JPH01236967A - 回転式膜形成装置における基板保持台 - Google Patents
回転式膜形成装置における基板保持台Info
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- JPH01236967A JPH01236967A JP63064821A JP6482188A JPH01236967A JP H01236967 A JPH01236967 A JP H01236967A JP 63064821 A JP63064821 A JP 63064821A JP 6482188 A JP6482188 A JP 6482188A JP H01236967 A JPH01236967 A JP H01236967A
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 122
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 abstract description 7
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 239000011344 liquid material Substances 0.000 description 1
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- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
技術分野
本発明は、基板を保持して回転せしめ基板中央部に滴下
された流体を基板上に伸展せしめてそこに膜を形成する
回転式膜形成装置に関し、特に、その基板を保持する基
板保持台に関する。
された流体を基板上に伸展せしめてそこに膜を形成する
回転式膜形成装置に関し、特に、その基板を保持する基
板保持台に関する。
背景技術
かかる回転式膜形成装置における従来の基板保持台を第
４図（Ａ）及び（Ｂ）に示す。図示した様に、従来の基
板保持台１は円板状に形成されており、基板保持台１は
これを回転せしめる回転軸２の一端に取り付けられてい
る。第４図（Ｂ）に示した様に、基板３を担持する基板
保持台１の基板担持面１ａと回転軸２の回転中心軸とは
基板担持面１ａの中心にて直交している。平担に形成さ
れた基板担持面１ａにはバキューム圧が導かれるバキュ
ーム通路５が開口しており、バキューム圧によって基板
担持面１ａに裁置された基板３を吸着保持し得るよう構
成されている。
４図（Ａ）及び（Ｂ）に示す。図示した様に、従来の基
板保持台１は円板状に形成されており、基板保持台１は
これを回転せしめる回転軸２の一端に取り付けられてい
る。第４図（Ｂ）に示した様に、基板３を担持する基板
保持台１の基板担持面１ａと回転軸２の回転中心軸とは
基板担持面１ａの中心にて直交している。平担に形成さ
れた基板担持面１ａにはバキューム圧が導かれるバキュ
ーム通路５が開口しており、バキューム圧によって基板
担持面１ａに裁置された基板３を吸着保持し得るよう構
成されている。
基板保持台１に保持された基板３の上面中央部には、第
５図（Ａ）に示した様に、例えばレジスト膜を形成する
為の液体６が図示しない滴下手段により適当量滴下され
るようになっており、基板３を基板保持台１と共に回転
せしめ、遠心力により液体６を基板３の外周部まで伸展
させて第５図（Ｂ）示した様に基板３の上面にレジスト
膜６ａを形成するのである。
５図（Ａ）に示した様に、例えばレジスト膜を形成する
為の液体６が図示しない滴下手段により適当量滴下され
るようになっており、基板３を基板保持台１と共に回転
せしめ、遠心力により液体６を基板３の外周部まで伸展
させて第５図（Ｂ）示した様に基板３の上面にレジスト
膜６ａを形成するのである。
しかし、上述した如き基板保持台１に第６図（Ａ）示し
た様な多角形基板（図示は四角形基板）８を保持せしめ
て、上記と同様の手順で多角形基板８上にレジスト膜を
形成しようとすると、多角形基板８は回転する際にその
角部が風を切り角部が通過した部分の気流が乱される。
た様な多角形基板（図示は四角形基板）８を保持せしめ
て、上記と同様の手順で多角形基板８上にレジスト膜を
形成しようとすると、多角形基板８は回転する際にその
角部が風を切り角部が通過した部分の気流が乱される。
この為、該角部近傍に形成されるレジスト膜６ａは、第
６図（Ａ）のＢ−Ｂ断面を示した第６図（Ｂ）の様に、
膜厚むらを生じる。
６図（Ａ）のＢ−Ｂ断面を示した第６図（Ｂ）の様に、
膜厚むらを生じる。
また、第７図（Ａ）に示した様に、多角形基板８をその
角部にて保持部材１０により保持し、上述の如き手順で
、多角形基板８上にレジスト膜を形成する場合には、レ
ジスト膜を形成する液体の流動が保持部材１０に堰き止
められ、第７図（Ｂ）に示した如く、多角形基板８の角
部近傍にレジスト膜６ａの厚い部分が生じ、膜厚が均一
なレジスト膜を形成することができなかった。
角部にて保持部材１０により保持し、上述の如き手順で
、多角形基板８上にレジスト膜を形成する場合には、レ
ジスト膜を形成する液体の流動が保持部材１０に堰き止
められ、第７図（Ｂ）に示した如く、多角形基板８の角
部近傍にレジスト膜６ａの厚い部分が生じ、膜厚が均一
なレジスト膜を形成することができなかった。
発明の概要
そこで、本発明は、上述の事情に鑑み、多角形基板上に
均一な膜を形成するに適した回転式膜形成装置の基板保
持台を提供することを目的としている。
均一な膜を形成するに適した回転式膜形成装置の基板保
持台を提供することを目的としている。
上述の目的を達成する為、本発明による回転膜形成装置
の基板保持台においては、基板保持台の基板担持面は多
角形基板に外接する外接円を含む面積を有しており、基
板担持面には多角形基板が嵌合し没する多角形凹部がそ
の中心を基板担持面の回転中心に合わせて形成されると
共に、多角形凹部の各角部から連続して該外接円の半径
方向に延在し多角形凹部の深さより多角形基板の厚み分
以上浅くない排出凹部が形成されていることを特徴とし
ている。
の基板保持台においては、基板保持台の基板担持面は多
角形基板に外接する外接円を含む面積を有しており、基
板担持面には多角形基板が嵌合し没する多角形凹部がそ
の中心を基板担持面の回転中心に合わせて形成されると
共に、多角形凹部の各角部から連続して該外接円の半径
方向に延在し多角形凹部の深さより多角形基板の厚み分
以上浅くない排出凹部が形成されていることを特徴とし
ている。
実施例
以下、本発明の実施例について第１図ないし第３図の図
面を参照しつつ説明する。
面を参照しつつ説明する。
図示した様に、本発明による回転式膜形成装置における
基板保持台においては、基板保持台１１はこれを回転せ
しめる回転軸１２の一端に着脱自在に取り付けられるか
若しくは一体成型されており、多角形基板１３を担持す
る基板保持台１１の基板担持面１１ａと回転軸１２の回
転中心軸とは基板担持面１１ａの中心にて直交している
。多角形基板１３を担持する基板保持台１１の基板担持
面１１ａは多角形基板１３に外接する外接円を含む面積
を有している。基板担持面１１ａには多角形基板１３が
嵌合し没する多角形凹部１５が形成されている。多角形
凹部１５はその中心が基板担持面１１ａの回転中心に一
致するよう形成されており、その深さは、回転せしめら
れる多角形基板１３の表面近傍の気流の乱れを防止する
為、多角形基板１３の厚さとこの表面に形成される膜の
厚さとを合算した寸法となっていることが望ましい。
基板保持台においては、基板保持台１１はこれを回転せ
しめる回転軸１２の一端に着脱自在に取り付けられるか
若しくは一体成型されており、多角形基板１３を担持す
る基板保持台１１の基板担持面１１ａと回転軸１２の回
転中心軸とは基板担持面１１ａの中心にて直交している
。多角形基板１３を担持する基板保持台１１の基板担持
面１１ａは多角形基板１３に外接する外接円を含む面積
を有している。基板担持面１１ａには多角形基板１３が
嵌合し没する多角形凹部１５が形成されている。多角形
凹部１５はその中心が基板担持面１１ａの回転中心に一
致するよう形成されており、その深さは、回転せしめら
れる多角形基板１３の表面近傍の気流の乱れを防止する
為、多角形基板１３の厚さとこの表面に形成される膜の
厚さとを合算した寸法となっていることが望ましい。
すなわち、基板保持台１１の上端面（基板担持面１１ａ
）と基板保持台１１に保持された多角形基板８上に形成
される膜の表面とが同じ高さにあることが望ましいので
ある。
）と基板保持台１１に保持された多角形基板８上に形成
される膜の表面とが同じ高さにあることが望ましいので
ある。
また、基板担持面１１ａには多角形凹部１５の各角部か
ら連続して多角形基板１３に外接する外接円の半径方向
に延在する排出凹部１６が形成されている。排出凹部１
６は、多角形基板１３の中央部に滴下された液状物が回
転による遠心力によって多角形凹部１５の周縁まで達し
た後読周縁に沿って多角形基板１３の角部へ余分に流動
せしめられてそこに膜厚の厚い部分が形成されるのを防
止すべく該角部に余分に流動せしめられた液状物を角部
から回転による遠心力によって容易に排出できるように
設けられているのである。
ら連続して多角形基板１３に外接する外接円の半径方向
に延在する排出凹部１６が形成されている。排出凹部１
６は、多角形基板１３の中央部に滴下された液状物が回
転による遠心力によって多角形凹部１５の周縁まで達し
た後読周縁に沿って多角形基板１３の角部へ余分に流動
せしめられてそこに膜厚の厚い部分が形成されるのを防
止すべく該角部に余分に流動せしめられた液状物を角部
から回転による遠心力によって容易に排出できるように
設けられているのである。
余分な液状物の排出をより円滑ならしめる為、排出凹部
１６の底部は多角形凹部１５に保持された多角形基板１
３の表面の高さより低いことが望ましい。それ故、排出
凹部１６の深さは多角形凹部１５の深さより多角形基板
１３の厚み分以上浅くならないよう形成されている。
１６の底部は多角形凹部１５に保持された多角形基板１
３の表面の高さより低いことが望ましい。それ故、排出
凹部１６の深さは多角形凹部１５の深さより多角形基板
１３の厚み分以上浅くならないよう形成されている。
なお、排出凹部１６の深さを多角形凹部１５の深さと同
等かそれより深く形成しておけば、液状物を多角形基板
１３上に伸展せしめた後に多角形基板１３を基板保持台
１１から取り出すのが容易となって好ましい。
等かそれより深く形成しておけば、液状物を多角形基板
１３上に伸展せしめた後に多角形基板１３を基板保持台
１１から取り出すのが容易となって好ましい。
第２図（Ａ）及び（Ｂ）に示した様に、基板保持台１１
の多角形凹部１５の底面にバキューム圧か導かれるバキ
ューム通路１８を開口せし７め、そこに導かれるバキュ
ーム圧により多角形基板１３を多角Ｉシ凹部１５に保持
することとすれば、基板保持台１１による多角形基板１
３の保持が確実となり好ましい。
の多角形凹部１５の底面にバキューム圧か導かれるバキ
ューム通路１８を開口せし７め、そこに導かれるバキュ
ーム圧により多角形基板１３を多角Ｉシ凹部１５に保持
することとすれば、基板保持台１１による多角形基板１
３の保持が確実となり好ましい。
基板保持台１１を回転軸１２と一体成形した場合には、
第３図（Ａ）及び（Ｂ）に示した様に、バキューム通路
１８を回転軸１２内に伸長して形成しても良い。
第３図（Ａ）及び（Ｂ）に示した様に、バキューム通路
１８を回転軸１２内に伸長して形成しても良い。
図示した本発明の実施例においては、基板保持台１１は
略円板状に形成されているが、多角形基板１３に外接す
る外接円を基板担持面１１ａに含み得れば良く、基板保
持台１１の形状は略円板状に限られない。
略円板状に形成されているが、多角形基板１３に外接す
る外接円を基板担持面１１ａに含み得れば良く、基板保
持台１１の形状は略円板状に限られない。
発明の詳細
な説明した様に、本発明による回転式膜形成装置の基板
保持台においては、基板保持台の基板担持面は多角形基
板に外接する外接円を含む面積を有しており、基板担持
面には多角形基板が嵌合し没する多角形凹部がその中心
を基板担持面の回転中心に合わせて形成されると共に、
多角形凹部の各角部から連続して該外接円の゛Ｖ径方向
に延（ｒ。
保持台においては、基板保持台の基板担持面は多角形基
板に外接する外接円を含む面積を有しており、基板担持
面には多角形基板が嵌合し没する多角形凹部がその中心
を基板担持面の回転中心に合わせて形成されると共に、
多角形凹部の各角部から連続して該外接円の゛Ｖ径方向
に延（ｒ。
し多角形凹部の深さより多角形基板の厚み分以上浅くな
い排出凹部が形成されているので、多角形基板上に厚さ
の均一な膜を形成できる。特に水晶基板のように大径の
円形Ｊ！板を得ることの難しい角形基板上に膜を形成し
、これを分割して複数のチップを古る場合には、角形基
板の角部まで均一な膜を形成することができる為、歩留
りが向上し、そのコストを抑制できる。
い排出凹部が形成されているので、多角形基板上に厚さ
の均一な膜を形成できる。特に水晶基板のように大径の
円形Ｊ！板を得ることの難しい角形基板上に膜を形成し
、これを分割して複数のチップを古る場合には、角形基
板の角部まで均一な膜を形成することができる為、歩留
りが向上し、そのコストを抑制できる。
第１図（Ａ）及び（Ｂ）は、本発明により回転式膜形成
装置における基板保持台を示した斜視図及び断面図、第
２図（Ａ）及び（Ｂ）は第１図とは異なる本発明の基板
保持台を示した斜視図及び断面図、第３図（Ａ）及び（
Ｂ）は第１図及び第２図とは異なる本発明の基板保持台
を示した斜視図及び断面図、第４図は従来の回転式膜形
成装置における基板保持台を示した斜視図及び断面図、
第５図はＪ！仮の側面図、第６図（Ａ）及び（Ｂ）は多
角形基板の平面図及び断面図、第７図（Ａ）は第４図と
は異なる従来の基板保持台を示した斜視図、第７図（Ｂ
）は第７図（Ａ）の基板保持台を用いて膜が形成された
多角形基板の断面図である。 主要部分の符号の説明 １１ ・・・・基板保持台 １２・・・・・・回転軸 １３・・・・・多角形基板 １５・・・・・・多角形凹部 １６・・・・・・排出凹部 １８・・・・・・バキューム通路 出願人 パイオニア株式会社 パイオニアビデオ株式会社
装置における基板保持台を示した斜視図及び断面図、第
２図（Ａ）及び（Ｂ）は第１図とは異なる本発明の基板
保持台を示した斜視図及び断面図、第３図（Ａ）及び（
Ｂ）は第１図及び第２図とは異なる本発明の基板保持台
を示した斜視図及び断面図、第４図は従来の回転式膜形
成装置における基板保持台を示した斜視図及び断面図、
第５図はＪ！仮の側面図、第６図（Ａ）及び（Ｂ）は多
角形基板の平面図及び断面図、第７図（Ａ）は第４図と
は異なる従来の基板保持台を示した斜視図、第７図（Ｂ
）は第７図（Ａ）の基板保持台を用いて膜が形成された
多角形基板の断面図である。 主要部分の符号の説明 １１ ・・・・基板保持台 １２・・・・・・回転軸 １３・・・・・多角形基板 １５・・・・・・多角形凹部 １６・・・・・・排出凹部 １８・・・・・・バキューム通路 出願人 パイオニア株式会社 パイオニアビデオ株式会社
Claims (3)
- （１）多角形基板を基板担持面に保持して回転せしめ、
前記多角形基板の中央部近傍に滴下された流体を前記多
角形基板上に伸展せしめてそこに膜を形成する回転式膜
形成装置における基板保持台であって、前記基板担持面
は前記多角形基板に外接する外接円を含みかつ前記多角
形基板が嵌合しかつ没する多角形凹部が形成されると共
に、前記多角形凹部の各角部から連続して前記外接円の
半径方向に延在し前記多角形凹部の深さより前記多角形
基板の厚み分以上浅くない排出凹部が形成されているこ
とを特徴とする回転式膜形成装置における基板保持台。 - （２）前記基板保持台は、これを回転せしめる回転軸の
一端にその回転中心軸が前記基板担持面に直交すべく一
体成形されていることを特徴とする請求項１記載の基板
保持台。 - （３）前記多角形凹部の底部にはバキューム圧が導かれ
るバキューム通路が開口していることを特徴とする請求
項１又は２記載の基板保持台。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63064821A JPH01236967A (ja) | 1988-03-18 | 1988-03-18 | 回転式膜形成装置における基板保持台 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63064821A JPH01236967A (ja) | 1988-03-18 | 1988-03-18 | 回転式膜形成装置における基板保持台 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01236967A true JPH01236967A (ja) | 1989-09-21 |
Family
ID=13269300
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63064821A Pending JPH01236967A (ja) | 1988-03-18 | 1988-03-18 | 回転式膜形成装置における基板保持台 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01236967A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0582434A (ja) * | 1991-09-24 | 1993-04-02 | Toppan Printing Co Ltd | 回転塗布用スピナーヘツド |
| JP2002299204A (ja) * | 2001-03-29 | 2002-10-11 | Sanken Electric Co Ltd | スピンナー用治具、スピンナー及びスピン塗布方法 |
| JP2002336764A (ja) * | 2001-05-14 | 2002-11-26 | Tatsumo Kk | 成膜装置 |
| WO2008105467A1 (ja) * | 2007-02-27 | 2008-09-04 | Kabushiki Kaisha Toshiba | 塗布装置、塗布体の製造方法及び流体吹出装置 |
| US7566365B2 (en) * | 2003-03-10 | 2009-07-28 | Tokyo Electron Limited | Liquid processing apparatus and liquid processing method |
| US7615117B2 (en) | 2003-03-10 | 2009-11-10 | Tokyo Electron Limited | Coating and processing apparatus and method |
| JP2010262998A (ja) * | 2009-04-30 | 2010-11-18 | Mtc:Kk | レジスト膜形成装置 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS591386A (ja) * | 1982-06-19 | 1984-01-06 | 住友電気工業株式会社 | 隔膜を備える容器 |
-
1988
- 1988-03-18 JP JP63064821A patent/JPH01236967A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS591386A (ja) * | 1982-06-19 | 1984-01-06 | 住友電気工業株式会社 | 隔膜を備える容器 |
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| US8490571B2 (en) | 2007-02-27 | 2013-07-23 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Coater, method for manufacturing coated article, and fluid blowing unit |
| JP5349289B2 (ja) * | 2007-02-27 | 2013-11-20 | 株式会社東芝 | 塗布装置 |
| JP2010262998A (ja) * | 2009-04-30 | 2010-11-18 | Mtc:Kk | レジスト膜形成装置 |
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