JP4886967B2 - 官能化されたイオン性液体およびこの使用方法 - Google Patents
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- C07D295/08—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring nitrogen atoms substituted by singly bound oxygen or sulfur atoms
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Description
イオン性液体
室温のイオン性液体は、イオンからなる。しかし、慣用の溶融塩(例えば溶融塩化ナトリウム)とは異なり、これらの物質は、しばしば100℃より低温で溶融する。融点が低いため、イオン性液体は、反応を行うことができる溶媒として作用することができ、液体が、分子ではなくイオンから形成されているため、このような反応は、しばしば、慣用の有機溶媒と比較して、明確な選択性および反応性を提供する。
学部の実験室から化学的製造プラントまで、強いブレンステッド酸の使用は、遍在的である。Smith, M. B.; March, J. March's Advanced Organic Chemistry; Wiley-Interscience: New York, 2001; 第8章。これに関連して、固体酸は、不揮発性物質として、これらが伝統的な液体酸よりも毒性が低いと見なされるため、一層広く用いられている。Ritter, S. K. Chem. Eng. News, 2001, 79(40), 63-67。しかし、固体酸には、欠点がある。これらの一層厄介なものの中に、マトリックス結合酸性部位の制限された接近可能性、高いmw/活性部位比率およびコーキングからの急速な失活がある。
石油、石炭および天然ガスが、来るべき数年にわたり主要な地球的燃料および化学的供給原料源であり続けることには、疑義はほとんどない。Mills, Mark P. Energy Policy in the Electron Age, Mills-McCarthy & Associates, Inc. http://www.fossifuels.org/electric/electron.htm。天然ガスは、これらの物質の中で最も清浄であると考えられ、従って加速するペースで消費されている。清浄な燃料としてのこの評判にもかかわらず、天然ガスは、通常、種々の不所望な物質、特にCO2およびH2Sで汚染されている。この汚染のレベルは、いくつかの給源からのガス(スイートガス)において極めて低い一方、他のものからのガス(サワーガス)においてははるかに高い。スイートガス埋蔵が枯渇すると、サワーガスの増大した使用について苦難が度を増す。
ある態様において、本発明は、1:
Rは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R’は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R”は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R3は、各々の存在について独立して、H、Fまたはアルキルを表し;
Jは、各々の存在について独立して、O、S、NR’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し;
X−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス(アルキルスルホニル)アミド、ビス(フルオロアルキルスルホニル)アミド、ビス(アリールスルホニル)アミド、(フルオロアルキルスルホニル)(フルオロアルキルカルボニル)アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または1つの陽イオン交換樹脂の1つの陰イオン性部位を表し;
R8は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し;
mは、各々の存在について独立して、両端を含む1〜10の範囲内の整数を表し;
nは、各々の存在について独立して、両端を含む1〜10の範囲内の整数を表す、
により表される塩に関する。
Rは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルもしくは−(CH2)n−R8を表し;または+NR3は、一緒に、ピリジニウム、イミダゾリウム、ベンズイミダゾリウム、ピラゾリウム、ベンズピラゾリウム、インダゾリウム、チアゾリウム、ベンズチアゾリウム、オキサゾリウム、ベンゾオキサゾリウム、イソオキサゾリウム、イソチアゾリウム、イミダゾリジニウム、グアニジニウム、キヌクリジニウム、トリアゾリウム、テトラゾリウム、キノリニウム、イソキノリニウム、ピペリジニウム、ピロリジニウム、モルホリニウム、ピリダジニウム、ピラジニウム、ピペラジニウム、トリアジニウム、アゼピニウムもしくはジアゼピニウムを表し;
R’は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R”は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R3は、各々の存在について独立して、H、Fまたはアルキルを表し;
Jは、各々の存在について独立して、O、S、NR’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し;
X−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス(アルキルスルホニル)アミド、ビス(フルオロアルキルスルホニル)アミド、ビス(アリールスルホニル)アミド、(フルオロアルキルスルホニル)(フルオロアルキルカルボニル)アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または1つの陽イオン交換樹脂の1つの陰イオン性部位を表し;
R8は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し;
mは、各々の存在について独立して、両端を含む1〜10の範囲内の整数を表し;
nは、各々の存在について独立して、両端を含む1〜10の範囲内の整数を表す、
により表される塩に関する。
Rは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R’は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R”は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R4は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R5は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−(CH2)n−R8を表し;
Jは、各々の存在について独立して、O、S、NR’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し;
R8は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し;
mは、各々の存在について独立して、両端を含む1〜10の範囲内の整数を表し;
nは、各々の存在について独立して、両端を含む1〜10の範囲内の整数を表す、
により表される塩に関する。
1:
式中、
Rは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R’は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R”は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R3は、各々の存在について独立して、H、Fまたはアルキルを表し;
Jは、各々の存在について独立して、O、S、NR’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し;
X−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス(アルキルスルホニル)アミド、ビス(フルオロアルキルスルホニル)アミド、ビス(アリールスルホニル)アミド、(フルオロアルキルスルホニル)(フルオロアルキルカルボニル)アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または1つの陽イオン交換樹脂の1つの陰イオン性部位を表し;
R8は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し;
mは、各々の存在について独立して、両端を含む1〜10の範囲内の整数を表し;
nは、各々の存在について独立して、両端を含む1〜10の範囲内の整数を表す、
により表される塩;
Rは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルもしくは−(CH2)n−R8を表し;または+NR3は、一緒に、ピリジニウム、イミダゾリウム、ベンズイミダゾリウム、ピラゾリウム、ベンズピラゾリウム、インダゾリウム、チアゾリウム、ベンズチアゾリウム、オキサゾリウム、ベンゾオキサゾリウム、イソオキサゾリウム、イソチアゾリウム、イミダゾリジニウム、グアニジニウム、キヌクリジニウム、トリアゾリウム、テトラゾリウム、キノリニウム、イソキノリニウム、ピペリジニウム、ピロリジニウム、モルホリニウム、ピリダジニウム、ピラジニウム、ピペラジニウム、トリアジニウム、アゼピニウムもしくはジアゼピニウムを表し;
R’は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R”は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R3は、各々の存在について独立して、H、Fまたはアルキルを表し;
Jは、各々の存在について独立して、O、S、NR’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し;
X−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス(アルキルスルホニル)アミド、ビス(フルオロアルキルスルホニル)アミド、ビス(アリールスルホニル)アミド、(フルオロアルキルスルホニル)(フルオロアルキルカルボニル)アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または1つの陽イオン交換樹脂の1つの陰イオン性部位を表し;
R8は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し;
mは、各々の存在について独立して、両端を含む1〜10の範囲内の整数を表し;
nは、各々の存在について独立して、両端を含む1〜10の範囲内の整数を表す、
により表される塩;および
Rは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R’は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R”は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R4は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R5は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−(CH2)n−R8を表し;
Jは、各々の存在について独立して、O、S、NR’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し;
R8は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し;
mは、各々の存在について独立して、両端を含む1〜10の範囲内の整数を表し;
nは、各々の存在について独立して、両端を含む1〜10の範囲内の整数を表す、
により表される塩
からなる群から選択された1つの塩に暴露する段階を含む、前記方法に関する。
1:
Rは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R’は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R”は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R3は、各々の存在について独立して、H、Fまたはアルキルを表し;
Jは、各々の存在について独立して、O、S、NR’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し;
X−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス(アルキルスルホニル)アミド、ビス(フルオロアルキルスルホニル)アミド、ビス(アリールスルホニル)アミド、(フルオロアルキルスルホニル)(フルオロアルキルカルボニル)アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または1つの陽イオン交換樹脂の1つの陰イオン性部位を表し;
R8は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し;
mは、各々の存在について独立して、両端を含む1〜10の範囲内の整数を表し;
nは、各々の存在について独立して、両端を含む1〜10の範囲内の整数を表す、
により表される塩;
Rは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルもしくは−(CH2)n−R8を表し;または+NR3は、一緒に、ピリジニウム、イミダゾリウム、ベンズイミダゾリウム、ピラゾリウム、ベンズピラゾリウム、インダゾリウム、チアゾリウム、ベンズチアゾリウム、オキサゾリウム、ベンゾオキサゾリウム、イソオキサゾリウム、イソチアゾリウム、イミダゾリジニウム、グアニジニウム、キヌクリジニウム、トリアゾリウム、テトラゾリウム、キノリニウム、イソキノリニウム、ピペリジニウム、ピロリジニウム、モルホリニウム、ピリダジニウム、ピラジニウム、ピペラジニウム、トリアジニウム、アゼピニウムもしくはジアゼピニウムを表し;
R’は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R”は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R3は、各々の存在について独立して、H、Fまたはアルキルを表し;
Jは、各々の存在について独立して、O、S、NR’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し;
X−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス(アルキルスルホニル)アミド、ビス(フルオロアルキルスルホニル)アミド、ビス(アリールスルホニル)アミド、(フルオロアルキルスルホニル)(フルオロアルキルカルボニル)アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または1つの陽イオン交換樹脂の1つの陰イオン性部位を表し;
R8は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し;
mは、各々の存在について独立して、両端を含む1〜10の範囲内の整数を表し;
nは、各々の存在について独立して、両端を含む1〜10の範囲内の整数を表す、
により表される塩;および
Rは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R’は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R”は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R4は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R5は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−(CH2)n−R8を表し;
Jは、各々の存在について独立して、O、S、NR’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し;
R8は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し;
mは、各々の存在について独立して、両端を含む1〜10の範囲内の整数を表し;
nは、各々の存在について独立して、両端を含む1〜10の範囲内の整数を表す、
により表される塩
からなる群から選択された1つの塩に暴露し、
その後前記塩を、1つの第2の気体状または液体状混合物に暴露し、これにより、二酸化炭素、硫化カルボニル、二酸化硫黄、三酸化硫黄、硫化水素または1つのカルボニル含有化合物を、前記第2の気体状または液体状混合物に輸送する段階を含む、前記方法に関する。
1:
Rは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R’は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R”は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R3は、各々の存在について独立して、H、Fまたはアルキルを表し;
Jは、各々の存在について独立して、O、S、NR’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し;
X−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス(アルキルスルホニル)アミド、ビス(フルオロアルキルスルホニル)アミド、ビス(アリールスルホニル)アミド、(フルオロアルキルスルホニル)(フルオロアルキルカルボニル)アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または1つの陽イオン交換樹脂の1つの陰イオン性部位を表し;
R8は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し;
mは、各々の存在について独立して、両端を含む1〜10の範囲内の整数を表し;
nは、各々の存在について独立して、両端を含む1〜10の範囲内の整数を表す、
により表される塩;
Rは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルもしくは−(CH2)n−R8を表し;または+NR3は、一緒に、ピリジニウム、イミダゾリウム、ベンズイミダゾリウム、ピラゾリウム、ベンズピラゾリウム、インダゾリウム、チアゾリウム、ベンズチアゾリウム、オキサゾリウム、ベンゾオキサゾリウム、イソオキサゾリウム、イソチアゾリウム、イミダゾリジニウム、グアニジニウム、キヌクリジニウム、トリアゾリウム、テトラゾリウム、キノリニウム、イソキノリニウム、ピペリジニウム、ピロリジニウム、モルホリニウム、ピリダジニウム、ピラジニウム、ピペラジニウム、トリアジニウム、アゼピニウムもしくはジアゼピニウムを表し;
R’は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R”は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R3は、各々の存在について独立して、H、Fまたはアルキルを表し;
Jは、各々の存在について独立して、O、S、NR’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し;
X−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス(アルキルスルホニル)アミド、ビス(フルオロアルキルスルホニル)アミド、ビス(アリールスルホニル)アミド、(フルオロアルキルスルホニル)(フルオロアルキルカルボニル)アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または1つの陽イオン交換樹脂の1つの陰イオン性部位を表し;
R8は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し;
mは、各々の存在について独立して、両端を含む1〜10の範囲内の整数を表し;
nは、各々の存在について独立して、両端を含む1〜10の範囲内の整数を表す、
により表される塩;および
Rは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R’は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R”は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R4は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R5は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−(CH2)n−R8を表し;
Jは、各々の存在について独立して、O、S、NR’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し;
R8は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し;
mは、各々の存在について独立して、両端を含む1〜10の範囲内の整数を表し;
nは、各々の存在について独立して、両端を含む1〜10の範囲内の整数を表す、
により表される塩
からなる群から選択された1つの塩とから形成された1つの錯体に暴露する段階を含む、前記方法に関する。
1:
Rは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R’は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R”は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R3は、各々の存在について独立して、H、Fまたはアルキルを表し;
Jは、各々の存在について独立して、O、S、NR’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し;
X−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス(アルキルスルホニル)アミド、ビス(フルオロアルキルスルホニル)アミド、ビス(アリールスルホニル)アミド、(フルオロアルキルスルホニル)(フルオロアルキルカルボニル)アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または1つの陽イオン交換樹脂の1つの陰イオン性部位を表し;
R8は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し;
mは、各々の存在について独立して、両端を含む1〜10の範囲内の整数を表し;
nは、各々の存在について独立して、両端を含む1〜10の範囲内の整数を表す、
により表される塩;
Rは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルもしくは−(CH2)n−R8を表し;または+NR3は、一緒に、ピリジニウム、イミダゾリウム、ベンズイミダゾリウム、ピラゾリウム、ベンズピラゾリウム、インダゾリウム、チアゾリウム、ベンズチアゾリウム、オキサゾリウム、ベンゾオキサゾリウム、イソオキサゾリウム、イソチアゾリウム、イミダゾリジニウム、グアニジニウム、キヌクリジニウム、トリアゾリウム、テトラゾリウム、キノリニウム、イソキノリニウム、ピペリジニウム、ピロリジニウム、モルホリニウム、ピリダジニウム、ピラジニウム、ピペラジニウム、トリアジニウム、アゼピニウムもしくはジアゼピニウムを表し;
R’は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R”は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R3は、各々の存在について独立して、H、Fまたはアルキルを表し;
Jは、各々の存在について独立して、O、S、NR’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し;
X−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス(アルキルスルホニル)アミド、ビス(フルオロアルキルスルホニル)アミド、ビス(アリールスルホニル)アミド、(フルオロアルキルスルホニル)(フルオロアルキルカルボニル)アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または1つの陽イオン交換樹脂の1つの陰イオン性部位を表し;
R8は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し;
mは、各々の存在について独立して、両端を含む1〜10の範囲内の整数を表し;
nは、各々の存在について独立して、両端を含む1〜10の範囲内の整数を表す、
により表される塩;および
Rは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R’は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R”は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R4は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R5は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−(CH2)n−R8を表し;
Jは、各々の存在について独立して、O、S、NR’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し;
R8は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し;
mは、各々の存在について独立して、両端を含む1〜10の範囲内の整数を表し;
nは、各々の存在について独立して、両端を含む1〜10の範囲内の整数を表す、
により表される塩
からなる群から選択された1つの塩に暴露する段階を含む、前記方法に関する。
1:
Rは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R’は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R”は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R3は、各々の存在について独立して、H、Fまたはアルキルを表し;
Jは、各々の存在について独立して、O、S、NR’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し;
X−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス(アルキルスルホニル)アミド、ビス(フルオロアルキルスルホニル)アミド、ビス(アリールスルホニル)アミド、(フルオロアルキルスルホニル)(フルオロアルキルカルボニル)アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または1つの陽イオン交換樹脂の1つの陰イオン性部位を表し;
R8は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し;
mは、各々の存在について独立して、両端を含む1〜10の範囲内の整数を表し;
nは、各々の存在について独立して、両端を含む1〜10の範囲内の整数を表す、
により表される塩;
Rは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルもしくは−(CH2)n−R8を表し;または+NR3は、一緒に、ピリジニウム、イミダゾリウム、ベンズイミダゾリウム、ピラゾリウム、ベンズピラゾリウム、インダゾリウム、チアゾリウム、ベンズチアゾリウム、オキサゾリウム、ベンゾオキサゾリウム、イソオキサゾリウム、イソチアゾリウム、イミダゾリジニウム、グアニジニウム、キヌクリジニウム、トリアゾリウム、テトラゾリウム、キノリニウム、イソキノリニウム、ピペリジニウム、ピロリジニウム、モルホリニウム、ピリダジニウム、ピラジニウム、ピペラジニウム、トリアジニウム、アゼピニウムもしくはジアゼピニウムを表し;
R’は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R”は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R3は、各々の存在について独立して、H、Fまたはアルキルを表し;
Jは、各々の存在について独立して、O、S、NR’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し;
X−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス(アルキルスルホニル)アミド、ビス(フルオロアルキルスルホニル)アミド、ビス(アリールスルホニル)アミド、(フルオロアルキルスルホニル)(フルオロアルキルカルボニル)アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または1つの陽イオン交換樹脂の1つの陰イオン性部位を表し;
R8は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し;
mは、各々の存在について独立して、両端を含む1〜10の範囲内の整数を表し;
nは、各々の存在について独立して、両端を含む1〜10の範囲内の整数を表す、
により表される塩;および
Rは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R’は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R”は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R4は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R5は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−(CH2)n−R8を表し;
Jは、各々の存在について独立して、O、S、NR’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し;
R8は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し;
mは、各々の存在について独立して、両端を含む1〜10の範囲内の整数を表し;
nは、各々の存在について独立して、両端を含む1〜10の範囲内の整数を表す、
により表される塩
からなる群から選択された1つの塩に暴露する段階を含む、前記方法に関する。
1:
Rは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R’は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R”は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R3は、各々の存在について独立して、H、Fまたはアルキルを表し;
Jは、各々の存在について独立して、O、S、NR’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し;
X−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス(アルキルスルホニル)アミド、ビス(フルオロアルキルスルホニル)アミド、ビス(アリールスルホニル)アミド、(フルオロアルキルスルホニル)(フルオロアルキルカルボニル)アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または1つの陽イオン交換樹脂の1つの陰イオン性部位を表し;
R8は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し;
mは、各々の存在について独立して、両端を含む1〜10の範囲内の整数を表し;
nは、各々の存在について独立して、両端を含む1〜10の範囲内の整数を表す、
により表される塩;
Rは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルもしくは−(CH2)n−R8を表し;または+NR3は、一緒に、ピリジニウム、イミダゾリウム、ベンズイミダゾリウム、ピラゾリウム、ベンズピラゾリウム、インダゾリウム、チアゾリウム、ベンズチアゾリウム、オキサゾリウム、ベンゾオキサゾリウム、イソオキサゾリウム、イソチアゾリウム、イミダゾリジニウム、グアニジニウム、キヌクリジニウム、トリアゾリウム、テトラゾリウム、キノリニウム、イソキノリニウム、ピペリジニウム、ピロリジニウム、モルホリニウム、ピリダジニウム、ピラジニウム、ピペラジニウム、トリアジニウム、アゼピニウムもしくはジアゼピニウムを表し;
R’は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R”は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R3は、各々の存在について独立して、H、Fまたはアルキルを表し;
Jは、各々の存在について独立して、O、S、NR’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し;
X−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス(アルキルスルホニル)アミド、ビス(フルオロアルキルスルホニル)アミド、ビス(アリールスルホニル)アミド、(フルオロアルキルスルホニル)(フルオロアルキルカルボニル)アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または1つの陽イオン交換樹脂の1つの陰イオン性部位を表し;
R8は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し;
mは、各々の存在について独立して、両端を含む1〜10の範囲内の整数を表し;
nは、各々の存在について独立して、両端を含む1〜10の範囲内の整数を表す、
により表される塩;および
Rは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R’は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R”は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R4は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R5は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−(CH2)n−R8を表し;
Jは、各々の存在について独立して、O、S、NR’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し;
R8は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し;
mは、各々の存在について独立して、両端を含む1〜10の範囲内の整数を表し;
nは、各々の存在について独立して、両端を含む1〜10の範囲内の整数を表す、
により表される塩
からなる群から選択する、前記方法に関する。
ここで、本発明を、添付した例を参照して、一層十分に記載し、ここで、本発明のある好ましい態様を示す。しかし、本発明を、多くの種々の形態で具体化することができ、本明細書中に述べた態様に限定されるものと考えるべきではない;むしろ、これらの態様を提供して、この開示が、十分かつ完全であり、当業者に本発明の範囲を完全に伝達するようにする。
トリフェニルホスフィンまたはN−ブチルイミダゾールの、環式スルトンとの反応により、双性イオンが生成し、これをその後、トリフルオロメタンスルホン酸またはp−トルエンスルホン酸との反応により、イオン性液体に変換する。得られたイオン性液体は、アルカンスルホン酸基が結合する陽イオンを有する。これらのブレンステッド酸性イオン性液体は、フィッシャーエステル化、アルコール脱水二量化およびピナコール転位を含む、数種の有機反応のための有用な溶媒/触媒である。イオン性液体は、低い揮発性および、通常固体酸触媒と関連する生成物からの分離の容易さを併せ持ち、一層高い活性および収率は、通常慣用の液体酸を用いて見出された。
特に、本発明者らは、強力なブレンステッド酸である第1のイオン性液体を開発した。
IL1aは、室温でいくらか粘性の液体である一方、2aは、80℃の周辺で液化する硬性ガラスである。他のILの挙動と共に保持するにあたり、1aも2aも、しばしば有毒な蒸気を揮散し続ける、慣用のILに溶解した強酸とは異なり、発煙せず、観察可能な程度の蒸気圧を明らかにしない。さらに、1aの減圧(10torr)の下での150℃での処理の結果、トリフリック(triflic)酸(CF3SO3H、760torrにおいて沸点=162℃)の観察された損失はない。さらに、2aのトルエンまたはジエチルエーテルでの洗浄の結果、遊離のpTSA(いずれの液体にも可溶)の抽出はもたらされない。これらの挙動の両方は、溶解した双性イオンを有する、加えられた強酸の残留する単純な混合物よりむしろ、これらのそれぞれのIL構造中に完全に導入されたドナー酸と整合しており、この場合において、予備混合特性(例えばトリフリック酸揮発性)のいくらかの保存が、予想される。
特に、本発明者らは、CO2を捕集するILを見出した。この新規な課題特異性イオン性液体の陽イオンは、第一アミン部分が共有結合するイミダゾリウムイオンからなる。この塩は、CO2を、容易かつ可逆的に金属イオン封鎖する。イオン性液体は、商業的に入手できる出発物質から製造される。陽イオン核は、1−ブチルイミダゾールの、2−ブロモプロピルアミン臭化水素酸塩のエタノール中での反応により、組み立てられる。還流下で24時間後、エタノールを、真空において除去し、固体残留物を、最小量の水に溶解し、これを、固体KOHを少量に分割して加えることにより、〜pH8とする。次に、生成物臭化イミダゾリウムを、KBr副生成物から、水の蒸発により分離し、続いて残留物をエタノール−THFで抽出し、ここで、イミダゾリウム塩は、可溶である。NaBF4をエタノール/水中で用いた、その後のイオン交換により、生成物塩1が、58%の全体的収率で得られた。NMRおよびFAB−MSにより、ILの構造および組成が明らかである。80℃で真空の下で乾燥した後に、生成物は、CO2金属イオン封鎖のために直接用いることができる、比較的粘性の、水を含まない液体である。スキーム2を参照。
数種のガス性種を優先的に溶解するイオン性液体を、慣用のガス吸収用途において用いることができる。イオン性液体の不揮発性性質は、2つの重要な役割を奏する。先ず、操作の間の溶媒によるガス流の交差汚染がない。このことは、溶媒損失がなく、空気汚染がないことを意味する。第2に、溶媒の再生が容易である;単純なフラッシュまたは温和な蒸留段階は、再び交差汚染を伴わずに、溶媒からのガスを除去するのに必要であるすべてである。
好都合のために、明細書、例および添付した特許請求の範囲において用いるいくつかの用語を、ここに集める。
冠詞「1つの(a)」および「1つの(an)」は、ここでは、1つまたは1つより多い(即ち、少なくとも1つの)冠詞の文法的な対象を表すために用いられる。例えば、「1つの要素」は、1つの要素または1つより多い要素を意味する。
本明細書中で用いる用語「イオン性液体」は、約150℃より低い融点を有する有機塩またはこの水和物を意味する。
本明細書中で用いる用語「ヘテロ原子」は、炭素または水素以外のすべての元素の原子を意味する。好ましいヘテロ原子は、ホウ素、窒素、酸素、リン、硫黄およびセレンである。
用語「アルケニル」および「アルキニル」は、上記に記載したアルキルと長さおよび可能な置換が同様であるが、それぞれ少なくとも1つの二重または三重結合を含む、不飽和脂肪族基を意味する。
により表すことができる部分を意味する。
により表すことができる部分を意味する。
により表すことができる部分を含む。アミドの好ましい態様は、不安定であり得るイミドを含まない。
により表すことができる部分を含む。Xが酸素であり、R11またはR’11が水素ではない場合には、この式は、「エステル」を表す。Xが酸素であり、R11が、上記で定義した通りである場合には、この部分を、本明細書中で、カルボキシル基と表し、特にR11が水素である場合には、この式は、「カルボン酸」を表す。
により表すことができる部分を表す。
により表すことができる部分を意味する。
ある態様において、本発明は、1:
Rは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R’は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R”は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R3は、各々の存在について独立して、H、Fまたはアルキルを表し;
Jは、各々の存在について独立して、O、S、NR’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し;
X−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス(アルキルスルホニル)アミド、ビス(フルオロアルキルスルホニル)アミド、ビス(アリールスルホニル)アミド、(フルオロアルキルスルホニル)(フルオロアルキルカルボニル)アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または1つの陽イオン交換樹脂の1つの陰イオン性部位を表し;
R8は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し;
mは、各々の存在について独立して、両端を含む1〜10の範囲内の整数を表し;
nは、各々の存在について独立して、両端を含む1〜10の範囲内の整数を表す、
により表される塩に関する。
ある態様において、本発明は、Zが、−SO3Hまたは−N(R’)2を表す、1および付随する定義により表される塩に関する。
ある態様において、本発明は、Lが、(C(R3)2)nを表す、1および付随する定義により表される塩に関する。
ある態様において、本発明は、X−が、ビス(トリフルオロメタンスルホニル)アミドまたは(トリフルオロメタンスルホニル)(トリフルオロアセチル)アミドを表す、1および付随する定義により表される塩に関する。
ある態様において、本発明は、Rが、各々の存在について独立してアリールを表し;Zが、−SO3Hまたは−N(R’)2を表し;Lが、(C(R3)2)nを表す、1および付随する定義により表される塩に関する。
Rは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルもしくは−(CH2)n−R8を表し;または+NR3は、一緒に、ピリジニウム、イミダゾリウム、ベンズイミダゾリウム、ピラゾリウム、ベンズピラゾリウム、インダゾリウム、チアゾリウム、ベンズチアゾリウム、オキサゾリウム、ベンゾオキサゾリウム、イソオキサゾリウム、イソチアゾリウム、イミダゾリジニウム、グアニジニウム、キヌクリジニウム、トリアゾリウム、テトラゾリウム、キノリニウム、イソキノリニウム、ピペリジニウム、ピロリジニウム、モルホリニウム、ピリダジニウム、ピラジニウム、ピペラジニウム、トリアジニウム、アゼピニウムもしくはジアゼピニウムを表し;
R’は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R”は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R3は、各々の存在について独立して、H、Fまたはアルキルを表し;
Jは、各々の存在について独立して、O、S、NR’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し;
X−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス(アルキルスルホニル)アミド、ビス(フルオロアルキルスルホニル)アミド、ビス(アリールスルホニル)アミド、(フルオロアルキルスルホニル)(フルオロアルキルカルボニル)アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または1つの陽イオン交換樹脂の1つの陰イオン性部位を表し;
R8は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し;
mは、各々の存在について独立して、両端を含む1〜10の範囲内の整数を表し;
nは、各々の存在について独立して、両端を含む1〜10の範囲内の整数を表す、
により表される塩に関する。
ある態様において、本発明は、Zが、−SO3Hまたは−N(R’)2を表す、2および付随する定義により表される塩に関する。
ある態様において、本発明は、Lが、(C(R3)2)nを表す、2および付随する定義により表される塩に関する。
ある態様において、本発明は、X−が、ビス(トリフルオロメタンスルホニル)アミドまたは(トリフルオロメタンスルホニル)(トリフルオロアセチル)アミドを表す、2および付随する定義により表される塩に関する。
ある態様において、本発明は、Rが、各々の存在について独立してアルキルまたはアリールを表し;Zが、−SO3Hまたは−N(R’)2を表し;Lが、(C(R3)2)nを表す、2および付随する定義により表される塩に関する。
Rは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R’は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R”は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R4は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R5は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−(CH2)n−R8を表し;
Jは、各々の存在について独立して、O、S、NR’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し;
R8は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し;
mは、各々の存在について独立して、両端を含む1〜10の範囲内の整数を表し;
nは、各々の存在について独立して、両端を含む1〜10の範囲内の整数を表す、
により表される塩に関する。
ある態様において、本発明は、R4が、各々の存在について独立してHまたはアルキルを表す、3および付随する定義により表される塩に関する。
ある態様において、本発明は、R5が、各々の存在について独立してHまたはアルキルを表す、3および付随する定義により表される塩に関する。
ある態様において、本発明は、Zが、−SO3Hまたは−N(R’)2を表す、3および付随する定義により表される塩に関する。
ある態様において、本発明は、Lが、(C(R3)2)nを表す、3および付随する定義により表される塩に関する。
ある態様において、本発明は、X−が、ビス(トリフルオロメタンスルホニル)アミドまたは(トリフルオロメタンスルホニル)(トリフルオロアセチル)アミドを表す、3および付随する定義により表される塩に関する。
ある態様において、本発明は、Rが、各々の存在について独立してアルキルを表し;Zが、−SO3Hまたは−N(R’)2を表し;Lが、(C(R3)2)nを表す、3および付随する定義により表される塩に関する。
ある態様において、本発明は、付加されたアミン(例えば第一、第二、第三または複素環式)を有するILの、H2S、CO2、COS、SO2およびSO3を含むがこれらには限定されない酸性ガスのガス相からの捕集のための使用に関する。
ある態様において、本発明は、付加されたアミン(例えば第一、第二、第三または複素環式)を有するILの、水と併せての、酸性ガスのガス相からの捕集のための使用に関する。
ある態様において、本発明は、分子状溶媒または他のイオン性液体に溶解した、付加されたアミン(例えば第一、第二、第三または複素環式)を有するILの、酸性ガスのガス相からの捕集のための使用に関する。
ある態様において、本発明は、付加されたアミンを有するILの、溶液相におけるアミン反応性物質のための掃去剤としての使用に関する。
ある態様において、本発明は、付加されたアミンを有するILの、溶媒としての使用に関する。
ある態様において、本発明は、付加されたアミンを有するILの、イオン交換樹脂、粘土またはゼオライトと併せての、前述の用途のすべてのための使用に関する。
ある態様において、本発明は、付加された酸性基を有するILの、脱水剤または乾燥剤としての使用に関する。
ある態様において、本発明は、付加された酸を有するILの、イオン交換樹脂、粘土またはゼオライトと併せての、前述の用途のすべてのための使用に関する。
ある態様において、本発明は、付加された酸性基を有するILの、溶媒としての使用に関する。
ある態様において、本発明は、付加されたスルホン、スルホキシドまたはスルホンアミド基を有するILの、石油または石油化学製品の精製における分離を含む液体−液体または液体−気体分離における使用に関する。
ある態様において、本発明は、付加されたスルホン、スルホキシドまたはスルホンアミド基を有するILの、生体分子、例えば糖類、アミノ酸、核酸、タンパク質、酵素、DNAおよびRNAを含むがこれらには限定されない極性分子のための溶媒としての使用に関する。
ある態様において、本発明は、付加されたスルホン、スルホキシドまたはスルホンアミド基を有するILの、過臨界溶媒、例えば過臨界CO2と併せて用いるための相転移補助剤としての使用に関する。
ある態様において、本発明は、付加されたハロゲン化スルホニル基を有するILの、反応性種と併せて用いるための掃去剤としての使用に関する。
ある態様において、本発明は、付加されたアミド、尿素またはチオ尿素基を有するILの、石油または石油化学製品の精製における分離を含む液体−液体または液体−気体分離における使用に関する。
ある態様において、本発明は、付加されたアミド、尿素またはチオ尿素基を有するILの、生体分子、例えば糖類、アミノ酸、核酸、タンパク質、酵素、DNAおよびRNAを含むがこれらには限定されない極性分子のための溶媒としての使用に関する。
ある態様において、本発明は、付加されたアミド、尿素またはチオ尿素基を有するILの、イオン交換可能な材料、例えばイオン交換樹脂、粘土およびゼオライトと併せての、前述の用途のすべてのための使用に関する。
ある態様において、本発明は、付加されたアミド、尿素またはチオ尿素基を有するILの、過臨界溶媒、例えば過臨界CO2と併せて用いるための相転移補助剤としての使用に関する。
ある態様において、本発明は、官能化されたILの、溶媒、試薬−溶媒または触媒−溶媒としての、重合またはポリマー加工操作のための使用に関する。
ある態様において、本発明は、官能化されたILの、例えば溶液、石油または石油化学製品における帯電防止剤としての使用に関する。
1:
Rは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R’は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R”は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R3は、各々の存在について独立して、H、Fまたはアルキルを表し;
Jは、各々の存在について独立して、O、S、NR’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し;
X−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス(アルキルスルホニル)アミド、ビス(フルオロアルキルスルホニル)アミド、ビス(アリールスルホニル)アミド、(フルオロアルキルスルホニル)(フルオロアルキルカルボニル)アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または1つの陽イオン交換樹脂の1つの陰イオン性部位を表し;
R8は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し;
mは、各々の存在について独立して、両端を含む1〜10の範囲内の整数を表し;
nは、各々の存在について独立して、両端を含む1〜10の範囲内の整数を表す、
により表される塩;
Rは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルもしくは−(CH2)n−R8を表し;または+NR3は、一緒に、ピリジニウム、イミダゾリウム、ベンズイミダゾリウム、ピラゾリウム、ベンズピラゾリウム、インダゾリウム、チアゾリウム、ベンズチアゾリウム、オキサゾリウム、ベンゾオキサゾリウム、イソオキサゾリウム、イソチアゾリウム、イミダゾリジニウム、グアニジニウム、キヌクリジニウム、トリアゾリウム、テトラゾリウム、キノリニウム、イソキノリニウム、ピペリジニウム、ピロリジニウム、モルホリニウム、ピリダジニウム、ピラジニウム、ピペラジニウム、トリアジニウム、アゼピニウムもしくはジアゼピニウムを表し;
R’は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R”は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R3は、各々の存在について独立して、H、Fまたはアルキルを表し;
Jは、各々の存在について独立して、O、S、NR’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し;
X−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス(アルキルスルホニル)アミド、ビス(フルオロアルキルスルホニル)アミド、ビス(アリールスルホニル)アミド、(フルオロアルキルスルホニル)(フルオロアルキルカルボニル)アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または1つの陽イオン交換樹脂の1つの陰イオン性部位を表し;
R8は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し;
mは、各々の存在について独立して、両端を含む1〜10の範囲内の整数を表し;
nは、各々の存在について独立して、両端を含む1〜10の範囲内の整数を表す、
により表される塩;および
Rは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R’は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R”は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R4は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R5は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−(CH2)n−R8を表し;
Jは、各々の存在について独立して、O、S、NR’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し;
R8は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し;
mは、各々の存在について独立して、両端を含む1〜10の範囲内の整数を表し;
nは、各々の存在について独立して、両端を含む1〜10の範囲内の整数を表す、
により表される塩
からなる群から選択された1つの塩に暴露する段階を含む、前記方法に関する。
ある態様において、本発明は、前記気体状または液体状混合物が、天然ガスである、前述の方法および付随する定義に関する。
ある態様において、本発明は、塩を水に溶解する、前述の方法および付随する定義に関する。
ある態様において、本発明は、Zが、各々の存在について独立して−N(R’)2を表し;前記気体状または液体状混合物が、天然ガスである、前述の方法および付随する定義に関する。
1:
Rは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R’は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R”は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R3は、各々の存在について独立して、H、Fまたはアルキルを表し;
Jは、各々の存在について独立して、O、S、NR’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し;
X−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス(アルキルスルホニル)アミド、ビス(フルオロアルキルスルホニル)アミド、ビス(アリールスルホニル)アミド、(フルオロアルキルスルホニル)(フルオロアルキルカルボニル)アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または1つの陽イオン交換樹脂の1つの陰イオン性部位を表し;
R8は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し;
mは、各々の存在について独立して、両端を含む1〜10の範囲内の整数を表し;
nは、各々の存在について独立して、両端を含む1〜10の範囲内の整数を表す、
により表される塩;
Rは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルもしくは−(CH2)n−R8を表し;または+NR3は、一緒に、ピリジニウム、イミダゾリウム、ベンズイミダゾリウム、ピラゾリウム、ベンズピラゾリウム、インダゾリウム、チアゾリウム、ベンズチアゾリウム、オキサゾリウム、ベンゾオキサゾリウム、イソオキサゾリウム、イソチアゾリウム、イミダゾリジニウム、グアニジニウム、キヌクリジニウム、トリアゾリウム、テトラゾリウム、キノリニウム、イソキノリニウム、ピペリジニウム、ピロリジニウム、モルホリニウム、ピリダジニウム、ピラジニウム、ピペラジニウム、トリアジニウム、アゼピニウムもしくはジアゼピニウムを表し;
R’は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R”は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R3は、各々の存在について独立して、H、Fまたはアルキルを表し;
Jは、各々の存在について独立して、O、S、NR’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し;
X−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス(アルキルスルホニル)アミド、ビス(フルオロアルキルスルホニル)アミド、ビス(アリールスルホニル)アミド、(フルオロアルキルスルホニル)(フルオロアルキルカルボニル)アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または1つの陽イオン交換樹脂の1つの陰イオン性部位を表し;
R8は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し;
mは、各々の存在について独立して、両端を含む1〜10の範囲内の整数を表し;
nは、各々の存在について独立して、両端を含む1〜10の範囲内の整数を表す、
により表される塩;および
Rは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R’は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R”は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R4は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R5は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−(CH2)n−R8を表し;
Jは、各々の存在について独立して、O、S、NR’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し;
R8は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し;
mは、各々の存在について独立して、両端を含む1〜10の範囲内の整数を表し;
nは、各々の存在について独立して、両端を含む1〜10の範囲内の整数を表す、
により表される塩
からなる群から選択された1つの塩に暴露し、
その後前記塩を、1つの第2の気体状または液体状混合物に暴露し、これにより、二酸化炭素、硫化カルボニル、二酸化硫黄、三酸化硫黄、硫化水素または1つのカルボニル含有化合物を、前記第2の気体状または液体状混合物に輸送する段階を含む、前記方法に関する。
ある態様において、本発明は、前記塩が、1つの半透膜内に含まれる、前述の方法および付随する定義に関する。
ある態様において、本発明は、Zが、各々の存在について独立して−N(R’)2を表し;前記塩が、1つの半透膜内に含まれる、前述の方法および付随する定義に関する。
1:
Rは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R’は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R”は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R3は、各々の存在について独立して、H、Fまたはアルキルを表し;
Jは、各々の存在について独立して、O、S、NR’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し;
X−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス(アルキルスルホニル)アミド、ビス(フルオロアルキルスルホニル)アミド、ビス(アリールスルホニル)アミド、(フルオロアルキルスルホニル)(フルオロアルキルカルボニル)アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または1つの陽イオン交換樹脂の1つの陰イオン性部位を表し;
R8は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し;
mは、各々の存在について独立して、両端を含む1〜10の範囲内の整数を表し;
nは、各々の存在について独立して、両端を含む1〜10の範囲内の整数を表す、
により表される塩;
Rは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルもしくは−(CH2)n−R8を表し;または+NR3は、一緒に、ピリジニウム、イミダゾリウム、ベンズイミダゾリウム、ピラゾリウム、ベンズピラゾリウム、インダゾリウム、チアゾリウム、ベンズチアゾリウム、オキサゾリウム、ベンゾオキサゾリウム、イソオキサゾリウム、イソチアゾリウム、イミダゾリジニウム、グアニジニウム、キヌクリジニウム、トリアゾリウム、テトラゾリウム、キノリニウム、イソキノリニウム、ピペリジニウム、ピロリジニウム、モルホリニウム、ピリダジニウム、ピラジニウム、ピペラジニウム、トリアジニウム、アゼピニウムもしくはジアゼピニウムを表し;
R’は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R”は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R3は、各々の存在について独立して、H、Fまたはアルキルを表し;
Jは、各々の存在について独立して、O、S、NR’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し;
X−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス(アルキルスルホニル)アミド、ビス(フルオロアルキルスルホニル)アミド、ビス(アリールスルホニル)アミド、(フルオロアルキルスルホニル)(フルオロアルキルカルボニル)アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または1つの陽イオン交換樹脂の1つの陰イオン性部位を表し;
R8は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し;
mは、各々の存在について独立して、両端を含む1〜10の範囲内の整数を表し;
nは、各々の存在について独立して、両端を含む1〜10の範囲内の整数を表す、
により表される塩;および
Rは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R’は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R”は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R4は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R5は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−(CH2)n−R8を表し;
Jは、各々の存在について独立して、O、S、NR’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し;
R8は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し;
mは、各々の存在について独立して、両端を含む1〜10の範囲内の整数を表し;
nは、各々の存在について独立して、両端を含む1〜10の範囲内の整数を表す、
により表される塩
からなる群から選択された1つの塩とから形成された1つの錯体に暴露する段階を含む、前記方法に関する。
ある態様において、本発明は、Zが、各々の存在について独立してアルケニルまたはアルキニルを表し;遷移金属が、鉄、コバルト、ニッケル、銅、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、銀、イリジウムまたは白金である、前述の方法および付随する定義に関する。
ある態様において、本発明は、Zが、各々の存在について独立してアルケニルまたはアルキニルを表し;遷移金属が、銀である、前述の方法および付随する定義に関する。
1:
Rは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R’は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R”は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R3は、各々の存在について独立して、H、Fまたはアルキルを表し;
Jは、各々の存在について独立して、O、S、NR’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し;
X−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス(アルキルスルホニル)アミド、ビス(フルオロアルキルスルホニル)アミド、ビス(アリールスルホニル)アミド、(フルオロアルキルスルホニル)(フルオロアルキルカルボニル)アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または1つの陽イオン交換樹脂の1つの陰イオン性部位を表し;
R8は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し;
mは、各々の存在について独立して、両端を含む1〜10の範囲内の整数を表し;
nは、各々の存在について独立して、両端を含む1〜10の範囲内の整数を表す、
により表される塩;
Rは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルもしくは−(CH2)n−R8を表し;または+NR3は、一緒に、ピリジニウム、イミダゾリウム、ベンズイミダゾリウム、ピラゾリウム、ベンズピラゾリウム、インダゾリウム、チアゾリウム、ベンズチアゾリウム、オキサゾリウム、ベンゾオキサゾリウム、イソオキサゾリウム、イソチアゾリウム、イミダゾリジニウム、グアニジニウム、キヌクリジニウム、トリアゾリウム、テトラゾリウム、キノリニウム、イソキノリニウム、ピペリジニウム、ピロリジニウム、モルホリニウム、ピリダジニウム、ピラジニウム、ピペラジニウム、トリアジニウム、アゼピニウムもしくはジアゼピニウムを表し;
R’は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R”は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R3は、各々の存在について独立して、H、Fまたはアルキルを表し;
Jは、各々の存在について独立して、O、S、NR’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し;
X−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス(アルキルスルホニル)アミド、ビス(フルオロアルキルスルホニル)アミド、ビス(アリールスルホニル)アミド、(フルオロアルキルスルホニル)(フルオロアルキルカルボニル)アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または1つの陽イオン交換樹脂の1つの陰イオン性部位を表し;
R8は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し;
mは、各々の存在について独立して、両端を含む1〜10の範囲内の整数を表し;
nは、各々の存在について独立して、両端を含む1〜10の範囲内の整数を表す、
により表される塩;および
Rは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R’は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R”は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R4は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R5は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−(CH2)n−R8を表し;
Jは、各々の存在について独立して、O、S、NR’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し;
R8は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し;
mは、各々の存在について独立して、両端を含む1〜10の範囲内の整数を表し;
nは、各々の存在について独立して、両端を含む1〜10の範囲内の整数を表す、
により表される塩
からなる群から選択された1つの塩に暴露する段階を含む、前記方法に関する。
ある態様において、本発明は、前記反応体混合物が、1つのアルコールを含み;前記生成物が、1つのエーテルである、前述の方法および付随する定義に関する。
ある態様において、本発明は、前記反応体混合物が、1つのアルコールおよび1つのカルボン酸を含み;前記生成物が、1つのエステルである、前述の方法および付随する定義に関する。
ある態様において、本発明は、前記反応体混合物が、1つのアルコールおよび1つの第1のエステルを含み;前記生成物が、1つの第2のエステルである、前述の方法および付随する定義に関する。
ある態様において、本発明は、前記反応体混合物が、1つの1,2−ジオールを含み;前記生成物が、1つのケトンである、前述の方法および付随する定義に関する。
ある態様において、本発明は、前記反応体混合物が、1つの第1のアルケンを含み;前記生成物が、1つの第2のアルケンである、前述の方法および付随する定義に関する。
ある態様において、本発明は、前記反応混合物が、1つの第1の芳香族化合物および1つのニトロ化剤を含み;前記生成物が、1つのニトロ基を含む1つの第2の芳香族化合物である、前述の方法および付随する定義に関する。
ある態様において、本発明は、前記反応混合物が、1つの第1の芳香族化合物および1つのカルボン酸を含み;前記生成物が、1つのアシル基を含む1つの第2の芳香族化合物である、前述の方法および付随する定義に関する。
ある態様において、本発明は、Zが、各々の存在について独立して−SO3Hを表し;前記反応体混合物が、1つのアルコールを含み;前記生成物が、1つのエーテルである、前述の方法および付随する定義に関する。
ある態様において、本発明は、Zが、各々の存在について独立して−SO3Hを表し;前記反応体混合物が、1つのエステルおよび水を含み;前記生成物が、1つのカルボン酸である、前述の方法および付随する定義に関する。
ある態様において、本発明は、Zが、各々の存在について独立して−SO3Hを表し;前記反応体混合物が、1つのアルコールおよび1つの第1のエステルを含み;前記生成物が、1つの第2のエステルである、前述の方法および付随する定義に関する。
ある態様において、本発明は、Zが、各々の存在について独立して−SO3Hを表し;前記反応体混合物が、1つのアルコールを含み;前記生成物が、1つのアルケンである、前述の方法および付随する定義に関する。
ある態様において、本発明は、Zが、各々の存在について独立して−SO3Hを表し;前記反応体混合物が、1つの第1のアルケンを含み;前記生成物が、1つの第2のアルケンである、前述の方法および付随する定義に関する。
ある態様において、本発明は、Zが、各々の存在について独立して−SO3Hを表し;前記反応体混合物が、1つの第1の芳香族化合物および1つのアルコールを含み;前記生成物が、1つのアルキル基を含む1つの第2の芳香族化合物である、前述の方法および付随する定義に関する。
ある態様において、本発明は、Zが、各々の存在について独立して−SO3Hを表し;前記反応体混合物が、1つの第1の芳香族化合物および1つのカルボン酸を含み;前記生成物が、1つのアシル基を含む1つの第2の芳香族化合物である、前述の方法および付随する定義に関する。
1:
Rは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R’は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R”は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R3は、各々の存在について独立して、H、Fまたはアルキルを表し;
Jは、各々の存在について独立して、O、S、NR’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し;
X−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス(アルキルスルホニル)アミド、ビス(フルオロアルキルスルホニル)アミド、ビス(アリールスルホニル)アミド、(フルオロアルキルスルホニル)(フルオロアルキルカルボニル)アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または1つの陽イオン交換樹脂の1つの陰イオン性部位を表し;
R8は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し;
mは、各々の存在について独立して、両端を含む1〜10の範囲内の整数を表し;
nは、各々の存在について独立して、両端を含む1〜10の範囲内の整数を表す、
により表される塩;
Rは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルもしくは−(CH2)n−R8を表し;または+NR3は、一緒に、ピリジニウム、イミダゾリウム、ベンズイミダゾリウム、ピラゾリウム、ベンズピラゾリウム、インダゾリウム、チアゾリウム、ベンズチアゾリウム、オキサゾリウム、ベンゾオキサゾリウム、イソオキサゾリウム、イソチアゾリウム、イミダゾリジニウム、グアニジニウム、キヌクリジニウム、トリアゾリウム、テトラゾリウム、キノリニウム、イソキノリニウム、ピペリジニウム、ピロリジニウム、モルホリニウム、ピリダジニウム、ピラジニウム、ピペラジニウム、トリアジニウム、アゼピニウムもしくはジアゼピニウムを表し;
R’は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R”は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R3は、各々の存在について独立して、H、Fまたはアルキルを表し;
Jは、各々の存在について独立して、O、S、NR’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し;
X−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス(アルキルスルホニル)アミド、ビス(フルオロアルキルスルホニル)アミド、ビス(アリールスルホニル)アミド、(フルオロアルキルスルホニル)(フルオロアルキルカルボニル)アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または1つの陽イオン交換樹脂の1つの陰イオン性部位を表し;
R8は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し;
mは、各々の存在について独立して、両端を含む1〜10の範囲内の整数を表し;
nは、各々の存在について独立して、両端を含む1〜10の範囲内の整数を表す、
により表される塩;および
Rは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R’は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R”は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R4は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R5は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−(CH2)n−R8を表し;
Jは、各々の存在について独立して、O、S、NR’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し;
R8は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し;
mは、各々の存在について独立して、両端を含む1〜10の範囲内の整数を表し;
nは、各々の存在について独立して、両端を含む1〜10の範囲内の整数を表す、
により表される塩
からなる群から選択された1つの塩に暴露する段階を含む、前記方法に関する。
1:
Rは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R’は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R”は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R3は、各々の存在について独立して、H、Fまたはアルキルを表し;
Jは、各々の存在について独立して、O、S、NR’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し;
X−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス(アルキルスルホニル)アミド、ビス(フルオロアルキルスルホニル)アミド、ビス(アリールスルホニル)アミド、(フルオロアルキルスルホニル)(フルオロアルキルカルボニル)アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または1つの陽イオン交換樹脂の1つの陰イオン性部位を表し;
R8は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し;
mは、各々の存在について独立して、両端を含む1〜10の範囲内の整数を表し;
nは、各々の存在について独立して、両端を含む1〜10の範囲内の整数を表す、
により表される塩;
Rは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルもしくは−(CH2)n−R8を表し;または+NR3は、一緒に、ピリジニウム、イミダゾリウム、ベンズイミダゾリウム、ピラゾリウム、ベンズピラゾリウム、インダゾリウム、チアゾリウム、ベンズチアゾリウム、オキサゾリウム、ベンゾオキサゾリウム、イソオキサゾリウム、イソチアゾリウム、イミダゾリジニウム、グアニジニウム、キヌクリジニウム、トリアゾリウム、テトラゾリウム、キノリニウム、イソキノリニウム、ピペリジニウム、ピロリジニウム、モルホリニウム、ピリダジニウム、ピラジニウム、ピペラジニウム、トリアジニウム、アゼピニウムもしくはジアゼピニウムを表し;
R’は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R”は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R3は、各々の存在について独立して、H、Fまたはアルキルを表し;
Jは、各々の存在について独立して、O、S、NR’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し;
X−は、四フッ化ホウ素、四フッ化リン、六フッ化リン、アルキルスルホネート、フルオロアルキルスルホネート、アリールスルホネート、ビス(アルキルスルホニル)アミド、ビス(フルオロアルキルスルホニル)アミド、ビス(アリールスルホニル)アミド、(フルオロアルキルスルホニル)(フルオロアルキルカルボニル)アミド、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、アルキル硫酸塩、アリール硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、カルボン酸塩、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、次亜塩素酸塩、または1つの陽イオン交換樹脂の1つの陰イオン性部位を表し;
R8は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し;
mは、各々の存在について独立して、両端を含む1〜10の範囲内の整数を表し;
nは、各々の存在について独立して、両端を含む1〜10の範囲内の整数を表す、
により表される塩;および
Rは、各々の存在について独立して、アルキル、フルオロアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R’は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R”は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R4は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、ホルミル、アシル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニルまたは−(CH2)n−R8を表し;
R5は、各々の存在について独立して、H、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキルまたは−(CH2)n−R8を表し;
Jは、各々の存在について独立して、O、S、NR’、シクロアルキルまたはヘテロシクリルを表し;
R8は、各々の存在について独立して、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールを表し;
mは、各々の存在について独立して、両端を含む1〜10の範囲内の整数を表し;
nは、各々の存在について独立して、両端を含む1〜10の範囲内の整数を表す、
により表される塩
からなる群から選択する、前記方法に関する。
本発明を、ここで、一般的に記載し、これは、以下の例を参照することにより、一層容易に理解され、これは、単に本発明のある観点および態様の例示の目的のために含まれ、本発明を限定することを意図しない。
ブレンステッド酸性イオン性液体および触媒−溶媒としてのこれらの使用
一般的考慮
1H NMR(300MHz)および13C NMR(75MHz)スペクトルを、CDCl3またはD2Oのいずれかに溶解した溶液として得た。化学シフトを、百万あたりの部(ppm、δ)において報告し、CHCl3(δ 7.27)またはD2O(δ 4.88)を参照した。赤外線スペクトルを、塩化ナトリウム上での薄膜として記録し、吸収を、波数(cm−1)において報告した。融点は、補正されていない。蒸留を、クゲルロア(Kugelrohr)ボール管蒸留装置を用いて実施した。ガスクロマトグラフィー分析を、アジレント(Agilent)6850システム(FID)を用いて実施した。TLC分析を、ホワットマン(Whatman)可撓性ポリエステル裏打ちTLCプレート上で、蛍光指示器を用いて実施した。検出を、UV吸収(254nm)および水に溶解した10%のKMnO4で炭化させることにより実施した。ベーカー(Baker)シリカゲル(47〜61ミクロン)を、すべてのクロマトグラフィー分離のために用いた。無水有機溶媒を乾燥し、次に用いる前に蒸留した。酢酸、無水酢酸、ベンゾピナコール、エタノール、ヘキサン酸、1−オクタノール、ピナコールおよびp−トルエンスルホン酸は、用いる前に精製しなかった。合成手順のために用いるすべての他の化学物質は、試薬階級またはこれよりも良好であった。溶液を、真空において回転蒸発器を用いて濃縮し、残留物を、他に特定しない限り、シリカゲルカラムを用いて精製した。
ブレンステッド酸イオン性液体の酢酸エチルの生成における再使用
2.1gのIL(4.0mmol)を装入した5mLの反応円錐バイアルに、シリンジにより、酢酸(1.0mL、17.5mmol)およびエタノール(1.0mL、17.5mmol)を加えた。反応混合物を、175℃(外部温度)の最大温度に、45分にわたり加温した。反応の完了が、最大温度に達する前に観察されたが、反応装備/ILの再使用により、すべての揮発性成分を、蒸留により、次のサイクルの前に除去することが必要になった。各々のサイクルについて、反応の完了を、GC分析[GC((HP−1メチルシロキサン;f=1.0mL/分)50℃(2分)、10℃/分、275℃(10分))3.21分(EtOH)、3.37分(EtOAc)、3.42分(AcOH)]により確認し、得られた蒸留物の質量により立証した。各々のサイクルにより、純粋な酢酸エチルが、認識可能な量の出発物質を伴わずに(EtOH/EtOAc共沸によるEtOHの<7%の推定の損失(31重量%および78℃の沸点))得られた。二相混合物を分離し、生成物の生成に考慮したのは、3.3%の最大の水含量であった。
5mLの反応円錐バイアルに、酢酸(1.0mL、17.5mmol)およびエタノール(1.0mL、17.5mmol)を装入した。反応混合物を、175℃(外部温度)の最大温度に、45分にわたり加温した。45分の時間枠の後の30分の連続的な加熱の後にも、認識可能な量の蒸留物は、観察されなかった。採集された蒸留物は、EtOH(97%)およびEtOAc(7%)からなっていた。反応円錐バイアル中の残りは、AcOHであった。
複数のサイクルの後の系は、顕著な量の物質、主に水を保持しており、これは、151%を超える質量百分率の上昇に関連した。反応サイクルの物質収支および生成物収率に基づいて、質量の増大は、水および酢酸からなっていた。大気圧での熱(<175℃)を用いたVOCの除去は、不成功であった。しかし、装備を排気し(10Torr)、65℃に5時間にわたり加温した際に、観察されたのは、反応バイアル中に含まれる容積の損失であった。得られたイオン性液体は、尚1H NMR分析に基づいて、AcOH(42%)を含んでいた。サイクル2からの結果を用いて、0.441mLの水を、水:IL比率を模擬する目的で、エタノールおよび酢酸の添加の前に加えた。この対照実験により、1.3gの酢酸エチル(単離された収率87%)が得られた。
チオエーテルIL2およびスルホキシドIL2の合成および特徴づけ
100mLの丸底フラスコに、磁石攪拌棒、50mLのトルエンおよび3.29g(40mmol)の1−メチルイミダゾールを装入した。次に、この溶液に、5.0g(40mmol)の2−(クロロエチル)エチルスルフィドを加えた。凝縮器を取り付け、溶液を、12時間にわたり還流に加熱し、維持した。この間、濃密な黄茶色の液相が、トルエンから分離した。冷却後、トルエン層を分離し、廃棄し、下方のイオン性液体層を、2×50mLのジエチルエーテルで洗浄した。粘性の液体を、真空において一晩乾燥した(7.41g、89%)。
1部からの塩化イミダゾリウム生成物(7.41g、35.8mmol)を、25mLのアセトニトリルに溶解し、8.01g(35.8mmol)のリチウムビス(トリフルオロメタンスルホニルイミド)で処理した。後者の溶解に、LiClの沈殿が迅速に続いた。一晩攪拌した後に、懸濁液を濾過し、溶媒を真空において除去して、イミダゾリウム陽イオンのビス(トリフリル)イミド塩(12.02g、86%)が残留した。
100mLのフラスコに、攪拌棒および2部において単離された生成物塩1.51g(3.9mmol)を装入した。次に、これを、50mLのジクロロメタンに溶解し、溶液を、0℃に冷却した。冷却した攪拌した溶液に、10mLのジクロロメタンに溶解した1.00gのm−クロロペルオキシ安息香酸(アッセイにより66.9%の過酸化物活性、3.9mmolの活性過酸化物)の溶液を滴加した。この溶液を、室温に加温し、この間白色沈殿が生成した。12時間攪拌した後に、溶媒を、真空において除去し、白色固体残留物を、5×50mLの部分のエーテルで抽出した。副生成物のm−クロロ安息香酸を、エーテル洗浄物中に完全に抽出し、黄白色の液体生成物が残留した。
スルホンIL2の合成および特徴づけ
磁石攪拌棒を装入した100mLのフラスコ中で、1.50g(3.9mmol)の1−メチル−3−(2−エチルスルフィド)エチルイミダゾリウムビフ(トリフリル)イミド[前述の2部の生成物]を、50mLのジクロロメタンに溶解し、溶液を、氷浴中で冷却した。冷却した、攪拌した溶液に、20mLのジクロロメタンに溶解した1.99gのm−クロロペルオキシ安息香酸(アッセイにより66.9%の過酸化物活性、7.8mmolの活性過酸化物)の溶液を滴加した。この溶液を、室温に加温し、この間白色沈殿が生成した。14時間攪拌した後に、溶媒を、真空において除去し、白色固体残留物を、5×50mLの部分のエーテルで抽出した。副生成物のm−クロロ安息香酸を、エーテル洗浄物中に完全に抽出し、黄白色の液体生成物が残留した。
チオエーテルIL3およびスルホキシドIL3の合成および特徴づけ
250mLの丸底フラスコに、磁石攪拌棒、75mLのトルエンおよび11.55g(120mmol)の1,2−ジメチルイミダゾールを装入した。次に、この溶液に、14.97g(120mmol)の2−(クロロエチル)エチルスルフィドを加えた。凝縮器を取り付け、溶液を、12時間にわたり還流に加熱し、維持した。この間、濃密な黄茶色の液相が、トルエンから分離した。冷却後、トルエン層を分離し、廃棄し、下方のイオン性液体層を、2×50mLのジエチルエーテルで洗浄した。粘性の液体を、真空において一晩乾燥し、この間低融点の黄褐色結晶固体に固化した(18.06g、68%)。
1部からの塩化イミダゾリウム生成物(7.70g、35.0mmol)を、25mLのアセトニトリルに溶解し、10.04g(35.0mmol)のリチウムビス(トリフルオロメタンスルホニルイミド)で処理した。後者の溶解に、LiClの沈殿が迅速に続いた。一晩攪拌した後に、懸濁液を濾過し、溶媒を真空において除去して、イミダゾリウム陽イオンのビス(トリフリル)イミド塩(12.20g、75%)が残留した。
100mLのフラスコに、攪拌棒および1部において単離された塩化物塩4.35g(19.8mmol)を装入した。次に、これを、50mLのジクロロメタンに溶解し、溶液を、0℃に冷却した。冷却した攪拌した溶液に、10mLのジクロロメタンに溶解した5.10gのm−クロロペルオキシ安息香酸(アッセイにより66.9%の過酸化物活性、19.8mmolの活性過酸化物)の溶液を滴加した。この溶液を、室温に加温し、12時間攪拌し、この時点の後に、溶媒を、真空において除去し、白色固体残留物を、5×50mLの部分のエーテルで抽出した。副生成物のm−クロロ安息香酸を、エーテル洗浄物中に完全に抽出し、黄白色のガラスが残留し、これは、NMRにより、尚m−クロロ安息香酸を含むと示された。次に、このガラスを、50/50(v/v)アセトニトリル/メタノールに溶解し、シリカゲル上でクロマトグラフィー分離した。黄白色バンドの溶離により、生成物ILスルホキシド塩化物塩が、黄色のガラスとして得られ、これは、適度の加熱により液化する(2.4g、50%)。
スルホキシドIL4の調製および特徴づけ
スルホキシドIL5の調製および特徴づけ
100mLのフラスコに、磁石攪拌棒および8.0g(94mmol)のN−メチルピロリドンを装入した。アミンに、40mLのアセトニトリルおよび14.0g(96mmol)の2−クロロエチルエチルスルフィドを加えた。次に、溶液を、24時間にわたり還流において加熱し、この時点の後に、揮発性物質を、真空において除去した。粘着性の茶褐色(tan-brown)残留物を、小さい部分のトルエンおよび次にエーテルで繰り返し洗浄した。不純な生成物を、50/50v/vのアセトニトリル/メタノール中に吸収させ、短いシリカカラムを通して濾過した。溶媒を、真空において除去し、黄褐色の固体(5.9g、27%、最適化されていない)が残留した。
100mLのフラスコに、攪拌棒および2.0g(8.6mmol)の1部から単離された塩化ピロリジニウム塩を装入した。この固体に、25mLのアセトニトリルおよび2.5g(8.6mmol)のリチウムビス(トリフルオロメチルスルホニル)イミドを加えた。後者の溶解に、塩化リチウムの沈殿が続き、これを、濾過により除去した。アセトニトリルの蒸発により、粘性の、黄白色液体(3.3g、80%)が得られた。
2部から単離された生成物(6.9mmol)を、磁石攪拌棒をも装入した100mLのフラスコ中で、50mLのジクロロメタンに溶解した。この攪拌した溶液に、10mLのジクロロメタンに溶解した1.78gのm−クロロペルオキシ安息香酸(アッセイにより66.9%の過酸化物活性、6.9mmolの活性過酸化物)を加えた。この溶液を、一晩攪拌し、この時間の間、白色固体が生成した。溶媒を、真空において除去し、白色固体残留物を、4×50mL部分のエーテルで抽出した。副生成物のm−クロロ安息香酸を、エーテル洗浄物中に抽出し、粘性の無色の液体生成物が残留した。
THF付加イオン性液体1の合成および特徴づけ
アルゴンの雰囲気下で、攪拌棒を備え、還流凝縮器を取り付けた100mLのフラスコに、トルエンに溶解したトリブチルホスフィン(24.6mmolホスフィン)の50重量%溶液10.0gを装入した。不活性雰囲気を維持しながら、3.0g(25.0mmol)の塩化テトラヒドロフルフリルを加え、溶液を、還流とした。12時間後、白色固体が沈殿し、これを、濾過により単離した(7.49g、94%)。
1部において単離された固体塩化物塩を、75mLのアセトニトリルに溶解し、無色の溶液が得られた。この攪拌した溶液に、6.64g(23mmol)のリチウムビス(トリフルオロメチルスルホニル)イミドを加えた。前者をアセトニトリルに溶解した後、短い時間内に、塩化リチウムの沈殿が続いた。2時間にわたり攪拌した後、固体を、濾過により除去し、溶媒を、真空において除去した。残留した無色の油状物を、3×20mLのエーテルで洗浄し、真空において乾燥し、無色油状物(10.8g、82%)が残留した。
THF付加IL2の合成および特徴づけ
環式アミド付加IL1の合成および特徴づけ
環式アミド付加IL2の合成および特徴づけ
還流凝縮器を取り付けた250mLのフラスコに、攪拌棒、100mLのアセトニトリルおよび5g(35mmol)のN−(3−アミノプロピル)ピロリジノンを装入した。攪拌した溶液に、17gの重炭酸ナトリウム(過剰)および26.6g(158mmol)のヨウ化プロピルを加えた。溶液/懸濁液を、12時間還流に加熱した。冷却後、固体を、濾過により除去し、溶媒を、真空において除去し、黄褐色の固体が残留した。固体を、分光学的に決定して、不純であった。次に、これを、10mLのアセトニトリルに溶解し、シリカカラム(2cm×16cm)上に負荷させた。カラムを、純粋なアセトニトリルから純粋なメタノールまで変化する溶媒勾配を用いて溶離させた。メタノールが豊富なフラクションを有する生成物が、溶離した。溶媒を、真空において除去し、白色固体(6.8g、20mmol、57%)が残留した。
1部からの生成物を、50mLのアセトニトリルに溶解し、5.7g(20mmol)のリチウムビス(トリフルオロメチルスルホニル)イミドで処理した。短い時間内に、後者は溶解し、次にこれに、塩化リチウムの沈殿が続いた。一晩攪拌した後、固体を、濾過により除去し、溶媒を、真空において除去し、無色の粘性の液体が残留した。
非環式アミドIL1の合成および特徴づけ
攪拌棒を装入し、アルゴンを流した250mLのフラスコ中で、10.0g(80mmol)のN−(3−アミノプロピル)イミダゾールを、100mLのジエチルエーテルに溶解した。攪拌した溶液に、6.3g(80mmol)の塩化アセチルを滴加した。数秒以内に、溶液は、アセチルアミノプロピルイミダゾール塩の塩酸塩が沈殿するのに伴って、濁った。1時間攪拌した後に、生成物を、濾過により単離し、2×10mLのエーテルで洗浄し、真空において乾燥した(16.2g、80mmol、100%)。
1部において単離された塩酸塩を、25mLの水に溶解し、化学量論量の固体水酸化ナトリウムペレットを、小さい部分において加え、溶液温度が、50℃を超えないように注意した。いくらかの顆粒状の結晶固体が、反応が進行するに従って生成した。3時間後、溶液を、3×100mLのジクロロメタンで抽出した。この抽出物を混ぜ合わせ、無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、溶媒を、真空において除去した。単離された生成物は、無色液体(11.7g、88%)であった。
2部において単離された、アセチル化イミダゾール生成物(70mmol)を、磁石攪拌棒および還流凝縮器を取り付けたフラスコ中で、50mLのジクロロメタンに溶解した。攪拌した溶液に、10.0g(70.4mmol)のヨウ化メチルを加えた。溶液を、40℃に12時間にわたり加熱し、この時点の後に、溶媒および過剰のヨウ化メチルを、真空において除去した。残留物を、2×25mLのエーテルで洗浄し、真空において乾燥し、無色の半固体(21g、68mmol)が残留した。
3部の生成物(21g)を、100mLのアセトニトリルに溶解し、7.5g(72mmol)のテトラフルオロホウ酸アンモニウムを、固体として加えた。得られた懸濁液を、一晩攪拌し、この時間の後に、溶媒を、真空において除去した。粘着性の残留物を、4×100mLのジクロロメタンで抽出し、固体を、濾過により除去した。真空における溶媒の除去により、所望の生成物が、粘性液体(21.1g、78%)として得られた。
非環式アミドIL2の合成および特徴づけ
尿素官能基を含む非環式アミドIL3の合成および特徴づけ
アミン付加IL1の合成および特徴づけ
アミン付加IL2の合成および特徴づけ
アミン付加IL3の合成および特徴づけ
アミン付加IL4の合成および特徴づけ
アミン付加IL5の合成および特徴づけ
アミン付加IL6の合成および特徴づけ
アミン付加IL7の合成および特徴づけ
フルオロアルコールIL1の合成および特徴づけ
フルオロケトンIL1の合成および特徴づけ
ホスホラミドIL1の合成および特徴づけ
結合した酸性基を有する課題に特異的なイオン性液体(TSIL)の合成および使用
出発物質N−ブチルイミダゾール、トリフェニルホスフィン、1,4−ブタン−スルトンおよび1,3−プロパン−スルトンを、Aldrichから購入した。出発物質トリブチルホスフィンを、Cytecから購入した。試薬トリフルオロメタンスルホン酸(Aldrich)、p−トルエンスルホン酸水和物(Aldrich)およびビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド(Rhodia)を、商業的に購入した。溶媒トルエン(Fischer)、アセトニトリル(Fischer)およびジエチルエーテル(Fischer)を、さらに精製せずに用いた。1H NMR(300MHz)および13C NMR(75MHz)スペクトルを、D2O中で、JOEL Eclipse 300 NMR分光計上で得た。化学シフトを、百万あたりの部(ppm、δ)において報告し、D2O(δ 4.88)を参照した。
1,4−ブタンスルトン(47.83g、0.3513mol)のアセトニトリル溶液(150cm3)に、N−ブチルイミダゾール(43.62g、0.3513mol)を、小さい部分において加えた。混合物を加熱し、還流において一晩攪拌した。溶液を、真空において濃縮し、固体双性イオンが得られた。双性イオンを、ジエチルエーテル(50cm3)で洗浄し、真空において回転蒸発器で、続いて機械的ポンプを用いて一晩真空により乾燥した。90.15gの白色固体の双性イオン中間体が得られた(収率98.6%)。乾燥した双性イオン(8.85g、0.03332mol)の試料に、純粋なトリフルオロメタンスルホン酸(5.10g、0.03332mol)を加えた。混合物を、室温において12時間攪拌し、粘性のイオン性液体生成物(13.95g、100%)の生成がもたらされた。
1,3−プロパンスルトン(19.80g、0.1621mol)のトルエン溶液(200cm3)中に、トリフェニルホスフィン(42.52g、0.1621mol)を、小さい部分で加えた。混合物を加熱し、還流において一晩攪拌した。次に、溶液を、真空において回転蒸発器で濃縮した。得られた固体双性イオンを、ジエチルエーテル(50cm3)で洗浄し、真空において回転蒸発器および機械的ポンプで乾燥した(61.88g、99.3%)。乾燥した双性イオンの部分(3.47g、0.009034mol)を、固体p−トルエンスルホン酸水和物(1.72g、0.009034mol)を加えることにより酸性化した。固体の混合物を、45℃〜60℃に一晩加温し、攪拌し、固体の液化がもたらされた;液体の冷却の後に、堅いガラスが生成し、これは、85℃より低い温度で再び液化する。最初の塩中の水の存在(塩の1moleあたり7〜10分子)により、一層低い融点が誘発される。無水塩は、180℃において溶融する。
トリブチルホスフィン(トルエン中50重量%、0.0222mol)のトルエン溶液(10.0cm3)中に、1,3−プロパンスルトン(2.72g、0.02227mol)を加えた。混合物を加熱し、還流において一晩、アルゴン雰囲気下で攪拌し、白色沈殿の生成がもたらされた。次に、この溶液を、真空において回転蒸発器で、この最初の容積の半分に濃縮し、次に固体生成物を、濾過により単離した。双性イオンを、ジエチルエーテル(50cm3)で洗浄し、真空において回転蒸発器および機械的ポンプで乾燥した(4.77g、66%)。乾燥した双性イオン(4.00g、0.0123mol)を、固体ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド(3.47g、0.0123mol)を加えることにより酸性化した。混合物を、50℃において一晩、アルゴンの下で加熱し、固体の液化およびいくらか粘性の液体(7.45g、99%)の生成がもたらされ、これは、温和な(45℃)加熱の際にも粘度が低下する。
IL2(2.1g、4.0mmol)に、シリンジにより、酢酸(1.0mL、17.5mmol)およびエタノール(1.0mL、17.5mmol)を加えた。反応混合物を、175℃(外部温度)の最大温度に、45分にわたり加温した。反応の完了が、最大温度に達する前に観察されたが、反応装備/ILの再使用により、すべての揮発性成分を、次のサイクルの前に蒸留により除去することが必要になった。各々のサイクルと共に、反応の完了を、GC分析[GC((HP−1メチルシロキサン;f=1.0mL/分)50℃(2分)、10℃/分、275℃(10分))3.21分(EtOH)、3.37分(EtOAc)、3.42分(AcOH)]により確認し、得られた蒸留物の質量により立証した。各々のサイクルにより、純粋な酢酸エチルが、認識可能な量の出発物質を伴わずに(EtOH/EtOAc共沸によるEtOHの<7%の推定の損失(31重量%および78℃の沸点))得られた。二相混合物を分離し、生成物の生成に考慮したのは、3.3%の最大の水含量であった。
本明細書中に引用したすべての特許明細書および刊行物を、参照により本明細書中に組み込む。
当業者は、常習的を超えない実験を用いて、本明細書中に記載した本発明の特定の態様の多くの等価物を認識するか、または確認することができる。このような等価物は、特許請求の範囲により包含されることを意図する。
Claims (15)
- R5が、各々の存在について独立してアルキルを表す、請求項1に記載の塩。
- Zが、−SO3Hまたは−NH2を表す、請求項1に記載の塩。
- Zが、−SO3Hまたは−NH2を表し;X−が、ビス(トリフルオロメタンスルホニル)アミドを表す、請求項1に記載の塩。
- Zが、−SO3Hまたは−NH2を表し;R5が、各々の存在について独立してアルキルを表す、請求項1に記載の塩。
- Zが、−SO3Hまたは−NH2を表し;X−が、ビス(トリフルオロメタンスルホニル)アミドを表し;R5が、各々の存在について独立してアルキルを表す、請求項1に記載の塩。
- 二酸化炭素、硫化カルボニル、二酸化硫黄、三酸化硫黄、硫化水素または1つのカルボニル含有化合物を、1つの気体状または液体状混合物から除去する方法であって、1つの気体状または液体状混合物を、
3:
式中、
Rは、各々の存在について独立して、アルキルを表し;
R3は、各々の存在について独立して、H、Fまたはアルキルを表し;
R4は、各々の存在について独立して、Hまたはアルキルを表し;
R5は、各々の存在について独立して、Hまたはアルキルを表し;
Lは、(C(R3)2)nを表し;
Zは、−SO3H、−S−アルキル、−S(O)−アルキル、−S(O2)−アルキルまたは−NH2を表し;
X−は、トリフルオロメタンスルホネートまたはビス(トリフルオロメタンスルホニル)アミドを表し;
nは、各々の存在について独立して、両端を含む1〜10の範囲内の整数を表す、
により表される塩
からなる群から選択された1つの塩に暴露する段階を含む、前記方法。 - Zが、各々の存在について独立して−NH2を表す、請求項7に記載の方法。
- 前記気体状または液体状混合物が、天然ガスである、請求項7に記載の方法。
- Zが、各々の存在について独立して−NH2を表し;前記気体状または液体状混合物が、天然ガスである、請求項7に記載の方法。
- 二酸化炭素、硫化カルボニル、二酸化硫黄、三酸化硫黄、硫化水素または1つのカルボニル含有化合物を、1つの第1の気体状または液体状混合物から1つの第2の気体状または液体状混合物に輸送する方法であって、1つの第1の気体状または液体状混合物を、
3:
式中、
Rは、各々の存在について独立して、アルキルを表し;
R3は、各々の存在について独立して、H、Fまたはアルキルを表し;
R4は、各々の存在について独立して、Hまたはアルキルを表し;
R5は、各々の存在について独立して、Hまたはアルキルを表し;
Lは、(C(R3)2)nを表し;
Zは、−SO3H、−S−アルキル、−S(O)−アルキル、−S(O2)−アルキルまたは−NH2を表し;
X−は、トリフルオロメタンスルホネートまたはビス(トリフルオロメタンスルホニル)アミドを表し;
nは、各々の存在について独立して、両端を含む1〜10の範囲内の整数を表す、
により表される塩
からなる群から選択された1つの塩に暴露し、
その後前記塩を、1つの第2の気体状または液体状混合物に暴露し、これにより、二酸化炭素、硫化カルボニル、二酸化硫黄、三酸化硫黄、硫化水素または1つのカルボニル含有化合物を、前記第2の気体状または液体状混合物に輸送する段階を含む、前記方法。 - Zが、各々の存在について独立して−NH2を表す、請求項11に記載の方法。
- 前記塩が、1つの半透膜内に含まれる、請求項11に記載の方法。
- Zが、各々の存在について独立して−NH2を表し;前記塩が、1つの半透膜内に含まれる、請求項11に記載の方法。
- 1つの溶液の製造方法であって、1つの溶質と1つの溶媒とを混ぜ合わせて、1つの溶液を得る段階を含み、ここで、前記溶媒を:
3:
式中、
Rは、各々の存在について独立して、アルキルを表し;
R3は、各々の存在について独立して、H、Fまたはアルキルを表し;
R4は、各々の存在について独立して、Hまたはアルキルを表し;
R5は、各々の存在について独立して、Hまたはアルキルを表し;
Lは、(C(R3)2)nを表し;
Zは、−SO3H、−S−アルキル、−S(O)−アルキル、−S(O2)−アルキルまたは−NH2を表し;
X−は、トリフルオロメタンスルホネートまたはビス(トリフルオロメタンスルホニル)アミドを表し;
nは、各々の存在について独立して、両端を含む1〜10の範囲内の整数を表す、
により表される塩
からなる群から選択する、前記方法。
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