JP5412805B2 - アゾール系銅用防食剤含有水の処理方法 - Google Patents
アゾール系銅用防食剤含有水の処理方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5412805B2 JP5412805B2 JP2008295757A JP2008295757A JP5412805B2 JP 5412805 B2 JP5412805 B2 JP 5412805B2 JP 2008295757 A JP2008295757 A JP 2008295757A JP 2008295757 A JP2008295757 A JP 2008295757A JP 5412805 B2 JP5412805 B2 JP 5412805B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- azole
- water
- ozone
- copper
- anticorrosive
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 84
- AYWHENVLARCQQQ-UHFFFAOYSA-N copper;1h-pyrrole Chemical compound [Cu].C=1C=CNC=1 AYWHENVLARCQQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 55
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 34
- KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N Pyrrole Chemical compound C=1C=CNC=1 KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 53
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 26
- CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N Fe2+ Chemical compound [Fe+2] CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 25
- 229910001448 ferrous ion Inorganic materials 0.000 claims description 18
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 claims description 11
- 239000003518 caustics Substances 0.000 claims description 9
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 7
- 238000005949 ozonolysis reaction Methods 0.000 claims description 4
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 46
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 26
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 26
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 26
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 16
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 14
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 14
- 239000002351 wastewater Substances 0.000 description 13
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 12
- 238000005345 coagulation Methods 0.000 description 12
- 230000015271 coagulation Effects 0.000 description 12
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 11
- 238000005189 flocculation Methods 0.000 description 11
- 230000016615 flocculation Effects 0.000 description 11
- 150000003852 triazoles Chemical class 0.000 description 11
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 10
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 10
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 10
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 10
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 10
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- BAUYGSIQEAFULO-UHFFFAOYSA-L iron(2+) sulfate (anhydrous) Chemical compound [Fe+2].[O-]S([O-])(=O)=O BAUYGSIQEAFULO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 9
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 9
- -1 ultraviolet ray Chemical compound 0.000 description 9
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000011790 ferrous sulphate Substances 0.000 description 8
- 235000003891 ferrous sulphate Nutrition 0.000 description 8
- 229910000359 iron(II) sulfate Inorganic materials 0.000 description 8
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 description 6
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 6
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 6
- 238000006864 oxidative decomposition reaction Methods 0.000 description 6
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 6
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 6
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 5
- 230000003311 flocculating effect Effects 0.000 description 5
- RSYXKVFMEJGRDX-UHFFFAOYSA-N iron;1h-pyrrole Chemical compound [Fe].C=1C=CNC=1 RSYXKVFMEJGRDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 5
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 4
- 230000009897 systematic effect Effects 0.000 description 4
- NSPMIYGKQJPBQR-UHFFFAOYSA-N 4H-1,2,4-triazole Chemical compound C=1N=CNN=1 NSPMIYGKQJPBQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 3
- 150000003851 azoles Chemical class 0.000 description 3
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 3
- YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzothiazole-2-thiol Chemical compound C1=CC=C2SC(S)=NC2=C1 YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QWENRTYMTSOGBR-UHFFFAOYSA-N 1H-1,2,3-Triazole Chemical compound C=1C=NNN=1 QWENRTYMTSOGBR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CMGDVUCDZOBDNL-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-2h-benzotriazole Chemical compound CC1=CC=CC2=NNN=C12 CMGDVUCDZOBDNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021578 Iron(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 230000004931 aggregating effect Effects 0.000 description 2
- 229920006318 anionic polymer Polymers 0.000 description 2
- IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N benzothiazole Chemical compound C1=CC=C2SC=NC2=C1 IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L calcium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Ca+2] AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000000920 calcium hydroxide Substances 0.000 description 2
- 229910001861 calcium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000008394 flocculating agent Substances 0.000 description 2
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 2
- 235000014413 iron hydroxide Nutrition 0.000 description 2
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- NCNCGGDMXMBVIA-UHFFFAOYSA-L iron(ii) hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Fe+2] NCNCGGDMXMBVIA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000003002 pH adjusting agent Substances 0.000 description 2
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 description 2
- UGUHFDPGDQDVGX-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-thiadiazole Chemical compound C1=CSN=N1 UGUHFDPGDQDVGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YGTAZGSLCXNBQL-UHFFFAOYSA-N 1,2,4-thiadiazole Chemical compound C=1N=CSN=1 YGTAZGSLCXNBQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FKASFBLJDCHBNZ-UHFFFAOYSA-N 1,3,4-oxadiazole Chemical compound C1=NN=CO1 FKASFBLJDCHBNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MBIZXFATKUQOOA-UHFFFAOYSA-N 1,3,4-thiadiazole Chemical compound C1=NN=CS1 MBIZXFATKUQOOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODIRBFFBCSTPTO-UHFFFAOYSA-N 1,3-selenazole Chemical compound C1=C[se]C=N1 ODIRBFFBCSTPTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 1H-benzimidazole Chemical compound C1=CC=C2NC=NC2=C1 HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BAXOFTOLAUCFNW-UHFFFAOYSA-N 1H-indazole Chemical compound C1=CC=C2C=NNC2=C1 BAXOFTOLAUCFNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHGULLIUJBCTEF-UHFFFAOYSA-N 2-aminobenzothiazole Chemical compound C1=CC=C2SC(N)=NC2=C1 UHGULLIUJBCTEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JMTMSDXUXJISAY-UHFFFAOYSA-N 2H-benzotriazol-4-ol Chemical compound OC1=CC=CC2=C1N=NN2 JMTMSDXUXJISAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NNRAOBUKHNZQFX-UHFFFAOYSA-N 2H-benzotriazole-4-thiol Chemical compound SC1=CC=CC2=C1NN=N2 NNRAOBUKHNZQFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YTZPUTADNGREHA-UHFFFAOYSA-N 2h-benzo[e]benzotriazole Chemical compound C1=CC2=CC=CC=C2C2=NNN=C21 YTZPUTADNGREHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZDWPBMJZDNXTPG-UHFFFAOYSA-N 2h-benzotriazol-4-amine Chemical compound NC1=CC=CC2=C1NN=N2 ZDWPBMJZDNXTPG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KFJDQPJLANOOOB-UHFFFAOYSA-N 2h-benzotriazole-4-carboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC2=NNN=C12 KFJDQPJLANOOOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UCFUJBVZSWTHEG-UHFFFAOYSA-N 4-(2-methylphenyl)-2h-triazole Chemical compound CC1=CC=CC=C1C1=CNN=N1 UCFUJBVZSWTHEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XQHCBHNLRWLGQS-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methylphenyl)-2h-triazole Chemical compound CC1=CC=CC(C2=NNN=C2)=C1 XQHCBHNLRWLGQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZPCIKQLLQORQCV-UHFFFAOYSA-N 4-(4-methylphenyl)-2h-triazole Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1C1=NNN=C1 ZPCIKQLLQORQCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UTMDJGPRCLQPBT-UHFFFAOYSA-N 4-nitro-1h-1,2,3-benzotriazole Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC2=NNN=C12 UTMDJGPRCLQPBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JQSSWPIJSFUBKX-UHFFFAOYSA-N 5-(2-methylpropyl)-2h-benzotriazole Chemical compound C1=C(CC(C)C)C=CC2=NNN=C21 JQSSWPIJSFUBKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PZBQVZFITSVHAW-UHFFFAOYSA-N 5-chloro-2h-benzotriazole Chemical compound C1=C(Cl)C=CC2=NNN=C21 PZBQVZFITSVHAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZWTWLIOPZJFEOO-UHFFFAOYSA-N 5-ethyl-2h-benzotriazole Chemical compound C1=C(CC)C=CC2=NNN=C21 ZWTWLIOPZJFEOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUPSFAUIWDRKKZ-UHFFFAOYSA-N 5-methoxy-2h-benzotriazole Chemical compound C1=C(OC)C=CC2=NNN=C21 SUPSFAUIWDRKKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CCBSHAWEHIDTIU-UHFFFAOYSA-N 5-propyl-2h-benzotriazole Chemical compound CCCC1=CC=C2NN=NC2=C1 CCBSHAWEHIDTIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KLSJWNVTNUYHDU-UHFFFAOYSA-N Amitrole Chemical group NC1=NC=NN1 KLSJWNVTNUYHDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- JJLJMEJHUUYSSY-UHFFFAOYSA-L Copper hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Cu+2] JJLJMEJHUUYSSY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000005750 Copper hydroxide Substances 0.000 description 1
- VTLYFUHAOXGGBS-UHFFFAOYSA-N Fe3+ Chemical compound [Fe+3] VTLYFUHAOXGGBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N Oxazole Chemical compound C1=COC=N1 ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N Pyrazole Chemical compound C=1C=NNC=1 WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N Thiazole Chemical compound C1=CSC=N1 FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 239000000701 coagulant Substances 0.000 description 1
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 1
- 229910001956 copper hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001447 ferric ion Inorganic materials 0.000 description 1
- JKFAIQOWCVVSKC-UHFFFAOYSA-N furazan Chemical compound C=1C=NON=1 JKFAIQOWCVVSKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- NPZTUJOABDZTLV-UHFFFAOYSA-N hydroxybenzotriazole Substances O=C1C=CC=C2NNN=C12 NPZTUJOABDZTLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- ZLTPDFXIESTBQG-UHFFFAOYSA-N isothiazole Chemical compound C=1C=NSC=1 ZLTPDFXIESTBQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTAPFRYPJLPFDF-UHFFFAOYSA-N isoxazole Chemical compound C=1C=NOC=1 CTAPFRYPJLPFDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005374 membrane filtration Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 description 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 1
- 238000009287 sand filtration Methods 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 150000003536 tetrazoles Chemical class 0.000 description 1
- YGNGABUJMXJPIJ-UHFFFAOYSA-N thiatriazole Chemical compound C1=NN=NS1 YGNGABUJMXJPIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/52—Treatment of water, waste water, or sewage by flocculation or precipitation of suspended impurities
- C02F1/5236—Treatment of water, waste water, or sewage by flocculation or precipitation of suspended impurities using inorganic agents
- C02F1/5245—Treatment of water, waste water, or sewage by flocculation or precipitation of suspended impurities using inorganic agents using basic salts, e.g. of aluminium and iron
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/72—Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation
- C02F1/78—Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation with ozone
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2101/00—Nature of the contaminant
- C02F2101/30—Organic compounds
- C02F2101/38—Organic compounds containing nitrogen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2103/00—Nature of the water, waste water, sewage or sludge to be treated
- C02F2103/34—Nature of the water, waste water, sewage or sludge to be treated from industrial activities not provided for in groups C02F2103/12 - C02F2103/32
- C02F2103/346—Nature of the water, waste water, sewage or sludge to be treated from industrial activities not provided for in groups C02F2103/12 - C02F2103/32 from semiconductor processing, e.g. waste water from polishing of wafers
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Hydrology & Water Resources (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Water Supply & Treatment (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Treatment Of Water By Oxidation Or Reduction (AREA)
- Separation Of Suspended Particles By Flocculating Agents (AREA)
- Removal Of Specific Substances (AREA)
- Preventing Corrosion Or Incrustation Of Metals (AREA)
Description
本発明のアゾール系銅用防食剤含有水の処理方法で処理対象とするアゾール系銅用防食剤含有水としては特に制限はないが、本発明は特に、半導体デバイス製造プロセスにおけるCMP工程から排出される銅用防食剤としてのアゾール化合物を含む排水の処理に有効である。
本発明においては、アゾール系銅用防食剤含有水に第一鉄イオンを添加して、アゾール系銅用防食剤であるアゾール化合物を以下のような反応に従って、高分子量の鉄・アゾール系錯体として不溶化する。
Fe2++1/2O2+2(C2H2N2・NH)→(C2H2N2・N)2Fe+2H2O
以下に図面を参照して、第一鉄イオンをアゾール系銅用防食剤含有水に添加する本発明のアゾール系銅用防食剤含有水の処理方法の処理手順を具体的に説明する。
図1において、1は第1凝集槽、2は第2凝集槽、3は沈殿槽である。
本発明においては、上述のようにして、不溶性の鉄・アゾール系錯体を除去して得られた処理水に更にオゾンを注入して、残留するアゾール系銅用防食剤を含むTOC成分を分解除去することにより、より一層アゾール系銅用防食剤を高度に除去することができる。
(1) オゾンとアルカリの併用
(2) オゾンと過酸化水素の併用
(3) オゾンと過酸化水素とアルカリの併用
(4) オゾンと紫外線と過酸化水素の併用
などで行うことが好ましい。
以下に図面を参照して、第一鉄イオンをアゾール系銅用防食剤含有水に添加して処理した後の固液分離水をオゾン酸化する場合の処理手順を具体的に説明する。
図2において、11は凝集槽、12は沈殿槽、13は濾過装置、14はオゾン促進酸化反応槽である。
なお、以下の実施例の1〜5と比較例1〜13の試料水中のトリアゾール濃度は(株)島津製作所製TOC計「5000A」で定量した。また、実施例6と比較例14〜17については、ヒューレット・パッカード社製の液体クロマトグラフシステム1100シリーズで定量した。
図1に示す処理装置で、1,2,4−トリアゾールをTOCとして300mg/L含有する水(pH6.5)を原水として処理を行った。
なお、凝集処理に際しては、必要に応じてpH調整剤として酸(塩酸)又はアルカリ(水酸化ナトリウム)を添加した。
硫酸第一鉄の代りに塩化第二鉄を用い、その添加量と第1凝集槽1及び第2凝集槽2のpH条件を表1に示す条件としたこと以外は実施例1〜5と同様にして処理を行い、得られた処理水のTOC濃度を表1に示した。
硫酸第一鉄の代りに硫酸バンドを用い、その添加量と第1凝集槽1及び第2凝集槽2のpH条件を表1に示す条件としたこと以外は実施例1〜5と同様にして処理を行い、得られた処理水のTOC濃度を表1に示した。
これに対して、塩化第二鉄や硫酸バンドでは、その添加量を増やしても、トリアゾールを殆ど除去することはできなかった(比較例1〜13)。
トリアゾールをTOC濃度として180mg/L含む排水を原水(TOCとして360mg/L)として、これに硫酸第一鉄を5000mg/L(トリアゾールに対して2.4モル倍)添加し、塩酸でpH3に調整して30分間撹拌した。その後、水酸化カルシウムを添加してpH10に調整した後、20分間撹拌し、更にアニオン系高分子凝集剤(栗田工業(株)製「PA−331」)を2.0mg/L添加して20分間撹拌して凝集処理した後、No.5濾紙(ADVANTEC社製)で濾過した。得られた凝集処理水のTOC濃度は表2に示す通りであった。
オゾン濃度×流量×オゾン注入時間/1000
=150g/Nm3×2NL/分×オゾン注入時間(分)/1000
なお、過酸化水素の添加量はO3/H2O2(重量比)で5.0とした。
実施例6において、原水の凝集処理に当たり、硫酸第一鉄の代りにポリ硫酸第二鉄を用い、オゾン注入量を表2に示す量としたこと以外は同様にして処理を行い、結果を表1に示した。
実施例6において、原水の凝集処理を行わず、原水を直接オゾン促進酸化処理を行い、その際のオゾン注入量を表2に示す量としたこと以外は同様にして処理を行い、結果を表1に示した。
2 第2凝集槽
3 沈殿槽
11 凝集槽
12 沈殿槽
13 濾過装置
14 オゾン促進酸化反応槽
Claims (3)
- アゾール系銅用防食剤を含有する水に第一鉄イオンを添加して、生成する不溶性の鉄・アゾール系錯体を分離するアゾール系銅用防食剤含有水の処理方法であって、
該第一鉄イオンの添加量は、該アゾール系銅用防食剤を含有する水中のアゾール系銅用防食剤に対してモル比で0.5〜5.0倍であり、該鉄・アゾール系錯体を析出させる際のpHが4〜8であることを特徴とするアゾール系銅用防食剤含有水の処理方法。 - 請求項1において、前記不溶性の鉄・アゾール系錯体を分離した後、残留するTOC成分をオゾン分解することを特徴とするアゾール系銅用防食剤含有水の処理方法。
- 請求項1又は2において、アゾール系銅用防食剤を含有する水が、半導体デバイス製造プロセスにおけるCMP工程から排出される水であることを特徴とするアゾール系銅用防食剤含有水の処理方法。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008295757A JP5412805B2 (ja) | 2008-11-19 | 2008-11-19 | アゾール系銅用防食剤含有水の処理方法 |
US12/998,583 US8801937B2 (en) | 2008-11-19 | 2009-10-21 | Process for treatment of water containing azole-type anticorrosive for copper |
KR1020117010674A KR101653128B1 (ko) | 2008-11-19 | 2009-10-21 | 아졸계 구리용 방식제 함유수의 처리 방법 |
PCT/JP2009/068112 WO2010058674A1 (ja) | 2008-11-19 | 2009-10-21 | アゾール系銅用防食剤含有水の処理方法 |
CN200980146183.5A CN102216226B (zh) | 2008-11-19 | 2009-10-21 | 含有唑系铜用防腐蚀剂的水的处理方法 |
TW098138075A TWI457292B (zh) | 2008-11-19 | 2009-11-10 | A method for treating water containing a corrosion inhibitor for azole-based copper |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008295757A JP5412805B2 (ja) | 2008-11-19 | 2008-11-19 | アゾール系銅用防食剤含有水の処理方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010119956A JP2010119956A (ja) | 2010-06-03 |
JP5412805B2 true JP5412805B2 (ja) | 2014-02-12 |
Family
ID=42198113
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008295757A Active JP5412805B2 (ja) | 2008-11-19 | 2008-11-19 | アゾール系銅用防食剤含有水の処理方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8801937B2 (ja) |
JP (1) | JP5412805B2 (ja) |
KR (1) | KR101653128B1 (ja) |
CN (1) | CN102216226B (ja) |
TW (1) | TWI457292B (ja) |
WO (1) | WO2010058674A1 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20150353392A1 (en) * | 2014-06-05 | 2015-12-10 | Infilco Degremont, Inc. | Ozone oxidation process for treatment of water containing azoles and azole-type compounds |
WO2016012969A1 (en) * | 2014-07-24 | 2016-01-28 | Reliance Industries Limited | A method and appartus for separation of colloidal suspension from a solution of organic compound, such as monoethylene glycol |
JP6841721B2 (ja) * | 2017-05-23 | 2021-03-10 | メタウォーター株式会社 | 水処理システム |
TW202110749A (zh) * | 2019-08-26 | 2021-03-16 | 美商伊芙卡水科技有限公司 | 唑的處理 |
CN112811650A (zh) * | 2020-12-25 | 2021-05-18 | 安徽顺恒信新材料有限公司 | 一种处理苯并三氮唑含盐废水的环保装置 |
WO2024026215A1 (en) | 2022-07-25 | 2024-02-01 | Bl Technologies, Inc. | Method and system for removing azole-based compounds from a wastewater |
Family Cites Families (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0440291A (ja) * | 1990-06-01 | 1992-02-10 | Fuji Photo Film Co Ltd | 写真処理廃液の処理方法 |
JPH09117763A (ja) * | 1995-10-27 | 1997-05-06 | Asahi Chem Ind Co Ltd | ケミカルメカニカルポリッシング廃水処理方法 |
JP3466801B2 (ja) * | 1995-12-28 | 2003-11-17 | 株式会社日鉱マテリアルズ | アゾール系シランカップリング剤を含有する排水を金属含有排水と共に処理する方法 |
JPH10118665A (ja) * | 1996-10-15 | 1998-05-12 | Kurita Water Ind Ltd | Nh4系cmp廃液の処理方法 |
JPH10314763A (ja) * | 1997-05-21 | 1998-12-02 | Taiyo Kagaku Kogyo Kk | 有機物含有廃液の処理方法 |
US6238571B1 (en) | 1998-09-15 | 2001-05-29 | Massachusetts Institute Of Technology | Removal of contaminant metals from waste water |
JP2001334275A (ja) | 2000-05-26 | 2001-12-04 | Shin Etsu Handotai Co Ltd | ウェーハ加工工程排水の処理方法 |
US6582605B2 (en) * | 2000-07-07 | 2003-06-24 | Ionics, Incorporated | Method of treating industrial waste waters |
JP2002035773A (ja) * | 2000-07-27 | 2002-02-05 | Hitachi Plant Eng & Constr Co Ltd | ベンゾトリアゾール含有廃水の処理方法及び装置 |
JP2003035963A (ja) | 2001-07-24 | 2003-02-07 | Kanto Chem Co Inc | フォトレジスト残渣除去液組成物 |
US20050067347A1 (en) * | 2001-09-10 | 2005-03-31 | Sophie Vanhulle | Sustainable process for the treatment and detoxification of liquid waste |
JP2003236571A (ja) * | 2002-02-14 | 2003-08-26 | Hitachi Plant Eng & Constr Co Ltd | 銅含有有機性廃水の処理方法 |
WO2004011120A1 (en) * | 2002-07-26 | 2004-02-05 | Mark Hernandez | Removing metals from solution using metal binding compounds and sorbents therefor |
US20060243604A1 (en) * | 2003-04-30 | 2006-11-02 | Sota Nakagawa | Method and apparatus for treating waste water |
JP4233485B2 (ja) * | 2003-11-06 | 2009-03-04 | 三洋電機株式会社 | 凝集剤製造装置および凝集剤の製造方法 |
JP4271079B2 (ja) * | 2004-05-17 | 2009-06-03 | 株式会社東芝 | 防食剤の処理方法および処理装置 |
JP2006051468A (ja) * | 2004-08-16 | 2006-02-23 | Japan Organo Co Ltd | 過硫酸塩含有排水の処理方法 |
JP4722776B2 (ja) | 2006-06-21 | 2011-07-13 | オルガノ株式会社 | 排水処理方法及び装置 |
-
2008
- 2008-11-19 JP JP2008295757A patent/JP5412805B2/ja active Active
-
2009
- 2009-10-21 KR KR1020117010674A patent/KR101653128B1/ko active IP Right Grant
- 2009-10-21 CN CN200980146183.5A patent/CN102216226B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2009-10-21 US US12/998,583 patent/US8801937B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2009-10-21 WO PCT/JP2009/068112 patent/WO2010058674A1/ja active Application Filing
- 2009-11-10 TW TW098138075A patent/TWI457292B/zh not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW201031605A (en) | 2010-09-01 |
US8801937B2 (en) | 2014-08-12 |
CN102216226A (zh) | 2011-10-12 |
US20120006755A1 (en) | 2012-01-12 |
TWI457292B (zh) | 2014-10-21 |
KR20110101130A (ko) | 2011-09-15 |
JP2010119956A (ja) | 2010-06-03 |
WO2010058674A1 (ja) | 2010-05-27 |
KR101653128B1 (ko) | 2016-09-01 |
CN102216226B (zh) | 2013-06-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5412805B2 (ja) | アゾール系銅用防食剤含有水の処理方法 | |
JP2007125521A (ja) | 廃水の処理装置および方法 | |
JP2007130518A (ja) | キレート剤含有水のフッ素・リン処理方法および装置 | |
US20220298045A1 (en) | Treatment of Azoles | |
JP2009274008A (ja) | 廃水処理装置および廃水処理方法 | |
JP2002316173A (ja) | 砒素及び過酸化水素を含有する排水の処理方法 | |
JP5720722B2 (ja) | 難生物分解性有機物含有水の処理方法及び処理装置 | |
JP2009125708A (ja) | Cmp排水の処理方法 | |
JP2007319816A (ja) | 水処理装置及び水処理方法 | |
KR100368951B1 (ko) | 제강분진을 반응촉매로 재활용한 고농도 유기성 폐수의처리방법 및 장치 | |
JP4552164B2 (ja) | 廃液の処理方法 | |
JP2005224686A (ja) | ヒ素の除去方法 | |
JP2010089051A (ja) | リン酸、硝酸および有機酸含有水の処理方法および処理装置 | |
JP2010155181A (ja) | トリアゾール誘導体含有排水の生物処理方法 | |
JP4527896B2 (ja) | 排水処理装置 | |
JP2002326088A (ja) | リン、cod含有水の処理方法及び装置 | |
JP2021074663A (ja) | 排水処理方法および排水処理システム | |
WO2024129837A1 (en) | Reduction of ferrous iron from azole-treated wastewater | |
JP4156820B2 (ja) | 有機性廃水の処理方法及び処理装置 | |
TW202432478A (zh) | 減少經唑處理之廢水中之二價鐵 | |
JP4524796B2 (ja) | フッ素含有排水の処理方法及び処理装置 | |
JP5063975B2 (ja) | 有機性排水の処理方法及び処理装置 | |
JP4854706B2 (ja) | 有機性廃水の処理方法及び処理装置 | |
JP2002018453A (ja) | 亜硝酸含有排水の処理方法 | |
JP2022054063A (ja) | マンガン及び鉄含有水の処理方法及び装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20111018 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130709 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130730 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20131015 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20131028 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5412805 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |