JP5361213B2 - 不揮発性メモリ装置及びその駆動方法 - Google Patents
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Description
図4は、従来のビットラインセンシング方法を示す図である。図2Cに示すように、ビットラインの幅は、偶数か奇数かによって異なる。したがって、図4に示すように、ビットラインが偶数か奇数かによって対応する寄生抵抗値及び寄生キャパシタンス値が異なる。すなわち、偶数ビットラインの寄生抵抗値Reが奇数ビットラインの寄生抵抗値Roより大きく、偶数寄生キャパシタンス値Ceが奇数ビットラインの寄生キャパシタンス値Coより小さい。これは、図2に示すように、偶数ビットライン幅BW1が奇数ビットライン幅BW2より狭いためである。このような特徴は、ビットラインが偶数か奇数かによってRC遅延量の大きさが異なりうる。ここでは、説明の便宜のために、偶数ビットラインのRC遅延量の大きさReCeは、奇数ビットラインのRC遅延量の大きさRoCoより大きいと仮定する。
第1の実施の形態による不揮発性メモリ装置は、メモリセルが偶数か奇数かによってそれぞれ分布特性に適した独立的な方式で駆動される。ここで、メモリセルの偶数/奇数は、偶数ワードラインに接続されたか、又は奇数ワードラインに接続されているかによって定義する。すなわち、偶数ワードラインに接続したメモリセルは、偶数メモリセルと言い、奇数ワードラインに接続したメモリセルは、奇数メモリセルと言う。
本発明は、3次元メモリアレイ構造を有する不揮発性メモリ装置にも適用可能である。このとき、メモリアレイの各層は、互いに異なるしきい電圧の分布及び性能特性を有する。本発明の不揮発性メモリ装置は、メモリアレイの各層に応じて、互いに異なる方式で駆動される。このような3次元アレイ構造に対する技術が米国特許第5835396号(1998.12.7)に「THREE−DIMENTIONAL READ−ONLY MEMORY」という題目で、米国特許第6034882号(2000.3.7)に「VERTICALLY STACKED FIELD PROGRAMMABLE NONVOLATILE AND METHOD OF FABRICATION」という題目で、そして米国特許第7002825号(2006.2.21)に「WORD LINE ARRANGEMENT HAVING SEGMENTED WORD LINES」という題目でそれぞれ開示されており、この出願のレファレンスとして含まれる。
20 組み込みメモリシステム
100、200、300 不揮発性メモリ装置
14 メモリ制御機
110 メモリセルアレイ
210、310 3次元メモリアレイ
120、220 ローデコーダ
130 ワードライン電圧発生器
132 偶数電圧トリム回路
134 奇数電圧トリム回路
140、230、330 ページバッファ
150、240、340 制御ロジック
152 偶数時間トリム回路
154 奇数時間トリム回路
242 1層制御ロジック
244 2層制御ロジック
350 トリム情報回路
352、354 レジスタ
Claims (18)
- 不揮発性メモリ装置の駆動方法であって、
駆動されるメモリセルの構造的な位置を判別するステップと、
前記判別結果により、最適化された駆動条件で前記メモリセルを駆動するステップと、を含み、
前記メモリセルを駆動するステップは、
複数のワードラインのうち一つを選択するとともに、前記選択したワードラインが偶数か奇数かによって最適化したプログラム、読出し、検証又は消去駆動条件でワードラインが駆動されるステップと、
データの読み出し又は検証命令を受信すると、偶数ビットラインが第1センシング駆動条件でセンシングされ、奇数ビットラインが第2センシング駆動条件でセンシングされるステップを含み、
前記第1及び第2センシング駆動条件は、互いに異なり、
前記第1及び第2センシング駆動条件は、プリチャージ時間及びセルカレントディベロップメント時間であることを特徴とする駆動方法。 - 前記駆動条件は、ワードライン電圧、ビットライン電圧、ウェル電圧、及びそのタイミングをさらに含む請求項1に記載の方法。
- 駆動される前記メモリセルが偶数か奇数かによってしきい電圧の分布が互いに異なり、前記偶数メモリセルに連結された偶数ワードラインの幅は、前記奇数メモリセルに連結された奇数ワードラインの幅と異なることを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記駆動条件は、プログラム条件であり、駆動される前記メモリセルが連結されたワードラインが偶数か奇数かによって前記メモリセルを第1及び第2プログラム駆動条件でプログラムし、前記第1及び第2プログラム駆動条件は互いに異なることを特徴とする請求項3に記載の駆動方法。
- 駆動される前記メモリセルは、ISSP方法を実行し、前記第1及び第2プログラム駆動条件は、プログラム開始電圧、ISSP増加レベル、及びプログラム終了電圧を含む請求項4に記載の方法。
- 前記不揮発性メモリ装置は、少なくとも第1層及び第2層を有するメモリアレイを有し、各層の前記駆動条件は、互いに異なることを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 構造形状及び位置によって可変される分布特性を有する少なくとも二つのメモリセルと、
前記メモリセル各々に対して最適化された駆動条件で制御される制御回路と、を含み、
前記制御回路は、
複数のワードラインのうち一つを選択するとともに、前記選択したワードラインに連結したメモリセルが偶数か奇数かによって最適化したプログラム/読出し/検証/消去駆動条件でワードラインを駆動し、
データの読み出し又は検証命令を受信すると、偶数ビットラインを第1センシング駆動条件でセンシングし、奇数ビットラインを第2センシング駆動条件でセンシングし、
前記第1及び第2センシング駆動条件は、互いに異なり、
前記第1及び第2センシング駆動条件は、プリチャージ時間及びセルカレントディベロップメント時間であることを特徴とする不揮発性メモリ装置。 - 前記構造形状及び位置は、ワードラインの幅、アクティブ領域の幅と高さ、及び隣接したワードライン間の距離を含む請求項7に記載の不揮発性メモリ装置。
- 前記二つのメモリセルは、各々3次元メモリの少なくとも二つの層に各々含まれる請求項7に記載の不揮発性メモリ装置。
- 複数のメモリセルを含み、前記複数のメモリセル各々は、複数のワードライン及び複数のビットラインの交差点に位置するメモリセルアレイと、
前記メモリセルに連結し、前記複数のワードラインのうち一つを選択するローデコーダと、
前記ローデコーダに連結し、且つワードライン電圧を出力するワードライン電圧発生器であって、前記ワードライン電圧は、前記複数のメモリセルのうち選択された一つに連結したしきい電圧分布によって駆動条件を有するワードライン電圧発生器と、
前記メモリセルアレイに連結し、前記複数のメモリセルのうち前記選択された一つに関連したビットラインを通して前記複数のメモリセルのうち前記選択された一つに関連したデータを読むページバッファと、
前記ページバッファに連結し、データの読み出し又は検証命令を受信すると、前記複数のメモリセルのうち前記選択されたいずれか一つに関連した前記ビットラインをセンシングするようにする制御回路とを含み、
前記制御回路は、偶数ビットラインを第1センシング駆動条件でセンシングし、奇数ビットラインを第2センシング駆動条件でセンシングするように前記ローデコーダを制御し、
前記第1及び第2センシング駆動条件は、互いに異なり、
前記第1及び第2センシング駆動条件は、プリチャージ時間及びセルカレントディベロップメント時間であることを特徴とする不揮発性メモリ装置。 - 前記しきい電圧分布は、前記複数のメモリセルのうち前記選択された一つが偶数か奇数かによって異なることを特徴とする請求項10に記載の不揮発性メモリ装置。
- 前記ワードライン電圧発生器は、
偶数ワードラインに第1プログラム駆動条件で前記ワードライン電圧を出力する偶数電圧トリム回路と、
奇数ワードラインに第2プログラム駆動条件で前記ワードライン電圧を出力する奇数電圧トリム回路と、を含む請求項11に記載の不揮発性メモリ装置。 - 読み出し/検証動作のとき、
前記偶数電圧トリム回路は第1読み出し/検証条件で前記ワードライン電圧を発生し、前記奇数電圧トリム回路は第2読み出し/検証条件で前記ワードライン電圧を発生し、前記第1及び第2読み出し/検証条件は互いに異なることを特徴とする請求項12に記載の不揮発性メモリ装置。 - 前記不揮発性メモリ装置は、
前記メモリセルアレイに連結し、前記複数のメモリセルのうち前記選択されたいずれか一つに関連したビットラインを通して前記複数のメモリセルのうち前記選択されたいずれか一つに関連したデータを読むページバッファと、
前記ページバッファに連結し、前記複数のメモリセルのうち前記選択されたいずれか一つが前記偶数か奇数かによって前記複数のメモリセルのうち前記選択されたいずれか一つに関連した前記ビットラインをセンシングするようにする制御回路と、を含む請求項11に記載の不揮発性メモリ装置。 - 前記制御回路は、
偶数ビットラインを第1プリチャージ時間の間プリチャージし、偶数ビットラインを第1セル電流ディベロップメント時間の間ディベロップする偶数時間トリム回路と、
奇数ビットラインを第2プリチャージ時間の間プリチャージし、奇数ビットラインを第2セル電流ディベロップメント時間の間ディベロップする奇数時間トリム回路と、を含む請求項10に記載の不揮発性メモリ装置。 - 前記メモリセルアレイは、3次元メモリ構造を有し、しきい電圧分布は、前記複数のメモリセルのうち前記選択されたいずれか一つが前記メモリセルアレイの第1層に属するかまたは第2層に属するかによって異なることを特徴とする請求項10に記載の不揮発性メモリ装置。
- 前記ワードライン電圧発生器は、
前記複数のメモリセルのうち前記選択されたいずれか一つが前記メモリセルアレイの前記第1層に属したとき、第1プログラム駆動条件を用いて前記ワードライン電圧を出力する第1層制御回路と、
前記複数のメモリセルのうち前記選択されたいずれか一つが前記メモリセルアレイの前記第2層に属したとき、第2プログラム駆動条件をもちいて前記ワードライン電圧を出力する第2層制御ロジックと、を含む請求項16に記載の不揮発性メモリ装置。 - 前記第1層制御ロジックは、読み出し/検証動作のとき、前記メモリセルアレイの前記第1層と関連した第1読み出し/検証条件を用いて前記ワードライン電圧を出力し、前記第2層制御ロジックは、読み出し/検証動作のとき、前記メモリセルアレイの前記第2層と関連した第2読み出し/検証条件を用いて前記ワードライン電圧を出力し、前記第1及び第2読み出し/検証条件は互いに異なることを特徴とする請求項17に記載の不揮発性メモリ装置。
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