JP4524796B2 - フッ素含有排水の処理方法及び処理装置 - Google Patents
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すなわち、本発明は
(1)フッ素含有排水をアルミニウム系凝集剤とpH5〜9で反応させる反応工程、反応工程後の水に高分子凝集剤を添加する凝集工程、凝集工程後の凝集フロックを含有する水を固液分離する工程、及び、固液分離された汚泥の一部を反応工程に返送する汚泥返送工程を有するフッ素含有排水の処理方法において、前記反応工程が、フッ素含有排水にあらかじめ前記アルミニウム系凝集剤を添加してpH5以下にした上で反応工程に送り込み、返送汚泥に混合されて反応槽に供給されるアルカリによってpH5〜9にして、フッ素含有排水とアルミニウム系凝集剤を反応させる反応工程であり、かつ、前記汚泥返送工程が、汚泥返送工程の返送汚泥にあらかじめアルカリを添加して前記反応工程に返送する返送工程であることを特徴とするフッ素含有排水の処理方法、
(2)反応工程の汚泥濃度を0.1〜5重量%とする(1)記載のフッ素含有排水の処理方法、
(3)フッ素含有排水をカルシウム化合物で処理してフッ素をフッ化カルシウムとして除去する工程、該工程の一次処理水をアルミニウム系凝集剤とpH5〜9で反応させる反応工程、反応工程後の水に高分子凝集剤を添加する凝集工程、凝集工程後の凝集フロックを含有する水を固液分離する工程、及び、固液分離された汚泥の一部を反応工程に返送する汚泥返送工程を有するフッ素含有排水の処理方法において、前記反応工程が、フッ素含有排水にあらかじめ前記アルミニウム系凝集剤を添加してpH5以下にした上で反応工程に送り込み、返送汚泥に混合されて反応槽に供給されるアルカリによってpH5〜9にして、フッ素含有排水とアルミニウム系凝集剤を反応させる反応工程であり、かつ、前記汚泥返送工程が、汚泥返送工程の返送汚泥にあらかじめアルカリを添加して前記反応工程に返送する返送工程であることを特徴とするフッ素含有排水の処理方法、及び、
(4)pH5以下に調整されたフッ素含有排水にアルミニウム系凝集剤を添加する原水槽16、原水槽16からアルミニウム系凝集剤が添加されたフッ素含有排水を導入し、混合槽20からアルカリが添加された返送汚泥を受け入れ、pH5〜9において、アルミニウム系凝集剤の加水分解によって水酸化アルミニウムを生成し、水中のフッ素を水酸化アルミニウムに吸着させる反応槽17、反応槽17から、水酸化アルミニウムのフロック及びフッ素濃度が低下した水を受け入れ、高分子凝集剤を添加してフロックを凝集させる凝集槽18、凝集槽18からフロックが凝集した水を受け入れ上澄液と汚泥に分離する固液分離装置19及び固液分離装置19で分離された汚泥の一部を受け入れ、反応槽17のpH5〜9の調整に必要なアルカリを添加する混合槽20から成ることを特徴とするフッ素含有排水の処理装置、
を提供するものである。
汚泥返送比=(返送汚泥の量)/(沈殿池から抜き出した汚泥の量−返送汚泥の量)
反応工程における汚泥濃度が0.1重量%未満であると、アルカリが表面に吸着される懸濁物質粒子の量が少なく、結晶状の水酸化アルミニウムの生成反応が十分に局在化して起こらず、生成する水酸化アルミニウムによるフッ素の吸着が不十分になり、また、汚泥濃度が低いために、懸濁物質粒子の表面に吸着されないアルカリがアルミニウム系凝集剤と反応することになる。この反応では水酸化アルミニウムの汚泥を生成する際に、水分子を取り込んでゲル状の水酸化アルミニウムが生成し、脱水性の悪い汚泥となる。反応工程における汚泥濃度が5重量%を超えると、汚泥の一部が酸化アルミニウムの結晶となり、フッ素の吸着能が低下するとともに、汚泥を返送するための消費動力が過大になるおそれがある。
なお、実施例及び比較例において、フッ素濃度はイオンメーター[(株)堀場製作所、F−23]を用いて測定した。汚泥含水率は、汚泥約10gを秤取し、遠心分離機[(株)コクサン、H−103N]を用いて、3,000rpmで60秒脱水して上澄水を取り除き、得られたケーキを汚泥乾燥機[栗田工業(株)、クリケット]を用いて110℃で1時間乾燥し、乾燥重量を測定して算出した。
また、汚泥返送比Rは、(返送汚泥のSS量)/(原SS量)により算出した。返送汚泥のSS量は、返送汚泥量×返送汚泥のSS濃度である。原SS量は、返送汚泥なしで、原水にアルミニウム系凝集剤を添加したときに発生するSS量であり、返送汚泥なしで、原水にアルミニウム系凝集剤を添加したときの反応槽出口のSS濃度×原水流量である。
図1に示す装置を用いて、半導体製造工場から排出されるフッ素濃度10.6mg/L、pH6.4、電気伝導率30mS/mのフッ素含有排水の処理を行った。フッ素含有排水の通水量3L/hで装置に供給し、各槽の液量は、反応槽1L、凝集槽1L、混合槽0.3Lとし、沈殿池の水面積負荷は1mとした。
供給するフッ素含有排水1Lに対し、原水槽において、あらかじめアルミニウムとして20mgに相当する量の硫酸アルミニウムを添加し、反応槽のpHを6.5に保つように、混合槽に水酸化ナトリウム水溶液を添加して汚泥と混合し、凝集槽において、高分子凝集剤[栗田工業(株)、アニオンポリマーPA311]3mgを添加し、汚泥返送比8で処理を行った。定常状態に達したとき、反応槽の汚泥濃度は0.05重量%であり、処理水のフッ素濃度は3.5mg/L、汚泥の含水率は68重量%であった。
実施例2
返送汚泥比を17とした以外は、実施例1と同様にしてフッ素含有排水を処理した。定常状態に達したとき、反応槽の汚泥濃度は0.10重量%であり、処理水のフッ素濃度は2.9mg/L、汚泥の含水率は60重量%であった。
実施例3
返送汚泥比を207とした以外は、実施例1と同様にしてフッ素含有排水を処理した。定常状態に達したとき、反応槽の汚泥濃度は1.2重量%であり、処理水のフッ素濃度は2.6mg/L、汚泥の含水率は58重量%であった。
実施例4
返送汚泥比を865とした以外は、実施例1と同様にしてフッ素含有排水を処理した。定常状態に達したとき、反応槽の汚泥濃度は5.0重量%であり、処理水のフッ素濃度は3.0mg/L、汚泥の含水率は60重量%であった。
実施例5
返送汚泥比を1,297とした以外は、実施例1と同様にしてフッ素含有排水を処理した。定常状態に達したとき、反応槽の汚泥濃度は7.5重量%であり、処理水のフッ素濃度は3.9mg/L、汚泥の含水率は60重量%であった。
図5に示す装置を用いて、実施例1と同じ半導体製造工場から排出されるフッ素含有排水の処理を行った。フッ素含有排水の通水量3L/hで装置に供給し、各槽の液量は、反応槽1L、凝集槽1L、混合槽0.3Lとし、沈殿池の水面積負荷は1mとした。
供給するフッ素含有排水1Lに対し、反応槽において、アルミニウムとして20mgに相当する量の硫酸アルミニウムを添加し、反応槽のpHを6.5に保つように、混合槽に水酸化ナトリウム水溶液を添加して汚泥と混合し、凝集槽において、高分子凝集剤[栗田工業(株)、アニオンポリマーPA311]3mgを添加し、汚泥返送比175で処理を行った。定常状態に達したとき、反応槽の汚泥濃度は1.0重量%であり、処理水のフッ素濃度は4.0mg/L、汚泥の含水率は70重量%であった。
比較例2
図6に示す装置を用いて、実施例1と同じ半導体製造工場から排出されるフッ素含有排水の処理を行った。フッ素含有排水の通水量3L/hで装置に供給し、各槽の液量は、反応槽1L、凝集槽1L、混合槽0.3Lとし、沈殿池の水面積負荷は1mとした。
供給するフッ素含有排水1Lに対し、混合槽において、アルミニウムとして20mgに相当する量の硫酸アルミニウムを添加し、反応槽に水酸化ナトリウム水溶液を添加してpH6.5に保ち、凝集槽において、高分子凝集剤[栗田工業(株)、アニオンポリマーPA311]3mgを添加し、汚泥返送比8で処理を行った。定常状態に達したとき、反応槽の汚泥濃度は0.05重量%であり、処理水のフッ素濃度は4.5mg/L、汚泥の含水率は65重量%であった。
比較例3
汚泥返送比を20とした以外は、比較例2と同様にしてフッ素含有排水を処理した。定常状態に達したとき、反応槽の汚泥濃度は0.12重量%であり、処理水のフッ素濃度は3.4mg/L、汚泥の含水率は60重量%であった。
比較例4
汚泥返送比を190とした以外は、比較例2と同様にしてフッ素含有排水を処理した。定常状態に達したとき、反応槽の汚泥濃度は1.1重量%であり、処理水のフッ素濃度は3.2mg/L、汚泥の含水率は57重量%であった。
比較例5
汚泥返送比を850とした以外は、比較例2と同様にしてフッ素含有排水を処理した。定常状態に達したとき、反応槽の汚泥濃度は5.0重量%であり、処理水のフッ素濃度は3.5mg/L、汚泥の含水率は58重量%であった。
比較例6
汚泥返送比を1,250とした以外は、比較例2と同様にしてフッ素含有排水を処理した。定常状態に達したとき、反応槽の汚泥濃度は7.2重量%であり、処理水のフッ素濃度は4.6mg/L、汚泥の含水率は58重量%であった。
実施例1〜5及び比較例1〜6の結果を、第1表に示す。
図1に示す装置を用いて、半導体製造工場から排出されるフッ素濃度50.0mg/L、pH2.8、電気伝導率380mS/mのフッ素含有排水の処理を行った。フッ素含有排水の通水量3L/hで装置に供給し、各槽の液量は、反応槽1L、凝集槽1L、混合槽0.3Lとし、沈殿池の水面積負荷は1mとした。
供給するフッ素含有排水1Lに対し、原水槽において、あらかじめアルミニウムとして140mgに相当する量の硫酸アルミニウムを添加し、反応槽のpHが6.5になるように、混合槽において、水酸化ナトリウム水溶液を汚泥と混合し、凝集槽において、高分子凝集剤[栗田工業(株)、アニオンポリマーPA311]3mgを添加し、汚泥返送比25で処理を行った。定常状態に達したとき、反応槽の汚泥濃度は1.0重量%であり、処理水のフッ素濃度は3.3mg/Lであった。フッ素含有排水1Lあたりの汚泥の発生量は980mgであり、汚泥の含水率は59重量%であった。
比較例7
図6に示す装置を用いて、実施例6と同じ半導体製造工場から排出されるフッ素含有排水の処理を行った。フッ素含有排水の通水量3L/hで装置に供給し、各槽の液量は、反応槽L、凝集槽1L、混合槽0.3Lとし、沈殿池の水面積負荷は1mとした。
供給するフッ素含有排水1Lに対し、混合槽において、アルミニウムとして140mgに相当する量の硫酸アルミニウムを添加し、反応槽に水酸化ナトリウム水溶液を添加してpH6.5に保ち、凝集槽において、高分子凝集剤[栗田工業(株)、アニオンポリマーPA311]3mgを添加し、汚泥返送比25で処理を行った。定常状態に達したとき、反応槽の汚泥濃度は1.0重量%であり、処理水のフッ素濃度は3.9mg/Lであった。フッ素含有排水1Lあたりの汚泥の発生量は1,000mgであり、汚泥の含水率は60重量%であった。
図2に示す装置を用いて、実施例6と同じフッ素含有排水の処理を行った。フッ素含有排水の通水量3L/hで装置に供給し、各槽の液量は、前段の反応槽1L、凝集槽1L、混合槽0.3Lとし、後段の反応槽1L、凝集槽1L、混合槽0.3Lとし、2つの沈殿池の水面積負荷はいずれも1mとした。
前段の処理においては、供給するフッ素含有排水1Lに対し、混合槽において、消石灰400mgを添加し、反応槽に塩酸を添加してpH6.5に保ち、凝集槽において、高分子凝集剤[栗田工業(株)、アニオンポリマーPA311]3mgを添加し、汚泥返送比300で処理を行った。定常状態に達したとき、沈殿池から上澄水として流出する一次処理水のフッ素濃度は12.1mg/Lであった。
後段の処理においては、前段に供給するフッ素含有排水1Lに対し、一次処理水槽において、あらかじめアルミニウムとして20mgに相当する量の硫酸アルミニウムを添加し、反応槽のpHが6.5になるように、混合槽において、水酸化ナトリウム水溶液を添加し、凝集槽において、高分子凝集剤[栗田工業(株)、アニオンポリマーPA311]3mgを添加し、汚泥返送比200で処理を行った。定常状態に達したとき、反応槽の汚泥濃度は1.0重量%であり、処理水のフッ素濃度は2.5mg/Lであった。前段の沈殿池で発生した汚泥と、後段の沈殿池で発生した汚泥を混合して、汚泥の発生量と含水率を測定した。フッ素含有排水1Lあたりの汚泥の発生量は260mgであり、汚泥の含水率は48重量%であった。
比較例8
図7に示す装置を用いて、実施例6と同じフッ素含有排水の処理を行った。フッ素含有排水の通水量3L/hで装置に供給し、各槽の液量は、前段の反応槽1L、凝集槽1L、混合槽0.3Lとし、後段の反応槽1L、凝集槽1L、混合槽0.3Lとし、2つの沈殿池の水面積負荷はいずれも1mとした。
前段の処理は、実施例7と同様に行って、フッ素濃度12.1mg/Lの一次処理水を得た。
後段の処理においては、前段に供給するフッ素含有排水1Lに対し、混合槽において、アルミニウムとして20mgに相当する量の硫酸アルミニウムを添加し、反応槽に水酸化ナトリウム水溶液を添加してpHを6.5に保ち、凝集槽において、高分子凝集剤[栗田工業(株)、アニオンポリマーPA311]3mgを添加し、汚泥返送比200で処理を行った。定常状態に達したとき、反応槽の汚泥濃度は1.0重量%であり、処理水のフッ素濃度は3.2mg/Lであった。前段の沈殿池で発生した汚泥と、後段の沈殿池で発生した汚泥を混合して、汚泥の発生量と含水率を測定した。フッ素含有排水1Lあたりの汚泥の発生量は270mgであり、汚泥の含水率は50重量%であった。
実施例6〜7及び比較例7〜8の結果を、第2表に示す。
また、フッ素濃度50.0mg/Lのフッ素含有排水を一段で処理した実施例6に比べて、前段で消石灰を添加してフッ素をフッ化カルシウムとして除去してフッ素濃度12.1mg/Lの一次処理水としたのち、後段で一次処理水に硫酸アルミニウムを添加して二段処理した実施例7は、硫酸アルミニウムの添加量が7分の1になり、汚泥の発生量が4分の1に減少し、汚泥の含水率も低い。フッ素含有排水のフッ素濃度が高い場合は、あらかじめフッ化カルシウムとしてフッ素の一部を除去しておくことにより、全体としての汚泥の発生量を減少し得ることが分かる。
2 反応槽
3 凝集槽
4 沈殿池
5 混合槽
6 原水槽
7 反応槽
8 凝集槽
9 沈殿池
10 混合槽
11 一次処理水槽
12 反応槽
13 凝集槽
14 沈殿池
15 混合槽
16 原水槽
17 反応槽
18 凝集槽
19 固液分離装置
20 混合槽
21 原水槽
22 反応槽
23 凝集槽
24 沈殿池
25 混合槽
26 原水槽
27 反応槽
28 凝集槽
29 沈殿池
30 混合槽
31 一次処理水槽
32 反応槽
33 凝集槽
34 沈殿池
35 混合槽
Claims (4)
- フッ素含有排水をアルミニウム系凝集剤とpH5〜9で反応させる反応工程、反応工程後の水に高分子凝集剤を添加する凝集工程、凝集工程後の凝集フロックを含有する水を固液分離する工程、及び、固液分離された汚泥の一部を反応工程に返送する汚泥返送工程を有するフッ素含有排水の処理方法において、前記反応工程が、フッ素含有排水にあらかじめ前記アルミニウム系凝集剤を添加してpH5以下にした上で反応工程に送り込み、返送汚泥に混合されて反応槽に供給されるアルカリによってpH5〜9にして、フッ素含有排水とアルミニウム系凝集剤を反応させる反応工程であり、かつ、前記汚泥返送工程が、汚泥返送工程の返送汚泥にあらかじめアルカリを添加して前記反応工程に返送する返送工程であることを特徴とするフッ素含有排水の処理方法。
- 反応工程の汚泥濃度を0.1〜5重量%とする請求項1記載のフッ素含有排水の処理方法。
- フッ素含有排水をカルシウム化合物で処理してフッ素をフッ化カルシウムとして除去する工程、該工程の一次処理水をアルミニウム系凝集剤とpH5〜9で反応させる反応工程、反応工程後の水に高分子凝集剤を添加する凝集工程、凝集工程後の凝集フロックを含有する水を固液分離する工程、及び、固液分離された汚泥の一部を反応工程に返送する汚泥返送工程を有するフッ素含有排水の処理方法において、前記反応工程が、フッ素含有排水にあらかじめ前記アルミニウム系凝集剤を添加してpH5以下にした上で反応工程に送り込み、返送汚泥に混合されて反応槽に供給されるアルカリによってpH5〜9にして、フッ素含有排水とアルミニウム系凝集剤を反応させる反応工程であり、かつ、前記汚泥返送工程が、汚泥返送工程の返送汚泥にあらかじめアルカリを添加して前記反応工程に返送する返送工程であることを特徴とするフッ素含有排水の処理方法。
- pH5以下に調整されたフッ素含有排水にアルミニウム系凝集剤を添加する原水槽16、原水槽16からアルミニウム系凝集剤が添加されたフッ素含有排水を導入し、混合槽20からアルカリが添加された返送汚泥を受け入れ、pH5〜9において、アルミニウム系凝集剤の加水分解によって水酸化アルミニウムを生成し、水中のフッ素を水酸化アルミニウムに吸着させる反応槽17、反応槽17から、水酸化アルミニウムのフロック及びフッ素濃度が低下した水を受け入れ、高分子凝集剤を添加してフロックを凝集させる凝集槽18、凝集槽18からフロックが凝集した水を受け入れ上澄液と汚泥に分離する固液分離装置19及び固液分離装置19で分離された汚泥の一部を受け入れ、反応槽17のpH5〜9の調整に必要なアルカリを添加する混合槽20から成ることを特徴とするフッ素含有排水の処理装置。
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