JPH0478469A - 塗布方法 - Google Patents

塗布方法

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JPH0478469A
JPH0478469A JP2191583A JP19158390A JPH0478469A JP H0478469 A JPH0478469 A JP H0478469A JP 2191583 A JP2191583 A JP 2191583A JP 19158390 A JP19158390 A JP 19158390A JP H0478469 A JPH0478469 A JP H0478469A
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Japan
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inner cup
cup
lid
plate
vacuum chuck
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JP2191583A
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JPH062262B2 (ja
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Hirohito Sago
宏仁 佐合
Katsuhiko Kudo
工藤 勝彦
Muneo Nakayama
中山 宗雄
Michio Hashimoto
橋本 道夫
Kazuyuki Kawakami
和志 川上
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd
Tatsumo KK
Original Assignee
Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd
Tatsumo KK
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Publication date
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  • Liquid Crystal (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Coating Apparatus (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は液晶デイスプレィ(LCD)の製造工程等に用
いる塗布方法に関する。
(従来の技術) ブラウン管(CRT)に代わる表示装置として液晶デイ
スプレィが注目されている。
液晶デイスプレィは表面に画素を構成する電極や素子を
形成した2枚のガラス基板の間に液晶を注入した構造と
なっている。そして各画素を薄膜トランジスタ(TPT
)や金属/絶縁体/金属接合(M I M)などの素子
で駆動せしめるアクティブマトリクス方式が高画質の画
面が得られるため主流になりつつある。
ぞして、上記の薄膜トランジスタをガラス基板上に形成
する技術はシリコンウェハ等に集積回路を形成する半導
体製造技術をそのまま応用している。レジスト液の塗布
も一連の工程のうちの一つであり、この工程ではカップ
内にガラス基板をセットして、ガラス基板上にレジスト
液を滴下し、次いでカップを回転せしめ遠心力によって
ガラス基板表面にレジスト液を均一に塗布するようにし
ている。
(発明が解決しようとする課題) 上述したレジスト液の塗布において、カップを回転せし
める際にはカップ上面を蓋体によって閉塞しレジスト液
のカップ外への飛散を防止した状態で行なっている。ま
たカップの下部側壁にはドレインバイブを取り付け、回
転中にカップ側壁に(′1着したレジスト液をカップ外
に排出するようにしている。
このように、カップ側壁にドレインバイブを取り付ける
と回転に伴う遠心力によりカップ内の空気或いはガスが
ドレインバイブを通って排出されカップ内が減圧状態と
なる。そ【7て用/シスト液の塗布が終了し減圧状態で
蓋体を外してガラス基板をカップから取り出そうとする
と、内部が減圧状態のため急激にカップ内に空気が流入
し、乾燥し2て固化したレジストの微細粉かガラス基板
表面に付着する不利がある。これを解消すべく蓋体にガ
ス導入ノズルを取り付けることも考えられるが、カップ
内にノズルを臨ませるとこのノズルによって乱流が生じ
且つノズルから噴出するガスによってガラス基板上に塗
布したレジスト液の厚みが部分的に異なることになる。
特に液晶デイスプレィの製造にあってはガラス基板上に
多数のトランジスタを埋め込む(1平方センチ当たり5
0個以上)こととなり、このうちの1個のトランジスタ
が不良でも基板全体か不良品ということになる。これが
アクティブマトリクス方式の液晶デイスプレィの製造と
LSIなどの半導体の製造との歩留まりの面における決
定的な差となっている。
(課題を解決するための手段) 上記課題を解決すべく本発明は、インナーカップ内の真
空チャック上にセットした板状被処理物表面に回転によ
る遠心力で塗布液を均一に拡散せしめ、次いで蓋体と整
流板との間にガスを導入してインナーカップ内の減圧状
態を解除した後に蓋体を開けて板状被処理物を取り出す
ようにした。
(作用) インナーカップの上面開口を閉塞した状態で、インナー
カップ内の板状被処理物表面に回転による遠心力で塗布
液を均一に拡散せしめると、遠心力によってインナーカ
ップ内は減圧状態となる。
そこで、インナーカップ内から処理後の板状被処理物を
取り出すにあたっては、インナーカップ内にガスを導入
して減圧状態を解除した後に行なう。
(実施例) 以下に本発明の実施例を添付図面に基づいて説明する。
第1図は本発明に係る塗布方法を組み込んだ被膜形成ラ
インの平面図、第2図は本発明に係る塗布方法の実施に
用いる塗布装置の蓋体を上げた状態の断面図、第3図は
同塗布装置の蓋体を閉じた状態の断面図である。
被膜形成ラインは最上流部(第1図において左端)にガ
ラス基板等の板状被処理物Wの投入部1を設け、この投
入部1の下流側に本発明方法を実施する塗布装置2を配
置し、この塗布装置2の下流側に順次、減圧乾燥装置3
、被処理物Wの裏面洗浄装置4及びホットプレート5a
・・・を備えた加熱部5を配置し、投入部1から加熱部
5に至るまでは搬送装置6によって被処理物Wの前後端
の下面を支持した状態で搬送し、加熱部5においては垂
直面内でクランク動をなす搬送装置7により被処理物W
の下面を支持した状態で各ホットブレー)5a上を順次
移し換えるようにしつつ被処理物Wを搬送するようにし
ている。
次に塗布装置2の詳細について第2図及び第3図に基づ
いて説明する。
塗布装置2はスピンナー装置の軸21に取り付けられた
インナーカップ22の外側にアウターカップ23を固設
している。これらインナー力・ソフ22及びアウターカ
ップ23は下面を閉じ上面を開放し、インナーカップ2
2内の中央部には被処理物Wを吸着固定する真空チャッ
ク24を設け、更にインナーカップ22の側壁下部には
ドレインバイブ25を取り付けている。また、アウター
カップ23内にはドレイン回収リング26を配置してい
る。このドレイン回収リング26は内側壁を外側壁より
も低くして前記ドレインバイブ25の先端を臨ませ且つ
底壁を一方に傾斜せしめ最も低くなった位置にドレイン
回収バイブ27を取り付けている。また、アウターカッ
プ23の閉じられた下面には排気口28が形成されてい
る。
一方、インナーカップ22及びアウターカップ23の上
方には第1図に示すようにアーム29.30を配置して
いる。これらアーム29.30は直線動、同転勤、上下
動或いはこれらを合成した動きが可能で互いに干渉しな
いようになっている。
ソシテ、アーム29にはレジスト液等の塗布液を滴下す
るノズルを取り付け、アーム30の先端には下方に伸び
る軸31を取り付け、この軸31にはノズル孔32を穿
設し、このノズル孔32をジヨイント33及びアーム3
0内を通るホース34を介してチッ素ガスなどの圧気源
につなげている。
また、前記軸31にはベアリング35及び磁気シール3
6を介してボス部37を回転自在に嵌合し、このボス部
37にインナーカップ22の上面開口を閉塞するための
円板状をなすアルミニウム製の蓋体38を取り付けてい
る。
そして、蓋体38の下面にはビス39によって整流板4
0を取り付けている。この整流板40の外径寸法はイン
ナーカップ22の内径寸法よりも若干小径とされ、また
蓋体38の下面と整流板40上面との間に形成される空
間に前記ノズル孔32が開口する。
以上において、ガラス基板等の被処理物W表面にレジス
ト液を均一に塗布するには、インナーカップ22の上面
を開放して真空チャック24上に固着されている被処理
物Wの表面にアーム29に取り付番ブられているノズル
からレジスト液を滴下し2、次いでアーム29を後退せ
しめて第2図に示すようにインナーカップ22上にアー
ム30を回動させて蓋体38を臨ませる。そして第3図
に示すように、アーム30を下降することで蓋体38に
よりインナーカップ22の上面を閉塞したならば、スピ
ンナーによってインナーカップ22を回転せしめ、遠心
力によりレジスト液を被処理物Wの表面に均一に拡散塗
布する。
そして、以上の処理においてインナー力・ノブ22内は
減圧状態になっているので、レジスト液が均一に塗布さ
れた被処理物Wを取り出すには、先ずノズル孔32を介
して蓋体38と整流板40の間の空間に窒素ガス等を導
入する。すると導入されたガスは整流板40とインナー
カップ22との間の隙間を通ってインナーカップ内に行
き渡り、減圧状態が解除される。このときノズル孔32
からのガスは整流板40があるため、被処理物W表面の
レジスト液に直接吹き付けられることがない。
第4図及び第5図は第2実施例を実施する塗布装置の蓋
体を上げた状態と蓋体を閉じた状態の断面図であり、こ
の実施例では蓋体38の上方のアーム30の先端下面に
アウターカップ23の上面開口を閉塞するための蓋体4
1を固着17、塗布液を拡散塗布する際にはインナーカ
ップ22を蓋体38で、アウターカップ23を蓋体41
で同時に閉塞するようにしている。
このようにすることでアウターカップ内に回収した塗布
液が霧状になって外部に飛散することがなくなり、した
がって、塗布後に蓋体を開けて被処理物を取り出す際に
、空気中を浮遊している塗布液の固化粉体が被処理物表
面に付着することを防止できる。
第6図及び第7図は第3実施例を実施する塗布装置の蓋
体を上げた状態と蓋体を閉じた状態の断面図であり、こ
の実施例ではアウターカップ23の上面開口を閉塞する
蓋体41の下面にスペーサ42を介して一定間隔をあけ
て防塵板43を取り付けている。この防塵板43は前記
ボス部37外周面との間に隙間44を形成しインナーカ
ップ22の回転とともにボス部37が回転する際にボス
部37に防塵板43が接触しないようにし、また防塵板
43外端と蓋体41のスカート部内周面との間にも隙間
45を形成し2、蓋体41と防塵板43との間のスペー
スに入り込んだ微細な塵埃を排出するようにし2ている
。このような構成とすることで、塗布後に蓋体を開けて
被処理物を取り出す際等に上下の蓋体間に存在する微細
なゴミなどが被処理物表面に付着し、て欠陥品となるこ
とを防止できる。
(効果) 以上に説明したように本発明によれば、塗布装置のカッ
プ上面を閉じる蓋体にガス導入ノズルを取り付け、更に
このガス導入ノズルよりも下方位置となるように整流板
を蓋体下面に取り付けたので、カップを回転させた場合
にカップ内に乱流か生じにくく、また塗布完了後にカッ
プ内にガスを導入する際に導入ガスによって塗布された
液体に悪影響を及ぼすことがない。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係る塗布方法を組み込んた被膜形成ラ
インの平面図、第2図は本発明に係る塗布方法の実施に
用いる塗布装置の蓋体を上げた状態の断面図、第3図は
同塗布装置の蓋体を閉じた状態の断面図、第4図及び第
5図は第2実施例を実施する塗布装置の蓋体を七げた状
態と蓋体を閉じた状態の断面図、第6図及び第7図は第
3実施例を実施する塗布装置の蓋体を上げた状態と蓋体
を閉じた状態の断面図である。 尚、図面中】は板状被処理物の投入部、2は塗布装置、
22はインナーカップ、23はアウターカップ、38.
41は蓋体、32はノズル孔、40は整流板、Wは板状
被処理物である。 特  許  出  願  人 同

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)インナーカップ内の真空チャック上にガラス等の
    板状被処理物をセットし、この板状被処理物の表面に塗
    布液を滴下し、この後インナーカップ上面を蓋体で閉塞
    するとともに板状被処理物の上方に蓋体下面に取り付け
    た整流板を臨ませた状態で真空チャック、インナーカッ
    プ及び蓋体を一体的に回転せしめ、板状被処理物の表面
    に滴下した塗布液を均一に拡散せしめ、次いで蓋体と整
    流板との間にガスを導入してインナーカップ内の減圧状
    態を解除した後、蓋体を開けて板状被処理物を取り出す
    ようにしたことを特徴とする塗布方法。
  2. (2)前記真空チャック、インナーカップ及び蓋体を一
    体的に回転せしめるにあたっては、インナーカップの外
    側に配置したアウターカップの上面開口を別の蓋体で閉
    塞した状態で行なうようにしたことを特徴とする請求項
    1に記載の塗布方法。
  3. (3)前記真空チャック、インナーカップ及び蓋体を一
    体的に回転せしめるにあたっては、インナーカップの外
    側に配置したアウターカップの上面開口を別の蓋体で閉
    塞するとともに当該別の蓋体の下面に取り付けた防塵板
    をインナーカップの上面開口を閉塞する蓋体上方に臨ま
    せた状態で行なうようにしたことを特徴とする請求項1
    に記載の塗布方法。
JP19158390A 1990-07-19 1990-07-19 塗布方法 Expired - Lifetime JPH062262B2 (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06344658A (ja) * 1993-06-04 1994-12-20 Tomoegawa Paper Co Ltd 放電記録体
JP2009218404A (ja) * 2008-03-11 2009-09-24 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06344658A (ja) * 1993-06-04 1994-12-20 Tomoegawa Paper Co Ltd 放電記録体
JP2009218404A (ja) * 2008-03-11 2009-09-24 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理装置

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