JPH0851065A - フォトレジスト用脱気装置 - Google Patents

フォトレジスト用脱気装置

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Publication number
JPH0851065A
JPH0851065A JP6208093A JP20809394A JPH0851065A JP H0851065 A JPH0851065 A JP H0851065A JP 6208093 A JP6208093 A JP 6208093A JP 20809394 A JP20809394 A JP 20809394A JP H0851065 A JPH0851065 A JP H0851065A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
photoresist
pump
vacuum
tower
line
Prior art date
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Pending
Application number
JP6208093A
Other languages
English (en)
Inventor
Hitoshi Shiraishi
仁士 白石
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Miura Co Ltd
Original Assignee
Miura Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Miura Co Ltd filed Critical Miura Co Ltd
Priority to JP6208093A priority Critical patent/JPH0851065A/ja
Publication of JPH0851065A publication Critical patent/JPH0851065A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Landscapes

  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Degasification And Air Bubble Elimination (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 フォトレジスト中の溶存気体を除去する。 【構成】 フォトレジストを貯留したタンク1に供給ラ
イン3を介して脱気塔2を接続し、この脱気塔2に、取
出しポンプ7を備えた取出しライン5を接続するととも
に、吸引ライン9を介して真空ポンプ8を接続してなる
フォトレジスト用脱気装置において、前記取出しポンプ
7を、前記脱気塔2内の真空圧力と同等の圧力内で作動
させることを特徴とするフォトレジスト用脱気装置。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、半導体製造工程にお
いて用いられているフォトレジスト中に溶存する気体を
真空脱気する脱気装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】周知のように、半導体製造工程におい
て、半導体にフォトレジストを塗布する装置として図3
に示すものがある。この装置は、フォトレジストを貯留
したタンク21とコーターノズル22とを取出しライン
23で接続し、途中に取出しポンプ24を挿入してい
る。このフォトレジスト装置により半導体25にフォト
レジストを塗布する場合に、フォトレジスト中に溶存す
る気体(例えば酸素等)が気泡となって塗布むらが発生
し、半導体製造工程における歩留り率が低下している。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】この発明は、上記問題
点に鑑み、フォトレジスト中の溶存気体を除去するフォ
トレジスト用脱気装置を提供することを目的とするもの
である。
【0004】
【課題を解決するための手段】この発明は、上記課題を
解決するためになされたものであって、まず請求項1の
発明は、フォトレジストを貯留したタンクに供給ライン
を介して脱気塔を接続し、この脱気塔に、取出しポンプ
を備えた取出しラインを接続するとともに、吸引ライン
を介して真空ポンプを接続してなるフォトレジスト用脱
気装置において、前記取出しポンプを、前記脱気塔内の
真空圧力と同等の圧力内で作動させることを特徴として
おり、また請求項2の発明は、前記取出しポンプにベロ
ーズポンプを用い、このベローズポンプの作動部を密閉
するケーシングを設け、このケーシングと前記吸引ライ
ンとを真空吸引ラインで接続したことを特徴としてい
る。
【0005】
【作用】この発明によれば、脱気塔内でフォトレジスト
中の溶存気体を吸引除去するとともに、取出ポンプの作
動を、脱気塔内の真空圧力と同等の圧力内で作動させ
て、脱気塔内よりフォトレジストの取出しを容易にす
る。
【0006】
【実施例】以下、この発明の実施例を図面に基づいて詳
細に説明する。図1は、この発明の一実施例を示す半導
体製造工程に挿入されているフォトレジスト用脱気装置
の概略説明図である。図1において、符号1は、フォト
レジストを貯留したタンク1であって、このタンク1と
脱気塔2の上部とを供給ライン3で接続し、途中に電磁
弁4を挿入している。前記脱気塔2は、図1に示すよう
に、下部を半球体状に形成した円筒容器であって、内部
に脱気処理したフォトレジストを所定量貯留している。
この脱気塔2の下部にフォトレジストを取出す取出しラ
イン5を接続し、この取出しライン5の先端部にコータ
ーノズル6を装着し、途中に取出しポンプ7を設けてい
る。
【0007】前記脱気塔2内を真空脱気する手段として
真空ポンプ8を設け、この真空ポンプ8と前記脱気塔2
の上部とを吸引ライン9で接続し、途中に逆止弁10を
挿入している。また、前記脱気塔2の上部に圧力を検出
する圧力サンサ11を設け、この圧力センサ11と前記
真空ポンプ8を回線12で接続している。
【0008】前記取出しポンプ7は、図2に示すよう
に、エアー駆動式(図示省略)のベローズポンプを用
い、このベローズポンプ7の作動部7a(ベローズ部)
を密閉するケーシング7bを設け、このケーシング7b
の一端にケーシング内を真空引きする真空吸引ライン1
3を接続し、他端を前記吸引ライン9の逆止弁10と真
空ポンプ8との間に接続し、途中に逆止弁14を挿入し
ている。
【0009】前記脱気塔2の所定位置にフォトレジスト
の貯留量を制御する液位制御装置15(例えばボールタ
ップ方式)を設け、この液位制御装置15と前記電磁弁
4および前記取出しポンプ7とを回線16で接続してい
る。符号3aは供給ライン3の先端部に装着したスプレ
ーノズルである。また、符号17は半導体である。
【0010】つぎに、上記構成のフォトレジスト用脱気
装置の作用を説明する。まず、前記供給ライン3の電磁
弁4を開き、前記タンク1と前記脱気塔2を連通状態に
するとともに、前記真空ポンプ8を駆動して脱気塔2内
を真空引きする。この真空ポンプ8の真空引きによりフ
ォトレジストは、供給ライン3を介して脱気塔2の上部
よりスプレーノズル3aの作用で霧状となって脱気塔2
内に流入し、脱気塔2の上部に接続した前記吸引ライン
9を介して溶存気体を吸引除去する。そして、脱気塔2
内に脱気したフォトレジストが所定水位(下位水位)に
達すると、前記液位制御装置15が検知し、回線16を
介して前記ベローズポンプ7を駆動させる。
【0011】ところで、一般のベローズポンプの作動部
(ベローズ部)内側は、通常、大気圧より若干高い圧力
で作動する構成となっている。しかし、この構成をその
ままこの発明に適用した場合は、前記作動部内は真空に
なり、外部大気圧との差圧により作動部が変形し作動不
良の原因となるおそれがある。そこで、この発明では、
前記作動部7aを密閉するケーシング7bを設け、この
ケーシング7b内を、前述の真空ポンプ8の駆動により
真空吸引ライン13を介して真空吸引しているので、ベ
ローズポンプ7の作動部7aは圧力抵抗を受けずにスム
ーズに作動する。このベローズポンプ7の駆動により、
前記取出しライン5を介して適量のフォトレジストが前
記コーターノズル6に供給され半導体17に塗布され
る。
【0012】前記脱気塔2内のフォトレジストが上位液
位に達すると、前記液位制御装置15が検知して前記電
磁弁4を閉弁する。そして、フォトレジストが下位液位
まで低下すると前記電磁弁4を開弁し、以後このサイク
ルを繰り返し、所定液位内で脱気したフォトレジストを
コーターノズル6に供給する。一方、脱気塔2内の真空
圧力を前記圧力センサ11が検出し、所定真空圧力にな
るように前記真空ポンプ8の運転を制御器(図示省略)
を介して制御する。
【0013】以上のように、この発明においては、フォ
トレジスト中の溶存気体を吸引除去するので、半導体1
7にフォトレジストを塗布する場合、気泡等による塗布
むらはなくなり歩留り率が向上する。そして、ベローズ
ポンプ7の作動部7aをケーシング7bで密閉し、この
ケーシング7b内を真空吸引するので、作動部が圧力抵
抗を受けずに作動する。したがって、ベローズポンプ7
を小型化することができる。尚、この発明は、この実施
例に限定されるものではなく、前記取出しポンプを前記
ベローズポンプ以外のポンプ(例えば往復ポンプ等)を
使用することも実施に応じて好適である。
【0014】
【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、フォトレジスト中に溶存する気体を脱気塔内より真
空ポンプで吸引除去するとともに、脱気塔内のフォトレ
ジストの取出しを、取出しラインに挿入した取出ポンプ
を前記脱気塔内の真空圧力と同等の圧力内で作動させる
ようにしたので、半導体にフォトレジストを塗布する場
合、気泡等による塗布むらはなくなり歩留り率を向上さ
せることができる。また、取出しポンプを真空圧力内で
作動させるので圧力抵抗がなくポンプを小型化すること
ができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の一実施例を示すフォトレジスト用脱
気装置の概略説明図である。
【図2】図1の一部を拡大して示す概略説明図である。
【図3】従来のフォトレジスト塗布装置の概略説明図で
ある。
【符号の説明】
1 タンク 2 脱気塔 3 供給ライン 5 取出しライン 7 取出しポンプ(ベローズポンプ) 7a 作動部 7b ケーシング 8 真空ポンプ 9 吸引ライン 13 真空吸引ライン

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 フォトレジストを貯留したタンク1に供
    給ライン3を介して脱気塔2を接続し、この脱気塔2
    に、取出しポンプ7を備えた取出しライン5を接続する
    とともに、吸引ライン9を介して真空ポンプ8を接続し
    てなるフォトレジスト用脱気装置において、前記取出し
    ポンプ7を、前記脱気塔2内の真空圧力と同等の圧力内
    で作動させることを特徴とするフォトレジスト用脱気装
    置。
  2. 【請求項2】 前記取出しポンプ7にベローズポンプを
    用い、このベローズポンプ7の作動部7aを密閉するケ
    ーシング7bを設け、このケーシング7bと前記吸引ラ
    イン9とを真空吸引ライン13で接続したことを特徴と
    する請求項1に記載のフォトレジスト用脱気装置。
JP6208093A 1994-08-08 1994-08-08 フォトレジスト用脱気装置 Pending JPH0851065A (ja)

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JP6208093A Pending JPH0851065A (ja) 1994-08-08 1994-08-08 フォトレジスト用脱気装置

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JP (1) JPH0851065A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010020297A (ja) * 2008-06-11 2010-01-28 Jsr Corp 液浸露光用組成物の製造方法及び液浸露光用組成物
CN103830935A (zh) * 2012-11-22 2014-06-04 上海一诺仪表有限公司 油田单井计量装置气液分离器

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010020297A (ja) * 2008-06-11 2010-01-28 Jsr Corp 液浸露光用組成物の製造方法及び液浸露光用組成物
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