JP2649219B2 - スピンチャックおよび処理液塗布方法 - Google Patents
スピンチャックおよび処理液塗布方法Info
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- JP2649219B2 JP2649219B2 JP7107357A JP10735795A JP2649219B2 JP 2649219 B2 JP2649219 B2 JP 2649219B2 JP 7107357 A JP7107357 A JP 7107357A JP 10735795 A JP10735795 A JP 10735795A JP 2649219 B2 JP2649219 B2 JP 2649219B2
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- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体製造工程の一部
として、基板を回転させ、その表面に所定量のレジスト
を滴下して表面全体に均一な膜厚のレジストを塗布する
ためのレジスト塗布装置等に使用して好適なスピンチャ
ックおよび処理液塗布方法に関するものである。
として、基板を回転させ、その表面に所定量のレジスト
を滴下して表面全体に均一な膜厚のレジストを塗布する
ためのレジスト塗布装置等に使用して好適なスピンチャ
ックおよび処理液塗布方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、レジスト塗布装置に使用されるこ
の種のスピンチャックとしては一般に図８に示すように
構成されたものが知られている。すなわち、同図におい
て、１は基板２を真空吸着するスピンチャックで、その
上面には基板２の各辺Ｓ1 〜Ｓ4 の中間部をそれぞれ支
持し基板２の移動を阻止する４本のピン３が突設されて
いる。そして、このスピンチャック１は、図示しない駆
動モータによって、たとえば符号４で示す時計方向回り
に一定速度で回転させ、この回転中に基板２上に供給さ
れたレジストを遠心力によって基板２の表面全体に広げ
ることにより、均一な膜厚を得るようにしている。この
ような塗布方法を一般にスピンコ−トと呼んでいる。
の種のスピンチャックとしては一般に図８に示すように
構成されたものが知られている。すなわち、同図におい
て、１は基板２を真空吸着するスピンチャックで、その
上面には基板２の各辺Ｓ1 〜Ｓ4 の中間部をそれぞれ支
持し基板２の移動を阻止する４本のピン３が突設されて
いる。そして、このスピンチャック１は、図示しない駆
動モータによって、たとえば符号４で示す時計方向回り
に一定速度で回転させ、この回転中に基板２上に供給さ
れたレジストを遠心力によって基板２の表面全体に広げ
ることにより、均一な膜厚を得るようにしている。この
ような塗布方法を一般にスピンコ−トと呼んでいる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記し
た従来のスピンチャック１を用いたスピンコート法にお
いては、基板２が円形の場合は回転中心Ｏから外周まで
の距離が全周にわたって等しいため何等問題ないが、図
８に示したように四角形で、しかもサイズが大きい基板
２の場合には、回転中心Ｏから各辺Ｓ1 〜Ｓ4 までの距
離が異なることから回転時の気流の乱れが著しく、その
ため基板２の回転方向が矢印４で示す時計方向とする
と、特に基板２の矢印のついた斜線で示す部分、すなわ
ち長辺Ｓ1 、Ｓ2 の回転方向前面部２ａ側の基板表面部
分Ａにおける空気抵抗が大きくなり、この部分Ａに塗布
されたレジストの膜が他の部分と比べて厚くなり、均一
な膜厚が得られないという問題があった。
た従来のスピンチャック１を用いたスピンコート法にお
いては、基板２が円形の場合は回転中心Ｏから外周まで
の距離が全周にわたって等しいため何等問題ないが、図
８に示したように四角形で、しかもサイズが大きい基板
２の場合には、回転中心Ｏから各辺Ｓ1 〜Ｓ4 までの距
離が異なることから回転時の気流の乱れが著しく、その
ため基板２の回転方向が矢印４で示す時計方向とする
と、特に基板２の矢印のついた斜線で示す部分、すなわ
ち長辺Ｓ1 、Ｓ2 の回転方向前面部２ａ側の基板表面部
分Ａにおける空気抵抗が大きくなり、この部分Ａに塗布
されたレジストの膜が他の部分と比べて厚くなり、均一
な膜厚が得られないという問題があった。
【０００４】したがって、本発明は上記した従来の問題
点を解消するためになされたもので、その目的とすると
ころは、比較的簡単な構成で、気流の乱れの発生を防止
し、四角形からなる被処理基板に対しても処理液を均一
な膜厚で塗布することができるようにしたスピンチャッ
クおよび処理液塗布方法を提供することにある。
点を解消するためになされたもので、その目的とすると
ころは、比較的簡単な構成で、気流の乱れの発生を防止
し、四角形からなる被処理基板に対しても処理液を均一
な膜厚で塗布することができるようにしたスピンチャッ
クおよび処理液塗布方法を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明は、四角形の被処理基板を基板保持部により
略水平に保持して回転し、その回転中に処理液を遠心力
を利用して前記被処理基板上に膜厚を略均一に塗布する
スピンチャックにおいて、前記被処理基板の４つの辺の
うち回転方向に対して交差する二つの互いに対向する辺
の、少なくとも回転方向における前側にそれぞれ衝立壁
を立設し、この衝立壁によって前記回転方向における前
側から流れ込む気流を抑制して前記被処理基板上に塗布
された処理液の膜厚を均一にすることを特徴とする。ま
た、本発明は、基板保持部に被処理基板の側面を保持す
る基板保持部材を設け、この基板保持部材に対して衝立
壁を離間させて設けていることを特徴とする。また、本
発明において、衝立壁は、被処理基板の辺に沿って延在
して設けられた連続した板で構成されていることを特徴
とする。また、本発明において、衝立壁は、スピンチャ
ックの回転中心に対して点対称になるように対角位置に
取り付けられていることを特徴とする。また、本発明に
おいて、衝立壁は、被処理基板の回転方向に対して交差
する辺の各辺にわたって連続して延在することを特徴と
する。また、本発明において、衝立壁は、被処理基板に
対して接近離間する方向に移動調整自在に設けられてい
ることを特徴とする。さらにまた、本発明は、四角形の
被処理基板を略水平に保持して回転され、その回転中に
処理液を遠心力を利用して前記被処理基板上に膜厚を略
均一に塗布する処理液塗布方法において、前記被処理基
板が回転中、被処理基板の４つの辺のうち回転方向に対
して交差する二つの互いに対向する辺の、少なくとも回
転方向における前側から流れ込む気流を抑制して前記被
処理基板上に塗布された処理液の膜厚を均一にすること
を特徴とする。
め、本発明は、四角形の被処理基板を基板保持部により
略水平に保持して回転し、その回転中に処理液を遠心力
を利用して前記被処理基板上に膜厚を略均一に塗布する
スピンチャックにおいて、前記被処理基板の４つの辺の
うち回転方向に対して交差する二つの互いに対向する辺
の、少なくとも回転方向における前側にそれぞれ衝立壁
を立設し、この衝立壁によって前記回転方向における前
側から流れ込む気流を抑制して前記被処理基板上に塗布
された処理液の膜厚を均一にすることを特徴とする。ま
た、本発明は、基板保持部に被処理基板の側面を保持す
る基板保持部材を設け、この基板保持部材に対して衝立
壁を離間させて設けていることを特徴とする。また、本
発明において、衝立壁は、被処理基板の辺に沿って延在
して設けられた連続した板で構成されていることを特徴
とする。また、本発明において、衝立壁は、スピンチャ
ックの回転中心に対して点対称になるように対角位置に
取り付けられていることを特徴とする。また、本発明に
おいて、衝立壁は、被処理基板の回転方向に対して交差
する辺の各辺にわたって連続して延在することを特徴と
する。また、本発明において、衝立壁は、被処理基板に
対して接近離間する方向に移動調整自在に設けられてい
ることを特徴とする。さらにまた、本発明は、四角形の
被処理基板を略水平に保持して回転され、その回転中に
処理液を遠心力を利用して前記被処理基板上に膜厚を略
均一に塗布する処理液塗布方法において、前記被処理基
板が回転中、被処理基板の４つの辺のうち回転方向に対
して交差する二つの互いに対向する辺の、少なくとも回
転方向における前側から流れ込む気流を抑制して前記被
処理基板上に塗布された処理液の膜厚を均一にすること
を特徴とする。
【０００６】
【作用】本発明において、衝立壁は被処理基板上への気
流の流れ込みを阻止し、基板の回転方向の前側における
空気抵抗を少なくする。また、衝立壁は、被処理基板に
対して接近離間する方向に移動する。
流の流れ込みを阻止し、基板の回転方向の前側における
空気抵抗を少なくする。また、衝立壁は、被処理基板に
対して接近離間する方向に移動する。
【０００７】
【実施例】以下、本発明を図面に示す実施例に基づいて
詳細に説明する。図１は本発明に係るスピンチャックの
一実施例を示すもので、長方形の基板に適用した場合の
平面図、図２は側面図、３図は底面図、図４は図１のIV
−IV線断面図、図５は基板保持部材とピンの斜視図、図
６は衝立壁の斜視図である。これらの図において、スピ
ンチャックは円板状の基板保持部１０およびこの基板保
持部１０の下面中央部に接合され実質的に回転軸の一部
として機能する支承部１１等を備えている。
詳細に説明する。図１は本発明に係るスピンチャックの
一実施例を示すもので、長方形の基板に適用した場合の
平面図、図２は側面図、３図は底面図、図４は図１のIV
−IV線断面図、図５は基板保持部材とピンの斜視図、図
６は衝立壁の斜視図である。これらの図において、スピ
ンチャックは円板状の基板保持部１０およびこの基板保
持部１０の下面中央部に接合され実質的に回転軸の一部
として機能する支承部１１等を備えている。
【０００８】前記基板保持部１０の上面外周寄りには環
状溝１２が形成されており、この環状溝１２には基板２
を支承するポリアセタール樹脂等からなるリング１３が
その上端部を上方に突出させた状態で嵌合されている。
また、基板保持部１０の上面で前記リング１３より内側
には不貫通孔からなる４つの吸引孔１４が同一円周上に
周方向に等間隔をおいて形成されており、これらの吸引
孔１４は前記基板保持部１０の肉厚内に半径方向に設け
られた通路１５を介して前記支承部１１の中心孔１６に
連通されている。また、この中心孔１６は、前記支承部
１１が取り付けられる回転軸１７の中心孔１８を経て図
示しない真空ポンプに接続されている。そして、前記回
転軸１７は図示しない駆動モータによって一定速度で図
１において時計方向に回転する。前記基板保持部１０の
下面周縁部には、図３に示すように一端が基板保持部１
０の外周面に開放する４つのガイド溝２０が周方向に等
間隔をおいて径方向に形成されており、これらのガイド
溝２０には基板保持部材２１の基端部がそれぞれ嵌合さ
れ、かつ一対の止めねじ２２と長孔２３とによって基板
保持部１０の径方向に移動調整可能に固定されている。
状溝１２が形成されており、この環状溝１２には基板２
を支承するポリアセタール樹脂等からなるリング１３が
その上端部を上方に突出させた状態で嵌合されている。
また、基板保持部１０の上面で前記リング１３より内側
には不貫通孔からなる４つの吸引孔１４が同一円周上に
周方向に等間隔をおいて形成されており、これらの吸引
孔１４は前記基板保持部１０の肉厚内に半径方向に設け
られた通路１５を介して前記支承部１１の中心孔１６に
連通されている。また、この中心孔１６は、前記支承部
１１が取り付けられる回転軸１７の中心孔１８を経て図
示しない真空ポンプに接続されている。そして、前記回
転軸１７は図示しない駆動モータによって一定速度で図
１において時計方向に回転する。前記基板保持部１０の
下面周縁部には、図３に示すように一端が基板保持部１
０の外周面に開放する４つのガイド溝２０が周方向に等
間隔をおいて径方向に形成されており、これらのガイド
溝２０には基板保持部材２１の基端部がそれぞれ嵌合さ
れ、かつ一対の止めねじ２２と長孔２３とによって基板
保持部１０の径方向に移動調整可能に固定されている。
【０００９】各基板保持部材２１は基板保持部１０の側
方に延在して、その上面には複数個のねじ孔２４が長手
方向に一定のピッチで形成されており、これらのねじ孔
２４には基板２の各辺Ｓ1 〜Ｓ4 を支持するピン３の下
端部に一体に設けられたねじ部２６が基板サイズに応じ
て選択的にねじ込まれるようになっている。
方に延在して、その上面には複数個のねじ孔２４が長手
方向に一定のピッチで形成されており、これらのねじ孔
２４には基板２の各辺Ｓ1 〜Ｓ4 を支持するピン３の下
端部に一体に設けられたねじ部２６が基板サイズに応じ
て選択的にねじ込まれるようになっている。
【００１０】３０は前記各基板保持部材２１の先端部寄
りを互いに連結する外形が矩形の枠状に形成された衝立
取付部材で、この衝立取付部材３０の各板材３０ａ〜３
０ｄの中央部が前記各基板保持部材２１の上面に固定さ
れている。また、衝立取付部材３０の上面には一対の衝
立壁３３がスピンチャックの回転中心Ｏに対して点対称
となるように対角位置に取り付けられている。
りを互いに連結する外形が矩形の枠状に形成された衝立
取付部材で、この衝立取付部材３０の各板材３０ａ〜３
０ｄの中央部が前記各基板保持部材２１の上面に固定さ
れている。また、衝立取付部材３０の上面には一対の衝
立壁３３がスピンチャックの回転中心Ｏに対して点対称
となるように対角位置に取り付けられている。
【００１１】前記衝立壁３３は、図６に示すように略Ｌ
字状に形成されることにより、水平板３３ａと、この水
平板３３ａの一側縁より上方に向かって略直角に折曲さ
れた垂直板３３ｂとを一体に有し、水平板３３ａには複
数個の長孔３４がその長手方向と直交する方向に適宜な
間隔をおいて形成されている。一方、前記衝立取付部材
３０の板材３０ａ，３０ｂの回転方向の前側に位置する
部位には前記衝立壁３３の各長孔３４に対応して３つの
ねじ孔３５が形成されている。衝立壁３３の垂直板３３
ｂは、基板２の４つの辺Ｓ1 〜Ｓ4 のうち回転方向（矢
印Ａ方向）と交差する二つの長辺Ｓ1 ，Ｓ2 の回転方向
の前端部２ａに近接するように対向して立ち上げられて
おり、その高さは基板２の表面より十分高くなるように
設定されている。衝立壁３３の取付けは、止めねじ３６
を衝立壁３３の長孔３４に挿入して衝立取付部材３０の
ねじ孔３５にねじ込み、長孔３４の範囲内で衝立壁３３
を基板サイズに応じて図１の矢印Ｂ方向に移動調整し、
垂直板３０ｂを基板２の対向する二つの長辺Ｓ1 ，Ｓ2
の回転方向における前端部２ａに近接するように対向さ
せて止めねじ３６を締めつけ、水平板３０ａを衝立取付
部材３０に固定すればよい。
字状に形成されることにより、水平板３３ａと、この水
平板３３ａの一側縁より上方に向かって略直角に折曲さ
れた垂直板３３ｂとを一体に有し、水平板３３ａには複
数個の長孔３４がその長手方向と直交する方向に適宜な
間隔をおいて形成されている。一方、前記衝立取付部材
３０の板材３０ａ，３０ｂの回転方向の前側に位置する
部位には前記衝立壁３３の各長孔３４に対応して３つの
ねじ孔３５が形成されている。衝立壁３３の垂直板３３
ｂは、基板２の４つの辺Ｓ1 〜Ｓ4 のうち回転方向（矢
印Ａ方向）と交差する二つの長辺Ｓ1 ，Ｓ2 の回転方向
の前端部２ａに近接するように対向して立ち上げられて
おり、その高さは基板２の表面より十分高くなるように
設定されている。衝立壁３３の取付けは、止めねじ３６
を衝立壁３３の長孔３４に挿入して衝立取付部材３０の
ねじ孔３５にねじ込み、長孔３４の範囲内で衝立壁３３
を基板サイズに応じて図１の矢印Ｂ方向に移動調整し、
垂直板３０ｂを基板２の対向する二つの長辺Ｓ1 ，Ｓ2
の回転方向における前端部２ａに近接するように対向さ
せて止めねじ３６を締めつけ、水平板３０ａを衝立取付
部材３０に固定すればよい。
【００１２】このような構造からなるスピンチャックに
おいて、基板２は基板保持部１０のリング１３上にその
中心を基板保持部１０の中心と略一致させて載置され
る。この基板２の載置は、ピン３に対する食い込みをよ
くするために図１の矢印４で示す基板２の回転方向とは
反対方向に小角度回動させて基板２を各基板保持部材２
１に対して斜めにするとよい。そして、基板２を載置し
た後、真空ポンプによって基板保持部１０の吸引孔１４
を真空排気し、基板２をリング１３上に真空吸着する。
また、各衝立壁３３を衝立取付部材３０上に設置し、そ
の垂直板３３ｂを基板２の各長辺Ｓ1 ，Ｓ2 の回転方向
における前端部２ａに近接するように対向させる。次い
で、一定量のレジストを基板２の上面に供給し、回転軸
１７を駆動モータによって図１に矢印４で示すように時
計方向に一定速度で回転させる。こうすることにより、
レジスト液は遠心力によって基板２表面全体に広がり塗
布される。
おいて、基板２は基板保持部１０のリング１３上にその
中心を基板保持部１０の中心と略一致させて載置され
る。この基板２の載置は、ピン３に対する食い込みをよ
くするために図１の矢印４で示す基板２の回転方向とは
反対方向に小角度回動させて基板２を各基板保持部材２
１に対して斜めにするとよい。そして、基板２を載置し
た後、真空ポンプによって基板保持部１０の吸引孔１４
を真空排気し、基板２をリング１３上に真空吸着する。
また、各衝立壁３３を衝立取付部材３０上に設置し、そ
の垂直板３３ｂを基板２の各長辺Ｓ1 ，Ｓ2 の回転方向
における前端部２ａに近接するように対向させる。次い
で、一定量のレジストを基板２の上面に供給し、回転軸
１７を駆動モータによって図１に矢印４で示すように時
計方向に一定速度で回転させる。こうすることにより、
レジスト液は遠心力によって基板２表面全体に広がり塗
布される。
【００１３】この時、本発明においては、衝立壁３３を
基板２の対向する二つの長辺Ｓ1 ，Ｓ2 の回転方向にお
ける前端部２ａに近接するように対向して立ち上げられ
ているので、基板２の表面に流れ込む気流を阻止し、基
板２の回転方向の前端部２ａ表面における空気抵抗を軽
減する。したがって、乱流が発生せず基板２の表面全面
にわたって均一な膜厚でレジスト液を塗布することがで
きる。また、衝立壁３３は衝立取付部材３０に対して移
動調整自在で、各種サイズの基板に対して共通に使用す
ることができる。
基板２の対向する二つの長辺Ｓ1 ，Ｓ2 の回転方向にお
ける前端部２ａに近接するように対向して立ち上げられ
ているので、基板２の表面に流れ込む気流を阻止し、基
板２の回転方向の前端部２ａ表面における空気抵抗を軽
減する。したがって、乱流が発生せず基板２の表面全面
にわたって均一な膜厚でレジスト液を塗布することがで
きる。また、衝立壁３３は衝立取付部材３０に対して移
動調整自在で、各種サイズの基板に対して共通に使用す
ることができる。
【００１４】図７は衝立壁の他の実施例を示す斜視図で
ある。上記実施例は、基板２の対向する二つの長辺Ｓ1
、Ｓ2 の全長にわたって延在する長さの衝立壁４０と
するとともに、その垂直板４０ｂの上端を、二つの長辺
Ｓ1 、Ｓ2 の回転方向における後端部２ｂ側が低く、回
転方向における前端部２ａ側に至るにしたがってステッ
プ状に高くしたものである。ただし、全長にわたって同
一の高さのものであってもよい。
ある。上記実施例は、基板２の対向する二つの長辺Ｓ1
、Ｓ2 の全長にわたって延在する長さの衝立壁４０と
するとともに、その垂直板４０ｂの上端を、二つの長辺
Ｓ1 、Ｓ2 の回転方向における後端部２ｂ側が低く、回
転方向における前端部２ａ側に至るにしたがってステッ
プ状に高くしたものである。ただし、全長にわたって同
一の高さのものであってもよい。
【００１５】このような構成においては、衝立壁４０が
基板上の空気を取り囲み、回転方向における後端部２ｂ
から空気が逃げないようにしているので基板２上に空気
が滞留して気流の発生が少なく、より一層空気抵抗を軽
減させることができる。
基板上の空気を取り囲み、回転方向における後端部２ｂ
から空気が逃げないようにしているので基板２上に空気
が滞留して気流の発生が少なく、より一層空気抵抗を軽
減させることができる。
【００１６】なお、本発明は長方形の基板２に適用した
例を示したが、本発明はこれに限らず、正方形の基板に
も適用することができる。
例を示したが、本発明はこれに限らず、正方形の基板に
も適用することができる。
【００１７】
【発明の効果】以上説明したように本発明に係るスピン
チャックは、四角形の被処理基板の４辺のうち、回転方
向に対して交差する２辺の少なくとも回転方向における
前端部に対向して衝立壁を立設したので、回転時に乱流
が基板上に発生せず空気抵抗を減少させることができ
る。したがって、レジスト液等の処理液を均一な膜厚で
塗布することができる。
チャックは、四角形の被処理基板の４辺のうち、回転方
向に対して交差する２辺の少なくとも回転方向における
前端部に対向して衝立壁を立設したので、回転時に乱流
が基板上に発生せず空気抵抗を減少させることができ
る。したがって、レジスト液等の処理液を均一な膜厚で
塗布することができる。
【図１】 本発明に係るスピンチャックの一実施例を示
すもので、長方形の基板に適用した場合の平面図であ
る。
すもので、長方形の基板に適用した場合の平面図であ
る。
【図２】 側面図である。
【図３】 底面図である。
【図４】 図１のIV−IV線断面図である。
【図５】 基板保持部材とピンの斜視図である。
【図６】 衝立壁の斜視図である。
【図７】 衝立壁の他の実施例を示す斜視図である。
【図８】 従来のスピンチャックの平面図である。
２…基板、２ａ…回転方向における前端部、１０…基板
保持部、３０…衝立取付部材、３３…衝立壁、Ｓ1 〜Ｓ
4 …辺。
保持部、３０…衝立取付部材、３３…衝立壁、Ｓ1 〜Ｓ
4 …辺。
Claims (7)
- 【請求項１】 四角形の被処理基板を基板保持部により
略水平に保持して回転し、その回転中に処理液を遠心力
を利用して前記被処理基板上に膜厚を略均一に塗布する
スピンチャックにおいて、前記被処理基板の４つの辺の
うち回転方向に対して交差する二つの互いに対向する辺
の、少なくとも回転方向における前側にそれぞれ衝立壁
を立設し、この衝立壁によって前記回転方向における前
側から流れ込む気流を抑制して前記被処理基板上に塗布
された処理液の膜厚を均一にすることを特徴とするスピ
ンチャック。 - 【請求項２】 請求項１に記載のスピンチャックにおい
て、基板保持部に被処理基板の側面を保持する基板保持
部材を設け、この基板保持部材に対して衝立壁を離間さ
せて設けていることを特徴とするスピンチャック。 - 【請求項３】 請求項１または２記載のスピンチャック
において、衝立壁は、被処理基板の辺に沿って延在して
設けられた連続した板で構成されていることを特徴とす
るスピンチャック。 - 【請求項４】 請求項１〜３のうちのいずれか１つに記
載のスピンチャックにおいて、衝立壁は、スピンチャッ
クの回転中心に対して点対称になるように対角位置に取
り付けられていることを特徴とするスピンチャック。 - 【請求項５】 請求項１〜３のうちのいずれか１つに記
載のスピンチャックにおいて、衝立壁は、被処理基板の
回転方向に対して交差する辺の各辺にわたって連続して
延在することを特徴とするスピンチャック。 - 【請求項６】 請求項１〜５のうちのいずれか１つに記
載のスピンチャックにおいて、衝立壁は、被処理基板に
対して接近離間する方向に移動調整自在に設けられてい
ることを特徴とするスピンチャック。 - 【請求項７】 四角形の被処理基板を略水平に保持して
回転され、その回転中に処理液を遠心力を利用して前記
被処理基板上に膜厚を略均一に塗布する処理液塗布方法
において、前記被処理基板が回転中、被処理基板の４つ
の辺のうち回転方向に対して交差する二つの互いに対向
する辺の、少なくとも回転方向における前側から流れ込
む気流を抑制して前記被処理基板上に塗布された処理液
の膜厚を均一にすることを特徴とする処理液塗布方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7107357A JP2649219B2 (ja) | 1995-05-01 | 1995-05-01 | スピンチャックおよび処理液塗布方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7107357A JP2649219B2 (ja) | 1995-05-01 | 1995-05-01 | スピンチャックおよび処理液塗布方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07288226A JPH07288226A (ja) | 1995-10-31 |
| JP2649219B2 true JP2649219B2 (ja) | 1997-09-03 |
Family
ID=14457028
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7107357A Expired - Fee Related JP2649219B2 (ja) | 1995-05-01 | 1995-05-01 | スピンチャックおよび処理液塗布方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2649219B2 (ja) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57121227A (en) * | 1981-01-20 | 1982-07-28 | Toshiba Corp | Resist applying device |
-
1995
- 1995-05-01 JP JP7107357A patent/JP2649219B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07288226A (ja) | 1995-10-31 |
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