JP2001334275A - ウェーハ加工工程排水の処理方法 - Google Patents
ウェーハ加工工程排水の処理方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 半導体ウェーハ加工工程で排出する特異な排
出物を相互に有効利用して処理反応に使用し、従来より
も低コストで、河川に放流可能な水質に処理すること。 【解決手段】 半導体ウェーハ加工工程排水のうち、難
分解性有機物系排水を第一鉄塩の存在下で、別の系から
排出する強酸性排液にてＰＨを調節して、更に別の系か
ら排出する過酸化水素含有排水の過酸化水素で前記難分
解性有機物を酸化分解するなどの総合的な処理を行う。
出物を相互に有効利用して処理反応に使用し、従来より
も低コストで、河川に放流可能な水質に処理すること。 【解決手段】 半導体ウェーハ加工工程排水のうち、難
分解性有機物系排水を第一鉄塩の存在下で、別の系から
排出する強酸性排液にてＰＨを調節して、更に別の系か
ら排出する過酸化水素含有排水の過酸化水素で前記難分
解性有機物を酸化分解するなどの総合的な処理を行う。
Description
【０００１】
【発明の属する技術の分野】本発明は半導体ウェーハ加
工工程排水の総合的な処理方法関する。
工工程排水の総合的な処理方法関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体ウェーハ製造工程では、各種無機
化学薬品、有機薬品を水とともに用いており、しかも用
いたほとんどを排出する工業である。シリコンウェーハ
の製造に見てみれば、スライス、研削、研磨工程では各
種界面活性剤、高分子保護コロイド類、アミン類、無機
アルカリ類が無機の微粒子研磨剤とともに使われ、切
断、研削、研磨されるシリコン自体からはシリコンの微
粒子が削り取られる。エッチング工程では硝酸性の弗化
水素酸が使われ、洗浄工程ではアンモニア性の過酸化水
素が使われる。しかも、これらの工程には必ず適性量の
有機溶剤や有機酸が伴い、大量の水の消費を伴う。
化学薬品、有機薬品を水とともに用いており、しかも用
いたほとんどを排出する工業である。シリコンウェーハ
の製造に見てみれば、スライス、研削、研磨工程では各
種界面活性剤、高分子保護コロイド類、アミン類、無機
アルカリ類が無機の微粒子研磨剤とともに使われ、切
断、研削、研磨されるシリコン自体からはシリコンの微
粒子が削り取られる。エッチング工程では硝酸性の弗化
水素酸が使われ、洗浄工程ではアンモニア性の過酸化水
素が使われる。しかも、これらの工程には必ず適性量の
有機溶剤や有機酸が伴い、大量の水の消費を伴う。
【０００３】従って、当該工業においても排水の処理は
不可欠であり、しかもその処理方法は半導体ウェーハ製
造コスト上にも大きく影響する。
不可欠であり、しかもその処理方法は半導体ウェーハ製
造コスト上にも大きく影響する。
【０００４】さて、現状の半導体ウェーハ製造工程での
排水の系統は大別して、（Ａ）アンモニア性過酸化水素
系排水、（Ｂ）ＳＳ（シリコンスラッジ）含有界面活性
剤系排水、（Ｃ）硝酸酸性弗化水素酸系排水に分類され
る。これらは、有機溶剤、有機酸、有機アミン、高分子
系保護コロイドなども含有するが、それぞれ特異な物質
を含んでいるため画一的な生物的分解では処理不可能で
あると同時にそれぞれの特異な物質が生物的分解を阻害
することもあった。そこで、従来半導体工業ではそれぞ
れの排水系統を個別に処理した後合流、終末処理を行っ
て、工場外に放流していた。
排水の系統は大別して、（Ａ）アンモニア性過酸化水素
系排水、（Ｂ）ＳＳ（シリコンスラッジ）含有界面活性
剤系排水、（Ｃ）硝酸酸性弗化水素酸系排水に分類され
る。これらは、有機溶剤、有機酸、有機アミン、高分子
系保護コロイドなども含有するが、それぞれ特異な物質
を含んでいるため画一的な生物的分解では処理不可能で
あると同時にそれぞれの特異な物質が生物的分解を阻害
することもあった。そこで、従来半導体工業ではそれぞ
れの排水系統を個別に処理した後合流、終末処理を行っ
て、工場外に放流していた。
【０００５】図１によりそれを説明すると、ウェーハ洗
浄工程などで排出するアンモニア性過酸化水素系排水１
３は、生産設備至近にある中継設備１４、例えば地下タ
ンク、床下タンクなどに一旦受け入れて、当該排水処理
設備に付帯する原水タンク１５にポンプＰによって移
送、ここで生産側からの排出のバラツキを緩衝し、過酸
化水素分解工程１６にポンプＰによって導入される。過
酸化水素分解工程１６は例えば攪拌槽型バッチ若しくは
連続反応器で構成され、酸化還元電位計で過酸化水素の
濃度を計測しながら、亜硫酸ソーダなどの還元剤で過酸
化水素を分解する。過酸化水素分解工程１６からの排出
水１９はアンモニア性の窒素を含んでいるので、更に生
物化学的処理で硝化反応（酸化）を行なうべく、硝化槽
６に導入される。
浄工程などで排出するアンモニア性過酸化水素系排水１
３は、生産設備至近にある中継設備１４、例えば地下タ
ンク、床下タンクなどに一旦受け入れて、当該排水処理
設備に付帯する原水タンク１５にポンプＰによって移
送、ここで生産側からの排出のバラツキを緩衝し、過酸
化水素分解工程１６にポンプＰによって導入される。過
酸化水素分解工程１６は例えば攪拌槽型バッチ若しくは
連続反応器で構成され、酸化還元電位計で過酸化水素の
濃度を計測しながら、亜硫酸ソーダなどの還元剤で過酸
化水素を分解する。過酸化水素分解工程１６からの排出
水１９はアンモニア性の窒素を含んでいるので、更に生
物化学的処理で硝化反応（酸化）を行なうべく、硝化槽
６に導入される。
【０００６】ウェーハスライス工程、ウェーハ研削工
程、ウェーハ研磨工程などから排出するＳＳ含有界面活
性剤系排水９は、同様にして生産設備至近にある中継設
備１０、例えば地下タンク、床下タンクなどに一旦受け
入れて、当該排水処理設備に付帯する原水タンク１１に
ポンプＰによって移送、ここで生産側からの排出のバラ
ツキを緩衝し、浮遊物質除去工程１２にポンプＰによっ
て導入される。浮遊物質除去工程１２は例えば凝集沈殿
槽で構成され、適切なＰＨ調節の基で硫酸アルミ、ポリ
塩化アルミ、塩化鉄などの無機系凝集剤若しくはアルギ
ン酸ソーダ、ポリアクリルアミドのような高分子系凝集
剤又は両者を共に添加混合し、当該排水に含まれる酸化
けい素、けい素などの微粒子で構成されるＳＳを凝集沈
殿させて、除去する。ＳＳを除去した当該排水１８は依
然として、ＣＯＤ分として測定される難分解性の界面活
性剤等を含んでおり、活性汚泥による生物処理が行なわ
れる脱窒槽５へ導入される。また、生物処理が格段に困
難な化合物のような場合、直接活性炭処理などの高度処
理８に付されて工場外へ排出することもある。
程、ウェーハ研磨工程などから排出するＳＳ含有界面活
性剤系排水９は、同様にして生産設備至近にある中継設
備１０、例えば地下タンク、床下タンクなどに一旦受け
入れて、当該排水処理設備に付帯する原水タンク１１に
ポンプＰによって移送、ここで生産側からの排出のバラ
ツキを緩衝し、浮遊物質除去工程１２にポンプＰによっ
て導入される。浮遊物質除去工程１２は例えば凝集沈殿
槽で構成され、適切なＰＨ調節の基で硫酸アルミ、ポリ
塩化アルミ、塩化鉄などの無機系凝集剤若しくはアルギ
ン酸ソーダ、ポリアクリルアミドのような高分子系凝集
剤又は両者を共に添加混合し、当該排水に含まれる酸化
けい素、けい素などの微粒子で構成されるＳＳを凝集沈
殿させて、除去する。ＳＳを除去した当該排水１８は依
然として、ＣＯＤ分として測定される難分解性の界面活
性剤等を含んでおり、活性汚泥による生物処理が行なわ
れる脱窒槽５へ導入される。また、生物処理が格段に困
難な化合物のような場合、直接活性炭処理などの高度処
理８に付されて工場外へ排出することもある。
【０００７】エッチング工程などから排出する硝酸酸性
弗化水素酸系排水１は、同様にして生産設備至近にある
中継設備２、例えば地下タンク、床下タンクなどに一旦
受け入れて、当該排水処理設備に付帯する原水タンク３
にポンプＰによって移送、ここで生産側からの排出のバ
ラツキを緩衝し、フッ素除去工程４にポンプＰによって
導入される。フッ素除去工程４は例えば攪拌槽型反応器
と凝集沈殿槽から成り、攪拌反応槽中でフッ化水素酸は
攪拌下に添加される消石灰と反応して弗化カルシウムと
して不溶化しＳＳを生成する。当該ＳＳは次段の凝集沈
殿槽中で凝集剤の作用により凝集沈殿させて沈降分離す
る。該ＳＳを分離した排液１７は依然として硝酸性の窒
素及び酢酸などのＢＯＤを含むので、脱窒槽５に送ら
れ、硝化槽６で酸化され硝酸型に変化した窒素分ととも
に、生物化学的に他のＢＯＤを栄養源としながら還元分
解する。
弗化水素酸系排水１は、同様にして生産設備至近にある
中継設備２、例えば地下タンク、床下タンクなどに一旦
受け入れて、当該排水処理設備に付帯する原水タンク３
にポンプＰによって移送、ここで生産側からの排出のバ
ラツキを緩衝し、フッ素除去工程４にポンプＰによって
導入される。フッ素除去工程４は例えば攪拌槽型反応器
と凝集沈殿槽から成り、攪拌反応槽中でフッ化水素酸は
攪拌下に添加される消石灰と反応して弗化カルシウムと
して不溶化しＳＳを生成する。当該ＳＳは次段の凝集沈
殿槽中で凝集剤の作用により凝集沈殿させて沈降分離す
る。該ＳＳを分離した排液１７は依然として硝酸性の窒
素及び酢酸などのＢＯＤを含むので、脱窒槽５に送ら
れ、硝化槽６で酸化され硝酸型に変化した窒素分ととも
に、生物化学的に他のＢＯＤを栄養源としながら還元分
解する。
【０００８】このようにして、それぞれの排水系統で特
異な排出物質をを個別に処理した後、一部を除き集合し
て、活性汚泥による生物処理により、脱窒５、硝化６、
炭素性有機物の汚泥化を行なった後、沈殿槽７で沈降分
離して上澄を必要に応じ活性炭などで高度処理８して、
河川に放流している。
異な排出物質をを個別に処理した後、一部を除き集合し
て、活性汚泥による生物処理により、脱窒５、硝化６、
炭素性有機物の汚泥化を行なった後、沈殿槽７で沈降分
離して上澄を必要に応じ活性炭などで高度処理８して、
河川に放流している。
【０００９】上記した従来の技術においては、1つの問
題として難分解性の界面活性剤は生物化学的には完全に
処理されているわけではないので、結局は最終段階で高
価な活性炭による処理を必要とする。また、強力な酸化
剤である過酸化水素は後段の生物処理を阻害するので、
わざわざ別途還元剤などで分解しておく必要がありこれ
もコストアップ要因の一つである。そしてそれぞれの系
統の排水処理及び集合の排水処理では、適切な処理条件
としてのＰＨがあるので、別途用意した中和剤による調
節が必要である。
題として難分解性の界面活性剤は生物化学的には完全に
処理されているわけではないので、結局は最終段階で高
価な活性炭による処理を必要とする。また、強力な酸化
剤である過酸化水素は後段の生物処理を阻害するので、
わざわざ別途還元剤などで分解しておく必要がありこれ
もコストアップ要因の一つである。そしてそれぞれの系
統の排水処理及び集合の排水処理では、適切な処理条件
としてのＰＨがあるので、別途用意した中和剤による調
節が必要である。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記従来技術
の問題点に鑑み、半導体ウェーハ加工工程排水の処理方
法を総合的に考え、難分解性排出物を半導体ウェーハ加
工工程で排出する物質を利用して、易分解性物質に変化
することを目的とする。
の問題点に鑑み、半導体ウェーハ加工工程排水の処理方
法を総合的に考え、難分解性排出物を半導体ウェーハ加
工工程で排出する物質を利用して、易分解性物質に変化
することを目的とする。
【００１１】更に本発明は、半導体ウェーハ加工工程で
排出する強酸性フッ素含有排水を上記難分解性排出物の
易分解性物質化に変化させる際の反応条件制御に利用す
ることを目的とする。
排出する強酸性フッ素含有排水を上記難分解性排出物の
易分解性物質化に変化させる際の反応条件制御に利用す
ることを目的とする。
【００１２】更に本発明は上記二つの目的を果たしなが
ら、排水中のＳＳの除去、フッ素分の除去、含有窒素分
の脱窒、有機物質の生物処理を行なって、最終末端で河
川に放流可能な水質に処理する、従来よりもコストを低
減した半導体ウェーハ加工工程で排出する排水の総合的
な処理システムを提供することを目的とする。
ら、排水中のＳＳの除去、フッ素分の除去、含有窒素分
の脱窒、有機物質の生物処理を行なって、最終末端で河
川に放流可能な水質に処理する、従来よりもコストを低
減した半導体ウェーハ加工工程で排出する排水の総合的
な処理システムを提供することを目的とする。
【００１３】
【課題を解決するための手段】半導体ウェーハ加工工程
排水の総合的な処理方法において、上記目的を達成する
ために、本発明の排水の処理方法は難分解性有機物系排
水を第一鉄塩の存在下で、別の系から排出する強酸性排
液にてＰＨを調節して、更に別の系から排出する過酸化
水素含有排水の過酸化水素で前記難分解性有機物を酸化
分解することを特徴とする。
排水の総合的な処理方法において、上記目的を達成する
ために、本発明の排水の処理方法は難分解性有機物系排
水を第一鉄塩の存在下で、別の系から排出する強酸性排
液にてＰＨを調節して、更に別の系から排出する過酸化
水素含有排水の過酸化水素で前記難分解性有機物を酸化
分解することを特徴とする。
【００１４】難分解性有機物の化学的酸化は、炭素鎖を
切断して分子量を低減し、末端をＯＨ基なり、ＣＯＯＨ
基なりに変化させ、若しくはカルボニル基を鎖中に導入
したりなどして物質を変化させて、分子鎖の水との親和
性、延いては微生物との親和性を出さしめ、且つ界面活
性力を喪失させて、微生物への悪影響を取り除こうとい
うものである。かかる酸化剤には各種のものが考えられ
る。例えば排水の酸化にはオゾンが使用されるが、オゾ
ンは周知のように不飽和結合には効力があるが飽和結合
には作用が低い。さらにはオゾン発生装置など高価な処
理設備を必要とする。
切断して分子量を低減し、末端をＯＨ基なり、ＣＯＯＨ
基なりに変化させ、若しくはカルボニル基を鎖中に導入
したりなどして物質を変化させて、分子鎖の水との親和
性、延いては微生物との親和性を出さしめ、且つ界面活
性力を喪失させて、微生物への悪影響を取り除こうとい
うものである。かかる酸化剤には各種のものが考えられ
る。例えば排水の酸化にはオゾンが使用されるが、オゾ
ンは周知のように不飽和結合には効力があるが飽和結合
には作用が低い。さらにはオゾン発生装置など高価な処
理設備を必要とする。
【００１５】一方本発明で使用する過酸化水素は、工程
内で排出するものをそのまま利用できるので、わざわざ
薬液を購入する必要はない。しかも、過酸化水素は酸化
反応性としては飽和炭素結合にたいして有効に働き、特
に、第一鉄塩の存在下では強い酸化力を呈する。但し、
被処理水のＰＨを２〜４の強酸性にする必要がある。そ
こで、本発明では別の系から排出する強酸性排液を利用
してＰＨを高い酸性条件にコントロールして第一鉄塩の
触媒作用を利用する。ここにおいても、別途薬液の購入
を必要とせず、工程内排液を利用し、コスト低減に繋げ
ることができる。
内で排出するものをそのまま利用できるので、わざわざ
薬液を購入する必要はない。しかも、過酸化水素は酸化
反応性としては飽和炭素結合にたいして有効に働き、特
に、第一鉄塩の存在下では強い酸化力を呈する。但し、
被処理水のＰＨを２〜４の強酸性にする必要がある。そ
こで、本発明では別の系から排出する強酸性排液を利用
してＰＨを高い酸性条件にコントロールして第一鉄塩の
触媒作用を利用する。ここにおいても、別途薬液の購入
を必要とせず、工程内排液を利用し、コスト低減に繋げ
ることができる。
【００１６】更に本発明は前記難分解性有機物系排水が
ＳＳを含み、該排水中の難分解性有機物を酸化分解後、
凝集沈殿によってＳＳを除去することを特徴とする。す
なわち、酸化分解後の廃液は、研磨砥粒や研削・研磨さ
れた珪素微粉末に由来する無機性のＳＳが存在するので
先ずは当該無機性のＳＳを凝集沈殿で除去しておくの
が、後段の活性汚泥による生物処理には好ましい。ま
た、前段の酸化分解で使用した酸性排液が弗化水素酸を
含むケースが多いので、この段階で消石灰若しくは炭酸
石灰によってフッ化カルシウムを析出させ、しかる後、
凝集沈殿によって前記難分解性有機物系排水由来のＳＳ
とともに除去することが本発明の更に特徴とするところ
である。
ＳＳを含み、該排水中の難分解性有機物を酸化分解後、
凝集沈殿によってＳＳを除去することを特徴とする。す
なわち、酸化分解後の廃液は、研磨砥粒や研削・研磨さ
れた珪素微粉末に由来する無機性のＳＳが存在するので
先ずは当該無機性のＳＳを凝集沈殿で除去しておくの
が、後段の活性汚泥による生物処理には好ましい。ま
た、前段の酸化分解で使用した酸性排液が弗化水素酸を
含むケースが多いので、この段階で消石灰若しくは炭酸
石灰によってフッ化カルシウムを析出させ、しかる後、
凝集沈殿によって前記難分解性有機物系排水由来のＳＳ
とともに除去することが本発明の更に特徴とするところ
である。
【００１７】ところが、半導体ウェーハ加工工程で弗酸
を使用する場合多くは硝酸との混酸であり、酢酸などの
有機物を含んでいる。従って無機性ＳＳを除去後、更に
生物化学的分解処理によって、硝酸分を脱窒し、且つそ
の他の有機物を分解除去することも本発名の特徴であ
る。
を使用する場合多くは硝酸との混酸であり、酢酸などの
有機物を含んでいる。従って無機性ＳＳを除去後、更に
生物化学的分解処理によって、硝酸分を脱窒し、且つそ
の他の有機物を分解除去することも本発名の特徴であ
る。
【００１８】また、半導体ウェーハ加工工程で過酸化水
素を使用する場合アンモニア性のアルカリであることが
ほとんどであって、酸化分解後該排水を生物化学的に硝
化し、しかる後生物化学的に脱窒し,且つその他の有機
物を分解除去することも本発明の特徴である。当該脱窒
は上記弗酸含有排液のフッ素分除去後の排液の脱窒と同
一反応槽で行なうことは一向構わなくむしろ好ましい。
素を使用する場合アンモニア性のアルカリであることが
ほとんどであって、酸化分解後該排水を生物化学的に硝
化し、しかる後生物化学的に脱窒し,且つその他の有機
物を分解除去することも本発明の特徴である。当該脱窒
は上記弗酸含有排液のフッ素分除去後の排液の脱窒と同
一反応槽で行なうことは一向構わなくむしろ好ましい。
【００１９】半導体ウェーハ工程では各種の界面活性剤
や高分子保護コロイド類を選択して使用するが、本発明
の難分解性有機物系排水中の難分解性有機物の酸化工程
では前記したごとく強い酸化剤による化学的酸化なの
で、広範囲な化合物に適用可能である。従って本発明の
対象である難分解性有機物はノニオン界面活性剤、アニ
オン界面活性剤、カチオン界面活性剤若しくは高分子保
護コロイドを含むことを特徴とする。
や高分子保護コロイド類を選択して使用するが、本発明
の難分解性有機物系排水中の難分解性有機物の酸化工程
では前記したごとく強い酸化剤による化学的酸化なの
で、広範囲な化合物に適用可能である。従って本発明の
対象である難分解性有機物はノニオン界面活性剤、アニ
オン界面活性剤、カチオン界面活性剤若しくは高分子保
護コロイドを含むことを特徴とする。
【００２０】而して、生物処理を完了した排水が未だ、
排出基準を満たさない場合、若しくは当該工程における
目標基準を満たさない場合は,更に最終段で活性炭処理
などの高度処理を行なうことも本発明の特徴とするとこ
ろである。
排出基準を満たさない場合、若しくは当該工程における
目標基準を満たさない場合は,更に最終段で活性炭処理
などの高度処理を行なうことも本発明の特徴とするとこ
ろである。
【００２１】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照し本発明の実施
形態例に基づいて本発明を更に詳細に説明する。図２
は、本発明の一実施形態例のフローチャートである。
形態例に基づいて本発明を更に詳細に説明する。図２
は、本発明の一実施形態例のフローチャートである。
【００２２】生産工程の各ラインから排出する硝酸酸性
弗化水素酸系排水１０１、ＳＳ含有界面活性剤系排水１
０２、アンモニア性加過酸化水素系排水１０３は合併し
て生産側至近の中継設備１０４に一旦受け入れる。この
際中和反応が行われるが、当該工業の排出水のマテリア
ルバランス上では、圧倒的に酸性が勝っていて、合併後
の排水は依然として強酸性を呈する。
弗化水素酸系排水１０１、ＳＳ含有界面活性剤系排水１
０２、アンモニア性加過酸化水素系排水１０３は合併し
て生産側至近の中継設備１０４に一旦受け入れる。この
際中和反応が行われるが、当該工業の排出水のマテリア
ルバランス上では、圧倒的に酸性が勝っていて、合併後
の排水は依然として強酸性を呈する。
【００２３】中継設備１０４中の排水はポンプＰによ
り、処理サイトに設置されている酸化分解工程１０５に
移送する。当該工程は主として攪拌槽型反応器で構成
し、塩化第一鉄触媒１１１を添加混合して、強酸性下で
酸化分解反応１１１、即ち Ｈ２Ｏ２→Ｏ及びＣＯＤ→
ＢＯＤ を行う。
り、処理サイトに設置されている酸化分解工程１０５に
移送する。当該工程は主として攪拌槽型反応器で構成
し、塩化第一鉄触媒１１１を添加混合して、強酸性下で
酸化分解反応１１１、即ち Ｈ２Ｏ２→Ｏ及びＣＯＤ→
ＢＯＤ を行う。
【００２４】酸化分解反応が終了した排液１１３はアン
モニア性・硝酸性窒素、ふっ酸、ＳＳ及びＢＯＤを含有
した排水であって、次段の弗素及びＳＳ除去工程に導入
する。当該工程は攪拌槽型反応器及び凝集沈殿槽で構成
し、前段から受入れた排水に消石灰を添加混合し、弗素
イオンを弗化カルシウムとして固定、析出せしめる。該
反応で析出した弗化カルシウムのＳＳ及びＳＳ含有界面
活性剤系排水１０２由来のＳｉＯ２、Ｓｉを主成分とす
るＳＳを凝集沈殿槽にて、ポリ塩化アルミ、その他高分
子凝集剤などで凝集沈殿し、除去する。この段階の凝集
沈殿では、原水のＰＨがかなり高いので、凝集沈殿に適
当な範囲までＰＨを調節する必要がある。
モニア性・硝酸性窒素、ふっ酸、ＳＳ及びＢＯＤを含有
した排水であって、次段の弗素及びＳＳ除去工程に導入
する。当該工程は攪拌槽型反応器及び凝集沈殿槽で構成
し、前段から受入れた排水に消石灰を添加混合し、弗素
イオンを弗化カルシウムとして固定、析出せしめる。該
反応で析出した弗化カルシウムのＳＳ及びＳＳ含有界面
活性剤系排水１０２由来のＳｉＯ２、Ｓｉを主成分とす
るＳＳを凝集沈殿槽にて、ポリ塩化アルミ、その他高分
子凝集剤などで凝集沈殿し、除去する。この段階の凝集
沈殿では、原水のＰＨがかなり高いので、凝集沈殿に適
当な範囲までＰＨを調節する必要がある。
【００２５】前記工程から排出する排水１１４は依然と
して未だアンモニア性・硝酸性窒素及びＢＯＤ含有を含
有しているので、次段の生物処理工程（１０７、１０
８、１０９）へ移送する。当該工程は脱窒槽１０７、硝
化槽１０８及び沈殿槽１０９より成り、脱窒槽１０７、
硝化槽１０８は曝気、攪拌できるよう構成する。ここ
で、アンモニア性窒素は硝化して硝酸性に変化し、硝酸
性窒素は脱窒する。ＢＯＤとしての有機物は汚泥の栄養
素として消化させ、余剰汚泥を沈殿槽で沈殿して分離、
廃棄または焼却する。
して未だアンモニア性・硝酸性窒素及びＢＯＤ含有を含
有しているので、次段の生物処理工程（１０７、１０
８、１０９）へ移送する。当該工程は脱窒槽１０７、硝
化槽１０８及び沈殿槽１０９より成り、脱窒槽１０７、
硝化槽１０８は曝気、攪拌できるよう構成する。ここ
で、アンモニア性窒素は硝化して硝酸性に変化し、硝酸
性窒素は脱窒する。ＢＯＤとしての有機物は汚泥の栄養
素として消化させ、余剰汚泥を沈殿槽で沈殿して分離、
廃棄または焼却する。
【００２６】前記工程から排出する排出水はほとんどそ
のまま放流可能だが、排出水の分析管理の結果によっ
て、活性炭処理などの最終の高度処理１１０が必要なら
ば、さらに処理を施したのち放流する。
のまま放流可能だが、排出水の分析管理の結果によっ
て、活性炭処理などの最終の高度処理１１０が必要なら
ば、さらに処理を施したのち放流する。
【００２７】
【発明の効果】以上説明したように本発明のウェーハ加
工工程排水の処理方法によって、半導体ウェーハ加工工
程で排出する特異な排出物を相互に有効利用して処理反
応に使用し、従来よりも低コストで、河川に放流可能な
水質に処理することが可能になった。
工工程排水の処理方法によって、半導体ウェーハ加工工
程で排出する特異な排出物を相互に有効利用して処理反
応に使用し、従来よりも低コストで、河川に放流可能な
水質に処理することが可能になった。
【図１】 半導体ウェーハ加工工程排水の総合的な処理
方法において、従来の方法を示す工程図
方法において、従来の方法を示す工程図
【図２】 半導体ウェーハ加工工程排水の総合的な処理
方法において、本発明の方法を示す工程図
方法において、本発明の方法を示す工程図
１ 硝酸酸性弗化水素酸系排水 ２ 中継設備 ３ 原水タンク ４ フッ素除去工程 ５ 脱窒槽 ６ 硝化槽 ７ 沈殿槽 ８ 高度処理 ９ ＳＳ含有界面活性剤系排水 １０ 中継設備 １１ 原水タンク １２ 浮遊物質除去工程 １３ アンモニア性過酸化水素系排水 １４ 中継設備 １５ 原水タンク １６ 過酸化水素分解工程 １７ 硝酸性の窒素及び酢酸などのＢＯＤを含む排液 １８ ＣＯＤ分として測定される難分解性の界面活性
剤等を含む排液 １９ アンモニア性の窒素を含む排液 １０１ 硝酸酸性弗化水素酸系排水 １０２ ＳＳ含有界面活性剤系排水 １０３ アンモニア性加過酸化水素系排水 １０４ 中継設備 １０５ 酸化分解工程 １０６ 弗素及びＳＳ除去工程 １０７ 脱窒槽 １０８ 硝化槽 １０９ 沈殿槽 １１０ 高度処理 １１１ 塩化第一鉄触媒 １１２ 酸化分解反応 Ｈ２Ｏ２→Ｏ及びＣＯＤ→ＢＯ
Ｄ １１３ アンモニア性・硝酸性窒素、ふっ酸、ＳＳ及び
ＢＯＤ含有排水 １１４ アンモニア性・硝酸性窒素及びＢＯＤ含有排水 Ｐ ポンプ
剤等を含む排液 １９ アンモニア性の窒素を含む排液 １０１ 硝酸酸性弗化水素酸系排水 １０２ ＳＳ含有界面活性剤系排水 １０３ アンモニア性加過酸化水素系排水 １０４ 中継設備 １０５ 酸化分解工程 １０６ 弗素及びＳＳ除去工程 １０７ 脱窒槽 １０８ 硝化槽 １０９ 沈殿槽 １１０ 高度処理 １１１ 塩化第一鉄触媒 １１２ 酸化分解反応 Ｈ２Ｏ２→Ｏ及びＣＯＤ→ＢＯ
Ｄ １１３ アンモニア性・硝酸性窒素、ふっ酸、ＳＳ及び
ＢＯＤ含有排水 １１４ アンモニア性・硝酸性窒素及びＢＯＤ含有排水 Ｐ ポンプ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０２Ｆ 3/34 １０１ Ｃ０２Ｆ 3/34 １０１Ａ 9/00 ５０１ 9/00 ５０１Ｆ ５０２ ５０２Ｈ ５０２Ｐ ５０２Ｒ ５０３ ５０３Ｃ ５０３Ｇ ５０４ ５０４Ａ ５０４Ｅ (72)発明者 堀内 忠彦 福島県西白河郡西郷村大字小田倉字大平 150番地 信越半導体株式会社白河工場内 Ｆターム(参考） 4D024 AA04 AA08 AB04 AB11 BA02 DB15 DB16 DB21 DB23 4D038 AA08 AB41 BA04 BB06 BB16 BB18 BB19 4D040 BB05 BB15 BB22 BB25 BB57 BB66 DD03 DD14 4D050 AA13 AB12 BB09 BC07 BD06 CA06 CA16 CA17 4D062 BA19 BB05 BB12 CA07 DA04 DA05 DA13 DB02 DB33 FA01 FA02 FA12 FA22 FA24 FA26
Claims (6)
- 【請求項１】 半導体ウェーハ加工工程排水の総合的な
処理方法において、難分解性有機物系排水を第一鉄塩の
存在下で、別の系から排出する強酸性排液にてＰＨを調
節して、更に別の系から排出する過酸化水素含有排水の
過酸化水素で前記難分解性有機物を酸化分解することを
特徴とする排水の処理方法。 - 【請求項２】 前記難分解性有機物系排水はＳＳを含
み、該排水を酸化分解後、凝集沈殿によってＳＳを除去
することを特徴とする請求項１記載の排水の処理方法。 - 【請求項３】 前記別の系から排出する強酸性排液が弗
酸及び硝酸含有排液であって、酸化分解後、消石灰若し
くは炭酸石灰によって、フッ化カルシウムを析出させ、
しかる後、凝集沈殿によってＳＳを除去し、更に生物化
学的分解処理によって、硝酸分を脱硝し、且つその他の
有機物を分解除去することを特徴とする請求項１記載の
排水の処理方法。 - 【請求項４】 前記更に別の系から排出する過酸化水素
含有排水はアンモニアを含む排水であって、酸化分解後
該排水を生物化学的に硝化し、しかる後生物化学的に脱
硝し、且つその他の有機物を分解除去することを特徴と
する請求項１記載の排水の処理方法。 - 【請求項５】 前記難分解性有機物系排水中の難分解性
有機物は、ノニオン界面活性剤、アニオン界面活性剤、
カチオン界面活性剤若しくは高分子保護コロイドを含む
ことを特徴とする請求項１記載の排水の処理方法。 - 【請求項６】 廃水処理の最終段において、活性炭処理
などの高度処理を行なうことを特徴とする請求項１記載
の排水の処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000157153A JP2001334275A (ja) | 2000-05-26 | 2000-05-26 | ウェーハ加工工程排水の処理方法 |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000157153A JP2001334275A (ja) | 2000-05-26 | 2000-05-26 | ウェーハ加工工程排水の処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001334275A true JP2001334275A (ja) | 2001-12-04 |
Family
ID=18661836
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000157153A Pending JP2001334275A (ja) | 2000-05-26 | 2000-05-26 | ウェーハ加工工程排水の処理方法 |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001334275A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
2000
- 2000-05-26 JP JP2000157153A patent/JP2001334275A/ja active Pending
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