JP4477853B2 - 溶解特性を調節する感光性樹脂組成物及びこれを用いた二層構造パターンの形成方法 - Google Patents
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Description
イ)アルカリ水溶液に溶解されるバインダー5乃至30重量部、
ロ)少なくとも2つ以上のエチレン系二重結合を有する架橋性モノマー5乃至30重量部、
ハ)顔料10乃至60重量部、
ニ)アセトフェノン系化合物、キサントン系化合物、ベンゾイン系化合物、及びイミダゾール系化合物からなる群から1種以上選ばれる光重合開始剤1乃至5重量部、
ホ)シラン系高分子化合物及び少なくとも一つ以上のエポキシ基を含有するエチレン系モノマーまたはそのオリゴマーからなる群から1種以上選ばれる下層部硬化剤0.1乃至2重量部、及び
ヘ)溶剤20乃至80重量部を含むカラーフィルター用感光性樹脂組成物を提供する。
2 有機膜オーバーコート層
3 反射領域
4 透過領域
5 ホール
6 反射窓
7 透過窓
8 透明層
Claims (14)
- 基材上に、コーティング層の下層部を硬化することができる下層部硬化剤を含む感光性樹脂組成物をコーティングしてコーティング層を形成し、
不飽和露光を起こすためにスリットパターンを有するフォトマスクを利用して前記コーティング層を露光し、及び、
前記露光されたコーティング層を現像する工程を含み、
現像後、前記コーティング層の上層部を不飽和露光によって除去し、前記下層部を、露光量に対応した膜厚で残存させ、
前記感光性樹脂組成物は、
イ)アルカリ水溶液に溶解されるバインダー5〜30重量部、
ロ)少なくとも2つ以上のエチレン系二重結合を有する架橋性モノマー5〜30重量部、
ハ)顔料10〜60重量部、
ニ)アセトフェノン系化合物、キサントン系化合物、ベンゾイン系化合物及びイミダゾール系化合物からなる群から1種以上選ばれる光重合開始剤1〜5重量部、
ホ)溶剤20〜80重量部と、
前記下層部硬化剤として、3−アクリルオキシプロピルトリメトキシシランを0.1〜2重量部を含むディスプレイ素子用二層構造のパターン形成方法。 - 前記スリットパターンを有するフォトマスクは、x軸方向とy軸方向に対して光が透過する部分(WL)の幅が1〜100マイクロメーターであるスリットパターンを有する請求項1に記載のスリットマスクを利用した二層構造パターンの形成方法。
- 前記スリットパターンを有するフォトマスクは、x軸方向とy軸方向に対して光が遮断される部分(BS)の幅が1〜100マイクロメーターであるスリットパターンを有する請求項1又は2に記載のスリットマスクを利用した二層構造パターンの形成方法。
- 前記スリットパターンを有するフォトマスクは、x軸方向とy軸方向に対して光が透過する部分(WL)の幅が1〜100マイクロメーターである格子パターンを有する請求項1に記載のスリットマスクを利用した二層構造パターンの形成方法。
- 前記スリットパターンを有するフォトマスクは、x軸方向とy軸方向に対して光が遮断される部分(BS)の幅が1〜100マイクロメーターである格子パターンを有する請求項1又は2に記載のスリットマスクを利用した二層構造パターンの形成方法。
- 前記アルカリ水溶液に溶解されるバインダーが、エチレン系酸性基を有する単量体10〜40重量%及びエチレン系酸性基を有しない単量体60〜90重量%の共重合体である請求項1に記載の二層構造パターンの形成方法。
- 前記エチレン系酸性基を有する単量体が、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、ビニル酢酸またはこれらの酸無水物形態、
2-アクリロオキシエチルヒドロゲンフタレート;2-アクリロオキシプロピルヒドロゲンフタレート、及び
2-アクリロオキシプロピルヘキサヒドロゲンフタレートからなる群から1種以上選ばれる請求項6に記載の二層構造パターンの形成方法。 - 前記エチレン系酸性基を有しない単量体としては、
イソブチルアクリレート、tert-ブチルアクリレート、ラウリルアクリレート、アルキルアクリレート、ステアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、イソボニルアクリレート、ベンジルアクリレート、2-ヒドロキシアクリレート、トリメトキシブチルアクリレート、エチルカルビトルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、4-ヒドロキシブチルアクリレート、フェノキシポリエチレングリコールアクリレート、2-ヒドロキシエチルアクリレート、2-ヒドロキシプロピルアクリレート、2-アクリルオキシエチル2-ヒドロキシプロピルフタレート、2-ヒドロキシ-3-フェノキシプロピルアクリレート及びこれらのメタクリレート類、
ハロゲン化合物を含むアクリレート及びこれらのメタクリレート類、
シロキサンを含むアクリレート及びこれらのメタクリレート類、
芳香族を有するオレフィン類、
からなる群から1種以上選ばれる請求項6に記載の二層構造パターンの形成方法。 - 前記少なくとも2つ以上のエチレン系二重結合を有する架橋性モノマーが、1,4-ブタンジオールジアクリレート、1,3-ブチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ビスフェノールAジアクリレート誘導体、トリメチルプロパントリアクリレート、ジペンタエリスリトールポリアクリレート、及びこれらのメタクリレート類からなる群から1種以上選ばれる請求項1に記載の二層構造パターンの形成方法。
- 前記顔料が、有機顔料または無機顔料である請求項1に記載の二層構造パターンの形成方法。
- 前記溶剤が、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、シクロヘキサノン、3-メトキシプロピオン酸エチル、3-エトキシプロピオン酸メチル、3-エトキシプロピオン酸エチルからなる群から1種以上選ばれる請求項1に記載の二層構造パターンの形成方法。
- 前記感光性樹脂組成物は、ポリエステル系分散剤、ポリウレタン系分散剤、シリコン系界面活性剤及びフッ素系界面活性剤からなる群から1種以上選ばれる、顔料との分散性向上のための分散剤またはコーティング性向上のための添加剤を0.01〜1重量部をさらに含む請求項1に記載の二層構造パターンの形成方法。
- コーティング層は、現像によって、フィルムの厚さの変化傾きであるガンマ値が2.5未満である請求項1に記載のディスプレイ素子用二層構造のパターン形成方法。
- 前記ガンマ値が0.1以上、2.5未満である請求項13に記載の二層構造パターンの形成方法。
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