JP5138836B2 - 参照セル回路とそれを用いた抵抗変化型不揮発性記憶装置 - Google Patents
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- 230000015654 memory Effects 0.000 claims description 203
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 82
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 29
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 16
- 230000004044 response Effects 0.000 claims description 10
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 8
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229910001936 tantalum oxide Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims description 4
- 210000004027 cell Anatomy 0.000 description 539
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 77
- 229910000314 transition metal oxide Inorganic materials 0.000 description 34
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 32
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 20
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 19
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 18
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 18
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 206010021143 Hypoxia Diseases 0.000 description 10
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 10
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000006479 redox reaction Methods 0.000 description 6
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 5
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 5
- 241000518994 Conta Species 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- 229910000449 hafnium oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- WIHZLLGSGQNAGK-UHFFFAOYSA-N hafnium(4+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[Hf+4] WIHZLLGSGQNAGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 4
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 4
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 4
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 3
- 102000002151 Microfilament Proteins Human genes 0.000 description 2
- 108010040897 Microfilament Proteins Proteins 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004590 computer program Methods 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 210000003632 microfilament Anatomy 0.000 description 2
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- -1 oxygen ions Chemical class 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000009966 trimming Methods 0.000 description 2
- 101000580317 Homo sapiens RNA 3'-terminal phosphate cyclase-like protein Proteins 0.000 description 1
- 102100027566 RNA 3'-terminal phosphate cyclase-like protein Human genes 0.000 description 1
- 101100355954 Saccharomyces cerevisiae (strain ATCC 204508 / S288c) RCR1 gene Proteins 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003491 array Methods 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 230000005294 ferromagnetic effect Effects 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 1
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 description 1
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ORQBXQOJMQIAOY-UHFFFAOYSA-N nobelium Chemical compound [No] ORQBXQOJMQIAOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 238000012827 research and development Methods 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- VSZWPYCFIRKVQL-UHFFFAOYSA-N selanylidenegallium;selenium Chemical compound [Se].[Se]=[Ga].[Se]=[Ga] VSZWPYCFIRKVQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001568 sexual effect Effects 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- MZLGASXMSKOWSE-UHFFFAOYSA-N tantalum nitride Chemical compound [Ta]#N MZLGASXMSKOWSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C13/00—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00
- G11C13/0002—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00 using resistive RAM [RRAM] elements
-
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- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C13/00—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00
- G11C13/0002—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00 using resistive RAM [RRAM] elements
- G11C13/0004—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00 using resistive RAM [RRAM] elements comprising amorphous/crystalline phase transition cells
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- G11C13/00—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00
- G11C13/0002—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00 using resistive RAM [RRAM] elements
- G11C13/0009—RRAM elements whose operation depends upon chemical change
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- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C13/00—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00
- G11C13/0002—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00 using resistive RAM [RRAM] elements
- G11C13/0021—Auxiliary circuits
- G11C13/0033—Disturbance prevention or evaluation; Refreshing of disturbed memory data
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C13/00—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00
- G11C13/0002—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00 using resistive RAM [RRAM] elements
- G11C13/0021—Auxiliary circuits
- G11C13/004—Reading or sensing circuits or methods
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- G11C13/00—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00
- G11C13/0002—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00 using resistive RAM [RRAM] elements
- G11C13/0021—Auxiliary circuits
- G11C13/0064—Verifying circuits or methods
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- G11—INFORMATION STORAGE
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- G11C13/00—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00
- G11C13/0002—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00 using resistive RAM [RRAM] elements
- G11C13/0021—Auxiliary circuits
- G11C13/0069—Writing or programming circuits or methods
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- G11C16/00—Erasable programmable read-only memories
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Description
最初に、我々の抵抗変化型メモリの研究を通じて得られた抵抗変化型記憶素子の基本的な特性について説明する。ここでは、上記従来の開示例から見出された課題以外に、抵抗変化型記憶素子固有の特性に関連して、それを抵抗変化型不揮発性記憶装置に応用した場合、新たに見出された課題について説明する。
図6は、本発明の実施の形態1における参照セル回路200の一例を示す構成図である。
カウンタ回路207のカウント値Cを0にリセットする。そして参照セルA、Bの抵抗値RA、RBを読み出し、両者を比較する。
RA<RBと判定された場合、参照セルAに対し書き込み動作を行う。具体的にはスイッチSWa0及びSWa1のみをオンし、HR化パルス生成回路202Hより、ノードN1にノードN2を基準として正電圧VHRのパルス電圧を所定期間(本実施例では50ns)印加する。参照セルAは、TE端子にBE端子を基準とした正電圧パルスが印加されるので高抵抗状態に変化する。
カウンタ回路207の設定値Cを1つインクリメントする。そしてステップS1で説明と同じ方法で参照セルA、Bの抵抗値RA、RBを読み出し、両者を比較する。そしてカウンタ回路207のカウント値Cが所定の設定回数N0未満の場合、抵抗値が低いと判断された方の参照セルに対して、ステップS2へ戻って再度書き込み動作が行われる。
ステップS3において、カウンタ回路207のカウント値Cが所定の設定回数N0に等しい判定の場合、その時点で参照セルの抵抗値が高いと判定されている方の参照セルを出力端子208と接続する。具体的には、RA>RBの場合、スイッチSWa3及びSWa4をオンし、他のスイッチは全てオフにする。RA<RBの場合、スイッチSWb3及びSWb4をオンし、他のスイッチは全てオフにする。
LR状態における抵抗分布の上限値LRmaxを参照セルに設定する場合における参照セル回路の機能動作を、表1に示す。
LR状態における抵抗分布の下限値LRminを参照セルに設定する場合における参照セル回路の機能動作を、表2に示す。
HR状態における抵抗の上限値HRmaxを参照セルに設定する場合における参照セル回路の機能動作を、表3に示す。
HR状態における抵抗の下限値HRminを参照セルに設定する場合における参照セル回路の機能動作を、表4に示す。
次に、本発明の実施の形態2における抵抗変化型不揮発性記憶装置として、上述した参照セル回路200を読み出し回路に適用した抵抗変化型不揮発性記憶装置について説明する。
次に、本発明の実施の形態3における抵抗変化型不揮発性記憶装置として、上述した参照セル回路200をリフレッシュ指示回路に適用した抵抗変化型不揮発性記憶装置について説明する。
101 抵抗変化型記憶素子
102 N型MOSトランジスタ
103、104、105 端子
111 第1電極
112 低濃度酸化層
113 高濃度酸化層
114 第2電極
120 抵抗変化型不揮発性記憶装置
121 メモリセルアレイ
122 行ドライバ
123 行選択回路
124 列選択回路
125 書き込み回路
126 読み出し回路
127 入出力回路
128 モニター端子
129 書き込み用電源
130 LR化用電源
131 HR化用電源
132 アドレス入力回路
133 制御回路
200、200H、200L 参照セル回路
201a、201b 参照セル
202 パルス生成回路
202H HR化パルス生成回路
202L LR化パルス生成回路
203 読み出し回路
203a、203b 負荷回路
204 比較器
205 判定回路
206 制御回路
207 カウンタ回路
208、208H、208L 出力端子
210、213、230 インバータ
211、214、220、222 P型MOSトランジスタ
212、215、221、223 N型MOSトランジスタ
231、233 ロードホールド型D−FF
400 分布
500 抵抗変化型不揮発性記憶装置
501 メモリセルアレイ
502 行選択回路
503 列選択回路
504 読み出し回路
505 参照回路
506 書き込み回路
507 入出力回路
508 制御回路
510、511、512、513 P型MOSトランジスタ
514、515 N型MOSトランジスタ
550 抵抗変化型不揮発性記憶装置
551 リフレッシュ指示回路
552 比較器
553 負荷回路
554 P型MOSトランジスタ
555 N型MOSトランジスタ
601 HR分布
602 下限値
603 LR分布
604 リフレッシュ判定点
605 読み出し判定点
606 リフレッシュ指示点
700 クロスポイント型メモリセル
701 抵抗変化型記憶素子
702 ダイオード
1001、1002 メモリセルアレイ
1003、1004 参照セルアレイ
1005 センスアンプ
1010 メモリセルアレイ
1011 参照セルブロック
1012 センスアンプ
Claims (23)
- 第1の範囲内の抵抗値を有する低抵抗状態と、下限の抵抗値が前記第1の範囲の上限の抵抗値よりも高い第2の範囲内の抵抗値を有する高抵抗状態との間を、電気信号の印加に応じて可逆的に変化する抵抗変化素子を用いて構成された第1の参照セルおよび第2の参照セルと、
前記第1の参照セルの抵抗値と前記第2の参照セルの抵抗値とを比較する比較器と、
制御回路と、
前記第1の参照セルおよび前記第2の参照セルのうち前記制御回路から指示された参照セルに、当該参照セルを前記低抵抗状態および前記高抵抗状態のうちの何れか一方である目的状態に設定するための電気信号を印加する印加回路と、
前記第1の参照セルおよび前記第2の参照セルのうち前記制御回路から指示された参照セルを出力端子に電気的に接続する出力回路と、を備え、
前記制御回路は、
前記第1の参照セルの抵抗値または前記第2の参照セルの抵抗値を前記目的状態における下限の抵抗値または上限の抵抗値である目的抵抗値に近づけるために、前記第1の参照セルおよび前記第2の参照セルのうち前記比較器による比較動作と、前記比較器による都度の比較結果に対応して前記目的抵抗値からより遠い方の参照セルに対して、前記印加回路により前記電気信号を印加する書き込み動作とを、1回以上実行し、
前記書き込み動作の後、前記第1の参照セルおよび前記第2の参照セルのうち前記比較器による比較結果に対応して前記目的抵抗値により近い方の参照セルを、前記出力回路により前記出力端子に電気的に接続する出力動作を実行する
参照セル回路。 - さらに、前記電気信号を生成するパルス生成回路を備える
請求項1に記載の参照セル回路。 - 前記印加回路は、前記電気信号として、前記第1の参照セルおよび前記第2の参照セルを、前記低抵抗状態および前記高抵抗状態のうちの前記目的状態とは異なる抵抗状態に設定するための第1のパルス信号と、当該第1のパルス信号に後続して、前記第1の参照セルおよび前記第2の参照セルを前記目的状態に設定するための第2のパルス信号とを、前記制御回路から指示された参照セルに印加する
請求項1または請求項2に記載の参照セル回路。 - 前記第1の参照セルおよび前記第2の参照セルは、前記抵抗変化素子とトランジスタとを直列に接続してなる
請求項1から請求項3の何れか1項に記載の参照セル回路。 - 前記第1の参照セルおよび前記第2の参照セルは、前記抵抗変化素子とダイオードとを直列に接続してなる
請求項1から請求項3の何れか1項に記載の参照セル回路。 - 前記抵抗変化素子はタンタル酸化物で構成される
請求項1から請求項5の何れか1項に記載の参照セル回路。 - 前記制御回路は、
前記第1の参照セルまたは前記第2の参照セルを前記低抵抗状態における上限の抵抗値に近づけるために、前記書き込み動作の都度、前記第1の参照セルおよび前記第2の参照セルのうち前記比較器によって抵抗値がより低いと判定された参照セルに、当該参照セルを前記低抵抗状態に設定するための電気信号を、前記印加回路により印加し、前記出力動作において、前記第1の参照セルおよび前記第2の参照セルのうち前記比較器によって抵抗値がより高いと判定された参照セルを、前記出力回路により前記出力端子に電気的に接続する
請求項1から請求項6の何れか1項に記載の参照セル回路。 - 前記制御回路は、
前記第1の参照セルまたは前記第2の参照セルを前記低抵抗状態における下限の抵抗値に近づけるために、前記書き込み動作の都度、前記第1の参照セルおよび前記第2の参照セルのうち前記比較器によって抵抗値がより高いと判定された参照セルに、当該参照セルを前記低抵抗状態に設定するための電気信号を、前記印加回路により印加し、前記出力動作において、前記第1の参照セルおよび前記第2の参照セルのうち前記比較器によって抵抗値がより低いと判定された参照セルを、前記出力回路により前記出力端子に電気的に接続する
請求項1から請求項6の何れか1項に記載の参照セル回路。 - 前記制御回路は、
前記第1の参照セルまたは前記第2の参照セルを前記高抵抗状態における上限の抵抗値に近づけるために、前記書き込み動作の都度、前記第1の参照セルおよび前記第2の参照セルのうち前記比較器によって抵抗値がより低いと判定された参照セルに、当該参照セルを前記高抵抗状態に設定するための電気信号を、前記印加回路により印加し、前記出力動作において、前記第1の参照セルおよび前記第2の参照セルのうち前記比較器によって抵抗値がより高いと判定された参照セルを、前記出力回路により前記出力端子に電気的に接続する
請求項1から請求項6の何れか1項に記載の参照セル回路。 - 前記制御回路は、
前記第1の参照セルまたは前記第2の参照セルを前記高抵抗状態における下限の抵抗値に近づけるために、前記書き込み動作の都度、前記第1の参照セルおよび前記第2の参照セルのうち前記比較器によって抵抗値がより高いと判定された参照セルに、当該参照セルを前記高抵抗状態に設定するための電気信号を、前記印加回路により印加し、前記出力動作において、前記第1の参照セルおよび前記第2の参照セルのうち前記比較器によって抵抗値がより低いと判定された参照セルを、前記出力回路により前記出力端子に電気的に接続する
請求項1から請求項6の何れか1項に記載の参照セル回路。 - 前記参照セル回路は、前記第1の参照セル、前記第2の参照セル、前記比較器、前記印加回路、および前記出力回路をもう1組備え、
前記制御回路は、前記各組で、前記1回以上の書き込み動作および出力動作を実行し、
前記参照セル回路は、さらに、
組ごとの前記出力端子に接続された参照セルの抵抗値を比較する第2の比較器と、
組ごとの前記出力端子に接続された参照セルのうち前記第2の比較器による比較結果に対応する参照セルを出力端子に接続する第2の出力回路と、を備える
請求項1から請求項10の何れか1項に記載の参照セル回路。 - 第1の範囲内の抵抗値を有する低抵抗状態と、下限の抵抗値が前記第1の範囲の上限の抵抗値よりも高い第2の範囲内の抵抗値を有する高抵抗状態との間を、電気信号の印加に応じて可逆的に変化する抵抗変化素子を用いて構成された複数のメモリセルが行及び列状に配列されたメモリセルアレイと、
請求項1から請求項10の何れか1項に記載の1つ以上の参照セル回路を有し、当該参照セル回路の出力端子に接続された参照セルの抵抗値を基準として、前記複数のメモリセルの各々の抵抗状態を判定するための基準レベルを生成する参照回路と、
前記メモリセルの各々から得られる信号レベルと、前記参照回路で生成された基準レベルとを比較することにより、前記メモリセルが低抵抗状態および高抵抗状態の何れであるかを判定する読み出し回路と
を備える抵抗変化型不揮発性記憶装置。 - 前記参照回路は、
請求項7または請求項8に記載の参照セル回路である第1の参照セル回路と、
請求項9または請求項10に記載の参照セル回路である第2の参照セル回路と、
を有する請求項12に記載の抵抗変化型不揮発性記憶装置。 - 前記第1の参照セル回路は、請求項7に記載の参照セル回路であり、
前記第2の参照セル回路は、請求項10に記載の参照セル回路であり、
前記参照回路は、前記第1の参照セル回路の出力端子に接続された参照セルの抵抗値と、前記第2の参照セル回路の出力端子に接続された参照セルの抵抗値との中間の抵抗値に対応する基準レベルを生成する
請求項13に記載の抵抗変化型不揮発性記憶装置。 - 第1の範囲内の抵抗値を有する低抵抗状態と、下限の抵抗値が前記第1の範囲の上限の抵抗値よりも高い第2の範囲内の抵抗値を有する高抵抗状態との間を、電気信号の印加に応じて可逆的に変化する抵抗変化素子を用いて構成された複数のメモリセルが行列状に配列されたメモリセルアレイと、
請求項1から請求項10の何れか1項に記載の参照セル回路を有し、当該参照セル回路の出力端子に接続された参照セルの抵抗値が予め定められた値になることでリフレッシュ指示信号を出力するリフレッシュ指示回路と、
前記リフレッシュ指示信号が出力されると、前記メモリセルアレイの少なくとも一部のメモリセルに対して、一旦読み出し動作を行った後、再度同一のデータを書き込むリフレッシュ動作を行う制御回路と
を備える抵抗変化型不揮発性記憶装置。 - 前記参照セル回路は、請求項7に記載の参照セル回路であり、
前記リフレッシュ指示回路は、前記参照セル回路の出力端子に接続された参照セルの抵抗値が予め定められた値まで上昇したときに前記リフレッシュ指示信号を出力する
請求項15に記載の抵抗変化型不揮発性記憶装置。 - 前記参照セル回路は、請求項10に記載の参照セル回路であり、
前記リフレッシュ指示回路は、前記参照セル回路の出力端子に接続された参照セルの抵抗値が予め定められた値まで下降したときに前記リフレッシュ指示信号を出力する
請求項15に記載の抵抗変化型不揮発性記憶装置。 - 前記参照セル回路は、前記抵抗変化型不揮発性記憶装置の製造工程において、前記書き込み動作を1回以上実行した後、前記第1の参照セルおよび前記第2の参照セルのうち前記比較器による比較結果に対応する参照セルを、前記出力回路により出力端子に電気的に接続する
請求項12から請求項17の何れか1項に記載の抵抗変化型不揮発性記憶装置。 - 前記参照セル回路は、前記抵抗変化型不揮発性記憶装置の休止またはアイドル状態の期間において、前記印加回路により前記書き込み動作を1回以上実行した後、前記第1の参照セルおよび前記第2の参照セルのうち前記比較器による比較結果に対応する参照セルを、前記出力回路により前記出力端子に電気的に接続する
請求項12から請求項14の何れか1項に記載の抵抗変化型不揮発性記憶装置。 - 前記参照セル回路は、前記リフレッシュ指示が出力されると、前記書き込み動作を1回以上実行した後、前記第1の参照セルおよび前記第2の参照セルのうち前記比較器による比較結果に対応する参照セルを、前記出力回路により前記出力端子に電気的に接続する
請求項15から請求項17の何れか1項に記載の抵抗変化型不揮発性記憶装置。 - 第1の範囲内の抵抗値を有する低抵抗状態と、下限の抵抗値が前記第1の範囲の上限の抵抗値よりも高い第2の範囲内の抵抗値を有する高抵抗状態との間を、電気信号の印加に応じて可逆的に変化する抵抗変化素子を用いて構成された第1の参照セルおよび第2の参照セルとを備える参照セル回路の設定方法であって、
前記第1の参照セルの抵抗値または前記第2の参照セルの抵抗値を、前記低抵抗状態および前記高抵抗状態のうちの何れか一方である目的状態における下限の抵抗値または上限の抵抗値である目的抵抗値に近づけるために、前記第1の参照セルおよび前記第2の参照セルのうち、前記第1の参照セルの抵抗値および前記第2の参照セルの抵抗値の都度の比較結果に対応して前記目的抵抗値からより遠い方の参照セルに対して、当該参照セルを前記目的状態に設定するための電気信号を印加する、1回以上の更新ステップと、
前記更新ステップの後、前記第1の参照セルおよび前記第2の参照セルのうち、前記第1の参照セルの抵抗値と前記第2の参照セルの抵抗値との比較結果に対応して前記目的抵抗値により近い方の参照セルを、出力端子に電気的に接続する出力ステップと
を含む参照セル回路の設定方法。 - 第1の範囲内の抵抗値を有する低抵抗状態と、下限の抵抗値が前記第1の範囲の上限の抵抗値よりも高い第2の範囲内の抵抗値を有する高抵抗状態との間を、電気信号の印加に応じて可逆的に変化する抵抗変化素子を用いて構成された、複数のメモリセル、第1の参照セル、および第2の参照セルを有し、前記複数のメモリセルは行列状に配列されてメモリセルアレイを構成し、前記第1の参照セルおよび前記第2の参照セルは参照セル回路を構成している抵抗変化型不揮発性記憶装置の制御方法であって、
前記参照セル回路に対して請求項21に記載の設定方法に含まれる各ステップを実行するステップと、
前記参照セル回路の出力端子に接続された参照セルの抵抗値を基準として、前記複数のメモリセルの各々の抵抗状態を判定するための基準レベルを生成する基準レベル生成ステップと、
前記複数のメモリセルの各々から得られる信号レベルと、生成された基準レベルとを比較することにより、前記メモリセルが低抵抗状態および高抵抗状態の何れであるかを判定する読み出しステップと
を含む抵抗変化型不揮発性記憶装置の制御方法。 - 第1の範囲内の抵抗値を有する低抵抗状態と、下限の抵抗値が前記第1の範囲の上限の抵抗値よりも高い第2の範囲内の抵抗値を有する高抵抗状態との間を、電気信号の印加に応じて可逆的に変化する抵抗変化素子を用いて構成された複数のメモリセル、第1の参照セル、および第2の参照セルを有し、前記複数のメモリセルは行及び列状に配列されてメモリセルアレイを構成し、前記第1の参照セルおよび前記第2の参照セルは参照セル回路を構成している抵抗変化型不揮発性記憶装置の制御方法であって、
前記参照セル回路に対して請求項21に記載の設定方法に含まれる各ステップを実行するステップと、
前記参照セル回路の出力端子に接続された参照セルの抵抗値が予め定められた値になることでリフレッシュ指示信号を出力するリフレッシュ指示ステップと、
前記リフレッシュ指示信号が出力されると、前記メモリセルアレイの少なくとも一部のメモリセルに対して、一旦読み出し動作を行った後、再度同一のデータを書き込むリフレッシュ動作を行うリフレッシュ実行ステップと
を含む抵抗変化型不揮発性記憶装置の制御方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012539905A JP5138836B2 (ja) | 2011-04-13 | 2012-04-12 | 参照セル回路とそれを用いた抵抗変化型不揮発性記憶装置 |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011089505 | 2011-04-13 | ||
JP2011089505 | 2011-04-13 | ||
JP2012539905A JP5138836B2 (ja) | 2011-04-13 | 2012-04-12 | 参照セル回路とそれを用いた抵抗変化型不揮発性記憶装置 |
PCT/JP2012/002559 WO2012140903A1 (ja) | 2011-04-13 | 2012-04-12 | 参照セル回路とそれを用いた抵抗変化型不揮発性記憶装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP5138836B2 true JP5138836B2 (ja) | 2013-02-06 |
JPWO2012140903A1 JPWO2012140903A1 (ja) | 2014-07-28 |
Family
ID=47009092
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012539905A Expired - Fee Related JP5138836B2 (ja) | 2011-04-13 | 2012-04-12 | 参照セル回路とそれを用いた抵抗変化型不揮発性記憶装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8787070B2 (ja) |
JP (1) | JP5138836B2 (ja) |
CN (1) | CN102859604B (ja) |
WO (1) | WO2012140903A1 (ja) |
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2012
- 2012-04-12 US US13/634,292 patent/US8787070B2/en active Active
- 2012-04-12 WO PCT/JP2012/002559 patent/WO2012140903A1/ja active Application Filing
- 2012-04-12 JP JP2012539905A patent/JP5138836B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2012-04-12 CN CN201280000914.7A patent/CN102859604B/zh not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Publication date |
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US20130044535A1 (en) | 2013-02-21 |
CN102859604A (zh) | 2013-01-02 |
JPWO2012140903A1 (ja) | 2014-07-28 |
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Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20121023 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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