JPH09124954A - 硬化性組成物 - Google Patents
硬化性組成物Info
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- JPH09124954A JPH09124954A JP28759295A JP28759295A JPH09124954A JP H09124954 A JPH09124954 A JP H09124954A JP 28759295 A JP28759295 A JP 28759295A JP 28759295 A JP28759295 A JP 28759295A JP H09124954 A JPH09124954 A JP H09124954A
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
- G03F7/0007—Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F292/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to inorganic materials
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K9/00—Use of pretreated ingredients
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L51/00—Compositions of graft polymers in which the grafted component is obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L51/10—Compositions of graft polymers in which the grafted component is obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds; Compositions of derivatives of such polymers grafted on to inorganic materials
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K2323/00—Functional layers of liquid crystal optical display excluding electroactive liquid crystal layer characterised by chemical composition
- C09K2323/05—Bonding or intermediate layer characterised by chemical composition, e.g. sealant or spacer
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K2323/00—Functional layers of liquid crystal optical display excluding electroactive liquid crystal layer characterised by chemical composition
- C09K2323/05—Bonding or intermediate layer characterised by chemical composition, e.g. sealant or spacer
- C09K2323/055—Epoxy
Abstract
(57)【要約】
【課題】優れた遮光性を示し、使用時における有機高分
子化合物や有機溶剤等への分散性が良好な熱硬化性組成
物並びに、遮光性及び分散性に加えて水やアルカリ現像
液に対して溶解性及び感光性を示す光硬化性組成物を提
供すること。 【解決手段】(1)炭素質材料(a)、アジリジン基、オキサ
ゾリン基、Ｎ−ヒドロキシアルキルアミド基、エポキシ
基、ヒドロキシル基等の特定の反応性基及びＲ1Ｒ2Ｒ3
Ｃ−Ｏ−ＣＯ− （Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3；Ｈ、C1〜6アルキル
基、C5〜8シクロアルキル基、C6〜16アルキルシクロア
ルキル基、C6〜16アリール基の有機残基。Ｒ1〜Ｒ3の少
なくとも２つは有機残基で、環状に結合してもよい。）
で表されるアルコキシカルボニル基を有する重合体(b)
を加熱させて得た炭素材料、(2)熱硬化性樹脂を含む熱
硬化性組成物、並びに前記(1)炭素材料、(2)C＝C結合を
有する光硬化性化合物、(3)光重合開始剤を含む光硬化
性組成物。
子化合物や有機溶剤等への分散性が良好な熱硬化性組成
物並びに、遮光性及び分散性に加えて水やアルカリ現像
液に対して溶解性及び感光性を示す光硬化性組成物を提
供すること。 【解決手段】(1)炭素質材料(a)、アジリジン基、オキサ
ゾリン基、Ｎ−ヒドロキシアルキルアミド基、エポキシ
基、ヒドロキシル基等の特定の反応性基及びＲ1Ｒ2Ｒ3
Ｃ−Ｏ−ＣＯ− （Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3；Ｈ、C1〜6アルキル
基、C5〜8シクロアルキル基、C6〜16アルキルシクロア
ルキル基、C6〜16アリール基の有機残基。Ｒ1〜Ｒ3の少
なくとも２つは有機残基で、環状に結合してもよい。）
で表されるアルコキシカルボニル基を有する重合体(b)
を加熱させて得た炭素材料、(2)熱硬化性樹脂を含む熱
硬化性組成物、並びに前記(1)炭素材料、(2)C＝C結合を
有する光硬化性化合物、(3)光重合開始剤を含む光硬化
性組成物。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、熱硬化性又は光硬
化性の組成物に関し、さらに詳しくは液晶ディスプレー
装置のカラーフィルターの遮光膜等を製造するのに最適
な硬化性組成物に関する。
化性の組成物に関し、さらに詳しくは液晶ディスプレー
装置のカラーフィルターの遮光膜等を製造するのに最適
な硬化性組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】カラー液晶表示装置の代表例としてはＴ
ＦＴ（薄膜トランジスタ）−アクティブマトリックス・
カラー液晶装置が知られている。この装置は、内側偏光
板上に配置された基板と、該基板上に配置された薄膜ト
ランジスタ（ＴＦＴ）及び該ＴＦＴにより駆動される表
示電極と、該ＴＦＴ及び該表示電極と接触する内側配向
膜とを有し、該基板の反対面には、外側配向膜を有する
液晶層と、最外側に設けられる外側偏光板とを備え、該
外側配向膜と外側偏光板との間には、透明基板上に黒色
の遮光層（ブラックマトリックス）と、たとえば赤色
層、緑色層及び青色層などの着色層とを形成した透明導
電層を有するカラーフィルターを備えている。
ＦＴ（薄膜トランジスタ）−アクティブマトリックス・
カラー液晶装置が知られている。この装置は、内側偏光
板上に配置された基板と、該基板上に配置された薄膜ト
ランジスタ（ＴＦＴ）及び該ＴＦＴにより駆動される表
示電極と、該ＴＦＴ及び該表示電極と接触する内側配向
膜とを有し、該基板の反対面には、外側配向膜を有する
液晶層と、最外側に設けられる外側偏光板とを備え、該
外側配向膜と外側偏光板との間には、透明基板上に黒色
の遮光層（ブラックマトリックス）と、たとえば赤色
層、緑色層及び青色層などの着色層とを形成した透明導
電層を有するカラーフィルターを備えている。
【０００３】前記液晶装置に備えられるカラーフィルタ
ーは、染色法、顔料分散法、印刷法、電着法、転写法等
の方法による製造が提案されており、いずれの方法にお
いても各色、例えば赤、緑、青および黒の各着色層や遮
光層の配列の位置精度は極めて重要である。特に黒の遮
光層部分、すなわちブラックマトリックスは、表示電極
周辺部で光もれが生じないように対向電極基板上に正確
に位置決めし、他の着色層の間に間隙なく位置決めする
必要がある。しかもブラックマトリックスは、コントラ
スト等、画面の品位に与える影響も大きい。
ーは、染色法、顔料分散法、印刷法、電着法、転写法等
の方法による製造が提案されており、いずれの方法にお
いても各色、例えば赤、緑、青および黒の各着色層や遮
光層の配列の位置精度は極めて重要である。特に黒の遮
光層部分、すなわちブラックマトリックスは、表示電極
周辺部で光もれが生じないように対向電極基板上に正確
に位置決めし、他の着色層の間に間隙なく位置決めする
必要がある。しかもブラックマトリックスは、コントラ
スト等、画面の品位に与える影響も大きい。
【０００４】ブラックマトリックスは通常、ガラス基板
上に微細なパターンの金属薄膜として形成される。金属
薄膜の材質としては、クロム、ニッケル、アルミニウム
等が採用されており、成膜方法としては、蒸着法、スパ
ッタ法、真空成膜が一般的である。金属薄膜のパターン
化は、フォトリソグラフィー法により行なわれる。典型
例としては、金属薄膜上にフォトレジストを塗布、乾燥
した後、フォトマスクを介し紫外線を照射してレジスト
パターンを形成後、エッチング、レジスト剥離の工程を
経て製造する方法がある。しかしながら、この方法では
工程の煩雑さから製造コストが高くなり、従ってカラー
フィルター自体のコストが高くなる。さらにこの金属薄
膜により形成されたブラックマトリックスを有するカラ
ーフィルターを、透過型のディスプレイに搭載した場
合、金属薄膜の表面の反射率が高い為、強い外光がフィ
ルターに照射されると、反射光が強いために表示品質が
著しく低下するという問題が生じる。
上に微細なパターンの金属薄膜として形成される。金属
薄膜の材質としては、クロム、ニッケル、アルミニウム
等が採用されており、成膜方法としては、蒸着法、スパ
ッタ法、真空成膜が一般的である。金属薄膜のパターン
化は、フォトリソグラフィー法により行なわれる。典型
例としては、金属薄膜上にフォトレジストを塗布、乾燥
した後、フォトマスクを介し紫外線を照射してレジスト
パターンを形成後、エッチング、レジスト剥離の工程を
経て製造する方法がある。しかしながら、この方法では
工程の煩雑さから製造コストが高くなり、従ってカラー
フィルター自体のコストが高くなる。さらにこの金属薄
膜により形成されたブラックマトリックスを有するカラ
ーフィルターを、透過型のディスプレイに搭載した場
合、金属薄膜の表面の反射率が高い為、強い外光がフィ
ルターに照射されると、反射光が強いために表示品質が
著しく低下するという問題が生じる。
【０００５】そこで、金属薄膜以外の他の材料で形成す
るブラックマトリックスが種々提案されている。例えば
特開平２−２３９２０４号公報には、非感光性ポリイミ
ド系樹脂にカーボンブラックを分散した組成物を用いて
ブラックマトリックスを形成する方法が提案されてい
る。この方法によれば、外光反射が少なく、且つ基材の
ポリイミド系樹脂の耐熱性が高い為、信頼性の高いブラ
ックマトリックスが得られる。しかしこの方法も製造工
程が煩雑であるため製造コストが高いという問題があ
る。
るブラックマトリックスが種々提案されている。例えば
特開平２−２３９２０４号公報には、非感光性ポリイミ
ド系樹脂にカーボンブラックを分散した組成物を用いて
ブラックマトリックスを形成する方法が提案されてい
る。この方法によれば、外光反射が少なく、且つ基材の
ポリイミド系樹脂の耐熱性が高い為、信頼性の高いブラ
ックマトリックスが得られる。しかしこの方法も製造工
程が煩雑であるため製造コストが高いという問題があ
る。
【０００６】また、黒色着色材、炭素−炭素二重結合を
有する光硬化性化合物および光重合開始剤を含む光硬化
性組成物を用い、フォトリソグラフィーによりブラック
マトリックスを形成する方法も提案されている。この場
合、黒色着色材としては、カーボンブラックやその他の
有機顔料の混合物を使用するが、充分な遮光性を得る為
にはカーボンブラックを用いる必要がある。例えば、特
開平４−６３８７０号公報には、炭素−炭素二重結合を
有する光硬化性化合物に、カーボンブラックと有機顔料
とを分散し、更に光重合開始剤を組み合わせた組成物を
用いてブラックマトリックスを形成する方法が開示され
ている。しかしながら、この組成物は、光硬化に必要な
４００ｎｍ前後の紫外線の透過性を持たせるために有機
顔料を含有させなければならず、低膜厚にて充分な遮光
性を得ることが困難である。またこの方法では、カーボ
ンブラックが紫外線により光重合開始剤から発生したラ
ジカルを捕捉してしまう為、光重合を阻害し、経済的な
露光量での充分な画素形成が困難であり、現像時にパタ
ーンが剥落するなどの問題点がある。
有する光硬化性化合物および光重合開始剤を含む光硬化
性組成物を用い、フォトリソグラフィーによりブラック
マトリックスを形成する方法も提案されている。この場
合、黒色着色材としては、カーボンブラックやその他の
有機顔料の混合物を使用するが、充分な遮光性を得る為
にはカーボンブラックを用いる必要がある。例えば、特
開平４−６３８７０号公報には、炭素−炭素二重結合を
有する光硬化性化合物に、カーボンブラックと有機顔料
とを分散し、更に光重合開始剤を組み合わせた組成物を
用いてブラックマトリックスを形成する方法が開示され
ている。しかしながら、この組成物は、光硬化に必要な
４００ｎｍ前後の紫外線の透過性を持たせるために有機
顔料を含有させなければならず、低膜厚にて充分な遮光
性を得ることが困難である。またこの方法では、カーボ
ンブラックが紫外線により光重合開始剤から発生したラ
ジカルを捕捉してしまう為、光重合を阻害し、経済的な
露光量での充分な画素形成が困難であり、現像時にパタ
ーンが剥落するなどの問題点がある。
【０００７】カーボンブラックを用いてブラックマトリ
ックスを形成するには、カーボンブラックを有機高分子
化合物や有機溶媒に添加して分散液を調製し、この分散
液を用いて透明基板上にブラックマトリックスを形成す
る。上記各公報に記載された方法では、いずれも顔料と
してカーボンブラックが使用されるが、カーボンブラッ
クは粒子間の凝集力に比べ、他の物質、例えば有機高分
子化合物や有機溶媒等との親和力が弱い為、均一で安定
な分散状態を有する分散液を得ることが極めて困難であ
るという問題がある。
ックスを形成するには、カーボンブラックを有機高分子
化合物や有機溶媒に添加して分散液を調製し、この分散
液を用いて透明基板上にブラックマトリックスを形成す
る。上記各公報に記載された方法では、いずれも顔料と
してカーボンブラックが使用されるが、カーボンブラッ
クは粒子間の凝集力に比べ、他の物質、例えば有機高分
子化合物や有機溶媒等との親和力が弱い為、均一で安定
な分散状態を有する分散液を得ることが極めて困難であ
るという問題がある。
【０００８】このような問題を解決する方法として特開
平５−６７４２１号公報では、高分子化合物でグラフト
化されたカーボンブラックと、光硬化性化合物とを含有
する組成物を使用する方法が提案されている。この方法
は、感光性、遮光性、分散安定性に優れたブラックマト
リックスを簡便に製造できる方法として期待されるが、
以下に示すいくつかの重大な問題がある。
平５−６７４２１号公報では、高分子化合物でグラフト
化されたカーボンブラックと、光硬化性化合物とを含有
する組成物を使用する方法が提案されている。この方法
は、感光性、遮光性、分散安定性に優れたブラックマト
リックスを簡便に製造できる方法として期待されるが、
以下に示すいくつかの重大な問題がある。
【０００９】同公報によると、高分子化合物でグラフト
化したカーボンブラックは、（Ａ）ラジカル重合性、ア
ニオン重合性またはカチオン重合性のモノマーを重合さ
せることにより高分子化合物をグラフト化する方法、ま
たは（Ｂ）オキサゾリン基、エポキシ基などの反応基を
分子内に有する高分子化合物の該反応基とカーボンブラ
ックとを反応させてグラフト化する方法のいずれかの方
法で製造できることが記載される。しかし、（Ａ）の方
法ではグラフト化率が低く、カラーフィルターのブラッ
クマトリックスとして使用するための黒色顔料としては
適当でなく、遮光性、黒色組成物の分散安定性などのブ
ラックマトリックスの作製に必要な特性を付与できない
という問題がある。また、（Ａ）の方法では、グラフト
化率が低いため導電性の高いブラックマトリックスしか
製造できないという問題もある。
化したカーボンブラックは、（Ａ）ラジカル重合性、ア
ニオン重合性またはカチオン重合性のモノマーを重合さ
せることにより高分子化合物をグラフト化する方法、ま
たは（Ｂ）オキサゾリン基、エポキシ基などの反応基を
分子内に有する高分子化合物の該反応基とカーボンブラ
ックとを反応させてグラフト化する方法のいずれかの方
法で製造できることが記載される。しかし、（Ａ）の方
法ではグラフト化率が低く、カラーフィルターのブラッ
クマトリックスとして使用するための黒色顔料としては
適当でなく、遮光性、黒色組成物の分散安定性などのブ
ラックマトリックスの作製に必要な特性を付与できない
という問題がある。また、（Ａ）の方法では、グラフト
化率が低いため導電性の高いブラックマトリックスしか
製造できないという問題もある。
【００１０】一方、(Ｂ)の方法ではグラフト化率を高く
できるため、上記各特性の付与が期待される。しかし、
一般に、光硬化性化合物を利用した顔料分散法によるカ
ラーフィルターの製造では、安全性および作業性の面か
ら工業的にはアルカリ現像液を用いる方法が採用されて
おり、上記グラフト化カーボンブラックを含む光硬化性
組成物の場合、高分子化合物のグラフト化率が高くなる
とアルカリ不溶成分であるグラフト化カーボンブラック
の濃度が高くなり過ぎ、黒色塗膜がアルカリ現像できな
くなるという問題が生じる。グラフト化カーボンブラッ
クを低濃度とするには、添加量を減らすことで対応でき
るが、この場合はブラックマトリックスの遮光性が著し
く劣るという別の問題が生じる。従って、（Ｂ）の方法
も高精細なカラーフィルターの製造には適しておらず、
カラーフィルターに実用できるグラフト化炭素材料につ
いては未だ製造されていないのが現状である。
できるため、上記各特性の付与が期待される。しかし、
一般に、光硬化性化合物を利用した顔料分散法によるカ
ラーフィルターの製造では、安全性および作業性の面か
ら工業的にはアルカリ現像液を用いる方法が採用されて
おり、上記グラフト化カーボンブラックを含む光硬化性
組成物の場合、高分子化合物のグラフト化率が高くなる
とアルカリ不溶成分であるグラフト化カーボンブラック
の濃度が高くなり過ぎ、黒色塗膜がアルカリ現像できな
くなるという問題が生じる。グラフト化カーボンブラッ
クを低濃度とするには、添加量を減らすことで対応でき
るが、この場合はブラックマトリックスの遮光性が著し
く劣るという別の問題が生じる。従って、（Ｂ）の方法
も高精細なカラーフィルターの製造には適しておらず、
カラーフィルターに実用できるグラフト化炭素材料につ
いては未だ製造されていないのが現状である。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、カラ
ーフィルター等の遮光膜に採用することによって、優れ
た遮光性を示し、使用時における有機高分子化合物や有
機溶剤等への分散性が良好な熱硬化性組成物及び光硬化
性組成物を提供することにある。本発明の別の目的は、
水やアルカリ現像液に対して溶解性を示し、カラーフィ
ルター等の遮光膜に採用することによって、製造時に優
れた感光性を示し、優れた遮光性を有する遮光膜を得る
ことができる光硬化性組成物を提供することにある。
ーフィルター等の遮光膜に採用することによって、優れ
た遮光性を示し、使用時における有機高分子化合物や有
機溶剤等への分散性が良好な熱硬化性組成物及び光硬化
性組成物を提供することにある。本発明の別の目的は、
水やアルカリ現像液に対して溶解性を示し、カラーフィ
ルター等の遮光膜に採用することによって、製造時に優
れた感光性を示し、優れた遮光性を有する遮光膜を得る
ことができる光硬化性組成物を提供することにある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】本発明者らはこれらの問
題点を解決すべく鋭意検討を行った。例えば、上記特開
平５−６７４２１号公報（Ｂ）の方法の応用として、炭
素材料と反応可能な反応性基、および水分散やアルカリ
現像を可能にするカルボキシル基などの酸基を分子内に
有する高分子化合物をカーボンブラックに反応させるこ
とによりグラフト化する方法を試みた。しかしこの方法
では、前記高分子化合物の反応性基が、カーボンブラッ
ク表面の官能基（おそらく酸基）のみと反応するのでは
なく、高分子化合物自身の酸基とも反応してゲル化を起
こすため、得られるグラフト化カーボンブラックはブラ
ックマトリックス用の黒色顔料としては到底使用できな
かった。以上のような試行錯誤を経た結果、本発明者ら
は、高精細なカラーフィルターのブラックマトリックス
等を製造する際に、特定のアルコキシカルボニル基を分
子内に有する重合体を用いる方法で製造した酸基含有炭
素材料を含む熱硬化性組成物または光硬化性組成物を使
用することにより、優れた遮光性を有するブラックマト
リックス等を容易に得ることができることを見い出し、
本発明を完成するに至った。
題点を解決すべく鋭意検討を行った。例えば、上記特開
平５−６７４２１号公報（Ｂ）の方法の応用として、炭
素材料と反応可能な反応性基、および水分散やアルカリ
現像を可能にするカルボキシル基などの酸基を分子内に
有する高分子化合物をカーボンブラックに反応させるこ
とによりグラフト化する方法を試みた。しかしこの方法
では、前記高分子化合物の反応性基が、カーボンブラッ
ク表面の官能基（おそらく酸基）のみと反応するのでは
なく、高分子化合物自身の酸基とも反応してゲル化を起
こすため、得られるグラフト化カーボンブラックはブラ
ックマトリックス用の黒色顔料としては到底使用できな
かった。以上のような試行錯誤を経た結果、本発明者ら
は、高精細なカラーフィルターのブラックマトリックス
等を製造する際に、特定のアルコキシカルボニル基を分
子内に有する重合体を用いる方法で製造した酸基含有炭
素材料を含む熱硬化性組成物または光硬化性組成物を使
用することにより、優れた遮光性を有するブラックマト
リックス等を容易に得ることができることを見い出し、
本発明を完成するに至った。
【００１３】すなわち本発明によれば、（１）炭素質材
料(a)と、アジリジン基、オキサゾリン基、Ｎ−ヒドロ
キシアルキルアミド基、エポキシ基、チオエポキシ基、
イソシアネート基、ヒドロキシル基、アミノ基、ビニル
基、アクリル基、メタクリル基からなる群より選択され
る一種又は二種以上の反応性基および一般式（１） Ｒ1Ｒ2Ｒ3Ｃ−Ｏ−ＣＯ− ・・・（１） （式中、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3は同一若しくは異なる基で
あって、水素原子あるいは炭素数１〜６のアルキル基、
炭素数５〜８のシクロアルキル基、炭素数６〜１６のア
ルキルシクロアルキル基または炭素数６〜１６のアリー
ル基の有機残基を示す。ただし、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3の
うち少なくとも２つは有機残基であり、これらは環状に
結合していてもよい。）で表されるアルコキシカルボニ
ル基を分子内に有する重合体(b)とを加熱させて得た炭
素材料および（２）熱硬化性樹脂を必須成分として含む
熱硬化性組成物が提供される。また本発明によれば、前
記（１）炭素質材料(a)と、前記重合体(b)とを加熱させ
て得た炭素材料、（２）炭素−炭素二重結合を少なくと
も１つ以上有する光硬化性化合物および（３）光重合開
始剤を必須成分とする光硬化性組成物が提供される。
料(a)と、アジリジン基、オキサゾリン基、Ｎ−ヒドロ
キシアルキルアミド基、エポキシ基、チオエポキシ基、
イソシアネート基、ヒドロキシル基、アミノ基、ビニル
基、アクリル基、メタクリル基からなる群より選択され
る一種又は二種以上の反応性基および一般式（１） Ｒ1Ｒ2Ｒ3Ｃ−Ｏ−ＣＯ− ・・・（１） （式中、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3は同一若しくは異なる基で
あって、水素原子あるいは炭素数１〜６のアルキル基、
炭素数５〜８のシクロアルキル基、炭素数６〜１６のア
ルキルシクロアルキル基または炭素数６〜１６のアリー
ル基の有機残基を示す。ただし、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3の
うち少なくとも２つは有機残基であり、これらは環状に
結合していてもよい。）で表されるアルコキシカルボニ
ル基を分子内に有する重合体(b)とを加熱させて得た炭
素材料および（２）熱硬化性樹脂を必須成分として含む
熱硬化性組成物が提供される。また本発明によれば、前
記（１）炭素質材料(a)と、前記重合体(b)とを加熱させ
て得た炭素材料、（２）炭素−炭素二重結合を少なくと
も１つ以上有する光硬化性化合物および（３）光重合開
始剤を必須成分とする光硬化性組成物が提供される。
【００１４】
【発明の実施の形態】本発明の熱硬化性組成物及び光硬
化性組成物（以下、これらを単に「硬化性組成物」とい
う場合がある）のそれぞれにおいて用いる炭素材料は、
炭素質材料(a)と特定の重合体(b)とを加熱させて得たも
のである。
化性組成物（以下、これらを単に「硬化性組成物」とい
う場合がある）のそれぞれにおいて用いる炭素材料は、
炭素質材料(a)と特定の重合体(b)とを加熱させて得たも
のである。
【００１５】炭素質材料(a)としては特に制限はない
が、表面にキノン基、カルボキシル基、ウレタン基およ
びヒドロキシル基から選ばれる少なくとも一種の官能基
を有するものが好ましい。具体的にはカーボンブラッ
ク、アニリンブラック、フェニレン系ブラック、チタン
ブラック、グラファイト、炭素繊維、カーボンウィスカ
ーなどを挙げることができる。これらの中でも着色力お
よび接触反応の容易さの点からカーボンブラックが最も
好ましい。
が、表面にキノン基、カルボキシル基、ウレタン基およ
びヒドロキシル基から選ばれる少なくとも一種の官能基
を有するものが好ましい。具体的にはカーボンブラッ
ク、アニリンブラック、フェニレン系ブラック、チタン
ブラック、グラファイト、炭素繊維、カーボンウィスカ
ーなどを挙げることができる。これらの中でも着色力お
よび接触反応の容易さの点からカーボンブラックが最も
好ましい。
【００１６】炭素質材料(a)としてカーボンブラックを
用いる場合、カーボンブラックの平均粒径は１μｍ以
下、特に０．０１〜０．５μｍ、さらには０．０１〜
０．３μｍが望ましい。また、ＩＳＯ−７８７−９の測
定方法に従って測定したカーボンブラック水溶液のｐＨ
は、炭素質材料(a)と後述する重合体(b)の接触反応の容
易さの点から、７以下、特に１〜６、さらには１〜４が
望ましい。カーボンブラックの具体例としては、ファー
ネスブラック、チャンネルブラック、アセチレンブラッ
ク、ランプブラックなどが挙げられるが、粒径やｐＨの
点からチャンネルブラックが最も好ましい。
用いる場合、カーボンブラックの平均粒径は１μｍ以
下、特に０．０１〜０．５μｍ、さらには０．０１〜
０．３μｍが望ましい。また、ＩＳＯ−７８７−９の測
定方法に従って測定したカーボンブラック水溶液のｐＨ
は、炭素質材料(a)と後述する重合体(b)の接触反応の容
易さの点から、７以下、特に１〜６、さらには１〜４が
望ましい。カーボンブラックの具体例としては、ファー
ネスブラック、チャンネルブラック、アセチレンブラッ
ク、ランプブラックなどが挙げられるが、粒径やｐＨの
点からチャンネルブラックが最も好ましい。
【００１７】重合体(b)が、必須の構成基として分子内
に有する特定の反応性基（以下、単に「反応性基」とい
う。）とは、炭素質材料(a)表面の官能基と反応性を有
する基であって、アジリジン基、オキサゾリン基、Ｎ−
ヒドロキシアルキルアミド基、エポキシ基、チオエポキ
シ基、イソシアネート基、アミノ基、ヒドロキシル基、
ビニル基、アクリル基、メタクリル基からなる群より選
択される一種又は二種以上の基である。これらの中でも
炭素質材料(a)表面の官能基との反応性の点でアジリジ
ン基、オキサゾリン基、Ｎ−ヒドロキシアルキルアミド
基、エポキシ基、イソシアネート基、ヒドロキシル基が
好ましく、特にアジリジン基、オキサゾリン基、Ｎ−ヒ
ドロキシアルキルアミド基、エポキシ基、ヒドロキシル
基が好ましい。得られる炭素材料を種々の硬化剤と共存
させた場合に容易に熱硬化できることから、反応性基と
してはヒドロキシル基を単独で、または他の反応性基と
併用することが最も好ましい。
に有する特定の反応性基（以下、単に「反応性基」とい
う。）とは、炭素質材料(a)表面の官能基と反応性を有
する基であって、アジリジン基、オキサゾリン基、Ｎ−
ヒドロキシアルキルアミド基、エポキシ基、チオエポキ
シ基、イソシアネート基、アミノ基、ヒドロキシル基、
ビニル基、アクリル基、メタクリル基からなる群より選
択される一種又は二種以上の基である。これらの中でも
炭素質材料(a)表面の官能基との反応性の点でアジリジ
ン基、オキサゾリン基、Ｎ−ヒドロキシアルキルアミド
基、エポキシ基、イソシアネート基、ヒドロキシル基が
好ましく、特にアジリジン基、オキサゾリン基、Ｎ−ヒ
ドロキシアルキルアミド基、エポキシ基、ヒドロキシル
基が好ましい。得られる炭素材料を種々の硬化剤と共存
させた場合に容易に熱硬化できることから、反応性基と
してはヒドロキシル基を単独で、または他の反応性基と
併用することが最も好ましい。
【００１８】重合体(b)のもう一方の必須の構成基とし
て分子内に有する特定のアルコキシカルボニル基（以
下、単に「アルコキシカルボニル基」という。）とは、
前記一般式（１）で表される。式（１）中のＲ1、Ｒ2お
よびＲ3は同一若しくは異なる基であって、水素原子あ
るいは以下に挙げる有機残基、すなわち、メチル基、エ
チル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル
基などの炭素数１〜６、好ましくは１〜３の直鎖状また
は分枝状の１級、２級または３級アルキル基；シクロペ
ンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シク
ロオクチル基などの炭素数５〜８、好ましくは５〜６の
シクロアルキル基；メチルシクロペンチル基、メチルシ
クロヘキシル基、ジメチルシクロヘキシル基、エチルシ
クロヘキシル基などの炭素数６〜１６、好ましくは６〜
９のアルキルシクロアルキル基；フェニル基、メチルフ
ェニル基、ｔ−ブチルフェニル基などの炭素数６〜１
６、好ましくは６〜１０のアリール基を示す。ただし、
Ｒ1、Ｒ2およびＲ3のうち少なくとも２つは有機残基で
あり、これらは環状に結合していてもよい。Ｒ1、Ｒ2ま
たはＲ3のうち２つの有機残基が環状に結合している場
合、環状に結合しているこれら２つの有機残基はいずれ
も２価の基となる。
て分子内に有する特定のアルコキシカルボニル基（以
下、単に「アルコキシカルボニル基」という。）とは、
前記一般式（１）で表される。式（１）中のＲ1、Ｒ2お
よびＲ3は同一若しくは異なる基であって、水素原子あ
るいは以下に挙げる有機残基、すなわち、メチル基、エ
チル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル
基などの炭素数１〜６、好ましくは１〜３の直鎖状また
は分枝状の１級、２級または３級アルキル基；シクロペ
ンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シク
ロオクチル基などの炭素数５〜８、好ましくは５〜６の
シクロアルキル基；メチルシクロペンチル基、メチルシ
クロヘキシル基、ジメチルシクロヘキシル基、エチルシ
クロヘキシル基などの炭素数６〜１６、好ましくは６〜
９のアルキルシクロアルキル基；フェニル基、メチルフ
ェニル基、ｔ−ブチルフェニル基などの炭素数６〜１
６、好ましくは６〜１０のアリール基を示す。ただし、
Ｒ1、Ｒ2およびＲ3のうち少なくとも２つは有機残基で
あり、これらは環状に結合していてもよい。Ｒ1、Ｒ2ま
たはＲ3のうち２つの有機残基が環状に結合している場
合、環状に結合しているこれら２つの有機残基はいずれ
も２価の基となる。
【００１９】アルコキシカルボニル基の具体例として
は、ｔ−ブチルオキシカルボニル基、１，１−ジメチル
プロピルオキシカルボニル基、１−メチル−１−エチル
プロピルオキシカルボニル基、１，１−ジエチルプロピ
ルオキシカルボニル基、１，１−ジメチルブチルオキシ
カルボニル基、１，１−ジエチルブチルオキシカルボニ
ル基、１，１−ジプロピルブチルオキシカルボニル基、
１−メチル−１−エチルブチルオキシカルボニル基、１
−メチル−１−プロピルブチルオキシカルボニル基、１
−エチル−１−プロピルブチルオキシカルボニル基、１
−フェニルエチルオキシカルボニル基、１−メチル−１
−フェニルエチルオキシカルボニル基、１−フェニルプ
ロピルオキシカルボニル基、１−メチル−１−フェニル
プロピルオキシカルボニル基、１−エチル−１−フェニ
ルプロピルオキシカルボニル基、１−フェニルブチルオ
キシカルボニル基、１−メチル−１−フェニルブチルオ
キシカルボニル基、１−エチル−１−フェニルブチルオ
キシカルボニル基、１−プロピル−１−フェニルブチル
オキシカルボニル基、１−（４−メチルフェニル）エチ
ルオキシカルボニル基、１−メチル−１−（４−メチ
ル）フェニルエチルオキシカルボニル基、１−（４−メ
チルフェニル）プロピルオキシカルボニル基、１−メチ
ル−１−（４−メチルフェニル）プロピルオキシカルボ
ニル基、１−エチル−１−（４−メチルフェニル）プロ
ピルオキシカルボニル基、１−（４−メチルフェニル）
ブチルオキシカルボニル基、１−メチル−１−（４−メ
チルフェニル）ブチルオキシカルボニル基、１−エチル
−１−（４−メチルフェニル）ブチルオキシカルボニル
基、１−プロピル−１−（４−メチルフェニル）ブチル
オキシカルボニル基、１−シクロペンチルエチルオキシ
カルボニル基、１−メチル−１−シクロペンチルエチル
オキシカルボニル基、１−シクロペンチルプロピルオキ
シカルボニル基、１−メチル−１−シクロペンチルプロ
ピルオキシカルボニル基、１−エチル−１−シクロペン
チルプロピルオキシカルボニル基、１−シクロペンチル
ブチルオキシカルボニル基、１−メチル−１−シクロペ
ンチルブチルオキシカルボニル基、１−エチル−１−シ
クロペンチルブチルオキシカルボニル基、１−プロピル
−１−シクロペンチルブチルオキシカルボニル基、１−
シクロヘキシルエチルオキシカルボニル基、１−メチル
−１−シクロヘキシルエチルオキシカルボニル基、１−
シクロヘキシルプロピルオキシカルボニル基、１−メチ
ル−１−シクロヘキシルプロピルオキシカルボニル基、
１−エチル−１−シクロヘキシルプロピルオキシカルボ
ニル基、１−シクロヘキシルブチルオキシカルボニル
基、１−メチル−１−シクロヘキシルブチルオキシカル
ボニル基、１−エチル−１−シクロヘキシルブチルオキ
シカルボニル基、１−プロピル−１−シクロヘキシルブ
チルオキシカルボニル基、１−（４−メチルシクロヘキ
シル）エチルオキシカルボニル基、１−メチル−１−
（４−メチルシクロヘキシル）エチルオキシカルボニル
基、１−（４−メチルシクロヘキシル）プロピルオキシ
カルボニル基、１−メチル−１−（４−メチルシクロヘ
キシル）プロピルオキシカルボニル基、１−エチル−１
−（４−メチルシクロヘキシル）プロピルオキシカルボ
ニル基、１−（４−メチルシクロヘキシル）ブチルオキ
シカルボニル基、１−メチル−１−（４−メチルシクロ
ヘキシル）ブチルオキシカルボニル基、１−エチル−１
−（４−メチルシクロヘキシル）ブチルオキシカルボニ
ル基、１−プロピル−１−（４−メチルシクロヘキシ
ル）ブチルオキシカルボニル基、１−（２，４−ジメチ
ルシクロヘキシル）エチルオキシカルボニル基、１−メ
チル−１−（２，４−ジメチルシクロヘキシル）エチル
オキシカルボニル基、１−（２，４−ジメチルシクロヘ
キシル）プロピルオキシカルボニル基、１−メチル−１
−（２，４−ジメチルシクロヘキシル）プロピルオキシ
カルボニル基、１−エチル−１−（２，４−ジメチルシ
クロヘキシル）プロピルオキシカルボニル基、１−
（２，４−ジメチルシクロヘキシル）ブチルオキシカル
ボニル基、１−メチル−１−（２，４−ジメチルシクロ
ヘキシル）ブチルオキシカルボニル基、１−エチル−１
−（２，４−ジメチルシクロヘキシル）ブチルオキシカ
ルボニル基、１−プロピル−１−（２，４−ジメチルシ
クロヘキシル）ブチルオキシカルボニル基、シクロペン
チルオキシカルボニル基、１−メチルシクロペンチルオ
キシカルボニル基、１−エチルシクロペンチルオキシカ
ルボニル基、１−プロピルシクロペンチルオキシカルボ
ニル基、１−ブチルシクロペンチルオキシカルボニル
基、シクロヘキシルオキシカルボニル基、１−メチルシ
クロヘキシルオキシカルボニル基、１−エチルシクロヘ
キシルオキシカルボニル基、１−プロピルシクロヘキシ
ルオキシカルボニル基、１−ブチルシクロヘキシルオキ
シカルボニル基、１−ペンチルシクロヘキシルオキシカ
ルボニル基、１−メチルシクロヘプチルオキシカルボニ
ル基、１−メチルシクロオクチルオキシカルボニル基等
が挙げられる。
は、ｔ−ブチルオキシカルボニル基、１，１−ジメチル
プロピルオキシカルボニル基、１−メチル−１−エチル
プロピルオキシカルボニル基、１，１−ジエチルプロピ
ルオキシカルボニル基、１，１−ジメチルブチルオキシ
カルボニル基、１，１−ジエチルブチルオキシカルボニ
ル基、１，１−ジプロピルブチルオキシカルボニル基、
１−メチル−１−エチルブチルオキシカルボニル基、１
−メチル−１−プロピルブチルオキシカルボニル基、１
−エチル−１−プロピルブチルオキシカルボニル基、１
−フェニルエチルオキシカルボニル基、１−メチル−１
−フェニルエチルオキシカルボニル基、１−フェニルプ
ロピルオキシカルボニル基、１−メチル−１−フェニル
プロピルオキシカルボニル基、１−エチル−１−フェニ
ルプロピルオキシカルボニル基、１−フェニルブチルオ
キシカルボニル基、１−メチル−１−フェニルブチルオ
キシカルボニル基、１−エチル−１−フェニルブチルオ
キシカルボニル基、１−プロピル−１−フェニルブチル
オキシカルボニル基、１−（４−メチルフェニル）エチ
ルオキシカルボニル基、１−メチル−１−（４−メチ
ル）フェニルエチルオキシカルボニル基、１−（４−メ
チルフェニル）プロピルオキシカルボニル基、１−メチ
ル−１−（４−メチルフェニル）プロピルオキシカルボ
ニル基、１−エチル−１−（４−メチルフェニル）プロ
ピルオキシカルボニル基、１−（４−メチルフェニル）
ブチルオキシカルボニル基、１−メチル−１−（４−メ
チルフェニル）ブチルオキシカルボニル基、１−エチル
−１−（４−メチルフェニル）ブチルオキシカルボニル
基、１−プロピル−１−（４−メチルフェニル）ブチル
オキシカルボニル基、１−シクロペンチルエチルオキシ
カルボニル基、１−メチル−１−シクロペンチルエチル
オキシカルボニル基、１−シクロペンチルプロピルオキ
シカルボニル基、１−メチル−１−シクロペンチルプロ
ピルオキシカルボニル基、１−エチル−１−シクロペン
チルプロピルオキシカルボニル基、１−シクロペンチル
ブチルオキシカルボニル基、１−メチル−１−シクロペ
ンチルブチルオキシカルボニル基、１−エチル−１−シ
クロペンチルブチルオキシカルボニル基、１−プロピル
−１−シクロペンチルブチルオキシカルボニル基、１−
シクロヘキシルエチルオキシカルボニル基、１−メチル
−１−シクロヘキシルエチルオキシカルボニル基、１−
シクロヘキシルプロピルオキシカルボニル基、１−メチ
ル−１−シクロヘキシルプロピルオキシカルボニル基、
１−エチル−１−シクロヘキシルプロピルオキシカルボ
ニル基、１−シクロヘキシルブチルオキシカルボニル
基、１−メチル−１−シクロヘキシルブチルオキシカル
ボニル基、１−エチル−１−シクロヘキシルブチルオキ
シカルボニル基、１−プロピル−１−シクロヘキシルブ
チルオキシカルボニル基、１−（４−メチルシクロヘキ
シル）エチルオキシカルボニル基、１−メチル−１−
（４−メチルシクロヘキシル）エチルオキシカルボニル
基、１−（４−メチルシクロヘキシル）プロピルオキシ
カルボニル基、１−メチル−１−（４−メチルシクロヘ
キシル）プロピルオキシカルボニル基、１−エチル−１
−（４−メチルシクロヘキシル）プロピルオキシカルボ
ニル基、１−（４−メチルシクロヘキシル）ブチルオキ
シカルボニル基、１−メチル−１−（４−メチルシクロ
ヘキシル）ブチルオキシカルボニル基、１−エチル−１
−（４−メチルシクロヘキシル）ブチルオキシカルボニ
ル基、１−プロピル−１−（４−メチルシクロヘキシ
ル）ブチルオキシカルボニル基、１−（２，４−ジメチ
ルシクロヘキシル）エチルオキシカルボニル基、１−メ
チル−１−（２，４−ジメチルシクロヘキシル）エチル
オキシカルボニル基、１−（２，４−ジメチルシクロヘ
キシル）プロピルオキシカルボニル基、１−メチル−１
−（２，４−ジメチルシクロヘキシル）プロピルオキシ
カルボニル基、１−エチル−１−（２，４−ジメチルシ
クロヘキシル）プロピルオキシカルボニル基、１−
（２，４−ジメチルシクロヘキシル）ブチルオキシカル
ボニル基、１−メチル−１−（２，４−ジメチルシクロ
ヘキシル）ブチルオキシカルボニル基、１−エチル−１
−（２，４−ジメチルシクロヘキシル）ブチルオキシカ
ルボニル基、１−プロピル−１−（２，４−ジメチルシ
クロヘキシル）ブチルオキシカルボニル基、シクロペン
チルオキシカルボニル基、１−メチルシクロペンチルオ
キシカルボニル基、１−エチルシクロペンチルオキシカ
ルボニル基、１−プロピルシクロペンチルオキシカルボ
ニル基、１−ブチルシクロペンチルオキシカルボニル
基、シクロヘキシルオキシカルボニル基、１−メチルシ
クロヘキシルオキシカルボニル基、１−エチルシクロヘ
キシルオキシカルボニル基、１−プロピルシクロヘキシ
ルオキシカルボニル基、１−ブチルシクロヘキシルオキ
シカルボニル基、１−ペンチルシクロヘキシルオキシカ
ルボニル基、１−メチルシクロヘプチルオキシカルボニ
ル基、１−メチルシクロオクチルオキシカルボニル基等
が挙げられる。
【００２０】重合体(b)の数平均分子量（スチレン分子
量換算）は特に制限されないが、１０００〜１００００
０、特に５０００〜３００００が望ましい。また重合体
(b)の分子中に含有する前記特定の反応性基およびアル
コキシカルボニル基の含有割合については特に制限され
るものではないが、特定の反応性基が重合体(b)１００
ｇあたり１〜５００ミリモル、アルコキシカルボニル基
が重合体(b)１００ｇあたり１〜５００ミリモルである
のがそれぞれ好ましい。
量換算）は特に制限されないが、１０００〜１００００
０、特に５０００〜３００００が望ましい。また重合体
(b)の分子中に含有する前記特定の反応性基およびアル
コキシカルボニル基の含有割合については特に制限され
るものではないが、特定の反応性基が重合体(b)１００
ｇあたり１〜５００ミリモル、アルコキシカルボニル基
が重合体(b)１００ｇあたり１〜５００ミリモルである
のがそれぞれ好ましい。
【００２１】重合体(b)を調製するには通常、特定の反
応性基を有するモノマーと、アルコキシカルボニル基を
有するモノマーとを共重合させることによって得ること
ができる。
応性基を有するモノマーと、アルコキシカルボニル基を
有するモノマーとを共重合させることによって得ること
ができる。
【００２２】特定の反応性基を有するモノマーとして
は、例えばＣＨ2=Ｃ(ＣＨ3)-ＮＨＣＯ-Ａ2-Ａ1、ＣＨ2=
ＣＨ-ＣＯＯ-ＣＨ2ＣＨ2-Ａ1、ＣＨ2=Ｃ(ＣＨ3)-ＣＯＯ
-ＣＨ2ＣＨ2-Ａ1、ＣＨ2=ＣＨ-ＣＯＯ-ＣＨ2ＣＨ2-
Ａ3、ＣＨ2=Ｃ(ＣＨ3)-ＣＯＯ-ＣＨ2ＣＨ2-Ａ3、ＣＨ2=
ＣＨ-ＣＯＯ-ＣＨ2ＣＨ2-Ａ4、ＣＨ2=Ｃ(ＣＨ3)-ＣＯＯ
-ＣＨ2ＣＨ2-Ａ4、ＣＨ2=ＣＨ-ＣＯＯ-ＣＨ2ＣＨ2-
Ａ5、ＣＨ2=Ｃ(ＣＨ3)-ＣＯＯ-ＣＨ2ＣＨ2-Ａ5、ＣＨ2=
ＣＨ-Ａ1、ＣＨ2=ＣＨ-ＣＨ2-Ａ1、ＣＨ2=ＣＨ-Ａ2-
Ａ1、ＣＨ2=Ｃ(ＣＨ3)-Ａ2-Ａ1、ＣＨ2=ＣＨ-Ａ2-ＣＨ2
-Ａ1、ＣＨ2=Ｃ(ＣＨ3)-Ａ2-ＣＨ2-Ａ1、ＣＨ2=ＣＨ-Ａ
2-ＣＨ2ＣＨ2-Ａ1、ＣＨ2=Ｃ(ＣＨ3)-Ａ2-ＣＨ2ＣＨ2-
Ａ1、ＣＨ2=ＣＨ-ＮＨＣＯ-Ａ2-Ａ1、ＣＨ2=ＣＨ-ＣＯ
Ｏ-ＣＨ(ＣＨ)3-ＣＨ2-Ａ1、ＣＨ2=Ｃ(ＣＨ3)-ＣＯＯ-
ＣＨ(ＣＨ)3-ＣＨ2-Ａ1、ＣＨ2=ＣＨ-ＣＯＯ-(ＣＨ2Ｃ
Ｈ2Ｏ)n-ＣＨ2ＣＨ2Ｏ-Ａ1、ＣＨ2=Ｃ(ＣＨ3)-ＣＯＯ-
(ＣＨ2ＣＨ2Ｏ)n-ＣＨ2ＣＨ2Ｏ-Ａ1、ＣＨ2=ＣＨ-ＣＯ
Ｏ-(ＣＨ2ＣＨ2Ｏ)n-ＣＯ-ＣＨ2ＣＨ2Ｏ-Ａ1、ＣＨ2=Ｃ
(ＣＨ3)-ＣＯＯ-(ＣＨ2ＣＨ2Ｏ)n-ＣＯ-ＣＨ2ＣＨ2Ｏ-
Ａ1、ＣＨ(ＣＨ2ＣＨ2Ｏ-ＣＯ-ＣＨ=ＣＨ2)2-ＣＨ2Ｏ-
ＣＯ-ＣＨ2ＣＨ2-Ａ1、ＣＨ(ＣＨ2ＣＨ2Ｏ-ＣＯ-Ｃ(Ｃ
Ｈ3)=ＣＨ2)2-ＣＨ2Ｏ-ＣＯ-ＣＨ2ＣＨ2-Ａ1、ＣＨ3Ｃ
Ｈ2-Ｃ(ＣＨ2Ｏ-ＣＯ-ＣＨ=ＣＨ2)2-ＣＨ2Ｏ-ＣＯ-ＣＨ
2ＣＨ2-Ａ1、ＣＨ3ＣＨ2-Ｃ(ＣＨ2Ｏ-ＣＯ-Ｃ(ＣＨ3)=
ＣＨ2)2-ＣＨ2Ｏ-ＣＯ-ＣＨ2ＣＨ2-Ａ1、ＣＨ2=ＣＨ-Ｃ
Ｏ-Ａ1、ＣＨ2=Ｃ(ＣＨ3)-ＣＯ-Ａ1、ＣＨ2=ＣＨ-ＯＣ
Ｏ-Ａ1、ＣＨ2=Ｃ(ＣＨ3)-ＯＣＯ-Ａ1、ＣＨ2=ＣＨ-Ｓ
Ｏ2-Ａ1、ＣＨ2=Ｃ(ＣＨ3)-ＳＯ2-Ａ1、ＣＨ2=ＣＨ-Ｎ
ＨＣＯ-Ａ1、ＣＨ2=Ｃ(ＣＨ3)-ＮＨＣＯ-Ａ1、ＣＨ2=Ｃ
Ｈ-ＮＨＣＳ-Ａ1、ＣＨ2=Ｃ(ＣＨ3)-ＮＨＣＳ-Ａ1、Ｃ
Ｈ2=ＣＨ-ＣＨ2-ＯＣＯ-Ａ1、ＣＨ2=ＣＨ-ＣＯ-Ａ3、Ｃ
Ｈ2=Ｃ(ＣＨ3)-ＣＯ-Ａ3、ＣＨ2=ＣＨ-ＣＯ-Ａ4、ＣＨ2
=Ｃ(ＣＨ3)-ＣＯ-Ａ4、ＣＨ2=ＣＨ-ＣＯ-Ａ5、ＣＨ2=Ｃ
(ＣＨ3)-ＣＯ-Ａ5、ＣＨ2=ＣＨ-Ａ2-ＳＯ2-Ａ1、ＣＨ2=
Ｃ(ＣＨ3)-Ａ2-ＳＯ2-Ａ1、ＣＨ2=ＣＨ-Ａ2-ＮＨＣＯ-
Ａ1、ＣＨ2=Ｃ(ＣＨ3)-Ａ2-ＮＨＣＯ-Ａ1、ＣＨ2=ＣＨ-
ＣＯＮＨ-Ａ2-ＳＯ2-Ａ1、ＣＨ2=Ｃ(ＣＨ3)-ＣＯＮＨ-
Ａ2-ＳＯ2-Ａ1、ＣＨ2=ＣＨ-ＣＯＯ-ＣＨ2ＣＨ2-ＮＨＣ
Ｏ-Ａ1、ＣＨ2=Ｃ(ＣＨ3)-ＣＯＯ-ＣＨ2ＣＨ2-ＮＨＣＯ
-Ａ1、(ＣＨ2=ＣＨ-ＣＨ2ＮＨ)2-ＰＯ-Ａ1等で表される
アジリジン基含有重合性単量体類（但し、Ａ1はアジリ
ジン基、Ａ2は１，４−置換フェニレン基、Ａ3は２−メ
チルアジリジン基、Ａ4は２，２−ジメチルアジリジン
基、Ａ5は２−エチルアジリジン基をそれぞれ示す。ま
たｎは０又は１〜２０の整数である。）；２−ビニル−
２−オキサゾリン、２−ビニル−４−メチル−２−オキ
サゾリン、２−ビニル−５−メチル−２−オキサゾリ
ン、２−ビニル−４−エチル−２−オキサゾリン、２−
ビニル−５−エチル−２−オキサゾリン、２−イソプロ
ペニル−２−オキサゾリン、２−イソプロペニル−４−
メチル−２−オキサゾリン、２−イソプロペニル−５−
メチル−２−オキサゾリン、２−イソプロペニル−４−
エチル−２−オキサゾリン、２−イソプロペニル−５−
エチル−２−オキサゾリン、２−イソプロペニル−４，
５−ジメチル−２−オキサゾリン等のオキサゾリン基含
有重合性単量体類；Ｎ−ヒドロキシメチルアクリルアミ
ド、Ｎ−ヒドロキシエチルアクリルアミド、Ｎ−ヒドロ
キシブチルアクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシイソブチル
アクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシ−２−エチルヘキシル
アクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシシクロヘキシルアクリ
ルアミド、Ｎ−ヒドロキシメチルメタクリルアミド、Ｎ
−ヒドロキシエチルメタクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシ
ブチルメタクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシイソブチルメ
タクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシ−２−エチルヘキシル
メタクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシシクロヘキシルメタ
クリルアミド等のＮ−ヒドロキシアルキルアミド基含有
重合性単量体類；ＣＨ2=ＣＨ-Ａ6、ＣＨ2=ＣＨ-Ａ2-
Ａ6、ＣＨ2=ＣＨ-Ａ2-ＣＨ2-Ａ6、ＣＨ2=ＣＨ-Ａ2-ＣＨ
2-ＣＨ2-Ａ6、ＣＨ2=Ｃ(ＣＨ3)-Ａ2-Ａ6、ＣＨ2=Ｃ(Ｃ
Ｈ3)-Ａ2-ＣＨ2-Ａ6、ＣＨ2=Ｃ(ＣＨ3)-Ａ2-ＣＨ2-ＣＨ
2-Ａ6、ＣＨ2=ＣＨ-ＮＨＣＯ-Ａ2-Ａ6、ＣＨ2=Ｃ(Ｃ
Ｈ3)-ＮＨＣＯ-Ａ2-Ａ6、ＣＨ2=ＣＨ-Ａ2-Ｏ-(ＣＨ
(Ｒ4)ＣＨＯ)n-ＣＨ2-Ａ6、ＣＨ2=Ｃ(ＣＨ3)-Ａ2-Ｏ-
(ＣＨ(Ｒ4)ＣＨＯ)n-ＣＨ2-Ａ6、ＣＨ2=ＣＨ-ＣＯＯ-
(ＣＨ(Ｒ4)ＣＨＯ)n-ＣＨ2-Ａ6、ＣＨ2=Ｃ(ＣＨ3)-ＣＯ
Ｏ-(ＣＨ(Ｒ4)ＣＨＯ)n-ＣＨ2-Ａ6等の式で表されるエ
ポキシ基含有重合性単量体類(但し、Ｒ4は水素原子また
はメチル基を示し、Ａ2は１，４−置換フェニル基、Ａ6
はエポキシ基を示す。またｎは０または１〜２０の整数
である。)；ＣＨ2=ＣＨ-Ａ7、ＣＨ2=ＣＨ-Ａ2-Ａ7、Ｃ
Ｈ2=ＣＨ-Ａ2-ＣＨ2-Ａ7、ＣＨ2=ＣＨ-Ａ2-ＣＨ2-ＣＨ2
-Ａ7、ＣＨ2=Ｃ(ＣＨ3)-Ａ2-Ａ7、ＣＨ2=Ｃ(ＣＨ3)-Ａ2
-ＣＨ2-Ａ7、ＣＨ2=Ｃ(ＣＨ3)-Ａ2-ＣＨ2-ＣＨ2-Ａ7、
ＣＨ2=ＣＨ-ＮＨＣＯ-Ａ2-Ａ7、ＣＨ2=Ｃ(ＣＨ3)-ＮＨ
ＣＯ-Ａ2-Ａ7、ＣＨ2=ＣＨ-Ａ2-Ｏ-(ＣＨ(Ｒ4)ＣＨＯ)n
-ＣＨ2-Ａ7、ＣＨ2=Ｃ(ＣＨ3)-Ａ2-Ｏ-(ＣＨ(Ｒ4)ＣＨ
Ｏ)n-ＣＨ2-Ａ7、ＣＨ2=ＣＨ-ＣＯＯ-(ＣＨ(Ｒ4)ＣＨ
Ｏ)n-ＣＨ2-Ａ7、ＣＨ2=Ｃ(ＣＨ3)-ＣＯＯ-(ＣＨ(Ｒ4)
ＣＨＯ)n-ＣＨ2-Ａ7等で表わされるチオエポキシ基含有
重合性単量体類(但し、Ｒ4は水素原子またはメチル基を
示し、Ａ2は１，４−置換フェニル基、Ａ7はチオエポキ
シ基を示す。またｎは０または１〜２０の整数であ
る。)；ＣＨ2=ＣＨ-ＣＯＯ-(ＣＨ2)n-Ｎ=Ｃ=Ｏ、ＣＨ2=
Ｃ(ＣＨ3)-ＣＯＯ-(ＣＨ2)n-Ｎ=Ｃ=Ｏ、ＣＨ2=ＣＨ-Ｃ
ＯＯ-(ＣＨ2)n-ＯＣＯＮＨ-Ａ8、ＣＨ2=Ｃ(ＣＨ3)-ＣＯ
Ｏ-(ＣＨ2)n-ＯＣＯＮＨ-Ａ8、ＣＨ2=ＣＨ-ＣＯＯ-(Ｃ
Ｈ2)n-ＯＣＯＮＨ-Ａ9、ＣＨ2=Ｃ(ＣＨ3)-ＣＯＯ-(ＣＨ
2)n-ＯＣＯＮＨ-Ａ9等の式で表されるイソシアネート基
含有重合性単量体類(但し、Ａ8およびＡ9は以下式で示
す基を表す。またｎは０または１〜２０の整数であ
る。)；
は、例えばＣＨ2=Ｃ(ＣＨ3)-ＮＨＣＯ-Ａ2-Ａ1、ＣＨ2=
ＣＨ-ＣＯＯ-ＣＨ2ＣＨ2-Ａ1、ＣＨ2=Ｃ(ＣＨ3)-ＣＯＯ
-ＣＨ2ＣＨ2-Ａ1、ＣＨ2=ＣＨ-ＣＯＯ-ＣＨ2ＣＨ2-
Ａ3、ＣＨ2=Ｃ(ＣＨ3)-ＣＯＯ-ＣＨ2ＣＨ2-Ａ3、ＣＨ2=
ＣＨ-ＣＯＯ-ＣＨ2ＣＨ2-Ａ4、ＣＨ2=Ｃ(ＣＨ3)-ＣＯＯ
-ＣＨ2ＣＨ2-Ａ4、ＣＨ2=ＣＨ-ＣＯＯ-ＣＨ2ＣＨ2-
Ａ5、ＣＨ2=Ｃ(ＣＨ3)-ＣＯＯ-ＣＨ2ＣＨ2-Ａ5、ＣＨ2=
ＣＨ-Ａ1、ＣＨ2=ＣＨ-ＣＨ2-Ａ1、ＣＨ2=ＣＨ-Ａ2-
Ａ1、ＣＨ2=Ｃ(ＣＨ3)-Ａ2-Ａ1、ＣＨ2=ＣＨ-Ａ2-ＣＨ2
-Ａ1、ＣＨ2=Ｃ(ＣＨ3)-Ａ2-ＣＨ2-Ａ1、ＣＨ2=ＣＨ-Ａ
2-ＣＨ2ＣＨ2-Ａ1、ＣＨ2=Ｃ(ＣＨ3)-Ａ2-ＣＨ2ＣＨ2-
Ａ1、ＣＨ2=ＣＨ-ＮＨＣＯ-Ａ2-Ａ1、ＣＨ2=ＣＨ-ＣＯ
Ｏ-ＣＨ(ＣＨ)3-ＣＨ2-Ａ1、ＣＨ2=Ｃ(ＣＨ3)-ＣＯＯ-
ＣＨ(ＣＨ)3-ＣＨ2-Ａ1、ＣＨ2=ＣＨ-ＣＯＯ-(ＣＨ2Ｃ
Ｈ2Ｏ)n-ＣＨ2ＣＨ2Ｏ-Ａ1、ＣＨ2=Ｃ(ＣＨ3)-ＣＯＯ-
(ＣＨ2ＣＨ2Ｏ)n-ＣＨ2ＣＨ2Ｏ-Ａ1、ＣＨ2=ＣＨ-ＣＯ
Ｏ-(ＣＨ2ＣＨ2Ｏ)n-ＣＯ-ＣＨ2ＣＨ2Ｏ-Ａ1、ＣＨ2=Ｃ
(ＣＨ3)-ＣＯＯ-(ＣＨ2ＣＨ2Ｏ)n-ＣＯ-ＣＨ2ＣＨ2Ｏ-
Ａ1、ＣＨ(ＣＨ2ＣＨ2Ｏ-ＣＯ-ＣＨ=ＣＨ2)2-ＣＨ2Ｏ-
ＣＯ-ＣＨ2ＣＨ2-Ａ1、ＣＨ(ＣＨ2ＣＨ2Ｏ-ＣＯ-Ｃ(Ｃ
Ｈ3)=ＣＨ2)2-ＣＨ2Ｏ-ＣＯ-ＣＨ2ＣＨ2-Ａ1、ＣＨ3Ｃ
Ｈ2-Ｃ(ＣＨ2Ｏ-ＣＯ-ＣＨ=ＣＨ2)2-ＣＨ2Ｏ-ＣＯ-ＣＨ
2ＣＨ2-Ａ1、ＣＨ3ＣＨ2-Ｃ(ＣＨ2Ｏ-ＣＯ-Ｃ(ＣＨ3)=
ＣＨ2)2-ＣＨ2Ｏ-ＣＯ-ＣＨ2ＣＨ2-Ａ1、ＣＨ2=ＣＨ-Ｃ
Ｏ-Ａ1、ＣＨ2=Ｃ(ＣＨ3)-ＣＯ-Ａ1、ＣＨ2=ＣＨ-ＯＣ
Ｏ-Ａ1、ＣＨ2=Ｃ(ＣＨ3)-ＯＣＯ-Ａ1、ＣＨ2=ＣＨ-Ｓ
Ｏ2-Ａ1、ＣＨ2=Ｃ(ＣＨ3)-ＳＯ2-Ａ1、ＣＨ2=ＣＨ-Ｎ
ＨＣＯ-Ａ1、ＣＨ2=Ｃ(ＣＨ3)-ＮＨＣＯ-Ａ1、ＣＨ2=Ｃ
Ｈ-ＮＨＣＳ-Ａ1、ＣＨ2=Ｃ(ＣＨ3)-ＮＨＣＳ-Ａ1、Ｃ
Ｈ2=ＣＨ-ＣＨ2-ＯＣＯ-Ａ1、ＣＨ2=ＣＨ-ＣＯ-Ａ3、Ｃ
Ｈ2=Ｃ(ＣＨ3)-ＣＯ-Ａ3、ＣＨ2=ＣＨ-ＣＯ-Ａ4、ＣＨ2
=Ｃ(ＣＨ3)-ＣＯ-Ａ4、ＣＨ2=ＣＨ-ＣＯ-Ａ5、ＣＨ2=Ｃ
(ＣＨ3)-ＣＯ-Ａ5、ＣＨ2=ＣＨ-Ａ2-ＳＯ2-Ａ1、ＣＨ2=
Ｃ(ＣＨ3)-Ａ2-ＳＯ2-Ａ1、ＣＨ2=ＣＨ-Ａ2-ＮＨＣＯ-
Ａ1、ＣＨ2=Ｃ(ＣＨ3)-Ａ2-ＮＨＣＯ-Ａ1、ＣＨ2=ＣＨ-
ＣＯＮＨ-Ａ2-ＳＯ2-Ａ1、ＣＨ2=Ｃ(ＣＨ3)-ＣＯＮＨ-
Ａ2-ＳＯ2-Ａ1、ＣＨ2=ＣＨ-ＣＯＯ-ＣＨ2ＣＨ2-ＮＨＣ
Ｏ-Ａ1、ＣＨ2=Ｃ(ＣＨ3)-ＣＯＯ-ＣＨ2ＣＨ2-ＮＨＣＯ
-Ａ1、(ＣＨ2=ＣＨ-ＣＨ2ＮＨ)2-ＰＯ-Ａ1等で表される
アジリジン基含有重合性単量体類（但し、Ａ1はアジリ
ジン基、Ａ2は１，４−置換フェニレン基、Ａ3は２−メ
チルアジリジン基、Ａ4は２，２−ジメチルアジリジン
基、Ａ5は２−エチルアジリジン基をそれぞれ示す。ま
たｎは０又は１〜２０の整数である。）；２−ビニル−
２−オキサゾリン、２−ビニル−４−メチル−２−オキ
サゾリン、２−ビニル−５−メチル−２−オキサゾリ
ン、２−ビニル−４−エチル−２−オキサゾリン、２−
ビニル−５−エチル−２−オキサゾリン、２−イソプロ
ペニル−２−オキサゾリン、２−イソプロペニル−４−
メチル−２−オキサゾリン、２−イソプロペニル−５−
メチル−２−オキサゾリン、２−イソプロペニル−４−
エチル−２−オキサゾリン、２−イソプロペニル−５−
エチル−２−オキサゾリン、２−イソプロペニル−４，
５−ジメチル−２−オキサゾリン等のオキサゾリン基含
有重合性単量体類；Ｎ−ヒドロキシメチルアクリルアミ
ド、Ｎ−ヒドロキシエチルアクリルアミド、Ｎ−ヒドロ
キシブチルアクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシイソブチル
アクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシ−２−エチルヘキシル
アクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシシクロヘキシルアクリ
ルアミド、Ｎ−ヒドロキシメチルメタクリルアミド、Ｎ
−ヒドロキシエチルメタクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシ
ブチルメタクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシイソブチルメ
タクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシ−２−エチルヘキシル
メタクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシシクロヘキシルメタ
クリルアミド等のＮ−ヒドロキシアルキルアミド基含有
重合性単量体類；ＣＨ2=ＣＨ-Ａ6、ＣＨ2=ＣＨ-Ａ2-
Ａ6、ＣＨ2=ＣＨ-Ａ2-ＣＨ2-Ａ6、ＣＨ2=ＣＨ-Ａ2-ＣＨ
2-ＣＨ2-Ａ6、ＣＨ2=Ｃ(ＣＨ3)-Ａ2-Ａ6、ＣＨ2=Ｃ(Ｃ
Ｈ3)-Ａ2-ＣＨ2-Ａ6、ＣＨ2=Ｃ(ＣＨ3)-Ａ2-ＣＨ2-ＣＨ
2-Ａ6、ＣＨ2=ＣＨ-ＮＨＣＯ-Ａ2-Ａ6、ＣＨ2=Ｃ(Ｃ
Ｈ3)-ＮＨＣＯ-Ａ2-Ａ6、ＣＨ2=ＣＨ-Ａ2-Ｏ-(ＣＨ
(Ｒ4)ＣＨＯ)n-ＣＨ2-Ａ6、ＣＨ2=Ｃ(ＣＨ3)-Ａ2-Ｏ-
(ＣＨ(Ｒ4)ＣＨＯ)n-ＣＨ2-Ａ6、ＣＨ2=ＣＨ-ＣＯＯ-
(ＣＨ(Ｒ4)ＣＨＯ)n-ＣＨ2-Ａ6、ＣＨ2=Ｃ(ＣＨ3)-ＣＯ
Ｏ-(ＣＨ(Ｒ4)ＣＨＯ)n-ＣＨ2-Ａ6等の式で表されるエ
ポキシ基含有重合性単量体類(但し、Ｒ4は水素原子また
はメチル基を示し、Ａ2は１，４−置換フェニル基、Ａ6
はエポキシ基を示す。またｎは０または１〜２０の整数
である。)；ＣＨ2=ＣＨ-Ａ7、ＣＨ2=ＣＨ-Ａ2-Ａ7、Ｃ
Ｈ2=ＣＨ-Ａ2-ＣＨ2-Ａ7、ＣＨ2=ＣＨ-Ａ2-ＣＨ2-ＣＨ2
-Ａ7、ＣＨ2=Ｃ(ＣＨ3)-Ａ2-Ａ7、ＣＨ2=Ｃ(ＣＨ3)-Ａ2
-ＣＨ2-Ａ7、ＣＨ2=Ｃ(ＣＨ3)-Ａ2-ＣＨ2-ＣＨ2-Ａ7、
ＣＨ2=ＣＨ-ＮＨＣＯ-Ａ2-Ａ7、ＣＨ2=Ｃ(ＣＨ3)-ＮＨ
ＣＯ-Ａ2-Ａ7、ＣＨ2=ＣＨ-Ａ2-Ｏ-(ＣＨ(Ｒ4)ＣＨＯ)n
-ＣＨ2-Ａ7、ＣＨ2=Ｃ(ＣＨ3)-Ａ2-Ｏ-(ＣＨ(Ｒ4)ＣＨ
Ｏ)n-ＣＨ2-Ａ7、ＣＨ2=ＣＨ-ＣＯＯ-(ＣＨ(Ｒ4)ＣＨ
Ｏ)n-ＣＨ2-Ａ7、ＣＨ2=Ｃ(ＣＨ3)-ＣＯＯ-(ＣＨ(Ｒ4)
ＣＨＯ)n-ＣＨ2-Ａ7等で表わされるチオエポキシ基含有
重合性単量体類(但し、Ｒ4は水素原子またはメチル基を
示し、Ａ2は１，４−置換フェニル基、Ａ7はチオエポキ
シ基を示す。またｎは０または１〜２０の整数であ
る。)；ＣＨ2=ＣＨ-ＣＯＯ-(ＣＨ2)n-Ｎ=Ｃ=Ｏ、ＣＨ2=
Ｃ(ＣＨ3)-ＣＯＯ-(ＣＨ2)n-Ｎ=Ｃ=Ｏ、ＣＨ2=ＣＨ-Ｃ
ＯＯ-(ＣＨ2)n-ＯＣＯＮＨ-Ａ8、ＣＨ2=Ｃ(ＣＨ3)-ＣＯ
Ｏ-(ＣＨ2)n-ＯＣＯＮＨ-Ａ8、ＣＨ2=ＣＨ-ＣＯＯ-(Ｃ
Ｈ2)n-ＯＣＯＮＨ-Ａ9、ＣＨ2=Ｃ(ＣＨ3)-ＣＯＯ-(ＣＨ
2)n-ＯＣＯＮＨ-Ａ9等の式で表されるイソシアネート基
含有重合性単量体類(但し、Ａ8およびＡ9は以下式で示
す基を表す。またｎは０または１〜２０の整数であ
る。)；
【００２３】
【化１】
【００２４】ＣＨ2=ＣＨ-ＣＯＯ-ＣＨ2ＣＨ2-ＯＨ、Ｃ
Ｈ2=Ｃ(ＣＨ3)-ＣＯＯ-ＣＨ2ＣＨ2-ＯＨ、ＣＨ2=ＣＨ-
ＣＯＯ-ＣＨ2ＣＨ(ＯＨ)ＣＨ2Ｃｌ、ＣＨ2=Ｃ(ＣＨ3)-
ＣＯＯ-ＣＨ2ＣＨ(ＯＨ)ＣＨ2Ｃｌ、ＣＨ2=ＣＨ-ＣＯＯ
-ＣＨ(ＣＨ3)ＣＨ2-ＯＨ、ＣＨ2=Ｃ(ＣＨ3)-ＣＯＯ-Ｃ
Ｈ(ＣＨ3)ＣＨ2-ＯＨ、ＣＨ2=ＣＨ-ＣＯＯ-ＣＨ2ＣＨ
(ＯＨ)ＣＨ3、ＣＨ2=Ｃ(ＣＨ3)-ＣＯＯ-ＣＨ2ＣＨ(Ｏ
Ｈ)ＣＨ3、ＣＨ2=ＣＨ-ＣＯＯ-ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2-ＯＨ、
ＣＨ2=Ｃ(ＣＨ3)-ＣＯＯ-ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2-ＯＨ、ＣＨ2
=ＣＨ-ＣＯＯ-ＣＨ2ＣＨ(ＯＨ)ＣＨ2-ＯＨ、ＣＨ2=Ｃ
(ＣＨ3)-ＣＯＯ-ＣＨ2ＣＨ(ＯＨ)ＣＨ2-ＯＨ、ＣＨ2=Ｃ
Ｈ-ＣＯＯ-ＣＨ2ＣＨ(ＯＨ)ＣＨ2ＣＨ3、ＣＨ2=Ｃ(ＣＨ
3)-ＣＯＯ-ＣＨ2ＣＨ(ＯＨ)ＣＨ2ＣＨ3、ＣＨ2=ＣＨ-Ｃ
ＯＯ-ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2-ＯＨ、ＣＨ2=Ｃ(ＣＨ3)-Ｃ
ＯＯ-ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2-ＯＨ、ＣＨ2=ＣＨ-ＣＯＯ-
ＣＨ2ＣＨ2-Ｏ-ＣＨ2ＣＨ2-ＯＨ、ＣＨ2=Ｃ(ＣＨ3)-Ｃ
ＯＯ-ＣＨ2ＣＨ2-Ｏ-ＣＨ2ＣＨ2-ＯＨ、ＣＨ2=ＣＨ-Ｃ
ＯＯ-ＣＨ2ＣＨ2-ＯＣＯ-Ａ10-ＣＯＯ-ＣＨ2ＣＨ(ＯＨ)
ＣＨ3、ＣＨ2=ＣＨ-ＣＯＯ-ＣＨ2ＣＨ(ＯＨ)-ＣＨ2Ｏ-
Ａ11等で表されるヒドロキシ基含有重合性単量体類（但
し、Ａ10は１，２−置換フェニル基、Ａ11はフェニル基
を示す）；４−ビニルアニリン、アリルアミン等のアミ
ノ基含有重合性単量体類等を挙げることができ、使用に
際しては単独若しくは混合物として用いることができ
る。
Ｈ2=Ｃ(ＣＨ3)-ＣＯＯ-ＣＨ2ＣＨ2-ＯＨ、ＣＨ2=ＣＨ-
ＣＯＯ-ＣＨ2ＣＨ(ＯＨ)ＣＨ2Ｃｌ、ＣＨ2=Ｃ(ＣＨ3)-
ＣＯＯ-ＣＨ2ＣＨ(ＯＨ)ＣＨ2Ｃｌ、ＣＨ2=ＣＨ-ＣＯＯ
-ＣＨ(ＣＨ3)ＣＨ2-ＯＨ、ＣＨ2=Ｃ(ＣＨ3)-ＣＯＯ-Ｃ
Ｈ(ＣＨ3)ＣＨ2-ＯＨ、ＣＨ2=ＣＨ-ＣＯＯ-ＣＨ2ＣＨ
(ＯＨ)ＣＨ3、ＣＨ2=Ｃ(ＣＨ3)-ＣＯＯ-ＣＨ2ＣＨ(Ｏ
Ｈ)ＣＨ3、ＣＨ2=ＣＨ-ＣＯＯ-ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2-ＯＨ、
ＣＨ2=Ｃ(ＣＨ3)-ＣＯＯ-ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2-ＯＨ、ＣＨ2
=ＣＨ-ＣＯＯ-ＣＨ2ＣＨ(ＯＨ)ＣＨ2-ＯＨ、ＣＨ2=Ｃ
(ＣＨ3)-ＣＯＯ-ＣＨ2ＣＨ(ＯＨ)ＣＨ2-ＯＨ、ＣＨ2=Ｃ
Ｈ-ＣＯＯ-ＣＨ2ＣＨ(ＯＨ)ＣＨ2ＣＨ3、ＣＨ2=Ｃ(ＣＨ
3)-ＣＯＯ-ＣＨ2ＣＨ(ＯＨ)ＣＨ2ＣＨ3、ＣＨ2=ＣＨ-Ｃ
ＯＯ-ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2-ＯＨ、ＣＨ2=Ｃ(ＣＨ3)-Ｃ
ＯＯ-ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2-ＯＨ、ＣＨ2=ＣＨ-ＣＯＯ-
ＣＨ2ＣＨ2-Ｏ-ＣＨ2ＣＨ2-ＯＨ、ＣＨ2=Ｃ(ＣＨ3)-Ｃ
ＯＯ-ＣＨ2ＣＨ2-Ｏ-ＣＨ2ＣＨ2-ＯＨ、ＣＨ2=ＣＨ-Ｃ
ＯＯ-ＣＨ2ＣＨ2-ＯＣＯ-Ａ10-ＣＯＯ-ＣＨ2ＣＨ(ＯＨ)
ＣＨ3、ＣＨ2=ＣＨ-ＣＯＯ-ＣＨ2ＣＨ(ＯＨ)-ＣＨ2Ｏ-
Ａ11等で表されるヒドロキシ基含有重合性単量体類（但
し、Ａ10は１，２−置換フェニル基、Ａ11はフェニル基
を示す）；４−ビニルアニリン、アリルアミン等のアミ
ノ基含有重合性単量体類等を挙げることができ、使用に
際しては単独若しくは混合物として用いることができ
る。
【００２５】一方、アルコキシカルボニル基を有するモ
ノマーとしては、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ
−ペンチル（メタ）アクリレート、１−フェニルエチル
（メタ）アクリレート、トリエチルメチル（メタ）アク
リレートなどが挙げられる。
ノマーとしては、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ
−ペンチル（メタ）アクリレート、１−フェニルエチル
（メタ）アクリレート、トリエチルメチル（メタ）アク
リレートなどが挙げられる。
【００２６】重合体(b)をより高分子量とするために、
前記特定の反応性基を有するモノマー及びアルコキシカ
ルボニル基を有するモノマーの他に、炭素質材料(a)と
の反応に寄与しないその他のモノマーを同時に共重合さ
せることができる。このようなモノマーとしては、例え
ばメチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリ
レート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メ
タ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、ラ
ウリル（メタ）アクリレート、セチルアクリレート、ス
テアリルアクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリ
レート、ベンジル（メタ）アクリレート、イソボルニル
（メタ）アクリレート、２−メトキシエチル（メタ）ア
クリレート、３−メトキシブチル（メタ）アクリレー
ト、エチルカルビトール（メタ）アクリレート、フェノ
キシエチル（メタ）アクリレート、トリフルオロエチル
（メタ）アクリレート、テトラフルオロプロピル（メ
タ）アクリレート、ヘキサフルオロプロピル（メタ）ア
クリレート、オクタフルオロペンチル（メタ）アクリレ
ート、ヘプタデカフルオロデシル（メタ）アクリレー
ト、トリメチルシロキシエチル（メタ）アクリレート、
テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、フェノ
キシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メ
トキシトリプロピレングリコール（メタ）アクリレー
ト、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレ
ートなどの炭素数１〜１８のアルキル（メタ）アクリレ
ート；Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−フェニルマ
レイミド、Ｎ−（２−クロロフェニル）マレイミド、Ｎ
−ラウリルマレイミドなどのＮ−置換マレイミド；スチ
レン、o−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−
メチルスチレン、ｐ−メトキシスチレン、ｐ−tert−ブ
チルスチレン、ｐ−フェニルスチレン、ｏ−クロロスチ
レン、ｍ−クロロスチレン、ｐ−クロロスチレンなどの
スチレン系モノマー；エチレン、プロピレン、ブチレ
ン、塩化ビニル、酢酸ビニル、アクリルニトリル、Ｎ−
ビニルピロリドンなどが挙げられる。
前記特定の反応性基を有するモノマー及びアルコキシカ
ルボニル基を有するモノマーの他に、炭素質材料(a)と
の反応に寄与しないその他のモノマーを同時に共重合さ
せることができる。このようなモノマーとしては、例え
ばメチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリ
レート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メ
タ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、ラ
ウリル（メタ）アクリレート、セチルアクリレート、ス
テアリルアクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリ
レート、ベンジル（メタ）アクリレート、イソボルニル
（メタ）アクリレート、２−メトキシエチル（メタ）ア
クリレート、３−メトキシブチル（メタ）アクリレー
ト、エチルカルビトール（メタ）アクリレート、フェノ
キシエチル（メタ）アクリレート、トリフルオロエチル
（メタ）アクリレート、テトラフルオロプロピル（メ
タ）アクリレート、ヘキサフルオロプロピル（メタ）ア
クリレート、オクタフルオロペンチル（メタ）アクリレ
ート、ヘプタデカフルオロデシル（メタ）アクリレー
ト、トリメチルシロキシエチル（メタ）アクリレート、
テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、フェノ
キシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メ
トキシトリプロピレングリコール（メタ）アクリレー
ト、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレ
ートなどの炭素数１〜１８のアルキル（メタ）アクリレ
ート；Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−フェニルマ
レイミド、Ｎ−（２−クロロフェニル）マレイミド、Ｎ
−ラウリルマレイミドなどのＮ−置換マレイミド；スチ
レン、o−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−
メチルスチレン、ｐ−メトキシスチレン、ｐ−tert−ブ
チルスチレン、ｐ−フェニルスチレン、ｏ−クロロスチ
レン、ｍ−クロロスチレン、ｐ−クロロスチレンなどの
スチレン系モノマー；エチレン、プロピレン、ブチレ
ン、塩化ビニル、酢酸ビニル、アクリルニトリル、Ｎ−
ビニルピロリドンなどが挙げられる。
【００２７】重合体(b)を調製する方法としては、溶液
重合法、懸濁重合法、乳化重合法、沈澱重合法、塊状重
合法等が挙げられるが、特に溶液重合法が好ましい。溶
液重合を採用した際の反応溶媒としては通常、イソプロ
ピルアルコール、メチルエチルケトン、ヘキサン、ブチ
ルセロソルブ、ジエチレングリコールジメチルエーテ
ル、トリエチレングリコールジメチルエーテル等の有機
溶剤が用いられる。反応温度並びに反応時間等の諸条件
は、用いる原料モノマーに応じて、例えば前述の好まし
い分子量範囲となるように適宜選択することができる。
重合法、懸濁重合法、乳化重合法、沈澱重合法、塊状重
合法等が挙げられるが、特に溶液重合法が好ましい。溶
液重合を採用した際の反応溶媒としては通常、イソプロ
ピルアルコール、メチルエチルケトン、ヘキサン、ブチ
ルセロソルブ、ジエチレングリコールジメチルエーテ
ル、トリエチレングリコールジメチルエーテル等の有機
溶剤が用いられる。反応温度並びに反応時間等の諸条件
は、用いる原料モノマーに応じて、例えば前述の好まし
い分子量範囲となるように適宜選択することができる。
【００２８】本発明の硬化性組成物に用いる炭素材料
は、炭素質材料(a)と重合体(b)とを加熱させることによ
って製造する。炭素質材料(a)と重合体(b)とを加熱させ
ることにより、通常、まず加熱のために炭素質材料(a)
と重合体(b)とが接触すると、炭素質材料(a)の表面に重
合体(b)が共有結合し、加熱によって、重合体(b)中の一
般式（１）で表されるアルコキシカルボニル基より、保
護基であるＲ1Ｒ2Ｒ3Ｃ−の部分が脱離し、カルボキシ
ル基を発現させる脱離反応が進行する。
は、炭素質材料(a)と重合体(b)とを加熱させることによ
って製造する。炭素質材料(a)と重合体(b)とを加熱させ
ることにより、通常、まず加熱のために炭素質材料(a)
と重合体(b)とが接触すると、炭素質材料(a)の表面に重
合体(b)が共有結合し、加熱によって、重合体(b)中の一
般式（１）で表されるアルコキシカルボニル基より、保
護基であるＲ1Ｒ2Ｒ3Ｃ−の部分が脱離し、カルボキシ
ル基を発現させる脱離反応が進行する。
【００２９】前記加熱にあたり、炭素質材料(a)と重合
体(b)との配合割合は重量比率で、炭素質材料(a)：重合
体(b)が１：０．５〜１０、特に１：１〜５が望まし
い。
体(b)との配合割合は重量比率で、炭素質材料(a)：重合
体(b)が１：０．５〜１０、特に１：１〜５が望まし
い。
【００３０】前記加熱は、例えば炭素質材料(a)と重
合体(b)とを適当な温度で接触させた後、得られた反応
物を有機溶剤に分散し、酸またはアルカリ触媒の存在
下、加熱する方法、炭素質材料(a)と重合体(b)とを適
当な温度で接触させた後、同一バッチ内で加熱する方
法、炭素質材料(a)と重合体(b)とを接触させると同時
に加熱する方法等により行なうことができる。
合体(b)とを適当な温度で接触させた後、得られた反応
物を有機溶剤に分散し、酸またはアルカリ触媒の存在
下、加熱する方法、炭素質材料(a)と重合体(b)とを適
当な温度で接触させた後、同一バッチ内で加熱する方
法、炭素質材料(a)と重合体(b)とを接触させると同時
に加熱する方法等により行なうことができる。
【００３１】前記接触は、例えば炭素質材料(a)と重合
体(b)とを、イソプロピルアルコール、メチルエチルケ
トン、ヘキサン等の反応に影響しない溶剤に溶解する
か、好ましくは無溶剤で接触させて混合系とすることに
より行なうことができる。この際、スルホン酸、塩酸、
フッ化ホウ素系化合物などの酸触媒が存在すると前記共
有結合のための反応等が速やかに進行するが、各炭素質
材料(a)は酸性を示すので、酸触媒は必ずしも必要とは
しない。この接触は、通常、撹拌混合により行うが、接
触に伴う炭素質材料(a)と重合体(b)との反応率を向上さ
せるには、サンドミル、ロールミル、アトライター、ボ
ールミル、ニーダーなどの粉砕機を使用するのが好まし
い。この際、重合体(b)以外のポリマー成分、モノマー
等が存在していても良い。
体(b)とを、イソプロピルアルコール、メチルエチルケ
トン、ヘキサン等の反応に影響しない溶剤に溶解する
か、好ましくは無溶剤で接触させて混合系とすることに
より行なうことができる。この際、スルホン酸、塩酸、
フッ化ホウ素系化合物などの酸触媒が存在すると前記共
有結合のための反応等が速やかに進行するが、各炭素質
材料(a)は酸性を示すので、酸触媒は必ずしも必要とは
しない。この接触は、通常、撹拌混合により行うが、接
触に伴う炭素質材料(a)と重合体(b)との反応率を向上さ
せるには、サンドミル、ロールミル、アトライター、ボ
ールミル、ニーダーなどの粉砕機を使用するのが好まし
い。この際、重合体(b)以外のポリマー成分、モノマー
等が存在していても良い。
【００３２】の方法において、接触させる適当な温度
とは３０〜２５０℃、好ましくは５０〜２００℃が望ま
しい。例えば反応性基としてエポキシ基を有する重合体
(b)を使用する場合の接触温度は、８０〜２００℃、特
に１００〜１８０℃が好ましい。反応性基としてオキサ
ゾリン基を有する重合体(b)を使用する場合の接触温度
は３０〜２００℃、特に７０〜１８０℃が好ましい。ま
た反応性基としてヒドロキシル基を有する重合体(b)を
使用する場合の接触温度は６０〜２３０℃、特に１００
〜２１０℃が好ましい。接触時間は通常１分〜１０時
間、好ましくは１０分〜５時間が望ましい。次に得られ
た反応物を有機溶剤に分散するが、有機溶剤としてはイ
ソプロピルアルコール、メチルエチルケトン、ヘキサ
ン、ブチルセロソルブ、ジエチレングリコールジメチル
エーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル等
が挙げられる。得られる分散液を酸またはアルカリ触媒
の存在下で加熱する際の酸触媒としては硫酸、塩酸、酢
酸、パラトルエンスルホン酸等が挙げられ、アルカリ触
媒としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、トリエ
チルアミン、アンモニア水などが挙げられる。加熱温度
は７０〜２００℃が望ましい。加熱時間は通常３０分〜
５時間程度が好ましい。
とは３０〜２５０℃、好ましくは５０〜２００℃が望ま
しい。例えば反応性基としてエポキシ基を有する重合体
(b)を使用する場合の接触温度は、８０〜２００℃、特
に１００〜１８０℃が好ましい。反応性基としてオキサ
ゾリン基を有する重合体(b)を使用する場合の接触温度
は３０〜２００℃、特に７０〜１８０℃が好ましい。ま
た反応性基としてヒドロキシル基を有する重合体(b)を
使用する場合の接触温度は６０〜２３０℃、特に１００
〜２１０℃が好ましい。接触時間は通常１分〜１０時
間、好ましくは１０分〜５時間が望ましい。次に得られ
た反応物を有機溶剤に分散するが、有機溶剤としてはイ
ソプロピルアルコール、メチルエチルケトン、ヘキサ
ン、ブチルセロソルブ、ジエチレングリコールジメチル
エーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル等
が挙げられる。得られる分散液を酸またはアルカリ触媒
の存在下で加熱する際の酸触媒としては硫酸、塩酸、酢
酸、パラトルエンスルホン酸等が挙げられ、アルカリ触
媒としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、トリエ
チルアミン、アンモニア水などが挙げられる。加熱温度
は７０〜２００℃が望ましい。加熱時間は通常３０分〜
５時間程度が好ましい。
【００３３】の方法において、接触処理温度としては
３０〜２００℃、好ましくは３０〜１６０℃が望まし
く、接触時間は１分〜５時間、特に３分〜５時間が好ま
しい。接触後の同一バッチ内での加熱温度は１００〜２
００℃が好ましく、加熱時間は通常３０分〜５時間程度
が好ましい。
３０〜２００℃、好ましくは３０〜１６０℃が望まし
く、接触時間は１分〜５時間、特に３分〜５時間が好ま
しい。接触後の同一バッチ内での加熱温度は１００〜２
００℃が好ましく、加熱時間は通常３０分〜５時間程度
が好ましい。
【００３４】の方法において、接触および加熱を同時
に行う際の温度は５０〜２００℃、特に７０〜１８０℃
が好ましい。加熱時間は１分〜１０時間、特に３分〜５
時間が好ましい。
に行う際の温度は５０〜２００℃、特に７０〜１８０℃
が好ましい。加熱時間は１分〜１０時間、特に３分〜５
時間が好ましい。
【００３５】前記加熱により得た炭素材料のカルボキシ
ル基含有量は、炭素材料１００ｇあたり１０〜５００ミ
リモル、好ましくは２０〜３００ミリモルが望ましい。
カルボキシル基含有量が１０ミリモル未満の場合、得ら
れる炭素材料の電気抵抗が低く、炭素材料を水性インキ
として使用する場合、水分散が困難になるので好ましく
ない。カルボキシル基含有量が５００ミリモルを超える
場合、炭素材料の耐湿性が低下するので好ましくない。
ル基含有量は、炭素材料１００ｇあたり１０〜５００ミ
リモル、好ましくは２０〜３００ミリモルが望ましい。
カルボキシル基含有量が１０ミリモル未満の場合、得ら
れる炭素材料の電気抵抗が低く、炭素材料を水性インキ
として使用する場合、水分散が困難になるので好ましく
ない。カルボキシル基含有量が５００ミリモルを超える
場合、炭素材料の耐湿性が低下するので好ましくない。
【００３６】前記炭素材料は低い導電性を示すが、通
常、体積抵抗率が１×１０8Ω・ｃｍ以上、好ましくは
１×１０12〜１×１０30Ω・ｃｍが望ましい。
常、体積抵抗率が１×１０8Ω・ｃｍ以上、好ましくは
１×１０12〜１×１０30Ω・ｃｍが望ましい。
【００３７】本発明の熱硬化性組成物では、前記炭素材
料に加えて熱硬化性樹脂を必須成分として含有する。熱
硬化性樹脂とは熱硬化可能な官能基を有する化合物であ
る。熱硬化可能な官能基の具体例としては、エポキシ
基；無水コハク酸基、無水フタル酸基などの酸無水基；
アルケニル基；ビニル基、プロペニル基（なお、主鎖に
炭素−炭素二重結合を有する化合物も利用できる）；ヒ
ドロキシル基；アルデヒド基；カルボキシル基、スルホ
ン酸基などの酸基等が挙げられる。熱硬化性樹脂の具体
例としては、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、マレイ
ン化油樹脂、ポリブタジエン樹脂、エポキシ樹脂等を挙
げることができる。さらに、本発明の熱硬化性組成物
を、水性インキ等の目的に使用する場合、熱硬化性樹脂
にカルボキシル基などの酸基を導入し、トリエチルアミ
ン、ジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、アン
モニアなどの塩基性物質で中和することにより水に可溶
化または分散できる組成物とすることができる。
料に加えて熱硬化性樹脂を必須成分として含有する。熱
硬化性樹脂とは熱硬化可能な官能基を有する化合物であ
る。熱硬化可能な官能基の具体例としては、エポキシ
基；無水コハク酸基、無水フタル酸基などの酸無水基；
アルケニル基；ビニル基、プロペニル基（なお、主鎖に
炭素−炭素二重結合を有する化合物も利用できる）；ヒ
ドロキシル基；アルデヒド基；カルボキシル基、スルホ
ン酸基などの酸基等が挙げられる。熱硬化性樹脂の具体
例としては、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、マレイ
ン化油樹脂、ポリブタジエン樹脂、エポキシ樹脂等を挙
げることができる。さらに、本発明の熱硬化性組成物
を、水性インキ等の目的に使用する場合、熱硬化性樹脂
にカルボキシル基などの酸基を導入し、トリエチルアミ
ン、ジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、アン
モニアなどの塩基性物質で中和することにより水に可溶
化または分散できる組成物とすることができる。
【００３８】本発明の熱硬化性組成物において、必須成
分としての前記炭素材料と熱硬化性樹脂との配合割合
は、用いる用途に応じて適宜選択することができるが、
炭素材料：熱硬化性樹脂が重量比で、１：０．１〜８、
特に１：０．４〜３となるように配合するのが好まし
い。
分としての前記炭素材料と熱硬化性樹脂との配合割合
は、用いる用途に応じて適宜選択することができるが、
炭素材料：熱硬化性樹脂が重量比で、１：０．１〜８、
特に１：０．４〜３となるように配合するのが好まし
い。
【００３９】本発明の熱硬化性組成物の構成成分である
炭素材料は、その高分子側鎖に前述の熱硬化可能な官能
基を付与することが可能であり、このような場合は、例
外的に熱硬化性樹脂を使用しなくてもよい。
炭素材料は、その高分子側鎖に前述の熱硬化可能な官能
基を付与することが可能であり、このような場合は、例
外的に熱硬化性樹脂を使用しなくてもよい。
【００４０】本発明の熱硬化性組成物を使用する際には
硬化剤を適宜添加してもよい。硬化剤としては、例え
ば、メラミン、ベンゾグアナミン、尿素およびこれら化
合物の誘導体；メラミン樹脂、尿素樹脂等のアミノ樹
脂；フェノール樹脂；ブロック化イソシアナート類等が
挙げられる。カラーフィルターのブラックマトリックス
等の用途では、通常、９０〜１４０℃と比較的低温硬化
性の硬化剤の使用が好ましい。硬化剤の添加量は、炭素
材料と熱硬化性樹脂との総重量１００重量部に対して０
〜５０重量部、特に５〜３０重量部となるように配合す
るのが好ましい。
硬化剤を適宜添加してもよい。硬化剤としては、例え
ば、メラミン、ベンゾグアナミン、尿素およびこれら化
合物の誘導体；メラミン樹脂、尿素樹脂等のアミノ樹
脂；フェノール樹脂；ブロック化イソシアナート類等が
挙げられる。カラーフィルターのブラックマトリックス
等の用途では、通常、９０〜１４０℃と比較的低温硬化
性の硬化剤の使用が好ましい。硬化剤の添加量は、炭素
材料と熱硬化性樹脂との総重量１００重量部に対して０
〜５０重量部、特に５〜３０重量部となるように配合す
るのが好ましい。
【００４１】本発明の熱硬化性組成物には着色剤を添加
することができる。着色剤としては、染料または顔料、
具体的には、三酸化バナジウム、二酸化マンガン、二硫
化モリブデン、四三酸化鉄、アニリンブラック、スダン
ブラックＢ、アシッドブラック１および５２、ファスト
ブラックＫ塩、、ニグロシン又はこれらの混合物等が挙
げられる。より詳細には、「ＣＯＬＯＵＲ ＩＮＤＥ
Ｘ」（第３版）等に記載されているものが挙げられる。
着色剤の添加量は、炭素材料と熱硬化性樹脂との総重量
１００重量部に対して０〜４０重量部、特に５〜３０重
量部となるように配合するのが好ましい。
することができる。着色剤としては、染料または顔料、
具体的には、三酸化バナジウム、二酸化マンガン、二硫
化モリブデン、四三酸化鉄、アニリンブラック、スダン
ブラックＢ、アシッドブラック１および５２、ファスト
ブラックＫ塩、、ニグロシン又はこれらの混合物等が挙
げられる。より詳細には、「ＣＯＬＯＵＲ ＩＮＤＥ
Ｘ」（第３版）等に記載されているものが挙げられる。
着色剤の添加量は、炭素材料と熱硬化性樹脂との総重量
１００重量部に対して０〜４０重量部、特に５〜３０重
量部となるように配合するのが好ましい。
【００４２】本発明の熱硬化性組成物には、さらに染料
や顔料の分散助剤、塗膜の平滑性をよくするレベリング
剤、粘度調整剤、消泡剤等の各種助剤類等を添加しても
よい。 本発明の熱硬化性組成物をカラーフィルターの
製造に使用する際には、本発明の熱硬化性組成物をガラ
ス板等の基材に塗布するが、基材に対する塗布性を良く
する為に有機溶剤を用いて希釈して使用するのが好まし
い。有機溶剤の具体例としては、メチルセロソルブ、エ
チルセロソルブ、プロピルセロソルブ、イソプロピルセ
ロソルブ、ブチルセロソルブ等のアルキルセロソルブ類
又はこれらのアセテート類；エチレングリコール、ジエ
チレングリコール、プロピレングリコール等のアルキレ
ングリコール類、これらのアルキルエーテル又はアルキ
ルエーテルアセテート類；シクロヘキサノン、ジグライ
ム、トルエン、キシレン、またはこれらの混合物等を挙
げることができる。有機溶剤で希釈する際は固形分が、
５〜８０重量％含有されるように調製するのが好まし
い。有機溶剤での希釈は通常、混合機や分散機により行
う。得られた混合液は系内の粗粒子や異物を除去する目
的で所望により濾過してもよい。濾過は例えば孔径１μ
ｍ以下、好ましくは０．５μｍ以下のメンブラン、サー
フェス、デプスタイプ等の濾材を用い加圧下に行うこと
ができる。
や顔料の分散助剤、塗膜の平滑性をよくするレベリング
剤、粘度調整剤、消泡剤等の各種助剤類等を添加しても
よい。 本発明の熱硬化性組成物をカラーフィルターの
製造に使用する際には、本発明の熱硬化性組成物をガラ
ス板等の基材に塗布するが、基材に対する塗布性を良く
する為に有機溶剤を用いて希釈して使用するのが好まし
い。有機溶剤の具体例としては、メチルセロソルブ、エ
チルセロソルブ、プロピルセロソルブ、イソプロピルセ
ロソルブ、ブチルセロソルブ等のアルキルセロソルブ類
又はこれらのアセテート類；エチレングリコール、ジエ
チレングリコール、プロピレングリコール等のアルキレ
ングリコール類、これらのアルキルエーテル又はアルキ
ルエーテルアセテート類；シクロヘキサノン、ジグライ
ム、トルエン、キシレン、またはこれらの混合物等を挙
げることができる。有機溶剤で希釈する際は固形分が、
５〜８０重量％含有されるように調製するのが好まし
い。有機溶剤での希釈は通常、混合機や分散機により行
う。得られた混合液は系内の粗粒子や異物を除去する目
的で所望により濾過してもよい。濾過は例えば孔径１μ
ｍ以下、好ましくは０．５μｍ以下のメンブラン、サー
フェス、デプスタイプ等の濾材を用い加圧下に行うこと
ができる。
【００４３】本発明の熱硬化性組成物を用いてカラーフ
ィルターのブラックマトリックスを作成するに際して
は、オフセット印刷、凹版印刷、凸版印刷、フォトリソ
グラフィ法等を用いることができるが、精度の点でフォ
トリソグラフィ法が好ましい。以下に説明するフォトリ
ソグラフィ法では、アルカリ現像液によって熱硬化性組
成物を現像する工程が含まれるので、熱硬化性組成物が
アルカリ現像液に可溶であることが要求される。この点
で、本発明のような、カルボキシル基を有する炭素材料
を含有する熱硬化性組成物を利用することは、黒色顔料
を高充填してもアルカリ現像できるという利点を有す
る。この点が、酸量が少ない従来のグラフト化炭素材料
を用いた場合と大きく異なる。
ィルターのブラックマトリックスを作成するに際して
は、オフセット印刷、凹版印刷、凸版印刷、フォトリソ
グラフィ法等を用いることができるが、精度の点でフォ
トリソグラフィ法が好ましい。以下に説明するフォトリ
ソグラフィ法では、アルカリ現像液によって熱硬化性組
成物を現像する工程が含まれるので、熱硬化性組成物が
アルカリ現像液に可溶であることが要求される。この点
で、本発明のような、カルボキシル基を有する炭素材料
を含有する熱硬化性組成物を利用することは、黒色顔料
を高充填してもアルカリ現像できるという利点を有す
る。この点が、酸量が少ない従来のグラフト化炭素材料
を用いた場合と大きく異なる。
【００４４】本発明の熱硬化性組成物を用いたフォトリ
ソグラフィ法によるブラックマトリックスの製造方法を
以下に例示する。
ソグラフィ法によるブラックマトリックスの製造方法を
以下に例示する。
【００４５】方法１；バーコーター、スピンコーター、
ロールコーター、スプレイ塗装、ディッピング、グラビ
ア印刷、スクリーン印刷等の塗布方法によって、ガラ
ス、ポリカーボネート、シリコンウエハー、プラスチッ
クシート、紙等の支持体上に、本発明の熱硬化性組成物
を塗布、乾燥し、黒色塗膜を得る。次に、得られた黒色
塗膜上にアルカリ現像可能なフォトレジストを上記と同
様な方法で塗布し、乾燥後、所定のフォトマスクを介し
て露光する。その後、アルカリ現像液を用いて所望の箇
所のフォトレジスト膜を現像すると同時に、現像除去さ
れたレジストの下の黒色塗膜も併せて除去する。この処
理の後、フォトレジストが劣化しない程度の温度で加熱
処理して黒色塗膜を硬化させレジストの現像液に対する
耐性を与え、引き続いてフォトレジストを現像除去し、
所望のブラックマトリックスを得ることができる。
ロールコーター、スプレイ塗装、ディッピング、グラビ
ア印刷、スクリーン印刷等の塗布方法によって、ガラ
ス、ポリカーボネート、シリコンウエハー、プラスチッ
クシート、紙等の支持体上に、本発明の熱硬化性組成物
を塗布、乾燥し、黒色塗膜を得る。次に、得られた黒色
塗膜上にアルカリ現像可能なフォトレジストを上記と同
様な方法で塗布し、乾燥後、所定のフォトマスクを介し
て露光する。その後、アルカリ現像液を用いて所望の箇
所のフォトレジスト膜を現像すると同時に、現像除去さ
れたレジストの下の黒色塗膜も併せて除去する。この処
理の後、フォトレジストが劣化しない程度の温度で加熱
処理して黒色塗膜を硬化させレジストの現像液に対する
耐性を与え、引き続いてフォトレジストを現像除去し、
所望のブラックマトリックスを得ることができる。
【００４６】方法２；フォトレジストを基板上に塗布し
たのち、フォトリソグラフィー法により所望の箇所のレ
ジストを現像除去する。その後、本発明の熱硬化性組成
物をスピンコーター等で塗布して薄膜を生成し、フォト
レジストのその後の除去が可能な程度の低温で加熱して
黒色塗膜を硬化させレジストの現像液に対する耐性を与
える。最後に、残りのレジストをレジスト上の黒色薄膜
とともに剥離することでブラックマトリックスを形成す
ることができる。上記のフォトレジストとしては、ポジ
型、ネガ型のいずれのレジストも使用できる。ブラック
マトリックスの好ましい膜厚は通常０．２〜５．０μｍ
である。
たのち、フォトリソグラフィー法により所望の箇所のレ
ジストを現像除去する。その後、本発明の熱硬化性組成
物をスピンコーター等で塗布して薄膜を生成し、フォト
レジストのその後の除去が可能な程度の低温で加熱して
黒色塗膜を硬化させレジストの現像液に対する耐性を与
える。最後に、残りのレジストをレジスト上の黒色薄膜
とともに剥離することでブラックマトリックスを形成す
ることができる。上記のフォトレジストとしては、ポジ
型、ネガ型のいずれのレジストも使用できる。ブラック
マトリックスの好ましい膜厚は通常０．２〜５．０μｍ
である。
【００４７】本発明の光硬化性組成物は、前記炭素材料
の他に、炭素−炭素二重結合を少なくとも１つ以上有す
る光硬化性化合物（以下、「光硬化性化合物」とい
う。）、および光重合開始剤を必須成分として含有す
る。
の他に、炭素−炭素二重結合を少なくとも１つ以上有す
る光硬化性化合物（以下、「光硬化性化合物」とい
う。）、および光重合開始剤を必須成分として含有す
る。
【００４８】本発明の光硬化性組成物において、炭素材
料は、前記特定の炭素材料を用いるが、その含有量は、
組成物全重量に対して２０〜８０重量％が好ましい。
料は、前記特定の炭素材料を用いるが、その含有量は、
組成物全重量に対して２０〜８０重量％が好ましい。
【００４９】炭素材料としては、前記炭素材料をそのま
ま使用できるが、光硬化性および塗膜の耐性を向上させ
るために、さらに前記炭素材料を変性して光硬化性の炭
素−炭素二重結合を導入し、炭素材料に光硬化性を付与
したものを使用してもよい。このような光硬化性が付与
された炭素材料は、炭素材料のカルボキシル基の一部に
（メタ）アクリル酸グリシジルを付加することにより製
造することができる。このような光硬化性が付与された
炭素材料を使用する場合は、例外的に本発明の光硬化性
組成物の必須成分である光硬化性化合物を使用しなくて
もよい。
ま使用できるが、光硬化性および塗膜の耐性を向上させ
るために、さらに前記炭素材料を変性して光硬化性の炭
素−炭素二重結合を導入し、炭素材料に光硬化性を付与
したものを使用してもよい。このような光硬化性が付与
された炭素材料は、炭素材料のカルボキシル基の一部に
（メタ）アクリル酸グリシジルを付加することにより製
造することができる。このような光硬化性が付与された
炭素材料を使用する場合は、例外的に本発明の光硬化性
組成物の必須成分である光硬化性化合物を使用しなくて
もよい。
【００５０】本発明の光硬化性組成物の必須成分である
光硬化性化合物の平均分子量は１０００以上が光重合速
度が極めて速いため好ましい。この光硬化性化合物の含
有量は、効率良く光重合を行うために、組成物全重量に
対して３０〜８０重量％が好ましい。
光硬化性化合物の平均分子量は１０００以上が光重合速
度が極めて速いため好ましい。この光硬化性化合物の含
有量は、効率良く光重合を行うために、組成物全重量に
対して３０〜８０重量％が好ましい。
【００５１】光硬化性化合物の具体例としては、エチル
アクリレート、ブチルアクリレート、ヒドロキシエチル
アクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレート、エチ
レングリコールジメタクリレート、ペンタエリスリトー
ルトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタク
リレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレー
ト、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレートなど
の１価又は多価アルコールであるアクリル酸又はメタク
リル酸のエステル類；多価アルコールと１塩基酸又は多
塩基酸を縮合して得たポリエステルプレポリマーに、
（メタ）アクリル酸を反応させて得たポリエステル（メ
タ）アクリレート；ポリオール基を有する化合物と２個
のイソシアネート基を有する化合物とを反応させた後、
（メタ）アクリル酸を反応させて得たポリウレタン（メ
タ）アクリレート；ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、
ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキ
シ樹脂、ポリカルボン酸ポリグリシジルエステル、ポリ
オールポリグリシジルエーテル、脂肪族エポキシ樹脂、
脂環式エポキシ樹脂、アミンエポキシ樹脂、トリフェノ
ールメタン型エポキシ樹脂、ジヒドロキシベンゼン型エ
ポキシ樹脂等のエポキシ樹脂と、（メタ）アクリル酸と
を反応させて得たエポキシ（メタ）アクリレート、また
はこれらの混合物等が挙げられる。
アクリレート、ブチルアクリレート、ヒドロキシエチル
アクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレート、エチ
レングリコールジメタクリレート、ペンタエリスリトー
ルトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタク
リレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレー
ト、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレートなど
の１価又は多価アルコールであるアクリル酸又はメタク
リル酸のエステル類；多価アルコールと１塩基酸又は多
塩基酸を縮合して得たポリエステルプレポリマーに、
（メタ）アクリル酸を反応させて得たポリエステル（メ
タ）アクリレート；ポリオール基を有する化合物と２個
のイソシアネート基を有する化合物とを反応させた後、
（メタ）アクリル酸を反応させて得たポリウレタン（メ
タ）アクリレート；ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、
ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキ
シ樹脂、ポリカルボン酸ポリグリシジルエステル、ポリ
オールポリグリシジルエーテル、脂肪族エポキシ樹脂、
脂環式エポキシ樹脂、アミンエポキシ樹脂、トリフェノ
ールメタン型エポキシ樹脂、ジヒドロキシベンゼン型エ
ポキシ樹脂等のエポキシ樹脂と、（メタ）アクリル酸と
を反応させて得たエポキシ（メタ）アクリレート、また
はこれらの混合物等が挙げられる。
【００５２】前記光硬化性化合物は、アルカリ現像を容
易にするために分子中にカルボキシル基等の酸性基を含
有するのが好ましい。このようなカルボキシル基と炭素
−炭素二重結合を併せ持つ光硬化性化合物の具体例とし
ては、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノー
ルＦ型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、ポリ
カルボン酸ポリグリシジルエステル、ポリオールポリグ
リシジルエーテル、脂肪族エポキシ樹脂、脂環式エポキ
シ樹脂、アミンエポキシ樹脂、トリフェノールメタン型
エポキシ樹脂、ジヒドロキシベンゼン型エポキシ樹脂等
のエポキシ基含有樹脂と、（メタ）アクリル酸とを反応
させて得たヒドロキシル基含有樹脂と、コハク酸無水
物、テトラヒドロフタル酸無水物、ヘキサヒドロフタル
酸無水物、メチルヘキサヒドロフタル酸無水物などの酸
無水物とを反応させて得たカルボキシル基含有エポキシ
（メタ）アクリレート；エチレン、プロピレン、イソブ
チレン、スチレン、ビニルフェノール、アクリル酸、ア
クリル酸エステル、アクリルアミド等のモノマーと無水
マレイン酸との共重合体における無水マレイン酸部に、
ヒドロキシエチルアクリレート等のアルコール性のヒド
ロキシル基を備えたアクリレートや、グリシジルメタク
リレート等のエポキシ基を有する（メタ）アクリレート
を反応させてハーフエステル化した化合物；アクリル
酸、アクリル酸エステル又はヒドロキシエチルアクリレ
ート等のアルコール性のヒドロキシル基を有するアクリ
レートの三元共重合体におけるヒドロキシル基に、更に
アクリル酸を反応させた化合物等が挙げられる。これら
の化合物は、単独又は混合して使用しても良い。
易にするために分子中にカルボキシル基等の酸性基を含
有するのが好ましい。このようなカルボキシル基と炭素
−炭素二重結合を併せ持つ光硬化性化合物の具体例とし
ては、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノー
ルＦ型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、ポリ
カルボン酸ポリグリシジルエステル、ポリオールポリグ
リシジルエーテル、脂肪族エポキシ樹脂、脂環式エポキ
シ樹脂、アミンエポキシ樹脂、トリフェノールメタン型
エポキシ樹脂、ジヒドロキシベンゼン型エポキシ樹脂等
のエポキシ基含有樹脂と、（メタ）アクリル酸とを反応
させて得たヒドロキシル基含有樹脂と、コハク酸無水
物、テトラヒドロフタル酸無水物、ヘキサヒドロフタル
酸無水物、メチルヘキサヒドロフタル酸無水物などの酸
無水物とを反応させて得たカルボキシル基含有エポキシ
（メタ）アクリレート；エチレン、プロピレン、イソブ
チレン、スチレン、ビニルフェノール、アクリル酸、ア
クリル酸エステル、アクリルアミド等のモノマーと無水
マレイン酸との共重合体における無水マレイン酸部に、
ヒドロキシエチルアクリレート等のアルコール性のヒド
ロキシル基を備えたアクリレートや、グリシジルメタク
リレート等のエポキシ基を有する（メタ）アクリレート
を反応させてハーフエステル化した化合物；アクリル
酸、アクリル酸エステル又はヒドロキシエチルアクリレ
ート等のアルコール性のヒドロキシル基を有するアクリ
レートの三元共重合体におけるヒドロキシル基に、更に
アクリル酸を反応させた化合物等が挙げられる。これら
の化合物は、単独又は混合して使用しても良い。
【００５３】本発明の光硬化性組成物の必須成分である
光重合開始剤の具体例としては、ベンジル、ベンゾイン
エーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾイン
イソプロピルエーテル、ベンゾフェノン、ベンゾイル安
息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、４−ベンゾイル−
４’−メチルジフェニルサルファイド、ベンジルメチル
ケタール、ジメチルアミノメチルベンゾエート、２−ｎ
−ブトキシエチル−４−ジメチルアミノベンゾエート、
ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、３，３’−ジ
メチル−４−メトキシベンゾフェノン、メチロベンゾイ
ルフォーメート、２−メチル−１−（４−（メチルチ
オ）フェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オ
ン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モ
ルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン、１−（４−
ドデシルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロ
パン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニ
ルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル
プロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニ
ル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オ
ン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジエチルチオ
キサントン、２，４−ジイソプロピルチオキサントン、
２，４−ジメチルチオキサントン、イソプロピルチオキ
サントン、１−クロロ−４−プロポキシチオキサントン
又はこれらの混合物等が挙げられる。光重合開始剤の配
合割合は、重量比率で光硬化性化合物１に対して、０．
００５〜０．３、特に０．０２〜０．１５が望ましい。
光重合開始剤の具体例としては、ベンジル、ベンゾイン
エーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾイン
イソプロピルエーテル、ベンゾフェノン、ベンゾイル安
息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、４−ベンゾイル−
４’−メチルジフェニルサルファイド、ベンジルメチル
ケタール、ジメチルアミノメチルベンゾエート、２−ｎ
−ブトキシエチル−４−ジメチルアミノベンゾエート、
ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、３，３’−ジ
メチル−４−メトキシベンゾフェノン、メチロベンゾイ
ルフォーメート、２−メチル−１−（４−（メチルチ
オ）フェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オ
ン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モ
ルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン、１−（４−
ドデシルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロ
パン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニ
ルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル
プロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニ
ル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オ
ン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジエチルチオ
キサントン、２，４−ジイソプロピルチオキサントン、
２，４−ジメチルチオキサントン、イソプロピルチオキ
サントン、１−クロロ−４−プロポキシチオキサントン
又はこれらの混合物等が挙げられる。光重合開始剤の配
合割合は、重量比率で光硬化性化合物１に対して、０．
００５〜０．３、特に０．０２〜０．１５が望ましい。
【００５４】本発明においては光重合開始剤にヘキサア
リールビスイミダゾール系化合物又は水素供与体化合物
を併用しても良い。これらの配合割合は、重量比率で光
硬化性化合物１に対して、０．００５〜０．３、特に
０．０２〜０．１５が望ましい。具体例としては米国特
許第３７８４５５７号又はヨーロッパ公開公報第２４６
２９号において開示されているものが使用できる。ヘキ
サアリールビスイミダゾール系化合物としては、安定性
及び感度の点で特に好ましくは、２，２’−ビス（ｏ−
クロルフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニ
ルビスイミダゾリル、２，２’−ビス（ｏ−クロルフェ
ニル）−４，４’，５，５’−テトラ−（ｐ−メトキシ
フェニル）−ビスイミダゾリル等が挙げられる。
リールビスイミダゾール系化合物又は水素供与体化合物
を併用しても良い。これらの配合割合は、重量比率で光
硬化性化合物１に対して、０．００５〜０．３、特に
０．０２〜０．１５が望ましい。具体例としては米国特
許第３７８４５５７号又はヨーロッパ公開公報第２４６
２９号において開示されているものが使用できる。ヘキ
サアリールビスイミダゾール系化合物としては、安定性
及び感度の点で特に好ましくは、２，２’−ビス（ｏ−
クロルフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニ
ルビスイミダゾリル、２，２’−ビス（ｏ−クロルフェ
ニル）−４，４’，５，５’−テトラ−（ｐ−メトキシ
フェニル）−ビスイミダゾリル等が挙げられる。
【００５５】水素供与体化合物としては、芳香族メルカ
プタン系化合物、芳香族アミン系化合物等を用いること
もできる。特に芳香族メルカプタン系水素供与体化合物
としては、ベンゼン或は複素環を母核としてメルカプト
基を１個又は２個有する化合物が良好である。この際、
２置換の場合には一方のメルカプト基がアルキル置換、
アラルキル置換、フェニル置換されていても良く、また
ジスルフィドの形をとった二量体でも良い。好ましい例
としては、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メル
カプトベンゾオキサゾール等が挙げられる。芳香族アミ
ン系水素供与体化合物としては、ベンゼン或は複素環を
母核としてアミノ基を１個又は２個有する化合物が良好
である。この場合、アミノ基は、アルキル基又は置換ア
ルキル基で置換されていても良く、モノアミノ体は更に
カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、置換アルコ
キシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、置換フェ
ノキシカルボニル基、ニトリル基等によって置換されて
いても良い。
プタン系化合物、芳香族アミン系化合物等を用いること
もできる。特に芳香族メルカプタン系水素供与体化合物
としては、ベンゼン或は複素環を母核としてメルカプト
基を１個又は２個有する化合物が良好である。この際、
２置換の場合には一方のメルカプト基がアルキル置換、
アラルキル置換、フェニル置換されていても良く、また
ジスルフィドの形をとった二量体でも良い。好ましい例
としては、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メル
カプトベンゾオキサゾール等が挙げられる。芳香族アミ
ン系水素供与体化合物としては、ベンゼン或は複素環を
母核としてアミノ基を１個又は２個有する化合物が良好
である。この場合、アミノ基は、アルキル基又は置換ア
ルキル基で置換されていても良く、モノアミノ体は更に
カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、置換アルコ
キシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、置換フェ
ノキシカルボニル基、ニトリル基等によって置換されて
いても良い。
【００５６】本発明の光硬化性組成物には、皮膜形成性
高分子結合剤、例えばポリメタクリル酸エステル又はそ
の部分加水分解物、ポリ酢酸ビニル又はその加水分解
物、ポリスチレン、ポリビニルブチラール、ポリクロロ
プレン、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリエチレン、塩素化
ポリプロピレン、ポリビニルピロリドン、スチレンと無
水マレイン酸との共重合物又はそのハーフエステル、
（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸エステル、ア
クリルアミド、アクリルニトリル等の共重合可能なモノ
マー群から選ばれた共重合物等を添加してもよい。皮膜
形成性高分子結合剤の添加量は、光硬化性組成物全重量
に対して０〜５０重量％、特に３〜３０重量％が好まし
い。
高分子結合剤、例えばポリメタクリル酸エステル又はそ
の部分加水分解物、ポリ酢酸ビニル又はその加水分解
物、ポリスチレン、ポリビニルブチラール、ポリクロロ
プレン、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリエチレン、塩素化
ポリプロピレン、ポリビニルピロリドン、スチレンと無
水マレイン酸との共重合物又はそのハーフエステル、
（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸エステル、ア
クリルアミド、アクリルニトリル等の共重合可能なモノ
マー群から選ばれた共重合物等を添加してもよい。皮膜
形成性高分子結合剤の添加量は、光硬化性組成物全重量
に対して０〜５０重量％、特に３〜３０重量％が好まし
い。
【００５７】本発明の光硬化性組成物において、さらに
耐熱性向上の目的でエポキシ化合物を添加することもで
きる。エポキシ化合物は、前記カルボキシル基含有の炭
素材料やカルボキシル基含有光硬化性化合物等と熱的に
反応し架橋することにより耐熱性を向上させる上で有益
である。エポキシ化合物の具体例としては、ビスフェノ
ールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹
脂、ノボラック型エポキシ樹脂、ポリカルボン酸ポリグ
リシジルエステル、ポリオールポリグリシジルエーテ
ル、脂肪族又は脂環式エポキシ樹脂、アミンエポキシ樹
脂、トリフェノールメタン型エポキシ樹脂、ジヒドロキ
シベンゼン型エポキシ樹脂等が挙げられる。エポキシ化
合物の添加量は、光硬化性化合物１に対して重量比率
で、０．３以下、特に０．１５以下が望ましい。
耐熱性向上の目的でエポキシ化合物を添加することもで
きる。エポキシ化合物は、前記カルボキシル基含有の炭
素材料やカルボキシル基含有光硬化性化合物等と熱的に
反応し架橋することにより耐熱性を向上させる上で有益
である。エポキシ化合物の具体例としては、ビスフェノ
ールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹
脂、ノボラック型エポキシ樹脂、ポリカルボン酸ポリグ
リシジルエステル、ポリオールポリグリシジルエーテ
ル、脂肪族又は脂環式エポキシ樹脂、アミンエポキシ樹
脂、トリフェノールメタン型エポキシ樹脂、ジヒドロキ
シベンゼン型エポキシ樹脂等が挙げられる。エポキシ化
合物の添加量は、光硬化性化合物１に対して重量比率
で、０．３以下、特に０．１５以下が望ましい。
【００５８】本発明の光硬化性組成物を用いてカラーフ
ィルターを作製するにあたっては、光硬化性組成物のガ
ラス板等の基材に対する塗布性を良くする為に、光硬化
性組成物を有機溶剤を用いて希釈して用いてもよい。こ
のような有機溶剤の具体例としてはメチルセロソルブ、
エチルセロソルブ、プロピルセロソルブ、イソプロピル
セロソルブ、ブチルセロソルブ等のアルキルセロソルブ
類又はこれらのアセテート類；エチレングリコール、ジ
エチレングリコール、プロピレングリコール等のアルキ
レングリコール類、これらのアルキルエーテル又はアル
キルエーテルアセテート類；シクロヘキサノン、ジグラ
イム、トルエン、キシレン、またはこれらの混合物等を
挙げることができる。有機溶剤で希釈する際は固形分が
５〜８０重量％含有されるように調製するのが好まし
い。有機溶剤での希釈は通常、混合機や分散機により行
う。得られた混合液は系内の粗粒子や異物を除去する目
的で所望により濾過してもよい。濾過は例えば孔径１μ
ｍ以下、好ましくは０．５μｍ以下のメンブラン、サー
フェス、デプスタイプ等の濾材を用い加圧下に行うこと
ができる。
ィルターを作製するにあたっては、光硬化性組成物のガ
ラス板等の基材に対する塗布性を良くする為に、光硬化
性組成物を有機溶剤を用いて希釈して用いてもよい。こ
のような有機溶剤の具体例としてはメチルセロソルブ、
エチルセロソルブ、プロピルセロソルブ、イソプロピル
セロソルブ、ブチルセロソルブ等のアルキルセロソルブ
類又はこれらのアセテート類；エチレングリコール、ジ
エチレングリコール、プロピレングリコール等のアルキ
レングリコール類、これらのアルキルエーテル又はアル
キルエーテルアセテート類；シクロヘキサノン、ジグラ
イム、トルエン、キシレン、またはこれらの混合物等を
挙げることができる。有機溶剤で希釈する際は固形分が
５〜８０重量％含有されるように調製するのが好まし
い。有機溶剤での希釈は通常、混合機や分散機により行
う。得られた混合液は系内の粗粒子や異物を除去する目
的で所望により濾過してもよい。濾過は例えば孔径１μ
ｍ以下、好ましくは０．５μｍ以下のメンブラン、サー
フェス、デプスタイプ等の濾材を用い加圧下に行うこと
ができる。
【００５９】本発明の光硬化性組成物を用いてカラーフ
ィルターにおけるブラックマトリックスを作製する手順
を以下に示す。
ィルターにおけるブラックマトリックスを作製する手順
を以下に示す。
【００６０】本発明の光硬化性組成物をガラス、ポリカ
ーボネート、シリコンウエハー、紙、プラスチックシー
ト、合成紙等の支持体上に、バーコーター、スピンコー
ター、ロールコーター、スプレイ塗装、ディッピング、
グラビア印刷、スクリーン印刷等の塗布方法によって塗
装し、更に溶剤を乾燥させることにより平滑な塗膜を形
成する。この塗膜に、目的とする画素を形成する為に、
ネガフォトマスクを通して紫外線を通常５０〜２０００
ｍＪ／ｃｍ2、好ましくは１００〜１０００ｍＪ／ｃｍ2
照射する。この際、全塗膜に均一に平行光線が照射され
るようにマスクアライナー等の装置を用いるのが好まし
い。必要により、この照射された塗膜を短時間加熱し重
合を促進しても良い。次に、現像液へ浸漬或は、シャワ
ー中に晒し、未硬化部分を溶解させ現像する。次いで高
温ポストベーク処理で完全硬化させることにより、目的
とするブラックマトリックスを得ることができる。ブラ
ックマトリックスの好ましい膜厚は通常０．２〜５．０
μｍである。
ーボネート、シリコンウエハー、紙、プラスチックシー
ト、合成紙等の支持体上に、バーコーター、スピンコー
ター、ロールコーター、スプレイ塗装、ディッピング、
グラビア印刷、スクリーン印刷等の塗布方法によって塗
装し、更に溶剤を乾燥させることにより平滑な塗膜を形
成する。この塗膜に、目的とする画素を形成する為に、
ネガフォトマスクを通して紫外線を通常５０〜２０００
ｍＪ／ｃｍ2、好ましくは１００〜１０００ｍＪ／ｃｍ2
照射する。この際、全塗膜に均一に平行光線が照射され
るようにマスクアライナー等の装置を用いるのが好まし
い。必要により、この照射された塗膜を短時間加熱し重
合を促進しても良い。次に、現像液へ浸漬或は、シャワ
ー中に晒し、未硬化部分を溶解させ現像する。次いで高
温ポストベーク処理で完全硬化させることにより、目的
とするブラックマトリックスを得ることができる。ブラ
ックマトリックスの好ましい膜厚は通常０．２〜５．０
μｍである。
【００６１】現像液としては、水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム、炭酸ナトリウム、メタ珪酸ナトリウムなど
の無機アルカリやテトラメチルアンモニウムヒドロキシ
ドなどの有機アミンの水溶液等を好ましく使用すること
ができる。
化カリウム、炭酸ナトリウム、メタ珪酸ナトリウムなど
の無機アルカリやテトラメチルアンモニウムヒドロキシ
ドなどの有機アミンの水溶液等を好ましく使用すること
ができる。
【００６２】本発明の硬化性組成物を用いて、カラーフ
ィルター上にブラックマトリックスを形成する手順とし
ては、ガラス等の基板上にブラックマトリックスを形
成した後に赤、緑、青の各色の着色層を形成する方法、
ガラス基板等の上に赤、緑、青の各色の着色層を形成
した後にブラックマトリックスを形成する方法、または
ブラックマトリックス、各着色層をそれぞれ別個にま
たは併せて別の基板に作成しておき、後でカラーフィル
ター基板に転写する方法などが挙げられる。
ィルター上にブラックマトリックスを形成する手順とし
ては、ガラス等の基板上にブラックマトリックスを形
成した後に赤、緑、青の各色の着色層を形成する方法、
ガラス基板等の上に赤、緑、青の各色の着色層を形成
した後にブラックマトリックスを形成する方法、または
ブラックマトリックス、各着色層をそれぞれ別個にま
たは併せて別の基板に作成しておき、後でカラーフィル
ター基板に転写する方法などが挙げられる。
【００６３】本発明の硬化性組成物を用いて形成される
ブラックマトリックスを有する基板は、使用目的に応じ
て、導電性を大きく異なるように制御することができ
る。すなわち、本発明の必須構成成分である炭素材料の
製造条件を選択することにより、得られるブラックマト
リックスの体積抵抗率を１×１０2〜１×１０15Ω・ｃ
ｍと大幅に、かつ任意に変えることができる。具体的に
は重合体(b)として数平均分子量２，０００〜５０，０
００の高分子量のものを用いたり、または重合体(b)と
炭素質材料(a)の重量比率を０．４〜４と高くするとブ
ラックマトリックスの体積抵抗率を大きくすることがで
きる。これに対して、重合体(b)として数平均分子量３
００〜７，０００の低分子量のポリマーを用いたり、あ
るいは重合体(b)と炭素質材料(a)の重量比率を０．０５
以上、０．４未満と低くするとブラックマトリックスの
体積抵抗率は、前記炭素材料とほぼ同じく、小さく維持
できる。
ブラックマトリックスを有する基板は、使用目的に応じ
て、導電性を大きく異なるように制御することができ
る。すなわち、本発明の必須構成成分である炭素材料の
製造条件を選択することにより、得られるブラックマト
リックスの体積抵抗率を１×１０2〜１×１０15Ω・ｃ
ｍと大幅に、かつ任意に変えることができる。具体的に
は重合体(b)として数平均分子量２，０００〜５０，０
００の高分子量のものを用いたり、または重合体(b)と
炭素質材料(a)の重量比率を０．４〜４と高くするとブ
ラックマトリックスの体積抵抗率を大きくすることがで
きる。これに対して、重合体(b)として数平均分子量３
００〜７，０００の低分子量のポリマーを用いたり、あ
るいは重合体(b)と炭素質材料(a)の重量比率を０．０５
以上、０．４未満と低くするとブラックマトリックスの
体積抵抗率は、前記炭素材料とほぼ同じく、小さく維持
できる。
【００６４】一般に原料の炭素質材料は導電性が高いの
で、ブラックマトリックスの体積抵抗率を下げる目的の
ためのみであれば、本発明の炭素材料は必ずしも必要で
ないが、炭素質材料の分散性を大幅に改善しブラックマ
トリックスの精細性を向上させコントラストの向上を実
現するには、前記炭素材料を使用することが、最も効果
的である。
で、ブラックマトリックスの体積抵抗率を下げる目的の
ためのみであれば、本発明の炭素材料は必ずしも必要で
ないが、炭素質材料の分散性を大幅に改善しブラックマ
トリックスの精細性を向上させコントラストの向上を実
現するには、前記炭素材料を使用することが、最も効果
的である。
【００６５】本発明の熱硬化性組成物または光硬化性組
成物を用いて形成されるカラーフィルターのブラックマ
トリックスは、その構成と目的によって所望する体積抵
抗率は異なる。このブラックマトリックスを有する基板
を用いて、電着法により、赤、緑、青の各画素を有する
カラーフィルターを作成する場合、ブラックマトリック
スの体積抵抗率が低いとブラックマトリックス上に着色
電着塗料が上乗りすることがある。これを避けるには、
ブラックマトリックスの体積抵抗率は１×１０5Ω・cm
〜１×１０15Ω・cmが望ましい。なお、このような高い
体積抵抗率のブラックマトリックスは、前記特定の炭素
材料以外の通常の条件で製造した炭素材料では得ること
はできない。
成物を用いて形成されるカラーフィルターのブラックマ
トリックスは、その構成と目的によって所望する体積抵
抗率は異なる。このブラックマトリックスを有する基板
を用いて、電着法により、赤、緑、青の各画素を有する
カラーフィルターを作成する場合、ブラックマトリック
スの体積抵抗率が低いとブラックマトリックス上に着色
電着塗料が上乗りすることがある。これを避けるには、
ブラックマトリックスの体積抵抗率は１×１０5Ω・cm
〜１×１０15Ω・cmが望ましい。なお、このような高い
体積抵抗率のブラックマトリックスは、前記特定の炭素
材料以外の通常の条件で製造した炭素材料では得ること
はできない。
【００６６】本発明の熱硬化性組成物または光硬化性組
成物を用いて形成されるブラックマトリックスは、カラ
ーフィルター用以外に、白黒表示ＴＦＴアレイ基板用対
向電極基板用等として使用することもできる。
成物を用いて形成されるブラックマトリックスは、カラ
ーフィルター用以外に、白黒表示ＴＦＴアレイ基板用対
向電極基板用等として使用することもできる。
【００６７】本発明の熱硬化性組成物または光硬化性組
成物は、液晶ディスプレーの液晶のシール剤またはスペ
ーサーに遮光性を付与するのにも好ましく利用すること
ができる。特にこれらの用途の場合、体積抵抗率が１×
１０5Ω・cm〜１×１０15Ω・cmと大きい炭素材料を使
用するのが好ましい。
成物は、液晶ディスプレーの液晶のシール剤またはスペ
ーサーに遮光性を付与するのにも好ましく利用すること
ができる。特にこれらの用途の場合、体積抵抗率が１×
１０5Ω・cm〜１×１０15Ω・cmと大きい炭素材料を使
用するのが好ましい。
【００６８】
【発明の効果】本発明の硬化性組成物では、水分散可能
な酸基を含む特定の炭素材料を必須成分とすることで、
顔料が高充填可能であり、アルカリ水に可溶とすること
ができる。従って、遮光性、解像性に優れ、かつ導電性
を制御したブラックマトリクス等を簡便に製造するのに
有用である。一般に、黒色着色剤として通常のカーボン
ブラック等の炭素質材料を含有するラジカル重合系樹脂
は、カーボンブラック等の重合禁止作用により重合を完
結させることが困難であり、その結果通常の炭素材料を
含有するラジカル重合系レジストには画素の基板に対す
る密着性が不十分で、現像時に画素が剥離したり、更に
は解像性、硬化膜からの残存モノマーの溶剤溶出等の問
題が生じる。これに対して、本発明における特定の炭素
材料を着色剤とする硬化性組成物は重合阻害を受けにく
く、上記のような欠点を引き起こすことを防止できる。
な酸基を含む特定の炭素材料を必須成分とすることで、
顔料が高充填可能であり、アルカリ水に可溶とすること
ができる。従って、遮光性、解像性に優れ、かつ導電性
を制御したブラックマトリクス等を簡便に製造するのに
有用である。一般に、黒色着色剤として通常のカーボン
ブラック等の炭素質材料を含有するラジカル重合系樹脂
は、カーボンブラック等の重合禁止作用により重合を完
結させることが困難であり、その結果通常の炭素材料を
含有するラジカル重合系レジストには画素の基板に対す
る密着性が不十分で、現像時に画素が剥離したり、更に
は解像性、硬化膜からの残存モノマーの溶剤溶出等の問
題が生じる。これに対して、本発明における特定の炭素
材料を着色剤とする硬化性組成物は重合阻害を受けにく
く、上記のような欠点を引き起こすことを防止できる。
【００６９】
【実施例】以下、実施例、比較例及び応用例によって具
体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるもので
はない。
体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるもので
はない。
【００７０】
【合成例１】カルボキシル基含有カーボンブラック（ＧＣ−１）の合
成 撹拌機、コンデンサー、温度計を備えた５リットル反応
器に、イソプロピルアルコール１５００ｇを仕込み６５
℃に加熱して撹拌した。次にイソブチルアクリレート６
８４ｇ、ブチルアクリレート１１８ｇ、メチルメタクリ
レート３２６ｇ、ヒドロキシエチルアクリレート２１０
ｇ、ｔ−ブチルアクリレート１５４ｇ、グリシジルメタ
クリレート８ｇおよび重合開始剤としてアゾイソブチロ
ニトリル１０ｇからなる混合物を、４時間にわたって連
続的に滴下後そのまま２時間反応を継続した。その後さ
らに８０℃に昇温して１時間反応を継続することにより
数平均分子量１２０００の共重合体を得た。この重合体
がエポキシ基、ヒドロキシ基及びｔ−ブチルオキシカル
ボニル基を含むものであることをＩＲ、1Ｈ−ＮＭＲ、
13Ｃ−ＮＭＲにより確認した。
成 撹拌機、コンデンサー、温度計を備えた５リットル反応
器に、イソプロピルアルコール１５００ｇを仕込み６５
℃に加熱して撹拌した。次にイソブチルアクリレート６
８４ｇ、ブチルアクリレート１１８ｇ、メチルメタクリ
レート３２６ｇ、ヒドロキシエチルアクリレート２１０
ｇ、ｔ−ブチルアクリレート１５４ｇ、グリシジルメタ
クリレート８ｇおよび重合開始剤としてアゾイソブチロ
ニトリル１０ｇからなる混合物を、４時間にわたって連
続的に滴下後そのまま２時間反応を継続した。その後さ
らに８０℃に昇温して１時間反応を継続することにより
数平均分子量１２０００の共重合体を得た。この重合体
がエポキシ基、ヒドロキシ基及びｔ−ブチルオキシカル
ボニル基を含むものであることをＩＲ、1Ｈ−ＮＭＲ、
13Ｃ−ＮＭＲにより確認した。
【００７１】上記共重合体を固形分濃度５０ｗｔ％含む
共重合体ワニス６００ｇと、カーボンブラック（商品名
「Special Black ４」、デグサ社製、粒子径２５ｎｍ、
ｐＨ２．５（ｐＨはＩＳＯ−７８７−９に従い、カーボ
ンブラックの水性懸濁液をガラス電極で測定））３００
ｇとをステンレスビーカーに入れ、さらにイソプロピル
アルコールを添加して固形分濃度３５ｗｔ％の状態で３
０分間混練した後、ガラスビーズを添加して３０００ｒ
ｐｍ、２時間撹拌した。その後過剰のイソプロピルアル
コールを減圧留去してペースト状にしたものをニーダー
を用いて１３０℃、６０ｒｐｍの条件下で１５分間混練
して脱溶剤化並びに反応を行い重合体接触処理カーボン
ブラックを得た。
共重合体ワニス６００ｇと、カーボンブラック（商品名
「Special Black ４」、デグサ社製、粒子径２５ｎｍ、
ｐＨ２．５（ｐＨはＩＳＯ−７８７−９に従い、カーボ
ンブラックの水性懸濁液をガラス電極で測定））３００
ｇとをステンレスビーカーに入れ、さらにイソプロピル
アルコールを添加して固形分濃度３５ｗｔ％の状態で３
０分間混練した後、ガラスビーズを添加して３０００ｒ
ｐｍ、２時間撹拌した。その後過剰のイソプロピルアル
コールを減圧留去してペースト状にしたものをニーダー
を用いて１３０℃、６０ｒｐｍの条件下で１５分間混練
して脱溶剤化並びに反応を行い重合体接触処理カーボン
ブラックを得た。
【００７２】次いで、上記重合体接触処理カーボンブラ
ック３００ｇをジエチレングリコールジメチルエーテル
に１００℃で溶解し、不溶成分をろ過して除去したもの
（固形分濃度が２０ｗｔ％）を三つ口フラスコに入れ、
窒素ガスを吹き込みながら３規定塩酸水溶液５０ｍｌを
加えて８０℃で１時間加熱撹拌した。続いて、６０℃で
減圧濃縮して共重合体部位にカルボキシル基が導入され
た酸基含有カーボンブラック（ＧＣ−１）を得た。な
お、ＧＣ−１のカルボキシル基含有量は、炭素材料（Ｇ
Ｃ−１）１００ｇあたり３５ミリモルであった。
ック３００ｇをジエチレングリコールジメチルエーテル
に１００℃で溶解し、不溶成分をろ過して除去したもの
（固形分濃度が２０ｗｔ％）を三つ口フラスコに入れ、
窒素ガスを吹き込みながら３規定塩酸水溶液５０ｍｌを
加えて８０℃で１時間加熱撹拌した。続いて、６０℃で
減圧濃縮して共重合体部位にカルボキシル基が導入され
た酸基含有カーボンブラック（ＧＣ−１）を得た。な
お、ＧＣ−１のカルボキシル基含有量は、炭素材料（Ｇ
Ｃ−１）１００ｇあたり３５ミリモルであった。
【００７３】
【合成例２】カルボキシル基含有カーボンブラック（ＧＣ−２）の合
成 撹拌機、コンデンサー、温度計を備えた５リットル反応
器に、ジエチレングリコールジメチルエーテル１５００
ｇを仕込み８０℃に加熱して撹拌した。次にイソプロペ
ニルオキサゾリン２０ｇ、ｔ−ブチルアクリレート１４
０ｇ、イソブチルメタクリレート２７５ｇ、ブチルアク
リレート１３０ｇ、メチルメタクリレート２３５ｇ、ス
チレン２２５ｇ、ノニルフェノキシポリエチレングリコ
ールアクリレート４７５ｇおよび重合開始剤としてアゾ
イソブチロニトリル１０ｇからなる混合物を、４時間に
わたって連続的に滴下後そのまま２時間反応を継続し
た。その後さらに８０℃で１時間反応を継続することに
より数平均分子量１３０００の共重合体を得た。この重
合体がオキサゾリン基およびｔ−ブチルオキシカルボニ
ル基を含むことを合成例１と同様に確認した。
成 撹拌機、コンデンサー、温度計を備えた５リットル反応
器に、ジエチレングリコールジメチルエーテル１５００
ｇを仕込み８０℃に加熱して撹拌した。次にイソプロペ
ニルオキサゾリン２０ｇ、ｔ−ブチルアクリレート１４
０ｇ、イソブチルメタクリレート２７５ｇ、ブチルアク
リレート１３０ｇ、メチルメタクリレート２３５ｇ、ス
チレン２２５ｇ、ノニルフェノキシポリエチレングリコ
ールアクリレート４７５ｇおよび重合開始剤としてアゾ
イソブチロニトリル１０ｇからなる混合物を、４時間に
わたって連続的に滴下後そのまま２時間反応を継続し
た。その後さらに８０℃で１時間反応を継続することに
より数平均分子量１３０００の共重合体を得た。この重
合体がオキサゾリン基およびｔ−ブチルオキシカルボニ
ル基を含むことを合成例１と同様に確認した。
【００７４】上記共重合体を固形分濃度５０ｗｔ％含む
共重合体ワニス６００ｇと、合成例１と同様のカーボン
ブラック３００ｇとをステンレスビーカーに入れ、さら
にジエチレングリコールジメチルエーテルを添加して固
形分濃度３５ｗｔ％の状態で３０分間混練した後、ガラ
スビーズを添加して３０００ｒｐｍ、２時間撹拌した。
その後過剰のジエチレングリコールジメチルエーテルを
減圧留去してペースト状にしたものを３本ロールを用い
て１３０℃、１０ｒｐｍの条件下で１５分間混練して脱
溶剤化並びに反応を行い重合体接触処理カーボンブラッ
クを得た。
共重合体ワニス６００ｇと、合成例１と同様のカーボン
ブラック３００ｇとをステンレスビーカーに入れ、さら
にジエチレングリコールジメチルエーテルを添加して固
形分濃度３５ｗｔ％の状態で３０分間混練した後、ガラ
スビーズを添加して３０００ｒｐｍ、２時間撹拌した。
その後過剰のジエチレングリコールジメチルエーテルを
減圧留去してペースト状にしたものを３本ロールを用い
て１３０℃、１０ｒｐｍの条件下で１５分間混練して脱
溶剤化並びに反応を行い重合体接触処理カーボンブラッ
クを得た。
【００７５】次いで上記重合体接触処理カーボンブラッ
ク３００ｇを、ジエチレングリコールジメチルエーテル
に１００℃で溶解し、不溶成分をろ過して除去したもの
（固形分濃度２０ｗｔ％）を三つ口フラスコに入れ、１
５０℃で４時間加熱撹拌した。続いて、１００℃で減圧
濃縮して共重合体部位にカルボキシル基が導入された酸
基含有カーボンブラック（ＧＣ−２）を得た。なお、Ｇ
Ｃ−２のカルボキシル基含有量は、炭素材料（ＧＣ−
２）１００ｇあたり３３ミリモルであった。
ク３００ｇを、ジエチレングリコールジメチルエーテル
に１００℃で溶解し、不溶成分をろ過して除去したもの
（固形分濃度２０ｗｔ％）を三つ口フラスコに入れ、１
５０℃で４時間加熱撹拌した。続いて、１００℃で減圧
濃縮して共重合体部位にカルボキシル基が導入された酸
基含有カーボンブラック（ＧＣ−２）を得た。なお、Ｇ
Ｃ−２のカルボキシル基含有量は、炭素材料（ＧＣ−
２）１００ｇあたり３３ミリモルであった。
【００７６】
【合成例３】カルボキシル基含有黒鉛（ＧＣ−３）の合成 合成例１で調製した固形分５０ｗｔ％の共重合体ワニス
６００ｇと、微粒子状の黒鉛２００ｇとをステンレスビ
ーカーに入れ、３０分間混練した後、ガラスビーズを添
加して３０００ｒｐｍ、２時間撹拌した。その後過剰の
イソプロピルアルコールを減圧留去してペースト状にし
たものをニーダーを用いて１００〜１２０℃、６０ｒｐ
ｍの条件下で１５分間混練して脱溶剤化並びに反応を行
い重合体接触処理黒鉛を得た。
６００ｇと、微粒子状の黒鉛２００ｇとをステンレスビ
ーカーに入れ、３０分間混練した後、ガラスビーズを添
加して３０００ｒｐｍ、２時間撹拌した。その後過剰の
イソプロピルアルコールを減圧留去してペースト状にし
たものをニーダーを用いて１００〜１２０℃、６０ｒｐ
ｍの条件下で１５分間混練して脱溶剤化並びに反応を行
い重合体接触処理黒鉛を得た。
【００７７】次いで上記重合体接触処理黒鉛３００ｇ
を、ジエチレングリコールジメチルエーテルに１００℃
で溶解し、不溶成分をろ過して除去したもの（固形分濃
度２０ｗｔ％）を三つ口フラスコに入れ、窒素ガスを吹
き込みながら３規定塩酸水溶液５０ｍｌを加えて８０℃
で１時間加熱撹拌した。続いて、６０℃で減圧濃縮して
共重合体部位にカルボキシル基が導入されたカルボキシ
ル基含有黒鉛（ＧＣ−３）を得た。なお、ＧＣ−３のカ
ルボキシル基含量は、炭素材料（ＧＣ−３）１００ｇあ
たり４３ミリモルであった。
を、ジエチレングリコールジメチルエーテルに１００℃
で溶解し、不溶成分をろ過して除去したもの（固形分濃
度２０ｗｔ％）を三つ口フラスコに入れ、窒素ガスを吹
き込みながら３規定塩酸水溶液５０ｍｌを加えて８０℃
で１時間加熱撹拌した。続いて、６０℃で減圧濃縮して
共重合体部位にカルボキシル基が導入されたカルボキシ
ル基含有黒鉛（ＧＣ−３）を得た。なお、ＧＣ−３のカ
ルボキシル基含量は、炭素材料（ＧＣ−３）１００ｇあ
たり４３ミリモルであった。
【００７８】
【合成例４】カルボキシル基を含有しないカーボンブラック（ＧＣ−
４）の合成 撹拌機、コンデンサー、温度計を備えた５リットル反応
器に、イソプロピルアルコール１５００ｇを仕込み６５
℃に加熱して撹拌した。次にイソブチルアクリレート８
３８ｇ、ブチルアクリレート１１８ｇ、メチルメタクリ
レート３２６ｇ、ヒドロキシエチルアクリレート２１０
ｇ、グリシジルメタクリレート８ｇおよび重合開始剤と
してアゾイソブチロニトリル１０ｇからなる混合物を、
４時間にわたって連続的に滴下後そのまま２時間反応を
継続した。その後さらに８０℃に昇温して１時間反応を
継続することにより数平均分子量１２０００の共重合体
を得た。この重合体がｔ−ブチルオキシカルボニル基お
よびカルボキシル基を含んでいないことを合成例１と同
様に確認した。
４）の合成 撹拌機、コンデンサー、温度計を備えた５リットル反応
器に、イソプロピルアルコール１５００ｇを仕込み６５
℃に加熱して撹拌した。次にイソブチルアクリレート８
３８ｇ、ブチルアクリレート１１８ｇ、メチルメタクリ
レート３２６ｇ、ヒドロキシエチルアクリレート２１０
ｇ、グリシジルメタクリレート８ｇおよび重合開始剤と
してアゾイソブチロニトリル１０ｇからなる混合物を、
４時間にわたって連続的に滴下後そのまま２時間反応を
継続した。その後さらに８０℃に昇温して１時間反応を
継続することにより数平均分子量１２０００の共重合体
を得た。この重合体がｔ−ブチルオキシカルボニル基お
よびカルボキシル基を含んでいないことを合成例１と同
様に確認した。
【００７９】上記共重合体を固形分５０ｗｔ％含む共重
合体ワニス６００ｇと、実施例１と同様なカーボンブラ
ック３００ｇとをステンレスビーカーに入れ、さらにイ
ソプロピルアルコールを添加して固形分濃度３０ｗｔ％
の状態で３０分間混練した後、ガラスビーズを添加して
３０００ｒｐｍ、２時間撹拌した。その後過剰のイソプ
ロピルアルコールを減圧留去してペースト状にしたもの
にジエチレングリコールジメチルエーテルを１０％添加
し、ニーダーを用いて１４０℃、６０ｒｐｍの条件下で
２０分間混練して脱溶剤化並びに反応を行いカルボキシ
ル基を含まない重合体接触処理カーボンブラック（ＧＣ
−４）を得た。ＧＣ−４のカルボキシル基含量は、炭素
材料（ＧＣ−４）１００ｇあたり０．５ミリモルであっ
た。
合体ワニス６００ｇと、実施例１と同様なカーボンブラ
ック３００ｇとをステンレスビーカーに入れ、さらにイ
ソプロピルアルコールを添加して固形分濃度３０ｗｔ％
の状態で３０分間混練した後、ガラスビーズを添加して
３０００ｒｐｍ、２時間撹拌した。その後過剰のイソプ
ロピルアルコールを減圧留去してペースト状にしたもの
にジエチレングリコールジメチルエーテルを１０％添加
し、ニーダーを用いて１４０℃、６０ｒｐｍの条件下で
２０分間混練して脱溶剤化並びに反応を行いカルボキシ
ル基を含まない重合体接触処理カーボンブラック（ＧＣ
−４）を得た。ＧＣ−４のカルボキシル基含量は、炭素
材料（ＧＣ−４）１００ｇあたり０．５ミリモルであっ
た。
【００８０】
【合成例５】カルボキシル基含有カーボンブラック（ＧＣ−５）の合
成 合成例１と同様なカーボンブラック１００ｇを、ベンゼ
ン３００ｇに懸濁し共沸脱水後、８０℃にて塩化チオニ
ル５０ｇを添加し５０時間加熱撹拌した。反応後、ベン
ゼンと未反応の塩化チオニルを減圧下で除去し、９０℃
で２４時間真空乾燥した。次いで、上記酸クロリド基を
導入したカーボンブラック６０ｇと、２，２’−アゾビ
ス（２−シアノプロパノール）１０ｇ、ジオキサン８０
０ｍｌ、およびα−ピコリン１００ｍｌを、２０００ｍ
ｌフラスコに入れ、マグネットスターラーで室温、窒素
雰囲気下において８時間撹拌した。反応後のカーボンブ
ラックは、メタノールを用いて十分に洗浄した後室温下
で真空乾燥した。
成 合成例１と同様なカーボンブラック１００ｇを、ベンゼ
ン３００ｇに懸濁し共沸脱水後、８０℃にて塩化チオニ
ル５０ｇを添加し５０時間加熱撹拌した。反応後、ベン
ゼンと未反応の塩化チオニルを減圧下で除去し、９０℃
で２４時間真空乾燥した。次いで、上記酸クロリド基を
導入したカーボンブラック６０ｇと、２，２’−アゾビ
ス（２−シアノプロパノール）１０ｇ、ジオキサン８０
０ｍｌ、およびα−ピコリン１００ｍｌを、２０００ｍ
ｌフラスコに入れ、マグネットスターラーで室温、窒素
雰囲気下において８時間撹拌した。反応後のカーボンブ
ラックは、メタノールを用いて十分に洗浄した後室温下
で真空乾燥した。
【００８１】次に、上記アゾ基を導入したカーボンブラ
ック６０ｇとブチルセロソルブ１００ｇとからなる系
に、窒素下でイソブチルアクリレート３４ｇ、ブチルア
クリレート６ｇ、メチルメタクリレート１６ｇ、ヒドロ
キシエチルアクリレート１１ｇ、およびアクリル酸１０
ｇからなる溶液を７０℃の温度で加熱撹拌しながら６時
間かけて逐次添加した。添加後、８０℃に昇温しさらに
２時間反応を続けた。
ック６０ｇとブチルセロソルブ１００ｇとからなる系
に、窒素下でイソブチルアクリレート３４ｇ、ブチルア
クリレート６ｇ、メチルメタクリレート１６ｇ、ヒドロ
キシエチルアクリレート１１ｇ、およびアクリル酸１０
ｇからなる溶液を７０℃の温度で加熱撹拌しながら６時
間かけて逐次添加した。添加後、８０℃に昇温しさらに
２時間反応を続けた。
【００８２】反応後、未反応のモノマーと溶媒とを減圧
除去して濃縮した後、この濃縮物のエタノール溶液を２
００００Ｇで遠心分離し、上澄みを除去後、沈澱物を乾
燥し、カルボキシル基含有カーボンブラック（ＧＣ−
５）１０２ｇを得た。ＧＣ−５のカルボキシル基含量
は、炭素材料（ＧＣ−５）１００ｇあたり２５ミリモル
であった。
除去して濃縮した後、この濃縮物のエタノール溶液を２
００００Ｇで遠心分離し、上澄みを除去後、沈澱物を乾
燥し、カルボキシル基含有カーボンブラック（ＧＣ−
５）１０２ｇを得た。ＧＣ−５のカルボキシル基含量
は、炭素材料（ＧＣ−５）１００ｇあたり２５ミリモル
であった。
【００８３】
【実施例１】カルボキシル基および水酸基含有アクリル
樹脂５０ｇ、東亜合成化成（株）製、商品名「アロンＳ
−４０３０」（アルコキシメチロール化メラミン）２５
ｇ、住友化学（株）製、商品名「Ｍ−６６Ｂ」（エチル
セロソルブアセテート）２５ｇを混合し、熱硬化性樹脂
１を得た。次に、熱硬化性樹脂１ １００ｇに、合成例
１で得られた酸基含有カーボンブラック（ＧＣ−１）１
００ｇおよびエチルセロソルブアセテート３３ｇを加え
て分散化して黒色熱硬化性組成物を得た。
樹脂５０ｇ、東亜合成化成（株）製、商品名「アロンＳ
−４０３０」（アルコキシメチロール化メラミン）２５
ｇ、住友化学（株）製、商品名「Ｍ−６６Ｂ」（エチル
セロソルブアセテート）２５ｇを混合し、熱硬化性樹脂
１を得た。次に、熱硬化性樹脂１ １００ｇに、合成例
１で得られた酸基含有カーボンブラック（ＧＣ−１）１
００ｇおよびエチルセロソルブアセテート３３ｇを加え
て分散化して黒色熱硬化性組成物を得た。
【００８４】この黒色熱硬化性組成物を、膜厚１００ｎ
ｍのＩＴＯ（インジウム−錫酸化物）膜を表面に有する
厚さ１．１mmのガラス基板（商品名「コーニング７０５
９ガラス」）に、乾燥膜厚が１．５μｍになるようロー
ルコートし、塗布膜を１００℃で５分間加熱処理した。
次に、この塗膜上に、ナフトキノンジアジド化合物とノ
ボラッククレゾール樹脂とからなるポジ型フォトレジス
ト（東京応化工業株式会社製、商品名「ＯＦＰＲ−８０
０」）をスピンコート法により、レジストの乾燥後の膜
厚が１．０μｍとなるように塗布した。次に、縦横５０
μｍ間隔にブラックマトリックスに相当する２０μｍ幅
の光遮光層を有するフォトマスクを介し、超高圧水銀灯
を用いて露光量２００ｍＪ／ｃｍ2で露光し、続いて
０．２ｗｔ％テトラメチルアンモニウムハイドロオキサ
イド水溶液シャワーで３０秒間現像した。さらに、この
基板を１１０℃、２０分間加熱処理した後、超高圧水銀
灯を用いて露光量２００ｍＪ／ｃｍ2で露光し、続いて
０．２ｗｔ％テトラメチルアンモニウムハイドロオキサ
イド水溶液シャワーにて３０秒間現像し、ブラックマト
リックス上のフォトレジストを除去した。この基板を２
２０℃、１時間加熱処理したところ、膜厚１．５μｍ、
ＯＤ値３．１および体積抵抗率１×１０10Ω・ｃｍのブ
ラックマトリックスが得られた。
ｍのＩＴＯ（インジウム−錫酸化物）膜を表面に有する
厚さ１．１mmのガラス基板（商品名「コーニング７０５
９ガラス」）に、乾燥膜厚が１．５μｍになるようロー
ルコートし、塗布膜を１００℃で５分間加熱処理した。
次に、この塗膜上に、ナフトキノンジアジド化合物とノ
ボラッククレゾール樹脂とからなるポジ型フォトレジス
ト（東京応化工業株式会社製、商品名「ＯＦＰＲ−８０
０」）をスピンコート法により、レジストの乾燥後の膜
厚が１．０μｍとなるように塗布した。次に、縦横５０
μｍ間隔にブラックマトリックスに相当する２０μｍ幅
の光遮光層を有するフォトマスクを介し、超高圧水銀灯
を用いて露光量２００ｍＪ／ｃｍ2で露光し、続いて
０．２ｗｔ％テトラメチルアンモニウムハイドロオキサ
イド水溶液シャワーで３０秒間現像した。さらに、この
基板を１１０℃、２０分間加熱処理した後、超高圧水銀
灯を用いて露光量２００ｍＪ／ｃｍ2で露光し、続いて
０．２ｗｔ％テトラメチルアンモニウムハイドロオキサ
イド水溶液シャワーにて３０秒間現像し、ブラックマト
リックス上のフォトレジストを除去した。この基板を２
２０℃、１時間加熱処理したところ、膜厚１．５μｍ、
ＯＤ値３．１および体積抵抗率１×１０10Ω・ｃｍのブ
ラックマトリックスが得られた。
【００８５】このブラックマトリックス付き原板（原板
１）を用いて、顔料分散法によってカラーフィルターを
作成した。原板１上にカラーモザイクシステム「ＣＲ−
２０００」、「ＣＧ−２０００」、「ＣＢ−２０００」
（富士ハントエレクトロニクステクノロジー（株）製、
商品名）を用いて、同システム指定の処理方法に従っ
て、赤、緑、青の三色を膜厚１．５μｍで遮光層間隙に
充填し、高解像度で平坦性に優れたカラーフィルターを
得た。なお、露光に使用したフォトマスクは、光透過性
部分が遮光層間隙と同一寸法のものを用いた。
１）を用いて、顔料分散法によってカラーフィルターを
作成した。原板１上にカラーモザイクシステム「ＣＲ−
２０００」、「ＣＧ−２０００」、「ＣＢ−２０００」
（富士ハントエレクトロニクステクノロジー（株）製、
商品名）を用いて、同システム指定の処理方法に従っ
て、赤、緑、青の三色を膜厚１．５μｍで遮光層間隙に
充填し、高解像度で平坦性に優れたカラーフィルターを
得た。なお、露光に使用したフォトマスクは、光透過性
部分が遮光層間隙と同一寸法のものを用いた。
【００８６】
【実施例２】実施例１で調製した熱硬化性樹脂１ １０
０ｇと、合成例３で合成した酸基含有黒鉛（ＧＣ−３）
１００ｇとを混合し、黒色熱硬化性樹脂組成物を得た。
この黒色熱硬化性樹脂組成物を用いて、印刷法により実
施例１と同様なガラス基板に膜厚１．５μｍのブラック
マトリックスを作成した。この基板を２２０℃、１時間
加熱処理したところ、ＯＤ値は３．０および体積抵抗率
は１×１０10Ω・ｃｍであった。
０ｇと、合成例３で合成した酸基含有黒鉛（ＧＣ−３）
１００ｇとを混合し、黒色熱硬化性樹脂組成物を得た。
この黒色熱硬化性樹脂組成物を用いて、印刷法により実
施例１と同様なガラス基板に膜厚１．５μｍのブラック
マトリックスを作成した。この基板を２２０℃、１時間
加熱処理したところ、ＯＤ値は３．０および体積抵抗率
は１×１０10Ω・ｃｍであった。
【００８７】
【実施例３】フェノールノボラックエポキシアクリレー
ト６０ｇ、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
１０ｇ、「イルガキュア９０７」（商品名、チバガイギ
ー製、光重合開始剤）４ｇ、ジエチルチオキサントン１
ｇおよびエチルセロソルブアセテート２５ｇを混合し、
感光性樹脂１を得た。次に、感光性樹脂１ １００ｇ
に、合成例１で合成した酸基含有カーボンブラック（Ｇ
Ｃ−１）１００ｇおよびエチルセロソルブアセテート３
３ｇを加えて分散化し黒色光重合性組成物を得た。
ト６０ｇ、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
１０ｇ、「イルガキュア９０７」（商品名、チバガイギ
ー製、光重合開始剤）４ｇ、ジエチルチオキサントン１
ｇおよびエチルセロソルブアセテート２５ｇを混合し、
感光性樹脂１を得た。次に、感光性樹脂１ １００ｇ
に、合成例１で合成した酸基含有カーボンブラック（Ｇ
Ｃ−１）１００ｇおよびエチルセロソルブアセテート３
３ｇを加えて分散化し黒色光重合性組成物を得た。
【００８８】この黒色光重合性組成物を実施例１と同様
なガラス基板に、乾燥膜厚が１．５μｍになるようスピ
ンコートし、塗布膜を８５℃で５分間乾燥した。次に、
縦横５０μｍ間隔にブラックマトリックスに相当する２
０μｍ幅の光透過層を有するフォトマスクを介し、超高
圧水銀灯を用いて露光量２００ｍＪ／ｃｍ2で露光し
た。その後、０．２ｗｔ％テトラメチルアンモニウムハ
イドロオキサイド水溶液シャワーにて３０秒間現像した
ところ高解像度のブラックマトリクスが得られた。この
基板を２２０℃、１時間加熱処理したところ、膜厚１．
２μｍ、ＯＤ値３．０および体積抵抗率１×１０10Ω・
ｃｍのブラックマトリックスが得られた。
なガラス基板に、乾燥膜厚が１．５μｍになるようスピ
ンコートし、塗布膜を８５℃で５分間乾燥した。次に、
縦横５０μｍ間隔にブラックマトリックスに相当する２
０μｍ幅の光透過層を有するフォトマスクを介し、超高
圧水銀灯を用いて露光量２００ｍＪ／ｃｍ2で露光し
た。その後、０．２ｗｔ％テトラメチルアンモニウムハ
イドロオキサイド水溶液シャワーにて３０秒間現像した
ところ高解像度のブラックマトリクスが得られた。この
基板を２２０℃、１時間加熱処理したところ、膜厚１．
２μｍ、ＯＤ値３．０および体積抵抗率１×１０10Ω・
ｃｍのブラックマトリックスが得られた。
【００８９】このブラックマトリックス付き原板（原板
２）を用いて、顔料分散法によってカラーフィルターを
作成した。原板２上にカラーモザイクシステム「ＣＲ−
２０００」、「ＣＧ−２０００」、「ＣＢ−２０００」
（富士ハントエレクトロニクステクノロジ（株）製、商
品名）を用いて、同システム指定の処理方法に従って、
赤、緑、青の三色を遮光層間隙に充填し、高解像度で平
坦性に優れたカラーフィルターを得た。なお、露光に使
用したフォトマスクは、光透過性部分が遮光層間隙と同
一寸法のものを用いた。
２）を用いて、顔料分散法によってカラーフィルターを
作成した。原板２上にカラーモザイクシステム「ＣＲ−
２０００」、「ＣＧ−２０００」、「ＣＢ−２０００」
（富士ハントエレクトロニクステクノロジ（株）製、商
品名）を用いて、同システム指定の処理方法に従って、
赤、緑、青の三色を遮光層間隙に充填し、高解像度で平
坦性に優れたカラーフィルターを得た。なお、露光に使
用したフォトマスクは、光透過性部分が遮光層間隙と同
一寸法のものを用いた。
【００９０】
【実施例４】トリスフェノール系エポキシアクリレート
多塩基酸付加物５４ｇ、トリメチロールプロパントリア
クリレート（商品名「ＫＡＹＡＲＡＤ Ｒ５１９８」、
日本化薬製）９ｇ、「脂環式エポキシモノマーＡＫ６０
１」（商品名、日本化薬製）７ｇ、「イルガキュア３６
９」（商品名、チバガイギー製）２ｇ、１−クロロ−４
−プロポキシ−チオキサントン１ｇ、ビイミダゾール１
ｇ、２−メルカプトベンゾオキサゾール１ｇおよびエチ
ルセロソルブアセテート２５ｇを混合し、感光性樹脂２
を得た。次に、感光性樹脂２ １００ｇに、合成例２で
合成した酸基含有カーボンブラック（ＧＣ−２）１００
ｇおよびエチルセロソルブアセテート３３ｇを加えて分
散化し、黒色光重合性組成物を調製した。
多塩基酸付加物５４ｇ、トリメチロールプロパントリア
クリレート（商品名「ＫＡＹＡＲＡＤ Ｒ５１９８」、
日本化薬製）９ｇ、「脂環式エポキシモノマーＡＫ６０
１」（商品名、日本化薬製）７ｇ、「イルガキュア３６
９」（商品名、チバガイギー製）２ｇ、１−クロロ−４
−プロポキシ−チオキサントン１ｇ、ビイミダゾール１
ｇ、２−メルカプトベンゾオキサゾール１ｇおよびエチ
ルセロソルブアセテート２５ｇを混合し、感光性樹脂２
を得た。次に、感光性樹脂２ １００ｇに、合成例２で
合成した酸基含有カーボンブラック（ＧＣ−２）１００
ｇおよびエチルセロソルブアセテート３３ｇを加えて分
散化し、黒色光重合性組成物を調製した。
【００９１】基板全面に１００ｎｍの膜厚のＩＴＯを有
する実施例１と同様なガラス基板に、上記黒色光重合性
組成物を乾燥膜厚が１．５μｍになるようスピンコート
し、塗布膜を８５℃で５分間乾燥した。次に、縦横５０
μｍ間隔にブラックマトリックスに相当する２０μｍ幅
の光透過層を有するフォトマスクを介し、超高圧水銀灯
を用いて露光量２００ｍＪ／ｃｍ2で露光した後、０．
２重量％テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド
水溶液シャワーにて３０秒間現像し高解像度のブラック
マトリックスを得た。この基板を２２０℃、１時間加熱
処理したところ、膜厚１．３μｍ、ＯＤ値３．０および
体積抵抗率１×１０9Ω・ｃｍのブラックマトリックス
が得られた。
する実施例１と同様なガラス基板に、上記黒色光重合性
組成物を乾燥膜厚が１．５μｍになるようスピンコート
し、塗布膜を８５℃で５分間乾燥した。次に、縦横５０
μｍ間隔にブラックマトリックスに相当する２０μｍ幅
の光透過層を有するフォトマスクを介し、超高圧水銀灯
を用いて露光量２００ｍＪ／ｃｍ2で露光した後、０．
２重量％テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド
水溶液シャワーにて３０秒間現像し高解像度のブラック
マトリックスを得た。この基板を２２０℃、１時間加熱
処理したところ、膜厚１．３μｍ、ＯＤ値３．０および
体積抵抗率１×１０9Ω・ｃｍのブラックマトリックス
が得られた。
【００９２】このブラックマトリックス付き原板（原板
３）を用いて、電着法によってカラーフィルターを作成
した。原板３上にポジ型フォトレジスト（東京応化工業
株式会社製、商品名「ＯＦＰＲ−８００」）をスピンコ
ート法により、乾燥後の膜厚が２．０μｍとなるように
塗布した。次いで露光部分が遮光層間隙より上下左右が
各１０μｍ大きいモザイク状パターンを有するフォトマ
スクを用いて露光、現像を行い、露光部分を除去しＩＴ
Ｏ膜を露出させた。次に原板３を陽極とし、表１のアニ
オン電着性を有する赤色塗料（Ｒ）を入れたステンレス
スチール製ビーカーを陰極として、直流電圧４０Ｖを２
５℃で１０秒間印加し電着した。原板３をステンレスス
チール製ビーカーから引き揚げイオン交換水で洗浄後乾
燥し、１２０℃、１０分間熱処理した。これにより赤色
モザイク状層が得られた。次にこのモザイク状層に隣接
するように別のモザイク状層の露光、現像を行った後、
緑色塗料（Ｇ）の電着および熱処理を赤色塗料（Ｒ）と
同様に行った。この操作を青色塗料（Ｂ）についても繰
り返してカラーフィルターを作成した。上記各電着工程
で遮光層上に着色塗料が上乗りする現象は全くみられな
かった。なお、使用した現像液は界面活性剤（花王株式
会社製、商品名「ペレックスＮＢＬ」）５重量％を含有
する１重量％水酸化ナトリウム水溶液である。最後に硬
化を完全に行わせるために１８０℃で３０分間処理し、
透明性、均一性、平坦性に優れ、精度の良い黒色遮光層
を有するカラーフィルターを得た。
３）を用いて、電着法によってカラーフィルターを作成
した。原板３上にポジ型フォトレジスト（東京応化工業
株式会社製、商品名「ＯＦＰＲ−８００」）をスピンコ
ート法により、乾燥後の膜厚が２．０μｍとなるように
塗布した。次いで露光部分が遮光層間隙より上下左右が
各１０μｍ大きいモザイク状パターンを有するフォトマ
スクを用いて露光、現像を行い、露光部分を除去しＩＴ
Ｏ膜を露出させた。次に原板３を陽極とし、表１のアニ
オン電着性を有する赤色塗料（Ｒ）を入れたステンレス
スチール製ビーカーを陰極として、直流電圧４０Ｖを２
５℃で１０秒間印加し電着した。原板３をステンレスス
チール製ビーカーから引き揚げイオン交換水で洗浄後乾
燥し、１２０℃、１０分間熱処理した。これにより赤色
モザイク状層が得られた。次にこのモザイク状層に隣接
するように別のモザイク状層の露光、現像を行った後、
緑色塗料（Ｇ）の電着および熱処理を赤色塗料（Ｒ）と
同様に行った。この操作を青色塗料（Ｂ）についても繰
り返してカラーフィルターを作成した。上記各電着工程
で遮光層上に着色塗料が上乗りする現象は全くみられな
かった。なお、使用した現像液は界面活性剤（花王株式
会社製、商品名「ペレックスＮＢＬ」）５重量％を含有
する１重量％水酸化ナトリウム水溶液である。最後に硬
化を完全に行わせるために１８０℃で３０分間処理し、
透明性、均一性、平坦性に優れ、精度の良い黒色遮光層
を有するカラーフィルターを得た。
【００９３】
【比較例１】実施例１で調製した感光性樹脂１ １００
ｇと、合成例４で合成した酸基を含まない重合体接触カ
ーボンブラック（ＧＣ−４）１００ｇと、エチルセロソ
ルブ３３ｇとを混合し、黒色光硬化性樹脂組成物を得
た。この黒色光重合性組成物を用いて、実施例１と同様
にしてブラックマトリックスを作成しようとしたが、黒
色塗膜の現像性が悪いため解像度が著しく悪いブラック
マトリックスしか得ることができなかった。
ｇと、合成例４で合成した酸基を含まない重合体接触カ
ーボンブラック（ＧＣ−４）１００ｇと、エチルセロソ
ルブ３３ｇとを混合し、黒色光硬化性樹脂組成物を得
た。この黒色光重合性組成物を用いて、実施例１と同様
にしてブラックマトリックスを作成しようとしたが、黒
色塗膜の現像性が悪いため解像度が著しく悪いブラック
マトリックスしか得ることができなかった。
【００９４】
【比較例２】実施例１で調製した感光性樹脂１ １００
ｇと、合成例５で合成した酸基含有カーボンブラック
（ＧＣ−５）１００ｇと、エチルセロソルブ３３ｇとを
混合し、黒色光硬化性樹脂組成物を得た。この黒色光重
合性組成物を用いて、実施例１と同様にしてブラックマ
トリックスを作成した。この基板を２２０℃、１時間加
熱処理したところ、膜厚２．０μｍ、ＯＤ値２．７およ
び体積抵抗率１×１０2Ω・ｃｍのブラックマトリック
スが得られた。
ｇと、合成例５で合成した酸基含有カーボンブラック
（ＧＣ−５）１００ｇと、エチルセロソルブ３３ｇとを
混合し、黒色光硬化性樹脂組成物を得た。この黒色光重
合性組成物を用いて、実施例１と同様にしてブラックマ
トリックスを作成した。この基板を２２０℃、１時間加
熱処理したところ、膜厚２．０μｍ、ＯＤ値２．７およ
び体積抵抗率１×１０2Ω・ｃｍのブラックマトリック
スが得られた。
【００９５】このブラックマトリックス付き原板（原板
４）を用いて、電着法によって実施例３と同様にしてカ
ラーフィルターの作成を試みたが、ブラックマトリック
ス上に着色塗料の上乗りが起こり、ブラックマトリック
ス部分の膜厚が厚くなり、平坦性の悪いカラーフィルタ
ーしか作成することができなかった。
４）を用いて、電着法によって実施例３と同様にしてカ
ラーフィルターの作成を試みたが、ブラックマトリック
ス上に着色塗料の上乗りが起こり、ブラックマトリック
ス部分の膜厚が厚くなり、平坦性の悪いカラーフィルタ
ーしか作成することができなかった。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ０２Ｂ 5/20 １０１ Ｇ０２Ｂ 5/20 １０１ (72)発明者 大月 裕 神奈川県横浜市中区千鳥町８番地 日本石 油株式会社中央技術研究所内 (72)発明者 安藤 雅之 東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号 大日本印刷株式会社内
Claims (2)
- 【請求項１】 （１）炭素質材料(a)と、アジリジン
基、オキサゾリン基、Ｎ−ヒドロキシアルキルアミド
基、エポキシ基、チオエポキシ基、イソシアネート基、
ヒドロキシル基、アミノ基、ビニル基、アクリル基及び
メタクリル基からなる群より選択される一種又は二種以
上の反応性基および一般式（１） Ｒ1Ｒ2Ｒ3Ｃ−Ｏ−ＣＯ− ・・・（１） （式中、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3は同一若しくは異なる基で
あって、水素原子あるいは炭素数１〜６のアルキル基、
炭素数５〜８のシクロアルキル基、炭素数６〜１６のア
ルキルシクロアルキル基または炭素数６〜１６のアリー
ル基の有機残基を示す。ただし、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3の
うち少なくとも２つは有機残基であり、これらは環状に
結合していてもよい。）で表されるアルコキシカルボニ
ル基を分子内に有する重合体(b)とを加熱させて得た炭
素材料および（２）熱硬化性樹脂を必須成分として含む
熱硬化性組成物。 - 【請求項２】 （１）炭素質材料(a)と、アジリジン
基、オキサゾリン基、Ｎ−ヒドロキシアルキルアミド
基、エポキシ基、チオエポキシ基、イソシアネート基、
ヒドロキシル基、アミノ基、ビニル基、アクリル基、メ
タクリル基からなる群より選択される一種又は二種以上
の反応性基および一般式（１） Ｒ1Ｒ2Ｒ3Ｃ−Ｏ−ＣＯ− ・・・（１） （式中、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3は同一若しくは異なる基で
あって、水素原子あるいは炭素数１〜６のアルキル基、
炭素数５〜８のシクロアルキル基、炭素数６〜１６のア
ルキルシクロアルキル基または炭素数６〜１６のアリー
ル基の有機残基を示す。ただし、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3の
うち少なくとも２つは有機残基であり、これらは環状に
結合していてもよい。）で表されるアルコキシカルボニ
ル基を分子内に有する重合体(b)とを加熱させて得た炭
素材料、（２）炭素−炭素二重結合を少なくとも１つ以
上有する光硬化性化合物および（３）光重合開始剤を必
須成分として含む光硬化性組成物。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28759295A JPH09124954A (ja) | 1995-11-06 | 1995-11-06 | 硬化性組成物 |
| US08/742,499 US5821277A (en) | 1995-11-06 | 1996-11-01 | Thermosetting and procuring compositions for color filters and method for making the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28759295A JPH09124954A (ja) | 1995-11-06 | 1995-11-06 | 硬化性組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09124954A true JPH09124954A (ja) | 1997-05-13 |
Family
ID=17719295
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28759295A Pending JPH09124954A (ja) | 1995-11-06 | 1995-11-06 | 硬化性組成物 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5821277A (ja) |
| JP (1) | JPH09124954A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001059055A (ja) * | 1999-08-23 | 2001-03-06 | Nippon Shokubai Co Ltd | 液晶表示装置 |
| JP2001154013A (ja) * | 1999-12-01 | 2001-06-08 | Jsr Corp | カラー液晶表示装置用感放射線性組成物 |
| JP2002148633A (ja) * | 2000-11-07 | 2002-05-22 | Toppan Printing Co Ltd | フォトスペーサを設けた液晶表示装置用カラーフィルタ及びそれを用いた液晶表示装置 |
| JP2002249678A (ja) * | 2001-02-23 | 2002-09-06 | Mikuni Color Ltd | 樹脂被覆カーボンブラック及びカラーフィルター |
| JP2006276180A (ja) * | 2005-03-28 | 2006-10-12 | Toppan Printing Co Ltd | カラーフィルタおよびその製造方法 |
| JP2007171812A (ja) * | 2005-12-26 | 2007-07-05 | Showa Denko Kk | ソルダーレジストインキ組成物、その組成物を硬化してなるソルダーレジスト及びソルダーレジストの製造方法 |
| JP2008170953A (ja) * | 2006-12-14 | 2008-07-24 | Jsr Corp | 無機粒子含有感光性樹脂組成物、感光性フィルム、パターン形成方法、およびフラットパネルディスプレイの製造方法 |
| JP2015048402A (ja) * | 2013-08-30 | 2015-03-16 | 昭和電工株式会社 | 遮光性導電樹脂組成物及び硬化物 |
Families Citing this family (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6168908B1 (en) * | 1997-10-09 | 2001-01-02 | Jsr Corporation | Process for forming a cured film of a thermoplastic resin |
| JP4172149B2 (ja) * | 2000-09-22 | 2008-10-29 | 富士ゼロックス株式会社 | 低電位電着用電着液及びこれを用いた電着方法 |
| EP1193513B1 (en) * | 2000-09-27 | 2008-12-03 | DIC Corporation | Method of producing color filter |
| US7175946B2 (en) * | 2002-01-07 | 2007-02-13 | Cabot Corporation | Modified pigment products and black matrixes comprising same |
| CN1802603A (zh) | 2003-07-17 | 2006-07-12 | 霍尼韦尔国际公司 | 用于高级微电子应用的平面化薄膜及其生产装置和方法 |
| BRPI0810844B1 (pt) | 2007-04-24 | 2017-12-12 | Cabot Corporation | Black matrix and cured coating composition |
| US20100051193A1 (en) * | 2008-08-27 | 2010-03-04 | Stewart Grant W | Projection screen fabrication method |
| GB201121128D0 (en) | 2011-12-08 | 2012-01-18 | Dow Corning | Treatment of filler with silane |
| GB201121124D0 (en) | 2011-12-08 | 2012-01-18 | Dow Corning | Hydrolysable silanes |
| GB201121133D0 (en) | 2011-12-08 | 2012-01-18 | Dow Corning | Hydrolysable silanes |
| GB201121122D0 (en) | 2011-12-08 | 2012-01-18 | Dow Corning | Hydrolysable silanes and elastomer compositions containing them |
| GB201121125D0 (en) * | 2011-12-08 | 2012-01-18 | Dow Corning | Treatment of carbon based filler |
| CN105934693B (zh) * | 2014-02-13 | 2018-10-16 | 日产化学工业株式会社 | 树脂组合物 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61123665A (ja) * | 1984-11-19 | 1986-06-11 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 導電性樹脂組成物の製造方法 |
| US4802743A (en) * | 1986-03-20 | 1989-02-07 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid crystal device having color filters wherein the color filters formed from a polyamino resin containing coloring materials |
| JP2764480B2 (ja) * | 1991-05-17 | 1998-06-11 | 日本化薬株式会社 | カラーフィルター用光重合組成物 |
| JPH0743522A (ja) * | 1993-05-28 | 1995-02-14 | Nippon Oil Co Ltd | 遮光層を有する基板の形成方法、遮光層を有する基板、白黒表示薄膜トランジスタ（ｔｆｔ）アレイ基板用対向電極基板及び白黒表示液晶ディスプレイ装置 |
| JP2952143B2 (ja) * | 1993-12-21 | 1999-09-20 | キヤノン株式会社 | カラーフィルタの製造方法 |
| JP3376169B2 (ja) * | 1994-06-17 | 2003-02-10 | キヤノン株式会社 | カラーフィルタの製造方法及びその方法により製造されたカラーフィルタ |
| US5619357A (en) * | 1995-06-06 | 1997-04-08 | International Business Machines Corporation | Flat panel display containing black matrix polymer |
| US5631111A (en) * | 1996-01-19 | 1997-05-20 | Industrial Technology Research Institute | Method for producing color filters |
-
1995
- 1995-11-06 JP JP28759295A patent/JPH09124954A/ja active Pending
-
1996
- 1996-11-01 US US08/742,499 patent/US5821277A/en not_active Expired - Lifetime
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|---|---|---|---|---|
| JP2001059055A (ja) * | 1999-08-23 | 2001-03-06 | Nippon Shokubai Co Ltd | 液晶表示装置 |
| JP2001154013A (ja) * | 1999-12-01 | 2001-06-08 | Jsr Corp | カラー液晶表示装置用感放射線性組成物 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5821277A (en) | 1998-10-13 |
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