JPH10314763A - 有機物含有廃液の処理方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】ドライフィルム処理廃液のような高ＣＯＤかつ
合成高分子化合物を含有する廃液について焼却処理に代
わる、短時間にＣＯＤを減らせる、簡便、経済的に使用
できる処理方法を提供すること。 【構成】廃液の固形分を固液分離工程により分離し除去
する処理を行った後、過酸化水素の添加、紫外線照射及
びオゾンの添加の少なくとも２つの酸化手段又はアルカ
リ性下におけるオゾンの添加による酸化手段を設けた有
機物分解除去処理工程を行なう。その後に微生物処理工
程を設ける。 【効果】上記目的を達成し、中小事業所においても利用
し易く、環境汚染を生じない。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、特にプリント配線板製
造時に排出されるドライフィルム処理廃液等の高ＣＯＤ
濃度で、かつ合成高分子化合物を含む難分解性有機物を
含有する有機物含有廃液の処理方法に関するものであ
る。

【０００２】

【従来の技術】近年、家庭や事業所から自然界に排出さ
れる排水中に含まれる有機物による環境汚染が問題視さ
れており、排水のＢＯＤ及びＣＯＤの濃度規制や、さら
にはそれらの総量規制などが行われている。自然界への
排水が可能になるためのいわゆる排水処理に関しては、
これらの規制値を越える有機物を含む廃水の処理方法と
して、活性汚泥法に代表される生物処理法や、オゾン酸
化処理法、紫外線照射による酸化処理法が用いられてい
る。活性汚泥法とは、有機物を含む廃水に空気を吹き込
んでその有機物を栄養にして微生物を繁殖させ、これに
より汚泥のフロックを生じさせてそのフロックを沈降さ
せ、その透明な上澄み液を処理液とする方法であり、オ
ゾン酸化処理法とは、廃水にオゾンを吹き込み、オゾン
の酸化力で廃水中の有機物を分解する方法であり、紫外
線照射による酸化処理法とは、廃水に紫外線を照射し、
その紫外線の酸化・殺菌能力で排水中の有機物を分解す
る方法である。ところで、プリント配線板用のレジスト
材料として、いわゆるドライフィルムが使用されている
が、このドライフィルムは、例えば銅箔を張り合わせた
基板のその銅箔面に貼り合わされ、その上に電子回路パ
ターンに沿った露光が行われ、その未露光部分のフィル
ムが現像液で除去されてその部分の銅箔面が露出され、
この露出した銅箔面がエッチング液によるエッチングに
より除去されて露光部分のフィルムに覆われた銅箔面だ
けが残され、最後にこの露光部分のフィルムが剥離液で
除去されて上記電子回路パターンが形成される、いわゆ
るプリント配線板を製造するときの材料であり、上記現
像液で未露光部分のドライフィルムを除去する際にいわ
ゆるドライフィルム現像廃液を生じ、上記剥離液で露光
部分のドライフィルムを除去する際にいわゆるドライフ
ィルム剥離廃液を生じる。ドライフィルム現像廃液は、
炭酸ナトリウムを主成分とし、ポリエチレングリコール
等の消泡剤その他の添加剤を含有することがある水溶液
からなる現像液に、未露光のドライフィルムが溶解又は
膨潤して含有された廃液であり、他方、ドライフィルム
剥離廃液は、水酸化ナトリウムを主成分とし、その他添
加剤を含有することがある水溶液からなる剥離液に、露
光後のドライフィルムが溶解又は膨潤して含有された廃
液であり、いずれもドライフィルムの材料であるアルカ
リ可溶性又は膨潤性の感光性合成高分子化合物、架橋
剤、光重合開始剤等の感光性組成物を、一方はその感光
性合成高分子化合物の未架橋状態で、他方はその感光性
合成高分子化合物の架橋状態で含有するのが一般的であ
る。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、それぞ
れの廃液あるいは両者を混合した混合廃液のいわゆるド
ライフィルム処理廃液のいずれも、数千ｐｐｍ程度の高
ＣＯＤ濃度の有機物を含有し、しかもその有機物の中に
難分解性の感光性合成高分子化合物や消泡剤等の合成高
分子化合物を含有する廃液となるため、ＣＯＤ濃度にし
て数十から百数十ｐｐｍという低濃度の廃液を対象にし
た上記の処理法はいずれも使用し難く、燃焼による焼却
処理が行われている。焼却処理を行うには、燃焼を行う
ために水分を蒸発させる必要があり、そのために多量の
エネルギーが必要となるのみならず、低沸点化合物や燃
焼物の蒸発物を自然界に放出するときは、その蒸発物の
中には有毒ガスが含まれることが避けられないので、環
境を悪化させたり、また、そうしないための設備をする
と、コストがかかり過ぎ、特に中小の事業所ではその所
内での処理が難しく、産業廃棄物処理業者などに廃液処
理を委託せざるを得なかった。このように、ドライフィ
ルム処理廃液のような数千ｐｐｍ程度の高ＣＯＤ濃度の
有機物を含有し、しかもその有機物の中に難分解性の合
成高分子化合物を含有する廃液の場合には、廃液を短時
間で、比較的簡単に数ｐｐｍのＣＯＤ値にする処理方法
は見出されていないのが現状である。

【０００４】本発明の第１の目的は、特に高ＣＯＤ濃度
の有機物を含有し、しかもその有機物の中に難分解性の
合成高分子化合物を含有する廃液を短時間で、比較的簡
単にＣＯＤ濃度を減少することができる有機物含有廃液
の処理方法を提供することにある。本発明の第２の目的
は、そのＣＯＤ濃度を減少させて、微生物処理法を適用
し易くすることにある。本発明の第３の目的は、高ＣＯ
Ｄ濃度の有機物を含有し、しかもその有機物の中に難分
解性の合成高分子化合物を含有する廃液を焼却処理する
ことの必要がなく、その焼却処理にともなう問題点を生
じることがないようにできる有機物含有廃液の処理方法
を提供することにある。本発明の第４の目的は、コスト
がかからず、中小の事業所でも使用できる有機物含有廃
液の処理方法を提供することにある。本発明の第５の目
的は、自然界に放出しても環境汚染を生じることがない
処理液が得られる有機物含有廃液の処理方法を提供する
ことにある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明は、上記課題を解
決するために、（１）、分解処理されるべき有機物を含
有しかつ該有機物中に合成高分子化合物を含有する廃液
の処理方法において、該廃液の原液から固形分を分離し
除去する処理をする固液分離工程と、該固液分離工程で
固形分を分離する処理をされた後の被処理液について酸
化処理手段により該被処理液に残留する有機物の分解除
去処理を行なう有機物分解除去処理工程を有し、該酸化
処理手段は上記被処理液に対して過酸化水素を含有させ
る酸化手段、オゾンを含有させる酸化手段及び紫外線照
射を行う酸化手段の内少なくとも２つの酸化手段又はア
ルカリ性下にオゾンを含有させる酸化手段を有する有機
物含有廃液の処理方法を提供するものである。また、本
発明は、（２）、分解処理されるべき有機物を含有しか
つ該有機物中に合成高分子化合物を含有しかつ該合成高
分子化合物中にアルカリ液に可溶又は膨潤する合成高分
子化合物を含有するアルカリ性の廃液の処理方法におい
て、酸の添加によりｐＨを調整し懸濁液を生成するｐＨ
調整工程と、該ｐＨ調整工程でｐＨ調整された被処理液
の懸濁液について固体分の懸濁粒子を分離し除去する処
理をする固液分離工程と、該固液分離工程で固体分の懸
濁粒子を分離する処理をされた後の被処理液について酸
化処理手段により該被処理液に残留する有機物の分解除
去処理を行なう有機物分解除去処理工程を有し、該酸化
処理手段は上記被処理液に対して過酸化水素を含有させ
る酸化手段、オゾンを含有させる酸化手段及び紫外線照
射を行う酸化手段の内少なくとも２つの酸化手段又はア
ルカリ性下にオゾンを含有させる酸化手段を有する有機
物含有廃液の処理方法、（３）、有機物分解除去処理工
程の後に微生物処理工程を有する上記（１）又は（２）
の有機物含有廃液の処理方法、（４）、有機物分解除去
処理工程は微生物処理工程により処理が行なえるＣＯＤ
濃度まで処理を行なう上記（１）ないし（３）のいずか
の有機物含有廃液の処理方法、（５）、酸化処理手段は
被処理液に対して過酸化水素を含有させる酸化手段、オ
ゾンを含有させる酸化手段及び紫外線照射を行なう酸化
手段の３者を併用する上記（１）ないし（４）のいずか
の有機物含有廃液の処理方法、（６）、廃液はプリント
配線板製造時におけるレジスト材料のドライフィルムを
処理した処理液を含有するドライフィルム処理廃液であ
る上記（１）ないし（５）のいずれかの有機物含有廃液
の処理方法を提供するものである。

【０００６】本発明において、「分解処理されるべき有
機物」とは、例えば高ＣＯＤ値（例えば千〜４０００千
の数千ｐｐｍ程度）の廃液中の有機物であり、この有機
物にはいわゆる難分解性有機物である合成高分子化合物
を含有する。また、「廃液」とは、上述したドライフィ
ルム処理廃液、すなわちドライフィルム現像廃液、ドラ
イフィルム剥離廃液及びこれらの混合廃液を含有する廃
液が挙げられるが、プリント配線板用の他のレジスト材
料の処理廃液、水性塗料、水性インキその他の水性の被
覆組成物の廃液、アルカリ液、酸性液、中性水により合
成樹脂フィルムや合成繊維あるいはこれらの材料を溶解
した廃液その他のこれらに類する廃液が挙げられる。ド
ライフィルム現像廃液、ドライフィルム剥離廃液には上
述したように、前者にはアルカリ可溶性又は膨潤性の感
光性高分子化合物が架橋剤や光重合開始剤その他の成分
と共に未架橋状態で含有され、後者にはその感光性高分
子化合物が架橋剤で光重合開始剤により架橋した状態で
含有されている廃液が一般的であり、アルカリ可溶性又
は膨潤性とは、プリント基板に貼り合わせたドライフィ
ルムをその露光前後のいずれのものもアルカリ液で溶解
又は膨潤させて除去できるようなものをいい、特にドラ
イフィルム剥離廃液の場合はその除去は剥離によること
が多いが、これに限らずサンドプラスト用の感光性高分
子化合物のようにアルカリ水のみならずその他の水溶液
や水によりプリント基板に貼り合わせたドライフィルム
をその露光前後のいずれのものも除去できる非イオン性
の親水性感光性高分子化合物（露光後は架橋）が単独あ
るいは他の成分とともに含有されている廃液でもよい。
このような廃液に含有されるドライフィルムについて、
その製造をするのに用いる材料としては、アクリル系共
重合体、エチレン性不飽和化合物等の架橋剤、ベンゾフ
ェノン系やイミダゾール系等の光重合開始剤、その他必
要に応じ染料等の添加剤からなる感光性組成物が挙げら
れるが、具体的には例えば特開平６−２７６６５号公
報、特開平６−２７４３５号公報、特開平６−１４８８
８１号公報、特開平５−３３３５４２号公報、特開平５
−３２３５８９号公報、特開平５−２１６２２９号公
報、特開平６−１６１１０３号公報、特開平６−１６１
０９７号公報（サンドプラスト用）等に記載された材料
が挙げられ、廃液にもそれぞれ使用した材料が未露光あ
るいは露光された状態で含まれる。

【０００７】本発明において、「固液分離工程」とは、
廃液の固形分をその他の液状分から分離し除去する処理
をする工程であり、上述のようにアルカリ液の現像液、
剥離液を使用した場合には、廃液はアルカリ性になるの
で硫酸等の鉱酸その他の酸を加えて中和することにより
懸濁液を生成するｐＨ調整工程を設け、濾過することに
よりその固体分の懸濁粒子（固形分の一部）を分離して
除去でき、これによりその濾過液を一次処理液の被処理
液とすることができ、この方法は操作が簡単で好ましい
が、これにかぎらず、酸性の廃液の場合には逆の操作を
すればよく、また、これら廃液の場合もその他の廃液の
場合と同様に濃縮蒸留を行なって、固形分を分離して除
去し、その蒸留液を一次処理液の被処理液とすることも
できる。本発明において、「固形分を分離して除去する
処理」とは、「固形分」は蒸発乾固することによる残留
物をいい、結果的には一次処理水に固形分が残留する
が、その残留する固形分の有機物が後続の有機物分解除
去処理工程で処理することができる濃度になればよく、
そのように処理をすることをいう。

【０００８】固液分離工程を経た被処理水は、その残存
する有機物を酸化処理手段により分解除去処理を行なう
有機物分解処理工程に付されるが、その酸化処理手段
は、上記一次処理液の被処理液に対して過酸化水素を含
有させる酸化手段、オゾンを含有させる酸化手段及び紫
外線照射を行なう酸化手段の内少なくとも２つの酸化手
段、すなわち３つの酸化手段の内の任意の２つの組み合
わせ及び３つ全部の組み合わせの中から任意に選択でき
るが、そのほかにアルカリ性下にオゾンを含有させる酸
化手段も任意に選択することができる。ここで、「紫外
線照射」における、その発生源としては、高圧水銀灯、
低圧水銀灯、オゾン灯の中から少なくとも１つが選択さ
れる。高圧水銀灯としては主波長が３６５ｎｍ、低圧水
銀灯としては主波長が２５４ｎｍの紫外線、オゾン灯と
しては１８５ｎｍの波長を含む低圧水銀灯が挙げられ
る。これらの水銀灯、オゾン灯は処理しようとする廃水
中に設けその廃水内部から紫外線を照射することが有機
物の分解効率の点で好ましいが、その方法には光源を廃
水中に設けても良く、また、これらの灯壁に廃水を噴霧
状あるいは流下させ、灯壁を廃水で覆うようにしても良
い。更に、これらの廃水を循環させながら光照射させて
も良い。

【０００９】また、「被処理液に対して過酸化水素を含
有させる」とは、被処理液に対して過酸化水素水を添加
することが簡単な方法の一つであるが、被処理液中に過
酸化水素を含有させる場合には、その含有量は処理する
当初のＣＯＤ、すなわち初期ＣＯＤの１ｇ／ｌ（リット
ル）当たり、０．０１〜６０ｇ／ｌが好ましい。すなわ
ち、ＣＯＤはｐｐｍすなわちｍｇ／ｌで示されるので、
その１ｇ／ｌ当たりに換算した過酸化水素の量としてこ
の範囲が好ましい。少な過ぎると有機物を分解させる反
応途中で過酸化水素が消費し尽くされる場合があり、有
機物の分解を十分に行うことができず、多過ぎると自己
分解等により、有機物の分解に寄与しない過酸化水素が
多く、無駄である。なお、分解反応中に、過酸化水素が
消費され、有機物の分解が十分に行われる以前に残留過
酸化水素が１０ｐｐｍ以下になった場合、必要量を再添
加しても良い。また、反応初期から、必要量の過酸化水
素を連続的あるいは断続的に添加し続けても良い。

【００１０】この際、過酸化水素とともに２価の鉄イオ
ン及び１価の銅イオンの少なくとも１種を加えると、後
述する化学式で示すようにレドックス系を形成させるこ
とができ、・ＯＨ（ＯＨラジカル）を急激に発生させる
ことができ、それだけ有機物の分解効率を高めることが
できる。２価の鉄イオンの供給源としては、硫酸第１鉄
７水和物、臭化第１鉄４水和物、塩化第１鉄ｎ水和物等
の化合物が挙げられ、１価の銅イオンの供給源としては
臭化銅、塩化銅、ロダン塩等の化合物が挙げられるが、
その対イオンとしては水中に残留しても無害であるもの
ほど好ましい。これらの金属イオンを処理しようとする
被処理液中に含有させる量は、２価の鉄イオンとしては
２ｐｐｂ〜１０００ｐｐｍが好ましく、１価の銅イオン
としては２ｐｐｂ〜１０００ｐｐｍが好ましい。これら
金属イオンの添加量は、少ないとＯＨラジカルを急激に
発生させる効果が少なく、多過ぎると残留イオンが多く
なり過ぎ、好ましくないことがある。過酸化水素と２価
の鉄イオン、１価の銅イオンによる後述のレドックス系
は、被処理液のｐＨを好ましくは１〜４、より好ましく
は１．５〜３．０に調整することにより、その反応が促
進され、好ましく、オゾンによる酸化処理を併用する場
合もこの条件で処理するができるが、オゾンによる酸化
処理を併用する場合は被処理液のｐＨをアルカリ性にす
ると後述するようにオゾンの自己分解を起こさせること
ができる。上記の酸性にする際、薬剤としては、硫酸、
硝酸、塩酸等の酸を用いても良い。過酸化水素と２価の
鉄イオン及び１価の銅イオンの少なくとも１種を併用す
る系の場合には、上記高圧水銀灯、低圧水銀灯、オゾン
灯のいずれの使用も好ましいが、有機物の分解効率では
後者程良い。高圧水銀灯は低圧水銀灯に比べ、単位長さ
当たりの出力を容易に大きくすることができることがで
きるため、装置の小型化、あるいは高出力化を検討する
場合に適する。

【００１１】また、「被処理液に対してオゾンを含有さ
せる」とは、被処理液に対してオゾン（Ｏ₃ ）又はオゾ
ン含有ガスを吹き込むことでもよく、その際散気管を用
いてもよいが、渦流ポンプを用いると高濃度のオゾンを
被処理液に溶け込ませることができる点では好ましい。
その際、処理しようとする被処理液中にオゾン又はオゾ
ン含有ガスを吹き込みながら処理してもよく、その場
合、オゾンとして被処理液１リットルに対して１０〜５
０００ｍｇ／ｈｒで添加するするのが好ましく、その量
が少な過ぎると有機物を分解する反応速度が遅くなり、
その量が多過ぎると、十分に溶け込まず無駄になる。ま
た、同様の濃度になるように予めオゾンを吹き込む等に
より被処理液に溶存させて処理しても良く、また、紫外
線照射を併用する場合には灯壁に被処理液を噴霧あるい
は流下させる場合はオゾン存在下にその操作を行っても
良い。後述する化学式で示すように、オゾンは２５４ｎ
ｍ付近の波長の光を吸収し、分解するため、オゾン存在
下に被処理水を処理する場合には、高圧水銀灯より２５
４ｎｍの光を効率よく照射する低圧水銀灯、オゾン灯を
用いることが好ましいが、この限りではない。

【００１２】上記酸化処理手段の具体的に作用として
は、過酸化水素と紫外線が共存するとき、過酸化水素は
紫外線が照射されて・ＯＨラジカルが生成する。また、
オゾンと紫外線が共存するとき、オゾンは紫外線照射に
よって分解し反応初期の酸素原子が生成する。また、オ
ゾンと過酸化水素が共存するとき、過酸化水素の分解が
オゾンにより促進され、・ＯＨラジカルが生成する。そ
してオゾン単体も酸化力が強い。・ＯＨラジカルは水素
の引抜き、ＯＨ基の付加に効果的に働き、反応初期の酸
素原子は分解し易い過酸化物の生成に、オゾン分子は炭
素−炭素間の二重結合を切ることに効果的に働く。これ
らの・ＯＨラジカルと反応初期の酸素原子の２種類の中
間生成物とオゾン単体の酸化力により、上記の従来の方
法では得られなかった有機物の分解能力を生みだすこと
ができる。上記した過酸化水素存在下での紫外線の照
射、オゾン存在下での紫外線の照射により、被処理液中
の有機物が分解する機構は、その紫外線のエネルギーに
より有機物が分解するものであるが、その際過酸化水素
が存在した場合、過酸化水素と２価の鉄イオン、１価の
銅イオンが存在した場合、オゾンが存在した場合、以下
の反応が起こり（紫外線の波長は好ましい例）、・ＯＨ
のラジカルが発生する。 （ａ）過酸化水素が存在した場合 Ｈ₂ Ｏ₂ −（紫外線）→ ２・ＯＨ・・・・ （ｂ）過酸化水素と２価の鉄イオンが存在した場合（いわゆるレドックス系） Ｈ₂ Ｏ₂ ＋Ｆｅ²⁺ → ・ＯＨ＋ＯＨ^- ＋Ｆｅ³⁺・・・ （ｃ）過酸化水素と１価の銅イオンが存在した場合（いわゆるレドックス系） Ｈ₂ Ｏ₂ ＋Ｃｕ⁺ → ・ＯＨ＋ＯＨ^- ＋Ｃｕ²⁺・・・ （ｄ）オゾンが存在した場合 Ｏ₃ −（主波長２５４ｎｍ付近の紫外線）→ Ｏ₂ ＋Ｏ（¹ Ｄ）・・・ Ｏ（¹ Ｄ）＋Ｈ₂ Ｏ → ２・ＯＨ ・・・ なお、上記においてＯ（¹ Ｄ）は反応初期の酸素を示
す。

【００１３】これらの化学式、、、により発生
する・ＯＨが活性種となる。このラジカル（遊離基）と
有機物の反応は極めて速い。このラジカル・ＯＨと有機
物との反応機構は不飽和結合の水素の引き抜きによる二
重結合の開裂反応や、二重結合や芳香核への付加反応が
知られており、同様な機構において被処理液中の高濃度
有機物あるいは難分解性有機物と反応し、これら有機物
を酸化分解するものと考えられるが、これに限定される
ものではない。なお、過酸化水素とオゾンの存在下に紫
外線を照射した場合も上記（ａ）〜（ｄ）に準じて考え
ることがてきる。

【００１４】上記の３つの酸化処理手段は任意の２つ又
は３つの全部を併用できるが、その際、オゾンにより酸
化処理を併用する場合には、その酸化処理の前にｐＨを
６〜１４に調整することが好ましいが、このようにｐＨ
を６〜１４に被処理液を調整した場合には、次のような
オゾンの自己分解反応が起きるので、オゾンと過酸化水
素を同時に添加したのと同じ効果が得られ、オゾンによ
り酸化処理を単独で用いることができる。被処理液にオ
ゾンを含有させるそのさせ方は上述した場合と同様であ
る。 Ｏ₃ ＋Ｈ₂ Ｏ→ＨＯ₃ ⁺ ＋ＯＨ^- ＨＯ₃ ⁺ ＋ＯＨ^- →２ＨＯ₂ ・ Ｏ₃ ＋ＨＯ₂ ・→ＯＨ・＋２Ｏ₂ Ｏ₃ ＋ＯＨ・→ＨＯ₂ ・＋Ｏ₂ ＨＯ₂ ・＋ＨＯ₂ ・→Ｈ₂ Ｏ₂ ＋Ｏ₂ ＯＨ・＋ＨＯ₂ ・→Ｈ₂ Ｏ＋Ｏ₂ ＯＨ・＋ＯＨ・→Ｈ₂ Ｏ₂

【００１５】上記のような酸化処理手段により、被処理
液中の有機物を水と二酸化炭素にほぼ完全に分解し、被
処理液中の有機物をほぼ除去して二次処理液を得ること
ができ、これを最終処理水とし、外界に放出できるよう
にしてもよいが、有機物の種類によっては分解し難いも
のがあり、また、有機物の量が多くその分解に時間がか
かり、コストがある程度以上かかる場合もあるので、そ
の場合には既存の微生物処理法を行なう前処理として上
記の酸化処理手段を用いることが好ましい。微生物処理
法としては、例えば活性汚泥処理法が挙げられる。酸化
処理手段によりＣＯＤ濃度を数十〜百数十ｐｐｍにした
後は他の従来の処理法でもよく、紫外線照射を行なう方
法、オゾンによる酸化処理を行なう方法のいずれも使用
できる。微生物処理を行なう際は、過酸化水素を上記し
たレドックス系触媒とともに用いた場合、その他有機物
以外の微生物処理法に適さない物質が被処理水に含有さ
れているときは、活性炭層を通すことによりその物質を
除去した後微生物処理することが好ましい。なお、本発
明においては、「ｐＨ調整工程」、「固液分離工程」、
「有機物分解除去処理工程」以外の工程を設けることを
妨げるものではない。このような微生物処理法を併用す
る処理法は、ドライフィルム処理廃液のように、ＣＯＤ
値が高く、難分解性有機物を含む場合には、その廃液の
原液をそのまま微生物処理を行なっても安定な微生物分
解を行なえないが、上記酸化処理手段による処理法を前
処理に用いることにより有機物は分解されてＣＯＤ値が
低くなるとともに、難分解性有機物は分解されて微生物
分解性のよい物質になるので、その安定な微生物分解を
行うことができ、これにより低コスト処理が可能にな
る。

【００１６】

【発明の実施の形態】図１に示す工程に従って、まず、
ドライフィルム処理廃液の原液Ａを用意し、図２に示す
ように、この原液をｐＨ調整槽１に収容し、タンク１０
からこの原液に鉱酸を滴下することによりｐＨを酸性に
調整するｐＨ調整工程Ｂを行ない、これにより得られた
懸濁液を濾過機４を通すことにより固体分の懸濁粒子を
分離して除去する固液分離工程Ｃを行ない、一次処理水
Ｄを得る。この一次処理水Ｄを薬液添加槽５に収容し、
過酸化水素を０．０２〜３０ｍｌ／ｌの割合で添加して
攪拌混合し、それからこの混合液を酸化処理槽８に移送
し、オゾナイザー（オゾン発生機）１２により散気管１
３を介してオゾンを０．１〜４ｇ／ｈｒの割合で添加
し、これを０．１〜２４時間継続する酸化処理をするこ
とにより、有機物分解除去処理工程Ｅを行い、二次処理
水Ｆを得る。また、図１に示す工程に従って、上記と同
様にして一次処理水Ｄを得てこれを薬液添加槽５に収容
した後、図３〜６に示すように（図２〜６で同一符号は
同一構成部分を示す）、それぞれ別々の工程を行なう
が、図３においては、酸化処理槽８に１５Ｗ〜２万Ｗの
低圧紫外線ランプ１４を設置し、薬液添加槽５に収容し
た一次処理水Ｄをそのまま過酸化水素水を添加すること
なく酸化処理槽８に移送して紫外線を照射し、オゾン添
加と併用したこと以外は図２の場合に述べたと同様にし
て有機物分解除去処理工程Ｅを行ない（紫外線照射とオ
ゾン添加を併用）、また、図４においては、酸化処理槽
８に低圧紫外線ランプ１４を設置し、オゾンの添加によ
る処理を行なう代わりに薬液添加槽５から移送された過
酸化水素を添加した一次処理水Ｄに紫外線を照射し、過
酸化水素の添加と紫外線照射を併用したこと以外は図２
の場合に述べたと同様にして有機物分解除去処理工程Ｅ
を行ない（過酸化水素の添加と紫外線照射の併用）、ま
た、図５においては、酸化処理槽８に低圧紫外線ランプ
１４を設けてこれにより紫外線を照射し、過酸化水素の
添加とオゾンの添加と紫外線照射を併用したこと以外は
図２の場合に述べたと同様にして有機物分解除去処理工
程Ｅを行ない（過酸化水素の添加とオゾンの添加と紫外
線照射の併用）、また、図６においては、薬液添加槽５
の一次処理水Ｄにタンク１７から過酸化水素水の代わり
にアルカリ剤（アルカリ金属の水酸化物等）を添加しｐ
Ｈを６〜１４に調整し、このｐＨ調整した一次処理水Ｄ
を酸化処理槽８に移送し、オゾン添加したこと以外は図
２の場合に述べたと同様にして有機物分解除去処理工程
Ｅを行ない（アルカリ性下でのオゾンの添加）、また、
図７においては、酸化処理時間を半分としたこと以外は
図５の場合に述べたと同様にして有機物分解除去処理工
程Ｅを行ない（過酸化水素の添加とオゾンの添加と紫外
線照射の併用）、それぞれ二次処理水Ｆを得、図７の場
合には、さらに希釈工程Ｇを介して活性汚泥による微生
物処理工程Ｈを行ない、最終処理水Ｊを得る。 なお、
図中、２、６は攪拌機、３、７、９、１１、１６、１８
はポンプである。このようにして、固液分離工程で主に
アルカリ可溶性又は膨潤性の特に感光性高分子化合物や
その架橋物がその中和により固体化されてその濾過によ
り分離除去され、その濾過水の一次処理水が有機物分解
除去処理工程において、上記反応式で示したように、有
機物が分解除去され、さらに残存する有機物が微生物処
理工程Ｈにおいて処理され、ドライフィルム処理廃液の
数千ｐｐｍ（例えば１〜４千ｐｐｍ）のＣＯＤを５〜１
０％減らした一次処理水、同じく少なくとも８０％減ら
した二次処理水、同じく少なくとも９０％減らした最終
処理水を得ることができる。

【００１７】

【実施例】次に本発明を実施例によりさらに詳細に説明
する。 実施例１（過酸化水素の添加とオゾンの添加の併用） 図１に示す工程に従って、まず、ドライフィルムの現像
廃液、剥離廃液の混合廃液であって、現像液の成分とし
て炭酸ナトリウム、ポリエチレングリコール、剥離液の
成分として水酸化ナトリウムをそれぞれ含有し、ドライ
フィルムの材料の成分としてアクリル系共重合体からな
るアルカリ液に可溶性又は膨潤性の感光性高分子化合
物、そのエチレン性不飽和化合物により架橋した架橋物
その他のこれらの成分とともに用いられ残留している成
分を含有するアルカリ性の廃液である、ＣＯＤ ２２３
５ｐｐｍ、ＢＯＤ １７６０ｐｐｍのドライフィルム処
理廃液を原液Ａとして用意し、上述したようにこれを図
２に示すように処理するが、ｐＨ調整工程Ｂでは鉱酸と
して硫酸を用いてこれを滴下し、ｐＨを２に調整する。
これにより懸濁液を得、これを濾過機４に通すことによ
り固体分の懸濁粒子を分離し除去する固液分離工程Ｃを
行い、ＣＯＤ ２００５ｐｐｍ、ＢＯＤ １７９０ｐｐ
ｍの一次処理水Ｄを得る。そして、その一次処理水３リ
ットルを薬液添加槽５に移送し、過酸化水素の３５％水
溶液を過酸化水素として５ｍｌ／ｌの割合で添加して攪
拌混合し、それからこの混合液を酸化処理槽８に移送
し、オゾナイザー１２によりオゾンを２ｇ／ｈｒの割合
で添加し、これを６時間継続する有機物分解除去処理工
程Ｅを行ない、ＣＯＤ ３０ｐｐｍ、ＢＯＤ ３６ｐｐ
ｍの二次処理水Ｆを得た。

【００１８】実施例２（紫外線照射とオゾンの添加の併
用） 図１に示す工程に従って、実施例１と同様にして一次処
理水Ｄを得た後、図３に示すように、その一次処理水３
リットルを酸化処理槽８に移送し、低圧紫外線ランプ
（１５Ｗ）１４で紫外線を照射しつつ、オゾナイザー１
２によりオゾンを２ｇ／ｈｒの割合で添加し、これを６
時間継続する有機物分解除去処理工程Ｅを行ない、ＣＯ
Ｄ ３１ｐｐｍ、ＢＯＤ ４０ｐｐｍの二次処理水Ｆを
得た。

【００１９】実施例３（過酸化水素の添加と紫外線照射
の併用） 図１に示す工程に従って、実施例１と同様にして一次処
理水Ｄを得た後、図４に示すように、実施例１（図２）
と同様にして一次処理水３リットルを薬液添加槽５に収
容して過酸化水素を同様の割合添加して攪拌混合し、つ
いで実施例２（図３）と同様にしてこの混合液を酸化処
理槽８に移送し、低圧紫外線ランプ（１５Ｗ）１４で紫
外線を照射し、これを６時間継続する有機物分解除去処
理工程Ｅを行ない、ＣＯＤ ５０ｐｐｍ、ＢＯＤ ７０
ｐｐｍの二次処理水Ｆを得た。

【００２０】実施例４（過酸化水素の添加と紫外線照射
とオゾンの添加の併用） 図１に示す工程に従って、実施例１と同様にして一次処
理水Ｄを得た後、図５に示すように、実施例１（図２）
と同様にして一次処理水３リットルを薬液添加槽５に収
容して過酸化水素を同様の割合添加して攪拌混合し、つ
いで実施例２（図３）に示すと同様に、この混合液を酸
化処理槽８に移送し、低圧紫外線ランプ（１５Ｗ）１４
で紫外線を照射しつつ、オゾナイザー１２によりオゾン
を２ｇ／ｈｒの割合で添加し、これを４時間継続する有
機物分解除去処理工程Ｅを行ない、ＣＯＤ １０ｐｐ
ｍ、ＢＯＤ ２０ｐｐｍの二次処理水Ｆを得た。

【００２１】実施例５（アルカリ性下のオゾンの添加） 図１に示す工程に従って、実施例１と同様にして一次処
理水Ｄを得た後、図６に示すように、実施例１（図２）
と同様にして一次処理水３リットルを薬液添加槽５に収
容し、今度はこれにタンク１７から水酸化ナトリウム水
溶液を添加して攪拌混合し、ｐＨ１３とし、ついで実施
例１（図２）と同様にしてこの混合液を酸化処理槽８に
移送し、オゾナイザー１２によりオゾンを２ｇ／ｈｒの
割合で添加し、これを６時間継続する有機物分解除去処
理工程Ｅを行ない、ＣＯＤ ３０ｐｐｍ、ＢＯＤ ３５
ｐｐｍの二次処理水Ｆを得た。

【００２２】実施例６（過酸化水素の添加と紫外線照射
とオゾンの添加の併用及び微生物処理工程の併用） 図７に示す工程に従って、実施例１と同様にして一次処
理水Ｄを得た後、図１に示す工程に従って実施した実施
例４（図５）において、酸化処理を４時間の代わりに２
時間行なうこと以外は同様に操作して有機物分解除去処
理工程Ｅまでを行ない、ＣＯＤ ２８０ｐｐｍ、ＢＯＤ
５００ｐｐｍの二次処理水Ｆを得、ついで希釈する希
釈工程Ｇを行ない、得られた希釈した二次処理水Ｆを活
性汚泥法を用いて、ＭＬＳＳ ３０００ｐｐｍ、ＢＯＤ
負荷０．１ｇ／ｇ−ＢＯＤ、滞留時間２４時間の条件に
より微生物処理工程Ｈを行ない、ＣＯＤ １１ｐｐｍ、
ＢＯＤ ５ｐｐｍの最終処理水Ｊを得た。

【００２３】比較例１ 図８に示す工程に従って、実施例１と同様にして一次処
理水Ｄを得た後、実施例６（図５）において、有機物分
解除去処理工程Ｅを行なわなかった以外は同様に操作し
て、希釈工程Ｇで希釈した一次処理水Ｄに微生物処理工
程Ｈを行ない、ＣＯＤ ３３１ｐｐｍ、ＢＯＤ ２１０
ｐｐｍの処理水Ｋを得た。

【００２４】比較例２（過酸化水素の添加の単独使用） 実施例１において、図２に示す薬液添加槽５に収容した
一次処理水Ｄ（ＣＯＤ２００５ｐｐｍ、ＢＯＤ １７９
０ｐｐｍ、原液のＣＯＤ ２２３５ｐｐｍ、ＢＯＤ １
７５０ｐｐｍ）に同様に過酸化水素水を添加するが、酸
化処理槽８においてオゾン添加を行なわなかった以外は
同様に操作して、ＣＯＤ ２００５ｐｐｍ、ＢＯＤ １
７９０ｐｐｍの処理水を得た。一次処理水ＤとＣＯＤ
値、ＢＯＤ値は同じで、有機物の分解反応はほとんど起
こらず、変化がないと判断できる。

【００２５】比較例３（紫外線照射の単独使用） 実施例２において、酸化処理槽８においてオゾンの添加
を行なわず、紫外線照射のみを行なった以外は同様に操
作して、ＣＯＤ １９９５ｐｐｍ、ＢＯＤ １８００ｐ
ｐｍの処理水を得た（一次処理水ＤのＣＯＤ ２００５
ｐｐｍ、ＢＯＤ１７９０ｐｐｍ、原液のＣＯＤ ２２３
５ｐｐｍ、ＢＯＤ １７５０ｐｐｍ）。有機物の分解反
応は少ししか起こらないことが分かる。

【００２６】比較例４（オゾンの添加の単独使用） 実施例１において、図２に示す薬液添加槽５に収容した
一次処理水Ｄ（ＣＯＤ２００５ｐｐｍ、ＢＯＤ １７９
０ｐｐｍ、原液のＣＯＤ ２２３５ｐｐｍ、ＢＯＤ １
７５０ｐｐｍ）に過酸化水素水を添加しなかった以外は
同様に操作して、ＣＯＤ １７０３ｐｐｍ、ＢＯＤ １
７００ｐｐｍの処理水を得た。有機物の分解反応は、紫
外線照射、過酸化水素の添加それぞれ単独の場合よりは
起こっているが、その程度は小さいことがわかる。

【００２７】

【発明の効果】本発明によれば、固液分離工程により固
形分を分離して除去する処理を行ない、その得られた一
次処理液の被処理液に対して、過酸化水素の含有、オゾ
ンの含有及び紫外線照射による酸化手段の内少なくとも
２つ、又はアルカリ性下におけるオゾンの含有による酸
化処理手段を用いたので、従来の焼却処理のように燃焼
装置のような大がかりな装置を必要とし、その装置も耐
火構造のため維持費もかかり、エネルギーも多く使用す
るものに比べ、過酸化水素やオゾンの添加、紫外線照射
といった通常よく知られた材料や装置を使用して、その
操作や維持も容易にでき、小規模装置を使用でき、しか
も上記酸化処理手段の組み合わせも簡単に変えてそれぞ
れの処理の程度等その目的に合わせて使用でき、これに
より特に高ＣＯＤ濃度の有機物を含有し、しかもその有
機物の中に難分解性の合成高分子化合物を含有する廃液
について、短時間で、比較的簡単にＣＯＤを減少させる
ことができ、その上、微生物処理法を適用し易くし、微
生物処理法を組み合わせて上記酸化処理手段による処理
時間をさらに短くする等それぞれの長所を活かして、コ
ストがかからず、中小の事業所でも使用できる経済的、
簡便であり、さらに処理液を自然界に放出しても環境汚
染を生じることがなく、さらに従来の焼却処理に伴う排
出ガスに関する問題もないようにできる処理方法を提供
することができる。特に、ドライフィルム処理廃液のよ
うに、アルカリ液に溶解性又は膨潤性の感光性高分子化
合物やその架橋物を含有するような高ＣＯＤ濃度かつ難
分解性の合成高分子化合物のような有機物を含有するア
ルカリ性の廃液の場合には、酸の添加によりこれらの高
分子化合物を固体分として濾過等により容易に除去でき
るので、固液分離工程を一層簡単かつ能率的に行なうこ
とができ、特にドライフィルム処理廃液用の最適な処理
法を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１〜第５の実施例の方法の工程を示
す工程図である。

【図２】その第１の実施例の方法の工程を実施する装置
の概略説明図である。

【図３】本発明の第２の実施例の方法の工程を実施する
装置の概略説明図である。

【図４】本発明の第３の実施例の方法の工程を実施する
装置の概略説明図である。

【図５】本発明の第４の実施例の方法の工程を実施する
装置の概略説明図である。

【図６】本発明の第５の実施例の方法の工程を実施する
装置の概略説明図である。

【図７】本発明の第６の実施例の方法の工程を示す工程
図である。

【図８】比較例の方法の工程を示す工程図である。

【符号の説明】

１ ｐＨ調整槽 ４ 濾過機 ５ 薬液添加槽 ８ 酸化処理槽 １０、１５、１７ タンク １２ オゾナイザー １３ 散水管 １４ 紫外線ランプ

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 ＦＩ Ｃ０２Ｆ 1/78 ＺＡＢ Ｃ０２Ｆ 1/78 ＺＡＢ 9/00 ５０２ 9/00 ５０２Ｎ ５０２Ｒ ５０３ ５０３Ｃ ５０４ ５０４Ａ

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 分解処理されるべき有機物を含有しかつ
   該有機物中に合成高分子化合物を含有する廃液の処理方
   法において、該廃液の原液から固形分を分離し除去する
   処理をする固液分離工程と、該固液分離工程で固形分を
   分離する処理をされた後の被処理液について酸化処理手
   段により該被処理液に残留する有機物の分解除去処理を
   行なう有機物分解除去処理工程を有し、該酸化処理手段
   は上記被処理液に対して過酸化水素を含有させる酸化手
   段、オゾンを含有させる酸化手段及び紫外線照射を行な
   う酸化手段の内少なくとも２つの酸化手段又はアルカリ
   性下にオゾンを含有させる酸化手段を有する有機物含有
   廃液の処理方法。
2. 【請求項２】 分解処理されるべき有機物を含有しかつ
   該有機物中に合成高分子化合物を含有しかつ該合成高分
   子化合物中にアルカリ液に可溶性又は膨潤性の合成高分
   子化合物を含有するアルカリ性の廃液の処理方法におい
   て、酸の添加によりｐＨを調整し懸濁液を生成するｐＨ
   調整工程と、該ｐＨ調整工程でｐＨ調整された被処理液
   の懸濁液について固体分の懸濁粒子を分離し除去する処
   理をする固液分離工程と、該固液分離工程で固体分の懸
   濁粒子を分離する処理をされた後の被処理液について酸
   化処理手段により該被処理液に残留する有機物の分解除
   去処理を行なう有機物分解除去処理工程を有し、該酸化
   処理手段は上記被処理液に対して過酸化水素を含有させ
   る酸化手段、オゾンを含有させる酸化手段及び紫外線照
   射を行なう酸化手段の内少なくとも２つの酸化手段又は
   アルカリ性下にオゾンを含有させる酸化手段を有する有
   機物含有廃液の処理方法。
3. 【請求項３】 有機物分解除去処理工程の後に微生物処
   理工程を有する請求項１又は２の有機物含有廃液の処理
   方法。
4. 【請求項４】 有機物分解除去処理工程は微生物処理工
   程により処理が行なえるＣＯＤ濃度まで処理を行なう請
   求項１ないし３のいずかに記載の有機物含有廃液の処理
   方法。
5. 【請求項５】 酸化処理手段は被処理液に対して過酸化
   水素を含有させる酸化手段、オゾンを含有させる酸化手
   段及び紫外線照射を行なう酸化手段の３者を併用する請
   求項１ないし４のいずかに記載の有機物含有廃液の処理
   方法。
6. 【請求項６】 廃液はプリント配線板製造時におけるレ
   ジスト材料のドライフィルムを処理した処理液を含有す
   るドライフィルム処理廃液である請求項１ないし５のい
   ずれかに記載の有機物含有廃液の処理方法。