JP4526595B2 - 有機elディスプレイパネル - Google Patents
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Description
[1]駆動TFTを内蔵した基板と、前記基板上に配置され、ライン状の領域を規定する順テーパ状のバンクと、前記ライン状の領域のそれぞれに一列に配列された2以上の有機EL素子と、を有する有機ELディスプレイパネルであって、前記有機EL素子のそれぞれは、前記基板上に配置され、前記駆動TFTのドレイン電極と接続された陽極、前記陽極上に配置された金属酸化物からなる正孔注入層、前記正孔注入層上に配置された有機発光層、前記有機発光層上に配置された陰極を有し、前記陽極および前記正孔注入層は、凹曲状であり、前記バンクのテーパ角度は、40°〜70°であり、かつ前記正孔注入層の端部は、前記バンクの下に配置され、前記凹曲状の正孔注入層の断面のエッジにおける接線の傾斜角度は、20°〜50°である、アクティブマトリクス型の有機ELディスプレイパネル。
[2]前記凹曲状の正孔注入層の深さは、50nm〜300nmである、[1]に記載の有機ELディスプレイパネル。
[3]前記金属酸化物は、酸化タングステン、酸化モリブデンもしくは酸化バナジウムまたはこれらの組み合わせである、[1]または[2]に記載の有機ELディスプレイパネル。
本発明の有機ELディスプレイパネルは、基板と、基板上に複数のライン状の領域を規定する複数のライン状のバンクとを有する。それぞれのライン状の領域内には、有機EL素子が一列に配列される。
陽極は、基板上に配置される導電性の部材である。陽極の材料は、本発明の有機ELディスプレイパネルが、ボトムエミッション型か、トップエミッション型かによって異なる。有機ELディスプレイパネルがボトムエミッション型の場合、陽極が透明であることが求められるので、陽極の材料の例には、ITO(Indium Tin Oxide)やIZO(Indium Zinc Oxide)、酸化スズなどが含まれる。
一方、有機ELディスプレイパネルがトップエミッション型の場合、陽極に光反射性が求められるので、陽極の材料の例には、APC合金(銀、パラジウム、銅の合金)やARA(銀、ルビジウム、金の合金)、MoCr(モリブデンとクロムの合金)、NiCr(ニッケルとクロムの合金)などが含まれる。陽極の厚さは、通常、100〜500nmであり、約150nmでありうる。
正孔注入層は、陽極から後述する有機発光層への正孔の注入を補助する機能を有する層である。したがって、正孔注入層は、陽極と後述する有機発光層との間に配置される。正孔注入層の一部(端部)は、バンクの下に配置される。また、正孔注入層の端部はバンクによって覆われていることが好ましい。
一方、「正孔注入層が凸曲状」とは、正孔注入層の表面のうち、後述する有機発光層に接する表面の中央部が有機発光層側に盛り上がった曲面であることを意味する。また、「正孔注入層が凸曲状」の場合、正孔注入層の表面のうち、後述する有機発光層に接する表面は、楕円面状であっても楕円柱面状であってもよい。
有機発光層は、有機発光材料を含む層である。有機発光層は、バンクによって規定された領域内の正孔注入層上に配置される。有機発光層の厚さは、約50〜100nm(例えば70nm)であることが好ましい。
陰極は有機発光層上に配置される。陰極の材料は、本発明の有機ELディスプレイパネルがボトムエミッション型か、トップエミッション型かによって異なる。本発明の有機ELディスプレイパネルがトップエミッション型の場合、陰極には光透過性が求められる。したがって、陰極の材料の例には、ITOやIZO、Ba、Al、WOxなどが含まれる。また、有機ELディスプレイパネルがトップエミッション型の場合、有機発光層と陰極との間に蒸着法によって形成された有機バッファー層などが配置されてもよい。一方、本発明の有機ELディスプレイパネルがボトムエミッション型の場合、陰極の材料は特に限定されないが、例えば、BaやBaO、Alなどである。
本発明の有機ELディスプレイパネルは、本発明の効果を損なわない限り、任意の方法で製造され得る。
実施の形態1ではアクティブマトリクス型の有機ELディスプレイパネルについて説明する。
以下、実施の形態1の有機ELディスプレイパネル100に含まれる有機EL素子について詳細に説明する。
ドレイン電極205と陽極103とは、コンタクトホール209を通して接続される。
実施の形態1では、凹曲状の正孔注入層の表面が放物柱面状である例について、説明した。実施の形態2では、凹曲状の正孔注入層の表面が楕円放物面状である例について説明する。
実施の形態1および2では、バンクの構造が1層構造である例について説明した。実施の形態2では、バンクの構造が2層構造である例について説明する。
実施の形態1〜3では、正孔注入層が凹曲状である例について説明した。実施の形態4では、正孔注入層の形状が凸曲状である例について説明する。すなわち、有機発光層が凸曲状である場合について説明する。
103 陽極
104 中間層
105 正孔注入層
106 無機膜
107 バンク
108 インク
109 有機発光層
111 陰極
113 マスク
201 ゲート電極
203 ソース電極
205 ドレイン電極
207 チャネル
209 コンタクトホール
211 ゲート絶縁膜
213 平坦化膜
Claims (3)
- 駆動TFTを内蔵した基板と、前記基板上に配置され、ライン状の領域を規定する順テーパ状のバンクと、前記ライン状の領域のそれぞれに一列に配列された2以上の有機EL素子と、を有する有機ELディスプレイパネルであって、
前記有機EL素子のそれぞれは、前記基板上に配置され、前記駆動TFTのドレイン電極と接続された陽極、前記陽極上に配置された金属酸化物からなる正孔注入層、前記正孔注入層上に配置された有機発光層、前記有機発光層上に配置された陰極を有し、
前記陽極および前記正孔注入層は、凹曲状であり、
前記バンクのテーパ角度は、40°〜70°であり、かつ前記正孔注入層の端部は、前記バンクの下に配置され、
前記凹曲状の正孔注入層の断面のエッジにおける接線の傾斜角度は、20°〜50°である、アクティブマトリクス型の有機ELディスプレイパネル。 - 前記凹曲状の正孔注入層の深さは、50nm〜300nmである、請求項1に記載の有機ELディスプレイパネル。
- 前記金属酸化物は、酸化タングステン、酸化モリブデンもしくは酸化バナジウムまたはこれらの組み合わせである、請求項1に記載の有機ELディスプレイパネル。
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