TWI741426B - 塗布裝置及塗布方法 - Google Patents

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Abstract

本發明的課題在於在藉由塗布平台而一邊使基板以上浮的狀態移動一邊對所述基板的上表面供給處理液來進行塗布的塗布裝置中抑制塗布不均，所述塗布平台包含朝向上方具有氣體的噴出口的多個開口部與具有所述氣體的抽吸口的多個開口部。塗布上浮區域、上游側上浮區域及下游側上浮區域均在水平面內沿與移動方向正交的列方向排列沿著移動方向排列多個開口部而成的開口行而使基板上浮，在塗布上浮區域、上游側上浮區域及下游側上浮區域中的至少一個中，針對每個開口行，構成開口行的多個開口部在列方向上分散配置。

Description

塗布裝置及塗布方法
本發明是涉及一種一面使藉由塗布平台而上浮的基板移動，一面對所述基板的上表面供給處理液來進行塗布的塗布裝置及塗布方法。再者，所述基板包括液晶顯示裝置或有機電致發光（Electroluminescence，EL）顯示裝置等的平板顯示幕（Flat Display Panel，FDP）用玻璃基板、半導體晶片（wafer）、光罩（photomask）用玻璃基板、彩色濾光片（color filter）用基板、記錄磁片用基板、太陽電池用基板、電子紙用基板等精密電子裝置用基板、半導體封裝用基板。
在半導體裝置或液晶顯示裝置等的電子零件等的製造步驟中，使用對基板的上表面供給處理液來進行塗布的塗布裝置。例如，專利文獻1中所記載的塗布裝置是在使基板自平台上浮的狀態下一邊使所述基板沿平台的長邊方向移動，一邊自噴嘴的噴出口對所述基板的上表面供給處理液而對基板的大致整體塗布處理液。 [現有技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1] 日本專利特開2018-43200號公報 [發明所欲解決之課題]
為了使基板自平台上浮，在平台上設置多個具有噴出氣體的噴出口的開口部，自各噴出口向上方噴出高壓氣體，藉由所述氣體壓力而使基板以水平姿勢浮起。而且，配置於平台的寬度方向的兩側的基板移動部對在平台上浮起的基板進行保持並使基板沿平台的長邊方向移動。在平台中的位於噴嘴的下方的區域中，為了高精度地規定噴嘴的噴出口與基板的上表面的間隔所謂的塗布間隙，在所述區域也設置多個具有混合存在於所述噴出口而吸入氣體的抽吸口的開口部。更詳細而言，多個開口部在平台的上表面呈矩陣狀有規律地設置。由此，在噴嘴的下方，基板以近接於平台的上表面的狀態例如幾十微米程度的間隙穩定地上浮。
如此，在噴嘴的下方，基板與平台的上表面近接。因此，基板自平台受到熱轉印而容易產生溫度變化。而且，開口部呈將平台的長邊方向（基板的移動方向）設為行、將基板的寬度方向設為列的二維矩陣狀配置於平台的整個上表面。因此，關於在平台的上表面沿長邊方向移動的基板，在連續通過開口部的上方的條紋狀的部位中，因噴出口或抽吸口的存在而成為相對較低的溫度，另一方面，在除此以外的部位中，自平台強烈受到熱轉印而成為相對較高的溫度。如此，自平台對基板的熱影響在基板的寬度方向上偏移，從而產生溫度不均。其結果，有時產生沿與基板的移動方向平行的方向延伸的塗布不均。
本發明是鑒於所述課題而完成的，其目的在於在藉由塗布平台而在使基板上浮的狀態下一邊使所述基板移動一邊對所述基板的上表面供給處理液來進行塗布的塗布裝置及塗布方法中抑制塗布不均的產生，所述塗布平台包含具有朝向上方噴出氣體的噴出口的多個開口部與具有抽吸氣體的抽吸口的多個開口部。
[解決課題之手段]
本發明的一實施方式為一種塗布裝置，包括：塗布平台，包含具有朝向上方噴出氣體的噴出口的多個開口部與具有抽吸氣體的抽吸口的多個開口部，使基板上浮至多個開口部的上方；基板移動部，使在塗布平台上上浮的基板沿移動方向移動；以及噴嘴，對藉由基板移動部而沿移動方向移動的基板的上表面供給處理液來進行塗布；並且塗布平台具有位於噴嘴的下方的塗布上浮區域、在移動方向上位於塗布上浮區域的上游側的上游側上浮區域及在移動方向上位於塗布上浮區域的下游側的下游側上浮區域，塗布上浮區域、上游側上浮區域及下游側上浮區域均在水平面內沿與移動方向正交的列方向排列沿著移動方向排列多個開口部而成的開口行而使基板上浮，在塗布上浮區域、上游側上浮區域及下游側上浮區域中的至少一個中，針對每個開口行，構成開口行的多個開口部在列方向上分散配置。
另外，本發明的另一實施方式為一種塗布方法，包括：第一步驟，一邊藉由上浮平台而使基板上浮至多個開口部的上方，一邊使所述基板沿移動方向移動，所述上浮平台包含具有朝向上方噴出氣體的噴出口的多個開口部與具有抽吸氣體的抽吸口的多個開口部；以及第二步驟，自噴嘴對沿移動方向移動的基板的上表面供給處理液來進行塗布；並且在第一步驟中，藉由上浮平台而使基板上浮，所述上浮平台中，在位於噴嘴的下方的塗布上浮區域、在移動方向上位於塗布上浮區域的上游側的上游側上浮區域及在移動方向上位於塗布上浮區域的下游側的下游側上浮區域的所有區域中，在水平面內沿與移動方向正交的列方向排列沿著移動方向排列多個開口部而成的開口行，而且在塗布上浮區域、上游側上浮區域及下游側上浮區域中的至少一個中，針對每個開口行，在列方向上分散配置構成開口行的多個開口部。
在以所述方式構成的發明中，在塗布上浮區域、上游側上浮區域及下游側上浮區域中的至少一個中，針對每個開口行，構成開口行的多個開口部在列方向上分散配置。因此，上浮平台的上表面中的未設置開口部的區域（以下稱為“非開口區域”）與基板近接而自所述非開口區域熱轉印至基板的機會也分散，列方向（基板的寬度方向）上的熱影響的偏移變少。 [發明的效果]
如上所述，在塗布上浮區域、上游側上浮區域及下游側上浮區域中的至少一個中，針對每個開口行，構成開口行的多個開口部在列方向上分散配置，因此可抑制溫度不均，從而抑制塗布不均的產生。
＜第一實施方式＞ 圖1是示意性表示本發明的塗布裝置的第一實施方式的整體構成的圖。另外，圖2是自鉛垂上方觀察塗布裝置的平面圖。進而，圖3是自圖2卸下塗布機構的平面圖。所述塗布裝置1為對自圖1的左手側朝向右手側以水平姿勢搬送的基板S的上表面Sf供給塗布液作為本發明的“處理液”的一例來進行塗布的狹縫塗布機。再者，在以下的各圖中，為了明確裝置各部的配置關係，將基板S的搬送方向設為“X方向”，將自圖1的左手側朝向右手側的水平方向稱為“+X方向”，將相反方向稱為“-X方向”。另外，將與X方向正交的水平方向Y中的裝置的正面側稱為“-Y方向”，並且將裝置的背面側稱為“+Y方向”。進而，將鉛垂方向Z的上方向及下方向分別稱為“+Z方向”及“-Z方向”。
首先，使用圖1對所述塗布裝置1的構成的概要進行說明，其後，對各部的更詳細的結構進行說明。再者，塗布裝置1的基本構成或動作原理與本申請案申請人之前所公開的日本專利第5346643號中所記載者共通。因此，在本說明書中，關於塗布裝置1的各構成中的可應用與這些公知文獻中所記載者相同的構成者、以及可根據這些文獻的記載而容易理解結構者，省略詳細說明，並主要說明本實施方式的特徵部分。
在塗布裝置1中，沿著基板S的移動方向X依序近接配置有輸入輸送機100、輸入移載部2、上浮平台部3、輸出移載部4、輸出輸送機110，如以下詳述般，由這些形成沿大致水平方向延伸的基板S的移動路徑。再者，在以下的說明中，在與基板S的移動方向X相關聯地表示位置關係時，有時將“基板S的移動方向X上的上游側”簡稱為“上游側”，另外，將“基板S的移動方向X上的下游側”簡稱為“下游側”。在所述例中，自某基準位置觀察，（-X）側相對地相當於“上游側”，（+X）側相對地相當於“下游側”。
作為處理對象的基板S自圖1的左手側搬入至輸入輸送機100。輸入輸送機100包括輥子輸送機101以及旋轉驅動所述輥子輸送機101的旋轉驅動機構102，藉由輥子輸送機101的旋轉而將基板S以水平姿勢向下游側即（+X）方向搬送。輸入移載部2包括：輥子輸送機21；以及旋轉/升降驅動機構22，具有旋轉驅動所述輥子輸送機21的功能及使所述輥子輸送機21升降的功能。藉由使輥子輸送機21旋轉而基板進一步向（+X）方向移動而朝向上浮平台部3搬送。另外，藉由使輥子輸送機21升降而變更基板S的鉛垂方向位置。藉由以所述方式構成的輸入移載部2而將基板S自輸入輸送機100移載至上浮平台部3。
上浮平台部3包括沿著基板的移動方向X進行了三分割的平板狀的平台。即，上浮平台部3包括入口上浮平台31、塗布平台32及出口上浮平台33，這些各平台的上表面相互形成同一平面的一部分。在入口上浮平台31及出口上浮平台33各自的上表面呈矩陣狀設置有多個開口部，所述開口部具有噴出自上浮控制機構35供給的壓縮空氣的噴出口，藉由自所噴出的氣流施加的浮力而使基板S上浮。如此，基板S在下表面自平台上表面離開的狀態下被支撐為水平姿勢。基板S的下表面與平台上表面的距離即上浮量例如可設為10微米至500微米。作為這些入口上浮平台31及出口上浮平台33的具體構成，例如可應用日本專利第5346643號中所記載者。
另一方面，在塗布平台32的上表面交替地配置有具有噴出壓縮空氣的噴出口的開口部（後文所說明的圖4中的符號321）及具有抽吸基板S的下表面與平台上表面之間的空氣的抽吸口的開口部（後文所說明的圖4中的符號322）。藉由上浮控制機構35控制來自噴出口的壓縮空氣的噴出量與來自抽吸口的抽吸量而精密地控制基板S的下表面與塗布平台32的上表面的距離。由此，將通過塗布平台32的上方的基板S的上表面Sf的鉛垂方向位置控制為規定值。再者，關於塗布平台32上的開口部的配置，如後文所詳述般，與先前裝置大不相同。
再者，在入口上浮平台31配設有頂銷，在上浮平台部3設置有使所述頂銷升降的頂銷驅動機構34。
經由輸入移載部2而搬入至上浮平台部3的基板S藉由輥子輸送機21的旋轉而被施加向（+X）方向的推進力，從而搬送至入口上浮平台31上。入口上浮平台31、塗布平台32及出口上浮平台33將基板S支撐為上浮狀態，但不具有使基板S沿水平方向移動的功能。藉由配置於入口上浮平台31、塗布平台32及出口上浮平台33的下方的基板移動部5來進行上浮平台部3中的基板S的搬送。
基板移動部5包括：吸盤機構51，藉由與基板S的下表面周緣部部分地抵接而自下方支撐基板S；以及吸附/行進控制機構52，具有對設置於吸盤機構51上端的吸附構件（後文的圖3中的符號513）的吸附墊及吸附槽（省略圖示）施加負壓來吸附保持基板S的功能以及使吸盤機構51沿X方向往返行進的功能。在吸盤機構51保持著基板S或虛設（dummy）基板的狀態下，基板S的下表面或虛設基板的下表面位於較上浮平台部3的各平台的上表面更高的位置處。因此，基板S一面藉由吸盤機構51而吸附保持周緣部，一面藉由自上浮平台部3施加的浮力而整體維持水平姿勢。
吸盤機構51對自輸入移載部2搬入至上浮平台部3並藉由上浮平台部3而自平台上表面上浮的基板S進行保持，在所述狀態下，吸盤機構51向（+X）方向移動，由此將基板S自入口上浮平台31的上方經由塗布平台32的上方而移動至出口上浮平台33的上方。所述基板S被移交至配置於出口上浮平台33的（+X）側的輸出移載部4。
輸出移載部4包括：輥子輸送機41；以及旋轉/升降驅動機構42，具有旋轉驅動所述輥子輸送機41的功能及使所述輥子輸送機41升降的功能。藉由使輥子輸送機41旋轉而對基板S施加向（+X）方向的推進力，沿著移動方向X進一步搬送基板S。另外，藉由使輥子輸送機41升降而變更基板S的鉛垂方向位置。而且，藉由輸出移載部4而將基板S自出口上浮平台33的上方移載至輸出輸送機110。
輸出輸送機110包括：輥子輸送機111；以及旋轉驅動機構112，旋轉驅動所述輥子輸送機111；藉由輥子輸送機111的旋轉而進一步向（+X）方向搬送基板S，最終送出至塗布裝置1外。再者，輸入輸送機100及輸出輸送機110可設置為塗布裝置1的構成的一部分，但也可為獨立於塗布裝置1的構件。另外，例如，設置於塗布裝置1的上游側的其它單元的基板送出機構可用作輸入輸送機100。另外，設置於塗布裝置1的下游側的其它單元的基板接受機構可用作輸出輸送機110。
在以所述方式移動的基板S的移動路徑上配置有用以將塗布液塗布於基板S的上表面Sf的塗布機構7。塗布機構7包括：噴嘴71，具有沿Y方向延伸設置的噴出口（省略圖示）；以及維護單元75，用以對噴嘴71進行維護。在噴嘴71中，噴出口朝下開口地設置於噴嘴主體的下部，自未圖示的塗布液供給部受到塗布液的供給而自噴出口噴出塗布液。
噴嘴71可藉由定位機構73而在X方向及Z方向上進行移動定位。藉由定位機構73而將噴嘴71定位於塗布平台32的上方的塗布位置（點線所表示的位置）。自定位於塗布位置的噴嘴71噴出塗布液而塗布在與塗布平台32之間搬送而來的基板S上。如此，對基板S的上表面Sf進行塗布液的塗布。
維護單元75包括：缸751，儲存用以清洗噴嘴71的清洗液；預噴出輥752；噴嘴清潔器753；以及維護控制機構754，對預噴出輥752及噴嘴清潔器753的動作進行控制。作為維護單元75的具體構成，例如可應用日本專利特開2010-240550號公報中所記載的構成。
在噴嘴71位於預噴出輥752的上方且噴出口與預噴出輥752的上表面相向的位置（預噴出位置）處，自噴嘴71的噴出口對預噴出輥752的上表面噴出塗布液。噴嘴71在定位至塗布位置之前定位於預噴出位置，自噴出口噴出既定量的塗布液而執行預噴出處理。如此，藉由對移動至塗布位置前的噴嘴71進行預噴出處理，可使塗布位置處的塗布液的噴出自其初始階段起穩定。
藉由維護控制機構754使預噴出輥752旋轉而將所噴出的塗布液混合於儲存於缸751中的清洗液中並加以回收。另外，在噴嘴71處於噴嘴清潔器753的上方位置（清洗位置）的狀態下，噴嘴清潔器753一邊噴出清洗液一邊沿Y方向移動，由此沖洗附著於噴嘴71的噴出口及其周圍的塗布液。
另外，定位機構73可將噴嘴71定位於較清洗位置更靠下方處且為噴嘴下端收容於缸751內的位置（待機位置）。在不執行使用噴嘴71的塗布處理時，將噴嘴71定位於所述待機位置。再者，雖省略圖示，但可相對於定位於待機位置的噴嘴71配置用以防止噴出口的塗布液的乾燥的待機容器。
此外，在塗布裝置1中設置有用以控制裝置各部的動作的控制單元9。控制單元9包括記憶規定的控制程式或各種資料的記憶元件、藉由執行所述控制程式而使裝置各部執行既定的動作的中央處理器（Central Processing Unit，CPU）等運算元件、承擔與使用者或外部裝置的資訊交換的介面元件等。
圖4是示意性表示塗布平台上的開口部的配置結構的圖，在（a）欄中示出先前例所採用的配置結構，另一方面，在（b）欄中示出本實施方式所採用的配置結構。再者，在（a）欄及（b）欄中，在上段的圖示中，由虛線圖示沿移動方向X排列的開口行（以下進行詳述）的一列部分，將擴大所述一列部分的開口行而得者圖示於中段，將擴大其中的移動方向X的最上游側的開口行而得者圖示於下段。另外，在圖4中，為了容易理解，視需要誇大或簡化塗布平台32的各部的尺寸或數量來描繪。以下，一面參照圖4一面對塗布平台32上的開口數的配置進行詳細說明。
在本實施方式中，如圖4所示，塗布平台32沿著移動方向X設置有三個上浮區域32A、32B、32C。這些中的上浮區域32B位於定位於塗布位置的噴嘴71的下方，且相當於本發明的“塗布上浮區域”的一例。因此，在以下的說明中，將上浮區域32B稱為“塗布上浮區域32B”。
另外，在移動方向X上位於塗布上浮區域32B的上游側的上浮區域32A縮小自入口上浮平台31搬入而來的基板S與塗布平台32的間隙而在塗布上浮區域32B接近於平台上表面地送入塗布上浮區域32B。如此，上浮區域32A相當於本發明的“上游側上浮區域”的一例。因此，在以下的說明中，將上浮區域32A稱為“上游側上浮區域32A”。
進而，在移動方向X上位於塗布上浮區域32B的下游側的上浮區域32C擴大自塗布上浮區域32B向移動方向X移動的基板S與塗布平台32的間隙而在出口上浮平台33遠離平台上表面地送入出口上浮平台33。如此，上浮區域32C相當於本發明的“下游側上浮區域”的一例。因此，在以下的說明中，將上浮區域32C稱為“下游側上浮區域32C”。
在塗布平台32中，為了高精度地控制塗布平台32與基板S的間隙，在上游側上浮區域32A、塗布上浮區域32B及下游側上浮區域32C的所有區域中，配置多個具有噴出壓縮空氣的噴出口的開口部321及具有抽吸基板S的下表面與平台上表面之間的空氣的抽吸口的開口部322。更具體而言，沿與移動方向X正交的列方向Y排列沿著移動方向X排列開口部321、322而成的開口行323。但是，在塗布上浮區域32B中，與上游側上浮區域32A及下游側上浮區域32C相比，需要進一步高精度地間隙控制，因此如圖4所示，移動方向X上的開口行323處的開口部321、322的間距及列方向Y上的開口行323的間距設定得短於上游側上浮區域32A及下游側上浮區域32C處的它們的間距。再者，以下，在不區分開口部321、322而進行說明的情況下，稱為“開口部320”。
這裡，如圖4的（a）欄所示，與專利文獻1中所記載的先前例同樣地，在所有開口行323中，可在移動方向X上呈一列配置構成開口行323的多個開口部320。在所述情況下，如圖4的（a）欄的中段所示，在沿移動方向X排列的開口行323中，所有開口部320在列方向Y上配置於同一列位置Py1。因此，一邊近接於塗布平台32的平台上表面一邊在平台上表面的上方沿移動方向X移動的基板S中的與所述列位置Py1相向的條紋狀的部位連續通過開口部320的上方，因噴出口或抽吸口的存在而成為相對較低的溫度。另一方面，與鄰接於列位置Py1的列位置相向的基板部位連續通過偏離開口部320的平台上表面的上方，強烈受到來自平台上表面的熱轉印而成為相對較高的溫度。如此，自塗布平台32對基板S的熱影響在列方向Y即基板S的寬度方向上偏移，從而產生溫度不均。其結果，例如圖5的（a）欄所示，當測量實際塗布於基板S的上表面Sf的塗布液的膜厚時，在基板S的寬度方向Y上，膜厚收斂於一定的膜厚範圍（T1≦膜厚≦T2），但是膜厚以與列方向Y上的開口行323的間距對應的週期發生變動，並確認到沿與基板S的移動方向X平行的方向延伸的塗布不均。
因此，在本實施方式中，與先前例同樣地，在塗布上浮區域32B中沿列方向Y以窄間距排列有開口行323，並且在上游側上浮區域32A及下游側上浮區域32C中沿列方向Y以廣間距排列有開口行323，但是在各開口行323中，使開口部320的排列不同。更詳細而言，如圖4的（b）欄所示，在上游側上浮區域32A中，在各開口行323中，開口部320沿相對於移動方向X傾斜的傾斜方向（圖4的（b）欄中的點線Da所表示的方向）以廣間距排列，因此，如圖4的（b）欄中的下段所示，在各開口行323中，開口部320在列方向Y上以構成開口行323的開口部320的個數（本實施方式中，9個）分散。即，列方向Y上的開口部320的位置成為分別不同的列位置Py1～列位置Py9。關於所述方面，在下游側上浮區域32C中，也與上游側上浮區域32A相同。另外，在塗布上浮區域32B中，除在各開口行323中開口部320沿相對於移動方向X傾斜的傾斜方向（圖4的（b）欄中的點線Db所表示的方向）以窄間距排列的方面以外，與上游側上浮區域32A相同。進而，在本實施方式中，上游側上浮區域32A處的開口部320的傾斜角θa（相對於移動方向X的點線Da的傾斜角度）、塗布上浮區域32B處的開口部320的傾斜角θb（相對於移動方向X的點線Db的傾斜角度）及下游側上浮區域32C處的開口部320的傾斜角θc（相對於移動方向X的點線Dc的傾斜角度）設定為滿足以下的關係式。 |θa|=|θc|＞|θb|    …式（1）
如此，在所有的上浮區域32A～上浮區域32C中，針對每個開口行323，構成開口行323的多個開口部320在列方向Y上分散配置。因此，塗布平台32的上表面中的未設置開口部320的非開口區域與基板S近接而自所述非開口區域熱轉印至基板S的機會也在列方向Y上分散，基板S的寬度方向（與列方向Y平行的方向）上的熱影響的偏移變少。
在具有此種技術特徵的塗布裝置1中，控制單元9執行預先記憶的處理程式來控制各部，從而以如下方式將塗布液塗布於基板S的上表面。即，當施加塗布指令時，將塗布前的基板S自輸入輸送機100移載至上浮平台部3。另一方面，在維護單元75中，對噴嘴71執行預噴出處理。其後，將噴嘴71移動至塗布上浮區域32B的上方的塗布位置（圖1的點線位置），將噴出口（省略圖示）朝向鉛垂下方定位並加以靜止。另外，與噴嘴71的移動同時或前後，使基板S沿移動方向X上浮移動，在基板S的上表面Sf中的應最初塗布的區域位於塗布位置的時刻點停止基板移動，基板S成為靜止狀態（第一步驟）。接著，在使噴嘴71的噴出口近接於基板S的上表面的狀態下，在一定時間的期間內，控制單元9將一定量的塗布液壓送至噴嘴71而形成液珠（基板S的上表面Sf上的積液）。
然後，執行基板S向移動方向X的移動與塗布液自噴嘴71的噴出，並執行塗布液向基板S的上表面Sf的塗布（第二步驟）。所述步驟持續至將塗布液供給至基板S的上表面Sf整體或一部分（有效塗布面），在塗布處理結束的時刻點，在基板S的上表面Sf中的應最後塗布的區域位於塗布位置的狀態下，停止基板S的移動，基板S靜止。其後，將噴嘴71自塗布位置朝向維護單元75移動。另一方面，塗布有塗布液的基板S再次沿移動方向X移動，經由輸出移載部4而自塗布裝置1搬出。
如此，在塗布裝置1中，在藉由塗布平台32而上浮的狀態下，一邊使基板S沿移動方向X移動一邊自噴嘴71對基板S的上表面Sf供給塗布液來進行塗布。因此，基板S近接於塗布平台32而受到來自塗布平台32的熱轉印，但如上所述，在本實施方式中，自非開口區域熱轉印至基板S的機會也在列方向Y上分散，基板S的寬度方向（與列方向Y平行的方向）上的熱影響的偏移少。因此，可抑制塗布不均。當測量實際藉由塗布裝置1塗布的塗布液的膜厚時，例如圖5的（b）欄所示，確認到：在基板S的寬度方向Y上，膜厚收斂於一定的膜厚範圍（T1≦膜厚≦T2），並且膜厚的變動得到抑制，藉由使用本實施方式的塗布裝置1，可抑制塗布不均而形成良好的塗布液的液膜。
另外，在進行塗布處理時，需要使基板S的移動暫時停止，並使基板S的一部分保持在塗布平台32上上浮的狀態並加以靜止。在所述靜止狀態中，自塗布平台32對基板S的特定部位（在塗布平台32的上方待機的部位）的熱轉印多於移動時，但由於採用了所述開口部320的配置結構，因此可抑制基板S的寬度方向上的熱影響的偏移而有效地抑制塗布不均。
＜第二實施方式＞ 圖6是示意性表示本發明的塗布裝置的第二實施方式的塗布平台上的開口部的配置結構的圖。所述第二實施方式與第一實施方式大不相同的方面為（1）塗布上浮區域32B處的開口部320的配置結構及（2）上游側上浮區域32A及下游側上浮區域32C處的開口部320的分散狀態，關於其他方面，與第一實施方式相同。因此，以下，以不同點為中心進行說明，對同一構成標注同一符號並省略說明。
首先，對不同點（1）進行說明。在第一實施方式中，將塗布上浮區域32B處的開口部320的傾斜角θb設定為零以外的值，但在第二實施方式中，將傾斜角θb設定為零。即，關於第二實施方式中的塗布上浮區域32B，與先前例同樣地，在各開口行323中，開口部320沿移動方向X以窄間距排列，並且多個開口行323沿列方向Y以窄間距排列，多個開口部320呈將基板S的移動方向X設為行、將列方向（基板S的寬度方向）Y設為列的二維矩陣狀配置。再者，可將此種配置構成應用於第一實施方式的塗布上浮區域32B。
其次，對不同點（2）進行說明。在第一實施方式中，在各開口行323中，使開口部320的列位置相互不同而使開口部321、322在列方向Y上分散。相對於此，在第二實施方式中，如圖6所示，在上游側上浮區域32A中的各開口行323中，將開口部320劃分為三個排列組G1～排列組G3。關於各排列組G1～排列組G3，如圖6的下段的圖示所示，鄰接的三個開口部320沿與移動方向X平行的方向排列，但是列方向Y上的排列組G1～排列組G3的位置分別為列位置Py1～列位置Py3且相互不同。另外，在下游側上浮區域32C中，也具有相同的開口部320的配置結構。因此，與第一實施方式同樣地，在上游側上浮區域32A及下游側上浮區域32C中，針對每個開口行323，構成開口行323的多個開口部320在列方向Y上分散配置，自非開口區域熱轉印至基板S的機會也在列方向Y上分散。因此，基板S的寬度方向（與列方向Y平行的方向）上的熱影響的偏移少，可抑制塗布不均。
＜第三實施方式＞ 圖7是示意性表示本發明的塗布裝置的第三實施方式的塗布平台上的開口部的配置結構的圖。在所述第二實施方式中，關於上游側上浮區域32A與下游側上浮區域32C，具有相同構成。即，在第二實施方式中，在下游側上浮區域32C中的各開口行323中，開口部320劃分為三個排列組，各排列組的列位置分別成為“Py1”、“Py2”、“Py3”。因此，上游側上浮區域32A的三個排列組與下游側上浮區域32C的三個排列組一一對應並且在移動方向X上排列。
相對於此，在第三實施方式中，如圖7所示，在下游側上浮區域32C中的各開口行323中，開口部320劃分為三個排列組G4～排列組G6，而且，排列組G4～排列組G6的列位置分別成為與上游側上浮區域32A側的列位置Py1～列位置Py3不同的列位置Py4～列位置Py6。藉由如此配置開口部320，可在上游側上浮區域32A與下游側上浮區域32C之間避免開口部320在列方向Y上重疊。其結果，在列方向Y上，可提高塗布平台32上的開口部320的分散程度，可更有效地抑制塗布不均。再者，關於如此使開口部320的列位置在每個上浮區域不同的技術事項，也可應用於所述第一實施方式或後文所說明的第四實施方式至第七實施方式。
＜第四實施方式＞ 圖8是示意性表示本發明的塗布裝置的第四實施方式的塗布平台上的開口部的配置結構的圖。在所述第二實施方式中，關於上游側上浮區域32A與下游側上浮區域32C，具有相同構成。相對於此，如圖8所示，可以使上游側上浮區域32A與下游側上浮區域32C隔著塗布上浮區域32B對稱的方式設置開口部320。在具有此種構成的第四實施方式中，也可獲得與第一實施方式相同的作用效果。
＜第五實施方式＞ 在所述第二實施方式至第四實施方式中，在各開口行323中，將開口部320分配為三個排列組G1～排列組G3，但分配數並不限定於此，也可設定為2、4至最大數（構成開口行323的開口部320的個數）的任一者（再者，分配為最大數者相當於第一實施方式）。以下，關於將分配數設定為“2”的情況，一面參照圖9一面進行說明。
圖9是示意性表示本發明的塗布裝置的第五實施方式的塗布平台上的開口部的配置結構的圖。所述第五實施方式與第二實施方式大不相同的方面為上游側上浮區域32A及下游側上浮區域32C處的開口部320的分配數為“2”，關於其他方面，與第二實施方式相同。
在第五實施方式中，如圖9所示，在上游側上浮區域32A中的各開口行323中，將開口部320劃分為兩個排列組G1、G2。更詳細而言，如圖9的下段的圖示所示，開口部321、322沿著移動方向X呈鋸齒狀配置，由位於列方向Y上的上游側（圖9的下段的下側）且與移動方向X平行地排列的開口部322構成排列組G1，另一方面，由位於列方向Y的下游側（在圖9的下段中為上側）且與移動方向X平行地排列的開口部321構成排列組G2。而且，列方向Y上的排列組G1、G2的位置分別為列位置Py1、Py2且相互不同。另外，在下游側上浮區域32C中，也具有相同的開口部320的配置結構。因此，可獲得與第二實施方式相同的作用效果。
＜第六實施方式＞ 在所述第一實施方式至第五實施方式中，在上游側上浮區域32A、塗布上浮區域32B及下游側上浮區域32C的任一者中，使相互在列方向Y上鄰接的開口行323在移動方向X上對齊，但在任一上浮區域中，也可將鄰接的開口行323在移動方向X上錯開配置。例如，在第一實施方式中，在塗布上浮區域32B，可將相互在列方向Y上鄰接的開口行323在移動方向X上錯開半間距地配置，從而呈鋸齒狀配置開口部320（參照圖10）。
＜第七實施方式＞ 在所述第一實施方式至第六實施方式中，在各開口行323中，交替地配置開口部321、322，但例如如圖11所示，由開口部321構成相互在列方向Y上鄰接的開口行323中的一者，由開口部322構成另一者。
＜其他＞ 再者，本發明並不限定於所述實施方式，只要不脫離本發明的主旨，則可進行所述以外的各種變更。例如，在所述第一實施方式（圖4的（b）欄）、第六實施方式（圖10）及第七實施方式（圖11）中，以滿足所述關係式（1）的方式分別設定傾斜角θa～傾斜角θc，但傾斜角θa～傾斜角θc的大小及傾斜方向為任意。
另外，在所述第二實施方式至第五實施方式中，將塗布上浮區域32B處的開口部320的傾斜角θb設定為零，但與第一實施方式等同樣地，也可將塗布上浮區域32B處的開口部320的傾斜角θb設定為零以外的值。 [產業上的可利用性]
本發明可應用於一面使藉由塗布平台而上浮的基板移動一面對所述基板的上表面供給處理液來進行塗布的所有塗布技術。
1:塗布裝置 2:輸入移載部 3:上浮平台部 4:輸出移載部 5:基板移動部 7:塗布機構 9:控制單元 21、41、101、111:輥子輸送機 22、42:旋轉/升降驅動機構 31、入口上浮平台 32:塗布平台 32A:上游側上浮區域 32B:塗布上浮區域 32C:下游側上浮區域 33:出口上浮平台 34:頂銷驅動機構 35:上浮控制機構 51:吸盤機構 52:吸附/行進控制機構 71:噴嘴 75:維護單元 73:定位機構 100:輸入輸送機 102、112:旋轉驅動機構 110:輸出輸送機 320、321、322:開口部 323:開口行 513:吸附構件 751:缸 752:預噴出輥 753:噴嘴清潔器 754:維護控制機構 Da、Db、Dc:點線 G1～G6:排列組 Py1～Py9:列位置 S:基板 Sf:（基板的）上表面 X:移動方向 Y:列方向 Z:鉛垂方向 θa、θb、θc:傾斜角
圖1是示意性表示本發明的塗布裝置的第一實施方式的整體構成的圖。 圖2是自鉛垂上方觀察基板處理裝置的平面圖。 圖3是自圖2卸下塗布機構的平面圖。 圖4是示意性表示塗布平台上的開口部的配置結構的圖。 圖5是表示與開口部的配置結構對應的塗布特性的變化的圖表。 圖6是示意性表示本發明的塗布裝置的第二實施方式的塗布平台上的開口部的配置結構的圖。 圖7是示意性表示本發明的塗布裝置的第三實施方式的塗布平台上的開口部的配置結構的圖。 圖8是示意性表示本發明的塗布裝置的第四實施方式的塗布平台上的開口部的配置結構的圖。 圖9是示意性表示本發明的塗布裝置的第五實施方式的塗布平台上的開口部的配置結構的圖。 圖10是示意性表示本發明的塗布裝置的第六實施方式的塗布平台上的開口部的配置結構的圖。 圖11是示意性表示本發明的塗布裝置的第七實施方式的塗布平台上的開口部的配置結構的圖。
32:塗布平台
32A:上游側上浮區域
32B:塗布上浮區域
32C:下游側上浮區域
320、321、322:開口部
323:開口行
Da、Db、Dc:點線
Py1~Py9:列位置
X:移動方向
Y:列方向

Claims (11)

  1. 一種塗布裝置，包括：塗布平台，包含具有朝向上方噴出氣體的噴出口的多個開口部與具有抽吸氣體的抽吸口的多個開口部，使基板上浮至所述多個開口部的上方；基板移動部，使在所述塗布平台上上浮的所述基板沿移動方向移動；以及噴嘴，對藉由所述基板移動部而沿所述移動方向移動的所述基板的上表面供給處理液來進行塗布；並且所述塗布平台具有位於所述噴嘴的下方的塗布上浮區域、在所述移動方向上位於所述塗布上浮區域的上游側的上游側上浮區域及在所述移動方向上位於所述塗布上浮區域的下游側的下游側上浮區域，所述塗布上浮區域、所述上游側上浮區域及所述下游側上浮區域均在水平面內沿與所述移動方向正交的列方向排列沿著所述移動方向排列多個開口部而成的開口行而使所述基板上浮，在所述塗布上浮區域中，多個所述開口行相對於所述移動方向不傾斜配置，在所述上游側上浮區域及所述下游側上浮區域中，在多個所述開口行的所述開口行中將所述開口部劃分為三個排列組，各排列組沿與所述移動方向平行的方向排列，所述列方向上的各排列組的位置相互不同。
  2. 一種塗布裝置，包括：塗布平台，包含具有朝向上方噴出氣體的噴出口的多個開口部與具有抽吸氣體的抽吸口的多個開口部，使基板上浮至所述多個開口部的上方；基板移動部，使在所述塗布平台上上浮的所述基板沿移動方向移動；以及噴嘴，對藉由所述基板移動部而沿所述移動方向移動的所述基板的上表面供給處理液來進行塗布；並且所述塗布平台具有位於所述噴嘴的下方的塗布上浮區域、在所述移動方向上位於所述塗布上浮區域的上游側的上游側上浮區域及在所述移動方向上位於所述塗布上浮區域的下游側的下游側上浮區域，所述塗布上浮區域、所述上游側上浮區域及所述下游側上浮區域均在水平面內沿與所述移動方向正交的列方向排列沿著所述移動方向排列多個開口部而成的開口行而使所述基板上浮，在所述塗布上浮區域中，多個所述開口行相對於所述移動方向不傾斜配置，在所述上游側上浮區域中，在多個所述開口行的所述開口行中將所述開口部劃分為三個排列組，各排列組沿與所述移動方向平行的方向排列，所述列方向上的各排列組的位置相互不同，在所述下游側上浮區域中，在各開口行中將所述開口部劃分為三個排列組，各排列組的列位置分別與上游側上浮區域側的列 位置不同。
  3. 一種塗布裝置，包括：塗布平台，包含具有朝向上方噴出氣體的噴出口的多個開口部與具有抽吸氣體的抽吸口的多個開口部，使基板上浮至所述多個開口部的上方；基板移動部，使在所述塗布平台上上浮的所述基板沿移動方向移動；以及噴嘴，對藉由所述基板移動部而沿所述移動方向移動的所述基板的上表面供給處理液來進行塗布；並且所述塗布平台具有位於所述噴嘴的下方的塗布上浮區域、在所述移動方向上位於所述塗布上浮區域的上游側的上游側上浮區域及在所述移動方向上位於所述塗布上浮區域的下游側的下游側上浮區域，所述塗布上浮區域、所述上游側上浮區域及所述下游側上浮區域均在水平面內沿與所述移動方向正交的列方向排列沿著所述移動方向排列多個開口部而成的開口行而使所述基板上浮，在所述塗布上浮區域中，多個所述開口行相對於所述移動方向不傾斜配置，在所述上游側上浮區域及所述下游側上浮區域中，在多個所述開口行的所述開口行中將所述開口部劃分為三個排列組，各排列組沿與所述移動方向平行的方向排列，所述列方向上的各排列組的位置相互不同，所述上游側上浮區域與所述下游側上浮區域 隔著所述塗布上浮區域為對稱。
  4. 一種塗布裝置，包括：塗布平台，包含具有朝向上方噴出氣體的噴出口的多個開口部與具有抽吸氣體的抽吸口的多個開口部，使基板上浮至所述多個開口部的上方；基板移動部，使在所述塗布平台上上浮的所述基板沿移動方向移動；以及噴嘴，對藉由所述基板移動部而沿所述移動方向移動的所述基板的上表面供給處理液來進行塗布；並且所述塗布平台具有位於所述噴嘴的下方的塗布上浮區域、在所述移動方向上位於所述塗布上浮區域的上游側的上游側上浮區域及在所述移動方向上位於所述塗布上浮區域的下游側的下游側上浮區域，所述塗布上浮區域、所述上游側上浮區域及所述下游側上浮區域均在水平面內沿與所述移動方向正交的列方向排列沿著所述移動方向排列多個開口部而成的開口行而使所述基板上浮，在所述塗布上浮區域中，多個所述開口行相對於所述移動方向不傾斜配置，在所述上游側上浮區域及所述下游側上浮區域中，在多個所述開口行的所述開口行中將所述開口部劃分為兩個排列組，各排列組沿與所述移動方向平行的方向排列，所述列方向上的各排列組的位置相互不同。
  5. 如申請專利範圍第1項至第4項中任一項所述的塗布裝置，其中分開配置於所述多個列位置的所述開口行相對於所述移動方向傾斜配置。
  6. 如申請專利範圍第1項至第4項中任一項所述的塗布裝置，其中在所述多個開口行中交替地配置有具有所述噴出口的所述開口部與具有所述抽吸口的所述開口部。
  7. 如申請專利範圍第1項至第4項中任一項所述的塗布裝置，其中在所述列方向上相互鄰接的兩個所述開口行中的一者中配置有具有所述噴出口的所述開口部，在另一者中配置有具有所述抽吸口的所述開口部。
  8. 一種塗布方法，包括：第一步驟，一邊藉由上浮平台而使基板上浮至多個開口部的上方，一邊使所述基板沿移動方向移動，所述上浮平台包含具有朝向上方噴出氣體的噴出口的多個開口部與具有抽吸氣體的抽吸口的多個開口部；以及第二步驟，自噴嘴對沿所述移動方向移動的所述基板的上表面供給處理液來進行塗布；並且在所述第一步驟中，藉由所述上浮平台而使所述基板上浮，所述上浮平台中，在位於所述噴嘴的下方的塗布上浮區域、在所 述移動方向上位於所述塗布上浮區域的上游側的上游側上浮區域及在所述移動方向上位於所述塗布上浮區域的下游側的下游側上浮區域的所有區域中，在水平面內沿與所述移動方向正交的列方向排列沿著所述移動方向排列多個開口部而成的開口行，而且在所述塗布上浮區域中，多個所述開口行相對於所述移動方向不傾斜配置，在所述上游側上浮區域及所述下游側上浮區域中，在多個所述開口行的所述開口行中將所述開口部劃分為三個排列組，各排列組沿與所述移動方向平行的方向排列，所述列方向上的各排列組的位置相互不同。
  9. 一種塗布方法，包括：第一步驟，一邊藉由上浮平台而使基板上浮至多個開口部的上方，一邊使所述基板沿移動方向移動，所述上浮平台包含具有朝向上方噴出氣體的噴出口的多個開口部與具有抽吸氣體的抽吸口的多個開口部；以及第二步驟，自噴嘴對沿所述移動方向移動的所述基板的上表面供給處理液來進行塗布；並且在所述第一步驟中，藉由所述上浮平台而使所述基板上浮，所述上浮平台中，在位於所述噴嘴的下方的塗布上浮區域、在所述移動方向上位於所述塗布上浮區域的上游側的上游側上浮區域及在所述移動方向上位於所述塗布上浮區域的下游側的下游側上浮區域的所有區域中，在水平面內沿與所述移動方向正交的列方向排列沿著所述移動方向排列多個開口部而成的開口行，而且在 所述塗布上浮區域中，多個所述開口行相對於所述移動方向不傾斜配置，在所述上游側上浮區域中，在多個所述開口行的所述開口行中將所述開口部劃分為三個排列組，各排列組沿與所述移動方向平行的方向排列，所述列方向上的各排列組的位置相互不同，在所述下游側上浮區域中，在各開口行中將所述開口部劃分為三個排列組，各排列組的列位置分別與上游側上浮區域側的列位置不同。
  10. 一種塗布方法，包括：第一步驟，一邊藉由上浮平台而使基板上浮至多個開口部的上方，一邊使所述基板沿移動方向移動，所述上浮平台包含具有朝向上方噴出氣體的噴出口的多個開口部與具有抽吸氣體的抽吸口的多個開口部；以及第二步驟，自噴嘴對沿所述移動方向移動的所述基板的上表面供給處理液來進行塗布；並且在所述第一步驟中，藉由所述上浮平台而使所述基板上浮，所述上浮平台中，在位於所述噴嘴的下方的塗布上浮區域、在所述移動方向上位於所述塗布上浮區域的上游側的上游側上浮區域及在所述移動方向上位於所述塗布上浮區域的下游側的下游側上浮區域的所有區域中，在水平面內沿與所述移動方向正交的列方向排列沿著所述移動方向排列多個開口部而成的開口行，而且在所述塗布上浮區域中，多個所述開口行相對於所述移動方向不傾斜配置，在所述上游側上浮區域及所述下游側上浮區域中，在多 個所述開口行的所述開口行中將所述開口部劃分為三個排列組，各排列組沿與所述移動方向平行的方向排列，所述列方向上的各排列組的位置相互不同，所述上游側上浮區域與所述下游側上浮區域隔著所述塗布上浮區域為對稱。
  11. 一種塗布方法，包括：第一步驟，一邊藉由上浮平台而使基板上浮至多個開口部的上方，一邊使所述基板沿移動方向移動，所述上浮平台包含具有朝向上方噴出氣體的噴出口的多個開口部與具有抽吸氣體的抽吸口的多個開口部；以及第二步驟，自噴嘴對沿所述移動方向移動的所述基板的上表面供給處理液來進行塗布；並且在所述第一步驟中，藉由所述上浮平台而使所述基板上浮，所述上浮平台中，在位於所述噴嘴的下方的塗布上浮區域、在所述移動方向上位於所述塗布上浮區域的上游側的上游側上浮區域及在所述移動方向上位於所述塗布上浮區域的下游側的下游側上浮區域的所有區域中，在水平面內沿與所述移動方向正交的列方向排列沿著所述移動方向排列多個開口部而成的開口行，而且在所述塗布上浮區域中，多個所述開口行相對於所述移動方向不傾斜配置，在所述上游側上浮區域及所述下游側上浮區域中，在多個所述開口行的所述開口行中將所述開口部劃分為兩個排列組，各排列組沿與所述移動方向平行的方向排列，所述列方向上的各排列組的位置相互不同。
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