JP2004071680A - 回転式載置台 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板11を載せて回転することにより、基板11に滴下した液体15を基板11上に広げて塗布する回転式載置台12であって、回転式載置台12の回転中心100及びその周辺部に凸状部16を形成し、凸状部16より外周側に、凸状部から外周側に向かって緩い傾斜部17を形成したことを特徴とする回転式載置台12を構成した。
【選択図】 図1
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、スピンコータ等の回転式塗布装置に好適に用いられ、被塗布物を支持して回転する回転式載置台に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来、フラットディスプレイ等を製造する場合に、基板へ感光材料を塗布するために、回転式塗布装置が使用されている。
回転式塗布装置は、基板を回転させて、その回転する基板の表面上の回転中心に感光材料を滴下し、その感光材料を遠心力によって外周側へと広げることによって、感光材料の塗布厚を均一にする装置であり、その基板を支持する台として回転式載置台(チャックステージともいう。)が使用されている。
【0003】
図4は、従来の回転式塗布装置を示す断面図である。
回転式塗布装置20は、基板21を載せる回転式載置台22と、回転式載置台22を取り囲み、基板21の塗布面に滴下された液体25が外部に飛散するのを防止する容器13と、回転式載置台22を支持して回転する回転軸14と、を備えている。また、回転式載置台22は、図示しない駆動機構によって回転軸14とともに矢印Aの方向に回転する構成となっている。
【0004】
回転式載置台22は、この回転式載置台22の上に基板21が載せられ、更にこの基板21の表面上の回転中心100に液体25を滴下される。滴下された液体25は、基板21が回転することにより、遠心力によって外周側へと広がる。
【0005】
【発明の解決しようとする課題】
しかし、回転式載置台22に滴下された液体25の遠心力が、回転中心100で生じない状態(0ニュートン)になってしまい、また、その周辺部でも小さい状態となってしまうことから、液体25は、外周側に広がりにくく、回転中心100及びその周辺部で滞留してしまい、塗布厚が均一にならないことがある。
【0006】
本発明の課題は、被塗布物に滴下した液体が被塗布物の回転中心及びその周辺部で滞留しないようにし、塗布厚の均一化によりムラを防止して、塗布品質を向上できる回転式載置台を提供することである。
【0007】
【課題を解決するための手段】
前述した問題を解決するために、請求項1に記載の発明は、被塗布物を支持して回転する回転式載置台であって、前記被塗布物の回転中心に滴下された液体を、その自重によって外周側へ広げる液体滞留防止部(17,18)を備えたこと、を特徴とする回転式載置台である。
【0008】
請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の回転式載置台であって、前記液体滞留防止部は、前記回転中心及びその周辺部に形成された凸状部(17)であること、を特徴とする回転式載置台である。
【0009】
請求項3に記載の発明は、請求項2に記載の回転式載置台であって、前記液体滞留防止部は、前記凸状部より外周側に前記凸状部から外周側に向かって下る緩い傾斜面を形成し、前記傾斜面上の液体を、前記液体の自重により前記傾斜面上を伝って広げる傾斜部(18)を更に備えたこと、を特徴とする回転式載置台である。
【0010】
請求項4に記載の発明は、請求項2に記載の回転式載置台であって、前記液体滞留防止部は、前記凸状部より外周側に前記凸状部から外周側に向かって下る緩い傾斜面を形成し、前記傾斜面上の液体を、前記液体の自重と遠心力との合成ベクトルにより前記傾斜面上を伝って広げる傾斜部(18)を更に備えたこと、を特徴とする回転式載置台である。
【0011】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照しながら、本発明の実施の形態を挙げて、詳細に説明する。
図1は、本発明による回転式塗布装置の一実施形態を示す断面図、図2は、本実施形態に係る回転式塗布装置の基板上に液体を塗布する直前及び直後の様子を従来装置と比較した模式図である。また、図3は、図2の塗布した液体の傾斜部における状態を示す拡大図である。
【0012】
回転式塗布装置10は、基板11を載せて回転するための回転式載置台12と、回転式載置台12を囲んで設けられた容器13と、回転式載置台12を支持して回転する回転軸14と、を備えている。
【0013】
回転式載置台12は、底面を回転軸14で支持され、表面に基板11を載せて回転軸14とともに回転する台である。また、回転式載置台12は、回転中心100及びその周辺部に凸状部16が形成され、凸状部16より外周側に、凸状部から外周側に向かって下る緩い傾斜面を有する傾斜部17が形成され、傾斜部17より更に外周側に平坦部18が形成される。凸状部16と傾斜部17は、液体滞留防止部として機能する。
ただし、凸状部16の高さは、基板11を吸着可能なまでの高さとする。
例えば、回転式載置台12(チャックステージ)の凸状部16の高さは、0.2〜2mm、望ましくは、0.5〜1mm位とする。また、傾斜部17の外径は、20〜200mm、望ましくは、50〜100mm位とする。
【0014】
回転式載置台12は、複数の真空引着孔19が貫通しており、ここから裏面に向かって気体を吸引することにより、基板11は、回転式載置台12に吸着されて固定されるようになっている。
【0015】
次に、本実施形態にかかる回転式塗布装置10の動作について説明する。
回転式塗布装置10の内部では、基板11が、回転式載置台12の上に真空引着孔19によって吸着して載せられ、被塗布物である液体15が、この基板11における回転中心100に滴下される。
【0016】
液体15は、図2(a)のように滴下されると、凸状部16で押し上げられた基板11の上で、図2(b)で示すように、自重によって基板11の外周側へと広がる。
これに対して、従来の回転式載置台12では、液体15は、図2(c)のように滴下されても、液体15が所定の表面張力を有することから、図2(d)で示すように、小さく広がるだけである。
【0017】
広がった液体15は、図3(a)で示すように、基板11が回転すると、遠心力を受けて更に外周側に広がる。また、本実施形態の回転式載置台12の表面では、液体15は、特定位置15aを基準とした進行方向にかかる力が、図3(a)で示すように、遠心力Xと自重Yとの合力Zの大きさとなる。
これに対して、従来の回転式載置台22の表面では、液体15は、特定位置15bを基準とした進行方向にかかる力が、図3(b)で示すように、遠心力Xの大きさそのものだけとなる。従って、図3(a)で示すように傾斜部17がある限り、合力Zは、遠心力Xよりも常に大きくなるので、液体15は、回転式載置台12を用いた方が、容易に外周側へと広がることができる。
【0018】
液体15は、傾斜部17を通って平坦部18にまで広がると、従来の載置台20の場合と同様に、平坦部18の上を、遠心力によって更に外周側へと広がる。
【0019】
この実施形態によれば、基板11に滴下した液体15が、基板11の回転中心100及びその周辺部で滞留しないようになり、塗布厚の均一化によりムラを防止して、塗布品質を向上することができる。
【0020】
(変形形態)
以上説明した実施形態に限定されることなく、種々の変形や変更が可能であって、それらも本発明の均等の範囲内である。
(1)本実施形態は、回転式載置台12は、回転式塗布装置10へ応用されているが、回転式乾燥装置等へ応用してもよい。例えば、回転式載置台12の上に基板11を載せて基板11を洗浄した場合に、回転式載置台12によって基板11を回転させれば、基板11の表面上の回転中心100及びその周辺部に洗浄液が滞留しないので、洗浄液の水はけが良くなり、基板11の水切り時間を短縮することができる。
【0021】
(2)本実施形態は、回転式載置台12の形状が円形であったが、正方形その他の形状でも良い。
【0022】
【発明の効果】
以上詳しく説明したように、本発明によれば、以下のような効果がある。
(1)被塗布物の回転中心に滴下された液体を、その自重によって外周側へ広げる液体滞留防止部を備えたので、被塗布物に滴下した液体が被塗布物の回転中心及びその周辺部で滞留しないようになり、塗布厚の均一化によりムラを防止して、塗布品質を向上することができる。
【0023】
(2)液体滞留防止部は、回転中心及びその周辺部に形成された凸状部であるので、被塗布物に滴下した液体が、自重によって外周側に流動して、回転中心及びその周辺部に滞留しないようにすることができる。
【0024】
(3)液体滞留防止部は、凸状部より外周側に凸状部から外周側に向かって下る緩い傾斜面を形成し、傾斜面上の液体を、液体の自重により傾斜面上を伝って広げる傾斜部を更に備えたので、基板が回転していないときに、被塗布物に滴下した液体が、自重によって外周側に流動して、傾斜部に滞留しないようにすることができる。
【0025】
(4)液体滞留防止部は、凸状部より外周側に凸状部から外周側に向かって下る緩い傾斜面を形成し、傾斜面上の液体を、液体の自重と遠心力との合成ベクトルにより傾斜面上を伝って広げる傾斜部を更に備えたので、被塗布物が回転しているときに、被塗布物に滴下した液体が、自重と遠心力との合成ベクトルによって外周側に流動して、傾斜部に滞留しないようにすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による回転式塗布装置の一実施形態を示す断面図である。
【図2】本実施形態に係る回転式塗布装置の基板上に液体を塗布する直前及び直後の様子を従来装置と比較した模式図である。
【図3】図2の塗布した液体の傾斜部における状態を示す拡大図である。
【図4】従来の回転式塗布装置を示す断面図である。
【符号の説明】
12 回転式載置台
14 回転軸
16 凸状部
17 傾斜部
100 回転中心
Claims (4)
- 被塗布物を支持して回転する回転式載置台であって、
前記被塗布物の回転中心に滴下された液体を、その自重によって外周側へ広げる液体滞留防止部を備えたこと、
を特徴とする回転式載置台。 - 請求項1に記載の回転式載置台であって、
前記液体滞留防止部は、前記回転中心及びその周辺部に形成された凸状部であること、
を特徴とする回転式載置台。 - 請求項2に記載の回転式載置台であって、
前記液体滞留防止部は、前記凸状部より外周側に前記凸状部から外周側に向かって下る緩い傾斜面を形成し、前記傾斜面上の液体を、前記液体の自重により前記傾斜面上を伝って広げる傾斜部を更に備えたこと、
を特徴とする回転式載置台。 - 請求項2に記載の回転式載置台であって、
前記液体滞留防止部は、前記凸状部より外周側に前記凸状部から外周側に向かって下る緩い傾斜面を形成し、前記傾斜面上の液体を、前記液体の自重と遠心力との合成ベクトルにより前記傾斜面上を伝って広げる傾斜部を更に備えたこと、
を特徴とする回転式載置台。
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JP2002225842A JP2004071680A (ja) | 2002-08-02 | 2002-08-02 | 回転式載置台 |
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Publication Number | Publication Date |
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Family
ID=32013371
Family Applications (1)
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