TWI457292B

TWI457292B - A method for treating water containing a corrosion inhibitor for azole-based copper

Info

Publication number: TWI457292B
Application number: TW098138075A
Authority: TW
Inventors: Yuji Yasuike; Atsushi Nemoto
Original assignee: Kurita Water Ind Ltd
Priority date: 2008-11-19
Filing date: 2009-11-10
Publication date: 2014-10-21
Also published as: CN102216226A; KR20110101130A; US8801937B2; TW201031605A; US20120006755A1; WO2010058674A1; JP5412805B2; CN102216226B; JP2010119956A; KR101653128B1

Description

含有唑系銅用防蝕劑之水的處理方法

本發明有關含有唑(azole)系銅用防蝕劑之水的處理方法，特別是，有關從半導體裝置製造過程中之化學機械拋光(CMP)過程所排出之含有唑系銅用防蝕劑之排水，按有效方式去除唑系銅用防蝕劑之方法。

於半導體裝置製造過程中，由於為進行銅配線加工之銅表面硏磨(Surface grinding)時的CMP過程中，會大量排出含有銅用防蝕劑之水之故，需要將此加以處理。

銅用防蝕劑之中，特別是唑系銅用防蝕劑係具有優異的防蝕效果者，惟由於屬於化學性穩定之構造且難於被生物所分解之故，以往，進行從此等過程所排出之含有唑系銅用防蝕劑之排水的處理時，採用氧化力強的臭氧或紫外線、過氧化氫等的氧化劑或者合併此等之加速氧化法(accelerated oxidation)等將唑系銅用防蝕劑加以分解後，將處理水予以流放、或回收。

但，如前述，由於唑系銅用防蝕劑係化學性穩定之故，如為其進行氧化分解時，即使採用臭氧等氧化力強的氧化劑，仍然需要大量添加，以致成本方面的負擔重。特別是，近年來，隨著半導體裝置的高積體度化而增加有精密硏磨過程，而因此之硏磨排水的排放量亦在增加之故，排水處理裝置的大容量化所引起之成本增加已形成為大問題。

曾經提案有將含有屬於銅用防蝕劑之苯并三唑之排水調整為弱酸性之pH，並使此處理液在氧化分解槽中與氧化劑反應，再將此處理液於鹼性調整槽內調整pH為10以上，將所生成之銅氫氧化物進行固-液分離(Solid-liquid seperation)之方法(專利文獻1)。但，即使採用此種方法，為分解化學性穩定的唑系銅用防蝕劑時仍然氧化劑之需要量多，又，特別是作為氧化劑而採用臭氧時，由於在液體pH在酸性條件下臭氧之自動分解(autolysis)被抑制而降低在臭氧分解過程中所生成之具有更強氧化力之OH自由基(radical)的發生量，結果有氧化力亦會降低之問題。

又，來自CMP過程之排水中，除唑系銅用防蝕劑之外，尚含有在CMP過程中所使用之膠體二氧化矽(colloidal silica)等的硏磨劑粒子(懸浮物質)之故，在進行使用氧化劑之處理之前，如不實施作為預處理(pre-treatment)之凝聚、沈澱、過濾等的固-液分離處理，則由於氧化劑被無謂地消耗於此等懸浮物質的分解，而使氧化劑的有效利用效率降低，而有不能充分發揮氧化劑添加量所相當之分解效果之問題。又，如此等懸浮物質流入氧化分解槽時，則會推積在槽內、或引起槽內所設置之注入臭氧之用的通氣管堵塞等，而有妨礙氧化處理的要因之可能性。

專利文獻1：日本專利特開2002-35773號公報

本發明之目的在於提供一種能解決上述以往的問題，而有效去除從半導體裝置製造過程中之CMP過程所排出之排水等的含有唑系銅用防蝕劑之水中的唑系銅用防蝕劑之方法。

本發明人等，為解決上述課題起見而專心研究之結果發現，如藉由亞鐵離子(ferrous ion)，而將唑系銅用防蝕劑作成鐵．唑系錯合物並使其有效方式不溶化，即可實施凝聚．固-液分離處理之事實。

又發現，由於在所生成之不溶化物的凝聚處理時亦能使排水中的懸浮物質凝聚之故，如對經去除不溶化物後的水注入臭氧，則可防止臭氧的無謂的耗用而將能有效利用為所殘留之含有唑系銅用防蝕劑之TOC(total organic carbon，總有機碳)成分的氧化分解，結果可以少量的臭氧使用量即高度分解去除含有唑系銅用防蝕劑之TOC成分之事實，終於完成本發明。

亦即，本發明係一種含有唑系銅用防蝕劑之水的處理方法，其特徵為：對含有唑系銅用防蝕劑之水中添加亞鐵離子，以分離所生成之不溶性的鐵．唑系錯合物。

於本發明之一狀態中，將前述不溶性的鐵．唑系錯合物加以分離後，將所殘留之TOC成分加以臭氧分解。

於本發明之另一狀態中，含有唑系銅用防蝕劑之水，係從半導體裝置製造過程之CMP過程所排出之水。

[發明之效果]

如採用本發明，則能使含有唑系銅用防蝕劑之水中的唑系銅用防蝕劑，使用亞鐵離子以作成鐵．唑系錯合物而有效不溶化後加以凝聚．固-液分液。並且，在此凝聚處理時，亦可將研磨劑粒子等排水中的懸浮物質，一併加以凝聚處理。

因此，如採用本發明之含有唑系銅用防蝕劑之水的處理方法，則不需要臭氧或過氧化氫、紫外線等高價的氧化劑之下，即可便宜地有效處理排水中的唑系銅用防蝕劑，以及懸浮物質。

又，由於經去除因亞鐵離子之添加所生成之不溶化物後的水，係不僅經去除唑系銅用防蝕劑，亦經去除懸浮物質者之故，當進行利用臭氧之加速氧化分解處理(accelerated oxidation decomposing treatment)時，能防止臭氧的無謂的耗用而可以少量的臭氧的注入量按高效率方式分解去除所殘留之含有唑系銅用防蝕劑之TOC成分。

[詳細說明]

以下，將本發明之含有唑系銅用防蝕劑之水的處理方法的實施形態加以詳細說明。

[含有唑系銅用防蝕劑之水]

本發明之含有唑系銅用防蝕劑之水的處理方法中作為處理對象之含有唑系銅用防蝕劑之水而言並不特別加以限制，惟本發明係特別對從半導體裝置製造過程之CMP過程所排出之作為銅用防蝕劑之含有唑化合物之排水處理有效者。

此種含有唑系銅用防蝕劑之水中所含之唑系銅用防蝕劑的唑化合物，係指屬於含有雜原子2個以上之五員環芳香族化合物，而雜原子的至少1個為氮原子之化合物之意。

本發明中，以往作為銅用防蝕劑使用之唑化合物均可適用，此種唑化合物而言，可例舉：咪唑(imidazole)、吡唑、唑(oxazole)、異唑、噻唑(thiazole)、異噻唑、硒唑(selenazole)、1,2,3-三唑(triazole)、1,2,4-三唑、1,2,5-二唑、1,3,4-二唑、1,2,3-噻二唑(thiadiazole)、1,2,4-噻二唑、1,3,4-噻二唑、四唑、1,2,3,4-噻三唑，此等的衍生物，此等的胺鹽，此等的金屬鹽等。唑類的衍生物而言，可例舉：具有唑環與苯環等所成之縮合環(condensed ring)之化合物，可例舉：吲唑(indazole)、苯并咪唑、苯并三唑、苯并噻唑或，以及此等的衍生物之烷基苯并三唑(例如，苯并三唑、鄰甲苯基三唑、間甲苯基三唑、對甲苯基三唑、5-乙基苯并三唑、5-正丙基苯并三唑、5-異丁基苯并三唑、4-甲基苯并三唑)、烷氧苯并三唑(例如，5-甲氧苯并三唑)、烷胺基苯并三唑、烷胺基磺醯基苯并三唑、巰基苯并三唑、羥基苯并三唑、硝基苯并三唑(例如，4-硝基苯并三唑)、鹵苯并三唑(例如，5-氯苯并三唑)、羥烷基苯并三唑、氫苯并三唑、胺基苯并三唑、(取代胺甲基)-甲苯基三唑、羧基苯并三唑、N-烷基苯并三唑、雙苯并三唑、萘三唑、巰基苯并噻唑、胺基苯并噻唑等、此等的胺鹽、此等的金屬鹽等。

此等之中，1,2,3-三唑、1,2,4-三唑、甲苯基三唑、苯并三唑等，係廣泛作為銅用防蝕劑使用者。

於本發明所處理之含有唑系銅用防蝕劑之水中，可為僅含有此等唑化合物的1種，亦可為含有2種以上者。

通常，從半導體裝置製造過程之CMP過程所排出之排水中，含有此等唑系銅用防蝕劑5至30000mg/公升程度。

[亞鐵離子]

本發明中，對含有唑系銅用防蝕劑之水中添加亞鐵離子，依如下述之反應使屬於唑系銅用防蝕劑之唑化合物作為高分子量的鐵‧唑系錯合物不溶化。

Fe²⁺ +1/2O₂ +2(C₂ H₂ N₂ ‧NH)→(C₂ H₂ N₂ ‧N)₂ Fe+2H₂ O

使含有唑系銅用防蝕劑之水中存在亞鐵之用的藥劑(以下，簡稱「含有亞鐵之凝聚劑」)而言並不特別加以限制，惟可例舉：硫酸亞鐵、氯化亞鐵等的亞鐵鹽。此等可以單獨使用，亦可併用2種。

此等含有亞鐵之凝聚劑之中，特別是由於硫酸亞鐵，係在硫酸酸性溶液中因來自空氣的氧氣之氧化速度較慢之故較宜。

再者，本發明中，亞鐵離子之使用係極為重要者，如為鐵離子(ferric ion)，則如後述的比較例中所示，不能獲得唑化合物之不溶化作用。

此種含有亞鐵之凝聚劑的添加量，可按照所處理之含有唑系銅用防蝕劑之水的唑系銅用防蝕劑含量而適當加以決定，通常，對含有唑系銅用防蝕劑之水中的唑系銅用防蝕劑按莫耳計，較佳為添加0.5至5.0倍，特佳為添加0.5至3.0倍。如含有亞鐵之凝聚劑添加量過少時，則不能獲得足夠的唑系銅用防蝕劑的不溶化效果，如過多時，則難於獲得更佳的添加效果，只有無益地增加藥劑添加量而不經濟。

又，對含有唑系銅用防蝕劑之水中添加含有亞鐵之凝聚劑之後，則較佳為充分加以攪拌以使含有唑系銅用防蝕劑之水中的唑系銅用防蝕劑與亞鐵離子進行反應，而其攪拌時間較佳為10至30分鐘，特佳為15至20分鐘。

再者，當對含有唑系銅用防蝕劑之水中添加亞鐵離子以使鐵‧唑系錯合物析出時的pH條件而言，較佳為4至8、特佳為5至7。如pH在此範圍以上時，則由二價鐵成為氫氧化鐵而被耗費，又，如pH在此範圍以下之低pH條件時，則由於鐵的一部分成為一價的負離子之故，以致在鐵‧唑系錯合物之生成上其效率會惡化。

[處理步驟I]

以下，在參考圖面之下，就將亞鐵離子添加於含有唑系銅用防蝕劑之水之本發明之含有唑系銅用防蝕劑之水的處理方法的處理步驟加以具體說明。

第1圖，係表示本發明之含有唑系銅用防蝕劑之水的處理方法之實施形態之系統圖。

第1圖中，1為第1凝聚槽、2為第2凝聚槽、3為沈澱槽。

於此方法中，將原水(含有唑系銅用防蝕劑之水)導入於第1凝聚槽1中並添加含有亞鐵之凝聚劑與按需要時之pH調整劑(鹽酸、硫酸等酸)，較佳調整為pH 4至8，更佳為5至7，再較佳為攪拌10至30分鐘，更佳為15至20分鐘。

於該第1凝聚槽1中，將因原水中的唑系銅用防蝕劑與亞鐵離子之反應而生成鐵‧唑系錯合物。

第1凝聚槽1的處理水，則接著導入於第2凝聚槽2中，將氫氧化鈉、氫氧化鉀、氫氧化鈣等的鹼作為pH調整劑添加，以調整pH較佳為7至12，更佳為8至11後加以攪拌。於此第2凝聚槽2中之滯溜時間較佳為5至15分鐘，特佳為5至10分鐘程度。

於該第2凝聚槽2中，經在pH鹼性的條件下在第1凝聚槽1中所生成之鐵‧唑系錯合物再與氫氧化鐵絮凝體(floc)進行凝聚，而成為大的絮凝體。在此絮凝體之形成時，原水中的硏磨劑粒子等的懸浮物質亦一起進行凝聚而被絮凝體化。

第2凝聚槽2的處理水，則接著將在沈澱槽3中進行固-液分離，惟較佳為進行固-液分離之前，添加高分子凝聚劑以使絮凝體粗大化。

第1圖中，係從第2凝聚槽2對沈澱槽3的配管中進行高分子凝聚劑者，惟亦可作成再設置凝聚槽，在槽內之攪拌下添加高分子凝聚劑之方式。

該高分子凝聚劑的添加量並不特別加以限制，惟通常作成1至4mg/公升程度為宜。

又，沈澱槽3的通水LV(線速度)，較佳為作成0.5至0.8m/小時，特佳為0.7至0.8m/小時之方式。

如此方式在沈澱槽3中進行固-液分離，則可與原水中的懸浮物質一起，經作成鐵‧唑系錯合物所不溶化之唑系銅用防蝕劑即被去除，結果可製得經顯著降低唑系銅用防蝕劑濃度之處理水。

[臭氧氧化]

本發明中，於經上述方式去除不溶性的鐵‧唑系錯合物後所得處理水中再注入臭氧以分解去除所殘留之含有唑系銅用防蝕劑之TOC成分，即可更高效率方式去除唑系銅用防蝕劑。

當進行利用該臭氧之氧化分解時，由於原水中的唑系銅用防蝕劑係經已事先被去除者，且懸浮物質亦經與唑系銅用防蝕劑一起被去除之故，可防止臭氧的無謂的耗費且以少量臭氧注入量實施有效的處理。

該臭氧分解處理，較佳為屬於臭氧加速氧化處理法，例如，按，

(1)臭氧與鹼的併用

(2)臭氧與過氧化氫的併用

(3)臭氧與過氧化氫與鹼的併用

(4)臭氧與紫外線與過氧化氫的併用

等方式實施為宜。

此中，如併用臭氧與過氧化氫之情形，則pH條件作成較佳為8至12，特佳為9.5至10.5的範圍。

過氧化氫添加量，對注入臭氧量，以重量計，作成較佳為1至1/20倍、特佳為1/3至1/7倍之方式。

臭氧的注入量，係作成為TOC成分的分解去除所需要的量，而本發明中，則在臭氧分解之前的利用亞鐵離子之凝聚處理時，臭氧的需要注入量能對原水的TOC濃度，以重量計，較佳為成為6倍以下，特佳為3倍以下之方式，預先將原水中的唑系銅用防蝕劑及懸浮物質加以去除。

能以如此少量的臭氧注入量而製得三唑濃度，以TOC換算計，為1.5mg/公升以下的處理水起見，在前述之利用亞鐵離子之凝聚處理中，較佳為製得100mg/公升以下，例如80至85mg/公升程度的固-液分離水。

再者，臭氧的注入方法而言並不特別加以限制，除於氣泡塔中設置通氣管以使臭氧擴散之方式之外，尚可舉：利用U型管式接觸槽(U-tube type contact tank)，或射出器(ejector)、靜態攪拌器(static mixer)之方法等。

[處理步驟II]

以下，在參考圖面之下，就將亞鐵離子添加於含有唑系銅用防蝕劑之水中並經處理後的固-液分離液進行臭氧氧化時的處理步驟加以具體說明。

第2圖，係表示本發明之含有唑系銅用防蝕劑之水的處理方法之另一實施形態之系統圖。

第2圖中，11為凝聚槽、12為沈澱槽、13為過濾裝置、14為臭氧加速氧化反應槽。

於凝聚槽11及沈澱槽12中之處理條件，係與第1圖中之第1凝聚槽1、第2凝聚槽2以及沈澱槽3之處理條件相同者。

沈澱槽13的固-液分離水，係在利用過濾裝置13而再去除固-液分離水中所含之插腳絮凝體(pin floc)或凝聚劑以及未反應之懸浮物質等的不純物後，即導入於臭氧加速氧化反應槽14。在此過濾裝置13而言，可採用膜濾器(membrane filter)、砂濾器(sand filter)等一般性過濾裝置。

於臭氧加速氧化反應槽14中，則依前述之(1)至(4)等方式進行臭氧加速氧化處理，而所殘留之唑系銅用防蝕劑等TOC成分將被分解去除。

實施例

以下將舉出實施例及比較例以更具體性說明本發明內容。

在此，下述之實施例1至5及比較例1至13的試料水中的三唑濃度，係採用島津製作所(股)製TOC計「5000A」所定量者。又就實施例6及比較例14至17，則採用惠普公司(Hewlett-Packard Co.)製的液體層析術系統(liquid chromatographic system)1100系列所定量者。

實施例1至5

使用第1圖所示處理裝置，將以1,2,4-三唑作為TOC而含有300mg/公升之水(pH6.5)作為原水進行處理。

在此，當實施凝聚處理時，需要時作為pH調整劑而添加酸(鹽酸)或鹼(氫氧化鈉)。

於第1凝聚槽1中，對原水添加表1中所示量之硫酸亞鐵並依表1所示pH條件，以180rpm進行攪拌20分鐘。對此第1凝聚槽1的處理水，在第2凝聚槽2中添加鹼並依表1所示pH條件，以60rpm進行攪拌60分鐘對此第2凝聚槽2的處理水中添加陰離子系高分子凝聚劑(栗田工業(股)製「PA-331)2.0mg/公升後在沈澱槽3中進行固-液分離。該沈澱槽3的水面積為0.1m² ，而通水LV則作成0.8m/小時。

測定所得處理水(沈澱槽3的固-液分離水)的TOC濃度，並將其結果表示於表1中。

比較例1至8

除不用硫酸亞鐵而採用三氯化鐵，並將其添加量與第1凝聚槽1及第2凝聚槽2的pH條件作成表1中所示之條件以外，其餘則按與實施例1至5同樣方式以進行處理，並將所得處理水的TOC濃度表示於表1中。

比較例9至13

除不用硫酸亞鐵而採用硫酸鋁(aluminum sulfate)，並將其添加量與第1凝聚槽1及第2凝聚槽2的pH條件作成表1中所示之條件以外，其餘則按與實施例1至5同樣方式以進行處理，並將所得處理水的TOC濃度表示於表1中。

從表1可知，如採用硫酸亞鐵的需要量，則可有效凝聚分離三唑之事實(實施例1至5)。

又，可知，相對於此，在三氯化鐵或硫酸鋁，則即使增加其添加量，仍然殆不能去除三唑之事實(比較例1至13)。

實施例6

將以三唑作為TOC而含有180mg/公升之排水作為原水(作為TOC為360mg/公升)，對此添加硫酸亞鐵5000mg/公升(對三唑為2.4莫耳倍)，以鹽酸調整pH為3並攪拌30分鐘。然後，添加氫氧化鈣以調整pH為10後，攪拌20分鐘，再添加陰離子系高分子凝聚劑(栗田工業(股)製「PA-331」)2.0mg/公升並攪拌20分鐘以進行凝聚處理後，使用No.5濾紙(ADVANTEC公司製)加以過濾。所得凝聚處理水之TOC濃度為如表2所示者。

將此凝聚處理水置入15公升的管柱(column)(直徑150mm，材質：透明氯化乙烯)中，添加過氧化氫之同時，將在臭氧產生器(住友精密機器製「GR-RD」)所發生之臭氧濃度150g/Nm³ (標準立方公尺)的臭氧氣體，按2NL(標準公升)/分鐘之速度從管柱下部使用通氣管(木下式圓濾器(balloon filter)加以吹入以進行臭氧加速氧化分解。在此處理中，按pH能成為一定值(pH10)之方式，使用注藥泵(IWAKI公司製「EH-B10VH-100PW1-PH1」)以注入5N(當量)的氫氧化鈉水溶液。

於此處理中，可由下述式算出之臭氧注入量(g)為如表1中所示者。

臭氧濃度×流量×臭氧注入時間/1000=150g/Nm³ ×2NL/分鐘×臭氧注入時間(分鐘)/1000

再者，過氧化氫的添加量，係以O₃ /H₂ O₂ (重量比)計，作成5.0。

測定所得處理水的TOC濃度，並將其結果表示於表1中。

比較例14、15

除於實施例6中，當進行原水的凝聚處理時，不用硫酸亞鐵而採用多硫酸鐵，並將臭氧注入量作成如表2中所示之量以外，其餘則按與實施例6同樣方式進行處理，並將其結果表示於表1中。

[比較例16、17]

除於實施例6中，不實施原水之凝聚處理而直接進行原水之臭氧加速氧化處理，並將此時的臭氧注入量作成如表2所示之量以外，其餘則按與實施例6同樣方式進行處理，並將其結果表示於表1中。

由表2可明瞭下列事實。

在不實施原水之凝聚處理而直接進行臭氧加速氧化處理時，如欲充分分解去除三唑時，則需要21.6g的大量臭氧(比較例16、17)。

即使實施有原水之凝聚處理，惟作為凝聚劑而採用鐵鹽時，則在凝聚處理中未能去除三唑，如欲充分分解去除三唑時，則仍然需要10.8g之多的臭氧(比較例14、15)。但，此時，由於排水中的懸浮物質被凝聚處理所去除之故，可防止臭氧的無謂的耗費，結果較未實施凝聚處理時為能減少臭氧的需要量。

相對於此，在採用亞鐵鹽以進行凝聚處理後，如實施臭氧加速氧化處理時，則可5.4g之非常少量的臭氧量，即可分解去除三唑至極低濃度之程度(實施例6)。

本說明書中經採用特定的狀態藉以詳細說明本發明內容，惟本業從業人員應可明瞭在不違離本發明之意旨及範圍之下能實施種種變更之事實。

再者，本申請案係根據2008年11月19日所提出申請之日本專利申請案(特願2008-295757)者，將其全體內容藉由引用而援用於本說明書內。

1．．．第1凝聚槽

2．．．第2凝聚槽

3．．．沈澱槽

11．．．凝聚槽

12．．．沈澱槽

13．．．過濾裝置

14．．．臭氧加速氧化反應槽

第1圖：表示本發明之含有唑系銅用防蝕劑之水的處理方法之實施形態之系統圖。

第2圖：表示本發明之含有唑系銅用防蝕劑之水的處理方法之另一實施形態之系統圖。

1．．．第1凝聚槽

2．．．第2凝聚槽

3．．．沈澱槽

Claims

一種含有唑系銅用防蝕劑之水的處理方法，其特徵為：對含有唑系銅用防蝕劑之水中添加亞鐵離子，以分離所生成之不溶性的鐵．唑系錯合物。
如申請專利範圍第1項之含有唑系銅用防蝕劑之水的處理方法，其中將該不溶性的鐵．唑系錯合物加以分離後，將所殘留之TOC成分加以臭氧分解。
如申請專利範圍第1項或第2項之含有唑系銅用防蝕劑之水的處理方法，其中含有唑系銅用防蝕劑之水，係從半導體裝置製得過程之化學機械拋光過程所排出之水。
如申請專利範圍第1項或第2項之含有唑系銅用防蝕劑之水的處理方法，其中唑系銅用防蝕劑中含有唑化合物，而該唑化合物，係選自咪唑、吡唑、唑、異唑、噻唑、異噻唑、硒唑、1,2,3-三唑、1,2,4-三唑、1,2,5-二唑、1,3,4-二唑、1,2,3-噻二唑、1,2,4-噻二唑、1,3,4-噻二唑、四唑、1,2,3,4-噻三唑、此等的衍生物、此等的胺鹽、及此等的金屬鹽所成群之至少1種。
如申請專利範圍第4項之含有唑系銅用防蝕劑之水的處理方法，其中該含有唑系銅用防蝕劑之水中含有唑化合物5至30000mg/公升。
如申請專利範圍第1項或第2項之含有唑系銅用防蝕劑之水的處理方法，其中藉由添加由硫酸亞鐵及氯化亞鐵的至少1種所成的亞鐵鹽，以對含有唑系銅用防蝕劑之水中添加前述亞鐵離子。
如申請專利範圍第6項之含有唑系銅用防蝕劑之水的處理方法，其中對含有唑系銅用防蝕劑之水中的唑系銅用防蝕劑按莫耳比計，添加亞鐵鹽0.5至5.0倍。
如申請專利範圍第1或第2項之含有唑系銅用防蝕劑之水的處理方法，其中對pH 4至8的含有唑系銅用防蝕劑之水中添加亞鐵離子，以使鐵．唑系錯合物析出。
如申請專利範圍第8項之含有唑系銅用防蝕劑之水的處理方法，其中鐵．唑系錯合物經析出後，調整該水之pH為7至12，以使鐵．唑系錯合物與氫氧化鐵絮凝體(flock)進行凝聚。
如申請專利範圍第9項之含有唑系銅用防蝕劑之水的處理方法，其後，對該水添加高分子凝聚劑。