JP5130259B2 - 排出システム - Google Patents
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Description
放射線ビームを調整するように構成された照明装置と、
パターニングデバイスを保持するように構築された支持体とを有し、パターニングデバイスは、放射線ビームの断面にパターンを与えて、パターン形成した放射線ビームを形成するように構成され、さらに、
基板を保持するように構築された基板テーブルと、
パターン形成した放射線ビームを基板の目標部分に投影するように構成された投影システムと、
投影システムと基板の間の空間を液体で少なくとも部分的に充填するように構成された液体供給システムとを有し、液体供給システムは、空間内に液体を少なくとも部分的に閉じ込めるように構成された液体閉じ込め構造を有し、さらに、
液体閉じ込め構造と基板の間のギャップを通る液体と気体の混合物を除去するように構成された出口と、
出口を通して混合物を引き出すように構成された排出システムとを有し、排出システムは、混合物の気体から液体を分離するように配置構成されたセパレータタンクと、セパレータタンクの非液体充填領域に接続され、非液体充填領域内に安定した圧力を維持するように構成されたセパレータタンク圧力制御装置とを有するものであるリソグラフィ装置が提供される。
液体が逃げられる容器の境界領域へと加圧された気体を供給するように構成された加圧気体入力部と、
領域から液体と気体の混合物を制御された状態で除去するように構成された安定排出システムとを有し、気体の流れは、安定排出システムに結合した加圧気体入力部により生起され、境界領域を通る容器からの液体の逃げを制限し、安定排出システムは、混合物中の気体から液体を分離するように配置構成されたセパレータタンクと、セパレータタンクの非液体充填領域に接続され、非液体充填領域内に安定した圧力を維持するように構成されたセパレータタンク圧力制御装置とを有するものである装置が提供される。
放射線ビームを調整するように構成された照明装置と、
パターニングデバイスを保持するように構築された支持体とを有し、パターニングデバイスは、放射線ビームの断面にパターンを与えて、パターン形成した放射線ビームを形成するように構成され、さらに、
基板を保持するように構築された基板テーブルと、
パターン形成した放射線ビームを基板の目標部分に投影するように構成された投影システムと、
投影システムと基板の間の空間を液体で少なくとも部分的に充填するように構成された液体供給システムとを有し、液体供給システムは、空間内の液体を少なくとも部分的に閉じ込めるように構成された液体閉じ込め構造を有し、さらに、
液体閉じ込め構造と基板の間のギャップを通る液体と気体の混合物を除去するように構成された出口と、
出口を通して混合物を引き出すように構成された排出システムとを有し、排出システムは、2相両立ポンプと、ギャップと2相融和性ポンプの間に配置構成された液体/気体ホモジナイザとを有し、液体/気体ホモジナイザは、液体と気体の均質な混合物を2相両立ポンプに提供するように配置構成されるものであるリソグラフィ装置が提供される。
放射線ビームを調整するように構成された照明装置と、
パターニングデバイスを保持するように構築された支持体とを有し、パターニングデバイスは、放射線ビームの断面にパターンを与えて、パターン形成した放射線ビームを形成するように構成され、さらに、
基板を保持するように構築された基板テーブルと、
パターン形成した放射線ビームを基板の目標部分に投影するように構成された投影システムと、
投影システムと基板の間の空間を液体で少なくとも部分的に充填するように構成された液体供給システムとを有し、液体供給システムは、空間内の液体を少なくとも部分的に閉じ込めるように構成された液体閉じ込め構造を有し、さらに、
液体閉じ込め構造と基板の間のギャップを通る液体と気体の混合物を除去するように構成された出口と、
出口を通して混合物を引き出すように構成された排出システムとを有し、排出システムは、
2相両立ポンプに接続され、混合物を給送するように構成された主要給送線と、
気体のみを給送するように構成された共用真空機構に接続可能であり、2相両立ポンプをバックアップするように配置構成されたバックアップ線とを有し、2相両立ポンプは、共用真空機構より深い真空を提供するように構成可能であり、さらに、
主要給送線とバックアップ線に接続する2相両立圧力調整器を有するものであるリソグラフィ装置が提供される。
− 放射線ビームPB(例えばUV放射線またはDUV放射線)を調整するように構成された照明システム(照明装置)ILと、
− パターニングデバイス(例えばマスク)MAを支持するように構築され、かつ、特定のパラメータに従って正確にパターニングデバイスの位置決めを行うように構成された第一位置決め装置PMに連結を行った支持構造(例えばマスクテーブル)MTと、
− 基板(例えばレジスト塗布したウェハ)Wを支持するように構築され、かつ、特定のパラメータに従って正確に基板の位置決めを行うように構成された第二位置決め装置PWに連結を行った基板テーブル(例えばウェハテーブル)WTと、
− パターニングデバイスMAによって放射線ビームPBに与えられたパターンを基板Wの目標部分C(例えば、1つあるいはそれ以上のダイから成る)に投影するように構成された投影システム(例えば屈折性投影レンズシステム)PLとを含む。
1.ステップモードにおいては、マスクテーブルMTおよび基板テーブルWTは、基本的に静止状態に保たれている。そして、放射線ビームに与えたパターン全体が1回で目標部分Cに投影される(すなわち1回の静止露光)。次に基板テーブルWTがX方向および/あるいはY方向にシフトされ、異なる目標部分Cが照射され得る。ステップモードでは、露光フィールドの最大サイズが、1回の静止露光で描像される目標部分Cのサイズを制限する。
2.走査モードにおいては、マスクテーブルMTおよび基板テーブルWTを同期走査する一方、放射線ビームに与えられたパターンを目標部分Cに投影する(つまり1回の動的露光)。マスクテーブルMTに対する基板テーブルWTの速度および方向は、投影システムPLの拡大(縮小)および像反転特性によって決定される。走査モードでは、露光フィールドの最大サイズが、1回の動的露光で目標部分の(非走査方向における)幅を制限し、走査動作の長さが目標部分の(走査方向における)高さを決定する。
3.別のモードでは、マスクテーブルMTが基本的に静止状態に維持されて、プログラマブルパターニングデバイスを保持し、放射線ビームに与えられたパターンを目標部分Cに投影する間に、基板テーブルWTが動作するか、走査される。このモードでは、一般的にパルス状放射線ソースを使用して、基板テーブルWTを動作させるごとに、または走査中に連続する放射線パルス間に、プログラマブルパターニングデバイスを必要に応じて更新する。この動作モードは、以上で言及したようなタイプのプログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニングデバイスを使用するマスクなしリソグラフィに容易に適用することができる。
上記の説明は例示的であり、制限的ではない。したがって、請求の範囲から逸脱することなく、記載されたような本発明を変更できることが当業者には明白である。
Claims (22)
- 領域から液体と気体の混合物を制御された状態で除去するように構成された排出システムであって、
前記混合物の気体と液体とを重力によって分離するように配置構成されたセパレータタンクと、
前記セパレータタンクの非液体充填領域に接続され、前記非液体充填領域内に安定した圧力を維持するように構成されたセパレータタンク圧力制御装置とを有し、
前記排出システムがさらに、前記セパレータタンクより下に位置し、前記セパレータタンクの下部分にある開口および自身の上部分にある開口を通してこれに接続されたパージタンクを有し、前記接続はパージ弁を介して制御可能である排出システム。 - 前記排出システムがさらに、均圧弁によって制御可能であり、前記セパレータタンクと前記パージタンクの個々の上部分を接続して、前記セパレータタンク内の圧力を変化させずに、前記セパレータタンクから前記パージタンクへの分離された液体の流れを容易にするように構成された均圧接続部を有し、
前記パージタンクは、液体除去段階中に、前記パージ弁を閉鎖し、前記均圧弁を閉鎖して、前記パージタンクを液体シンクへと液体シンク弁を介して開放することによって、液体をそこから除去できるように構成される、請求項1に記載の排出システム。 - 前記排出システムがさらに、前記パージタンクに接続可能であり、前記パージタンクから前記液体シンクへとより高い率で液体を強制的に送るように構成された高圧気体ソースを有する、請求項2に記載の排出システム。
- 前記排出システムがさらに、前記セパレータタンクから前記液体シンクへと液体を給送するように構成された液体ポンプを有し、前記液体ポンプが、高圧気体ソースによって動力付与された気体ジェットポンプを有する、請求項3に記載の排出システム。
- 前記パージ弁、前記液体シンク弁、または両方が、逆流を防止するように構成された逆止め弁を有する、請求項2乃至請求項4のいずれか一項に記載の排出システム。
- 排出システムがさらに、
前記セパレータタンクおよび前記パージタンクの個々の上部分を接続するように構成され、流れインピーダンスを提供するように配置構成された流れ限定デバイスを有する制限流接続部を有し、
前記パージタンクは、液体除去段階中に、前記パージ弁を閉鎖し、前記パージタンクを液体シンクへと液体シンク弁を介して開放することによって、液体をそこから除去できるように構成され、前記流れインピーダンスは、液体除去段階の後に、前記セパレータタンク内で閾値を超える圧力変動を引き起こさずに、前記セパレータタンクおよび前記パージタンクの圧力を均等化するように選択される、請求項1に記載の排出システム。 - 前記流れインピーダンスは、液体が前記セパレータタンクから前記パージタンクへと最低移送速度より高い率で流れることが可能であるようにも選択される、請求項6に記載の排出システム。
- 前記排出システムがさらに、前記パージタンクに接続可能であり、前記パージタンクから前記液体シンクへとより高い率で液体を強制的に送るように構成された高圧気体ソースを有する、請求項6又は請求項7に記載の排出システム。
- 前記パージ弁、前記液体シンク弁、または両方が、逆流を防止するように構成された逆止め弁を有する、請求項6乃至請求項8のいずれか一項に記載の排出システム。
- 前記排出システムがさらに、
前記セパレータタンクおよび前記パージタンクの個々の上部分を接続するように構成され、流れインピーダンスを提供するように配置構成された流れ限定デバイスを有する制限流接続部と、
均圧弁によって制御可能であり、前記セパレータタンクと前記パージタンクの個々の上部分を接続して、前記セパレータタンク内の圧力を変化させずに、前記セパレータタンクから前記パージタンクへの分離された液体の流れを容易にするように構成された均圧接続部を有し、
前記パージタンクは、液体除去段階中に、前記パージ弁を閉鎖し、前記パージタンクを液体シンクへと液体シンク弁を介して開放することによって、液体をそこから除去できるように構成され、前記流れインピーダンスは、前記液体除去段階の後に、前記セパレータタンク内で閾値を超える圧力変動を引き起こさずに、前記セパレータタンクおよび前記パージタンクの圧力を均等化するように選択される、請求項1に記載の排出システム。 - 前記排出システムがさらに、前記パージタンクに接続可能であり、前記パージタンクから前記液体シンクへとより高い率で液体を強制的に送るように構成された高圧気体ソースを有する、請求項10に記載の排出システム。
- 前記パージ弁、前記液体シンク弁、または両方が、逆流を防止するように構成された逆止め弁を有する、請求項10又は請求項11に記載の排出システム。
- 領域から液体と気体の混合物を制御された状態で除去するように構成された排出システムであって、
前記混合物の気体と液体とを重力によって分離するように配置構成されたセパレータタンクと、
前記セパレータタンクの非液体充填領域に接続され、前記非液体充填領域内に安定した圧力を維持するように構成されたセパレータタンク圧力制御装置とを有し、
前記排出システムがさらに、液体を前記セパレータタンクから液体シンクへと給送するように構成された液体ポンプを有する、排出システム。 - 前記セパレータタンク圧力制御装置が、
2相両立ポンプに接続され、混合物を給送するように構成された主要給送線と、
共用真空機構に接続可能であり、気体のみを給送するように構成されたバックアップ線とを有し、
前記主要給送線および前記バックアップ線が前記セパレータタンクに接続され、前記2相両立ポンプが、前記共用真空機構より深い真空を提供するように構成可能である、請求項1乃至請求項13のいずれか一項に記載の排出システム。 - 前記主要給送線が、前記セパレータタンクの主に液体で充填された下部分に接続され、前記バックアップ線が、前記セパレータタンクの主に気体で充填された上部分に接続される、請求項14に記載の排出システム。
- 前記主要給送線および前記バックアップ給送線がそれぞれ、逆止め弁を装備して、一方の給送線が他方の給送線から汲み出すことを防止する、請求項14又は請求項15に記載の排出システム。
- 前記バックアップ線が、液体が前記共用真空機構に到達するのを防止するように構成された疎水性フィルタを有する、請求項14乃至請求項16に記載の排出システム。
- 前記主要給送線、前記バックアップ線、または両方が、前記2相両立ポンプ、前記共用真空機構、または両方によって提供される給送力を、背圧調整器のセパレータタンク側にかかる圧力の関数として制御するように構成された背圧調整器を有する、請求項14乃至請求項17のいずれか一項に記載の排出システム。
- 前記2相両立ポンプが、前記主要給送線を介して前記セパレータタンクの非液体充填部分の真空レベルを維持し、さらに下部セパレータタンク給送線を介して前記セパレータタンクの主に液体で充填された下部分から液体を抽出するように構成され、前記共用真空機構が液体をくみ出すのを防止するように前記主要給送線と前記下部セパレータタンク給送線の間に逆止め弁が位置決めされる、請求項14乃至請求項18のいずれか一項に記載の排出システム。
- 前記排出システムがさらに、液体が逃げられる容器の境界領域へと加圧された気体を供給するように構成された加圧気体入力部を備え、加圧気体入力部により発生する気体の流れは、境界領域を通る容器からの液体の逃げを制限するように構成されている請求項1に記載の排出システム。
- 領域から液体と気体の混合物を引き出すように構成された排出システムであって、
前記混合物を保持する保持タンクと、
2相両立ポンプに接続され、前記保持タンクから前記混合物を給送するように構成された主要給送線と、
共用真空機構に接続可能であり、前記保持タンクから気体のみを給送するように構成され、前記2相両立ポンプをバックアップするように配置構成されたバックアップ線とを有し、前記2相両立ポンプは、前記共用真空機構より深い真空を提供するように構成可能であり、さらに、
前記主要給送線と前記バックアップ線に接続する2相両立圧力調整器を有する排出システム。 - 前記バックアップ線が、液体が前記共用真空機構に到達するのを防止するように構成された疎水性フィルタを有する、請求項21に記載の排出システム。
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