JP3094403B2 - 顔料分散型カラーフィルター用組成物 - Google Patents
顔料分散型カラーフィルター用組成物Info
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- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
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- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
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- G03F7/0295—Photolytic halogen compounds
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、顔料分散型カラーフィ
ルター用組成物に関する。さらに詳しくは、液晶ディス
プレイや電荷結合素子等のカラーフィルター製造に好適
に使用しうる顔料分散型カラーフィルター用組成物に関
する。
ルター用組成物に関する。さらに詳しくは、液晶ディス
プレイや電荷結合素子等のカラーフィルター製造に好適
に使用しうる顔料分散型カラーフィルター用組成物に関
する。
【０００２】
【従来の技術】液晶ディスプレイのカラーフィルターを
製造する方法として染色法、印刷法、電着法等が知られ
ており、特に近年色純度、寸法精度、耐プロセス性等の
面から顔料分散型着色感光性組成物を用いるフォトリソ
グラフィー法が着目されつつある（「カラー液晶ディス
プレイ」１７３頁小林駿介編著、産業図書１９９０
年）。
製造する方法として染色法、印刷法、電着法等が知られ
ており、特に近年色純度、寸法精度、耐プロセス性等の
面から顔料分散型着色感光性組成物を用いるフォトリソ
グラフィー法が着目されつつある（「カラー液晶ディス
プレイ」１７３頁小林駿介編著、産業図書１９９０
年）。
【０００３】しかしながら、種々の利点を有する顔料分
散型着色感光性組成物を用いるフォトリソグラフィー法
においても、安定に高精細なカラーフィルターを製造す
る上で、一層の性能の向上が求められている。すなわ
ち、一般に高精細画素は現像工程において、顔料分散型
着色感光性組成物を基板に塗布し、露光し、現像するこ
とによって、カラーフィルターの着色画素を形成する場
合に、基板からはがれ易くカラーフィルターに欠損を生
じ易い。一方、高精細画素の基板への密着性向上を図る
と、同時に現像液に溶解散逸すべき非画素部の現像液へ
の溶解性も低下しがちで、いわゆる地汚れや膜残りが発
生し易い。他方、これらの地汚れや膜残りを除去する方
法としてスポンジ等の柔らかな物質でこする等して物理
的刺激を与えることもよく採られる方法であるが、この
方法はカラーフィルター表面の荒れやゴミの発生等を伴
うのでカラーフィルター製造の歩留まり低下につながり
好ましいものではない。
散型着色感光性組成物を用いるフォトリソグラフィー法
においても、安定に高精細なカラーフィルターを製造す
る上で、一層の性能の向上が求められている。すなわ
ち、一般に高精細画素は現像工程において、顔料分散型
着色感光性組成物を基板に塗布し、露光し、現像するこ
とによって、カラーフィルターの着色画素を形成する場
合に、基板からはがれ易くカラーフィルターに欠損を生
じ易い。一方、高精細画素の基板への密着性向上を図る
と、同時に現像液に溶解散逸すべき非画素部の現像液へ
の溶解性も低下しがちで、いわゆる地汚れや膜残りが発
生し易い。他方、これらの地汚れや膜残りを除去する方
法としてスポンジ等の柔らかな物質でこする等して物理
的刺激を与えることもよく採られる方法であるが、この
方法はカラーフィルター表面の荒れやゴミの発生等を伴
うのでカラーフィルター製造の歩留まり低下につながり
好ましいものではない。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】それ故、本発明の目的
は新規な顔料分散型カラーフィルター用組成物を提供す
ることにある。本発明の他の目的は、基板への密着性が
優れた画素を与えしかも現像時に地汚れや膜残りを起こ
さない、新規な顔料分散型カラーフィルター用組成物を
提供することにある。
は新規な顔料分散型カラーフィルター用組成物を提供す
ることにある。本発明の他の目的は、基板への密着性が
優れた画素を与えしかも現像時に地汚れや膜残りを起こ
さない、新規な顔料分散型カラーフィルター用組成物を
提供することにある。
【０００５】本発明のさらに他の目的は液晶ディスプレ
イや電荷結合素子等のカラーフィルター製造に好適な顔
料分散型カラーフィルター用組成物を提供することにあ
る。
イや電荷結合素子等のカラーフィルター製造に好適な顔
料分散型カラーフィルター用組成物を提供することにあ
る。
【０００６】本発明のさらに他の目的および利点は以下
の説明から明らかとなろう。本発明によれば、本発明の
上記目的および利点は、（Ａ）酸基を有するブロックと
酸基を持たないブロックからなるアルカリ可溶性ブロッ
ク共重合体、（Ｂ）感放射線性化合物、および（Ｃ）顔
料を含有することを特徴とする顔料分散型カラーフィル
ター用組成物によって達成される。
の説明から明らかとなろう。本発明によれば、本発明の
上記目的および利点は、（Ａ）酸基を有するブロックと
酸基を持たないブロックからなるアルカリ可溶性ブロッ
ク共重合体、（Ｂ）感放射線性化合物、および（Ｃ）顔
料を含有することを特徴とする顔料分散型カラーフィル
ター用組成物によって達成される。
【０００７】本発明の組成物において、バインダーとし
ての重合体は、酸基を有するブロックと酸基を持たない
ブロックからなるアルカリ可溶性ブロック共重合体
（Ａ）が用いられる。
ての重合体は、酸基を有するブロックと酸基を持たない
ブロックからなるアルカリ可溶性ブロック共重合体
（Ａ）が用いられる。
【０００８】酸基を有するブロックは、例えばエチレン
系不飽和カルボン酸、エチレン系不飽和スルホン酸の如
き酸基を有する単量体の少くとも１種の均質重合体、共
重合体あるいは前述した酸基を有する単量体と共重合可
能な酸基を持たない単量体との共重合体からなる。酸基
を有するブロックは重合度の制御の容易性からエチレン
系不飽和カルボン酸の均質重合体またはエチレン系不飽
和カルボン酸とそれと共重合可能な酸基を持たない単量
体との共重合体が好ましい。
系不飽和カルボン酸、エチレン系不飽和スルホン酸の如
き酸基を有する単量体の少くとも１種の均質重合体、共
重合体あるいは前述した酸基を有する単量体と共重合可
能な酸基を持たない単量体との共重合体からなる。酸基
を有するブロックは重合度の制御の容易性からエチレン
系不飽和カルボン酸の均質重合体またはエチレン系不飽
和カルボン酸とそれと共重合可能な酸基を持たない単量
体との共重合体が好ましい。
【０００９】エチレン系不飽和カルボン酸としては例え
ばアクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、イタコン
酸、マレイン酸、フマル酸、マレイン酸モノメチル、フ
マル酸モノメチルを好ましいものとして挙げることがで
きる。
ばアクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、イタコン
酸、マレイン酸、フマル酸、マレイン酸モノメチル、フ
マル酸モノメチルを好ましいものとして挙げることがで
きる。
【００１０】エチレン系不飽和スルホン酸としては、イ
ソプレンスルホン酸、スチレンスルホン酸等を挙げるこ
とができる。
ソプレンスルホン酸、スチレンスルホン酸等を挙げるこ
とができる。
【００１１】それと共重合可能な酸基を持たない単量体
としては、例えばスチレン、α−メチルスチレン、ビニ
ルトルエンの如き芳香族ビニル化合物；メチル（メタ）
アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル
（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）
アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレートの如きエ
チレン系不飽和カルボン酸エステル；酢酸ビニル、プロ
ピオン酸ビニルの如きカルボン酸ビニルエステル；（メ
タ）アクリロニトリル、α−クロルアクリロニトリルの
如きシアン化ビニル；１,３−ブタジエン、２−メチル
−１,３−ブタジエン、イソプレンの如き脂肪族系共役
ジエン等を挙げることができる。
としては、例えばスチレン、α−メチルスチレン、ビニ
ルトルエンの如き芳香族ビニル化合物；メチル（メタ）
アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル
（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）
アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレートの如きエ
チレン系不飽和カルボン酸エステル；酢酸ビニル、プロ
ピオン酸ビニルの如きカルボン酸ビニルエステル；（メ
タ）アクリロニトリル、α−クロルアクリロニトリルの
如きシアン化ビニル；１,３−ブタジエン、２−メチル
−１,３−ブタジエン、イソプレンの如き脂肪族系共役
ジエン等を挙げることができる。
【００１２】酸基を持たないブロックは、先に挙げた芳
香族ビニル化合物、エチレン系不飽和カルボン酸アルキ
ルエステル、カルボン酸ビニルエステル、シアン化ビニ
ル、脂肪族共役ジエン；さらにアミノエチルアクリレー
トの如きエチレン系不飽和カルボン酸アミノアルキルエ
ステル；グリシジル（メタ）アクリレートの如き不飽和
脂肪酸グリシジルエステル；末端に（メタ）アクリロイ
ル基を有するポリスチレン；ポリメチル（メタ）アクリ
レート、ポリブチル（メタ）アリレート、ポリシリコー
ンの如きを含有するマクロモノマー等の重合体または共
重合体からなる。これらのうちで、ポリメチル（メタ）
アクリレート、ポリブチル（メタ）アリレート、ポリシ
リコーンの如きを含有するマクロモノマーの共重合体が
好ましい。
香族ビニル化合物、エチレン系不飽和カルボン酸アルキ
ルエステル、カルボン酸ビニルエステル、シアン化ビニ
ル、脂肪族共役ジエン；さらにアミノエチルアクリレー
トの如きエチレン系不飽和カルボン酸アミノアルキルエ
ステル；グリシジル（メタ）アクリレートの如き不飽和
脂肪酸グリシジルエステル；末端に（メタ）アクリロイ
ル基を有するポリスチレン；ポリメチル（メタ）アクリ
レート、ポリブチル（メタ）アリレート、ポリシリコー
ンの如きを含有するマクロモノマー等の重合体または共
重合体からなる。これらのうちで、ポリメチル（メタ）
アクリレート、ポリブチル（メタ）アリレート、ポリシ
リコーンの如きを含有するマクロモノマーの共重合体が
好ましい。
【００１３】ブロック共重合体を得る重合法としては、
通常のよく知られた方法を採用し得る。例えば、リビン
グ重合法、異なるブロックを官能基反応で結合する方法
あるいはマクロモノマーを利用する方法等である（「高
分子合成」、高分子のエッセンスとトピックス２、１２
章、古川淳二、化学同人、１９８６年）。特にマクロモ
ノマーを利用すると簡便なラジカル重合法で意図するブ
ロック共重合体が得られ易く、好都合である。
通常のよく知られた方法を採用し得る。例えば、リビン
グ重合法、異なるブロックを官能基反応で結合する方法
あるいはマクロモノマーを利用する方法等である（「高
分子合成」、高分子のエッセンスとトピックス２、１２
章、古川淳二、化学同人、１９８６年）。特にマクロモ
ノマーを利用すると簡便なラジカル重合法で意図するブ
ロック共重合体が得られ易く、好都合である。
【００１４】ブロック共重合体を製造するに際し、酸基
を有する単量体の共重合量は、全単量体を基準にして、
１５〜５０重量％が好ましい。１５重量％未満では、ブ
ロック共重合体のアルカリ現像液への溶解性が不足し、
非画素部の地汚れや膜残りが発生し易くなる。また５０
重量％を超えると、ブロック共重合体のアルカリ現像液
への溶解性が過剰となり、画素の基板からの脱落を生じ
易くなる。最も好ましい範囲は２０〜４０重量％の範囲
である。
を有する単量体の共重合量は、全単量体を基準にして、
１５〜５０重量％が好ましい。１５重量％未満では、ブ
ロック共重合体のアルカリ現像液への溶解性が不足し、
非画素部の地汚れや膜残りが発生し易くなる。また５０
重量％を超えると、ブロック共重合体のアルカリ現像液
への溶解性が過剰となり、画素の基板からの脱落を生じ
易くなる。最も好ましい範囲は２０〜４０重量％の範囲
である。
【００１５】また、ブロック共重合体の分子量としては
テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）をキャリヤーとしたゲル
パーミュエーションクロマトグラフィー（以下、ＧＰＣ
と略す）にて測定したポリスチレン換算重量平均分子量
が１０,０００〜５００,０００が好ましく、さらに２
０,０００〜３００,０００が特に好ましい。
テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）をキャリヤーとしたゲル
パーミュエーションクロマトグラフィー（以下、ＧＰＣ
と略す）にて測定したポリスチレン換算重量平均分子量
が１０,０００〜５００,０００が好ましく、さらに２
０,０００〜３００,０００が特に好ましい。
【００１６】ブロック共重合体の分子量が５００,００
０を越えると現像後の画素周辺にスカムが発生し易く、
いわゆるパターンエッジのシャープさが不足しがちとな
り、さらに非画素部の地汚れや膜残りも発生し易くな
る。一方ブロック共重合体の分子量が１０,０００未満
であると最適現像液を提供する現像時間の幅が狭く、い
わゆる現像時間のマージンが小さくなりがちである。
０を越えると現像後の画素周辺にスカムが発生し易く、
いわゆるパターンエッジのシャープさが不足しがちとな
り、さらに非画素部の地汚れや膜残りも発生し易くな
る。一方ブロック共重合体の分子量が１０,０００未満
であると最適現像液を提供する現像時間の幅が狭く、い
わゆる現像時間のマージンが小さくなりがちである。
【００１７】感放射線性化合物（Ｂ）としては、例えば
放射線の照射により分子が解離し、活性化合物を遊離
し、不飽和二重結合の連鎖反応を発生させ、三次元に架
橋した化合物を生成するもの、あるいは分子が解離
し、活性化合物を遊離し、Ｃ−Ｃ結合やＣ−Ｈ結合に挿
入反応により結合し、三次元架橋構造を生成するものが
利用される。
放射線の照射により分子が解離し、活性化合物を遊離
し、不飽和二重結合の連鎖反応を発生させ、三次元に架
橋した化合物を生成するもの、あるいは分子が解離
し、活性化合物を遊離し、Ｃ−Ｃ結合やＣ−Ｈ結合に挿
入反応により結合し、三次元架橋構造を生成するものが
利用される。
【００１８】の例として、例えば放射線照射でラジカ
ル、カルベン、ナイトレン等を発生する化合物、すなわ
ち光重合開始剤および放射線照射で重合する多価不飽和
二重結合を有する化合物、すなわち光重合性モノマーま
たはオリゴマーを例示することができる。このうち、光
重合開始剤としては、例えばカルボニウム化合物、アゾ
化合物またはアジド化合物等の有機硫黄化合物、過酸化
物あるいはトリハロメタン化合物を挙げることができ
る。
ル、カルベン、ナイトレン等を発生する化合物、すなわ
ち光重合開始剤および放射線照射で重合する多価不飽和
二重結合を有する化合物、すなわち光重合性モノマーま
たはオリゴマーを例示することができる。このうち、光
重合開始剤としては、例えばカルボニウム化合物、アゾ
化合物またはアジド化合物等の有機硫黄化合物、過酸化
物あるいはトリハロメタン化合物を挙げることができ
る。
【００１９】カルボニウム化合物の具体例としては、ジ
アセチル、ベンジル、ベンゾイン、２−ヒドロキシ−２
−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−（４
−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチ
ルプロパン−１−オン、４−（２−ヒドロキシエトキ
シ）フェニル−（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケト
ン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、
２,２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２
−メチル−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モル
フォリノ−１−プロパン−１−オン、２−ベンジル−２
−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）
−ブタン−１−オン、ベンゾフェノン、４,４’−ビス
（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４,４’−ビス
（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２,４−ジエチル
チオキサントン、３,３−ジメチル−４−メトキシベン
ゾフェノン等が挙げられる。
アセチル、ベンジル、ベンゾイン、２−ヒドロキシ−２
−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−（４
−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチ
ルプロパン−１−オン、４−（２−ヒドロキシエトキ
シ）フェニル−（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケト
ン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、
２,２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２
−メチル−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モル
フォリノ−１−プロパン−１−オン、２−ベンジル−２
−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）
−ブタン−１−オン、ベンゾフェノン、４,４’−ビス
（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４,４’−ビス
（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２,４−ジエチル
チオキサントン、３,３−ジメチル−４−メトキシベン
ゾフェノン等が挙げられる。
【００２０】アゾ化合物およびアジド化合物の具体例と
しては、アゾイソブチロニトリル、ジアゾニウム、４−
アジドベンズアルデヒド、４−アジドアセトフェノン、
４−アジドベンザルアセトフェノン、４−アジドベンザ
ルアセトン、アジドピレン、４−ジアゾジフェニルアミ
ン、４−ジアゾ−４’−メトキシジフェニルアミン、４
−ジアゾ−３’−メトキシジフェニルアミン等が挙げら
れる。
しては、アゾイソブチロニトリル、ジアゾニウム、４−
アジドベンズアルデヒド、４−アジドアセトフェノン、
４−アジドベンザルアセトフェノン、４−アジドベンザ
ルアセトン、アジドピレン、４−ジアゾジフェニルアミ
ン、４−ジアゾ−４’−メトキシジフェニルアミン、４
−ジアゾ−３’−メトキシジフェニルアミン等が挙げら
れる。
【００２１】有機硫黄化合物の具体例としては、メルカ
プタンジスルフィド等が挙げられる。過酸化物の具体例
としては、ジエチルエーテルパーオキサイド等が挙げら
れる。
プタンジスルフィド等が挙げられる。過酸化物の具体例
としては、ジエチルエーテルパーオキサイド等が挙げら
れる。
【００２２】トリハロメタン化合物の具体例としては、
１,３−ビス（トリクロロメチル）−５−（２’−クロ
ロフェニル）−ｓ−トリアジン、１,３−ビス（トリク
ロロメチル）−５−（４’−メトキシフェニル）−ｓ−
トリアジン等が挙げられる。
１,３−ビス（トリクロロメチル）−５−（２’−クロ
ロフェニル）−ｓ−トリアジン、１,３−ビス（トリク
ロロメチル）−５−（４’−メトキシフェニル）−ｓ−
トリアジン等が挙げられる。
【００２３】光重合性モノマーまたはオリゴマーとして
は、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタ
エリスリトールトリアクリレート、トリスアクリロイル
オキシエチルフォスフェート、ペンタエリスリトールテ
トラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアク
リレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
等の多価アクリレート；４−アジドベンズアルデヒドと
ポリビニルアルコールとの縮合物、４−アジドベンズア
ルデヒドとフェノールノボラック樹脂の縮合物、４−ア
クリロイルフェニルシンナモイルエステルの重合物また
は共重合物等が挙げられる。
は、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタ
エリスリトールトリアクリレート、トリスアクリロイル
オキシエチルフォスフェート、ペンタエリスリトールテ
トラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアク
リレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
等の多価アクリレート；４−アジドベンズアルデヒドと
ポリビニルアルコールとの縮合物、４−アジドベンズア
ルデヒドとフェノールノボラック樹脂の縮合物、４−ア
クリロイルフェニルシンナモイルエステルの重合物また
は共重合物等が挙げられる。
【００２４】また、の例としては、放射線照射で、カ
ルベン、ナイトレン等を発生する官能基を２個以上有す
る化合物、すなわち光架橋剤を例示することができる。
光架橋剤としては、ジアジドカルコン、２,６−ビス
（４’−アジドベンザル）シクロヘキサノン、２,６−
ビス（４’−アジドベンザル）−４−メチルシクロヘキ
サノン、１,３−ビス（４’−アジドベンザル）−２−
プロパン、１,３−ビス（４’−アジドシンナミリデ
ン）−２−プロパノン、４,４’−ジアジドスチルベ
ン、重クロム酸アンモニウム等が挙げられる。
ルベン、ナイトレン等を発生する官能基を２個以上有す
る化合物、すなわち光架橋剤を例示することができる。
光架橋剤としては、ジアジドカルコン、２,６−ビス
（４’−アジドベンザル）シクロヘキサノン、２,６−
ビス（４’−アジドベンザル）−４−メチルシクロヘキ
サノン、１,３−ビス（４’−アジドベンザル）−２−
プロパン、１,３−ビス（４’−アジドシンナミリデ
ン）−２−プロパノン、４,４’−ジアジドスチルベ
ン、重クロム酸アンモニウム等が挙げられる。
【００２５】これらの感放射線性化合物のうち、光重合
開始剤として放射線の照射でラジカルを発生する化合物
と光重合性モノマーまたはオリゴマーとして多価アクリ
レートを用いるのが好ましい。例えば、２−メチル−
［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−
１−プロパン−１−オンまたは２−ベンジル−２−ジメ
チルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタ
ン−１−オンを光重合剤に用い、ペンタエリスリトール
トリアクリレートまたはジペンタエリスリトールヘキサ
アクリレートを光重合性モノマーまたはオリゴマーとし
て用いる。この場合、光重合開始剤は、光重合性モノマ
ーまたはオリゴマー１００重量部に対し、０.０１〜２
００重量部、好ましくは１〜１２０重量部を用いる。
開始剤として放射線の照射でラジカルを発生する化合物
と光重合性モノマーまたはオリゴマーとして多価アクリ
レートを用いるのが好ましい。例えば、２−メチル−
［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−
１−プロパン−１−オンまたは２−ベンジル−２−ジメ
チルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタ
ン−１−オンを光重合剤に用い、ペンタエリスリトール
トリアクリレートまたはジペンタエリスリトールヘキサ
アクリレートを光重合性モノマーまたはオリゴマーとし
て用いる。この場合、光重合開始剤は、光重合性モノマ
ーまたはオリゴマー１００重量部に対し、０.０１〜２
００重量部、好ましくは１〜１２０重量部を用いる。
【００２６】感放射線性化合物は本発明の組成物が放射
線の照射を得て接着性を有する塗膜を形成し得るならば
任意の割合で使用できる。このような感放射線性化合物
は、アルカリ可溶性ブロック共重合体（Ａ）１００重量
部に対して、好ましくは５〜５００重量部で用いられ、
より好ましくは２０〜２００重量部で用いられる。５重
量部未満では、画素の鮮明さが不充分となり易く、５０
０重量部を超えると非画素部に膜残りが生じ易くなる。
線の照射を得て接着性を有する塗膜を形成し得るならば
任意の割合で使用できる。このような感放射線性化合物
は、アルカリ可溶性ブロック共重合体（Ａ）１００重量
部に対して、好ましくは５〜５００重量部で用いられ、
より好ましくは２０〜２００重量部で用いられる。５重
量部未満では、画素の鮮明さが不充分となり易く、５０
０重量部を超えると非画素部に膜残りが生じ易くなる。
【００２７】また、顔料（Ｃ）としては有機顔料および
無機顔料のいずれもが使用できる。有機顔料としては、
水また有機溶剤に不溶性の染料または顔料が好ましい。
具体的には、カラーインデックス（Ｔｈｅ Ｓｏｃｉｅ
ｔｙ ｏｆ Ｄｙｅｒｓａｎｄ Ｃｏｌｏｕｒｉｓｔｓ
出版）のピグメント（Ｐｉｇｍｅｎｔ）に分類される化
合物を挙げることができる。
無機顔料のいずれもが使用できる。有機顔料としては、
水また有機溶剤に不溶性の染料または顔料が好ましい。
具体的には、カラーインデックス（Ｔｈｅ Ｓｏｃｉｅ
ｔｙ ｏｆ Ｄｙｅｒｓａｎｄ Ｃｏｌｏｕｒｉｓｔｓ
出版）のピグメント（Ｐｉｇｍｅｎｔ）に分類される化
合物を挙げることができる。
【００２８】また、無機顔料としては、金属酸化物、金
属錯塩等で示される含金属化合物が好ましい。具体的に
は鉄、コバルト、アルミニウム、カドミウム、鉛、銅、
チタン、マグネシウム、クロム、亜鉛、アンチモン等の
金属酸化物、および複合酸化物を挙げることができる。
属錯塩等で示される含金属化合物が好ましい。具体的に
は鉄、コバルト、アルミニウム、カドミウム、鉛、銅、
チタン、マグネシウム、クロム、亜鉛、アンチモン等の
金属酸化物、および複合酸化物を挙げることができる。
【００２９】かかる顔料（Ｃ）の具体例としては、Ｃ．
Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ ２４、Ｃ．Ｉ．Ｐ
ｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ ３１、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍ
ｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ ５３、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ
Ｙｅｌｌｏｗ ８３、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｏｒ
ａｎｇｅ ４３、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｒｅｄ １
０５、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｒｅｄ １４９、Ｃ．
Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｒｅｄ １７６、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇ
ｍｅｎｔ Ｒｅｄ １７７、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ
Ｖｉｏｌｅｔ １４、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｖｉｏ
ｌｅｔ ２９、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ １
５、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ １５：３、
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ ２２、Ｃ．Ｉ．Ｐ
ｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ ２８、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎ
ｔ Ｇｒｅｅｎ １５、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｇｒ
ｅｅｎ ２５、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｇｒｅｅｎ
３６、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｒｏｗｎ ２８、
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌａｃｋ １、Ｃ．Ｉ．Ｐ
ｉｇｍｅｎｔ Ｂｌａｃｋ ７等を挙げることができ
る。
Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ ２４、Ｃ．Ｉ．Ｐ
ｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ ３１、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍ
ｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ ５３、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ
Ｙｅｌｌｏｗ ８３、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｏｒ
ａｎｇｅ ４３、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｒｅｄ １
０５、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｒｅｄ １４９、Ｃ．
Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｒｅｄ １７６、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇ
ｍｅｎｔ Ｒｅｄ １７７、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ
Ｖｉｏｌｅｔ １４、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｖｉｏ
ｌｅｔ ２９、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ １
５、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ １５：３、
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ ２２、Ｃ．Ｉ．Ｐ
ｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ ２８、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎ
ｔ Ｇｒｅｅｎ １５、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｇｒ
ｅｅｎ ２５、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｇｒｅｅｎ
３６、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｒｏｗｎ ２８、
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌａｃｋ １、Ｃ．Ｉ．Ｐ
ｉｇｍｅｎｔ Ｂｌａｃｋ ７等を挙げることができ
る。
【００３０】顔料（Ｃ）は、アルカリ可溶性ブロック共
重合体（Ａ）１００重量部に対して、好ましくは１０〜
１０００重量部で用いられ、より好ましくは２０〜５０
０重量部で用いられる。１０重量部未満では画素部の色
濃度が充分でなくなり易く、１,０００重量部を超える
と非画素部の地汚れや膜残りが生じ易い。
重合体（Ａ）１００重量部に対して、好ましくは１０〜
１０００重量部で用いられ、より好ましくは２０〜５０
０重量部で用いられる。１０重量部未満では画素部の色
濃度が充分でなくなり易く、１,０００重量部を超える
と非画素部の地汚れや膜残りが生じ易い。
【００３１】本発明の組成物は上記成分（Ａ）、（Ｂ）
および（Ｃ）の他に必要に応じ他の添加物を含有するこ
とができる。その他の添加物としては、充填剤、その他
の高分子化合物、界面活性剤、密着促進剤、酸化防止
剤、紫外線吸収剤、凝集防止剤、増感剤等を挙げること
ができる。
および（Ｃ）の他に必要に応じ他の添加物を含有するこ
とができる。その他の添加物としては、充填剤、その他
の高分子化合物、界面活性剤、密着促進剤、酸化防止
剤、紫外線吸収剤、凝集防止剤、増感剤等を挙げること
ができる。
【００３２】これらの添加物の具体例としては、ガラ
ス、アルミナ等の充填剤；ポリビニルアルコール、ポリ
アクリル酸、ポリエチレングリコールモノアルキルエー
テル、ポリフロロアルキルアクリレート等の高分子化合
物；ノニオン系、カチオン系、アニオン系等の界面活性
剤；ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシ
ラン、ビニルトリス（２−メトキシエトキシ）シラン、
Ｎ−（２−アミノエチル）３−アミノプロピルメチルジ
メトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）３−アミノ
プロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリ
エトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキ
シシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシ
シラン、、２−（３,４−エポキシシクロヘキシル）エ
チルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルメチルジ
メトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラ
ン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、
３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等の密着促
進剤；２,２−チオビス（４−メチル−６−ｔ−ブチル
フェノール）、２,６−ジ−ｔ−ブチルフェノール等の
酸化防止剤；２−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−２−
ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾー
ル、アルコキシベンゾフェノン等の紫外線吸収剤；ポリ
アクリル酸ナトリウム、ポリメタクリル酸ナトリウム等
の凝集防止剤；ベンゾフェノン、４,４’−ビス（ジメ
チルアミノ）ベンゾフェノン、４,４’−ビス（ジエチ
ルアミノ）ベンゾフェノン、ニトロピレン等の増感剤を
挙げることができる。
ス、アルミナ等の充填剤；ポリビニルアルコール、ポリ
アクリル酸、ポリエチレングリコールモノアルキルエー
テル、ポリフロロアルキルアクリレート等の高分子化合
物；ノニオン系、カチオン系、アニオン系等の界面活性
剤；ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシ
ラン、ビニルトリス（２−メトキシエトキシ）シラン、
Ｎ−（２−アミノエチル）３−アミノプロピルメチルジ
メトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）３−アミノ
プロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリ
エトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキ
シシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシ
シラン、、２−（３,４−エポキシシクロヘキシル）エ
チルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルメチルジ
メトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラ
ン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、
３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等の密着促
進剤；２,２−チオビス（４−メチル−６−ｔ−ブチル
フェノール）、２,６−ジ−ｔ−ブチルフェノール等の
酸化防止剤；２−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−２−
ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾー
ル、アルコキシベンゾフェノン等の紫外線吸収剤；ポリ
アクリル酸ナトリウム、ポリメタクリル酸ナトリウム等
の凝集防止剤；ベンゾフェノン、４,４’−ビス（ジメ
チルアミノ）ベンゾフェノン、４,４’−ビス（ジエチ
ルアミノ）ベンゾフェノン、ニトロピレン等の増感剤を
挙げることができる。
【００３３】また、本発明の組成物を溶解させる溶媒と
しては、例えばメチルアルコール、エチルアルコール、
ｎ−プロピルアルコール、ｉ−プロピルアルコール等の
アルコール系溶媒；メチルセロソルブ、エチルセロソル
ブ等のセロソルブ系溶媒；ジエチレングリコールメチル
エーテル、ジエチレングリコールエチルエーテル等のカ
ルビトール系溶媒；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステ
ル系溶媒；アセトン、メチルイソブチルケトン、シクロ
ヘキサン等のケトン系溶媒；メチルセロソルブアセテー
ト、エチルセロソルブアセテート等のセロソルブアセテ
ート系溶媒；ジエチレングリコールメチルアセテート、
ジエチレングリコールエチルアセテート等のカルビトー
ルアセテート系溶媒；ジエチルエーテル、エチレングリ
コールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチ
ルエーテル（ジグライム）、テトラヒドロフラン等のエ
ーテル系溶媒；Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ,Ｎ−
ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等の非プ
ロトン性アミド系溶媒；γ−ブチロラクトン等のラクト
ン系溶媒；ベンゼン、トルエン、キシレン、ナフタレン
等の芳香族炭化水素系溶媒；ｎ−ヘプタン、ｎ−ヘキサ
ン、ｎ−オクタン等の飽和炭化水素系溶媒等が好適に用
いられる。
しては、例えばメチルアルコール、エチルアルコール、
ｎ−プロピルアルコール、ｉ−プロピルアルコール等の
アルコール系溶媒；メチルセロソルブ、エチルセロソル
ブ等のセロソルブ系溶媒；ジエチレングリコールメチル
エーテル、ジエチレングリコールエチルエーテル等のカ
ルビトール系溶媒；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステ
ル系溶媒；アセトン、メチルイソブチルケトン、シクロ
ヘキサン等のケトン系溶媒；メチルセロソルブアセテー
ト、エチルセロソルブアセテート等のセロソルブアセテ
ート系溶媒；ジエチレングリコールメチルアセテート、
ジエチレングリコールエチルアセテート等のカルビトー
ルアセテート系溶媒；ジエチルエーテル、エチレングリ
コールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチ
ルエーテル（ジグライム）、テトラヒドロフラン等のエ
ーテル系溶媒；Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ,Ｎ−
ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等の非プ
ロトン性アミド系溶媒；γ−ブチロラクトン等のラクト
ン系溶媒；ベンゼン、トルエン、キシレン、ナフタレン
等の芳香族炭化水素系溶媒；ｎ−ヘプタン、ｎ−ヘキサ
ン、ｎ−オクタン等の飽和炭化水素系溶媒等が好適に用
いられる。
【００３４】本発明の組成物は、上記成分（Ａ）、
（Ｂ）および（Ｃ）、さらに場合によって用いられるそ
の他の添加物を溶媒の存在下、例えばボールミル、ペブ
ルミル、シェーカー、ホモジナイザー、三本ロール、サ
ンドミル等を使用して混合分散することによって調製す
ることができる。
（Ｂ）および（Ｃ）、さらに場合によって用いられるそ
の他の添加物を溶媒の存在下、例えばボールミル、ペブ
ルミル、シェーカー、ホモジナイザー、三本ロール、サ
ンドミル等を使用して混合分散することによって調製す
ることができる。
【００３５】このようにして得られる本発明の組成物を
用いてカラーフィルターを形成する際に、基板として
は、例えば液晶表示素子等に用いられるソーダガラス、
パイレックスガラス、石英ガラスおよびこれらのが透明
導電膜を付着させたものや、固体撮像素子等に用いられ
る光電変換素子基板、例えばシリコン基板等が挙げられ
る。
用いてカラーフィルターを形成する際に、基板として
は、例えば液晶表示素子等に用いられるソーダガラス、
パイレックスガラス、石英ガラスおよびこれらのが透明
導電膜を付着させたものや、固体撮像素子等に用いられ
る光電変換素子基板、例えばシリコン基板等が挙げられ
る。
【００３６】
【実施例】以下、本発明を実施例について説明するが、
本発明はこれらによって制限されるものではない。以
下、％は重量％を意味し、部は重量部を意味する。
本発明はこれらによって制限されるものではない。以
下、％は重量％を意味し、部は重量部を意味する。
【００３７】合成例１ エチルセロソルブアセテート １００部 メチルメタクリレート ２５部 メタクリル酸 ２５部 および アゾイソブチロニトリル １部 を攪拌機付オートクレーブに仕込み、室温にて均一にな
るまで攪拌し、ついで８０℃に昇温した。その後３時間
８０℃に保持し、ついで２時間１００℃に保持した。こ
れを室温にまで冷却し、ポリマー溶液Ａを得た。この間
オートクレーブ内は窒素による空気遮断と攪拌とを続け
た。ポリマー溶液Ａの重合収率は９８％であった。また
ポリマー溶液Ａ中のポリマー（以下、ポリマーＡと称
す。以下同様）のポリスチレン換算重量平均分子量（以
下、重量平均分子量と称す）は５３,０００であった
（ＧＰＣ（東ソー製、ＨＬＣ−８０２Ａ）にて測定）。
るまで攪拌し、ついで８０℃に昇温した。その後３時間
８０℃に保持し、ついで２時間１００℃に保持した。こ
れを室温にまで冷却し、ポリマー溶液Ａを得た。この間
オートクレーブ内は窒素による空気遮断と攪拌とを続け
た。ポリマー溶液Ａの重合収率は９８％であった。また
ポリマー溶液Ａ中のポリマー（以下、ポリマーＡと称
す。以下同様）のポリスチレン換算重量平均分子量（以
下、重量平均分子量と称す）は５３,０００であった
（ＧＰＣ（東ソー製、ＨＬＣ−８０２Ａ）にて測定）。
【００３８】別に、 エチルセロソルブアセテート １００部 メチルメタクリレート ３０部 スチレン １８部 グリシジルメタクリレート ２部 および アゾイソブチロニトリル ２部 を攪拌機付オートクレーブに仕込み、ポリマー溶液Ａを
得たのと同一の操作をしてポリマー溶液Ｂを得た。ポリ
マー溶液Ｂの重合収率は９９％以上であった。またポリ
マーＢの重量平均分子量は６２,０００であった。
得たのと同一の操作をしてポリマー溶液Ｂを得た。ポリ
マー溶液Ｂの重合収率は９９％以上であった。またポリ
マーＢの重量平均分子量は６２,０００であった。
【００３９】ついでポリマー溶液Ａとポリマー溶液Ｂと
の等量を混合攪拌しながら１２時間１００℃に保持し、
ポリマーＡのカルボキシル基とポリマーＢのグリシジル
基との反応を促進せしめ、ポリマー溶液Ｃを得た。ポリ
マーＣの重量平均分子量は１４０,０００であった。
の等量を混合攪拌しながら１２時間１００℃に保持し、
ポリマーＡのカルボキシル基とポリマーＢのグリシジル
基との反応を促進せしめ、ポリマー溶液Ｃを得た。ポリ
マーＣの重量平均分子量は１４０,０００であった。
【００４０】合成例２ ジグライム ２００部 ベンジルアクリレート ５０部 メタクリル酸 ３０部 マクロモノマーＡＳ−６1) ２０部 および アゾイソブチロニトリル １部 （1)末端メタクリロイル化ポリスチレン 平均分子量約
６,０００、東亜合成化学工業（株）製） を攪拌機付オートクレーブに仕込み、室温にて均一にな
るまで攪拌し、ついで８０℃に昇温した。その後、３時
間８０℃に保持し、ついで２時間１００℃に保持した。
これを室温にまで冷却し、ポリマー溶液Ｄを得た。この
間オートクレーブ内は窒素による空気遮断と攪拌を続け
た。ポリマー溶液Ｄの重合収率は９８％であった。また
ポリマーＤの重量平均分子量は６５,０００であった。
６,０００、東亜合成化学工業（株）製） を攪拌機付オートクレーブに仕込み、室温にて均一にな
るまで攪拌し、ついで８０℃に昇温した。その後、３時
間８０℃に保持し、ついで２時間１００℃に保持した。
これを室温にまで冷却し、ポリマー溶液Ｄを得た。この
間オートクレーブ内は窒素による空気遮断と攪拌を続け
た。ポリマー溶液Ｄの重合収率は９８％であった。また
ポリマーＤの重量平均分子量は６５,０００であった。
【００４１】合成例３ 合成例２において３時間８０℃の保持を３時間７０℃と
した以外は合成例２と同様にしてポリマー溶液Ｅを得
た。ポリマー溶液Ｅの重合収率は９８％であった。また
ポリマーＥの重量平均分子量は１２０,０００であっ
た。
した以外は合成例２と同様にしてポリマー溶液Ｅを得
た。ポリマー溶液Ｅの重合収率は９８％であった。また
ポリマーＥの重量平均分子量は１２０,０００であっ
た。
【００４２】合成例４ 合成例２において３時間８０℃の保持を３時間６０℃と
した以外は合成例２と同様にしてポリマー溶液Ｆを得
た。ポリマー溶液Ｆの重合収率は９８％であった。また
ポリマーＦの重量平均分子量は２７０,０００であっ
た。
した以外は合成例２と同様にしてポリマー溶液Ｆを得
た。ポリマー溶液Ｆの重合収率は９８％であった。また
ポリマーＦの重量平均分子量は２７０,０００であっ
た。
【００４３】合成例５ 合成例２においてアゾイソブチロニトリル量を３部と
し、３時間８０℃の保持を３時間９０℃とした以外は合
成例２と同様にしてポリマー溶液Ｇを得た。ポリマー溶
液Ｇの重合収率は９９％であった。またポリマーＧの重
量平均分子量は２８,０００であった。
し、３時間８０℃の保持を３時間９０℃とした以外は合
成例２と同様にしてポリマー溶液Ｇを得た。ポリマー溶
液Ｇの重合収率は９９％であった。またポリマーＧの重
量平均分子量は２８,０００であった。
【００４４】合成例６ トルエン １０００部 メチルメタクリレート ７５部 スチレン ２５部 および ｍ−ブチルリチウム １部 を用いて文献（Ｃ．Ｗ．Ｂｒｏｗｎ ＆ Ｉ．Ｆ．Ｗｈ
ｉｔｅ，Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｏｌｙｍ．Ｓｃｉ．，１６，
２６７１〜２６７６、１９７２）記載の方法に従いメチ
ルメタクリレートとスチレンのブロック共重合体を合成
し、続いてエステル基の加水分解を行った。加水分解の
制御は加水分解処理時間の調節で行い、結果として加水
分解率３８％のポリマーＨを得た。ポリマーＨの重量平
均分子量は１３０,０００であった。このポリマーＨ１
００部をエチルセロソルブアセテート２００部に溶解し
てポリマー溶液Ｈを得た。
ｉｔｅ，Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｏｌｙｍ．Ｓｃｉ．，１６，
２６７１〜２６７６、１９７２）記載の方法に従いメチ
ルメタクリレートとスチレンのブロック共重合体を合成
し、続いてエステル基の加水分解を行った。加水分解の
制御は加水分解処理時間の調節で行い、結果として加水
分解率３８％のポリマーＨを得た。ポリマーＨの重量平
均分子量は１３０,０００であった。このポリマーＨ１
００部をエチルセロソルブアセテート２００部に溶解し
てポリマー溶液Ｈを得た。
【００４５】合成例７ 合成例２においてメタクリル酸３０部のうちの１０部を
スチレンスルホン酸に置き換えた以外は合成例２と同様
にしてポリマー溶液Ｉを得た。ポリマー溶液Ｉの重合収
率は９７％であった。またポリマーＩの重量平均分子量
は５３,０００であった。
スチレンスルホン酸に置き換えた以外は合成例２と同様
にしてポリマー溶液Ｉを得た。ポリマー溶液Ｉの重合収
率は９７％であった。またポリマーＩの重量平均分子量
は５３,０００であった。
【００４６】実施例１ Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ １５ １５部 ペンタエリスリトールトリアクリレート ２０部 イルガキュア１８４2) ３部 合成例１のポリマー溶液Ｃ ６０部 Ｂｍ−１０００3) ２部 ビニルメトキシシラン ３部 および エチルセロソルブアセテート ３００部 （2) １−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、
チバガイギー社製3) フッ素系ノニオン型界面活性剤、ビーエム・ヘミー
社製） を３ｍｍφのステンレス製ボールを入れたボールミルを
用いて１８時間混合し分散させた。
チバガイギー社製3) フッ素系ノニオン型界面活性剤、ビーエム・ヘミー
社製） を３ｍｍφのステンレス製ボールを入れたボールミルを
用いて１８時間混合し分散させた。
【００４７】この分散液を孔径１０μｍを有するフィル
ターを用いてろ過し、本発明の組成物分散液を得た。得
られた組成物分散液は、暗所で１週間室温で放置しても
顔料の沈降、ポリマーの析出、粘度の変化等がなく、均
一な分散液であった。
ターを用いてろ過し、本発明の組成物分散液を得た。得
られた組成物分散液は、暗所で１週間室温で放置しても
顔料の沈降、ポリマーの析出、粘度の変化等がなく、均
一な分散液であった。
【００４８】この分散液をガラス基板上にスピンコータ
ーにより乾燥膜厚で２μｍとなるように塗布し、８０℃
で１５分乾燥させたところ、青色の均一な塗膜が得ら
れ、ボイド、膜荒れ等の膜欠陥はみられなかった。
ーにより乾燥膜厚で２μｍとなるように塗布し、８０℃
で１５分乾燥させたところ、青色の均一な塗膜が得ら
れ、ボイド、膜荒れ等の膜欠陥はみられなかった。
【００４９】さらに、解像度評価用の１０〜１００μｍ
のマスク孔幅を有するフォトマスクを介して高圧水銀灯
により３００ｍＪ／ｃｍ2の光エネルギーを照射し、テ
トラメチルアンモニウムヒドロオキシドの０.１％水溶
液を用いて現像し、水でリンスしたのち、１８０℃で６
０分間乾燥を行った。
のマスク孔幅を有するフォトマスクを介して高圧水銀灯
により３００ｍＪ／ｃｍ2の光エネルギーを照射し、テ
トラメチルアンモニウムヒドロオキシドの０.１％水溶
液を用いて現像し、水でリンスしたのち、１８０℃で６
０分間乾燥を行った。
【００５０】得られた画素は、１０〜１００μｍの細線
のパターンを有し、ピンホール、膜荒れ等の膜欠陥がな
く、また顕微鏡で観察したところ、パターンの蛇行もな
く、またエッジもシャープであった。さらに非画素部に
は顔料残りや有機皮膜の残りが無く、カラーフィルター
として好適に使用できるものであった。評価結果を表１
に示す。
のパターンを有し、ピンホール、膜荒れ等の膜欠陥がな
く、また顕微鏡で観察したところ、パターンの蛇行もな
く、またエッジもシャープであった。さらに非画素部に
は顔料残りや有機皮膜の残りが無く、カラーフィルター
として好適に使用できるものであった。評価結果を表１
に示す。
【００５１】実施例２ 実施例１におけるポリマー溶液Ｃに代えて合成例２のポ
リマー溶液Ｄを用い、組成物分散液を得た。評価結果を
表１に示す。
リマー溶液Ｄを用い、組成物分散液を得た。評価結果を
表１に示す。
【００５２】実施例３ 実施例１におけるポリマー溶液Ｃに代えて、合成例３の
ポリマー溶液Ｅを用い、組成物分散液を得た。評価結果
を表１に示す。
ポリマー溶液Ｅを用い、組成物分散液を得た。評価結果
を表１に示す。
【００５３】実施例４ 実施例１におけるポリマー溶液Ｃに代えて、合成例４の
ポリマー溶液Ｆを用い、組成物分散液を得た。評価結果
を表１に示す。
ポリマー溶液Ｆを用い、組成物分散液を得た。評価結果
を表１に示す。
【００５４】実施例５ 実施例１におけるポリマー溶液Ｃに代えて合成例５のポ
リマー溶液Ｇを用い、組成物分散液を得た。評価結果を
表１に示す。
リマー溶液Ｇを用い、組成物分散液を得た。評価結果を
表１に示す。
【００５５】実施例６ 実施例１におけるポリマー溶液Ｃに代えて合成例６のポ
リマー溶液Ｈを用い、組成物分散液を得た。評価結果を
表１に示す。
リマー溶液Ｈを用い、組成物分散液を得た。評価結果を
表１に示す。
【００５６】実施例７ 実施例１におけるポリマー溶液Ｃに代えて合成例７のポ
リマー溶液Ｉを用い、組成物分散液を得た。評価結果を
表１に示す。
リマー溶液Ｉを用い、組成物分散液を得た。評価結果を
表１に示す。
【００５７】実施例８ 実施例２におけるＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ１
５に代えてＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｒｅｄ １７７を
用い、組成物分散液を得た。評価結果を表１に示す。
５に代えてＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｒｅｄ １７７を
用い、組成物分散液を得た。評価結果を表１に示す。
【００５８】実施例９ 実施例２におけるＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ１
５に代えてＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｇｒｅｅｎ ３６
を用い、組成物分散液を得た。評価結果を表１に示す。
５に代えてＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｇｒｅｅｎ ３６
を用い、組成物分散液を得た。評価結果を表１に示す。
【００５９】比較合成例１ 合成例１にて用いた原料の全て、すなわち エチルセロソルブアセテート ２００部 メチルメタクリレート ５５部 メタクリル酸 ２５部 スチレン １８部 グリシジルメタクリレート ２部 および アゾイソブチロニトリル ３部 を同時に攪拌機付オートクレーブに仕込み、室温にて均
一になるまで攪拌し、ついで８０℃に昇温した。その
後、３時間８０℃に保持し、ついで２時間１００℃に保
持した。これを室温にまで冷却してポリマー溶液αを得
た。ポリマー溶液αの重合収率は９９％以上であった。
またポリマーαの重量平均分子量は９２,０００であっ
た。
一になるまで攪拌し、ついで８０℃に昇温した。その
後、３時間８０℃に保持し、ついで２時間１００℃に保
持した。これを室温にまで冷却してポリマー溶液αを得
た。ポリマー溶液αの重合収率は９９％以上であった。
またポリマーαの重量平均分子量は９２,０００であっ
た。
【００６０】比較例１ 実施例１におけるポリマー溶液Ｃに代えて比較合成例１
のポリマー溶液αを用い、組成物分散液を得た。
のポリマー溶液αを用い、組成物分散液を得た。
【００６１】
【表１】
【００６２】
【発明の効果】本発明の顔料分散型カラーフィルター用
組成物は、フォトリソグラフィー法によって高精細な画
素を提供し、かつ現像時の画素脱落を伴うことなく非画
素部の地汚れや膜残りの発生防止に優れている。従って
本発明の顔料分散型カラーフィルター用組成物は、電子
工業における液晶表示素子のカラー化のためのカラーフ
ィルターや固体撮像素子の色分解のためのカラーフィル
ター等をはじめとするカラーフィルターの製造に広く好
適に使用することができる。
組成物は、フォトリソグラフィー法によって高精細な画
素を提供し、かつ現像時の画素脱落を伴うことなく非画
素部の地汚れや膜残りの発生防止に優れている。従って
本発明の顔料分散型カラーフィルター用組成物は、電子
工業における液晶表示素子のカラー化のためのカラーフ
ィルターや固体撮像素子の色分解のためのカラーフィル
ター等をはじめとするカラーフィルターの製造に広く好
適に使用することができる。
フロントページの続き (72)発明者 横山 泰明 東京都中央区築地二丁目11番24号 日本 合成ゴム株式会社内 (56)参考文献 特開 平１−152449（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) B02B 5/22 B02B 5/20 101
Claims (1)
- 【請求項１】 （Ａ）酸基を有するブロックと酸基を持
たないブロックからなるアルカリ可溶性ブロック共重合
体、（Ｂ）感放射線性化合物、および（Ｃ）顔料を含有
することを特徴とする顔料分散型カラーフィルター用組
成物。
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| EP2221348A2 (en) | 2009-02-16 | 2010-08-25 | FUJIFILM Corporation | Pigment dispersion composition, colored curable composition, color filter, liquid crystal display device and solid-state image sensor |
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