JP6478775B2 - アミン化合物及びイオン導電剤、導電性樹脂組成物 - Google Patents

アミン化合物及びイオン導電剤、導電性樹脂組成物 Download PDF

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Description

本発明は、アミン化合物及びイオン導電剤、導電性樹脂組成物に関する。
近年、液晶ディスプレイ、光学用レンズ等の精密機器、自動車部品、光ディスク等の磁気記録媒体用基材、半導体用素材などの保護フィルム等様々な分野で合成樹脂が利用されている。合成樹脂は、ガラス製品に比較して軽量で強靭性に優れる半面、帯電しやすく、ホコリが付着しやすいという問題があった。これを解決するために、導電性樹脂組成物として、例えば、絶縁性の樹脂にイオン導電剤等の添加剤を添加し、導電性を付与させる対策が行われている。この場合、樹脂中への添加剤の均一分散が容易なため、均一な導電性を樹脂に付与することができる。一方、時間の経過とともに樹脂中に存在しているイオン導電剤が樹脂表面に移行し、表面がベタついたり、接触物を汚染してしまったりする問題（ブリード）があった。
これらの課題を解決するために、例えば、末端ヒドロキシ基を保有するイオン導電剤が報告されている（特許文献１）。しかし、時間の経過とともに樹脂中に存在しているイオン導電剤が樹脂表面に移行してしまう課題を十分に解決するには満足できるものではなく、更に、樹脂との反応性の良いイオン導電剤の開発が求められている。一方、末端にアミノ基を保有する導電剤が知られているが、合成反応の溶媒や精製の用途に限定されるものであった。（特許文献２〜４）。
特開２００９−１４４０５１号公報 米国特許第８０５３５８９号 特表２００６−５００４１８号公報 国際特許出願ＷＯ２００３０８６６０５号
本発明の目的は、導電性に優れたアミン化合物及びイオン導電剤を提供することである。また、本発明の目的は、該アミン化合物を用いることでブリードを抑制し、導電性に優れた導電性樹脂組成物を提供することである。
上記課題は、以下のアミン化合物を用いることによって達成することが可能である。
即ち、本発明は、下記一般式（１）で表わされる構造を有することを特徴とするアミン化合物に関する。
Figure 0006478775
 一般式（１）中、
Ｒ１〜Ｒ３は、各々独立に、炭素数１以上２０以下のアルキル基、または、Ｒ１〜Ｒ３から選択されるいずれか２つが結合して１個の窒素原子とともに環構造を形成するに必要な原子群を表し、
Ｒ４〜Ｒ７は独立して水素原子、または、炭素数１以上、２０以下のアルキル基を表し、
Ｒ８ は炭素数１以上２０以下のアルキル基、または炭素数１以上２０以下のアミノアルキル基を表し、
Ｒ９〜Ｒ１０は、
各々独立に、フッ素原子または、炭素数が１以上、８以下のパーフルオロアルキル基を表すか、または、
Ｒ９とＲ１０とが互いに結合して、２個の硫黄原子および１個の窒素原子とともにフッ素原子を含む環構造を形成するに必要な原子群を表す。
また、ｎおよびｍは各々独立して１〜２０の整数を表す。
また、本発明は、上記のアミン化合物を含有することを特徴とするイオン導電剤、導電性樹脂組成物に関する。
本発明によれば、導電性に優れたアミン化合物及びイオン導電剤を提供することが可能である。また、該アミン化合物と樹脂を架橋させた場合には、樹脂にアミン化合物が固定されるため、ブリードが抑制され、導電性に優れた導電性樹脂組成物を提供することが可能である。
本発明の一般式（１）で表される構造を有するアミン化合物の１つである化合物（２）のＣＤＣｌ3中、室温、４００ＭＨｚにおける1Ｈ−ＮＭＲスペクトルを表す図である。 本発明の樹脂組成物の電流値測定機の概略を表す図である。
以下に、本発明を更に詳細に説明する。
本発明者らは、上記の課題を解決すべく鋭意検討を行った結果、構造中にアミン構造を保有する下記一般式（１）で表される構造を有するアミン化合物が、導電性に非常に優れることを見出した。また、該アミン化合物は、イオン導電剤となることも見出し本発明に至った。更に、該アミン化合物と樹脂を架橋させた導電性樹脂組成物は、樹脂にアミン化合物が固定されるため、ブリードが抑制され、導電性に優れることを見出し本発明に至った。
Figure 0006478775
 一般式（１）中、
Ｒ１〜Ｒ３は、各々独立に、炭素数１以上２０以下のアルキル基、または、Ｒ１〜Ｒ３から選択されるいずれか２つが結合して１個の窒素原子とともに環構造を形成するに必要な原子群を表し、
Ｒ４〜Ｒ７は独立して水素原子、または、炭素数１以上２０以下のアルキル基を表し、
Ｒ８ は炭素数１以上２０以下のアルキル基、または炭素数１以上２０以下のアミノアルキル基を表し、
Ｒ９〜Ｒ１０は、
各々独立に、フッ素原子または、炭素数が１以上８以下のパーフルオロアルキル基を表すか、または、
Ｒ９とＲ１０とが互いに結合して、２個の硫黄原子および１個の窒素原子とともにフッ素原子を含む環構造を形成するに必要な原子群を表す。
また、ｎおよびｍは各々独立して１〜２０の整数を表す。
まず、一般式（１）で表される構造を有するアミン化合物について説明する。
一般式（１）中、Ｒ１〜Ｒ３におけるアルキル基としては、特に限定されるものではないが、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉｓｏ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、オクチル基、ドデシル基、ノナデシル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、メチルシクロヘキシル基、２−エチルプロピル基、２−エチルヘキシル基、シクロヘキセニルエチル基等の飽和、または、不飽和の直鎖状、分岐状、もしくは、環状の炭素数１〜２０個の１級〜３級のアルキル基が挙げられる。特に、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉｓｏ−プロピル基、ｎ−ブチル基等の炭素数１以上４以下のアルキル基の場合が好ましく、特にメチル基の場合が、導電性に優れるため好ましい。
一般式（１）中、Ｒ１〜Ｒ３から選択されるいずれか２つが結合して１個の窒素原子とともに形成する環としては、特に限定されるものではないが、ピロリジン環、ピリジン環、インダゾリン環、１,４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン環、ピペリジン環等が挙げられる。
一般式（１）中、Ｒ４〜Ｒ７におけるアルキル基としては、特に限定されるものではないが、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉｓｏ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、オクチル基、ドデシル基、ノナデシル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、メチルシクロヘキシル基、２−エチルプロピル基、２−エチルヘキシル基、シクロヘキセニルエチル基等の飽和、または、不飽和の直鎖状、分岐状、もしくは、環状の炭素数１〜２０個の１級〜３級のアルキル基が挙げられる。
Ｒ４〜Ｒ ７ は、水素原子の場合が、導電性に優れるため好ましい。
一般式（１）中、Ｒ８におけるアルキル基としては、特に限定されるものではないが、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉｓｏ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、オクチル基、ドデシル基、ノナデシル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、メチルシクロヘキシル基、２−エチルプロピル基、２−エチルヘキシル基、シクロヘキセニルエチル基等の飽和、または、不飽和の直鎖状、分岐状、もしくは、環状の炭素数１〜２０個の１級〜３級のアルキル基が挙げられる。
一般式（１）中、Ｒ８におけるアミノアルキル基としては、特に限定されるものではないが、例えば、アミノエチル基、アミノブチル基、アミノオクチル基、アミノドデシル基、アミノノナデシル基等が挙げられる。
特に、一般式（１）中、Ｒ８におけるアミノアルキル基が、下記一般式（２）に示すように、他の末端アミノ基と同じになると、導電性に優れるため好ましい。
Figure 0006478775
一般式（１）中、Ｒ９およびＲ１０におけるパーフルオロアルキル基としては、特に限定されるものではないが、例えば、トリフルオロメチル基、パーフルオロエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロオクチル基等があげられる。特に、トリフルオロメチル基、パーフルオロエチル基の場合、導電性に優れるため好ましい。
一般式（１）中、Ｒ９およびＲ１０が互いに結合して、２個の硫黄原子および１個の窒素原子とともに形成するフッ素原子を含む環としては、特に限定されるものではないが、以下の構造が挙げられる。
Figure 0006478775
本発明にかかる一般式（１）で表される構造を有するアミン化合物は、Ｊｏｕｒｎａｌｏｆ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，１９８５，６０，４５３６（ガブリエル反応）、ハロゲン化アルキルに対する３級アミンの求核反応によるハロゲン化４級アンモニウム塩の合成、ハロゲン化４級アンモニウム塩とフッ素系アニオン化合物のアルカリ金属塩とのアニオンの交換反応等を組み合わせることによる公知の方法を参考にして合成することが可能である。
本発明の上記一般式（１）で表される構造を有するアミン化合物の製造方法について、以下に一態様を示すが、製造方法がこれに限定されるわけではない。
Figure 0006478775
なお、上記反応式中の各化合物、及び、一般式（１）で表わされる構造を有する化合物中のＲ1乃至Ｒ１０、ｎ、ｍは、前述したものと同義である。また、ＭはＬｉ、Ｋ、Ｎａ等のアルカリ金属を表す。
即ち、本発明の一般式（１）で表わされるアミン化合物は、（１）アミノ化工程、（２）ハロゲン置換工程、（３）４級塩化工程、（４）脱保護工程（ガブリエル反応工程）、（５）塩交換工程（アニオン交換工程）を経て得ることができる。
＜（１）アミノ化工程に関して＞
まず、３級アミン中間体（１）を得るアミノ化工程に関して説明する。
アミノ化工程は、アミノアルコールとハロゲン化合物を反応させることで３級アミン中間体（１）を得る工程である。
アミノ化工程は、無溶媒で反応を行なうことも可能であるが、溶媒の存在下で行うことが好ましい。溶媒としては反応に関与しないものであれば特に制限はなく、例えば、アセトニトリル、ヘプタン、トルエン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（以下、ＤＭＦと略する）等が挙げられる。また、２種以上の溶媒を混合して用いることもでき、混合使用の際の混合比は任意に定めることができる。特にＤＭＦが、好ましい。
上記反応溶媒の使用量は、アミノアルコールに対し、０．１乃至１０００質量％の範囲で用いることが好ましく、より好ましくは１．０乃至１５０質量％である。
また、アミノ化工程では、反応を速やかに進行させるために塩基を使用することが好ましい。用いることができる塩基としては、反応に関与しないものであれば特に制限はないが、例えば、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸バリウム、炭酸カルシウム、炭酸カリウム等の無機塩基が挙げられる。上記塩基の使用量は、アミノアルコールに対し０．０１乃至１００質量％であることが好ましく、より好ましくは０．１乃至２０質量％、さらに好ましくは０．５乃至５質量％の範囲である。反応終了後、再結晶、シリカゲルクロマトグラフィーの如き精製を行なうことによって所望の３級アミン中間体（１）を得ることができる。
アミノ化工程の反応温度は、−２０℃乃至２５０℃の範囲で行なわれることが好ましく、より好ましくは０℃乃至１５０℃である。反応は通常４８時間以内に完結する。
＜（２）ハロゲン置換工程に関して＞
次に、ハロゲン化物中間体（１）を得るハロゲン置換工程に関して説明する。
ハロゲン置換工程は、３級アミン中間体（１）のヒドロキシ基をハロゲン原子に求核置換反応させてハロゲン化物中間体（１）を得る工程である。
ハロゲン置換工程に使用することのできるハロゲン化剤としては、特に制限はないが、例えば、塩化チオニルや塩化スルフリル、三臭化リン、ｐ−トルエンスルホン酸クロライド、メタンスルホン酸クロライド、４臭化炭素等をあげることができる。次工程の反応性をあげるために、三臭化リン、４臭化炭素等を用いることが好ましい。
ハロゲン置換工程は、無溶媒で反応を行なうことも可能であるが、溶媒の存在下で行うことが好ましい。溶媒としては反応に関与しないものであれば特に制限はなく、例えば、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム等のハロゲン系溶媒が好ましい。
ハロゲン置換工程の反応温度は、−２０℃乃至２５０℃の範囲で行なわれることが好ましく、より好ましくは０℃乃至１５０℃である。反応は通常２４時間以内に完結する。
反応終了後、再結晶、シリカゲルクロマトグラフィーの如き精製を行なうことによって所望のハロゲン化物中間体（１）を得ることができる。
＜（３）４級塩化工程に関して＞
次に、４級塩中間体（１）を得る４級塩化工程に関して説明する。
４級塩化工程は、ハロゲン化アルキルと３級アミンを反応させて、４級塩を得る工程である。
４級塩化工程は、無溶媒で反応を行なうことも可能であるが、溶媒の存在下で行うことが好ましい。溶媒としては反応に関与しないものであれば特に制限はなく、例えば、アセトニトリル、ヘプタン、トルエン、ＤＭＦ等が挙げられる。また、２種以上の溶媒を混合して用いることもでき、混合使用の際の混合比は任意に定めることができる。特にアセトニトリルが、好ましい。
４級塩化工程で用いられることができる３級アミンとしては、特に制限されるものではないが、例えば、以下に示す３級アミン（１）〜（１１）を好適にあげることができる。
Figure 0006478775
 特に、３級アミン（１）、（２）、（７）、（１０）が導電性に優れるため好ましい。
４級塩化工程の反応温度は、−２０℃乃至２５０℃の範囲で行なわれることが好ましく、より好ましくは０℃乃至１５０℃である。反応は通常４８時間以内に完結する。３級アミンの沸点が低い場合は、耐圧密閉容器を用いて反応を行う。
反応終了後、再結晶、シリカゲルクロマトグラフィーの如き精製を行なうことによって所望の４級塩中間体（１）を得ることができる。
＜（４）脱保護工程（ガブリエル反応工程）に関して＞
次に、３級アミン中間体（２）を得るガブリエル反応工程に関して説明する。
４級塩にヒドラジン一水和物を反応させて、３級アミン中間体（２）を得る工程である。
ガブリエル反応工程は、無溶媒で反応を行なうことも可能であるが、溶媒の存在下で行うことが好ましい。溶媒としては反応に関与しないものであれば特に制限はなく、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、アセトニトリル、ヘプタン、トルエン、ＤＭＦ等が挙げられる。また、２種以上の溶媒を混合して用いることもでき、混合使用の際の混合比は任意に定めることができる。特にメタノール、エタノール、プロパノールが、好ましい。
ガブリエル反応工程の反応温度は、−２０℃乃至２５０℃の範囲で行なわれることが好ましく、より好ましくは０℃乃至１５０℃である。反応は通常４８時間以内に完結する。 反応終了後、再結晶、シリカゲルクロマトグラフィーの如き精製を行なうことによって所望の３級アミン中間体（２）を得ることができる。
＜（５）塩交換工程（アニオン交換工程）に関して＞
次に、一般式（１）の１態様を得るアニオン交換工程に関して説明する。
３級アミン中間体（２）とフッ素系アニオン化合物のアルカリ金属塩とのアニオンの交換反応によって、目的物を得る工程である。
アニオン交換工程で使用する溶媒は、水、アルコール、アセトン、アセトニトリル等の極性溶媒や、ヘキサン、ヘプタン等の非極性溶媒が挙げられる。使用する溶媒は生成するイオン導電剤の性質を考慮して選択することができる。例えば、生成するイオン導電剤が、非水溶性の場合は、溶媒として水を使用して反応を行うことが好ましい。さらに、得られた反応液を水で洗浄することで副生成するハロゲン化金属塩を容易に取り除くことができる。一方、生成するイオン導電剤が水溶性の場合は、副生成するハロゲン化金属塩が溶解しない溶媒を選択して用いると、容易に取り除くことができる。
アニオン交換工程で用いられることができるフッ素系アニオン化合物のアルカリ金属塩としては、特に制限されるものではないが、例えば、以下に示すアニオン化合物（１）〜（８）を好適にあげることができる。
Figure 0006478775
 特に、アニオン化合物（１）、（２）、（３）、（５）、（７）が、扱いやすく、導電性に優れるため好ましい。
また、ハロゲンイオンの捕集剤を用いることができる。ハロゲンイオンの捕集剤としては、特に制限されるものではないが、硝酸銀、イオン交換樹脂等が挙げられる。
反応終了後、シリカゲルクロマトグラフィーの如き精製を行なうことによって目的物を得ることができる。
本発明のアミン化合物の好ましい例として、化合物（１）乃至（１１）を以下に示すが、下記の化合物に限定されるものではない。
Figure 0006478775
Figure 0006478775
Figure 0006478775
Figure 0006478775
Figure 0006478775
Figure 0006478775
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Figure 0006478775
Figure 0006478775
Figure 0006478775
Figure 0006478775
本発明のアミン化合物は、少なくとも０〜３００℃の範囲の一定温度において、カチオンとアニオンからなる溶融塩となる性質があることから、イオン導電剤として好適に用いることができる。
＜導電性樹脂組成物について＞
本発明のアミン化合物を用いることで、ブリードが抑制され、導電性に優れた導電性樹脂組成物が得られる。
本発明の導電性樹脂組成物について説明する。
本発明の導電性樹脂組成物は、本発明のアミン化合物と熱可塑性樹脂、紫外線硬化樹脂、ゴム、粘着剤等の汎用樹脂とを直接混練することにより得ることができる。ここで言う熱可塑性樹脂、紫外線硬化樹脂、ゴム、粘着剤等の汎用樹脂は、ポリイソシアネート基（ポリイソシアネート化合物）を保有していても、保有していなくても良い。
本発明で用いられる熱可塑性樹脂としては、特に限定されるものではないが、例えば、ポリオレフィン系樹脂、ポリアクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、エポキシ樹脂等が挙げられる。
本発明で用いられる紫外線硬化樹脂としては、特に限定されるものではないが、例えば、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
本発明で用いられるゴムとしては、特に限定されるものではないが、例えば、アクリルゴム、ウレタンゴム、スチレン−ブタジエン共重合体ゴム、エピクロルヒドリン−エチレンオキサイド共重合体ゴム、エピクロルヒドリン−エチレンオキサイド−アリルグリシジルエーテル共重合体ゴム、アクリロニトリル−ブタジエンゴム、エピクロルヒドリンゴム、シリコンゴム、等が挙げられる。
本発明で用いられる粘着剤としては、特に限定されるものではないが、アクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、シリコン系粘着剤等が挙げられる。
また、アミン化合物とポリイソシアネート基保有物質（ポリイソシアネート化合物）とを混合し、ポリオール化合物と共に架橋させ、ウレタン樹脂とすることもできる。架橋させたウレタン樹脂は、本発明のアミン化合物が、イソシアネート基保有物質と架橋し高分子中に固定される。そのため、時間の経過とともに樹脂中に存在しているイオン導電剤が樹脂表面に移行するブリードを抑制でき、保存安定性に優れる効果を奏することができる。
本発明で用いられるポリイソシアネート基保有物質として、イソシアネート基を２つ以上保有するものであれば、特に限定されるものではないが、例えば、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート（ＭＤＩ）、イソホロンジイソシアネート、４，４’−ジシクロヘキシルジイソシネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、カルボジイミド変性ジイソシアネート、ポリメチレンフェニルポリイソシアネート、オルトトルイジンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート、キシレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、パラフェニレンジイソシアネート、リジンジイソシアネートメチルエステル、ジメチルジイソシアネート等が挙げられる。これらは、単独でも、２種以上を組み合わせて用いても良い。
本発明で用いられるポリオール化合物として、水酸基を２つ以上保有するものであれば、特に限定されるものではない。具体的には、ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリカーボネートポリオール等を用いることができる。特に好ましくはアルキレンオキサイド構造を有するポリエーテルポリオールである。これらは、単独でも、２種以上を組み合わせて用いても良い。
本発明で用いられる導電性樹脂組成物におけるアミン化合物の使用量は、目的とする導電性の程度に応じて適宜変更することができる。
熱可塑性樹脂、紫外線硬化樹脂、ゴム、粘着剤等の汎用樹脂１００質量部に対して、０．００１〜１００質量部の範囲であり、好ましくは０．０１〜５０質量部であり、特に好ましくは０．１〜１０質量部である。
また、ポリイソシアネート基保有の熱可塑性樹脂、紫外線硬化樹脂、ゴム、粘着剤等の汎用樹脂１００質量部に対して、０．００１〜１００質量部の範囲であり、好ましくは０．５〜２０質量部であり、特に好ましくは０．５〜５質量部である。配合量が０．５質量部以上の場合には、導電剤添加による導電性の付与効果を容易に得ることができる。５質量部以下の場合には、電気抵抗の経時変化を低減させることができる。
本発明の導電性樹脂組成物は、本発明の効果を損なわない範囲で、ポリイソシアネート基保有物質に配合剤を添加しても良い。例えば、顔料、染料、界面活性剤、可塑剤、紫外線吸収剤、充填剤、軟化剤、加工助剤、粘着付与剤、粘着防止剤、分散剤、発泡剤等をあげることができる。
本発明の導電性樹脂組成物を混練し、フィルム状、シート状、ロール状等の成型体を得ることが出来る。
以上のように、本発明の導電性樹脂組成物は、本発明のアミン化合物が、架橋して構成されているため、ブリードが抑制され、導電性に優れる導電性樹脂組成物を提供することができる。
以下、実施例及び比較例を挙げて、本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。なお、文中「部」及び「％」とあるのは特に断りのない限り質量基準である。得られた化合物の同定は、1Ｈ核磁気共鳴分光分析（1Ｈ−ＮＭＲ）装置（ＥＣＡ−４００、日本電子（株）製）、及び、ＬＣ／ＴＯＦ ＭＳ（ＬＣ／ＭＳＤ ＴＯＦ、Ａｇｉｌｅｎｔ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ社製）装置を用いて行った。
［一般式（１）で表される構造を有するアミン化合物の製造］
本発明の一般式（１）で表わされる構造を有するアミン化合物は、公知の方法によって合成することが可能である。
以下に記載する方法で本発明の一般式（１）で表される構造を有するアミン化合物を製造した。
＜製造例１：化合物（２）の製造＞
Figure 0006478775
ジブロモドデカン５０ｇ（１５２ｍｍｏｌ）のジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）３８０ｍＬ溶液に、フタルイミドカリウム３９．５ｇ（２１３ｍｍｏｌ）を添加し、室温で３日間撹拌した。反応終了後、酢酸エチル２Ｌで希釈し、水２Ｌで洗浄し、次に飽和食塩水２Ｌで洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで洗浄した後、ろ過し、有機層を減圧下乾燥した。シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して２４．１ｇ（６１ｍｍｏｌ）（収率４０％）のハロゲン化合物を得た。
１２−アミノドデカノール３．４２ｇ（１７ｍｍｏｌ）及び上記で得たハロゲン化合物１４．７ｇ（３７．３ｍｍｏｌ）のジメチルホルムアミド３４ｍＬ溶液に、炭酸水素ナトリウム２．８６ｇ（３４ｍｍｏｌ）を添加し、１００℃で１８時間撹拌した。反応終了後、室温まで冷却し、水３４０ｍＬで希釈した。酢酸エチル３４０ｍＬで分液した後、有機層を水１８０ｍＬで洗浄した。更に飽和食塩水１８０ｍＬで洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで洗浄した後、ろ過し、有機層を減圧下乾燥した。シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して７．８２ｇ（９．４ｍｍｏｌ）（収率５６％）の３級アミン中間体（１）を得た。
窒素雰囲気下、３級アミン中間体（１）４．１４ｇ（５．０ｍｍｏｌ）のジクロロメタン５０ｍＬ溶液に、トリフェニルホスフィン１．５７ｇ（６．０ｍｍｏｌ）及び四臭化炭素２．４８ｇ（７．５ｍｍｏｌ）を加え、室温下、３時間撹拌した。反応終了後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液１００ｍＬを添加し、ジクロロメタン１００ｍＬで抽出し、さらにジクロロメタン１００ｍＬで抽出を２回繰り返した。有機層を合わせ、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、ろ過し、溶媒を減圧下濃縮した。シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して３．８ｇ（４.３ｍｍｏｌ）（収率８５％）のハロゲン化物中間体（１）を得た。
ハロゲン化物中間体（１）３．５ｇ（３．９ｍｍｏｌ）のアセトニトリル３０ｍＬ溶液に、４．３ｍｏｌ／Ｌのトリメチルアミン水溶液４ｍＬを加えた。耐圧密閉容器中、１００℃で１７時間加熱撹拌した。反応溶液を室温まで放冷した後、減圧下、溶媒を濃縮して３．５ｇの４級塩中間体（１）を得た。次に、得られた４級塩中間体（１）３．５ｇをエタノール４０ｍＬに溶解させ、ヒドラジン一水和物をゆっくりと加えた後、５０℃で３時間撹拌した。反応終了後、室温まで冷却し、エタノール１００ｍＬで希釈し、ろ過した。ろ液を減圧下で濃縮して、３．１ｇの３級アミン中間体（２）を得た。更に、３級アミン中間体（２）３．０をイオン交換水２０ｍＬに懸濁させ、リチウムビストリフルオロメタンスルホニルイミド２．３ｇのイオン交換水２０ｍＬ溶液をゆっくり滴下した。１時間撹拌後、デカンテーションで分離し、得られた沈殿物をイオン交換水１０ｍＬで洗浄して、３．８ｇ（４.３ｍｍｏｌ）（ｑｕａｎｔ.）の化合物（２）を得た。
図１に、化合物（２）のＣＤＣｌ3中、室温、４００ＭＨｚにおける1Ｈ−ＮＭＲスペクトルを示す。
［化合物（２）についての分析結果］
［１］1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＤＭＳＯ-ｄ6、室温）：δ（ｐｐｍ）＝１．２０−１．４４（６０Ｈ、ｍ）、１．６４−１．６８（2Ｈ、ｍ）、２．２７−２．３０（５Ｈ、ｍ）、２．６０−２．６４（３Ｈ、ｍ）、３．０３（９Ｈ、ｓ）、３．２３−３．２７（２Ｈ、ｍ）、４.２５（４Ｈ、ｂｒ）。
［２］質量分析（ＥＳＩ−ＴＯＦ）：ｍ／ｚ＝８９０．６０４７（Ｍ＋Ｈ）＋。
＜製造例２〜４：化合物（３）、（５）、（１１）の製造＞
製造例１において、リチウムビストリフルオロメタンスルホニルイミド（アニオン化合物（２））を用いる代わりに、アニオン化合物（５）、（１）、（７）のイミドを用いた以外は、製造例１と同様に合成して、化合物（３）、（５）、（１１）を得、上記分析装置で同定した。
＜製造例５：化合物（４）の製造＞
Figure 0006478775
ハロゲン化物中間体（２）６ｇ（８．８ｍｍｏｌ）のアセトニトリル３０ｍＬ溶液に、４．３ｍｏｌ／Ｌのトリメチルアミン水溶液１０ｍＬを加えた。耐圧密閉容器中、１００℃で３．５時間加熱撹拌した。反応溶液を室温まで放冷した後、減圧下、溶媒を濃縮して７．０ｇの４級塩（２）を得た。次に、得られた４級塩（２）７．０ｇをエタノール９０ｍＬに溶解させ、ヒドラジン一水和物８．８ｍLをゆっくりと加えた後、５０℃で３時間撹拌した。反応終了後、室温まで冷却し、エタノール１００ｍＬで希釈し、ろ過した。ろ液を減圧下で濃縮して、３級アミン中間体（３）を得た。更に、得られた３級アミン中間体（３）をイオン交換水９０ｍＬに溶解させ、リチウムビストリフルオロメタンスルホニルイミド２．６ｇのイオン交換水７０ｍＬ溶液をゆっくり滴下した。水溶液をジクロロメタン１８０ｍLで抽出して、減圧濃縮して、２．２ｇ（３.３ｍｍｏｌ）の化合物（４）を得た。目的物であることを上記分析装置で同定した。
＜製造例６：化合物（８）の製造＞
製造例５において、トリメチルアミン水溶液を用いる代わりに、１−メチルイミダゾール６ｍＬを用いた以外は、製造例５と同様の操作で、５．５ｇの化合物（８）を得た。目的物であることを上記分析装置で同定した。
（実施例１）
＜ウレタン樹脂組成物１の製造＞
ポリエーテルポリオール（商品名ＥＰ５０５Ｓ：三井化学社製）８４．４質量部に対し、イソシアネート（商品名：ミリオネートＭＴ、ＭＤＩ：日本ポリウレタン工業社製）１５．６質量部、化合物（２）を２質量部加え、ＮＣＯ当量が１．４となるようにした。なお、ＮＣＯ当量は、イソシアネート化合物中のイソシアネート基のモル数とポリオール成分中の水酸基のモル数と本件に係るアミン化合物のアミノ基のモル数の比（［ＮＣＯ］／(［ＯＨ］+[ＮＨ２]））を示すものである。次に、総固形分比が３０質量％となるようにメチルエチルケトン(以下ＭＥＫ)を加え混合攪拌し、溶剤キャスト法により厚さ０．５ｍｍのシート状に成膜した。次に、１２０℃に加熱したオーブンで３時間加熱処理することでシート状のウレタン樹脂組成物１を製造した。
（実施例２および３）
実施例１において、化合物（２）を２質量部用いる代わりに、表１に示す部数を用い、ＮＣＯ当量が１．４になるようにポリエーテルポリオールとイソシアネートの添加量を調整した以外は、実施例１と同様の製造方法にてウレタン樹脂組成物２および３を製造した。
（実施例４〜６、および実施例８〜１１）
実施例１において、化合物（２）を用いる代わりに、表１に記載の化合物に変更した以外は、実施例１と同様の方法でウレタン樹脂組成物４〜１０を製造した。
（実施例７）
２質量部の化合物（２）、１００質量部のエピクロルヒドリン−エチレンオキサイド−アリルグリシジルエーテル３元共重合体（ＧＥＣＯ）（商品名：エピクロマーＣＧ−１０２ ダイソー社製）、５質量部の酸化亜鉛、３５質量部の炭酸カルシウム、０．５質量部カーボンブラック(商品名：シーストＳO 東海カーボン社製)、２質量部のステアリン酸を混練し、ゴム組成物Ａを製造した。
上記で得られたゴム組成物Ａに０．５質量部の硫黄、１．５質量部のジペンタメチレンチウラムテトラスルフィド（商品名：ノクセラーＴＲＡ 大内新興化学工業社製）を添加し、オープンロールにて混練し、ゴム組成物Ｂを製造した。
ゴム組成物Ｂを厚さ０．５ｍｍシート金型に入れ、１６０℃の熱プレスで１５分間加硫した。次に金型から取り出したゴムシートを１６０℃のオーブンで、１時間加硫しゴム組成物１を製造した。
（実施例１２および１３）
実施例７において、化合物（２）を用いる代わりに、表１に記載の化合物に変更した以外は、実施例７と同様の方法でゴム組成物２および３を製造した。
（比較例１）
＜比較用樹脂組成物１の作製＞
実施例１において、化合物（２）を用いない以外は、実施例１と同様の製造方法にて比較用樹脂組成物１を製造した。
（比較例２〜５）
＜比較用樹脂組成物２〜５の作製＞
実施例１において、化合物（２）を用いる代わりに、比較用化合物（１）〜（４）に変更した以外は、実施例１と同様の製造方法にて比較用樹脂組成物２〜５を製造した。
（比較例６および７）
実施例７において、化合物（２）を用いる代わりに、化合物（２）を用いない、または、比較用化合物（１）に変更した以外は、実施例７と同様の方法で比較用ゴム組成物１および２を製造した。
Figure 0006478775
＜ブリード試験評価＞
ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）シートに樹脂組成物１を当接させ、温度４０℃／湿度９５％Ｒ．Ｈ．環境下で、１週間静置させた。ＰＥＴシート表面の樹脂組成物を光学顕微鏡（１０倍）（ＶＨＸ−５００ キーエンス社製）で観察した。
評価は以下のように行い、Ｂ以上であれば、ブリードの影響がないと判断した。評価結果を表１に示す。
Ａ：当接部にブリード物が観察されない。
Ｂ：当接部の一部にかすかな曇りが観察される。
Ｃ：当接部全面にかすかな曇りが観察される。
Ｄ：当接部全面にブリード物が観察され、目立つもの。
＜導電性変化評価＞
樹脂組成物の電流値測定機の概略を図２に示す。
０．５ｍｍ厚の樹脂組成物１を平板電極２とガイドリンク３を有する直径１ｃｍの円筒状電極４に当接させる。次に温度２３℃、湿度５０％Ｒ．Ｈ．の環境下、電源５で直流５０μＡの電流を印加する。電流を印加して２秒後、電源５より抵抗６に印加される電圧を電圧計７で３秒間測定し、時間平均の電圧から樹脂組成物の初期体積抵抗率（Ω・cm）を算出した。
更に、５０μＡの電流を１０分間印加した後、電源５から抵抗６に印加される電圧を電圧計７で３秒間測定し、時間平均の電圧から、樹脂組成物の１０分後の体積抵抗率（Ω・cm）を算出し、１０分後の体積抵抗率／初期体積抵抗率を導電性変化率とした。
導電性変化率が２．０未満の値であれば、導電性に優れると判断した。
Ａ：導電性変化率が１．５未満（導電性に非常に優れる）
Ｂ：導電性変化率が１．５以上、２．０未満（導電性に優れる）
Ｃ：導電性変化率が２．０以上（導電性に劣る）
以上、実施例１〜１３、および比較例１〜７の結果を表１に示す。
Figure 0006478775
表１より明らかなように、本発明の一般式（１）で表わされるアミン化合物を用いた樹脂組成物は、アミン化合物を添加しない場合や比較用化合物を用いて作製した樹脂組成物と比較してブリードがなく、導電性に優れることがわかった。
本発明によれば、導電性に優れるアミン化合物及びイオン導電剤を得ることができる。該アミン化合物からブリードが抑制され、導電性に優れた導電性樹脂組成物が得られることから、液晶ディスプレイ、光学用レンズ等の精密機器、自動車部品、光ディスク等の磁気記録媒体用基材、半導体用素材などの保護フィルム、塗料、接着剤等に利用することができる。
１ 樹脂組成物
２ 平板電極
３ ガイドリンク
４ 円筒状電極
５ 電源
６ 抵抗
７ 電圧計

Claims (10)

  1. 下記一般式（１）で表される構造を有することを特徴とするアミン化合物：
    Figure 0006478775
     ［一般式（１）中、
    Ｒ１〜Ｒ３は、各々独立に、炭素数１以上２０以下のアルキル基、または、Ｒ１〜Ｒ３から選択されるいずれか２つが結合して１個の窒素原子とともに環構造を形成するに必要な原子群を表し、
    Ｒ４〜Ｒ７は独立して水素原子、または、炭素数１以上２０以下のアルキル基を表し、
    Ｒ８ は炭素数１以上２０以下のアルキル基、または炭素数１以上２０以下のアミノアルキル基を表し、
    Ｒ９〜Ｒ１０は、各々独立に、フッ素原子または、炭素数が１以上８以下のパーフルオロアルキル基を表すか、または、
    Ｒ９とＲ１０とが互いに結合して、２個の硫黄原子および１個の窒素原子とともにフッ素原子を含む環構造を形成するに必要な原子群を表す。
    また、ｎおよびｍは各々独立して１〜２０の整数を表す。］。
  2. 前記一般式（１）中のＲ１〜Ｒ３が、炭素数１以上４以下のアルキル基である請求項１に記載のアミン化合物。
  3. 前記一般式（１）中のＲ４〜Ｒ７が、水素原子である請求項１または２に記載のアミン化合物。
  4. 前記一般式（１）中のＲ８が、炭素数１以上２０以下のアミノアルキル基である請求項１〜３の何れか１項に記載のアミン化合物。
  5. 前記一般式（１）中のＲ１〜Ｒ３が、メチル基である請求項１〜４の何れか１項に記載のアミン化合物。
  6. 前記一般式（１）中のＲ９〜Ｒ１０が、炭素数が１以上８以下のパーフルオロアルキル基である請求項１〜５の何れか１項に記載のアミン化合物。
  7. 前記一般式（１）中のＲ９〜Ｒ１０が、トリフルオロメチル基である請求項１〜６の何れか１項に記載のアミン化合物。
  8. 請求項１〜７の何れか１項に記載のアミン化合物を含有するイオン導電剤。
  9. 請求項１〜７の何れか１項に記載のアミン化合物を含有する導電性樹脂組成物。
  10. 請求項１〜７の何れか１項に記載のアミン化合物とポリイソシアネート化合物とを含有し、架橋させてなることを特徴とする導電性樹脂組成物。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6489910B2 (ja) 2014-05-15 2019-03-27 キヤノン株式会社 ヒドロキシ化合物、イオン導電剤、および導電性樹脂組成物
US10197930B2 (en) * 2015-08-31 2019-02-05 Canon Kabushiki Kaisha Electrophotographic member, process cartridge, and electrophotographic apparatus
US10892520B2 (en) * 2017-01-20 2021-01-12 Massachusetts Institute Of Technology Sulfonimide salts for battery applications
EP3714017A2 (en) * 2017-11-21 2020-09-30 Nitto Denko Corporation Basic ionic liquids compositions and elements including the same
US20210395188A1 (en) * 2018-10-18 2021-12-23 Acuitas Therapeutics, Inc. Lipids for lipid nanoparticle delivery of active agents

Family Cites Families (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CH1633473A4 (ja) * 1973-11-20 1975-04-15
US4362886A (en) * 1981-01-05 1982-12-07 Air Products And Chemicals, Inc. Preparation of linear polyalkylene polyamines using metal catalyst
US6992045B2 (en) 2000-05-19 2006-01-31 Monsanto Technology Llc Pesticide compositions containing oxalic acid
EP1556390A4 (en) * 2002-04-05 2007-12-26 Univ South Alabama FUNCTIONALIZED IONIC LIQUIDS AND METHODS OF USE
FR2845084B1 (fr) 2002-09-26 2009-07-17 Centre Nat Rech Scient Compositions contenant des liquides ioniques et leurs utilisations, notamment en synthese organique
GB0407908D0 (en) 2004-04-07 2004-05-12 Univ York Ionic liquids
JP4748761B2 (ja) 2004-07-26 2011-08-17 日本カーリット株式会社 導電性付与剤及び導電性樹脂組成物
US7608142B2 (en) * 2005-01-19 2009-10-27 Akzo Nobel N.V. Process for the manufacture of a bitumen-aggregate mix suitable for road paving and a polyamine compound and its use
JP2006206517A (ja) 2005-01-28 2006-08-10 Koei Chem Co Ltd 四級塩
GB0519898D0 (en) 2005-09-30 2005-11-09 Bioniqs Ltd Liquids
WO2007104144A1 (en) 2006-03-10 2007-09-20 Transfert Plus, S.E.C. Compounds, ionic liquids, molten salts and uses thereof
KR20090003235A (ko) * 2006-03-20 2009-01-09 제너럴 일렉트릭 캄파니 고효율 광전자 소자
DE102006061535A1 (de) * 2006-12-27 2008-07-03 Saltigo Gmbh Verfahren zur Herstellung von Aminoalkylaminen
US8053589B1 (en) 2007-10-24 2011-11-08 Henkel Ireland Limited Imines and methods of preparing electron deficient olefins using such novel imines
JP2009144051A (ja) * 2007-12-14 2009-07-02 Japan Carlit Co Ltd:The イオン導電剤及び導電性ウレタン樹脂組成物
DE102008021271A1 (de) * 2008-04-29 2010-01-28 Merck Patent Gmbh Reaktive ionische Flüssigkeiten
WO2010054269A1 (en) * 2008-11-07 2010-05-14 Novabay Pharmaceuticals, Inc. Antimicrobial n-chlorinated compositions
JP2012014973A (ja) * 2010-07-01 2012-01-19 Konica Minolta Holdings Inc 二次電池用電解質組成物および二次電池
WO2012018638A2 (en) * 2010-07-26 2012-02-09 Biomatrica, Inc. Compositions for stabilizing dna, rna and proteins in blood and other biological samples during shipping and storage at ambient temperatures
CN103384641B (zh) 2011-03-03 2015-11-25 日本曹达株式会社 含氟磺酰亚胺盐的制造方法
US8951664B2 (en) * 2011-06-03 2015-02-10 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Ionic liquid and power storage device including the same
JP2013144777A (ja) 2011-12-15 2013-07-25 Canon Inc 制電性ポリエステル樹脂成形体
JP5972150B2 (ja) 2011-12-19 2016-08-17 キヤノン株式会社 電子写真用導電性部材、プロセスカートリッジおよび電子写真画像形成装置
JP5693441B2 (ja) 2011-12-26 2015-04-01 キヤノン株式会社 電子写真用導電性部材、プロセスカートリッジおよび電子写真装置
JP5312568B2 (ja) 2011-12-26 2013-10-09 キヤノン株式会社 導電性部材、プロセスカートリッジおよび電子写真装置
JP5882724B2 (ja) 2011-12-26 2016-03-09 キヤノン株式会社 導電部材、プロセスカートリッジ及び電子写真装置
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