JP5024226B2 - 酸化物焼結体およびその製造方法、スパッタリングターゲット、半導体薄膜 - Google Patents
酸化物焼結体およびその製造方法、スパッタリングターゲット、半導体薄膜 Download PDFInfo
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請求項1記載の発明の要旨は、ZnとSnの酸化物からなる酸化物焼結体の製造方法であって、BET比表面積が1〜20m2/gであるZnO粉末とBET比表面積が1〜20m2/gであるSnO2粉末とを配合比率がZn/(Zn+Sn)原子数比で0.3〜0.95の範囲で配合し、非還元性雰囲気中で900〜1100℃の範囲の温度で焼成した仮焼粉体を粉末化することで、BET比表面積が1〜20m2/gの仮焼粉末を製造する仮焼粉末製造工程と、前記仮焼粉末に、B、Al、Si、Ga、In、Cuのうちいずれか1種からなる添加物元素の酸化物粉末を配合して、造粒・成形した成形体を、非還元性雰囲気中で1300〜1600℃の範囲の温度で1〜10時間の焼成時間で焼成して酸化物焼結体を得る本焼成工程とからなることを特徴とする酸化物焼結体の製造方法に存する。
請求項2記載の発明の要旨は、前記本焼成工程において、前記仮焼粉末にさらにZnO粉末を混合して、造粒・成形して前記成形体を得ることを特徴とする請求項1に記載の酸化物焼結体の製造方法に存する。
請求項3記載の発明の要旨は、請求項1又は2に記載の酸化物焼結体の製造方法によって製造されたことを特徴とする酸化物焼結体に存する。
請求項4記載の発明の要旨は、Zn2SnO4相が含まれることを特徴とする請求項3に記載の酸化物焼結体に存する。
請求項5記載の発明の要旨は、Zn2SnO4相とSnO2相とからなることを特徴とする請求項3又は4に記載の酸化物焼結体に存する。
請求項6記載の発明の要旨は、Zn2SnO4相の平均結晶粒径が1〜10μmの範囲であることを特徴とする請求項4又は5に記載の酸化物焼結体に存する。
請求項7記載の発明の要旨は、相対密度が90%以上であることを特徴とする請求項3から請求項6までのいずれか1項に記載の酸化物焼結体に存する。
請求項8記載の発明の要旨は、請求項3から請求項7までのいずれか1項に記載の酸化物焼結体からなることを特徴とするスパッタリングターゲットに存する。
請求項9記載の発明の要旨は、請求項8に記載のスパッタリングターゲットを用いてスパッタリング法によって成膜されたことを特徴とする半導体薄膜に存する。
請求項10記載の発明の要旨は、常温でのキャリア密度が1021cm−3未満であることを特徴とする請求項9に記載の半導体薄膜に存する。
2 SnO2相
3 空孔
Claims (10)
- ZnとSnの酸化物からなる酸化物焼結体の製造方法であって、
BET比表面積が1〜20m2/gであるZnO粉末とBET比表面積が1〜20m2/gであるSnO2粉末とを配合比率がZn/(Zn+Sn)原子数比で0.3〜0.95の範囲で配合し、非還元性雰囲気中で900〜1100℃の範囲の温度で焼成した仮焼粉体を粉末化することで、BET比表面積が1〜20m2/gの仮焼粉末を製造する仮焼粉末製造工程と、
前記仮焼粉末に、B、Al、Si、Ga、In、Cuのうちいずれか1種からなる添加物元素の酸化物粉末を配合して、造粒・成形した成形体を、非還元性雰囲気中で1300〜1600℃の範囲の温度で1〜10時間の焼成時間で焼成して酸化物焼結体を得る本焼成工程とからなることを特徴とする酸化物焼結体の製造方法。 - 前記本焼成工程において、前記仮焼粉末にさらにZnO粉末を混合して、造粒・成形して前記成形体を得ることを特徴とする請求項1に記載の酸化物焼結体の製造方法。
- 請求項1又は2に記載の酸化物焼結体の製造方法によって製造されたことを特徴とする酸化物焼結体。
- Zn2SnO4相が含まれることを特徴とする請求項3に記載の酸化物焼結体。
- Zn2SnO4相とSnO2相とからなることを特徴とする請求項3又は4に記載の酸化物焼結体。
- Zn2SnO4相の平均結晶粒径が1〜10μmの範囲であることを特徴とする請求項4又は5に記載の酸化物焼結体。
- 相対密度が90%以上であることを特徴とする請求項3から請求項6までのいずれか1項に記載の酸化物焼結体。
- 請求項3から請求項7までのいずれか1項に記載の酸化物焼結体からなることを特徴とするスパッタリングターゲット。
- 請求項8に記載のスパッタリングターゲットを用いてスパッタリング法によって成膜されたことを特徴とする半導体薄膜。
- 常温でのキャリア密度が1021cm−3未満であることを特徴とする請求項9に記載の半導体薄膜。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008203241A JP5024226B2 (ja) | 2008-08-06 | 2008-08-06 | 酸化物焼結体およびその製造方法、スパッタリングターゲット、半導体薄膜 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008203241A JP5024226B2 (ja) | 2008-08-06 | 2008-08-06 | 酸化物焼結体およびその製造方法、スパッタリングターゲット、半導体薄膜 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010037161A JP2010037161A (ja) | 2010-02-18 |
JP2010037161A5 JP2010037161A5 (ja) | 2011-08-18 |
JP5024226B2 true JP5024226B2 (ja) | 2012-09-12 |
Family
ID=42010081
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008203241A Active JP5024226B2 (ja) | 2008-08-06 | 2008-08-06 | 酸化物焼結体およびその製造方法、スパッタリングターゲット、半導体薄膜 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5024226B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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KR20180129655A (ko) * | 2017-05-25 | 2018-12-05 | 히타치 긴조쿠 가부시키가이샤 | 산화물 타깃재 및 그 제조 방법 |
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JP5540972B2 (ja) * | 2010-07-30 | 2014-07-02 | 日立金属株式会社 | 酸化物半導体ターゲットおよび酸化物半導体膜の製造方法 |
JP2012066968A (ja) * | 2010-09-24 | 2012-04-05 | Kobelco Kaken:Kk | 酸化物焼結体およびスパッタリングターゲット |
JP5651095B2 (ja) | 2010-11-16 | 2015-01-07 | 株式会社コベルコ科研 | 酸化物焼結体およびスパッタリングターゲット |
JP5750063B2 (ja) | 2011-02-10 | 2015-07-15 | 株式会社コベルコ科研 | 酸化物焼結体およびスパッタリングターゲット |
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WO2019054489A1 (ja) | 2017-09-14 | 2019-03-21 | 三菱マテリアル株式会社 | スパッタリングターゲット |
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Also Published As
Publication number | Publication date |
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JP2010037161A (ja) | 2010-02-18 |
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