JPH0851065A - フォトレジスト用脱気装置 - Google Patents
フォトレジスト用脱気装置Info
- Publication number
- JPH0851065A JPH0851065A JP6208093A JP20809394A JPH0851065A JP H0851065 A JPH0851065 A JP H0851065A JP 6208093 A JP6208093 A JP 6208093A JP 20809394 A JP20809394 A JP 20809394A JP H0851065 A JPH0851065 A JP H0851065A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photoresist
- pump
- vacuum
- tower
- line
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Degasification And Air Bubble Elimination (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 フォトレジスト中の溶存気体を除去する。
【構成】 フォトレジストを貯留したタンク１に供給ラ
イン３を介して脱気塔２を接続し、この脱気塔２に、取
出しポンプ７を備えた取出しライン５を接続するととも
に、吸引ライン９を介して真空ポンプ８を接続してなる
フォトレジスト用脱気装置において、前記取出しポンプ
７を、前記脱気塔２内の真空圧力と同等の圧力内で作動
させることを特徴とするフォトレジスト用脱気装置。
イン３を介して脱気塔２を接続し、この脱気塔２に、取
出しポンプ７を備えた取出しライン５を接続するととも
に、吸引ライン９を介して真空ポンプ８を接続してなる
フォトレジスト用脱気装置において、前記取出しポンプ
７を、前記脱気塔２内の真空圧力と同等の圧力内で作動
させることを特徴とするフォトレジスト用脱気装置。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、半導体製造工程にお
いて用いられているフォトレジスト中に溶存する気体を
真空脱気する脱気装置に関するものである。
いて用いられているフォトレジスト中に溶存する気体を
真空脱気する脱気装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】周知のように、半導体製造工程におい
て、半導体にフォトレジストを塗布する装置として図３
に示すものがある。この装置は、フォトレジストを貯留
したタンク２１とコーターノズル２２とを取出しライン
２３で接続し、途中に取出しポンプ２４を挿入してい
る。このフォトレジスト装置により半導体２５にフォト
レジストを塗布する場合に、フォトレジスト中に溶存す
る気体（例えば酸素等）が気泡となって塗布むらが発生
し、半導体製造工程における歩留り率が低下している。
て、半導体にフォトレジストを塗布する装置として図３
に示すものがある。この装置は、フォトレジストを貯留
したタンク２１とコーターノズル２２とを取出しライン
２３で接続し、途中に取出しポンプ２４を挿入してい
る。このフォトレジスト装置により半導体２５にフォト
レジストを塗布する場合に、フォトレジスト中に溶存す
る気体（例えば酸素等）が気泡となって塗布むらが発生
し、半導体製造工程における歩留り率が低下している。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】この発明は、上記問題
点に鑑み、フォトレジスト中の溶存気体を除去するフォ
トレジスト用脱気装置を提供することを目的とするもの
である。
点に鑑み、フォトレジスト中の溶存気体を除去するフォ
トレジスト用脱気装置を提供することを目的とするもの
である。
【０００４】
【課題を解決するための手段】この発明は、上記課題を
解決するためになされたものであって、まず請求項１の
発明は、フォトレジストを貯留したタンクに供給ライン
を介して脱気塔を接続し、この脱気塔に、取出しポンプ
を備えた取出しラインを接続するとともに、吸引ライン
を介して真空ポンプを接続してなるフォトレジスト用脱
気装置において、前記取出しポンプを、前記脱気塔内の
真空圧力と同等の圧力内で作動させることを特徴として
おり、また請求項２の発明は、前記取出しポンプにベロ
ーズポンプを用い、このベローズポンプの作動部を密閉
するケーシングを設け、このケーシングと前記吸引ライ
ンとを真空吸引ラインで接続したことを特徴としてい
る。
解決するためになされたものであって、まず請求項１の
発明は、フォトレジストを貯留したタンクに供給ライン
を介して脱気塔を接続し、この脱気塔に、取出しポンプ
を備えた取出しラインを接続するとともに、吸引ライン
を介して真空ポンプを接続してなるフォトレジスト用脱
気装置において、前記取出しポンプを、前記脱気塔内の
真空圧力と同等の圧力内で作動させることを特徴として
おり、また請求項２の発明は、前記取出しポンプにベロ
ーズポンプを用い、このベローズポンプの作動部を密閉
するケーシングを設け、このケーシングと前記吸引ライ
ンとを真空吸引ラインで接続したことを特徴としてい
る。
【０００５】
【作用】この発明によれば、脱気塔内でフォトレジスト
中の溶存気体を吸引除去するとともに、取出ポンプの作
動を、脱気塔内の真空圧力と同等の圧力内で作動させ
て、脱気塔内よりフォトレジストの取出しを容易にす
る。
中の溶存気体を吸引除去するとともに、取出ポンプの作
動を、脱気塔内の真空圧力と同等の圧力内で作動させ
て、脱気塔内よりフォトレジストの取出しを容易にす
る。
【０００６】
【実施例】以下、この発明の実施例を図面に基づいて詳
細に説明する。図１は、この発明の一実施例を示す半導
体製造工程に挿入されているフォトレジスト用脱気装置
の概略説明図である。図１において、符号１は、フォト
レジストを貯留したタンク１であって、このタンク１と
脱気塔２の上部とを供給ライン３で接続し、途中に電磁
弁４を挿入している。前記脱気塔２は、図１に示すよう
に、下部を半球体状に形成した円筒容器であって、内部
に脱気処理したフォトレジストを所定量貯留している。
この脱気塔２の下部にフォトレジストを取出す取出しラ
イン５を接続し、この取出しライン５の先端部にコータ
ーノズル６を装着し、途中に取出しポンプ７を設けてい
る。
細に説明する。図１は、この発明の一実施例を示す半導
体製造工程に挿入されているフォトレジスト用脱気装置
の概略説明図である。図１において、符号１は、フォト
レジストを貯留したタンク１であって、このタンク１と
脱気塔２の上部とを供給ライン３で接続し、途中に電磁
弁４を挿入している。前記脱気塔２は、図１に示すよう
に、下部を半球体状に形成した円筒容器であって、内部
に脱気処理したフォトレジストを所定量貯留している。
この脱気塔２の下部にフォトレジストを取出す取出しラ
イン５を接続し、この取出しライン５の先端部にコータ
ーノズル６を装着し、途中に取出しポンプ７を設けてい
る。
【０００７】前記脱気塔２内を真空脱気する手段として
真空ポンプ８を設け、この真空ポンプ８と前記脱気塔２
の上部とを吸引ライン９で接続し、途中に逆止弁１０を
挿入している。また、前記脱気塔２の上部に圧力を検出
する圧力サンサ１１を設け、この圧力センサ１１と前記
真空ポンプ８を回線１２で接続している。
真空ポンプ８を設け、この真空ポンプ８と前記脱気塔２
の上部とを吸引ライン９で接続し、途中に逆止弁１０を
挿入している。また、前記脱気塔２の上部に圧力を検出
する圧力サンサ１１を設け、この圧力センサ１１と前記
真空ポンプ８を回線１２で接続している。
【０００８】前記取出しポンプ７は、図２に示すよう
に、エアー駆動式（図示省略）のベローズポンプを用
い、このベローズポンプ７の作動部７ａ（ベローズ部）
を密閉するケーシング７ｂを設け、このケーシング７ｂ
の一端にケーシング内を真空引きする真空吸引ライン１
３を接続し、他端を前記吸引ライン９の逆止弁１０と真
空ポンプ８との間に接続し、途中に逆止弁１４を挿入し
ている。
に、エアー駆動式（図示省略）のベローズポンプを用
い、このベローズポンプ７の作動部７ａ（ベローズ部）
を密閉するケーシング７ｂを設け、このケーシング７ｂ
の一端にケーシング内を真空引きする真空吸引ライン１
３を接続し、他端を前記吸引ライン９の逆止弁１０と真
空ポンプ８との間に接続し、途中に逆止弁１４を挿入し
ている。
【０００９】前記脱気塔２の所定位置にフォトレジスト
の貯留量を制御する液位制御装置１５（例えばボールタ
ップ方式）を設け、この液位制御装置１５と前記電磁弁
４および前記取出しポンプ７とを回線１６で接続してい
る。符号３ａは供給ライン３の先端部に装着したスプレ
ーノズルである。また、符号１７は半導体である。
の貯留量を制御する液位制御装置１５（例えばボールタ
ップ方式）を設け、この液位制御装置１５と前記電磁弁
４および前記取出しポンプ７とを回線１６で接続してい
る。符号３ａは供給ライン３の先端部に装着したスプレ
ーノズルである。また、符号１７は半導体である。
【００１０】つぎに、上記構成のフォトレジスト用脱気
装置の作用を説明する。まず、前記供給ライン３の電磁
弁４を開き、前記タンク１と前記脱気塔２を連通状態に
するとともに、前記真空ポンプ８を駆動して脱気塔２内
を真空引きする。この真空ポンプ８の真空引きによりフ
ォトレジストは、供給ライン３を介して脱気塔２の上部
よりスプレーノズル３ａの作用で霧状となって脱気塔２
内に流入し、脱気塔２の上部に接続した前記吸引ライン
９を介して溶存気体を吸引除去する。そして、脱気塔２
内に脱気したフォトレジストが所定水位（下位水位）に
達すると、前記液位制御装置１５が検知し、回線１６を
介して前記ベローズポンプ７を駆動させる。
装置の作用を説明する。まず、前記供給ライン３の電磁
弁４を開き、前記タンク１と前記脱気塔２を連通状態に
するとともに、前記真空ポンプ８を駆動して脱気塔２内
を真空引きする。この真空ポンプ８の真空引きによりフ
ォトレジストは、供給ライン３を介して脱気塔２の上部
よりスプレーノズル３ａの作用で霧状となって脱気塔２
内に流入し、脱気塔２の上部に接続した前記吸引ライン
９を介して溶存気体を吸引除去する。そして、脱気塔２
内に脱気したフォトレジストが所定水位（下位水位）に
達すると、前記液位制御装置１５が検知し、回線１６を
介して前記ベローズポンプ７を駆動させる。
【００１１】ところで、一般のベローズポンプの作動部
（ベローズ部）内側は、通常、大気圧より若干高い圧力
で作動する構成となっている。しかし、この構成をその
ままこの発明に適用した場合は、前記作動部内は真空に
なり、外部大気圧との差圧により作動部が変形し作動不
良の原因となるおそれがある。そこで、この発明では、
前記作動部７ａを密閉するケーシング７ｂを設け、この
ケーシング７ｂ内を、前述の真空ポンプ８の駆動により
真空吸引ライン１３を介して真空吸引しているので、ベ
ローズポンプ７の作動部７ａは圧力抵抗を受けずにスム
ーズに作動する。このベローズポンプ７の駆動により、
前記取出しライン５を介して適量のフォトレジストが前
記コーターノズル６に供給され半導体１７に塗布され
る。
（ベローズ部）内側は、通常、大気圧より若干高い圧力
で作動する構成となっている。しかし、この構成をその
ままこの発明に適用した場合は、前記作動部内は真空に
なり、外部大気圧との差圧により作動部が変形し作動不
良の原因となるおそれがある。そこで、この発明では、
前記作動部７ａを密閉するケーシング７ｂを設け、この
ケーシング７ｂ内を、前述の真空ポンプ８の駆動により
真空吸引ライン１３を介して真空吸引しているので、ベ
ローズポンプ７の作動部７ａは圧力抵抗を受けずにスム
ーズに作動する。このベローズポンプ７の駆動により、
前記取出しライン５を介して適量のフォトレジストが前
記コーターノズル６に供給され半導体１７に塗布され
る。
【００１２】前記脱気塔２内のフォトレジストが上位液
位に達すると、前記液位制御装置１５が検知して前記電
磁弁４を閉弁する。そして、フォトレジストが下位液位
まで低下すると前記電磁弁４を開弁し、以後このサイク
ルを繰り返し、所定液位内で脱気したフォトレジストを
コーターノズル６に供給する。一方、脱気塔２内の真空
圧力を前記圧力センサ１１が検出し、所定真空圧力にな
るように前記真空ポンプ８の運転を制御器（図示省略）
を介して制御する。
位に達すると、前記液位制御装置１５が検知して前記電
磁弁４を閉弁する。そして、フォトレジストが下位液位
まで低下すると前記電磁弁４を開弁し、以後このサイク
ルを繰り返し、所定液位内で脱気したフォトレジストを
コーターノズル６に供給する。一方、脱気塔２内の真空
圧力を前記圧力センサ１１が検出し、所定真空圧力にな
るように前記真空ポンプ８の運転を制御器（図示省略）
を介して制御する。
【００１３】以上のように、この発明においては、フォ
トレジスト中の溶存気体を吸引除去するので、半導体１
７にフォトレジストを塗布する場合、気泡等による塗布
むらはなくなり歩留り率が向上する。そして、ベローズ
ポンプ７の作動部７ａをケーシング７ｂで密閉し、この
ケーシング７ｂ内を真空吸引するので、作動部が圧力抵
抗を受けずに作動する。したがって、ベローズポンプ７
を小型化することができる。尚、この発明は、この実施
例に限定されるものではなく、前記取出しポンプを前記
ベローズポンプ以外のポンプ（例えば往復ポンプ等）を
使用することも実施に応じて好適である。
トレジスト中の溶存気体を吸引除去するので、半導体１
７にフォトレジストを塗布する場合、気泡等による塗布
むらはなくなり歩留り率が向上する。そして、ベローズ
ポンプ７の作動部７ａをケーシング７ｂで密閉し、この
ケーシング７ｂ内を真空吸引するので、作動部が圧力抵
抗を受けずに作動する。したがって、ベローズポンプ７
を小型化することができる。尚、この発明は、この実施
例に限定されるものではなく、前記取出しポンプを前記
ベローズポンプ以外のポンプ（例えば往復ポンプ等）を
使用することも実施に応じて好適である。
【００１４】
【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、フォトレジスト中に溶存する気体を脱気塔内より真
空ポンプで吸引除去するとともに、脱気塔内のフォトレ
ジストの取出しを、取出しラインに挿入した取出ポンプ
を前記脱気塔内の真空圧力と同等の圧力内で作動させる
ようにしたので、半導体にフォトレジストを塗布する場
合、気泡等による塗布むらはなくなり歩留り率を向上さ
せることができる。また、取出しポンプを真空圧力内で
作動させるので圧力抵抗がなくポンプを小型化すること
ができる。
ば、フォトレジスト中に溶存する気体を脱気塔内より真
空ポンプで吸引除去するとともに、脱気塔内のフォトレ
ジストの取出しを、取出しラインに挿入した取出ポンプ
を前記脱気塔内の真空圧力と同等の圧力内で作動させる
ようにしたので、半導体にフォトレジストを塗布する場
合、気泡等による塗布むらはなくなり歩留り率を向上さ
せることができる。また、取出しポンプを真空圧力内で
作動させるので圧力抵抗がなくポンプを小型化すること
ができる。
【図１】この発明の一実施例を示すフォトレジスト用脱
気装置の概略説明図である。
気装置の概略説明図である。
【図２】図１の一部を拡大して示す概略説明図である。
【図３】従来のフォトレジスト塗布装置の概略説明図で
ある。
ある。
１ タンク ２ 脱気塔 ３ 供給ライン ５ 取出しライン ７ 取出しポンプ（ベローズポンプ） ７ａ 作動部 ７ｂ ケーシング ８ 真空ポンプ ９ 吸引ライン １３ 真空吸引ライン
Claims (2)
- 【請求項１】 フォトレジストを貯留したタンク１に供
給ライン３を介して脱気塔２を接続し、この脱気塔２
に、取出しポンプ７を備えた取出しライン５を接続する
とともに、吸引ライン９を介して真空ポンプ８を接続し
てなるフォトレジスト用脱気装置において、前記取出し
ポンプ７を、前記脱気塔２内の真空圧力と同等の圧力内
で作動させることを特徴とするフォトレジスト用脱気装
置。 - 【請求項２】 前記取出しポンプ７にベローズポンプを
用い、このベローズポンプ７の作動部７ａを密閉するケ
ーシング７ｂを設け、このケーシング７ｂと前記吸引ラ
イン９とを真空吸引ライン１３で接続したことを特徴と
する請求項１に記載のフォトレジスト用脱気装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6208093A JPH0851065A (ja) | 1994-08-08 | 1994-08-08 | フォトレジスト用脱気装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6208093A JPH0851065A (ja) | 1994-08-08 | 1994-08-08 | フォトレジスト用脱気装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0851065A true JPH0851065A (ja) | 1996-02-20 |
Family
ID=16550528
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6208093A Pending JPH0851065A (ja) | 1994-08-08 | 1994-08-08 | フォトレジスト用脱気装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0851065A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010020297A (ja) * | 2008-06-11 | 2010-01-28 | Jsr Corp | 液浸露光用組成物の製造方法及び液浸露光用組成物 |
| CN103830935A (zh) * | 2012-11-22 | 2014-06-04 | 上海一诺仪表有限公司 | 油田单井计量装置气液分离器 |
-
1994
- 1994-08-08 JP JP6208093A patent/JPH0851065A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010020297A (ja) * | 2008-06-11 | 2010-01-28 | Jsr Corp | 液浸露光用組成物の製造方法及び液浸露光用組成物 |
| CN103830935A (zh) * | 2012-11-22 | 2014-06-04 | 上海一诺仪表有限公司 | 油田单井计量装置气液分离器 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |