JP5272860B2 - 固体撮像素子およびカメラシステム - Google Patents

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Description

本発明は、CMOSイメージセンサに代表される固体撮像素子およびカメラシステムに関するものである。
固体撮像素子(イメージセンサ)としては、CCD(Charge Coupled Device)やCMOS(Complimentary Metal Oxide Semiconductor)などが広く実用に供されている。
このCCDやCMOSイメージセンサなどの固体撮像素子では、従来、光電変換素子によって得られたアナログ信号を、固体撮像素子とは別のアナログ・デジタル変換装置を用いてデジタルデータに変換し記録をすることが主流であった。
現在では、高速化や小型化を目的として、固体撮像素子とアナログ・デジタル変換装置が同一チップや同一パッケージに集積されるようになっている。
高速化を実現する固体撮像素子として種々の装置が提案されている(たとえば特許文献1,2,3参照)
特許文献1に記載された固体撮像素子は、1つ、あるいは数個のアナログ・デジタル変換回路を集積するだけでなく、列並列に数1000個に及ぶアナログ・デジタル変換回路を集積して高速化を実現している。
また、特許文献2に記載された固体撮像素子では、列並列のサンプルおよびホールド回路を有し、パイプライン型アナログ・デジタル変換回路を複数列で共有する構成で、高速化を実現している。
特許文献3に記載された固体撮像素子は、上記特許文献2と同様に、列並列のサンプルおよびホールド回路を有し、パイプライン型アナログ・デジタル変換回路で処理する技術が提案されている。
特開2006−340044号公報 特開2006−80861号公報 特開2003−234967号公報
特許文献1に記載の固体撮像素子は、文献1の図1に例示されるように、列並列のアナログ・デジタル変換回路の集積では、数1000個のアナログ・デジタル変換回路を集積する。
このため、この固体撮像素子では、高解像度化に伴いアナログ・デジタル(AD)変換回路の数も増加し、面積および消費電力が増加する。
また、この固体撮像素子は、単位AD変換回路を小型化するため、一般に高速であるが面積の大きなパイプライン型AD変換回路などを用いることは難しく、比較的低速な逐次比較型AD変換回路などが用いられる。
このため、この固体撮像素子では、並列化によって高速化を実現してはいるものの、面積・消費電力の増加と、高速化の限界が問題となっている。
特許文献2に記載された固体撮像素子は、列並列のサンプルおよびホールド回路を設けることで、AD変換回路を複数列で共有することができ、さらに撮像素子から信号を読み出す期間と、AD変換期間を重ねることができる。
ただし、上記特許文献1のような逐次比較型AD変換回路を用いると、各列のAD変換が完了を待って次列の処理に移るため、並列数に応じて低速化してしまう。
また、特許文献2に記載された固体撮像素子では、パイプライン型AD変換回路を用いることで、高いスループットのAD変換を実行し、複数列共有によって面積効率を上げながら、高速化を図っている。
しかし、追加されたアナログ信号のサンプルおよびホールド回路は、一般に大きな容量素子が各列に必要となるため、面積の増加は無視できない。
さらに、サンプルおよびホールド回路は熱雑音(kT/Cノイズ)を発生するため、サンプルおよびホールド素子を追加することは、画質を劣化させる。
ただし、全てのパイプライン段が常に動作しているわけではなく、読み出し期間やサンプルおよびホールド期間が長い場合には、AD変換回路の稼働率が下がり高速性能を十分に引き出せない。
特許文献3に記載の固体撮像素子においても、上述したような特許文献2に記載された固体撮像素子と同様の不利益がある。
つまり、複数列でAD変換回路を共有した構成は、AD変換回路の面積・消費電力の低減や、高速なパイプライン型AD変換回路の適用が可能といった、メリットが挙げられる。
一方で、そのために必要なサンプルおよびホールド回路は、(1) 面積増加を伴うだけでなく、(2) ノイズ源となり画質を劣化させる。さらに、AD変換回路の稼働率が低くなり、(3) AD変換回路の高速性を十分に引き出せない、という問題が挙げられる。
本発明は、サンプルおよびホールド回路が不要で、ノイズ増加による画質劣化、面積増加、速度低下を防止可能な固体撮像素子およびカメラシステムを提供することにある。
本発明の第1の観点の固体撮像素子は、光信号を電気信号に変換する光電変換機能を有する複数の画素が2次元アレイ状に配列された画素アレイ部と、上記画素の行配列に対応して各行に配列された上記画素を駆動制御するための画素駆動線と、上記画素の列配列に対応して各列に配列された上記画素の読み出し信号を読み出すための信号線と、上記画素駆動線を通して読み出しを行うように画素を駆動する画素駆動部と、上記信号線のアナログ信号をデジタル信号に変換する機能を有する読み出し系回路と、を有し、上記各行に配線される画素駆動線および上記各列に配線される信号線のうち、少なくとも一方は複数配線され、上記画素アレイ部において、上記各行および上記各列に少なくとも一方に複数配線される上記画素駆動線および上記信号線の配線数と同等の数の複数の画素により画素群が形成され、当該画素群の複数の画素は、それぞれ複数配線の異なる配線に接続され、上記画素駆動部は、上記画素群の複数の画素を、位相をずらしたタイミングで順に駆動してアナログ信号を対応する上記信号線に読み出し、上記読み出し系回路は、上記画素群から複数の上記信号線に読み出されたアナログ信号を順次取り込み、取り込んだアナログ信号をデジタル信号に順次変換するアナログ・デジタル変換回路を含み、上記画素駆動線が各行に複数配線され、上記画素群が複数列の複数の画素により形成され、上記信号線が各列に1本ずつ配線され、上記読み出し系回路は、複数列で1つのアナログ・デジタル変換回路を共有している
本発明の第2の観点のカメラシステムは、固体撮像素子と、上記固体撮像素子に被写体像を結像する光学系と、上記固体撮像素子の出力画像信号を処理する信号処理回路と、を有し、上記固体撮像素子は、光信号を電気信号に変換する光電変換機能を有する複数の画素が2次元アレイ状に配列された画素アレイ部と、上記画素の行配列に対応して各行に配列された上記画素を駆動制御するための画素駆動線と、上記画素の列配列に対応して各列に配列された上記画素の読み出し信号を読み出すための信号線と、上記画素駆動線を通して読み出しを行うように画素を駆動する画素駆動部と、上記信号線のアナログ信号をデジタル信号に変換する機能を有する読み出し系回路と、を含み、上記各行に配線される画素駆動線および上記各列に配線される信号線のうち、少なくとも一方は複数配線され、上記画素アレイ部において、上記各行および上記各列に少なくとも一方に複数配線される上記画素駆動線および上記信号線の配線数と同等の数の複数の画素により画素群が形成され、当該画素群の複数の画素は、それぞれ複数配線の異なる配線に接続され、上記画素駆動部は、上記画素群の複数の画素を、位相をずらして順に駆動してアナログ信号を対応する上記信号線に読み出し、上記読み出し系回路は、上記画素群から複数の上記信号線に読み出されたアナログ信号を順次取り込み、取り込んだアナログ信号をデジタル信号に順次変換するアナログ・デジタル変換回路を含み、上記画素駆動線が各行に複数配線され、上記画素群が複数列の複数の画素により形成され、上記信号線が各列に1本ずつ配線され、上記読み出し系回路は、複数列で1つのアナログ・デジタル変換回路を共有している
本発明によれば、サンプルおよびホールド回路が不要で、ノイズ増加による画質劣化、面積増加、速度低下を防止できる。
本発明の第1の実施形態に係る固体撮像素子の構成例を示す図である。 本実施形態に係る4つのトランジスタで構成されるCMOSイメージセンサの画素の一例を示す図である。 代表的なパイプライン型AD変換回路の構成例を示す図である。 本第1の実施形態に係るCMOSイメージセンサの画素読み出しおよびAD変換動作のタイミングを示す第1図である。 本第1の実施形態に係るCMOSイメージセンサの画素読み出しおよびAD変換動作のタイミングを示す第2図である。 本第1の実施形態に係るCMOSイメージセンサの全体的な駆動例を示す図であって、画素読み出し、マルチプレクサ回路の選択動作、およびAD変換動作のタイミングを示す図である。 本発明の第2の実施形態に係る固体撮像素子(CMOSイメージセンサ)の構成例を示す図である。 本第2の実施形態に係るCMOSイメージセンサの画素読み出しおよびAD変換動作のタイミングを示す図である。 本第2の実施形態に係るCMOSイメージセンサの全体的な駆動例を示す図である。 本発明の第3の実施形態に係る固体撮像素子(CMOSイメージセンサ)の構成例を示す図である。 本第3の実施形態に係るCMOSイメージセンサの全体的な駆動例を示す図である。 本発明の第4の実施形態に係る固体撮像素子(CMOSイメージセンサ)の構成例を示す図である。 基本的な裏面照射型のCMOSイメージセンサを示す簡略断面図である。 本発明の実施形態によって改善できるノイズと面積について説明するための図である。 本発明の実施形態に係る固体撮像素子が適用されるカメラシステムの構成の一例を示す図である。
以下、本発明の実施の形態を図面に関連付けて説明する。
なお、説明は以下の順序で行う。
1.第1の実施形態(固体撮像素子の第1の構成例)
2.第2の実施形態(固体撮像素子の第2の構成例)
3.第3の実施形態(固体撮像素子の第3の構成例)
4.第4の実施形態(固体撮像素子の第4の構成例)
5.第5の実施形態(カメラシステムの構成例)
<1.第1実施形態>
図1は、本発明の第1の実施形態に係る固体撮像素子の構成例を示す図である。
本実施形態では、固体撮像素子としてCMOSイメージセンサ100を例に説明する。
本CMOSイメージセンサ100は、画素アレイ部110、画素駆動部としての行走査回路120、マルチプレクサ(MUX)回路群130、パイプライン型AD変換回路群140、メモリ配列群150、および水平選択回路160を有する。
そして、マルチプレクサ(MUX)回路群130、パイプライン型AD変換回路群140、メモリ配列群150、および水平選択回路160により読み出し系回路が構成される。
画素アレイ部110は、光電変換を行う複数の画素回路110aがM行×N列の2次元アレイ状(マトリクス状)に配列されている。
図1では、1例として、画素回路110aが10×10のマトリクス状に配列された画素アレイ部110を示している。
そして、本第1の実施形態においては、各画素行を駆動する水平画素駆動線kが各行に複数(k0〜k3)が配線され、水平画素駆動線k0〜k3は該当行のいずれかの画素にそれぞれ接続されている。
各行に複数配線される水平画素駆動線k0〜k3と同等の数の複数の画素回路110aにより画素群PG0,PG1・・が形成される。
そして、画素群PG0,PG1・・の複数の画素回路110aは、それぞれ異なる水平画素駆動配線k0〜k3に接続されている。
さらに、各列に画素の出力信号を読み出す垂直信号線vslが配線されており、複数列で1つのAD変換回路を共有している。
図2は、本実施形態に係る4つのトランジスタで構成されるCMOSイメージセンサの画素の一例を示す図である。
この画素回路110aは、たとえばフォトダイオード(PD)からなる光電変換素子111を有する。
そして、画素回路110aは、この1個の光電変換素子111に対して、転送トランジスタ112、リセットトランジスタ113、増幅トランジスタ114、および選択トランジスタ115の4つのトランジスタを能動素子として有する。
光電変換素子111は、入射光をその光量に応じた量の電荷(ここでは電子)に光電変換する。
転送トランジスタ112は、光電変換素子111と出力ノードとしてのフローティングディフュージョンFDとの間に接続され、転送制御線LTRGを通じてそのゲート(転送ゲート)に制御信号である転送信号TRGが与えられる。
これにより、転送トランジスタ112は、光電変換素子111で光電変換された電子をフローティングディフュージョンFDに転送する。
リセットトランジスタ113は、電源ラインLVREFとフローティングディフュージョンFDとの間に接続され、リセット制御線LRSTを通してそのゲートに制御信号であるリセット信号RSTが与えられる。
これにより、リセットトランジスタ113は、フローティングディフュージョンFDの電位を電源ラインLVREFの電位にリセットする。
フローティングディフュージョンFDには、増幅トランジスタ114のゲートが接続されている。増幅トランジスタ114は、選択トランジスタ115を介して垂直信号線vslに接続され、画素部外の定電流源とソースフォロアを構成している。
そして、選択制御線LSELを通してアドレス信号に応じた制御信号である選択信号SELが選択トランジスタ115のゲートに与えられ、選択トランジスタ115がオンする。
選択トランジスタ115がオンすると、増幅トランジスタ114はフローティングディフュージョンFDの電位を増幅してその電位に応じた電圧を垂直信号線vslに出カする。
垂直信号線vslを通じて、各画素から出力された電圧は、カラム読み出し系のマルチプレクサ回路群130の対応するマルチプレクサ回路に入力される。
画素アレイ部110に配線されているリセット制御線LRST、転送制御線LTRG、および選択制御線LSELが一組として、各行の複数の配線である水平画素駆動線k0〜k3がそれぞれ形成される。
すなわち、水平画素駆動線k0はリセット制御線LRST0、転送制御線LTRG0、および選択制御線LSEL0の3本の制御線により形成される。
同様に、水平画素駆動線k1はリセット制御線LRST1、転送制御線LTRG1、および選択制御線LSEL1の3本の制御線により形成される。
水平画素駆動線k2はリセット制御線LRST2、転送制御線LTRG2、および選択制御線LSEL2の3本の制御線により形成される。
水平画素駆動線k3はリセット制御線LRST3、転送制御線LTRG3、および選択制御線LSEL3の3本の制御線により形成される。
本第1の実施形態の画素アレイ部110においては、各行に4本の水平画素駆動線k0〜k3が配線されている。
これに対応して、各行の連続する4列の画素回路110aがそれぞれ異なる水平画素駆動線k0〜k3に接続される。そして、続いて連続する4列の画素回路がそれぞれ異なる水平画素駆動線k0〜k3に接続される。
図1において、第0行を例にすると、第0列の画素回路110a−0が水平画素駆動線k0に接続され、第1列の画素回路110a−1が水平画素駆動線k1に接続されている。さらに、第2列の画素回路110a−2が水平画素駆動線k2に接続され、第3列の画素回路110a−3が水平画素駆動線k3に接続されている。
第4列の画素回路110a−4が水平画素駆動線k0に接続され、第5列の画素回路110a−5が水平画素駆動線k1に接続されている。さらに、第6列の画素回路110a−6が水平画素駆動線k2に接続され、第7列の画素回路110a−7が水平画素駆動線k3に接続されている。
以下、同様の繰り返しとなる。
すなわち、本第1の実施形態においては、各行に複数x本の水平画素駆動線が配線されている場合、各行において、連続するx列の画素回路を一つの行画素群PG0,PG1,・・として、各行画素群で各画素回路110aが異なる水平画素駆動線に接続される。
そして、列方向の複数画素群を、重複期間の異なるタイミングで読み出し可能とする。
本第1の実施形態においては、読み出しの水平同期信号の位相を複数画素群の各画素でずらすことで、複数の画素読み出しで1つのAD変換回路を共有するように構成される。
行走査回路120は、リセット制御線LRST、転送制御線LTRG、および選択制御線LSELを含む水平画素駆動線k0〜k3を、列方向の複数画素群で、重複期間の異なるタイミングで読み出しされるように駆動する。
行走査回路120は、画素アレイ部110の中の任意の行に配置された画素回路110aの動作を制御する。行走査回路120は、制御線LSEL、LRST、LTRGを通して各画素回路110aを制御する。
マルチプレクサ回路群130は、画素アレイ部110の行画素群PG0,PG1、・・ごとに対応して配置されるマルチプレクサ回路130−0,130−1、・・を有する。
各マルチプレクサ回路130−0,130−1、・・・は、各行画素群PG0,PG1、・・・の各画素回路110aに接続されるx本(本例では4本)の垂直信号線vslがそれぞれ接続される。
前述したように、本第1の実施形態においては、各行に複数配線された水平画素駆動線k0〜k3の読み出し駆動のタイミングをずらすことから、x本の垂直信号線vslに読み出されるアナログ信号の読み出しタイミングがずれる。
各マルチプレクサ回路130−0,130−1、・・は、接続されたx本の垂直信号線vslに読み出されるアナログ信号VSLを順次に選択して、パイプライン型AD変換回路群140の対応するAD変換回路に転送する。
各マルチプレクサ回路130−0,130−1、・・は、x本の垂直信号線vslに接続されたスイッチSW0〜SW3を有する。
スイッチSW0〜SW3は、各行に複数配線された水平画素駆動線k0〜k3の読み出し駆動のタイミングに応じた選択信号m0〜m3により順次にオン、オフされる。
図1において、マルチプレクサ回路130−0のスイッチSW0が第0列の垂直駆動線vsl0に接続され、スイッチSW1が第1列の垂直駆動線vsl1に接続されている。さらに、マルチプレクサ回路130−0のスイッチSW2が第2列の垂直駆動線vsl2に接続され、スイッチSW3が第3列の垂直駆動線vsl3に接続されている。
マルチプレクサ回路130−1のスイッチSW0が第4列の垂直駆動線vsl4に接続され、スイッチSW1が第5列の垂直駆動線vsl5に接続されている。さらに、マルチプレクサ回路130−1のスイッチSW2が第6列の垂直駆動線vsl6に接続され、スイッチSW3が第7列の垂直駆動線vsl7に接続されている。
パイプライン型AD変換回路群140は、マルチプレクサ回路群130の行画素群PG0,PG1、・・ごとに対応して配置されるマルチプレクサ回路130−0,130−1、・・・に対応して配置されるAD変換回路140−0,140−1、・・を有する。
各AD変換回路140−0,140−1、・・は、複数段で構成され、順次入力を受け付けることができる、いわゆるパイプライン動作が可能なAD変換回路である。
図3は、代表的なパイプライン型AD変換回路の構成例を示す図である。
図3のパイプライン型AD変換回路は、n段のステージ141−0〜141−n-1で構成される。
各ステージ141(−0〜−n-1)は、前段の出力をサンプルするサンプルおよびホールド回路(SHA)1411、k−bitのAD変換回路1412、k-bitのデジタルアナログ変換装置(DAC (Digital Analog converter)と略す)DAC回路1413を有する。
さらに各ステージ141(−0〜−n-1)は、アナログ加減算回路1414、および増幅回路1415を有する。
各段の変換bit数は1bitから、閾値を2つ設けて3値で出力する1.5bit、閾値を3つ設けた2bitなど、さまざまな階調で構成することができ、ステージごとに異なっていることも多い。
たとえば、各段の変換bit数が1bitである場合、たとえば4段あるいは16段のパイプライン構成とすることで、16bitのAD変換回路となる。この場合、初段の1bitのAD変換が終了すれば、次段に信号が送られるため、次の入力信号を受け付けることが可能となる。
なお、水平画素駆動線k0〜k3の読み出し駆動を、パイプライン型AD変換回路のスループットに相当する時間だけ順次ずらすことが好ましい。
メモリ配列群150は、パイプライン型AD変換回路群140の各AD変換回路140−0,140−1、・・に対応してm個(本例では4個)のメモリM0〜M3を含むメモリ群150−0,150−1、・・に区分けされている。
各メモリ群150−0,150−1、・・の4個のメモリM0〜M3は、対応するAD変換回路140−0,140−1、・・によるデジタルデータを記憶(ラッチ)する。
水平選択回路160は、水平走査回路161と、水平転送線162と、各メモリ群150−0,150−1、・・の各メモリM0〜M3の読み出しポートと水平転送線162との間に配置された選択線LS10〜LS17、・・を有する。
また、水平選択回路160は、各スイッチSW10〜SW17、・・を選択駆動するための選択線LS10〜LS17、・・を有する。
水平走査回路161は、選択線SL10〜LS17、・・を順次駆動して、各スイッチSW10〜SW17、・・を順次オン、オフ制御し、各メモリ群150−0,150−1、・・の各メモリM0〜M3のデータを水平転送線162に読み出させる。
なお、水平転送線162を転送されたデータは、図示しないアンプ回路を経て信号処理回路に入力され、2次元画像が生成される。
図4は、本第1の実施形態に係るCMOSイメージセンサの画素読み出しおよびAD変換動作のタイミングを示す第1図である。
図5は、本第1の実施形態に係るCMOSイメージセンサの画素読み出しおよびAD変換動作のタイミングを示す第2図である。
また、図6は、本第1の実施形態に係るCMOSイメージセンサの全体的な駆動例を示す図である。図6は、画素読み出し、マルチプレクサ回路の選択動作、およびAD変換動作のタイミングを示している。
前述したように、本第1の実施形態においては、各行に4本の水平画素駆動線k0〜k3が配線されている。また、AD変換回路を共有する出力信号を切り替えるマルチプレクサ(MUX)回路130の選択信号(パルス信号)をm0〜m3とする。
本第1の実施形態のCMOSイメージセンサ100においては、各行に水平画素駆動線が複数配線され、垂直信号線は各列に1つ配線されている。
各行に複数(ここでは4)配線された水平画素駆動線k0,k1,k2,k3は、それぞれ異なる列の画素と接続され、行走査回路120により異なるタイミングで画素を駆動可能となっている。
行走査回路120の駆動により、図4〜図6に示すように、水平画素駆動線k0,k1,k2,k3よってi番目の画素行は、列ごとに異なる位相で読み出しが開始される。すなわち、行走査回路120は、位相phだけずらして画素群PGの4画素を駆動し読み出す。
読み出しが終了したタイミングで、画素出力の列選択を行うマルチプレクサ回路130−,130−1、・・によって選択されて、画素から読み出されたアナログ信号がパイプライン型AD変換回路140−0,140−1,・・に入力される。
本第1の実施形態においては、画素アレイ部110の複数列(本例では4)でAD変換回路を共有しているが、行走査回路120等により、共有している画素の読み出しタイミングの位相がずらされている。
これにより、本第1の実施形態のCMOSイメージセンサ100は、サンプルおよびホールド回路を不要とし、サンプルおよびホールド回路に相当する回路面積を削減し、サンプル&ホールド回路で発生する熱雑音(kT/Cノイズ)による画質劣化がない。
また、サンプルおよびホールド期間が無く、読み出し時間に共有数を合わせることで、AD変換回路の稼働率を上げて高フレームレート化が可能である。
<2.第2実施形態>
図7は、本発明の第2の実施形態に係る固体撮像素子(CMOSイメージセンサ)の構成例を示す図である。
本第2の実施形態のCMOSイメージセンサ100Aが第1の実施形態のCMOSイメージセンサ100と異なる点は、水平画素駆動線kは各行で1つ配線され、垂直信号線vslが各列で複数本(この例では4)ずつ配線されていることにある。
CMOSイメージセンサ100Aは、各列で垂直信号線が4本配線され、それぞれの垂直信号線vsl0〜vsl3を4行単位で各画素回路110aに接続した構成例である。
各列に垂直信号線vsl0〜vsl3が配線され、垂直信号線vsl0〜vsl3でAD変換回路を共有している。
この場合、列方向の連続する4画素で画素群PGAが構成され、行走査回路120Aは画素群PGAの各画素を、位相をずらして駆動し読み出す。
図8は、本第2の実施形態に係るCMOSイメージセンサの画素読み出しおよびAD変換動作のタイミングを示す図である。
また、図9は、本第2の実施形態に係るCMOSイメージセンサの全体的な駆動例を示す図である。図9は、画素読み出し、マルチプレクサ回路の選択動作、およびAD変換動作のタイミングを示している。
前述したように、本第2の実施形態においては、一例として、各列に4本の垂直信号線vsl0〜vsl3が配線されている。また、AD変換回路を共有する出力信号を切り替えるマルチプレクサ(MUX)回路130A−0〜130A−10(N)の選択信号(パルス信号)をm0〜m3とする。
マルチプレクサ回路130A−0〜130A−Nは、選択信号m0〜m3でスイッチが順次オンオフされて、垂直信号線vsl0〜vsl3に読み出されたアナログ信号を選択し、対応するAD変換回路140A−0〜140A−10(N)に出力する。
本第2の実施形態においては、各列の複数配線される垂直信号線vslで、1つのAD変換回路が共有されている。
たとえば、i行目、(i+1)行目、(i+2)行目、(i+3)行目が位相の異なる重複したタイミングで読み出され、同一の画素列において垂直信号線vsl0〜vsl3にそれぞれ出力される。
読み出しタイミングにあわせてマルチプレクサ(MUX)回路130A−iで選択され、AD変換回路140A−iに入力されることで、図8に示すような駆動が可能となる。
また、水平選択回路160Aにおいて、各スイッチSW10A〜SW17Aは4つのスイッチ群により形成される。
本第2の実施形態によれば、上述した第1の実施形態の効果と同様の効果を得ることができる。
<3.第3実施形態>
図10は、本発明の第3の実施形態に係る固体撮像素子(CMOSイメージセンサ)の構成例を示す図である。
本第3の実施形態のCMOSイメージセンサ100Bは、第1の実施形態のCMOSイメージセンサ100と第2の実施形態のCMOSイメージセンサ100Aとを組み合わせた画素読み出し構成を有する。
本発明の実施形態においては、1つのパイプライン型AD変換回路を同一期間で共有する画素は、任意のn×m画素の2次元配列となっていても構わない。
第3の実施形態のCMOSイメージセンサ100Bにおいては、各行で水平画素駆動線kが複数本(この例では4)ずつ配線され、垂直信号線vslが各列で複数本(この例では4)ずつ配線されている。
CMOSイメージセンサ100Bでは、たとえば4×4の画素群PGB0に対し、図10中で画素回路110aに付した符号1→2→3の順番で位相をphだけずらして読み出される。
同様に位相のずれた読み出し終了に合わせてマルチプレクサ回路130B−0でAD変換回路140B−0への入力を選択する。
AD変換回路で変換されたデジタル信号はメモリ150B−0,150B−1に格納され、水平選択回路160Bで順次選択され出力される。
本第3の実施形態においては、複数列の複数の垂直信号線で、1つのアナログ・デジタル変換回路が共有されている。
図11は、本第3の実施形態に係るCMOSイメージセンサの全体的な駆動例を示す図である。図11は、画素読み出し、マルチプレクサ回路の選択動作、およびAD変換動作のタイミングを示している。
ここでは、上述したように、AD変換回路140B−0,140B−1は16ステージの構成とし、4×4画素を画素群PGB0,PGB1とする。
図10に示すように、各行に4本の水平画素駆動線k0,k1,k2,k3が配線され、さらに各列に4本の垂直信号線vsl0〜vsl3が配線されている。
4×4の計16本となる垂直信号線ごとにマルチプレクサ(MUX)回路130B−0,130B−1で選択されAD変換回路140B−0,140B−1に入力される。マルチプレクサ回路130B−0,130B−1では、垂直信号線vslを選択信号(パルス信号)m0,m1,m2,・・,m15で選択する。
行走査回路120Bで、各行の水平画素駆動線k0〜k3を順次位相をずらしながら読み出し動作を開始し、読み出し終了のタイミングで選択信号m0〜m15にて順次AD変換回路140B−0,140B−1へ入力する。
AD変換回路140B−0,140B−1に入力された信号は、初段のAD STAGE#1で処理されたあと、次段以降のADSTAGE(#2, #3...)転送される。
次段へ転送されれば、次の入力信号を受け付けることができるため、AD STAGEのサイクルと、読み出しの位相ずれを一致させることでサンプルおよびホールド回路なしで、複数行によるAD変換回路の共有と高速化を実現できる。
<4.第4実施形態>
図12は、本発明の第4の実施形態に係る固体撮像素子(CMOSイメージセンサ)の構成例を示す図である。
本第4の実施形態のCMOSイメージセンサ100Cは、マルチプレクサ回路群130C、AD変換回路群140C、メモリ群150C、および水平選択回路160Cを含む読み出し系回路の別の配置構成が採用される場合を示している。
AD変換回路等は画素配列の上下に配置しても構わないし、貫通VIAやバンプ接続による回路の積層構造(3次元構造)を用いて、2次元配列の画素単位でAD変換回路を共有しても構わない。
3次元構造を用いて2次元配列の画素単位でAD変換回路を共有することで、限られた配線数に対して並列度の高いAD変換が可能となり、より高速な撮像が実現できる。
2層以上の積層構造において、画素アレイ部110C(受光素子部)以降のマルチプレクサ回路群130C、AD変換回路群140C、メモリ群150C、および水平選択回路160Cを含む読み出し系回路などは、いずれの境界で層を分離しても構わない。
図12のCMOSイメージセンサ100Cでは、2つに分離した場合が例示されている。
以上、本発明の第1、第2、第3、および第4の実施形態に係る固体撮像素子(CMOSイメージセンサ)について説明した。
一般的なイメージセンサでは、受光部(フォトダイオード)に対して、配線層側から光を照射するため、各行・各列の配線数が増加すると、開口率が下がったり、光が配線層によって蹴られたりして、感度が低下する問題が起こりうる。
受光部に対して、配線層とは反対の面(以降、裏面)から光を照射する構造とすることで、配線数の増加による開口率の低下や面積増加を回避することができる。
図13は、基本的な裏面照射型のCMOSイメージセンサを示す簡略断面図である。
このCMOSイメージセンサ200は、フォトダイオード211が形成されるシリコン層210の一方の面側に配線層220を形成し、シリコン層210の他方の面側、すなわち、配線層220と反対の面(裏面)側から可視光を取り込む裏面照射型構造を有する。
これにより、受光面を配慮した配線が不要となり、配線の自由度を高めることができる。
なお、図13において、230は基板支持材を、241はSi0からなる絶縁膜、242は遮光膜、242aは開口部、243は絶縁膜、244は色フィルタ、245はマイクロレンズを、それぞれ示している。
以上説明したように、本実施形態によれば、以下の効果を得ることができる。
固体撮像素子において、小面積・低ノイズで、高速なアナログ・デジタル変換が可能となる。
また、配線層とは逆の裏面から光を照射する、裏面照射型の撮像装置とすることで、水平画素駆動線または垂直信号線を、画素領域上に配線することができ、配線数の増加による開口率の低下や面積増加を回避することができる。
図14(A)および(B)は、本発明の実施形態によって改善できるノイズと面積について説明するための図である。
一例として、1画素の面積が2μ×2μmの800万画素(4000列×2000行)のイメージセンサとする。
サンプルおよびホールド回路に必要な容量は1μm^2あたり1fFで形成できるとし、簡単のため素子間の分離や配線領域は無いものとする。
サンプルおよびホールド回路に用いた容量と、サンプルおよびホールド回路で発生するノイズ量、面積を図14(A)に示す。
また、読み出しノイズの典型値として150μVrmsとした場合、サンプルおよびホールド回路の画素領域に対する面積比率とノイズ比率を図14(B)に示す。
容量を大きくすることでノイズを低減することはできるが、サンプルおよびホールド回路で発生するノイズは全ノイズの10%〜30%程度を占めており、顕著な画質劣化となる。
さらに、全体の10%程度までノイズを抑えるには、撮像領域の数倍の面積を占めることになり現実的でない。
サンプルおよびホールド回路に使用できる面積は、現実的には撮像領域の20%程度といえるため、30%程度のノイズがサンプルおよびホールド回路によって増加していることになる。
本発明の実施形態は、サンプルおよびホールド回路を不要とする構成および駆動であるため、これらの面積増分、およびノイズ増分は無く、小面積・低ノイズで、高速な撮像を可能とする。
このような効果を有する固体撮像素子は、デジタルカメラやビデオカメラの撮像デバイスとして適用することができる。
<5.第5の実施形態>
図15は、本発明の実施形態に係る固体撮像素子が適用されるカメラシステムの構成の一例を示す図である。
本カメラシステム300は、図15に示すように、本実施形態に係るCMOSイメージセンサ(固体撮像素子)100,100A〜100Cが適用可能な撮像デバイス310を有する。
さらに、カメラシステム300は、この撮像デバイス310の画素領域に入射光を導く(被写体像を結像する)光学系、たとえば入射光(像光)を撮像面上に結像させるレンズ320を有する。
カメラシステム300は、撮像デバイス310を駆動する駆動回路(DRV)330と、撮像デバイス310の出力信号を処理する信号処理回路(PRC)340と、を有する。
駆動回路330は、撮像デバイス310内の回路を駆動するスタートパルスやクロックパルスを含む各種のタイミング信号を生成するタイミングジェネレータ(図示せず)を有し、所定のタイミング信号で撮像デバイス310を駆動する。
また、信号処理回路340は、撮像デバイス310の出力信号に対して所定の信号処理を施す。
信号処理回路340で処理された画像信号は、たとえばメモリなどの記録媒体に記録される。記録媒体に記録された画像情報は、プリンタなどによってハードコピーされる。また、信号処理回路340で処理された画像信号を液晶ディスプレイ等からなるモニターに動画として映し出される。
上述したように、デジタルスチルカメラ等の撮像装置において、撮像デバイス310として、先述した撮像素子100,100A〜100Cを搭載することで、低消費電力で、高精度なカメラが実現できる。
100,100A〜100C・・・CMOSイメージセンサ(固体撮像素子)、110,110A〜110C・・・画素アレイ部、110a・・・画素回路、120,120A〜120C・・・行走査回路(画素駆動部)、111・・・光電変換素子、112・・・転送トランジスタ、113・・・リセットトランジスタ、114・・・増幅トランジスタ、115・・・選択トランジスタ、130,130A〜130C・・・マルチプレクサ(MUX)回路群、140,140A〜140C・・・AD変換回路群、150,150A〜150C・・・メモリ群、160,160A〜160C・・・水平選択回路、200・・・CMOSイメージセンサ、210・・・シリコン層、220・・・配線層、300・・・カメラシステム、310・・・撮像デバイス、320・・・駆動回路、330・・・レンズ、340・・・信号処理回路。

Claims (6)

  1. 光信号を電気信号に変換する光電変換機能を有する複数の画素が2次元アレイ状に配列された画素アレイ部と、
    上記画素の行配列に対応して各行に配列された上記画素を駆動制御するための画素駆動線と、
    上記画素の列配列に対応して各列に配列された上記画素の読み出し信号を読み出すための信号線と、
    上記画素駆動線を通して読み出しを行うように画素を駆動する画素駆動部と、
    上記信号線のアナログ信号をデジタル信号に変換する機能を有する読み出し系回路と、を有し、
    上記各行に配線される画素駆動線および上記各列に配線される信号線のうち、少なくとも一方は複数配線され、
    上記画素アレイ部において、
    上記各行および上記各列に少なくとも一方に複数配線される上記画素駆動線および上記信号線の配線数と同等の数の複数の画素により画素群が形成され、
    当該画素群の複数の画素は、それぞれ複数配線の異なる配線に接続され、
    上記画素駆動部は、
    上記画素群の複数の画素を、位相をずらしたタイミングで順に駆動してアナログ信号を対応する上記信号線に読み出し、
    上記読み出し系回路は、
    上記画素群から複数の上記信号線に読み出されたアナログ信号を順次取り込み、取り込んだアナログ信号をデジタル信号に順次変換するアナログ・デジタル変換回路を含み、
    上記画素駆動線が各行に複数配線され、上記画素群が複数列の複数の画素により形成され、
    上記信号線が各列に1本ずつ配線され、
    上記読み出し系回路は、
    複数列で1つのアナログ・デジタル変換回路を共有している
    固体撮像素子。
  2. 上記アナログ・デジタル変換回路は、
    複数段で形成され、順次入力を受け付けることが可能でパイプライン動作が可能なパイプライン型アナログ・デジタル変換回路により形成される
    請求項1記載の固体撮像素子。
  3. 上記画素駆動部は、
    上記画素駆動線の読み出し駆動を、上記パイプライン型アナログ・デジタル変換回路のスループットに相当する時間だけ順次ずらす
    請求項2記載の固体撮像素子。
  4. 光電変換機能を有す受光素子と周辺回路を積層構造とし、
    上記読み出し系回路は、
    上記受光素子の2次元配列ごとに上記アナログ・デジタル変換回路を共有する
    請求項1から3のいずれか一に記載の固体撮像素子。
  5. 光電変換機能を有する受光素子に対して、配線層とは反対側の面から光を照射する裏面照射型とし、
    上記画素駆動線および上記信号線の少なくとも一方が受光素子領域上に配線される
    請求項1から4のいずれか一に記載の固体撮像素子。
  6. 固体撮像素子と、
    上記固体撮像素子に被写体像を結像する光学系と、
    上記固体撮像素子の出力画像信号を処理する信号処理回路と、を有し、
    上記固体撮像素子は、
    光信号を電気信号に変換する光電変換機能を有する複数の画素が2次元アレイ状に配列された画素アレイ部と、
    上記画素の行配列に対応して各行に配列された上記画素を駆動制御するための画素駆動線と、
    上記画素の列配列に対応して各列に配列された上記画素の読み出し信号を読み出すための信号線と、
    上記画素駆動線を通して読み出しを行うように画素を駆動する画素駆動部と、
    上記信号線のアナログ信号をデジタル信号に変換する機能を有する読み出し系回路と、を含み、
    上記各行に配線される画素駆動線および上記各列に配線される信号線のうち、少なくとも一方は複数配線され、
    上記画素アレイ部において、
    上記各行および上記各列に少なくとも一方に複数配線される上記画素駆動線および上記信号線の配線数と同等の数の複数の画素により画素群が形成され、
    当該画素群の複数の画素は、それぞれ複数配線の異なる配線に接続され、
    上記画素駆動部は、
    上記画素群の複数の画素を、位相をずらして順に駆動してアナログ信号を対応する上記信号線に読み出し、
    上記読み出し系回路は、
    上記画素群から複数の上記信号線に読み出されたアナログ信号を順次取り込み、取り込んだアナログ信号をデジタル信号に順次変換するアナログ・デジタル変換回路を含み、
    上記画素駆動線が各行に複数配線され、上記画素群が複数列の複数の画素により形成され、
    上記信号線が各列に1本ずつ配線され、
    上記読み出し系回路は、
    複数列で1つのアナログ・デジタル変換回路を共有している
    カメラシステム。
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