けられ、基板を浮上ステージ110から搬出駆動する搬出駆動部152とを有する。
【選択図】図7
Description
(第1の実施の形態)
始めに、図1から図9を参照し、本発明の第1の実施の形態に係る基板処理装置について説明する。
(第1の実施の形態の第1の変形例)
次に、図10及び図11を参照し、本発明の第1の実施の形態の第1の変形例に係る基板処理装置について説明する。
(第1の実施の形態の第2の変形例)
次に、図12から図14を参照し、本発明の第1の実施の形態の第2の変形例に係る基板処理装置について説明する。
(第2の実施の形態)
次に、図15から図18を参照し、本発明の第2の実施の形態に係る基板処理装置について説明する。
(第2の実施の形態の変形例)
次に、図19を参照し、本発明の第2の実施の形態の変形例に係る基板処理装置について説明する。
(第3の実施の形態)
次に、図20から図22を参照し、本発明の第3の実施の形態に係る基板処理装置について説明する。
34 第1の搬送路
46 乾燥処理ユニット
110 浮上ステージ
111 ステージ面
114 第1の供給源
116 噴出孔
117 吸引孔
122 サイドローラ
130 気流形成部
131 下面
132 第2の供給源
134 吐出口
135 吸引口
150 搬入駆動部
152 搬出駆動部
Claims (21)
- 基板の被処理面を上に向けた状態で一方向に前記基板を搬送する搬送路と、
前記搬送路の途中に設けられ、気体を噴出する多数の噴出孔が狭ピッチで形成されたステージ面を有し、前記被処理面に処理液が塗布処理された前記基板に前記噴出孔から噴出した気体を吹き付けることにより、前記基板を前記ステージ面の上で浮上させ、前記基板を乾燥処理する浮上ステージと、
前記噴出孔から噴出する気体を常温より高い温度で前記噴出孔に供給する第1の供給源と、
前記搬送路の搬送方向に沿って前記浮上ステージの上流側に設けられ、前記基板を前記浮上ステージに搬入駆動する搬入駆動部と、
前記搬送路の搬送方向に沿って前記浮上ステージの下流側に設けられ、前記基板を前記浮上ステージから搬出駆動する搬出駆動部と
を有する基板処理装置。 - 前記浮上ステージの前記ステージ面は、前記搬送路を横切る方向に沿って傾斜しており、
前記浮上ステージは、傾斜した前記ステージ面の低い側に、前記搬送路の搬送方向に沿って配列して設けられた複数のサイドローラを有する請求項1に記載の基板処理装置。 - 前記搬送路の搬送方向に沿った前記浮上ステージの長さ寸法は、前記搬送路の搬送方向に沿った前記基板の長さ寸法に略等しく、
前記浮上ステージは、前記複数のサイドローラを回転駆動する回転駆動部を有する請求項2に記載の基板処理装置。 - 前記浮上ステージは、前記搬送路を横切る方向に沿って複数の列部に分割されており、
前記第1の供給源は、前記噴出孔から噴出する気体を、それぞれの列部で異なる温度に制御可能である請求項1から請求項3のいずれかに記載の基板処理装置。 - 前記複数の列部のそれぞれは、前記搬送路の搬送方向に沿って複数の行部に分割されており、
前記第1の供給源は、前記噴出孔から噴出する気体を、それぞれの行部で異なる温度に制御可能である請求項4に記載の基板処理装置。 - 前記浮上ステージの上で、前記基板の搬送を一旦停止する請求項5に記載の基板処理装置。
- 前記ステージ面は、気体を吸い込む多数の吸引孔が狭ピッチで形成された請求項1から請求項6のいずれかに記載の基板処理装置。
- 前記浮上ステージの上方に設けられ、気体を吐出する吐出口及び気体を吸い込む吸引口が形成された下面を有し、前記ステージ面の上で浮上した前記基板の上方に気流を形成する気流形成部を有する請求項1から請求項7のいずれかに記載の基板処理装置。
- 前記吐出口から吐出する気体を常温より高い温度で前記吐出口に供給する第2の供給源を有する請求項8に記載の基板処理装置。
- 前記吐出口は、前記搬送路を横切る方向に沿ってスリット状に形成されており、
前記吸引口は、前記搬送路の搬送方向に沿って前記吐出口の下流側に、前記搬送路を横切る方向に沿ってスリット状に形成された請求項8又は請求項9に記載の基板処理装置。 - 基板の被処理面を上に向けた状態で一方向に前記基板を搬送する搬送路と、前記搬送路の途中に設けられ、気体を噴出する多数の噴出孔が狭ピッチで形成されたステージ面を有する浮上ステージとを有する基板処理装置における基板処理方法であって、
前記搬送路の搬送方向に沿って前記浮上ステージの上流側に設けられた搬入駆動部により、前記被処理面に処理液が塗布処理された前記基板を前記浮上ステージに搬入駆動する搬入工程と、
前記基板に前記噴出孔から噴出した常温より高い温度の気体を吹き付けることにより、前記基板を前記ステージ面の上で浮上させ、前記基板を乾燥処理する乾燥処理工程と、
前記搬送路の搬送方向に沿って前記浮上ステージの下流側に設けられた搬出駆動部により、前記基板を前記浮上ステージから搬出駆動する搬出工程と
を有する基板処理方法。 - 前記浮上ステージの前記ステージ面は、前記搬送路を横切る方向に沿って傾斜しており、
前記浮上ステージは、傾斜した前記ステージ面の低い側に、前記搬送路の搬送方向に沿って配列して設けられた複数のサイドローラを有する請求項11に記載の基板処理方法。 - 前記搬送路の搬送方向に沿った前記浮上ステージの長さ寸法は、前記搬送路の搬送方向に沿った前記基板の長さ寸法に略等しく、
前記搬入工程において、回転駆動部が回転駆動する前記サイドローラにより前記基板を搬入駆動し、
前記搬出工程において、前記回転駆動部が回転駆動する前記サイドローラにより前記基板を搬出駆動する請求項12に記載の基板処理方法。 - 前記浮上ステージは、前記搬送路を横切る方向に沿って複数の列部に分割されており、
前記乾燥処理工程において、前記噴出孔から噴出する気体を、それぞれの列部で異なる温度に制御可能である請求項11から請求項13のいずれかに記載の基板処理方法。 - 前記複数の列部のそれぞれは、前記搬送路の搬送方向に沿って複数の行部に分割されており、
前記乾燥処理工程において、前記噴出孔から噴出する気体を、それぞれの行部で異なる温度に制御可能である請求項14に記載の基板処理方法。 - 前記浮上ステージの上で、前記基板の搬送を一旦停止する停止工程を有する請求項15に記載の基板処理方法。
- 前記ステージ面は、気体を吸い込む多数の吸引孔が狭ピッチで形成された請求項11から請求項16のいずれかに記載の基板処理方法。
- 前記基板処理装置は、前記浮上ステージの上方に設けられ、気体を吐出する吐出口及び気体を吸い込む吸引口が形成された下面を有する気流形成部を有し、
前記乾燥処理工程において、前記ステージ面の上で浮上した前記基板の上方に前記気流形成部により気流を形成する請求項11から請求項17のいずれかに記載の基板処理方法。 - 前記乾燥処理工程において、前記吐出口から吐出する気体は、常温より高い温度である請求項18に記載の基板処理方法。
- 前記吐出口は、前記搬送路を横切る方向に沿ってスリット状に形成されており、
前記吸引口は、前記搬送路の搬送方向に沿って前記吐出口の下流側に、前記搬送路を横切る方向に沿ってスリット状に形成された請求項18又は請求項19に記載の基板処理方法。 - コンピュータに請求項11から請求項20のいずれかに記載の基板処理方法を実行させるためのプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体。
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