JP4477853B2 - 溶解特性を調節する感光性樹脂組成物及びこれを用いた二層構造パターンの形成方法 - Google Patents

溶解特性を調節する感光性樹脂組成物及びこれを用いた二層構造パターンの形成方法 Download PDF

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Description

本発明は、露光硬化度調節により現像時溶解特性を変化できる新たな感光性樹脂組成物及びこれを用いて二層構造パターンを形成する方法に関し、さらに詳しくは、LCD製造工程における感光液現像過程において、膜厚差別化された二層構造カラーフィルター及び上塗り材料として有用な感光性樹脂組成物に関するものである。
液晶ディスプレイのカラーフィルター(CF)を形成する方法には、従来から染色方式、印刷方式、電着方式、インクジェット方式、顔料分散方式などがあったが、最近は、パターンの精巧性(微細化適応性)が高く製造方法の容易な顔料分散方式を採用しており、このような方式は携帯電話やノートパソコン、モニター、TVなどのLCD製造に応用されている。
最近は、多様な長所を有する顔料分散型着色組成物においても、パターンの精巧性のみならず、更に向上した性能が要求されている。つまり、一般的な顔料分散型着色組成物は、基板に塗布し、露光して現像することによって着色画素を形成しており、この場合は、露光されたパターンの適正硬化によって現像液の中でも溶解しない。適切に硬化させるには、顔料を含んでいると多くの露光エネルギーを必要とし、露光量が少ないときは塗布膜の下層まで光(紫外線)が十分に到達しないため、下層部分における硬化度が不十分で、膜が脆弱となり、パターン剥離を生ずる。さらに、感光液中の顔料が多かったり、光を遮断する程度が大きいとき、パターンの剥離はますますひどくなり、より高い露光エネルギーが要求される。
このように露光エネルギーが大きいと、塗布膜の表面が現像液中に全く溶解されないために、現像後の膜厚に全く変化がない。ところが、露光エネルギーが少ないと、膜の下地部分での硬化度が低くなるために基板との密着性が劣り、パターン剥離が発生する。
従来使用されていた感光性樹脂組成物は、一般に、イ)アルカリ水溶液に溶解されるバインダー、ロ)少なくとも2つ以上のエチレン系二重結合を有する架橋性モノマー、ハ)顔料、ニ)光重合開始剤、及びホ)溶剤から構成されており、必要に応じて基板との接着力向上剤、保管安定性のための安定剤、顔料との分散性を向上させるための分散剤などの添加剤を含有する。このような感光性樹脂組成物は、一般に、露光で生成した光重合開始剤ラジカルによって架橋性モノマーと架橋結合を作り、現像過程において現像液に対する溶解性を低くする。しかし、このような感光原理を使えば、顔料の光遮断性つまりブロッキング現象によって膜下層部の硬化度が最も低くなり、上層部と下層部との間に硬化度の差が発生する。この現象は、露光エネルギーが少ない場合、現像中に硬化度の最も脆弱な膜下層部で剥離することや、アンダーカット現像を発生させる原因になる。
一方、中小型装置の特性が多様化するにつれて、要求される特性の差別化が深刻化している。従来、反射窓における反射効率極大化のために反射板EMB(EMBOSSING)工程の最適化において、反射型LCDの短所である、周辺光のない所でのディスプレイ特性低下を改善するために、前方光線を利用する半透過LCDを試みており、最近は半透過LCD技術のトレンドに従っている傾向があって、これに基づくカラーフィルター側の改善作業を多元化している。
その中に、TFT-LCDにおける透過窓の部分を増大させる試みがあり、これによってカラーフィルター上の透過窓の色再現率を高めて反射側は色再現率よりも反射効率を極大化しようという動きがある。
さらに、図2の東レ方式を例にすると、反射窓6と透過窓7の色度変化の観点で、光効率の極大化を確保するためのカラーフィルター1の変化は、カラーフィルター上の2トーン化を確保する動きを起こしている。一般に、カラーフィルター上の2トーンとは、透過窓7と反射窓6のカラーフィルター特性を二分化して実現することを意味する。基本的に反射窓と透過窓の色特性差は、半透過モード間の差によって透過窓の2倍を反射窓を通じて得られるという問題点がある。これを改善するために、反射窓の光特性を異ならせて透過窓と反射窓の光特性を同じにする試みが一般的である。このなかで、反射窓6の領域にホール5をあけホール5とオーバーコート2用フォトレジスト( p.r)領域を経て出る光を加法混色する東レ方式と、透明有機絶縁膜の膜段差を利用して透過窓7と反射窓6間の色度を異ならせるセイコーエプソン方式(図3)がある。
前記東レ方式は、透過窓と反射窓の色差を誘発するために図2a、図2b及び図2cに示された方式によって色度差を確保する。しかし、反射窓の光効率の極大化のためにホールの大きさを拡大することによって以降の工程に影響を及ぼすことになるが、これがホール部位における液晶コントロール上の問題である。ホール領域を平坦化するためにオーバーコート工程を施しても、1.0μm以上のCF(カラーフィルター)パターンに対するオーバーコート工程の際には傾斜面によってPI(ポリイミド)プリント及びラビング工程に対する不安があるので、ディスプレイ特性の不安が引き起こされる。
さらに前記セイコーエプソン方式は、透過窓と反射窓の色差を誘発するために、図3に示された構造によって色度差を確保する。しかし、反射窓と透過窓間の色差を増大させる際、透明層の段差増大が必要となるが、これは液晶のセルギャップ及び液晶配向上の問題を同時に抱えることになる。
本発明は、前記のような従来問題点を解決するために、膜厚に関係なく下部層から上部層まで順次的に変化する硬化度を与え、不飽和露光後に現像する際、硬化度の低い膜上層部から段階的に溶解され、基板と樹脂組成物との化学的な結合を通じて膜の剥離やアンダーカット現像のない感光性樹脂組成物の提供を目的とする。
本発明の他の目的は、透過率を調節できるマスクを用いて露光し、部分硬化された樹脂組成物に対して、適当な厚さになるように、膜上層部から溶解し現像して膜厚を差別化することで、一つの露光ステップのみで互いに異なる厚さの膜を形成できる感光性樹脂組成物を提供することにある。
上記の目的を達成するために本発明は、
イ)アルカリ水溶液に溶解されるバインダー5乃至30重量部、
ロ)少なくとも2つ以上のエチレン系二重結合を有する架橋性モノマー5乃至30重量部、
ハ)顔料10乃至60重量部、
ニ)アセトフェノン系化合物、キサントン系化合物、ベンゾイン系化合物、及びイミダゾール系化合物からなる群から1種以上選ばれる光重合開始剤1乃至5重量部、
ホ)シラン系高分子化合物及び少なくとも一つ以上のエポキシ基を含有するエチレン系モノマーまたはそのオリゴマーからなる群から1種以上選ばれる下層部硬化剤0.1乃至2重量部、及び
ヘ)溶剤20乃至80重量部を含むカラーフィルター用感光性樹脂組成物を提供する。
さらに本発明は、前記基材のカラーフィルター感光性樹脂組成物が塗布されたフィルムをスリットマスクによって露光し現像する段階を含むスリットマスクを利用した二層構造パターンの形成方法を提供する。
本発明による感光性樹脂組成物は、新たな光重合開始剤及び下層硬化剤を利用してガンマ値を調節することができ、少ない露光エネルギーでも現像後のパターン剥離がなく、上層から溶解されて露光量によって膜厚の調節が可能である。
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明は、透過露光量を調節できるように考案されたスリットマスクを通じて、光を完全に透過させた部分では完全な厚みを有するパターンが形成され、透過光を減少させた部分では現像中のパターン剥離なく、露光量に応じて膜厚が減少し、一つの露光段階によって互いに異なる膜厚を形成できるカラーフィルター用感光性樹脂組成物を提供することに特徴がある。
本発明のカラーフィルター用アルカリ可溶性感光性樹脂組成物において、前記イ)アルカリ水溶液に溶解されるバインダーは、高分子鎖中にエチレン系酸性基を有する単量体、及びエチレン系酸性基を有しない単量体の共重合体である。
前記エチレン系酸性基を有する単量体としては、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、ビニル酢酸またはこれらの酸無水物形態、または2-アクリロオキシエチルヒドロゲンフタレート、2-アクリロオキシプロピルヒドロゲンフタレート、2-アクリロオキシプロピルヘキサヒドロゲンフタレートなどがある。前記エチレン系酸性基を有する単量体の含量は、10乃至40重量%が好ましく、より好ましくは20乃至30重量%である。前記酸性基を有する単量体の含量が10重量%未満であれば感光性樹脂組成物のアルカリ現像液に対する溶解性が低下する傾向があり、40重量%を超えればアルカリ現像液による現像時パターンの脱落及び剥離現像が発生する。
前記酸性基を有しない単量体の例としては、イソブチルアクリレート、tert-ブチルアクリレート、ラウリルアクリレート、アルキルアクリレート、ステアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、イソボニルアクリレート、ベンジルアクリレート、2-ヒドロキシアクリレート、トリメトキシブチルアクリレート、エチルカルビトルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、4-ヒドロキシブチルアクリレート、フェノキシポリエチレングリコールアクリレート、2-ヒドロキシエチルアクリレート、2-ヒドロキシプロピルアクリレート、2-アクリルオキシエチル2-ヒドロキシプロピルフタレート、2-ヒドロキシ-3-フェノキシプロピルアクリレート及びこれらのメタクリレート類、3-フローエチルアクリレート、4-フロープロピルアクリレートのようなハロゲン化合物を含むアクリレート及びこれらのメタクリレート類、トリエチルシロキシルエチルアクリレートのようなシロキサンを含むアクリレート及びこれらのメタクリレート類、スチレン、4-メトキシスチレンのように芳香族を有するオレフィン類などがあり、これらは単独または2種以上混合して使用することができる。前記酸基を有しない単量体の含量は高分子組成のうち60乃至90重量%が好ましく、より好ましくは65乃至85重量%である。このような単量体の含量が60重量%未満であれば、現像工程の際にガラス面との密着性が劣ることから、パターン剥離現象が酷くなり、形成されたパターンの直進性が悪化して、さらに90重量%を超えれば現像時間が長くなるという問題がある。
前記アルカリ水溶液に溶解されるバインダーの含量は、全体の感光性樹脂組成物に対して5乃至30重量部を用いるのが好ましい。
本発明の感光性樹脂組成物において、ロ)少なくとも2つ以上のエチレン系二重結合を有する架橋性モノマーとしては、1,4-ブタンジオールジアクリレート、1,3-ブチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ビスフェノールAジアクリレート誘導体、トリメチルプロパントリアクリレート、ジペンタエリスリトールポリアクリレート、及びこれらのメタクリレート類などがある。前記の少なくとも2つ以上のエチレン系二重結合を有する架橋性モノマーの含量は、全体感光性樹脂組成物に対して5乃至30重量部が好ましく、より好ましくは5乃至20重量部である。前記架橋性モノマーの含量が5重量部未満であれば、感光成樹脂との低い硬化度によってパターンの実現が困難であり、30重量部を超えれば高い硬化度によって現像の際パターン剥離問題が酷くなりパターンの直進性が悪くなる。
本発明の感光性樹脂組成物において、ハ)顔料は有機顔料または無機顔料の全てを用いることができ、このような有機顔料の具体的な例としては、C.I.ピグメントイエロー83、C.I.ピグメントイエロー150、C.I.ピグメントイエロー138、C.I.ピグメントイエロー128、C.I.ピグメントオレンジ43、C.I.ピグメントレッド177、C.I.ピグメントレッド202、C.I.ピグメントレッド209、 C.I.ピグメントレッド254、 C.I.ピグメントレッド255、 C.I.ピグメントグリーン7、 C.I.ピグメントグリーン36、 C.I.ピグメントブルー15、 C.I.ピグメントブルー15:3、 C.I.ピグメントブルー15:4、 C.I.ピグメントブルー15:6、 C.I.ピグメントバイオレット23、 C.I.ピグメントブラック1、C.I.ピグメントブラック7などがある。また、無機顔料としては酸化チタン、チタンブラック、カーボンブラックなどが挙げられる。これらの顔料は色調合をするために1種または2種以上を混合して用いることができる。前記顔料の含量は全体感光性樹脂組成物に対して10乃至60重量部を用いるのが好ましい。
特に、本発明の感光性樹脂組成物において、ニ)光重合開始剤は可視光線、紫外線、遠紫外線などの波長によって前記架橋性モノマーの重合を開示することができる化合物である。前記のように、光重合開始剤としてはアセトフェノン系化合物、キサントン系化合物、ベンゾイン系化合物、及びイミダゾール系化合物からなる群から1種以上選ばれたものを用いることができる。
前記アセトフェノン系化合物の具体的な例としては、ベンゾフェノン、p-(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、2,2-ジクロロ-4-フェノキシアセトフェノン、2,2-ジエトキシアセトフェノン、2,2-ジブトキシアセトフェノン、2-ヒドロキシ-2-メチルプロリオフェノン、p-t-ブチルトリクロロアセトフェノンなどがある。また、前記キサントン系化合物の具体的な例としては、キサントン、チオキサントン、2-メチルチオキサントン、2-イソブチルチオキサントン、2-ドデシルチオキサントン、2,4-ジメチルチオキサントンなどがある。また、前記ベンゾイン系化合物の具体的な例としては、ベンゾイン、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾイルプロピルエーテル、t-ブチルベンゾイルエーテルなどのような化合物を挙げることができる。また、イミダゾール系化合物の具体的な例としては、2,2-ビス-2-クロロフェニル-4,5,4,5-テトラフェニル-2-1,2-ビイミダゾール、2,2-ビス(2,4,6-トリシアノフェニル)-4,4,5,5-テトラフェニル-1,2-ビイミダゾールなどの化合物などがある。
前記光重合開始剤は必要に応じて増感剤、硬化促進剤などと混合して用いることができ、その具体的な例としては、4-ジメチルアミノベンゾフェノン、イソプロピルチオキサントン、メチル-o-ベンゾイルベンゾエ−ト、4-(メチルフェニルチオ)-フェニル-フェニルメタン、2,4-ジエチルチオサントン、2-クロロチオサントン、ベンゾフェノン、エチルアントラキノン、2-メルカプトベンゾオキサゾールなどの化合物を用いることができる。
前記光重合開始剤の含量は、感光性樹脂組成物に対して0.5乃至5重量部が好ましく、より好ましくは1乃至2重量部を使用する。前記光重合開始剤の含量が0.5重量部未満であれば低い感度によって正常なパターンの実現が困難で、パターンの直進性にも好ましくなく、5重量部を超えれば保存安定性に問題があり、高い硬化度によって現像時パターン剥離問題が酷くなったり、形成されたパターン以外の部分に残留物が発生しやすい。
本発明の感光性樹脂組成物において、前記のホ)下層部硬化剤は下層部の硬化度を増加させるための化合物を使用する。前記下層部硬化剤としては、シラン系高分子化合物、及び少なくとも一つ以上のエポキシ基を含有するエチレン系モノマーまたはそのオリゴマーからなる群から1種以上選ばれるものを用いるのが好ましい。前記シラン系高分子の代表的な例としては、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス(2-メトキシエトキシ)シラン、3-アミノプロピルトリエトキシシラン、3-アクリロオキシプロピルトリメトキシシラン、3-グリシジルプロピルトリメトキシシラン、3-グリシジルプロピルトリメトキシシラン、3-グリシジルプロピルメチルジメトキシシラン、2-(3,4-エトキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3-クロロプロピルトリメトキシシラン、3-メタクリロプロピルトリメトキシシランなどがあり、これらを単独または2種以上混合して用いることができる。
前記少なくとも一つ以上のエポキシ基を含有するエチレン系モノマーまたはそのオリゴマーとしては、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、グリシジルエチルアクリレート、グリシジルエチルメタクリレート、グリシジルプロピルアクリレート、グリシジルプロピルメタクリレート、3,4-エポキシブチルメタクリレート、6,7-エポキシブチルアクリレートなどのモノマー及びそのオリゴマーなどがあり、これらを単独または2種以上混合して用いることができる。
前記下層部硬化剤の含量は、全体感光性樹脂組成物に対して0.1乃至2重量部が好ましく、最も好ましくは0.1乃至1重量部を使用する。前記下層部硬化剤の含量が0.1重量部未満であれば膜の下層部の硬化度が劣り、基板との密着力が悪くパターン剥離の問題がある。2重量部を超えれば非露光部のアルカリ現像液に対する現像速度が急激に遅くなって残留物が残りやすくなる。
本発明の感光性樹脂組成物において、前記のヘ)溶剤は溶解性、顔料分散性、コーティング(塗布作業)性により選択され、具体的にはエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、シクロヘキサノン、3-メトキシプロピオン酸エチル、3-エトキシプロピオン酸メチル、3-エトキシプロピオン酸エチルなどが好ましく、これらを単独または2種以上混合して用いることができる。前記溶剤の含量は全体の感光性樹脂組成物に対して20乃至80重量部を用いるのが好ましい。
また、本発明の感光性樹脂組成物は、ト)顔料との分散性向上のための分散剤またはコーティング性向上のための添加剤をさらに含むことができ、例えば、ポリエステル系分散剤、ポリウレタン系分散剤やシリコン系界面活性剤、フッ素系などの界面活性剤があり、感光性樹脂組成物に対して0.01乃至1重量部を用いることができる。
また本発明は、前記感光性樹脂組成物を利用して二層構造のパターンを形成することができる。図1は、本発明の感光性樹脂組成物をマスクに適用した一つの実施例を示すものである。
本発明において、二層構造のパターンを形成する方法は、顔料を含む感光液を透明基板に塗布しプリベークをして、塗布されたフィルムに残っている溶媒を除去する。前記塗布されたフィルムをスリットパターンを有するマスクを通じて露光を行えば、パターン部、スリット部、非露光部が受けるエネルギー差によって光硬化度の差が発生する。この際スリット部においては透過する露光量が少ないため部分硬化が起こり、現像工程を経るにつれて部分的な溶解特性を有する。
ここで本発明は、カラーフィルター上に2トーン方式を応用して反射窓と透過窓の色度変化の光効率を極大化し、従来のスリット構造の構造的な短所を改善することができる。前記の2トーン方式は露光エネルギーを利用するもので、透過窓と反射窓間の照査エネルギーを異ならせて厚さに対する光特性を二分化する方式である。本発明は、反射窓と透過窓間の色差が2倍以上の差を要求するときのためのもので、露光エネルギーを異なるように適用して反射窓と透過窓の厚さを異ならせる方式を変換したものである。従って本発明は、露光エネルギーを異ならせて2トーンを実現させる方式の延長線上で1/2トーン以上の特性を得ようとする際に、従来の東レやセイコーエプソンの問題点をより効果的に解消できる。
つまり従来の方法は、2トーン層における反射窓の厚さを同じ厚さにすることを基本にしているが、本発明は図1に示すように、スリットトーン(マスクの微細スリット構造)設計における調整によりカラー層を部分的に除去する方式である。本発明は、スリットの微細な透光部と遮光部の組み合わせを利用してスリット領域を通して露光されたフォトレジストの現像後厚さを異ならせ、スリット領域の露光エネルギーによりカラー部分を除去し、光フィルタリングをしない単純光が反射される形態のカラーフィルター構造である。これによって、透過窓との膜段差を最少化して液晶によるディスプレイ特性の変化を最少化することができる。これは、オーバーコート膜の平坦化の改善項目が膜間の段差とパターン間のギャップが少ないため、平坦化率が増加する特性を利用する。このような構造は、膜厚の差に対する色差と反射窓と反射窓内の光フィルタリングが行われない領域において光と加法混色されるもので、東レ方式と2トーン方式の混合形である。
以上のような特性は、面積対比の色感に対する計算及び予測技術の最適化が必要となるが、スリットマスクの設計の際に、平面上では光密度が同じであるが特定領域では光量が少なく設定されるSPLIT-6のようなことを適用する時実現できる(図4)。
前記工程に用いられるフォトマスクのスリット構造は、光が透過する部分(WL)と光が遮断される部分(BS)から構成されており、x方向とy方向に対して透過部と遮断部の幅をそれぞれ1乃至100マイクロメーターになるように設計できる。また、前記フォトマスクのスリットは一つの方向(x方向またはy方向)へのスリットパターンと両方向(x方向とy方向)への格子パターンまたは曲線を有する多角形パターンなどを有することができ、透過部と遮断部の面積を変化させて露光されるエネルギーの10乃至90%の光が吸収されるようにすることができる。具体的に前記スリットマスクは、光が透過する部分(WL)と光が遮断される部分(BS)の幅がいずれもx軸方向とy軸方向に対して各々1乃至100マイクロメーターのスリットパターンを有する。なお、前記スリットマスクは、光が透過する部分(WL)と光が遮断される部分(BS)の幅がいずれもx軸方向とy軸方向に対して各々1乃至100マイクロメーターの格子パターンを有する。
前記のように、本発明のスリット部分における不飽和露光は部分硬化を起こして現像過程を経て溶解される。
膜上層部では、空気中の酸素と光重合開始剤が反応して、開始反応が抑制されるため硬化度が低く現像液に溶け易い。さらに、本発明に用いられる光重合開始剤は、膜の中層部と下層部の硬化度を均一にすることができ、下層部の硬化剤は、有機組成物と基板との化学的な結合によって膜下層部の硬化度を増加させ、膜上層部と中層部、下層部の溶解度の差を生じて、現像中に一定の厚さの減少をもたらすことができる。
本発明による感光性組成物は、少ない露光量に対しても現像過程で膜の剥離がなく、急激な厚さの減少が発生しない。従って、露光量によるフィルム厚さの変化傾きであるガンマ値が低くなり、これを利用した二層構造の厚さを調節できる。
本発明による感光性組成物は、現像によるガンマ値が2.5未満であることが好ましい。より好ましいガンマ値は0.1乃至2.5であり、この場合は露光量によってスリット部の現像によるフィルム厚さの変化を5乃至90%まで減少させることができる。さらに好ましくは、本発明の感光性組成物のガンマ値は0.5乃至1.0であり、このような場合はフィルム厚さの変化を20乃至80%に減少させることができ、現像時間による現像マージンが最も良い。
現像工程に使用される現像液は、通常用いられるアルカリ現像液ならいずれも使用可能であり、好ましくは水酸化カリウム水溶液、水酸化ナトリウム水溶液、炭酸ナトリウム水溶液、炭酸カリウム水溶液などの無機アルカリ希釈水溶液及びトリエタノールアミン水溶液、トリメチルアミン水溶液、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液などのアミン類などを含むアルカリ水溶液などを用いることができる。通常、現像はLCD工程で使用するスプレー方式を利用するが、ディップ(浸漬)方式によっても現像が可能であり、現像後のキュアリング(安定化)工程を経てパターンが形成される。
以下、本発明を下記の実施例に基づいて詳細に記載するが、本発明が下記の実施例に限られるものではない。下記の実施例において特に説明がない場合は百分率、及び混合比は重量を基準とする。
イ)アルカリ水溶液に溶解されるバインダーとしてスチレン/メタクリル酸/ブチルメタクリレートの共重合体(共重合比60/20/20、重量平均分子量=30,000)20重量部、ロ)少なくとも2つ以上のエチレン系二重結合を有する架橋性モノマーとしてジペンタエリスリトルヘキサアクリレート8重量部、ハ)顔料としてC.I.ピグメントレッド254を20重量部及びC.I.ピグメントイエロー(Yellow)139を10重量部、ニ)光重合開始剤としてIrgacure369(シーバスペシャルティケミカル社製造)1重量部及び4,4’-ビスジエチルアミノベンゾフェノン1重量部、ホ)下層部硬化剤として3-アクリロオキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学製造)を0.1重量部、ヘ)溶剤としてプロピレングリコールメチルエーテルアセテート28重量部及びシクロヘキサノン10重量部を混合して液状の感光性組成物を製造した。
前記実施例1と同様の組成と含量で製造するが、ニ)光重合開始剤としてIrgacure907(シーバスペシャルティケミカル社製造)1重量部を使用し、ホ)下層部硬化剤としてビニルトリエトキシシラン0.05重量部を使用して感光性樹脂組成物を製造した。
前記実施例1と同様の組成と含量で製造するが、ニ)光重合開始剤としてIrgacure369(シーバスペシャルティケミカル社製造)1重量部とイソプロピルチオキサントン1重量部を使用し、ホ)下層部硬化剤として3,4-エポキシブチルメタクリレート0.2重量部を使用して感光性樹脂組成物を製造した。
前記実施例1と同様の組成と含量で製造するが、イ)顔料としてC.I.ピグメントグリーン(Green)36を20重量部及びC.I.ピグメントイエロー(Yellow)150を10重量部使用し、ホ)下層部硬化剤として3-アクリルにオキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学製造)0.2重量部を使用して感光性樹脂組成物を製造した。
前記実施例1と同様の組成と含量で製造するが、イ)顔料としてC.I.ピグメントブルー(Blue)15:6を20重量部を使用し、ニ)光重合開始剤としてIrgacure369(シーバスペシャルティケミカル社製造)1重量部と2,4-ジエチルチオキサントン1重量部を使用し、ホ)下層部硬化剤として3-アクリロオキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学製造)0.2重量部を使用して感光性樹脂組成物を製造した。
比較例1
表1のように、前記実施例1と同様の組成と含量で製造するが、ニ)光重合開始剤として、2,4-ビストリクロロメチル-6-p-メトキシスチリル-s-トリアジン2重量部を使用し、ホ)下層硬化剤を使用せず感光性樹脂組成物を製造した。
比較例2
前記実施例1と同様の組成と含量で製造するが、イ)顔料としてC.I.ピグメントグリーン(Green)36を20重量部及びC.I.ピグメントイエロー(Yellow)150を10重量部を使用し、ニ)光重合開始剤として2,4-ビストリクロロメチル-6-p-メトキシスチリル-s-トリアジン2重量部を使用し、ホ)下層硬化剤として6,7-エポキシブチルアクリレート0.2重量部を使用して感光性樹脂組成物を製造した。
比較例3
前記実施例1と同様の組成と含量で製造するが、イ)顔料としてC.I.ピグメントブルー15:6を30重量部使用し、ニ)光重合開始剤としてIrgacure369(シーバスペシャルティケミカル社製造)1重量部及び4,4’-ビスジエチルアミノベンゾフェノン1重量部を使用し、ホ)下層硬化剤は使用せず感光性樹脂組成物を製造した。
Figure 0004477853
現像特性の比較
前記実施例1乃至5及び比較例1乃至3の感光性組成物に対して光重合開始剤及び下層硬化剤の種類及び含量変化による現像特性を比較した。
前記実施例と比較例によって得られた感光性組成物をガラス面上に1μmの厚さにスピンコーティングした後80℃ホットプレートの上で2分間乾燥させて塗布膜を得た。
そして、フォトマスクを前記膜上に位置させ、200nmで400nmの波長を出す超高圧水銀ランプを利用して365nmを基準に約100〜200mj/cm2となるように一定の時間露光し、KOH現像液(韓国トウシンセミケム製造、DCD-260CF)を所定定時間スプレーノズルを通じて噴霧し現像させた。現像された微細パターンの露光部とスリット部の厚さを測定して現像性を評価し、その結果を下記表2に示した。なお、露光部と非露光部の現像液に対する溶解性の差を測定するために、露光量による厚さの変化を測定したグラフを図2及び図3に示し、その傾きであるガンマ値を測定してその結果を下記表3に示した。
Figure 0004477853
Figure 0004477853
前記表3によれば、本発明の実施例1乃至5において、ガンマ値が全て0.8乃至2.5と低く、少ない露光量に対しても現像過程で膜の剥離がなく、急激な厚さの減少が発生しないことが分かった。
本発明の感光性樹脂組成物を適用するためのカラーフィルター上の2トーン方式の構造を示すものである。 従来の東レ方式の構造を示すものである。 従来の東レ方式の構造を示すものである。 従来の東レ方式の構造を示すものである。 従来のセイコーエプソン方式の構造を示すものである。 本発明の2トーン方式を適用して得られたスリットマスクパターンを示すものである。
符号の説明
1 有機膜カラーフィルター層
2 有機膜オーバーコート層
3 反射領域
4 透過領域
5 ホール
6 反射窓
7 透過窓
8 透明層

Claims (14)

  1. 基材上に、コーティング層の下層部を硬化することができる下層部硬化剤を含む感光性樹脂組成物をコーティングしてコーティング層を形成し、
    不飽和露光を起こすためにスリットパターンを有するフォトマスクを利用して前記コーティング層を露光し、及び、
    前記露光されたコーティング層を現像する工程を含み、
    現像後、前記コーティング層の上層部を不飽和露光によって除去し、前記下層部を、露光量に対応した膜厚で残存させ
    前記感光性樹脂組成物は、
    イ)アルカリ水溶液に溶解されるバインダー5〜30重量部、
    ロ)少なくとも2つ以上のエチレン系二重結合を有する架橋性モノマー5〜30重量部、
    ハ)顔料10〜60重量部、
    ニ)アセトフェノン系化合物、キサントン系化合物、ベンゾイン系化合物及びイミダゾール系化合物からなる群から1種以上選ばれる光重合開始剤1〜5重量部、
    ホ)溶剤20〜80重量部と、
    前記下層部硬化剤として、3−アクリルオキシプロピルトリメトキシシランを0.1〜2重量部を含むディスプレイ素子用二層構造のパターン形成方法。
  2. 前記スリットパターンを有するフォトマスクは、x軸方向とy軸方向に対して光が透過する部分(WL)の幅が1〜100マイクロメーターであるスリットパターンを有する請求項1に記載のスリットマスクを利用した二層構造パターンの形成方法。
  3. 前記スリットパターンを有するフォトマスクは、x軸方向とy軸方向に対して光が遮断される部分(BS)の幅が1〜100マイクロメーターであるスリットパターンを有する請求項1又は2に記載のスリットマスクを利用した二層構造パターンの形成方法。
  4. 前記スリットパターンを有するフォトマスクは、x軸方向とy軸方向に対して光が透過する部分(WL)の幅が1〜100マイクロメーターである格子パターンを有する請求項1に記載のスリットマスクを利用した二層構造パターンの形成方法。
  5. 前記スリットパターンを有するフォトマスクは、x軸方向とy軸方向に対して光が遮断される部分(BS)の幅が1〜100マイクロメーターである格子パターンを有する請求項1又は2に記載のスリットマスクを利用した二層構造パターンの形成方法。
  6. 前記アルカリ水溶液に溶解されるバインダーが、エチレン系酸性基を有する単量体10〜40重量%及びエチレン系酸性基を有しない単量体60〜90重量%の共重合体である請求項に記載の二層構造パターンの形成方法。
  7. 前記エチレン系酸性基を有する単量体が、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、ビニル酢酸またはこれらの酸無水物形態、
    2-アクリロオキシエチルヒドロゲンフタレート;2-アクリロオキシプロピルヒドロゲンフタレート、及び
    2-アクリロオキシプロピルヘキサヒドロゲンフタレートからなる群から1種以上選ばれる請求項に記載の二層構造パターンの形成方法。
  8. 前記エチレン系酸性基を有しない単量体としては、
    イソブチルアクリレート、tert-ブチルアクリレート、ラウリルアクリレート、アルキルアクリレート、ステアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、イソボニルアクリレート、ベンジルアクリレート、2-ヒドロキシアクリレート、トリメトキシブチルアクリレート、エチルカルビトルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、4-ヒドロキシブチルアクリレート、フェノキシポリエチレングリコールアクリレート、2-ヒドロキシエチルアクリレート、2-ヒドロキシプロピルアクリレート、2-アクリルオキシエチル2-ヒドロキシプロピルフタレート、2-ヒドロキシ-3-フェノキシプロピルアクリレート及びこれらのメタクリレート類、
    ハロゲン化合物を含むアクリレート及びこれらのメタクリレート類、
    シロキサンを含むアクリレート及びこれらのメタクリレート類、
    芳香族を有するオレフィン類、
    からなる群から1種以上選ばれる請求項に記載の二層構造パターンの形成方法。
  9. 前記少なくとも2つ以上のエチレン系二重結合を有する架橋性モノマーが、1,4-ブタンジオールジアクリレート、1,3-ブチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ビスフェノールAジアクリレート誘導体、トリメチルプロパントリアクリレート、ジペンタエリスリトールポリアクリレート、及びこれらのメタクリレート類からなる群から1種以上選ばれる請求項に記載の二層構造パターンの形成方法。
  10. 前記顔料が、有機顔料または無機顔料である請求項に記載の二層構造パターンの形成方法。
  11. 前記溶剤が、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、シクロヘキサノン、3-メトキシプロピオン酸エチル、3-エトキシプロピオン酸メチル、3-エトキシプロピオン酸エチルからなる群から1種以上選ばれる請求項に記載の二層構造パターンの形成方法。
  12. 前記感光性樹脂組成物は、ポリエステル系分散剤、ポリウレタン系分散剤、シリコン系界面活性剤及びフッ素系界面活性剤からなる群から1種以上選ばれる、顔料との分散性向上のための分散剤またはコーティング性向上のための添加剤を0.01〜1重量部をさらに含む請求項に記載の二層構造パターンの形成方法。
  13. コーティング層は、現像によって、フィルムの厚さの変化傾きであるガンマ値が2.5未満である請求項1に記載のディスプレイ素子用二層構造のパターン形成方法。
  14. 前記ガンマ値が0.1以上、2.5未満である請求項13に記載の二層構造パターンの形成方法。


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Families Citing this family (29)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100598910B1 (ko) * 2004-09-24 2006-07-10 주식회사 아이노스 이멀젼 리소그래피 공정에 사용되는 포토레지스트막코팅용 중합체, 비이온성 광산발생제 및 이를 포함하는포토레지스트막 코팅용 조성물
KR100659391B1 (ko) * 2005-08-20 2006-12-19 삼성전자주식회사 공중합체, 버퍼막용 고분자 수지 조성물, 이를 이용한 패턴형성 방법 및 이를 이용한 커패시터 제조 방법
JP4736992B2 (ja) * 2005-08-29 2011-07-27 凸版印刷株式会社 カラーフィルタ基板の製造方法及びカラーフィルタ基板並びに半透過型液晶表示装置
WO2007026599A1 (ja) * 2005-08-29 2007-03-08 Toppan Printing Co., Ltd. 感光性着色組成物、カラーフィルタ基板及び半透過型液晶表示装置
KR100791819B1 (ko) * 2005-09-30 2008-01-04 주식회사 동진쎄미켐 감광성 수지 조성물
JP4736692B2 (ja) * 2005-10-12 2011-07-27 凸版印刷株式会社 感光性赤色着色組成物、それを用いたカラーフィルタ基板、および半透過型液晶表示装置
CN100403478C (zh) * 2006-01-13 2008-07-16 四川世纪双虹显示器件有限公司 一种等离子显示屏障壁浆料
JP5042539B2 (ja) * 2006-06-22 2012-10-03 東京応化工業株式会社 感光性樹脂組成物、およびこれを用いた液晶配向制御用バンプ
KR100832298B1 (ko) * 2006-06-29 2008-05-26 엘지디스플레이 주식회사 패턴 형성용 레지스트와 이를 이용한 소프트몰드 제조방법
JP5117002B2 (ja) * 2006-07-10 2013-01-09 富士フイルム株式会社 光硬化性組成物およびそれを用いたパターン形成方法
JP4959252B2 (ja) * 2006-08-11 2012-06-20 富士フイルム株式会社 カラーフィルタ用積層体及びカラーフィルタ
KR101300006B1 (ko) * 2006-09-28 2013-08-26 주식회사 동진쎄미켐 전자 소자용 화합물 및 이를 포함하는 전자 소자
KR20080111967A (ko) * 2007-06-20 2008-12-24 삼성전기주식회사 섀도우 마스크
KR101464312B1 (ko) * 2008-03-03 2014-11-21 주식회사 동진쎄미켐 저온 경화 가능한 감광성 수지 조성물
KR101363783B1 (ko) * 2008-11-14 2014-02-17 엘지디스플레이 주식회사 임프린팅용 감광성 수지 조성물 및 기판 상에 유기막을 형성하는 방법
KR101018324B1 (ko) * 2008-11-27 2011-03-04 디아이씨 가부시끼가이샤 컬러 필터용 안료 조성물, 그 제조 방법 및 컬러 필터
JP2012047764A (ja) 2008-12-26 2012-03-08 Sharp Corp 表示装置用基板及びその製造方法並びに表示装置
TWI600720B (zh) * 2012-03-28 2017-10-01 Dainippon Ink & Chemicals Organic pigment composition for color filter, its manufacturing method, and color filter
CN102778813B (zh) * 2012-07-31 2014-04-16 京东方科技集团股份有限公司 一种感光树脂组合物
TWI603983B (zh) * 2012-08-10 2017-11-01 Nippon Shokubai Co Ltd Hardening resin composition and its use
KR101690514B1 (ko) * 2012-12-28 2016-12-28 제일모직 주식회사 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터
KR102069199B1 (ko) * 2013-09-05 2020-02-11 동우 화인켐 주식회사 투명화소 형성용 감광성 수지조성물
KR102443361B1 (ko) * 2015-09-03 2022-09-19 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치
JP6431465B2 (ja) * 2015-11-13 2018-11-28 大日精化工業株式会社 カラーフィルター用着色組成物
WO2018008376A1 (ja) * 2016-07-06 2018-01-11 富士フイルム株式会社 感光性組成物、転写フィルム、硬化膜、並びに、タッチパネル及びその製造方法
WO2019066313A1 (ko) * 2017-09-27 2019-04-04 주식회사 엘지화학 포토폴리머 조성물
KR102156872B1 (ko) 2017-09-27 2020-09-16 주식회사 엘지화학 포토폴리머 조성물
CN113621306B (zh) * 2021-08-26 2022-04-05 深圳市精而美精密陶瓷科技有限公司 耐指纹陶瓷质感涂料、制备方法及其电子结构件
CN116017967B (zh) * 2023-02-01 2023-06-20 中国科学院西安光学精密机械研究所 掩模液及随机裂纹模板与电磁屏蔽光学窗口的制备方法

Family Cites Families (35)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59170110A (ja) 1983-03-18 1984-09-26 Kansai Paint Co Ltd 被膜形成性樹脂組成物の製造方法
US4716194A (en) * 1985-11-25 1987-12-29 National Starch And Chemical Corporation Removable pressure sensitive adhesive
JPH04156402A (ja) * 1990-10-19 1992-05-28 Dainippon Printing Co Ltd カラーフィルター
JP3094403B2 (ja) * 1992-03-27 2000-10-03 ジェイエスアール株式会社 顔料分散型カラーフィルター用組成物
JPH08106163A (ja) 1994-10-04 1996-04-23 Hitachi Chem Co Ltd 着色画像形成材料、これを用いた感光液、感光性エレメント、カラーフィルターの製造法及びカラーフィルター
TW406214B (en) * 1995-03-16 2000-09-21 Hitachi Chemical Co Ltd Production of color filter
US5523114A (en) * 1995-03-28 1996-06-04 Chung Picture Tubes, Ltd. Surface coating with enhanced color contrast for video display
JPH0915857A (ja) * 1995-06-29 1997-01-17 Hitachi Chem Co Ltd 着色画像形成材料、これを用いた感光液、感光性エレメント及びカラーフィルタの製造法
JPH0961616A (ja) 1995-08-22 1997-03-07 Hitachi Chem Co Ltd カラーフィルターの製造法及びカラーフィルター
KR19980020319A (ko) 1996-09-06 1998-06-25 손욱 감광성수지 조성물 및 이를 이용한 패턴의 형성방법
KR19980020614A (ko) 1996-09-10 1998-06-25 손욱 감광성 수지 조성물, 그 제조방법 및 그 감광성 수지 조성물을 이용한 패턴의 형성방법
JPH10133370A (ja) 1996-11-01 1998-05-22 Mitsubishi Chem Corp カラーフィルター用レジスト組成物及びカラーフィルター
JPH10186652A (ja) 1996-12-20 1998-07-14 Hitachi Chem Co Ltd 硬化塗膜用樹脂組成物、これを用いたカラーフィルタ保護膜、カラーフィルタおよび液晶表示素子
JPH10212448A (ja) 1997-01-31 1998-08-11 Hitachi Chem Co Ltd 硬化塗膜用樹脂組成物、これを用いたカラーフィルタ保護膜、カラーフィルタおよび液晶表示素子
KR19980068288A (ko) * 1997-02-17 1998-10-15 한형수 불포화기와 감광기를 동시에 함유하는 감광성수지조성물 및 착색조성물
JPH1138226A (ja) 1997-07-17 1999-02-12 Jsr Corp カラーフィルタ用感放射線性組成物
US6140019A (en) * 1997-07-24 2000-10-31 Jsr Corporation Radiation sensitive composition
JP4282783B2 (ja) * 1997-12-16 2009-06-24 Jsr株式会社 カラーフィルタ用感放射線性組成物
JPH11231124A (ja) 1998-02-13 1999-08-27 Jsr Corp カラーフィルタ用感放射線性組成物
JPH11338142A (ja) 1998-05-25 1999-12-10 Fujifilm Olin Co Ltd 感光性樹脂組成物
JP2000035670A (ja) 1998-07-21 2000-02-02 Sumitomo Chem Co Ltd 着色感光性樹脂組成物
JP2000047020A (ja) 1998-07-29 2000-02-18 Toppan Printing Co Ltd カラーフィルター用着色組成物
KR100574321B1 (ko) 1999-02-04 2006-04-26 제일모직주식회사 감광성 수지 조성물 및 블랙매트릭스
KR100300426B1 (ko) 1999-03-31 2001-09-22 김순택 칼라필터용 포토레지스트액
JP2001183829A (ja) 1999-12-27 2001-07-06 Hitachi Chem Co Ltd 着色画像形成材料、これを用いた感光液、感光性エレメント、カラーフィルターの製造法及びカラーフィルター
JP3806281B2 (ja) * 2000-04-26 2006-08-09 大日本印刷株式会社 カラーフィルタ用の樹脂組成物
JP2001337219A (ja) 2000-05-30 2001-12-07 Hitachi Ltd カラーフィルター基板及びその製造方法、液晶表示素子、液晶表示装置、並びに、感光性樹脂組成物
JP4582269B2 (ja) 2000-05-30 2010-11-17 凸版印刷株式会社 ブラックマトリックスを具備しないカラーフィルタの製造方法
JP4504513B2 (ja) * 2000-06-01 2010-07-14 大日本印刷株式会社 カラーフィルタ用顔料分散組成物とその製造方法およびディスプレー用カラーフィルタ
US6534235B1 (en) * 2000-10-31 2003-03-18 Kansai Research Institute, Inc. Photosensitive resin composition and process for forming pattern
KR100359222B1 (ko) * 2000-12-28 2002-11-04 제일모직주식회사 칼라필터용 감광성 수지 조성물
EP1403291B1 (en) * 2001-05-31 2007-08-29 Kaneka Corporation Process for producing polymer having crosslinkable silyl group and curable composition
TWI300516B (ja) * 2001-07-24 2008-09-01 Jsr Corp
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