JPH08907A - 真空脱気における脱気度調整方法 - Google Patents
真空脱気における脱気度調整方法Info
- Publication number
- JPH08907A JPH08907A JP15923694A JP15923694A JPH08907A JP H08907 A JPH08907 A JP H08907A JP 15923694 A JP15923694 A JP 15923694A JP 15923694 A JP15923694 A JP 15923694A JP H08907 A JPH08907 A JP H08907A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- degassing
- vacuum
- vacuum pump
- degassed
- liquid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Degasification And Air Bubble Elimination (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 所定の脱気度を有する脱気液を供給できる脱
気度調整方法を提供する。 【構成】 被脱気液の供給ライン２と脱気液の排出ライ
ン３とを備えた脱気手段１に真空ポンプ４を接続し、該
真空ポンプ４により前記脱気手段１内の被脱気液を真空
脱気する方法において、前記脱気手段１内の真空圧力を
検出し、該検出値に基づいて前記真空ポンプ４のＯＮ、
ＯＦＦを制御することを特徴としている。
気度調整方法を提供する。 【構成】 被脱気液の供給ライン２と脱気液の排出ライ
ン３とを備えた脱気手段１に真空ポンプ４を接続し、該
真空ポンプ４により前記脱気手段１内の被脱気液を真空
脱気する方法において、前記脱気手段１内の真空圧力を
検出し、該検出値に基づいて前記真空ポンプ４のＯＮ、
ＯＦＦを制御することを特徴としている。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、真空脱気における脱
気度調整方法に関するものである。
気度調整方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】周知のように、真空脱気手段を用いて液
体中の溶存気体を除去し、脱気液として各機器へ供給す
ることは知られているが、前記真空脱気手段を用いて供
給する脱気液は、略一定の溶存気体を除去した脱気液と
して供給されている。しかしながら、脱気液の用途とし
て、例えば、超音波洗浄に用いる洗浄液等は、被洗浄物
の種類により脱気度を調整することが要望されている
が、従来の真空脱気手段では脱気度を調整しつつ、所定
の範囲で運転するというものはなく、真空ポンプの能力
に応じて最低圧力で運転しているにすぎない。
体中の溶存気体を除去し、脱気液として各機器へ供給す
ることは知られているが、前記真空脱気手段を用いて供
給する脱気液は、略一定の溶存気体を除去した脱気液と
して供給されている。しかしながら、脱気液の用途とし
て、例えば、超音波洗浄に用いる洗浄液等は、被洗浄物
の種類により脱気度を調整することが要望されている
が、従来の真空脱気手段では脱気度を調整しつつ、所定
の範囲で運転するというものはなく、真空ポンプの能力
に応じて最低圧力で運転しているにすぎない。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】この発明は、所定の脱
気度を有する脱気液を供給することのできる真空脱気に
おける脱気度調整方法を提供することを目的とするもの
である。
気度を有する脱気液を供給することのできる真空脱気に
おける脱気度調整方法を提供することを目的とするもの
である。
【０００４】
【課題を解決するための手段】即ち、この発明は、上記
課題を解決するためになされたものであって、被脱気液
の供給ラインと脱気液の排出ラインとを備えた脱気手段
に真空ポンプを接続し、該真空ポンプにより前記脱気手
段内の被脱気液を真空脱気する方法において、前記脱気
手段内の真空圧力を検出し、該検出値に基づいて前記真
空ポンプのＯＮ、ＯＦＦを制御することを特徴としてい
る。
課題を解決するためになされたものであって、被脱気液
の供給ラインと脱気液の排出ラインとを備えた脱気手段
に真空ポンプを接続し、該真空ポンプにより前記脱気手
段内の被脱気液を真空脱気する方法において、前記脱気
手段内の真空圧力を検出し、該検出値に基づいて前記真
空ポンプのＯＮ、ＯＦＦを制御することを特徴としてい
る。
【０００５】
【作用】この発明によれば、脱気手段内の真空圧力を検
出し、この検出値が設定値となった時点で真空ポンプを
ＯＮあるいはＯＦＦさせて脱気手段内の真空圧力を所定
圧力にする。
出し、この検出値が設定値となった時点で真空ポンプを
ＯＮあるいはＯＦＦさせて脱気手段内の真空圧力を所定
圧力にする。
【０００６】
【実施例】以下、この発明の実施例を図面に基づいて詳
細に説明する。図１は、この発明を実施した真空脱気装
置の構成を示す説明図である。図中１は、脱気手段とし
て適用した脱気塔であって、上部に被脱気液を供給する
供給ライン２を接続し先端部にスプレーノズル２ａを挿
着し、他端は被脱気液供給源（図示省略）に連通してい
る。また、前記脱気塔１の下部に脱気液を取り出す排出
ライン３を接続し、脱気液を各機器（図示省略）へ供給
する。
細に説明する。図１は、この発明を実施した真空脱気装
置の構成を示す説明図である。図中１は、脱気手段とし
て適用した脱気塔であって、上部に被脱気液を供給する
供給ライン２を接続し先端部にスプレーノズル２ａを挿
着し、他端は被脱気液供給源（図示省略）に連通してい
る。また、前記脱気塔１の下部に脱気液を取り出す排出
ライン３を接続し、脱気液を各機器（図示省略）へ供給
する。
【０００７】前記脱気塔１内を真空脱気する手段とし
て、例えば水封式の真空ポンプ４を設け、この真空ポン
プ４と前記脱気塔１の上部との間を真空吸引ライン５で
接続し、この真空吸引ライン５の接続部下方に、脱気塔
１内の真空圧力を検出する真空圧力センサ６を挿設し、
この真空圧力センサ６と前記真空ポンプ４との間を回線
７で接続し、この回線７の途中に前記真空圧力センサ６
の検出信号により真空ポンプ４の運転をＯＮ、ＯＦＦさ
せる制御機構（図示省略）を挿入している。図中８は封
水路、９は排気路である。尚、真空圧力センサ６は、無
段階に圧力範囲を設定できる半導体式圧力センサが好適
である。
て、例えば水封式の真空ポンプ４を設け、この真空ポン
プ４と前記脱気塔１の上部との間を真空吸引ライン５で
接続し、この真空吸引ライン５の接続部下方に、脱気塔
１内の真空圧力を検出する真空圧力センサ６を挿設し、
この真空圧力センサ６と前記真空ポンプ４との間を回線
７で接続し、この回線７の途中に前記真空圧力センサ６
の検出信号により真空ポンプ４の運転をＯＮ、ＯＦＦさ
せる制御機構（図示省略）を挿入している。図中８は封
水路、９は排気路である。尚、真空圧力センサ６は、無
段階に圧力範囲を設定できる半導体式圧力センサが好適
である。
【０００８】つぎに、前記脱気塔１内の真空圧力と被脱
気液の脱気度（溶存気体濃度（ＤＯ値））の関係を、例
えば被脱気液に水道水を用いた場合を図２に示す。図２
において、この水道水の当初の溶存気体濃度を８ppm と
し、この水道水の脱気後の所定溶存気体濃度を３ppm と
設定すると、前記脱気塔１内の真空圧力を約２５０〜３
００torrに設定すればよい。そこで、前記真空圧力セン
サ６の検出信号により真空ポンプ４の運転をＯＮ、ＯＦ
Ｆさせる制御機構（図示省略）に、前記真空圧力２５０
torr〜３００torrでＯＮ、ＯＦＦするように真空ポンプ
４の作動域をセット（図３参照）する。即ち、前記真空
ポンプ４の駆動により脱気塔１内の真空圧力が２５０to
rrに達すると前記真空ポンプ４を停止する。脱気塔１内
の真空圧力は、前記真空ポンプ４を停止した時点から脱
気気体により上昇し、真空圧力が３００torrに至ると再
び真空ポンプ４を運転し、以後このサイクルをくり返す
ことにより所定の脱気度を有する脱気液を供給すること
ができる。
気液の脱気度（溶存気体濃度（ＤＯ値））の関係を、例
えば被脱気液に水道水を用いた場合を図２に示す。図２
において、この水道水の当初の溶存気体濃度を８ppm と
し、この水道水の脱気後の所定溶存気体濃度を３ppm と
設定すると、前記脱気塔１内の真空圧力を約２５０〜３
００torrに設定すればよい。そこで、前記真空圧力セン
サ６の検出信号により真空ポンプ４の運転をＯＮ、ＯＦ
Ｆさせる制御機構（図示省略）に、前記真空圧力２５０
torr〜３００torrでＯＮ、ＯＦＦするように真空ポンプ
４の作動域をセット（図３参照）する。即ち、前記真空
ポンプ４の駆動により脱気塔１内の真空圧力が２５０to
rrに達すると前記真空ポンプ４を停止する。脱気塔１内
の真空圧力は、前記真空ポンプ４を停止した時点から脱
気気体により上昇し、真空圧力が３００torrに至ると再
び真空ポンプ４を運転し、以後このサイクルをくり返す
ことにより所定の脱気度を有する脱気液を供給すること
ができる。
【０００９】前記実施例においては、脱気手段として、
脱気塔方式による場合について説明したが、この発明
は、この実施例に限定されるものではなく、膜式脱気方
式によっても同様の作用効果を奏することができる。し
たがって、実施に応じ、脱気手段として膜式脱気方式に
よることも好適である。
脱気塔方式による場合について説明したが、この発明
は、この実施例に限定されるものではなく、膜式脱気方
式によっても同様の作用効果を奏することができる。し
たがって、実施に応じ、脱気手段として膜式脱気方式に
よることも好適である。
【００１０】
【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、脱気手段の真空圧力を検出し、該検出値に基づいて
前記真空ポンプをＯＮ、ＯＦＦさせて真空圧力を調整す
るので、所定の脱気度を有する脱気液とすることができ
る。又、真空ポンプをＯＮ、ＯＦＦ制御するので、従来
の真空ポンプを連続運転したものに比し省エネルギー効
果は大きい。
ば、脱気手段の真空圧力を検出し、該検出値に基づいて
前記真空ポンプをＯＮ、ＯＦＦさせて真空圧力を調整す
るので、所定の脱気度を有する脱気液とすることができ
る。又、真空ポンプをＯＮ、ＯＦＦ制御するので、従来
の真空ポンプを連続運転したものに比し省エネルギー効
果は大きい。
【図１】この発明を実施した真空脱気装置の構成を示す
説明図である。
説明図である。
【図２】図１の脱気塔内の真空圧力とＤＯ値の関係を示
す線図である。
す線図である。
【図３】図１の真空圧力センサの検出信号により、真空
ポンプをＯＮ、ＯＦＦ制御する作動域を示す説明図であ
る。
ポンプをＯＮ、ＯＦＦ制御する作動域を示す説明図であ
る。
１ 脱気手段（脱気塔） ２ 供給ライン ３ 排出ライン ４ 真空ポンプ ５ 真空吸引ライン ６ 真空圧力センサ
Claims (1)
- 【請求項１】 被脱気液の供給ライン２と脱気液の排出
ライン３とを備えた脱気手段１に真空ポンプ４を接続
し、該真空ポンプ４により前記脱気手段１内の被脱気液
を真空脱気する方法において、前記脱気手段１内の真空
圧力を検出し、該検出値に基づいて前記真空ポンプ４の
ＯＮ、ＯＦＦを制御することを特徴とする真空脱気にお
ける脱気度調整方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15923694A JPH08907A (ja) | 1994-06-17 | 1994-06-17 | 真空脱気における脱気度調整方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15923694A JPH08907A (ja) | 1994-06-17 | 1994-06-17 | 真空脱気における脱気度調整方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08907A true JPH08907A (ja) | 1996-01-09 |
Family
ID=15689324
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15923694A Pending JPH08907A (ja) | 1994-06-17 | 1994-06-17 | 真空脱気における脱気度調整方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08907A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1756672B1 (en) * | 2004-06-16 | 2010-04-14 | ASML Netherlands B.V. | Vacuum system for immersion photolithography |
| US8934082B2 (en) | 2004-10-18 | 2015-01-13 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
-
1994
- 1994-06-17 JP JP15923694A patent/JPH08907A/ja active Pending
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1756672B1 (en) * | 2004-06-16 | 2010-04-14 | ASML Netherlands B.V. | Vacuum system for immersion photolithography |
| US8164734B2 (en) | 2004-06-16 | 2012-04-24 | Asml Netherlands B.V. | Vacuum system for immersion photolithography |
| US8830440B2 (en) | 2004-06-16 | 2014-09-09 | Asml Netherlands B.V. | Vacuum system for immersion photolithography |
| US9507270B2 (en) | 2004-06-16 | 2016-11-29 | Asml Netherlands B.V. | Vacuum system for immersion photolithography |
| US9857699B2 (en) | 2004-06-16 | 2018-01-02 | Asml Netherlands B.V. | Vacuum system for immersion photolithography |
| US10168624B2 (en) | 2004-06-16 | 2019-01-01 | Asml Netherlands B.V. | Vacuum system for immersion photolithography |
| US8934082B2 (en) | 2004-10-18 | 2015-01-13 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| US9753380B2 (en) | 2004-10-18 | 2017-09-05 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| US10248033B2 (en) | 2004-10-18 | 2019-04-02 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR0175048B1 (ko) | 포토레지스트 분사장치 | |
| JP2000350902A (ja) | 脱気方法 | |
| JP2000189742A (ja) | 気体溶解モジュ―ル | |
| JPH08907A (ja) | 真空脱気における脱気度調整方法 | |
| JPH081118A (ja) | 超音波洗浄装置 | |
| JPH0975608A (ja) | 真空脱気における脱気度調整方法 | |
| JP2000342903A (ja) | 脱気方法およびその装置 | |
| JPH0975609A (ja) | 真空脱気における脱気度調整方法 | |
| JP2002276842A (ja) | 自動ドレン排出方法および装置 | |
| JP3492730B2 (ja) | 純水貯水方法 | |
| JPH06181B2 (ja) | ▲ろ▼過装置の逆洗方法 | |
| JPH0332792A (ja) | 脱酸素システムの制御装置 | |
| JPH0334261Y2 (ja) | ||
| JPH07136472A (ja) | 気体分離膜の洗浄方法およびその装置 | |
| JPH0851065A (ja) | フォトレジスト用脱気装置 | |
| JP3006997B2 (ja) | 水中溶存酸素の脱気装置 | |
| JP2000325703A (ja) | 脱気装置 | |
| KR20050023147A (ko) | 오일탱크의 에어제거장치 | |
| JPS6391110A (ja) | 急速ろ過装置 | |
| JPH0538402A (ja) | 連続脱気装置 | |
| JPS60153990A (ja) | 超純水の比抵抗制御装置 | |
| JP2577274B2 (ja) | 溶存ガス高濃度水製造装置 | |
| JPS62237988A (ja) | 廃水処理方法 | |
| JPH1122911A (ja) | 脱気装置およびその運転方法 | |
| JPH08246517A (ja) | ビルの給水装置 |