CN113457318B - 一种超洁净湿空气制备装置及光刻设备 - Google Patents
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Abstract
本发明实施例公开了一种超洁净湿空气制备装置及光刻设备,其中超洁净湿空气制备装置包括:进气单元;与进气单元连接的洗气单元;洗气单元内部设置有多孔结构,多孔结构用于增大注入气体与洁净水的接触面积;出气单元,出气单元与洗气单元连接。本发明实施例提供的技术方案通过在洗气单元内部设置多孔结构,通过多孔结构增大注入气体与洁净水的接触面积,保证能够持续稳定地提供大流量高湿度的湿空气,并且降低了器件的成本以及减小器件的占用空间。
Description
技术领域
本发明实施例涉及光刻领域,尤其涉及一种超洁净湿空气制备装置及光刻设备。
背景技术
现代光刻设备以光学光刻为基础,它利用光学系统把掩膜版上的图形精确地投影曝光到涂过光刻胶的衬底(如:硅片)上。浸没式光刻是指在曝光镜头与硅片之间充满水(或更高折射的浸没液体)以取代传统干式光刻技术中对应的空气。由于水的折射率比空气大,这就使得透镜组数值孔径增大,进而可获得更加小的特征线宽。但是硅片表面附近的蒸发制冷会导致硅片变形进而导致曝光误差,在特定区域中测量光路上气体温度波动会引起测量误差进而导致曝光误差。因此,浸没式光刻机中浸没分系统、对准分系统和工件台分系统及IM分系统需要超洁净湿空气(XCHA,eXtreme Clean Humidified Air)来提升相关区域温度稳定性。
目前,常见的湿空气制备原理包括热蒸发型和超声波型:热蒸发型加湿也叫电热加湿,其工作原理是将水在加热体中加热到100度,产生蒸汽。超声波技术是一种比较成熟的技术,采用超声波高频震荡,将水雾化为微小颗粒后加湿洁净干空气。但是传统的加湿器占用空间大,其中采用湿空气制备过程中还有加热工序,在加湿过程中使湿空气产生较大温升,较大温升的湿空气会增加温控负载,而且增加曝光误差;采用超声波发生器等复杂电气元件时,器件成本较高,可靠性较差。
发明内容
本发明实施例提供了一种超洁净湿空气制备装置及光刻设备,以保证能够持续稳定地提供大流量高湿度的湿空气,并且以降低装置的成本以及减小装置的占用空间。
第一方面,本发明实施例提供了一种超洁净湿空气制备装置,包括:
进气单元;
与所述进气单元连接的洗气单元;所述洗气单元内部设置有多孔结构,所述多孔结构用于增大注入气体与洁净水的接触面积;
出气单元,所述出气单元与所述洗气单元连接。
可选的,所述多孔结构包括发泡多孔材料和/或晶格结构。
可选的,所述发泡多孔材料和晶格结构的截面包括多数个孔洞;所述孔洞的孔径截面积小于10mm2;所述孔洞数量大于1个/100mm2。
可选的,所述发泡多孔材料和晶格结构在洗气单元内部均匀分布。
可选的,所述洗气单元包括一个流道,所述发泡多孔材料和/或晶格结构填充于所述流道中。
可选的,所述洗气单元包括:多数个分支流道,每个所述分支流道与所述进气单元连通并于所述出气单元处连通;
所述发泡多孔材料或晶格结构填充于每个所述分支流道中。
可选的,每个所述分支流道沿所述进气单元环形阵列排布。
可选的,所述出气单元所在水平面不低于所述进气单元所在水平面,所述进气单元所在水平面不低于所述洗气单元所在水平面。
可选的,所述进气单元与所述洗气单元之间通过气体输送部件连接;所述洗气单元与所述出气单元之间通过气体输送部件连接;所述进气单元包括第一调节子单元,所述出气孔包括第二调节子单元;所述第一调节子单元用于调节所述进气单元密封部分的体积;所述第二调节子单元用于调节所述出气单元密封部分的体积。
可选的,所述进气单元还与所述出气单元之间通过气体输送部件连接。
可选的,所述进气单元还与第一阀门连接,所述第一阀门用于控制进气单元的开闭;所述出气单元还与第二阀门连接,所述第二阀门用于控制出气单元的开闭。
可选的,所述进气单元与所述出气单元之间的气体输送部件上设置有第三阀门,所述第三阀门用于控制所述进气单元与所述出气单元之间的连通状态;所述进气单元与所述洗气单元之间的气体输送部件上设置有第四阀门,所述第四阀门用于控制所述进气单元与所述洗气单元之间的连通状态。
可选的,所述洗气单元中的洗气高度大于或等于20mm。
可选的,所述洗气单元的截面积大于或等于所述进气单元截面积的4倍。
第二方面,本发明实施例提供了一种光刻设备,包括第一方面任一所述的超洁净湿空气制备装置,所述浸没超洁净湿空气制备装置为所述光刻设备提供湿空气。
本发明实施例提供了一种超洁净湿空气制备装置及光刻设备,其中超洁净湿空气制备装置包括:进气单元;与所述进气单元连接的洗气单元;所述洗气单元内部设置有多孔结构,所述多孔结构用于增大注入气体与洁净水的接触面积;出气单元,所述出气单元与所述洗气单元连接。本发明实施例提供的技术方案通过在洗气单元内部设置多孔结构,通过多孔结构增大注入气体与洁净水的接触面积,保证能够持续稳定地提供大流量高湿度的湿空气,并且降低了器件的成本以及减小器件的占用空间。
附图说明
图1是本发明实施例一提供的一种超洁净湿空气制备装置结构示意图;
图2是本发明实施例一提供的另一种超洁净湿空气制备装置结构示意图;
图3是本发明实施例一提供的一种发泡多孔材料的俯视图;
图4是本发明实施例一提供的一种晶格结构的俯视图;
图5是本发明实施例二提供的一种超洁净湿空气制备装置结构示意图;
图6是本发明实施例三提供的一种超洁净湿空气制备装置结构示意图;
图7是本发明实施例四提供的一种光刻设备结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明作进一步的详细说明。可以理解的是,此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本发明,而非对本发明的限定。另外还需要说明的是,为了便于描述,附图中仅示出了与本发明相关的部分而非全部结构。
实施例一
本发明实施例提供了一种超洁净湿空气制备装置,图1是本发明实施例一提供的一种超洁净湿空气制备装置结构示意图,参考图1;该装置包括:
进气单元10;
与进气单元10连接的洗气单元20;洗气单元20内部设置有多孔结构21,多孔结构21用于增大注入气体与洁净水的接触面积;
出气单元30,出气单元30与洗气单元20连接。
具体的,超洁净湿空气制备装置包括进气单元10、洗气单元20和出气单元30;洗气单元20与进气单元10连通,洗气单元20还与出气单元30连接;其中洗气单元20内部设置有多孔结构21,多孔结构21用于增大注入气体与液态洁净水的接触面。进气单元10与洗气单元20连通,干燥的空气从进气单元10输入后由于气体的流动性会进入到洗气单元20,洗气单元20中除填充有多孔结构21外还加入有液态洁净水,液态洁净水存在于多孔结构21的空隙中。当干燥空气通过洗气单元20时,干燥空气与液态洁净水的接触得到加湿的效果。由于液态洁净水存在于多孔结构20中,多孔结构20增大了注入气体与洁净水的接触面,使干燥空气得到了充分的加湿,提高了空气的湿度。并且由于多孔结构20的作用,可以缓冲气流的流速,使进入到出气单元30加湿后的空气具有稳定性,保证能够持续稳定地提供大流量高湿度的湿空气。另外,与现有技术中的热蒸发型和超声波型的湿空气制备设备相比,本发明实施例提供了的超洁净湿空气制备装置还降低了装置的成本以及减小装置的占用空间。
可选的,多孔结构包括发泡多孔材料和/或晶格结构。发泡多孔材料和晶格结构为立体结构,孔与孔之间相互连通。多孔结构的截面为具有大量小孔的多孔截面,多孔截面里的单个孔应尽可能小。沿着洗气单元20的气流方向,在横截面上孔洞的密度应尽可能密集,横截面上孔洞的密度越密集,干燥空气得到的加湿效果越充分。通过减小单个孔径的长度,可以进一步地提高加湿后空气的加湿度。可选的,洗气单元包括一个流道,发泡多孔材料和/或晶格结构填充于流道中。
具体的,洗气单元包括一个流道;即干燥空气从进气单元输入到出气单元输出的过程中,干燥空气只流经一个流道。发泡多孔材料和/或晶格结构填充于流道中,为注入的气体增大与洁净水的接触面,进而增大与液态洁净水接触的概率。
可选的,图2是本发明实施例一提供的另一种超洁净湿空气制备装置结构示意图,参考图1-2;洗气单元20包括:多数个分支流道22,每个分支流道22与进气单元10连通并于出气单元30处连通;发泡多孔材料或晶格结构填充于每个分支流道22中。
具体的,洗气单元20包括多数个分支流道22;即干燥空气从进气单元10输入从出气单元30输出的过程中,干燥的空气流分成若干等份,并由多数个分支流道22进行加湿。示例性地,图1中包括两个分支流道22,图4中包括8个分支流道22。多数个分支流道22对称的分布在进气单元10的两侧,尽量保证每个分支流道22里通过的气流相同,以维持加湿后气体的稳定性。多数个分支流道22也可以提高同一时间内对空气加湿的总体积,进而提高加湿的效率。发泡多孔材料和/或晶格结构均匀的填充于每个分支流道22中,发泡多孔材料和/或晶格结构可以增大注入的气体与洁净水的接触面,进而增大与液态洁净水接触的概率。
可选的,参考图2;每个分支流道22沿进气单元10环形阵列排布;出气单元30所在水平面不低于进气单元10所在水平面,进气单元10所在水平面不低于洗气单元20所在水平面。
具体的,每个分支流道22沿进气单元10环形阵列排布,可以在一定体积的洗气单元20中大幅增加气体与液体的接触面积。出气单元30所在水平面不低于进气单元10所在水平面,进气单元10所在水平面不低于洗气单元20所在水平面。进气单元10的进气方向为自上而下,可以是侧方向进入或者U型进入。进气单元10的位置应高于液态洁净水的高度。洗气单元20内气体流向应自下而上,与重力方向相反。
可选的,所述孔洞的孔径截面积应小于10mm2;孔洞密度大于1个/100mm2。孔洞密度越密集并且孔径截面积足够小可以保证待加湿的气体分子与水分子之间充分的接触,提高加湿的效率。例如,图3是本发明实施例一提供的一种发泡多孔材料的俯视图,参考图3,发泡多孔材料的截面为具有大量小孔的多孔截面,多孔截面里的单个孔的面积S1应尽可能小。图4是本发明实施例一提供的一种晶格结构的俯视图,参考图4,晶格结构的截面为具有大量小孔的多孔截面,多孔截面里的单个孔的面积S2应尽可能小。
可选的,洗气单元中的洗气高度大于或等于20mm。水面应覆盖洗气单元20的一定高度的晶格或多孔材料。洗气高度大于或等于20mm可以保证待加湿的气体得到充分的加湿,在时间上和空间上增加气体分子与水分子接触的机会,进一步的提高气体的加湿效率。
可选的,所述洗气单元的截面积大于或等于进气单元截面积的4倍。可以保证从进气单元输入的气体分子进入洗气单元后体积增大,即可以增加气体分子之间的间距,使气体分子与水分子充分接触。避免单位时间内输入的气体数量大于加湿气体的数量导致洗气单元中的气压增加,进而加快气体的流速使气体不能得到充分的加湿,而且气压增加会导致液态洁净水流出洗气单元损坏装置。
示例性地,进气单元为直径为8mm的圆面,洗气单元的流道截面为直径40mm的圆面,洗气单元内部填充3D打印晶格,桁架尺寸为0.3mm,晶格胞体棱长的尺寸为5mm,结构采用常用的Diamond(常用晶格结构有四面体、八面体、Cross、Diagonal、Diamond等);洗气单元分有5个分支流道,进气单元通入10bar洁净空气,出气单元可以得到湿度78%的湿空气。
本发明实施例提供的一种超洁净湿空气制备装置,包括:进气单元;与进气单元连接的洗气单元;洗气单元内部设置有多孔结构,多孔结构用于增大注入气体与洁净水的接触面积;出气单元,出气单元与洗气单元连接。本发明实施例提供的技术方案通过在洗气单元内部设置多孔结构,通过多孔结构增大注入气体与洁净水的接触面积,保证能够持续稳定地提供大流量高湿度的湿空气,并且降低了器件的成本以及减小器件的占用空间。
实施例二
本发明实施例在上述实施例的基础上,在超洁净湿空气制备装置的进气单元与洗气单元之间、进气单元与出气单元之间、进气单元的进气处以及出气单元的出气处设置了阀门,通过控制阀门的开闭进而控制超洁净湿空气制备装置的工作状态。
图5是本发明实施例二提供的一种超洁净湿空气制备装置结构示意图,参考图5;超洁净湿空气制备装置包括:
进气单元10;
与进气单元10连接的洗气单元20;洗气单元20内部设置有多孔结构21,多孔结构21用于增大注入气体与洁净水的接触面积;
出气单元30,出气单元30与洗气单元20连接。
可选的,多孔结构21包括发泡多孔材料和/或晶格结构。
可选的,发泡多孔材料和晶格结构的截面包括多数个孔洞;孔洞的孔径截面积小于10mm2;所述孔洞密度大于1个/100mm2。
可选的,洗气单元20中的洗气高度大于或等于20mm。
可选的,发泡多孔材料和晶格结构在洗气单元20内部均匀分布。发泡多孔材料和晶格结构的均匀分布可以使待加湿气体在洗气单元的不同位置上受到加湿作用相同,保证能够持续稳定地提供大流量高湿度的湿空气。
可选的,洗气单元20包括一个流道,发泡多孔材料和/或晶格结构填充于流道中。
可选的,洗气单元20包括:多数个分支流道,每个分支流道与进气单元连通于所述出气单元处连通;发泡多孔材料或晶格结构填充于每个分支流道中。
可选的,每个分支流道沿所述进气单元环形阵列排布。
可选的,出气单元30所在水平面高于所述进气单元10所在水平面,进气单元10所在水平面高于洗气单元20所在水平面。
基于以上的超洁净湿空气制备装置,参考图5;本发明实施例二提供的超洁净湿空气制备装置的区别在于进气单元10与出气单元30之间通过气体输送部件连接;进气单元10与洗气单元20之间通过气体输送部件连接;洗气单元20与出气单元30之间通过气体输送部件连接;进气单元10包括第一调节子单元11,出气单元30包括第二调节子单元31;第一调节子单元11用于调节进气单元10密封部分的体积;第二调节子单元31用于调节出气单元30密封部分的体积。可选的,第一调节子单元11和第二调节子单元31可以是气塞,气体输送部件可以是管道。
具体的,进气单元10与出气单元30之间、进气单元10与洗气单元20之间以及洗气单元20与出气单元30之间通过气体输送部件连通;其中进气单元10包括第一调节子单元11,出气单元30包括第二调节子单元31。第一调节子单元11能够在进气单元10中的位置向外膨胀或者向内压缩,达到调节进气单元密封部分体积的效果;第二调节子单元31能够在出气单元30中的位置向外膨胀或者向内压缩,达到调节出气单元密封部分的体积。通过调节进气单元密封部分的体积以及出气单元密封部分的体积的大小,进而改变进气单元与出气单元中的压强大小,实现控制装置中气流的流向。
可选的,参考图5;进气单元10还与第一阀门A连接,第一阀门A用于控制进气单元10的开闭;出气单元30还与第二阀门B连接,第二阀门B用于控制出气单元30的开闭。
可选的,参考图5;进气单元10与出气单元30之间的气体输送部件上设置有第三阀门C,第三阀门C用于控制进气单元10与出气单元30之间的连通状态;进气单元10与洗气单元20之间的气体输送部件上设置有第四阀门D,第四阀门D用于控制进气单元10与洗气单元20之间的连通状态。
示例性地,初始状态下,打开第一阀门A和第四阀门D,并且关闭第二阀门B和第三阀门C后,从进气单元10左侧通入需要加湿的大流量干燥空气;通过洗气单元20加湿后,气体流向出气单元30直到气体顶起出气单元30的第二调节子单元31,此时完成第一次洗气。待空气进入完毕后,关闭第一阀门A、第二阀门B以及第四阀门D,并且打开第三阀门C,此时出气单元30中的气压要大于进气单元10的气压,由于压强差,完成第一次洗气后的气体通过进气单元10与出气单元30之间的气体输送部件由出气单元30进入进气单元10。可以通过压力F按压出气单元30的第二调节子单元31使气体全部返回到进气单元中。此时由于进气单元10中的气压增大,进气单元10中的第一活塞11被气体顶起。接下来,关闭第一阀门A、第二阀门B和第三阀门C,并且打开第四阀门D,进气单元10中的气体再次流向洗气单元20以完成第二次洗气。同样可以通过压力F按压进气单元10的第一调节子单元11使气体全部进到洗气单元20中。通过上述过程,可以不停切换阀体,重复洗气。待经过多次洗气后,关闭第一阀门A、第三阀门C和第四阀门D,打开第二阀门B,从出气单元30排出理想的湿空气。如有必要,超洁净湿空气制备装置可以并联使用,保证湿空气不断的供应。
本发明实施例提供的超洁净湿空气制备装置,在超洁净湿空气制备装置的进气单元与洗气单元之间、进气单元与出气单元之间、进气单元进气处以及出气单元出气处设置了阀门,通过控制阀门的开闭进而控制超洁净湿空气制备装置的工作状态,并且进气单元与出气单元中分别设置了气塞,通过气塞调节进气单元密封部分的体积以及出气单元密封部分的体积的大小,进而改变进气单元与出气单元中的压强大小,达到控制装置中气流流向的技术效果。进一步保证能够持续稳定地提供大流量高湿度的湿空气,并且降低了器件的成本以及减小器件的占用空间。
实施例三
本发明实施例在上述实施例二的基础上,超洁净湿空气制备装置只在进气单元与洗气单元之间、洗气单元与出气单元之间设置了气体输送部件。图6是本发明实施例三提供的一种超洁净湿空气制备装置结构示意图,参考图6,该装置包括:
进气单元10;
与进气单元10连接的洗气单元20;洗气单元20内部设置有多孔结构21,多孔结构21用于增大注入气体与洁净水的接触面积;
出气单元30,出气单元30与洗气单元20连接。
可选的,多孔结构21包括发泡多孔材料和/或晶格结构。
可选的,发泡多孔材料和晶格结构的截面包括多数个孔洞;孔洞的孔径截面积小于10mm2;所述孔洞密度大于1个/100mm2。
可选的,洗气单元20中的洗气高度大于或等于20mm。
可选的,发泡多孔材料和晶格结构在洗气单元20内部均匀分布。发泡多孔材料和晶格结构的均匀分布可以使待加湿气体在洗气单元的不同位置上受到加湿作用相同,保证能够持续稳定地提供大流量高湿度的湿空气。
可选的,出气单元30所在水平面的高度等于进气单元10所在水平面的高度,进气单元10水平面高于洗气单元20所在水平面。
可选的,进气单元10与洗气单元20之间通过气体输送部件连接;洗气单元20与出气单元30之间通过气体输送部件连接;进气单元10包括第一调节子单元11,出气单元30包括第二调节子单元31;第一调节子单元11用于调节进气单元10密封部分的体积;第二调节子单元31用于调节出气单元30密封部分的体积。可选的,第一调节子单元11和第二调节子单元31可以是气塞,气体输送部件可以是管道。进气单元10还与第一阀门A连接,第一阀门A用于控制进气单元10的开闭;出气单元30还与第二阀门B连接,第二阀门B用于控制出气单元30的开闭。
示例性地,初始状态下,打开第一阀门A,关闭第二阀门B,从进气单元10左侧通入需要加湿的大流量干燥空气,气体流向洗气单元20进行加湿。待空气进入完毕后,关闭第一阀门A、第二阀门B,向下按压进气单元10的第一调节子单元11,出气单元30的第二调节子单元31会被顶起来,此时完成一次洗气。向下按压出气单元300的第二调节子单元31,进气单元10的第一调节子单元11会被顶起来,此时完成一次洗气。通过进气单元10和出气单元30不停的循环,可反复加湿。打开第二阀门B,从出气单元30排出理想的湿空气。
本发明实施例提供的超洁净湿空气制备装置,只在进气单元与洗气单元之间、洗气单元与出气单元之间设置了气体输送部件,并且在进气单元进气处以及出气单元出气处设置了阀门,通过控制阀门的开闭进而控制超洁净湿空气制备装置的工作状态。并且在进气单元设置了第一调节子单元,在出气单元中设置了第二调节子单元,通过第一调节子单元和第二调节子单元分别调节进气单元密封部分的体积和出气单元密封部分的体积的大小,进而改变进气单元与出气单元中的压强大小,达到控制装置中气流流向的技术效果,进一步保证能够持续稳定地提供大流量高湿度的湿空气。相对于实施例二,本发明实施例三操作更简洁,节省操作时间,并且进一步降低了器件的成本以及减小器件的占用空间。
实施例四
本发明实施例提供了一种光刻设备,包括上述任一实施例所述的超洁净湿空气制备装置,所述浸没超洁净湿空气制备装置为所述光刻设备提供湿空气。具备相同的技术效果,这里不再赘述。
图7是本发明实施例四提供的一种光刻设备结构示意图,参考图7;在该装置中,主框架1支撑照明系统2、投影物镜4和工件台8,工件台8上放置有涂有感光光刻胶的硅片7。该浸没式光刻机结构,将浸液(水)5填充在投影物镜4和硅片7之间缝隙内。工作时,光电测量装置100通过处理测量光9获取工件台8位置,工件台8带动硅片7作高速的扫描、步进动作,浸液限制机构(浸没头)6根据工件台8的运动状态,在投影物镜视场范围提供一个稳定的浸液流场5,同时保证浸液流场5与外界的密封,保证液体不泄漏。掩模版3上集成电路的图形通过照明系统2、投影物镜4以及浸液5以成像曝光的方式转移到涂有感光光刻胶的硅片7上,从而完成曝光。本发明涉及的浸没式光刻机需要超洁净湿空气,用于特定区域如硅片7表面附近减缓蒸发制冷或用于特定区域如测量光路9增大光路上气体比热熔进而增强抗干扰性能。通过上述任一实施例所述的超洁净湿空气制备装置为光刻设备提供湿空气。
注意,上述仅为本发明的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解,本发明不限于这里所述的特定实施例,对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整和替代而不会脱离本发明的保护范围。因此,虽然通过以上实施例对本发明进行了较为详细的说明,但是本发明不仅仅限于以上实施例,在不脱离本发明构思的情况下,还可以包括更多其他等效实施例,而本发明的范围由所附的权利要求范围决定。
Claims (14)
1.一种超洁净湿空气制备装置,其特征在于,包括:
进气单元;
与所述进气单元连接的洗气单元;所述洗气单元内部设置有多孔结构,所述多孔结构用于增大注入气体与洁净水的接触面积;
出气单元,所述出气单元与所述洗气单元连接;
所述进气单元包括第一调节子单元,所述出气单元包括第二调节子单元;所述第一调节子单元用于调节所述进气单元密封部分的体积;所述第二调节子单元用于调节所述出气单元密封部分的体积;所述第一调节子单元和所述第二调节子单元均设置气塞;所述进气单元还与第一阀门连接,所述第一阀门用于控制进气单元的开闭;所述出气单元还与第二阀门连接,所述第二阀门用于控制出气单元的开闭;
待空气进入完毕后,所述第一阀门和所述第二阀门关闭,通过第一调节子单元和第二调节子单元分别调节进气单元密封部分的体积和出气单元密封部分的体积的大小,进而改变进气单元与出气单元中的压强大小。
2.根据权利要求1所述的超洁净湿空气制备装置,其特征在于,所述多孔结构包括发泡多孔材料和/或晶格结构。
3.根据权利要求2所述的超洁净湿空气制备装置,其特征在于,所述发泡多孔材料和/或晶格结构的截面包括多数个孔洞;所述孔洞的孔径截面积小于10mm2;所述孔洞密度大于1个/100mm2。
4.根据权利要求3所述的超洁净湿空气制备装置,其特征在于,所述发泡多孔材料和/或晶格结构在洗气单元内部均匀分布。
5.根据权利要求2所述的超洁净湿空气制备装置,其特征在于,所述洗气单元包括一个流道,所述发泡多孔材料和/或晶格结构填充于所述流道中。
6.根据权利要求2所述的超洁净湿空气制备装置,其特征在于,所述洗气单元包括:多数个分支流道,每个所述分支流道与所述进气单元连通并于所述出气单元处连通;
所述发泡多孔材料和/或晶格结构填充于每个所述分支流道中。
7.根据权利要求6所述的超洁净湿空气制备装置,其特征在于,每个所述分支流道沿所述进气单元环形阵列排布。
8.根据权利要求1所述的超洁净湿空气制备装置,其特征在于,所述出气单元所在水平面不低于所述进气单元所在水平面,所述进气单元所在水平面不低于所述洗气单元所在水平面。
9.根据权利要求1所述的超洁净湿空气制备装置,其特征在于,所述进气单元与所述洗气单元之间通过气体输送部件连接;所述洗气单元与所述出气单元之间通过气体输送部件连接。
10.根据权利要求9所述的超洁净湿空气制备装置,其特征在于,所述进气单元还与所述出气单元之间通过气体输送部件连接。
11.根据权利要求9所述的超洁净湿空气制备装置,其特征在于,所述进气单元与所述出气单元之间的气体输送部件上设置有第三阀门,所述第三阀门用于控制所述进气单元与所述出气单元之间的连通状态;所述进气单元与所述洗气单元之间的气体输送部件上设置有第四阀门,所述第四阀门用于控制所述进气单元与所述洗气单元之间的连通状态。
12.根据权利要求1所述的超洁净湿空气制备装置,其特征在于,所述洗气单元中的洗气高度大于或等于20mm。
13.根据权利要求1所述的超洁净湿空气制备装置,其特征在于,所述洗气单元的截面积大于或等于所述进气单元截面积的4倍。
14.一种光刻设备,其特征在于,包括权利要求1-13任一所述的超洁净湿空气制备装置,所述超洁净湿空气制备装置为所述光刻设备提供湿空气。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202010242015.4A CN113457318B (zh) | 2020-03-31 | 2020-03-31 | 一种超洁净湿空气制备装置及光刻设备 |
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---|---|---|---|
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Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN113457318A CN113457318A (zh) | 2021-10-01 |
CN113457318B true CN113457318B (zh) | 2022-08-30 |
Family
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---|---|---|---|
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Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN113457318B (zh) |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1427232A (zh) * | 2001-12-17 | 2003-07-02 | 乐金电子(天津)电器有限公司 | 电冰箱用加湿装置 |
CN1770018A (zh) * | 2004-10-18 | 2006-05-10 | Asml荷兰有限公司 | 光刻装置和器件制造方法 |
CN101279175A (zh) * | 2007-04-03 | 2008-10-08 | 陈晓通 | 洗气器与洗气机 |
CN201173531Y (zh) * | 2008-01-25 | 2008-12-31 | 深圳市联创实业有限公司 | 应用多孔陶瓷的空气调节装置 |
CN101410760A (zh) * | 2006-04-03 | 2009-04-15 | 恩特格林斯公司 | 微影投射设备、气体洗涤方法、装置制造方法及洗涤气体的供应系统 |
CN101451755A (zh) * | 2007-11-30 | 2009-06-10 | 王利发 | 室内空气净化加湿器 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7866637B2 (en) * | 2007-01-26 | 2011-01-11 | Asml Netherlands B.V. | Humidifying apparatus, lithographic apparatus and humidifying method |
-
2020
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Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1427232A (zh) * | 2001-12-17 | 2003-07-02 | 乐金电子(天津)电器有限公司 | 电冰箱用加湿装置 |
CN1770018A (zh) * | 2004-10-18 | 2006-05-10 | Asml荷兰有限公司 | 光刻装置和器件制造方法 |
CN101410760A (zh) * | 2006-04-03 | 2009-04-15 | 恩特格林斯公司 | 微影投射设备、气体洗涤方法、装置制造方法及洗涤气体的供应系统 |
CN101279175A (zh) * | 2007-04-03 | 2008-10-08 | 陈晓通 | 洗气器与洗气机 |
CN101451755A (zh) * | 2007-11-30 | 2009-06-10 | 王利发 | 室内空气净化加湿器 |
CN201173531Y (zh) * | 2008-01-25 | 2008-12-31 | 深圳市联创实业有限公司 | 应用多孔陶瓷的空气调节装置 |
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