JP4315840B2 - 着色剤含有硬化性組成物、カラーフィルター及びその製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、液晶表示素子や固体撮像素子（ＣＣＤ、ＣＭＯＳ等）に用いられるカラーフィルターの着色画像を形成するのに好適なカラーフィルター用の着色剤含有硬化性組成物並びにこれを用いたカラーフィルタ及びその製造方法に関する。

液晶表示素子や固体撮像素子に用いられるカラーフィルターを作製する方法としては、染色法、印刷法、電着法及び顔料分散法が知られている。

このうち、顔料分散法とは、顔料を種々の感光性組成物に分散させた着色感放射線性組成物を用いてフォトリソ法によってカラーフィルターを作製する方法であり、また、顔料を使用しているために光や熱等に安定であるという利点を有している。顔料分散法は、フォトリソ法によってパターニングするため、位置精度が高く、大画面や高精細カラーディスプレイ用カラーフィルターを作製するのに好適な方法として広く利用されてきた。

上記顔料分散法によると、ガラス基板上に感放射線性組成物をスピンコーターやロールコーター等によって塗布・乾燥して塗膜を形成し、該塗膜をパターン露光して、その後現像することにより着色した画素を形成し、この操作を各色毎に行いカラーフィルターを作製することができる。
顔料分散法として具体的には、アルカリ可溶性樹脂に光重合性モノマーと光重合開始剤を用いるネガ型感光性組成物が従来から知られている（例えば、特許文献１及び２参照。）。

一方、近年、固体撮像素子用のカラーフィルターにおいては更なる高精細化が望まれている。しかしながら従来の顔料分散系では解像度が向上せず、また顔料の粗大粒子により色むらが発生する等の問題があるため、固体撮像素子のように微細パターンが要求される用途には適さなかった。この問題を解決する為、従来から染料を使用する例が知られている（例えば、特許文献３参照。）。

しかしながら、染料含有の硬化性組成物は下記（１）〜（４）などのような新たな問題点を含んでいる。
（１）通常の色素はアルカリ水溶液又は有機溶剤のいずれかに溶解性が低い為、所望のスペクトルを有する液状の硬化性組成物を得るのが困難である。
（２）染料は、硬化性組成物中の他の成分と相互作用を示す場合が多い為、硬化部、非硬化部の溶解性（現像性）の調節が困難である。
（３）染料のモル吸光係数（ε）が低い場合は、多量の染料を添加しなければならず、この為、硬化性組成物中の重合性化合物（モノマー）やバインダー、光重合開始剤等の他の成分を減らさざるを得なくなり、組成物の硬化性、硬化後の耐熱性、（非）硬化部の現像性が低下する等の問題を生じる。
（４）染料は一般的に顔料に比べ、耐光性、耐熱性に劣る。

また、半導体作製用途の場合とは異なり、特に固体撮像素子用カラーフィルター作製用途の場合にはその膜厚が１．５μｍ以下であることを要求される。従って、硬化性組成物中に多量の色素を添加しなければならず、前述の問題を生じる結果となる。
これらの問題の為、高精細カラーフィルター用の微細かつ薄膜の着色パターンに関する実用上の要求性能を満足することは困難であった。

特にマゼンタ染料については、γ酸−フェニルアゾ型又はフェニルアゾナフタレン系の染料を用いたカラーフィルター用赤色インク組成物が提案されている（例えば、特許文献４参照。）。しかし、かかる染料では耐熱性と耐光性との両方を満足することは困難である。
特開平２−１９９４０３号公報 特開平５−２７３４１１号公報 特開平６−７５３７５号公報 特開平９−２９１２４１号公報

本発明は、着色剤の耐熱性、耐光性に優れ、同時に、未露光部現像性及び、露光部の残膜率が向上し、良好なパターン形成性を有する着色剤含有硬化性組成物並びにそれを使用したカラーフィルター及びその製造方法を提供することを目的とする。

本発明の目的は、下記構成のカラーフィルター用着色剤含有硬化性組成物が提供されることで達成される。

＜１＞ 下記一般式（Ｉ）で表される２価以上の金属の塩を含む着色剤と、（メタ）アクリルエステル系の重合性化合物と、光重合開始剤とを含む着色剤含有硬化性組成物である。

〔式中、Ｒ¹は、水素原子、炭素数１〜２１のアルキル基、炭素数１〜２１のアルコキシ基、又は電子吸引性の置換基を表す。Ｒ²は、２価以上の金属原子のカチオンの１価分のカチオンを表す。ｎは０〜５の整数を表す。〕

＜２＞ 前記（メタ）アクリルエステル系の重合性化合物が４官能以上の（メタ）アクリルエステル系モノマーである＜１＞に記載の着色剤含有硬化性組成物である。

＜３＞ 前記光重合開始剤がα−アミノケトン化合物、フォスフィンオキサイド系化合物、メタロセン化合物、オキシム系化合物、トリアリルイミダゾールダイマーからなる群より選ばれる少なくとも一種の化合物である＜１＞または＜２＞に記載の着色剤含有硬化性組成物である。

＜４＞ 更に、（メタ）アクリル系のアルカリ可溶性ポリマーを含む＜１＞から＜３＞のいずれか１項に記載の着色剤含有硬化性組成物である。

＜５＞ 前記（メタ）アクリル系のアルカリ可溶性ポリマーが、重合性側鎖を有するポリマーである＜４＞に記載の着色剤含有硬化性組成物である。
＜６＞ ＜１＞から＜５＞のいずれか１項に記載の着色剤含有硬化性組成物を用いてなる着色パターンを有することを特徴とするカラーフィルターである。

＜７＞ ＜１＞〜＜５＞のいずれか１項に記載の着色剤含有硬化性組成物を支持体上に塗布後、マスクを通して露光し、現像してパターン像を形成する工程を有することを特徴とするカラーフィルターの製造方法である。この製造方法は、必要により上記パターンを加熱及び／又は露光により硬化する工程を含んでいてもよいし、これらの工程を複数回繰り返すものであってもよい。

本発明によれば、着色剤の耐熱性、耐光性に優れた性能を示す硬化性組成物を提供することができる。また、同時に、未露光部現像性及び、露光部の残膜率が向上し、良好なパターン形成性を有する着色剤含有硬化性組成物、並びに、これを用いたカラーフィルター及びその製造方法を提供することができる。

以下、本発明の着色剤含有硬化性組成物並びにそれを使用したカラーフィルター及びその製造方法について詳述する。

《着色剤含有硬化性組成物》
本発明の着色剤含有硬化性組成物（以下、「本発明の組成物」という場合がある。）は、着色剤として２価以上の金属の塩を含み、さらに（メタ）アクリルエステル系の重合性化合物と、光重合開始剤とを含むことを特徴とする。
また、本発明の組成物は更にアルカリ可溶性バインダーを含むのが好ましい。更に、本発明の組成物がネガ型の組成物である場合には、上記アルカリ可溶性バインダー、着色剤、モノマー及び光重合開始剤を含み、更に架橋剤を含んでもよい。

（着色剤）
本発明の組成物は、着色剤として前記一般式（Ｉ）で表される２価以上の金属の塩を含んでおり、該２価以上の金属の塩は、酸性染料の２価以上の金属の塩である。上記２価以上の金属の塩を含む本発明の着色剤含有硬化性組成物は、従来に無い高い耐光性と高い耐熱性を同時に満足し、かつ、パターン形成性（現像性）及び液保存性に優れた性能を示すことができる新規な組成物である。また、本発明における着色剤としては、有機溶剤に可溶な有機溶剤可溶性染料であることが好ましい。

上記２価以上の金属の塩は、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、亜鉛、アルミニウム、銅、鉄など２価以上の金属の塩である。また、上記酸性染料の２価以上の金属の塩は、アゾ系の化合物を少なくとも含み、γ酸−アゾ系化合物及びピラゾロンアゾ系化合物のいずれかを含むことが更に好ましい。上記アゾ系の化合物としては、例えば、芳香族アゾ系化合物、ヘテロ芳香族アゾ系化合物、等が挙げられる。

上記２価以上の金属の塩は、下記一般式（Ｉ）で表される化合物である。

上記一般式（Ｉ）中、Ｒ¹は、水素原子、炭素数１〜２１のアルキル基、炭素数１〜２１のアルコキシ基、又は電子吸引性の置換基を表す。また、Ｒ²は、２価以上の金属原子のカチオンの１価分のカチオンを表す。ｎは０〜５の整数を表す。

上記Ｒ¹で表される炭素数１〜２１のアルキル基は置換基を有していてもよく、炭素数１〜１５のアルキル基が更に好ましい。上記Ｒ¹で表される炭素数１〜２１のアルキル基としては、直鎖又は分岐又は環状のアルキル基でもよく、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−アミル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ｎ−ウンデシル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−トリデシル基、ｎ−テトラデシル基、ｎ−ペンタデシル基、ｎ−ヘキサデシル基、ｎ−ヘプタデシル基、ｎ−オクタデシル基、ｎ−ノナデシル基、ｎ−エイコサニル基、ｉ−プロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基、１−メチルブチル基、１−エチルプロピル基、２−メチルブチル基、ｉ−アミル基、ネオペンチル基、１，２−ジメチルプロピル基、１，１−ジメチルプロピル基、ｔ−アミル基、１，３−ジメチルブチル基、３，３−ジメチルブチル基、２−エチルブチル基、２−エチル−２−メチルプロピル基、直鎖又は分岐のヘプチル基、１−メチルヘプチル基、２−エチルヘキシル基、１，５−ジメチルヘキシル基、ｔ−オクチル基、分岐したノニル基、分岐したデシル基、分岐したウンデシル基、分岐したドデシル基、分岐したトリデシル基、分岐したテトラデシル基、分岐したペンタデシル基、分岐したヘキサデシル基、分岐したヘプタデシル基、分岐したオクタデシル基、直鎖又は分岐のノナデシル基、直鎖又は分岐のエイコサニル基、

シクロプロピル基、シクロプロピルメチル基、シクロブチル基、シクロブチルメチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘキシルメチル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロヘキシルプロピル基、シクロドデシル基、ノルボルニル基、ボルニル基、シス−ミルタニル基、イソピノカンフェニル基、ノルアダマンチル基、アダマンチル基、アダマンチルメチル基、１−（１−アダマンチル）エチル基、３，５−ジメチルアダマンチル基、キヌクリジニル基、シクロペンチルエチル基、ビシクロオクチル基が好ましい。

これらの中でも上記Ｒ¹で表される炭素数１〜２１のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−アミル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ｎ−ウンデシル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−トリデシル基、ｎ−テトラデシル基、ｉ−プロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基、１−メチルブチル基、１−エチルプロピル基、２−メチルブチル基、ｉ−アミル基、ネオペンチル基、１，２−ジメチルプロピル基、１，１−ジメチルプロピル基、ｔ−アミル基、１，３−ジメチルブチル基、３，３−ジメチルブチル基、２−エチルブチル基、２−エチル−２−メチルプロピル基、直鎖又は分岐のヘプチル基、１−メチルヘプチル基、２−エチルヘキシル基、１，５−ジメチルヘキシル基、ｔ−オクチル基、分岐したノニル基、分岐したデシル基、分岐したウンデシル基、分岐したドデシル基、分岐したトリデシル基、分岐したテトラデシル基、シクロプロピル基、シクロプロピルメチル基、シクロブチル基、シクロブチルメチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘキシルメチル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロヘキシルプロピル基、シクロドデシル基、ノルボルニル基、ボルニル基、シス−ミルタニル基、イソピノカンフェニル基、ノルアダマンチル基、アダマンチル基、アダマンチルメチル基、１−（１−アダマンチル）エチル基、３，５−ジメチルアダマンチル基、キヌクリジニル基、シクロペンチルエチル基、ビシクロオクチル基がより好ましく、これらの中でも更に、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−アミル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ｉ−プロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基、１−メチルブチル基、１−エチルプロピル基、２−メチルブチル基、ｉ−アミル基、ネオペンチル基、１，２−ジメチルプロピル基、１，１−ジメチルプロピル基、ｔ−アミル基、１，３−ジメチルブチル基、３，３−ジメチルブチル基、２−エチルブチル基、２−エチル−２−メチルプロピル基、直鎖又は分岐のヘプチル基、１−メチルヘプチル基、２−エチルヘキシル基、１，５−ジメチルヘキシル基、ｔ−オクチル基、分岐したノニル基、分岐したデシル基、シクロプロピル基、シクロプロピルメチル基、シクロブチル基、シクロブチルメチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘキシルメチル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロヘキシルプロピル基、シクロドデシル基、ノルボルニル基、ボルニル基、ノルアダマンチル基、アダマンチル基、アダマンチルメチル基、１−（１−アダマンチル）エチル基、３，５−ジメチルアダマンチル基、シクロペンチルエチル基、ビシクロオクチル基が特に好ましい。

更に上記の基のうち、耐熱性向上の為には、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−アミル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ｉ−プロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基、１−メチルブチル基、１−エチルプロピル基、２−メチルブチル基、ｉ−アミル基、ネオペンチル基、１，２−ジメチルプロピル基、１，１−ジメチルプロピル基、ｔ−アミル基、１，３−ジメチルブチル基、３，３−ジメチルブチル基、２−エチルブチル基、２−エチル−２−メチルプロピル基、分岐のヘプチル基、１−メチルヘプチル基、１，５−ジメチルヘキシル基、ｔ−オクチル基、分岐したノニル基、分岐したデシル基、シクロプロピル基、シクロプロピルメチル基、シクロブチル基、シクロブチルメチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘキシルメチル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロヘキシルプロピル基、シクロドデシル基、ノルボルニル基、ボルニル基、ノルアダマンチル基、アダマンチル基、アダマンチルメチル基、１−（１−アダマンチル）エチル基、３，５−ジメチルアダマンチル基、シクロペンチルエチル基、ビシクロオクチル基等の分岐したアルキル基や環状のアルキル基が特に好ましい。

また、Ｒ¹で表されるアルキル基は、エーテル基を含んでいてもよく、例えば、テトラヒドロフルフリル基、テトラヒドロピラニルメチル基、２，５−ジヒドロ−２，５−ジメトキシフルフリル基なども好ましい。

上記Ｒ¹で表されるアルキル基は、フッ素で置換されたアルキル基であってもよい。該フッ素で置換されたアルキル基としては、トリフルオロメチル基、トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、ノナフルオロブチル基、トリデカフルオロヘキシル基、ペンタデカフルオロヘプチル基、ヘプタデカフルオロオクチル基、トリデカフルオロオクチル基、ノナデカフルオロノニル基、ヘプタデカフルオロデシル基、パーフルオロデシル基が好ましく、この中でも、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、ノナフルオロブチル基、トリデカフルオロヘキシル基、ペンタデカフルオロヘプチル基が更に好ましく、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、ノナフルオロブチル基、トリデカフルオロヘキシル基が特に好ましい。

上記一般式（Ｉ）中、Ｒ¹で表される炭素数１〜２１のアルコキシ基は置換基を有していてもよく、炭素数１〜１５のアルコキシ基が更に好ましい。
上記Ｒ¹で表される炭素数１〜２１のアルコキシ基としては、上述のＲ¹で表されるアルキル基を酸素原子で連結した基（アルキルオキシ基）が好ましい。この中での好ましい範囲も上述のアルキル基の好ましい例と同様である。

一般式（Ｉ）中、Ｒ¹で表される電子吸引性の置換基は、電子求引性のものであれば特に限定されない。
上記Ｒ¹で表される電子吸引性基としては、「ハメット則 −構造と反応性−」稲本直樹著、丸善（株）等に記載されるハメットのσ値が正の値を有するものであれば限定されない。上記電子求引性基としては、例えば、エチニル基、トリフルオロメチル基、シアノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ニトロ基、アセトキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アルキルスルフィニル基、置換スルホニル基（アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基等）、スルファモイル基、アルキルスルファモイル基、アリールスルファモイル基、アシルチオ基、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、ヨード基が好ましく、この中でも、エチニル基、トリフルオロメチル基、シアノ基、アシル基、カルボキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ニトロ基、アセトキシ基、アルキルチオ基、アルキルスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基等、スルファモイル基、置換スルファモイル基（アルキルスルファモイル基、アリールスルファモイル基等）、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、ヨード基がより好ましく、トリフルオロメチル基、シアノ基、アシル基、カルボキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ニトロ基、アセトキシ基、アルキルチオ基、アルキルスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基等、スルファモイル基、置換スルファモイル基（アルキルスルファモイル基、アリールスルファモイル基等）、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基が特に好ましい。

これらの電子吸引性基は更に同様の置換基、並びに、アシル基、アシルアミノ基、アシルアミノカルボニルアミノ基、アラルキルアミノカルボニルアミノ基、アリールアミノカルボニルアミノ基、メタクリロイルアミノカルボニルアミノ基、トリフルオロメチル基、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、ヨード基、ヒドロキシ基、ニトロ基、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ビニル基、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基、イソプロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、シクロヘキシルオキシ基、ビニルオキシ基、フェニルオキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、アミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、フェニル基等で置換されていてもよい。

上記のＲ¹で表される電子吸引性の置換基の好ましい例として挙げられる（置換）スルファモイル基としては、下記の一般式（ＩＩ）で表される（置換）スルファモイル基が好ましい。

〔式中、Ｒ³及びＲ⁴は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜２１のアルキル基、炭素数２〜２１のアルケニル基、炭素数６〜２１のアリール基、又は炭素数７〜２１のアラルキル基を表す。Ｒ³及びＲ⁴は置換基を有していてもよい。また、Ｒ³，Ｒ⁴が置換している窒素原子と一緒になって、ヘテロ環を形成してもよい。〕

一般式（ＩＩ）中、Ｒ³及びＲ⁴で表される炭素数１〜２１のアルキル基は置換基を有していてもよく、炭素数１〜１５のアルキル基であることが好ましい。
上記Ｒ³及びＲ⁴で表される炭素数１〜２１のアルキル基は、直鎖又は分岐又は環状のアルキル基でもよく、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−アミル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ｎ−ウンデシル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−トリデシル基、ｎ−テトラデシル基、ｎ−ペンタデシル基、ｎ−ヘキサデシル基、ｎ−ヘプタデシル基、ｎ−オクタデシル基、ｎ−ノナデシル基、ｎ−エイコサニル基、ｉ−プロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基、１−メチルブチル基、１−エチルプロピル基、２−メチルブチル基、ｉ−アミル基、ネオペンチル基、１，２−ジメチルプロピル基、１，１−ジメチルプロピル基、ｔ−アミル基、１，３−ジメチルブチル基、３，３−ジメチルブチル基、２−エチルブチル基、２−エチル−２−メチルプロピル基、直鎖又は分岐のヘプチル基、１−メチルヘプチル基、２−エチルヘキシル基、１，５−ジメチルヘキシル基、ｔ−オクチル基、分岐したノニル基、分岐したデシル基、分岐したウンデシル基、分岐したドデシル基、分岐したトリデシル基、分岐したテトラデシル基、分岐したペンタデシル基、分岐したヘキサデシル基、分岐したヘプタデシル基、分岐したオクタデシル基、直鎖又は分岐のノナデシル基、直鎖又は分岐のエイコサニル基、

シクロプロピル基、シクロプロピルメチル基、シクロブチル基、シクロブチルメチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘキシルメチル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロヘキシルプロピル基、シクロドデシル基、ノルボルニル基、ボルニル基、シス−ミルタニル基、イソピノカンフェニル基、ノルアダマンチル基、アダマンチル基、アダマンチルメチル基、１−（１−アダマンチル）エチル基、３，５−ジメチルアダマンチル基、キヌクリジニル基、シクロペンチルエチル基、ビシクロオクチル基が好ましい。

これらの中でも、上記Ｒ³及びＲ⁴で表される炭素数１〜２１のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−アミル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ｎ−ウンデシル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−トリデシル基、ｎ−テトラデシル基、ｉ−プロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基、１−メチルブチル基、１−エチルプロピル基、２−メチルブチル基、ｉ−アミル基、ネオペンチル基、１，２−ジメチルプロピル基、１，１−ジメチルプロピル基、ｔ−アミル基、１，３−ジメチルブチル基、３，３−ジメチルブチル基、２−エチルブチル基、２−エチル−２−メチルプロピル基、直鎖又は分岐のヘプチル基、１−メチルヘプチル基、２−エチルヘキシル基、１，５−ジメチルヘキシル基、ｔ−オクチル基、分岐したノニル基、分岐したデシル基、分岐したウンデシル基、分岐したドデシル基、分岐したトリデシル基、分岐したテトラデシル基、シクロプロピル基、シクロプロピルメチル基、シクロブチル基、シクロブチルメチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘキシルメチル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロヘキシルプロピル基、シクロドデシル基、ノルボルニル基、ボルニル基、シス−ミルタニル基、イソピノカンフェニル基、ノルアダマンチル基、アダマンチル基、アダマンチルメチル基、１−（１−アダマンチル）エチル基、３，５−ジメチルアダマンチル基、キヌクリジニル基、シクロペンチルエチル基、ビシクロオクチル基がより好ましく、更に、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−アミル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ｉ−プロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基、１−メチルブチル基、１−エチルプロピル基、２−メチルブチル基、ｉ−アミル基、ネオペンチル基、１，２−ジメチルプロピル基、１，１−ジメチルプロピル基、ｔ−アミル基、１，３−ジメチルブチル基、３，３−ジメチルブチル基、２−エチルブチル基、２−エチル−２−メチルプロピル基、直鎖又は分岐のヘプチル基、１−メチルヘプチル基、２−エチルヘキシル基、１，５−ジメチルヘキシル基、ｔ−オクチル基、分岐したノニル基、分岐したデシル基、シクロプロピル基、シクロプロピルメチル基、シクロブチル基、シクロブチルメチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘキシルメチル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロヘキシルプロピル基、シクロドデシル基、ノルボルニル基、ボルニル基、ノルアダマンチル基、アダマンチル基、アダマンチルメチル基、１−（１−アダマンチル）エチル基、３，５−ジメチルアダマンチル基、シクロペンチルエチル基、ビシクロオクチル基が特に好ましい。

更に、上記の基のうち、耐熱性向上の為には、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−アミル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ｉ−プロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基、１−メチルブチル基、１−エチルプロピル基、２−メチルブチル基、ｉ−アミル基、ネオペンチル基、１，２−ジメチルプロピル基、１，１−ジメチルプロピル基、ｔ−アミル基、１，３−ジメチルブチル基、３，３−ジメチルブチル基、２−エチルブチル基、２−エチル−２−メチルプロピル基、分岐のヘプチル基、１−メチルヘプチル基、１，５−ジメチルヘキシル基、ｔ−オクチル基、分岐したノニル基、分岐したデシル基、シクロプロピル基、シクロプロピルメチル基、シクロブチル基、シクロブチルメチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘキシルメチル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロヘキシルプロピル基、シクロドデシル基、ノルボルニル基、ボルニル基、ノルアダマンチル基、アダマンチル基、アダマンチルメチル基、１−（１−アダマンチル）エチル基、３，５−ジメチルアダマンチル基、シクロペンチルエチル基、ビシクロオクチル基等の分岐したアルキル基や環状のアルキル基が特に好ましい。

上記一般式（ＩＩ）中、Ｒ³及びＲ⁴で表されるアルキル基はフッ素で置換されたアルキル基であってもよい。該フッ素で置換されたアルキル基としては、トリフルオロメチル基、トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、ノナフルオロブチル基、トリデカフルオロヘキシル基、ペンタデカフルオロヘプチル基、ヘプタデカフルオロオクチル基、トリデカフルオロオクチル基、ノナデカフルオロノニル基、ヘプタデカフルオロデシル基、パーフルオロデシル基が好ましく、この中でも、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、ノナフルオロブチル基、トリデカフルオロヘキシル基、ペンタデカフルオロヘプチル基がより好ましく、更には、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、ノナフルオロブチル基、トリデカフルオロヘキシル基が特に好ましい。

上記一般式（ＩＩ）中、Ｒ³及びＲ⁴で表される炭素数２〜２１のアルケニル基は置換基を有していてもよく、炭素数２〜１５のアルケニル基が更に好ましい。
上記Ｒ₃及びＲ₄で表される炭素数２〜２１のアルケニル基としては、例えば、ビニル基、イソプロペニル基、２−プロペニル基、２−メチル−プロペニル基、１−メチル−１−プロペニル基、１−ブテニル基、３−ブテニル基、１−メチル−１−ブテニル基、１，１−ジメチル−３−ブテニル基、１−ペンテニル基、２−ペンテニル基、１−エチル−１−ペンテニル基、１−ヘキセニル基、１−ヘプテニル基、２，６−ジメチル−５−ヘプテニル基、９−デセニル基、１−シクロペンテニル基、２−シクロペンテニルメチル基、シクロヘキセニル基、１−メチル−２−シクロヘキセニル基、オクテニル基、シトロネリル基、オレイル基、ゲラニル基、ファーネシル基、２−（１−シクロヘキセニル）エチル基が好ましく、この中でも、ビニル基、イソプロペニル基、２−プロペニル基、２−メチル−プロペニル基、１−メチル−１−プロペニル基、１−ブテニル基、３−ブテニル基、１−メチル−１−ブテニル基、１，１−ジメチル−３−ブテニル基、１−ペンテニル基、２−ペンテニル基、１−エチル−１−ペンテニル基、１−ヘキセニル基、１−ヘプテニル基、１−シクロペンテニル基、２−シクロペンテニルメチル基、シクロヘキセニル基、１−メチル−２−シクロヘキセニル基がより好ましく、更には、ビニル基、イソプロペニル基、２−プロペニル基、２−メチル−プロペニル基、１−メチル−１−プロペニル基、１−ブテニル基、３−ブテニル基、１−メチル−１−ブテニル基、１，１−ジメチル−３−ブテニル基、１−ペンテニル基、２−ペンテニル基、１−エチル−１−ペンテニル基、１−ヘキセニル基、１−シクロペンテニル基、２−シクロペンテニルメチル基、シクロヘキセニル基、１−メチル−２−シクロヘキセニル基が特に好ましい。

Ｒ³及びＲ⁴で表される炭素数６〜２１のアリール基は、置換基を有していてもよく、炭素数６〜１５のアリール基であることが好ましい。
Ｒ³及びＲ⁴で表される置換基を有していてもよい炭素数６〜２１のアリール基としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニレニル基、アセナフテニル基、フルオレニル基、アントラセニル基、アンスラキノニル基、ピレニル基等が好ましく、この中でも、フェニル基、ナフチル基、ビフェニレニル基、アセナフテニル基、フルオレニル基、アントラセニル基等がより好ましく、更には、フェニル基、ナフチル基、ビフェニレニル基、フルオレニル基等が特に好ましい。

上記Ｒ³及びＲ⁴で表される炭素数７〜２１のアラルキル基は、置換基を有していてもよく、炭素数７〜１５のアラルキル基が更に好ましい。
Ｒ³及びＲ⁴で表される置換基を有していてもよい炭素数７〜２１のアラルキル基としては、例えば、ベンジル基、ジフェニルメチル基、１，２−ジフェニルエチル基、フェニル−シクロペンチルメチル基、α−メチルベンジル基、フェニルエチル基、α−メチル−フェニルエチル基、β−メチル−フェニルエチル基、３−フェニルプロピル基、３，３−ジフェニルプロピル基、４−フェニルブチル基、ナフチルメチル基、スチリル基、シンナミル基、フルオレニル基、１−ベンゾシクロブテニル基、１，２，３，４−テトラヒドロナフチル基、インダニル基、ピペロニル基、ピレンメチル基が好ましく、この中でも、ベンジル基、フェニル−シクロペンチルメチル基、α−メチルベンジル基、フェニルエチル基、α−メチル−フェニルエチル基、β−メチル−フェニルエチル基、３−フェニルプロピル基、４−フェニルブチル基、スチリル基、シンナミル基、フルオレニル基、１−ベンゾシクロブテニル基、１，２，３，４−テトラヒドロナフチル基がより好ましく、更には、ベンジル基、α−メチルベンジル基、フェニルエチル基、α−メチル−フェニルエチル基、β−メチル−フェニルエチル基、３−フェニルプロピル基、スチリル基、シンナミル基、フルオレニル基、１−ベンゾシクロブテニル基、１，２，３，４−テトラヒドロナフチル基が特に好ましい。

これらＲ³及びＲ⁴で表されるアルキル基、アルケニル基、アリール基及びアラルキル基は、エーテル基を含んでいてもよく、例えば、テトラヒドロフルフリル基、テトラヒドロピラニルメチル基、２，５−ジヒドロ−２，５−ジメトキシフルフリル基なども好ましい。

上記Ｒ³及びＲ⁴が置換している窒素原子と一緒になって、ヘテロ環を形成する例としては、２−メチルアジリジン環、アゼチジン環、ピロリジン環、３−ピロリン環、ピペリジン環、１，２，３，６−テトラヒドロピリジン環、ヘキサメチレンイミン環、ピペラジン環、１，３，３−トリメチル−６−アザビシクロ［３．２．１］オクタン環、デカヒドロキノリン環、オキサゾリジン環、モルホリン環、チアゾリジン環、チオモルホリン環、インドリン環、イソインドリン環、１，２，３，４−テトラヒドロカルバゾール環、１，２，３，４−テトラヒドロキノリン環、１，２，３，４−テトラヒドロイソキノリン環、イミノジベンジル環、フェノキサジン環、フェノチアジン環、フェナジン環等が好ましく、この中でも、ピロリジン環、３−ピロリン環、ピペリジン環、１，２，３，６−テトラヒドロピリジン環、ヘキサメチレンイミン環、ピペラジン環、デカヒドロキノリン環、オキサゾリジン環、モルホリン環、チアゾリジン環、チオモルホリン環等がより好ましく、更には、ピロリジン環、３−ピロリン環、ピペリジン環、１，２，３，６−テトラヒドロピリジン環、ピペラジン環、デカヒドロキノリン環、オキサゾリジン環、モルホリン環、チアゾリジン環、チオモルホリン環等が特に好ましい。

上記一般式（ＩＩ）中、Ｒ³及びＲ⁴で表されるアルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基、又はＲ³とＲ⁴とが置換している窒素原子と一緒になって形成するヘテロ環の置換基としては、アシル基、アシルアミノ基、アシルアミノカルボニルアミノ基、アラルキルアミノカルボニルアミノ基、アリールアミノカルボニルアミノ基、メタクリロイルアミノカルボニルアミノ基、トリフルオロメチル基、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、ヨード基、ヒドロキシ基、ニトロ基、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ビニル基、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基、イソプロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、シクロヘキシルオキシ基、ビニルオキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、アミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、フェニル基等が好ましく、この中でも、アシル基（特にアセチル基）、アシルアミノ基、トリフルオロメチル基、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ビニル基、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基、イソプロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、シクロヘキシルオキシ基、ビニルオキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、アミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、フェニル基等がより好ましく、更には、アシル基（特にアセチル基）、アシルアミノ基、トリフルオロメチル基、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ヘキシル基、ビニル基、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、シクロヘキシルオキシ基、ビニルオキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、アミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、フェニル基等が特に好ましい。
また、これらの置換基は更に同様の置換基で置換されていてもよい。

また、特に置換基がヒドロキシ基、アミノ基等の活性水素を有する基である場合は、各種酸クロライド、酸無水物、ハロゲン化物又は各種イソシアネートと反応させて、アセチル基、アシル基、（メタ）アクリロイル基、アルキルアミノカルボニル基、アリールアミノカルボニル基（例えば、ブチルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基等）、アルキル基、アラルキル基等の基で置換されていてもよい。

また、Ｒ³及びＲ⁴で表されるアルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基、又はＲ³とＲ⁴とが置換している窒素原子と一緒になって形成するヘテロ環は、更に上述のＲ³及びＲ⁴で表される基で置換されていてもよい。

色価の観点では、Ｒ³及びＲ⁴で表される基の分子量はＲ³及びＲ⁴を合わせて５００以下が好ましく、４００以下がより好ましく、３００以下が特に好ましい。
また、Ｒ³及びＲ⁴の置換基の数は０〜４が好ましく、０〜３がより好ましく、０〜２が特に好ましい。

一般式（Ｉ）中、Ｒ¹で表される基の置換基としては、例えば、アシル基、アシルアミノ基、アシルアミノカルボニルアミノ基、アラルキルアミノカルボニルアミノ基、アリールアミノカルボニルアミノ基、メタクリロイルアミノカルボニルアミノ基、トリフルオロメチル基、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、ヨード基、ヒドロキシ基、ニトロ基、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ビニル基、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基、イソプロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、シクロヘキシルオキシ基、ビニルオキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、アミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、フェニル基等が好ましく、この中でも、アシル基（特にアセチル基）、アシルアミノ基、トリフルオロメチル基、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ビニル基、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基、イソプロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、シクロヘキシルオキシ基、ビニルオキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、アミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、フェニル基等がより好ましく、更には、アシル基（特にアセチル基）、アシルアミノ基、トリフルオロメチル基、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ヘキシル基、ビニル基、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、シクロヘキシルオキシ基、ビニルオキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、アミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、フェニル基等が特に好ましい。
また、これらの置換基は更に同様の置換基で置換されていてもよい。

特に上記一般式（Ｉ）中、Ｒ¹で表される基の置換基がヒドロキシ基、アミノ基等の活性水素を有する基である場合は、各種酸クロライド、酸無水物、ハロゲン化物又は各種イソシアネートと反応させて、アセチル基、アシル基、（メタ）アクリロイル基、アルキルアミノカルボニル基、アリールアミノカルボニル基（例えば、ブチルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基等）、アルキル基、アラルキル基等の基で置換されていてもよい。

また、色価の観点では、一般式（Ｉ）においてＲ¹で表される基の分子量は７００以下が好ましく、６００以下がより好ましく、５００以下が特に好ましい。

上記一般式（Ｉ）におけるＲ²は、２価以上の金属原子のカチオンの１価分のカチオンを表す。上記Ｒ²としては、１／２Ｍｇ⁺、１／２Ｃａ⁺、１／２Ｓｒ⁺，１／２Ｂａ⁺、１／２Ｚｎ⁺、１／３Ａｌ⁺、１／２Ｃｕ⁺、１／２Ｆｅ⁺等が好ましく、この中でも、１／２Ｍｇ⁺、１／２Ｃａ⁺、１／２Ｂａ⁺、１／２Ｚｎ⁺、１／３Ａｌ⁺、１／２Ｃｕ⁺、１／２Ｆｅ⁺等がより好ましく、更には、１／２Ｍｇ⁺、１／２Ｃａ⁺、１／２Ｂａ⁺、１／２Ｚｎ⁺、１／３Ａｌ⁺、１／２Ｃｕ⁺、等が特に好ましい。

一般式（Ｉ）においてｎは、Ｒ¹で表される置換基の数を示す。一般式（Ｉ）においてｎは０〜５であり、０〜４が好ましく、０〜３がより好ましく、０〜２が特に好ましい。

一般式（Ｉ）で表される化合物は、一般式（Ｉ）におけるＲ²に相当する部分が一価の金属カチオン又は含窒素化合物からなるカチオンである化合物と併用してもよい。
その場合、上記化合物の一般式（Ｉ）におけるＲ²に相当する部分は、水素原子、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓ、Ａｇ、又は含窒素化合物からなるカチオンが好ましく、この中でも、水素原子、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ａｇ、又は含窒素化合物からなるカチオンがより好ましく、更には、水素原子、Ｎａ、Ａｇ，又は含窒素化合物からなるカチオンが特に好ましい。

上記含窒素化合物としては、有機溶剤や水に対する溶解性、塩形成性、染料の吸光度及び色価や、着色剤としての耐熱性及び耐光性等の全てを考慮して選択される。吸光度及び色価の観点のみで選択すると、上記含窒素化合物はできるだけ分子量の低いものが好ましく、そのなかで、分子量３００以下であることが好ましく、分子量２８０以下であることがより好ましく、分子量２５０以下であることが特に好ましい。
以下に上述の含窒素化合物の具体例を挙げるが、これらに限定されるものではない。

以下に、前記一般式（Ｉ）で表される化合物の具体例（例示化合物（１）〜（１６））を挙げるが、本発明はこれに限定されるものではない。

本発明における着色剤は公知の一般的な方法により合成することができる。本発明における着色剤の一般的な合成法について上記例示化合物（１）を例に説明する。但し、本発明はこれに限定されるものではない。

上記例示化合物（１）は、下記のスキーム１に従って製造することができる。

まず、上記化合物（Ａ）と、シクロヘキシルメチルブロマイドと、ジメチルフォルムアミド（ＤＭＦ）と、トリエチルアミンとを混合し、５０℃程度で数時間攪拌する。次いで、反応混合物を水にあけ、酢酸エチルで抽出し、酢酸エチル相を数回水洗する。その後、酢酸エチル相に硫酸マグネシウム及び活性炭を加え、乾燥、脱色した後、濾過し、酢酸エチル相を濃縮し、ヘキサン／酢酸エチルから再結晶することで上記化合物（Ｂ）を得ることができる。

次に、ｏ−ニトロベンゼンスルホニルクロライドとアセトンとを混合して溶解し、上記化合物（Ｂ）を徐々に加える。その後、加温し、２０％炭酸ナトリウム水溶液を滴下した後、一時間程度攪拌し、加温して更に一時間程度攪拌する。攪拌後、反応混合物を水にあけ、酢酸エチルで抽出し、酢酸エチル相を４％硫酸水溶液で洗浄する。更に、酢酸エチル相に硫酸マグネシウム及び活性炭を加え、乾燥、脱色した後、濾過し、酢酸エチル相を濃縮することで上記化合物（Ｃ）を得ることができる。

次に、還元鉄と酢酸と水とを混合し、加熱しながら攪拌し、更に、得られた化合物（Ｃ）のジクロロベンゼン溶液を滴下し、加熱しながら数時間攪拌する。攪拌後、更に炭酸ナトリウムを加え、加熱しながら３０分程度攪拌し、セライトと活性炭とを加え、ろ過した後、有機層を水蒸気蒸留することで上記化合物（Ｄ）を得ることができる。

次に得られた化合物（Ｄ）とテトラエチルアンモニウムクロライドと酢酸と３６％塩酸とを混合し、約０℃に冷却する。冷却後、亜硝酸ナトリウム水溶液を内温５℃以下で維持しながら滴下し、約５〜１０℃に温度を維持しながら攪拌する。
次いで、別途調製したγ酸のアルカリ水溶液に上記の溶液を滴下し、更に４０％酢酸ナトリウム水溶液を滴下した後、約０℃で数時間攪拌する。攪拌後、１０％炭酸ナトリウム水溶液を滴下し一夜攪拌した後、５０％ＮａＯＨ水溶液を滴下して、その後加温しながら一時間程度攪拌し、その後室温まで冷却する。混合物をろ過し、アルカリ性の食塩水で洗浄することで上記化合物（Ｅ）を得ることができる。

次いで、得られた化合物（Ｅ）をＭｅＯＨ（メタノール）に溶解し、この溶液に水を添加して攪拌する。攪拌後、ＭｇＳＯ₄を添加して更に攪拌し、一晩放置した後、酢酸エチルを添加する。酢酸エチル添加後、ろ過してＭｇＳＯ₄を除去し、ＭｅＯＨ溶液を濃縮することで上記例示化合物（１）を得ることができる。
尚、他の例示化合物についても、適宜素材等を選択することによって上述の方法により合成することができる。

本発明における着色剤は、他の酸性染料、他の酸性染料と金属や含窒素化合物（これらを単に「酸性染料と塩を形成する原子団」という場合がある。）との塩、又は、他の酸性染料の誘導体等と同時に使用してもよい。

〜酸性染料〜
上記酸性染料について説明する。上記酸性染料は、スルホン酸やカルボン酸等の酸性基を有するものであれば特に限定されないが、有機溶剤や現像液に対する溶解性、塩形成性、吸光度、硬化性組成物中の他の成分との相互作用、耐光性、耐熱性等の必要とされる性能の全てを勘案して選択される。
以下に上記酸性染料の具体例を挙げるが、これらに限定されるものではない。例えば、ａｃｉｄ ａｌｉｚａｒｉｎ ｖｉｏｌｅｔ Ｎ；
ａｃｉｄ ｂｌａｃｋ １，２，２４，４８；
ａｃｉｄ ｂｌｕｅ １，７，９，１５，１８，２３，２５，２７，２９，４０，４５，６２，７０，７４，８０，８３，８６，８７，９０，９２，１０３，１１２，１１３，１２０，１２９，１３８，１４７，１５８，１７１，１８２，１９２；
ａｃｉｄ ｃｈｒｏｍｅ ｖｉｏｌｅｔ Ｋ；
ａｃｉｄ Ｆｕｃｈｓｉｎ；
ａｃｉｄ ｇｒｅｅｎ １，３，５，９，１６，２５，２７，５０；
ａｃｉｄ ｏｒａｎｇｅ ６，７，８，１０，１２，５０，５１，５２，５６，６３，７４，９５；
ａｃｉｄ ｒｅｄ １，４，８，１４，１７，１８，２６，２７，２９，３１，３４，３５，３７，４２，４４，５０，５１，５２，５７，６６，７３，８０，８７，８８，９１，９２，９４，９７，１０３，１１１，１１４，１２９，１３３，１３４，１３８，１４３，１４５，１５０，１５１，１５８，１７６，１８３，１９８，２１１，２１５，２１６，２１７，２４９，２５２，２５７，２６０，２６６，２７４；
ａｃｉｄ ｖｉｏｌｅｔ ６Ｂ，７，９，１７，１９；
ａｃｉｄ ｙｅｌｌｏｗ １，３，７，９，１１，１７，２３，２５，２９，３４，３６，４２，５４，７２，７３，７６，７９，９８，９９，１１１，１１２，１１４，１１６，１３４，１７２，２２８，３８，６５，２２０，１６９，２４３；
Ｆｏｏｄ Ｙｅｌｌｏｗ ３；
及びこれらの染料の誘導体が挙げられる。

これらの中でも上記酸性染料としては、
ａｃｉｄ ｂｌａｃｋ ２４；
ａｃｉｄ ｂｌｕｅ ２３，２５，２９，６２，８６，８７，９２，１３８，１５８；
ａｃｉｄ ｏｒａｎｇｅ ８，５１，５６，７４，６３，７４；
ａｃｉｄ ｒｅｄ １，４，８，３４，３７，４２，５２，５７，８０，９７，１１４，１４３，１４５，１５１，１８３，２１７；
ａｃｉｄ ｖｉｏｌｅｔ ７；
ａｃｉｄ ｙｅｌｌｏｗ １７，２５，２９，３４，４２，７２，７６，９９、１１１，１１２，１１４，１１６，１３４，１７２，２２８，３８，６５，２２０，１６９，２４３等の染料及びこれらの染料の誘導体が好ましい。

また、上記酸性染料としては、上記で例示した染料以外の、アゾ系、キサンテン系、フタロシアニン系の酸性染料も好ましく、例えば、
Ｃ．Ｉ．Ｓｏｌｖｅｎｔ Ｂｌｕｅ ４４，３８，Ｃ．Ｉ．Ｓｏｌｖｅｎｔ Ｏｒａｎｇｅ４５，Ｒｈｏｄａｍｉｎｅ Ｂ， Ｒｈｏｄａｍｉｎｅ １１０、２，７−Ｎａｐｈｔｈａｌｅｎｅｄｉｓｕｌｆｏｎｉｃ ａｃｉｄ，３−［（５−ｃｈｌｏｒｏ−２−ｐｈｅｎｏｘｙｐｈｅｎｙｌ）ｈｙｄｒａｚｏｎｏ］−３，４−ｄｉｈｙｄｒｏ−４−ｏｘｏ−５−［（ｐｈｅｎｙｌｓｕｌｆｏｎｙｌ）ａｍｉｎｏ］−，等の酸性染料及びこれらの染料の誘導体も好ましく用いられる。
上記酸性染料の誘導体としては、酸性染料のスルホン酸をスルホン酸アミド、スルホン酸エステルに変換した化合物などを好適に利用できる。

〜酸性染料と塩を形成する原子団について〜
上記酸性染料と塩を形成する原子団については、酸性染料のアニオンと塩を形成するカチオン性のものであれば特に限定はない。上記原子団としては、例えば、水素原子、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓ、含窒素化合物からなるカチオン等が挙げられる。
上記酸性染料と対塩を形成する含窒素化合物について説明する。本発明において、酸性染料と塩を形成する含窒素化合物は、有機溶剤や現像液に対する溶解性、塩形成性、染料の吸光度、硬化性組成物中の他の成分との相互作用等の全てを考慮して選択される。吸光度の観点のみで選択すると、できるだけ分子量の低いものが好ましく、そのなかで、分子量２４５以下であることが好ましく、分子量２４０以下であることが更に好ましく、分子量２３０以下であることが特に好ましい。

また、染料の光褪色防止、耐熱性向上のために、一般に褪色防止剤として知られている含窒素化合物を使用してもよく、この観点では酸価電位がより低い（イオン化ポテンシャルがより小さい）化合物、３級アミン化合物、脂肪族環状アミン化合物、アニリン系化合物、ヒドラジン系化合物等が好ましい。
これら含窒素化合物の好ましい具体例としては、上記で挙げたものと同様である。

〜酸性染料と塩を形成する原子団と酸性染料との比（ｍ）について〜
酸性染料と塩を形成する原子団／酸性染料の比（以下「ｍ」という。）について説明する。上記ｍは酸性染料分子と対イオンである原子団とのモル比率を決定する値であり、酸性染料原子団の塩形成条件によって自由に選択することができる。具体的には、酸性染料中の酸の官能基数の０≦ｍ≦１０の間の数値であり、有機溶剤や現像液に対する溶解性、塩形成性、吸光度、硬化性組成物中の他の成分との相互作用、耐光性、及び耐熱性など、必要とする性能の優先順位の全てを勘案して選択される。吸光度のみの観点で選択すると、上記ｍは０≦ｍ≦７の間の数値をとることが好ましく、０≦ｍ≦６の間の数値をとることが更に好ましく、０≦ｍ≦５の間の数値をとることが特に好ましい。

〜使用濃度〜
次に本発明における着色剤の使用濃度について説明する。本発明の組成物の全固形成分に対する本発明における着色剤の使用濃度は、用いる染料等の種類によって異なるが、０．５〜８０質量％が好ましく、０．５〜６０質量％がより好ましく、０．５〜５０質量％が特に好ましい。上記着色剤の使用濃度が０．５〜８０質量％の範囲内にあると、硬化性組成物の硬化性及び現像性等を良好にすることができる。

（バインダー）
次にバインダーについて説明する。本発明の組成物に使用可能なバインダーはアルカリ可溶性であれば、特に限定されないが、耐熱性、現像性、入手性等の観点から選ばれることが好ましい。
上記アルカリ可溶性のバインダーとしては、線状有機高分子重合体で、有機溶剤に可溶で、弱アルカリ水溶液で現像できるものが好ましい。このような線状有機高分子重合体としては、側鎖にカルボン酸を有するポリマー、例えば特開昭５９−４４６１５号、特公昭５４−３４３２７号、特公昭５８−１２５７７号、特公昭５４−２５９５７号、特開昭５９−５３８３６号、特開昭５９−７１０４８号明細書に記載されているようなメタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等があり、また同様に側鎖にカルボン酸を有する酸性セルロース誘導体が有用である。この他に水酸基を有するポリマーに酸無水物を付加させたもの等やポリヒドロキシスチレン系樹脂、ポリシロキサン系樹脂、ポリ（２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート）、ポリビニールピロリドンやポリエチレンオキサイド、ポリビニールアルコール、等も有用である。

また上記アルカリ可溶性のバインダーは、親水性を有するモノマーを共重合してもよく、この例としては、アルコキシアルキル（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、グリセロール（メタ）アクリレート、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、２級及び３級のアルキルアクリルアミド、ジアルキルアミノアルキル（メタ）アクリレート、モルホリン（メタ）アクリレート、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、ビニルイミダゾール、ビニルトリアゾール、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、分岐又は直鎖のプロピル（メタ）アクリレート、分岐又は直鎖のブチル（メタ）アクリレート、フェノキシヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
その他上記親水性を有するモノマーとしては、テトラヒドロフルフリル基、燐酸、燐酸エステル、４級アンモニウム塩、エチレンオキシ鎖、プロピレンオキシ鎖、スルホン酸及びその塩、モルホリノエチル基等を含んだモノマー等も有用である。

また、架橋効率を向上させるために、上記アルカリ可溶性のバインダーは重合性基を側鎖に有してもよく、アリル基、（メタ）アクリル基、アリルオキシアルキル基等を側鎖に含有したポリマー等も有用である。これらの重合性基を含有するポリマーの例を以下に示すが、ＣＯＯＨ基、ＯＨ基、アンモニウム基等のアルカリ可溶性基と炭素炭素不飽和結合が含まれていれば下記に限定されない。

上記重合性基を含有するポリマーとしては、ＯＨ基を有する例えば２−ヒドロキシエチルアクリレートと、ＣＯＯＨ基を含有する例えばメタクリル酸と、これらと共重合可能なアクリル系若しくはビニル系化合物等のモノマーとの共重合体に、ＯＨ基と反応性を有するエポキシ環と炭素炭素不飽和結合基とを有する化合物（例えば、グリシジルアクリレートのような化合物）を反応させて得られる化合物等が使用できる。
ＯＨ基との反応ではエポキシ環の他に、酸無水物、イソシアネート基を有し、アクリロイル基を有する化合物も使用できる。また、特開平６−１０２６６９号、特開平６−１９３８号に開示されるエポキシ環を有する化合物にアクリル酸のような不飽和カルボン酸を反応させて得られる化合物に、飽和若しくは不飽和多塩基酸無水物を反応させて得られる反応物も使用できる。ＣＯＯＨ基のようなアルカリ可溶化基と炭素炭素不飽和基とを併せ持つ化合物としては、例えば、市販品の「ダイヤナ−ルＮＲシリーズ」（三菱レイヨン（株）製）、「Ｐｈｏｔｏｍｅｒ６１７３」（ＣＯＯＨ含有Ｐｏｌｙｕｒｅｔｈａｎｅ ａｃｒｙｌｉｃ ｏｌｉｇｏｍｅｒ；Ｄｉａｍｏｎｄ Ｓｈａｍｒｏｃｋ Ｃｏ．Ｌｔｄ．，製）、「ビスコートＲ−２６４」、「ＫＳレジスト１０６」（いずれも大阪有機化学工業（株）製）、「サイクロマーＰシリーズ」、「プラクセル ＣＦ２００シリーズ」（いずれもダイセル化学工業（株）製）、「Ｅｂｅｃｒｙｌ３８００」（ダイセルユーシービー（株）製）などが挙げられる。

これらの各種バインダーのなかで、本発明に用いるアルカリ可溶性バインダーとしては、耐熱性の観点で、ポリヒドロキシスチレン系樹脂、ポリシロキサン系樹脂、アクリル系樹脂、アクリルアミド系樹脂、アクリル／アクリルアミド共重合体樹脂が好ましく、アクリル系樹脂、ポリヒドロキシスチレン系樹脂、ポリシロキサン系樹脂が更に好ましい。また、現像性制御の観点でアクリル系樹脂、アクリルアミド系樹脂、アクリル／アクリルアミド共重合体樹脂が好ましい。上記アクリル系樹脂としてはベンジル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリルアミド等から選ばれるモノマ−からなる共重合体、及び、市販品の「サイクロマーＰシリーズ」及び「プラクセル ＣＦ２００シリーズ」（いずれもダイセル化学工業（株）製）、「Ｅｂｅｃｒｙｌ３８００」（ダイセルユーシービー（株）製）、「ダイヤナ−ルＮＲシリーズ」（三菱レイヨン（株）製）、「ビスコートＲ２６４」、「ＫＳレジスト１０６」（いずれも大阪有機化学工業（株）製）等が好ましい。
特に本発明に用いるバインダーとしては、（メタ）アクリル系のアルカリ可溶性ポリマーが好ましく、重合性側鎖を有する（メタ）アクリル系のアルカリ可溶性ポリマーであることが特に好ましい。

また、硬化皮膜の強度をあげるためにアルコール可溶性ナイロンや、２，２−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−プロパンとエピクロルヒドリンとのポリエーテル等も有用である。

また、本発明に用いるバインダーとしては、アルカリ可溶性フェノール樹脂を用いることができる。該アルカリ可溶性フェノール樹脂は、本発明の組成物をポジ型の組成物とする場合に好適に用いることができる。アルカリ可溶性フェノール樹脂としては、例えばノボラック樹脂又はビニル重合体等が挙げられる。
上記ノボラック樹脂としては、例えば、フェノール類とアルデヒド類とを酸触媒の存在下に縮合させて得られるものが挙げられる。上記フェノール類としては、例えばフェノール、クレゾール、エチルフェノール、ブチルフェノール、キシレノール、フェニルフェノール、カテコール、レゾルシノール、ピロガロール、ナフトール又はビスフェノールＡ等が挙げられる。上記フェノール類は単独若しくは２種以上を組み合わせて用いることができる。上記アルデヒド類としては、例えばホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド又はベンズアルデヒド等が挙げられる。

上記ノボラック樹脂の具体例としては、例えば、メタクレゾール、パラクレゾール又はこれらの混合物とホルマリンとの縮合生成物が挙げられる。上記ノボラック樹脂は分別等の手段を用いて分子量分布を調節してもよい。また、ビスフェノールＣやビスフェノールＡ等のフェノール性水酸基を有する低分子量成分を上記ノボラック樹脂に混合してもよい。

上記バインダーとしては、重量平均分子量（ＧＰＣ法で測定されたポリスチレン換算値）が１０００〜２×１０⁵の重合体が好ましく、２０００〜１×１０⁵の重合体が更に好ましく、５０００〜５×１０⁴の重合体が特に好ましい。
上記バインダーの本発明の組成物中における使用量は、本発明の組成物中の全固形分に対して１０〜９０質量％が好ましく、２０〜８０質量％が更に好ましく、３０〜７０質量％が特に好ましい。上記使用量が１０〜９０質量％の範囲内にあると、硬化性組成物の硬化性及び現像性等を良好にとすることができる。

（架橋剤）
次に本発明の組成物に用いることができる架橋剤について説明する。本発明は、上述の本発明における着色剤（好ましくは、上記一般式（Ｉ）で表される有機溶媒可溶性染料）を使用し、従来に比較して膜の硬化反応をより高度に進行させ、硬化性の良好な膜が得られることが発明の主旨であるが、補足的に、架橋剤を用いて更に高度に硬化させた膜を得ることも可能である。本発明に使用する架橋剤は、架橋反応によって膜硬化を行えるものであれば特に限定されないが、例えば（ａ）エポキシ樹脂、（ｂ）メチロール基、アルコキシメチル基及びアシロキシメチル基から選ばれた少なくとも一つの置換基で置換されたメラミン化合物、グアナミン化合物、グリコールウリル化合物又はウレア化合物、（ｃ）メチロール基、アルコキシメチル基及びアシロキシメチル基から選ばれた少なくとも一つの置換基で置換されたフェノール化合物、ナフトール化合物又はヒドロキシアントラセン化合物が挙げられ、特に多官能エポキシ樹脂が好ましい。

上記（ａ）成分のエポキシ樹脂としては、エポキシ基を有し、かつ架橋性を有するものであれば何でもよいが、これらの化合物の例としては、ビスフェノール−Ａ−ジグリシジルエーテル、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ブタンジオールジグリシジルエーテル、へキサンジオールジグリシジルエーテル、ジヒドロキシビフェニルジグリシジルエーテル、フタル酸ジグリシジルエステル、Ｎ，Ｎ−ジグリシジルアニリン等の２価のグリシジル基含有低分子化合物、同様に、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、トリメチロールフェノールトリグリシジルエーテル、ＴｒｉｓＰ−ＰＡトリグリシジルエーテル等に代表される３価のグリシジル基含有低分子化合物、同様に、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル、テトラメチロールビスフェノール−Ａ−テトラグリシジルエーテル等に代表される４価のグリシジル基含有低分子化合物、同様に、ジペンタエリスリトールペンタグリシジルエーテル、ジペンタエリスリトールヘキサグリシジルエーテル等の多価グリシジル基含有低分子化合物、ポリグリシジル（メタ）アクリレート、２，２−ビス（ヒドロキシメチル）−１−ブタノールの１，２−エポキシ−４−（２−オキシラニル）シクロヘキサン付加物等に代表されるグリシジル基含有高分子化合物等が挙げられる。

上記（ｂ）成分に含まれるメチロール基、アルコキシメチル基、アシロキシメチル基が置換している数は、メラミン化合物の場合は２〜６、グリコールウリル化合物、グアナミン化合物及びウレア化合物の場合は２〜４であるが、好ましくはメラミン化合物の場合は５〜６、グリコールウリル化合物、グアナミン化合物及びウレア化合物の場合は３〜４である。

これらのメチロール基含有化合物は、アルコキシメチル基含有化合物をアルコール中で塩酸、硫酸、硝酸、メタンスルホン酸等の酸触媒存在下、加熱することにより得られる。アシロキシメチル基含有化合物はメチロール基含有化合物を塩基性触媒存在下、アシルクロリドと混合攪拌することにより得られる。

以下、上記置換基を有する化合物の具体例を挙げる。
上記メラミン化合物として、例えば、ヘキサメチロールメラミン、ヘキサメトキシメチルメラミン、ヘキサメチロールメラミンのメチロール基の１〜５個がメトキシメチル化した化合物又はその混合物、ヘキサメトキシエチルメラミン、ヘキサアシロキシメチルメラミン、ヘキサメチロールメラミンのメチロール基の１〜５個がアシロキシメチル化した化合物又はその混合物などが挙げられる。

上記グアナミン化合物としては、例えば、テトラメチロールグアナミン、テトラメトキシメチルグアナミン、テトラメチロールグアナミンの１〜３個のメチロール基をメトキシメチル化した化合物又はその混合物、テトラメトキシエチルグアナミン、テトラアシロキシメチルグアナミン、テトラメチロールグアナミンの１〜３個のメチロール基をアシロキシメチル化した化合物又はその混合物などが挙げられる。

上記グリコールウリル化合物としては、例えば、テトラメチロールグリコールウリル、テトラメトキシメチルグリコールウリル、テトラメチロールグリコールウリルのメチロール基の１〜３個をメトキシメチル化した化合物又はその混合物、テトラメチロールグリコールウリルのメチロール基の１〜３個をアシロキシメチル化した化合物又はその混合物などが挙げられる。

上記ウレア化合物としては、例えば、テトラメチロールウレア、テトラメトキシメチルウレア、テトラメチロールウレアの１〜３個のメチロール基をメトキシメチル化した化合物又はその混合物、テトラメトキシエチルウレアなどが挙げられる。これらは単独で使用してもよく、組み合わせて使用してもよい。

上記（ｃ）成分として含有されるメチロール基、アルコキシメチル基、アシロキシメチル基から選ばれた少なくとも一つの基で置換されたフェノール化合物、ナフトール化合物又はヒドロキシアントラセン化合物は、上記（ｂ）成分の場合と同様、熱架橋により上塗りフォトレジストとのインターミキシングを抑制するとともに、膜強度を更に高めるものである。

上記（ｃ）成分に含まれるメチロール基、アシロキシメチル基又はアルコキシメチル基の数としては、一分子あたり最低２個置換されていることが好ましく、熱架橋性及び保存安定性の観点からフェノール性化合物の２位，４位が全て置換されている化合物が更に好ましい。
また、骨格となるナフトール化合物、ヒドロキシアントラセン化合物も、ＯＨ基のオルト位、パラ位が全て置換されている化合物が好ましい。
また、骨格となるフェノール化合物の３位又は５位は未置換であってもよいし、置換基を有していてもよい。更に、骨格となるナフトール化合物においても、ＯＨ基のオルト位以外は未置換であってもよいし、置換基を有していてもよい。

これらのメチロール基含有化合物は、フェノール性ＯＨ基のオルト位又はパラ位（２位又は４位）が水素原子である化合物を原料に用い、これを水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア、テトラアルキルアンモニウムヒドロキシド等の、塩基性触媒の存在下でホルマリンと反応させることにより得られる。
また、アルコキシメチル基含有化合物は、上記メチロール基含有化合物をアルコール中で塩酸、硫酸、硝酸、メタンスルホン酸等の酸触媒の存在下で加熱することにより得られる。
アシロキシメチル基含有化合物は、上記メチロール基含有化合物を塩基性触媒の存在下アシルクロリドと反応させることにより得られる。

架橋剤（ｃ）における骨格化合物としては、フェノール性ＯＨ基のオルト位又はパラ位が未置換の、フェノール化合物、ナフトール、ヒドロキシアントラセン化合物等が挙げられ、例えば、フェノール、クレゾールの各異性体、２，３−キシレノ−ル、２，５−キシレノ−ル、３，４−キシレノール、３，５−キシレノール、ビスフェノール−Ａなどのビスフェノール類、４，４’−ビスヒドロキシビフェニル、ＴｒｉｓＰ−ＰＡ（本州化学工業（株）製）、ナフトール、ジヒドロキシナフタレン、２，７−ジヒドロキシアントラセン等を使用することができる。

上記架橋剤（ｃ）の具体例としては、フェノール化合物として、例えば、トリメチロールフェノール、トリ（メトキシメチル）フェノール、トリメチロールフェノールの１〜２個のメチロール基をメトキシメチル化した化合物、トリメチロール−３−クレゾール、トリ（メトキシメチル）−３−クレゾール、トリメチロール−３−クレゾールの１〜２個のメチロール基をメトキシメチル化した化合物、２，６−ジメチロール−４−クレゾール等のジメチロールクレゾール、テトラメチロールビスフェノール−Ａ、テトラメトキシメチルビスフェノール−Ａ、テトラメチロールビスフェノール−Ａの１〜３個のメチロール基をメトキシメチル化した化合物、テトラメチロール−４，４’−ビスヒドロキシビフェニル、テトラメトキシメチル−４，４’−ビスヒドロキシビフェニル、ＴｒｉｓＰ−ＰＡのヘキサメチロール体、Ｔｒｉｓ−ＰＡのヘキサメトキシメチル体、ＴｒｉｓＰ−ＰＡのヘキサメチロール体の１〜５個のメチロール基をメトキシメチル化した化合物、ビスヒドロキシメチルナフタレンジオール等がある。

上記ヒドロキシアントラセン化合物としては、例えば、１，６−ジヒドロキシメチル−２，７−ジヒドロキシアントラセン等が挙げられる。
アシロキシメチル基含有化合物としては、例えば、上記メチロール基含有化合物のメチロール基を、一部又は全部アシロキシメチル化した化合物が挙げられる。

これらの化合物の中で好ましいものは、トリメチロールフェノール、ビスヒドロキシメチル−ｐ−クレゾール、テトラメチロールビスフェノールＡ、ＴｒｉｓＰ−ＰＡ（本州化学工業（株）製）のヘキサメチロール体又はそれらのメチロール基がアルコキシメチル基及びメチロール基とアルコキシメチル基の両方で置換されたフェノール化合物である。
これらは単独で使用してもよく、組み合わせて使用してもよい。

本発明の組成物中における架橋剤の含有量は素材により異なるが、固形分に対して１〜７０質量％が好ましく、５〜５０質量％がより好ましく、７〜３０質量％が特に好ましい。上記含有量が１〜７０質量％の範囲内にあると、硬化性組成物の硬化性及び現像性等を良好にすることができる。

（モノマー）
次に本発明の組成物がネガ型の組成物である場合に含まれるモノマーについて説明する。上記モノマーとしては、少なくとも１個の付加重合可能なエチレン基を有する、常圧下で１００℃以上の沸点を持つエチレン性不飽和基を持つ（メタ）アクリルエステル系の重合性化合物である。
上記モノマーの例としては、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、等の単官能のアクリレートやメタアクリレート；ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテル、トリ（アクリロイロキシエチル）イソシアヌレート、グリセリンやトリメチロールエタン等の多官能アルコールにエチレンオキサイドやプロピレンオキサイドを付加させた後（メタ）アクリレート化したもの、特公昭４８−４１７０８号、特公昭５０−６０３４号、特開昭５１−３７１９３号各公報に記載されているようなウレタンアクリレート類、特開昭４８−６４１８３号、特公昭４９−４３１９１号、特公昭５２−３０４９０号各公報に記載されているポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸との反応生成物であるエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタアクリレート及びこれらの混合物を挙げることができる。更に、日本接着協会誌Ｖｏｌ．２０、Ｎｏ．７、３００〜３０８頁に光硬化性モノマー及びオリゴマーとして紹介されている（メタ）アクリルエステル系の重合性化合物が挙げられる。

本発明においては、上記モノマーとして、（メタ）アクリルエステル系の重合性化合物を含んでいることであり、該重合性化合物が４官能以上の（メタ）アクリルエステル系モノマーであることが好ましい。

上記モノマーの本発明の組成物中における含有量は、固形分に対して０．１〜９０質量が好ましく、１．０〜８０質量％が更に好ましく、２．０〜７０質量％が特に好ましい。上記含有量が０．１〜９０質量％の範囲内にあると、硬化性組成物の硬化性及び現像性等を良好にすることができる。

（光重合開始剤）
次に本発明の組成物に含まれる光重合開始剤について説明する。光重合開始剤は重合性を有するモノマーを重合させられるものであれば特に限定されないが、特性、開始効率、吸収波長、入手性、コスト等の観点で選ばれることが好ましい。

また、上記光重合開始剤としては、分解によって酸を発生しない化合物であることが好ましい。ここで、「分解によって酸を発生しない化合物」とは、重合性を有する光重合性化合物を重合することが可能であるという光重合開始剤の機能を有するとともに、光又は熱による分解によって酸（例えば、プロトン酸、ルイス酸）を発生しない化合物をいう。

上記光重合開始剤としては、トリハロメチルトリアジン系化合物、ベンジルジメチルケタール化合物、α−ヒドロキシケトン化合物、α−アミノケトン化合物、フォスフィンオキサイド系化合物、メタロセン化合物、オキシム系化合物、トリアリルイミダゾールダイマー、ベンゾチアゾール系化合物、ベンゾフェノン化合物、アセトフェノン化合物及びその誘導体、シクロペンタジエン−ベンゼン−鉄錯体及びその塩、ハロメチルオキサジアゾール化合物、３−アリール置換クマリン化合物、等が挙げられる。

本発明に用いることができる光重合開始剤の一つとしては、ハロメチルオキサジアゾール化合物及びハロメチル−ｓ−トリアジン化合物から選択される少なくとも一つの活性ハロゲン化合物が挙げられる。
上記ハロメチルオキサジアゾール等の活性ハロゲン化合物としては、特公昭５７−６０９６号公報に記載の２−ハロメチル−５−ビニル−１，３，４−オキサジアゾール化合物等や、２−トリクロロメチル−５−スチリル−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリクロロメチル−５−（ｐ−シアノスチリル）−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリクロロメチル−５−（ｐ−メトキシスチリル）−１，３，４−オキサジアゾール等が挙げられる。

また、ハロメチル−ｓ−トリアジン系化合物の光重合開始剤としては、特公昭５９−１２８１号公報に記載のビニル−ハロメチル−ｓ−トリアジン化合物、特開昭５３−１３３４２８号公報に記載の２−（ナフト−１−イル）−４，６−ビス−ハロメチル−ｓ−トリアジン化合物及び４−（ｐ−アミノフェニル）−２，６−ジ−ハロメチル−ｓ−トリアジン化合物が挙げられる。

その他のハロメチル−ｓ−トリアジン系の化合物例としては、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−ｐ−メトキシスチリル−ｓ−トリアジン、２，６−ビス（トリクロロメチル）−４−（３，４−メチレンジオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，６−ビス（トリクロロメチル）−４−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（１−ｐ−ジメチルアミノフェニル−１，３−ブタジエニル）−ｓ−トリアジン、２−トリクロロメチル−４−アミノ−６−ｐ−メトキシスチリル−ｓ−トリアジン、２−（ナフト−１−イル）−４，６−ビス−トリクロロメチル−ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシ−ナフト−１−イル）−４，６−ビス−トリクロロメチル−ｓ−トリアジン、２−（４−エトキシ−ナフト−１−イル）−４，６−ビス−トリクロロメチル−ｓ−トリアジン、２−（４−ブトキシ−ナフト−１−イル）−４，６−ビス−トリクロロメチル−ｓ−トリアジン、２−〔４−（２−メトキシエチル）−ナフト−１−イル〕−４，６−ビス−トリクロロメチル−ｓ−トリアジン、２−〔４−（２−エトキシエチル）−ナフト−１−イル〕−４，６−ビス−トリクロロメチル−ｓ−トリアジン、２−〔４−（２−ブトキシエチル）−ナフト−１−イル〕−４，６−ビス−トリクロロメチル−ｓ−トリアジン、２−（２−メトキシ−ナフト−１−イル）−４，６−ビス−トリクロロメチル−ｓ−トリアジン、２−（６−メトキシ−５−メチル−ナフト−２−イル）−４，６−ビス−トリクロロメチ−ｓ−トリアジン、２−（６−メトキシ−ナフト−２−イル）−４，６−ビス−トリクロロメチル−ｓ−トリアジン、２−（５−メトキシ−ナフト−１−イル）−４，６−ビス−トリクロロメチル−ｓ−トリアジン、２−（４，７−ジメトキシ−ナフト−１−イル）−４，６−ビス−トリクロロメチル−ｓ−トリアジン、

２−（６−エトキシ−ナフト−２−イル）−４，６−ビス−トリクロロメチル−ｓ−トリアジン、２−（４，５−ジメトキシ−ナフト−１−イル）−４，６−ビス−トリクロロメチル−ｓ−トリアジン、４−〔ｐ−Ｎ，Ｎ−ジ（エトキシカルボニルメチル）アミノフェニル〕−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４−〔ｏ−メチル−ｐ−Ｎ，Ｎ−ジ（エトキシカルボニルメチル）アミノフェニル〕−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４−〔ｐ−Ｎ，Ｎ−ジ（クロロエチル）アミノフェニル〕−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４−〔ｏ−メチル−ｐ−Ｎ，Ｎ−ジ（クロロエチル）アミノフェニル〕−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４−（ｐ−Ｎ−クロロエチルアミノフェニル）−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４−（ｐ−Ｎ−エトキシカルボニルメチルアミノフェニル）−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４−〔ｐ−Ｎ，Ｎ−ジ（フェニル）アミノフェニル〕−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４−（ｐ−Ｎ−クロロエチルカルボニルアミノフェニル）−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４−〔ｐ−Ｎ−（ｐ−メトキシフェニル）カルボニルアミノフェニル〕２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４−〔ｍ−Ｎ，Ｎ−ジ（エトキシカルボニルメチル）アミノフェニル〕−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４−〔ｍ−ブロモ−ｐ−Ｎ，Ｎ−ジ（エトキシカルボニルメチル）アミノフェニル〕−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４−〔ｍ−クロロ−ｐ−Ｎ，Ｎ−ジ（エトキシカルボニルメチル）アミノフェニル〕−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４−〔ｍ−フロロ−ｐ−Ｎ，Ｎ−ジ（エトキシカルボニルメチル）アミノフェニル〕−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、

４−〔ｏ−ブロモ−ｐ−Ｎ，Ｎ−ジ（エトキシカルボニルメチル）アミノフェニル〕−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４−〔ｏ−クロロ−ｐ−Ｎ，Ｎ−ジ（エトキシカルボニルメチル）アミノフェニル−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４−〔ｏ−フロロ−ｐ−Ｎ，Ｎ−ジ（エトキシカルボニルメチル）アミノフェニル〕−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４−〔ｏ−ブロモ−ｐ−Ｎ，Ｎ−ジ（クロロエチル）アミノフェニル〕−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４−〔ｏ−クロロ−ｐ−Ｎ，Ｎ−ジ（クロロエチル）アミノフェニル〕−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４−〔ｏ−フロロ−ｐ−Ｎ，Ｎ−ジ（クロロエチル）アミノフェニル〕−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４−〔ｍ−ブロモ−ｐ−Ｎ，Ｎ−ジ（クロロエチル）アミノフェニル〕−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４−〔ｍ−クロロ−ｐ−Ｎ，Ｎ−ジ（クロロエチル）アミノフェニル〕−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、

４−〔ｍ−フロロ−ｐ−Ｎ，Ｎ−ジ（クロロエチル）アミノフェニル〕−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４−（ｍ−ブロモ−ｐ−Ｎ−エトキシカルボニルメチルアミノフェニル）−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４−（ｍ−クロロ−ｐ−Ｎ−エトキシカルボニルメチルアミノフェニル）−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４−（ｍ−フロロ−ｐ−Ｎ−エトキシカルボニルメチルアミノフェニル）−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４−（ｏ−ブロモ−ｐ−Ｎ−エトキシカルボニルメチルアミノフェニル）−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４−（ｏ−クロロ−ｐ−Ｎ−エトキシカルボニルメチルアミノフェニル）−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４−（ｏ−フロロ−ｐ−Ｎ−エトキシカルボニルメチルアミノフェニル）−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４−（ｍ−ブロモ−ｐ−Ｎ−クロロエチルアミノフェニル）−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４−（ｍ−クロロ−ｐ−Ｎ−クロロエチルアミノフェニル）−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４−（ｍ−フロロ−ｐ−Ｎ−クロロエチルアミノフェニル）−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４−（ｏ−ブロモ−ｐ−Ｎ−クロロエチルアミノフェニル）−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４−（ｏ−クロロ−ｐ−Ｎ−クロロエチルアミノフェニル）−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４−（ｏ−フロロ−ｐ−Ｎ−クロロエチルアミノフェニル）−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン等が挙げられる。

その他、上記光重合開始剤としては、緑化学社製ＴＡＺシリーズ、ＴＡＺ−１０７、ＴＡＺ−１１０、ＴＡＺ−１０４、ＴＡＺ−１０９、ＴＡＺ−１４０、ＴＡＺ−２０４、ＴＡＺ−１１３、ＴＡＺ−１２３、ＴＡＺ−１０４、ＰＡＮＣＨＩＭ社製Ｔシリーズ、Ｔ−ＯＭＳ、Ｔ−ＢＭＰ、Ｔ−Ｒ、Ｔ−Ｂ、チバガイギー社製イルガキュアシリーズ、イルガキュア６５１、イルガキュア１８４、イルガキュア５００、イルガキュア１０００、イルガキュア１４９、イルガキュア８１９、イルガキュア２６１、ダロキュアシリーズ、ダロキュア１１７３４，４’−ビス（ジエチルアミノ）−ベンゾフェノン、２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）−１−［４−（フェニルチオ）フェニル］−１，２−オクタンジオン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−４−モルホリノブチロフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２−（ｏ−クロルフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾリル二量体、２−（ｏ−フルオロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾリル二量体、２−（ｏ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾリル二量体、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾリル二量体、２−（ｐ−ジメトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾリル二量体、２−（２，４−ジメトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾリル二量体、２−（ｐ−メチルメルカプトフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾリル二量体、ベンゾインイソプロピルエーテル等も有用に用いられる。

これらの中でも、本発明に用いる光重合性化合物としては、分解によって酸を発生しない化合物を選択するという観点から、α−アミノケトン化合物、フォスフィンオキサイド系化合物、メタロセン化合物、オキシム系化合物、トリアリルイミダゾールダイマーからなる群より選ばれる少なくとも１種であることが好ましい場合がある。

上記α−アミノケトン系開始剤としては、チバガイギー社製イルガキュアシリーズ、イルガキュア９０７、イルガキュア３６９、２−メチル−１−フェニル−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−メチル−１−［４−（ヘキシル）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−エチル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１等が挙げられる。

上記オキシム系開始剤としては、特に限定されないが、２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）−１−［４−（フェニルチオ）フェニル］−１，２−オクタンジオン、１−（４−メチルスルファニル−フェニル）−ブタン−１，２−ブタン ２−オキシム−Ｏ−アセタート、１−（４−メチルスルファニル−フェニル）−ブタン−１−オンオキシム−Ｏ−アセタート、ヒドロキシイミノ−（４−メチルスルファニル−フェニル）−酢酸エチルエステル−Ｏ−アセタート、ヒドロキシイミノ−（４−メチルスルファニル−フェニル）−酢酸エチルエステル−Ｏ−ベンゾアート等が挙げられる。

また、他の開始剤に関しては、入手性及び安定性の観点から、市販品として、ベンジルジメチルケタール化合物としてはイルガキュア６５１等が、α−ヒドロキシケトン化合物としてはイルガキュア１８４、１１７３、５００、１０００、２９５９等が、α−アミノケトン化合物としてはイルガキュア９０７、３６９等が、フォスフィンオキサイド系化合物（ブレンド）としてはイルガキュア１７００、１４９、１８５０、８１９、１８４等が、メタロセン化合物としてはイルガキュア７８４、２６１等（何れもチバ・スペシャリティーケミカルズ社製）が好ましく、これらの類縁体／周辺化合物等も同様に好ましい。

本発明の組成物においては、上記光重合開始剤に増感剤や光安定剤を併用することができる。
これら、増感剤又は光安定剤の具体例としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾイン、９−フルオレノン、２−クロロ−９−フルオレノン、２−メチル−９−フルオレノン、９−アントロン、２−ブロモ−９−アントロン、２−エチル−９−アントロン、９，１０−アントラキノン、２−エチル−９，１０−アントラキノン、２−ｔ−ブチル−９，１０−アントラキノン、２，６−ジクロロ−９，１０−アントラキノン、キサントン、２−メチルキサントン、２−メトキシキサントン、２−メトキシキサントン、チオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、アクリドン、１０−ブチル−２−クロロアクリドン、ベンジル、ジベンザルアセトン、ｐ−（ジメチルアミノ）フェニルスチリルケトン、ｐ−（ジメチルアミノ）フェニル−ｐ−メチルスチリルケトン、ベンゾフェノン、ｐ−（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン（又はミヒラーケトン）、ｐ−（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、ベンゾアントロン等や特公昭５１−４８５１６号公報記載のベンゾチアゾール系化合物等や、チヌビン１１３０、同４００等が挙げられる。

本発明の組成物には、以上の光重合開始剤の他に他の公知の光重合開始剤を使用することができる。
上記他の光重合開始剤として、具体的には、米国特許第２，３６７，６６０号明細書に開示されているビシナールポリケトルアルドニル化合物、米国特許第２，３６７，６６１号及び第２，３６７，６７０号明細書に開示されているα−カルボニル化合物、米国特許第２，４４８，８２８号明細書に開示されているアシロインエーテル、米国特許第２，７２２，５１２号明細書に開示されているα−炭化水素で置換された芳香族アシロイン化合物、米国特許第３，０４６，１２７号及び第２，９５１，７５８号明細書に開示されている多核キノン化合物、米国特許第３，５４９，３６７号明細書に開示されているトリアリルイミダゾールダイマー／ｐ−アミノフェニルケトンの組合せ、特公昭５１−４８５１６号公報に開示されているベンゾチアゾール系化合物／トリハロメチール−ｓ−トリアジン系化合物等を挙げることができる。

上記光重合開始剤の使用量は、モノマー固形分に対し、０．０１質量％〜５０質量％が好ましく、１質量％〜３０質量％がより好ましく、１質量％〜２０質量％が特に好ましい。光重合開始剤の使用量が０．０１〜５０質量％の範囲内にあると、重合反応が進みやすく、膜強度を向上させることができる。

本発明の組成物には以上の他に、更に、熱重合防止剤を加えておくことが好ましい。該熱重合開始剤としては、例えば、ハイドロキノン、ｐ−メトキシフェノール、ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ピロガロール、ｔ−ブチルカテコール、ベンゾキノン、４，４’−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２−メルカプトベンゾイミダゾール等が有用である。

（溶剤）
本発明の組成物は、調製等の際に必要に応じて溶剤を用いることができる。本発明の組成物に使用される溶剤は、本発明の組成物の溶解性及び塗布性を満足するものであれば基本的に限定されず、特に染料、バインダーの溶解性、塗布性、安全性を考慮して選ばれることが好ましい。
本発明の組成物を調製する際に使用する溶剤としては、例えば、エステル類、エーテル類、ケトン類、芳香族炭化水素類、アルコール類等の溶剤が好ましい。

上記エステル類の溶剤としては、例えば、酢酸エチル、酢酸−ｎ−ブチル、酢酸イソブチル、ギ酸アミル、酢酸イソアミル、酢酸イソブチル、プロピオン酸ブチル、酪酸イソプロピル、酪酸エチル、酪酸ブチル、アルキルエステル類、乳酸メチル、乳酸エチル、オキシ酢酸メチル、オキシ酢酸エチル、オキシ酢酸ブチル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、

３−オキシプロピオン酸メチル、３−オキシプロピオン酸エチル等の３−オキシプロピオン酸アルキルエステル類；３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、２−オキシプロピオン酸メチル、２−オキシプロピオン酸エチル、２−オキシプロピオン酸プロピル、２−メトキシプロピオン酸メチル、２−メトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシプロピオン酸プロピル、２−エトキシプロピオン酸メチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２−オキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−オキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、２−メトキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−エトキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、２−オキソブタン酸メチル、２−オキソブタン酸エチル等］が挙げられる。

上記エーテル類の溶剤としては、例えば、ジエチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールプロピルエーテルアセテート等）等が挙げられる。

上記ケトン類の溶剤としては、例えば、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、２−ヘプタノン、３−ヘプタノン等が挙げられ、上記芳香族炭化水素類の溶剤としては、例えばトルエン、キシレン等が挙げられる。

これらのうち、本発明の組成物に用いる溶剤としては、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、エチルセロソルブアセテート、乳酸エチル、ジエチレングリコールジメテルエーテル、酢酸ブチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、２−ヘプタノン、シクロヘキサノン、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート等が更に好ましい。

本発明の組成物には、必要に応じて各種添加物、例えば充填剤、上記以外の高分子化合物、界面活性剤、密着促進剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、凝集防止剤等を配合することかできる。

これらの添加物の具体例としては、ガラス、アルミナ等の充填剤；ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸、ポリエチレングリコールモノアルキルエーテル、ポリフロロアルキルアクリレート等の結着樹脂以外の高分子化合物；ノニオン系、カチオン系、アニオン系等の界面活性剤；ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（２−メトキシエトキシ）シラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等の密着促進剤；２，２−チオビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール等の酸化防止剤：２−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、アルコキシベンゾフェノン等の紫外線吸収剤；及びポリアクリル酸ナトリウム等の凝集防止剤を挙げることができる。

また、放射線未照射部のアルカリ溶解性を促進し、本発明の組成物の現像性を更に向上させる場合には、本発明の組成物に、有機カルボン酸（好ましくは分子量１０００以下の低分子量有機カルボン酸）の添加を行うことができる。上記有機カルボン酸の具体例とししては、例えば、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、ピバル酸、カプロン酸、ジエチル酢酸、エナント酸、カプリル酸等の脂肪族モノカルボン酸；シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ブラシル酸、メチルマロン酸、エチルマロン酸、ジメチルマロン酸、メチルコハク酸、テトラメチルコハク酸、シトラコン酸等の脂肪族ジカルボン酸；トリカルバリル酸、アコニット酸、カンホロン酸等の脂肪族トリカルボン酸；安息香酸、トルイル酸、クミン酸、ヘメリト酸、メシチレン酸等の芳香族モノカルボン酸；フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、トリメリト酸、トリメシン酸、メロファン酸、ピロメリト酸等の芳香族ポリカルボン酸；フェニル酢酸、ヒドロアトロパ酸、ヒドロケイ皮酸、マンデル酸、フェニルコハク酸、アトロパ酸、ケイ皮酸、ケイ皮酸メチル、ケイ皮酸ベンジル、シンナミリデン酢酸、クマル酸、ウンベル酸等のその他のカルボン酸が挙げられる。

《カラーフィルター》
本発明のカラーフィルターは本発明の組成物を用いて製造される。即ち、本発明のカラーフィルターは、前記一般式（Ｉ）で表される２価以上の金属の塩を含む着色剤と、（メタ）アクリルエステル系の重合性化合物と、光重合開始剤とを含む着色剤含有硬化性組成物を用いることを特徴とする。本発明のカラーフィルターは、本発明の組成物を基板上に回転塗布、流延塗布、ロール塗布等の塗布方法により塗布して感放射線性組成物層を形成し、所定のマスクパターンを介して露光し、現像液で現像し、着色されたパターンを形成することで製造することができる。また、本発明のカラーフィルターの製造方法は、必要により上記レジストパターンを加熱及び／又は露光により硬化する工程を含んでいてもよい。
この際に使用される放射線としては、特にｇ線、ｈ線、ｉ線等の紫外線が好ましく用いられる。

上記基板としては、例えば液晶表示素子等に用いられるソーダガラス、パイレックス（Ｒ）ガラス、石英ガラス及びこれらに透明導電膜を付着させたものや、撮像素子等に用いられる光電変換素子基板、例えばシリコン基板等や、相補性金属酸化膜半導体（ＣＭＯＳ）等が挙げられる。これらの基板は、各画素を隔離するブラックストライプが形成されている場合もある。
また、これらの基板上に必要により、上部の層との密着改良、物質の拡散防止あるいは基板表面の平坦化の為に、下塗り層を設けてもよい。

上記本発明のカラーフィルターの製造方法に用いる現像液としては、本発明の組成物を溶解し、一方、放射線照射部を溶解しない組成物であればいかなるものも用いることができる。具体的には種々の有機溶剤の組み合わせやアルカリ性の水溶液を用いることができる。
有機溶剤としては、本発明の組成物を調製する際に使用される前述の溶剤が挙げられる。

アルカリ性の水溶液としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム，硅酸ナトリウム、メタ硅酸ナトリウム、アンモニア水、エチルアミン、ジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、コリン、ピロール、ピペリジン、１，８−ジアザビシクロ−〔５．４．０〕−７−ウンデセン等のアルカリ性化合物を、濃度が０．００１〜１０質量％、好ましくは０．０１〜１質量％となるように溶解したアルカリ性水溶液が使用される。なお、このようなアルカリ性水溶液からなる現像液を使用した場合には、一般に、現像後、水で洗浄する。

また、本発明のカラーフィルターは、液晶表示素子やＣＣＤ等の固体撮像素子に用いることができ、特に１００万画素を超えるような高解像度のＣＣＤ素子やＣＭＯＳ素子等に好適である。本発明のカラーフィルターは、例えば、ＣＣＤを構成する各画素の受光部と集光するためのマイクロレンズとの間に配置されるカラーフィルターとして用いることができる。

本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はその主旨を越えない限り以下の実施例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」は質量基準である。

［合成例１］
（例示化合物（１）の合成）
下記スキーム１に従って上記例示化合物（１）を合成した。

上記化合物（Ａ）７．００ｇ、シクロヘキシルメチルブロマイド８．５４ｇ、ジメチルフォルムアミド（ＤＭＦ）２０ｇ、トリエチルアミン４．７２ｇを混合し、５０℃で６時間攪拌した。反応混合物を水にあけ、酢酸エチルで抽出し、酢酸エチル相を数回水洗した。次いで、酢酸エチル相に硫酸マグネシウム及び活性炭を加え、乾燥及び脱色し、セライト濾過した。濾過後、酢酸エチル相を濃縮し、ヘキサン／酢酸エチルから再結晶して上記化合物（Ｂ）６．８３ｇを得た（収率５９．５％）。

次に、ｏ−ニトロベンゼンスルホニルクロライド５．０１ｇとアセトン３０ｍｌとを混合して溶解し、得られた化合物（Ｂ）５．７３ｇを徐々に加え、５０℃に加温した後、２０％炭酸ナトリウム水溶液８．２２ｇを滴下した。滴下後、一時間攪拌し、７０℃に加温して更に一時間攪拌した。得られた反応混合物を水にあけ、酢酸エチルで抽出し、酢酸エチル相を４％硫酸水溶液で洗浄した。酢酸エチル相に硫酸マグネシウム及び活性炭を加え、乾燥及び脱色し、セライト濾過した。次いで、酢酸エチル相を濃縮し、上記化合物（Ｃ）８．５ｇを得た（収率８７％）。

次に還元鉄３．８ｇと酢酸２．４ｇと水７．２ｇとを混合し、８０℃で攪拌した。これに得られた化合物（Ｃ）（８．５ｇ）のジクロロベンゼン溶液を滴下し、８０℃で２時間攪拌した。更に炭酸ナトリウム１．３９ｇを加え８０℃で３０分攪拌した。次いでセライトと活性炭を加えセライトろ過した後、有機層を水蒸気蒸留して上記化合物（Ｄ）６．１６ｇを得た（収率７８％）。

次に、得られた化合物（Ｄ）３．３２ｇ、テトラエチルアンモニウムクロライド０．０８ｇ、酢酸２．５ｍｌ、及び、３６％塩酸３．８ｍｌを混合し、０℃に冷却した。これに亜硝酸ナトリウム水溶液（ＮａＮＯ₂：０．５８ｇ、水：１．７ｇ）を、内温を５℃以下に維持して滴下した。その後５〜１０℃を維持して３時間攪拌しジアゾ溶液を得た。
次いで、別途調製したγ酸のアルカリ水溶液（γ酸２．１１ｇ、水１６．５ｇ：ＮａＯＨ０．３５ｇ）に上記ジアゾ溶液を０℃で３０分かけて滴下した。更に、４０％酢酸ナトリウム水溶液５ｍｌを１時間かけて滴下した後、０℃で２時間攪拌した。次いで、１０％炭酸ナトリウム水溶液２０ｍｌを滴下し、一夜攪拌した。攪拌後、５０％ＮａＯＨ水溶液７．０ｇを滴下し、６５℃に加温して更に一時間攪拌した後、室温まで冷却した。得られた混合物をろ過し、アルカリ性の食塩水で洗浄して上記化合物（Ｅ）４．３ｇを得た（収率７７％）。

得られた化合物（Ｅ）１．６４ｇを、１２ｍｌのＭｅＯＨ（メタノール）に溶解し、この溶液に水２ｍｌを添加して攪拌した。次いで５ｇのＭｇＳＯ₄を添加して攪拌し、一晩放置した後、酢酸エチル１０ｍｌを添加した。添加後、ろ過によりＭｇＳＯ₄を除去し、ＭｅＯＨ溶液を濃縮して、例示化合物（１）の化合物を得た（収量１ｇ）。

［合成例２］
（例示化合物（１０）の合成）
合成例１において得られた化合物（Ｅ）６．０６ｇと、ＭｅＯＨ３０ｍｌと、３６％塩酸０．９ｇと、蒸留水６ｍｌとを混合し、溶解した。得られた溶液にＳｒ（ＯＨ）₂・８Ｈ₂Ｏを添加して３０分攪拌した。次いで、該溶液にアセトン４５０ｍｌ及び酢酸エチル４５０ｍｌを添加して無機塩を析出させた後、濾過し、アセトンで洗浄した。洗浄後、濾液を濃縮して、例示化合物（１０）の化合物を得た（収量５．０５ｇ）。

［実施例１］
１）レジスト溶液の調製
下記組成を混合して溶解し、レジスト溶液を調製した。
〔組成〕
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート １９．２０部
（ＰＧＭＥＡ）
・エチルラクテート ３０．００部
・シクロヘキサノン ６．６７部
・バインダー ３０．５１部
（（アリルメタクリレート／メタクリル酸）共重合体（モル比＝７７：２３）４１％ＰＧＭＥＡ溶液）
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート １２．２０部
・重合禁止剤（ｐ−メトキシフェノール） ０．００７５部
・フッ素系界面活性剤 ０．９５部
・光重合開始剤 ０．６００部
（２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）−１−［４−（フェニルチオ）フェニル］−１，２−オクタンジオン）

２）下塗り層付ガラス基板の作製
ガラス基板（コーニング１７３７）を１％ＮａＯＨ水で超音波洗浄した後、水洗、脱水ベーク（２００℃／３０分）を行った。
ついで上記１）のレジスト溶液を洗浄したガラス基板上に膜厚２μｍになるようにスピンコーターを用いて塗布し、２２０℃で１時間加熱乾燥し、硬化膜を得た。

３）着色剤含有レジスト溶液の調製
上記１）で得られたレジスト溶液９．４ｇと上記例示化合物（１）０．６ｇとを混合し溶解し着色剤含有レジスト溶液を得た。

４）着色剤含有レジストの露光・現像（画像形成）
上記３）で得られた着色剤含有レジスト溶液を、上記２）で得られた下塗り層付ガラス基板の下塗り層の上に膜厚が１．０μｍになるようにスピンコーターを用いて塗布し、１２０℃で１２０秒間プリベークした。
次いで、露光装置を使用して、塗布膜に３６５ｎｍの波長で２０μｍマスクを通して８００ｍＪ／ｃｍ²の露光量で照射した。露光後、現像液（商品名：ＣＤ−２０００、６０％溶液、富士フイルム・アーチ（株）製）を使用して、２６℃・６０秒間の条件で現像した。その後、流水で２０秒間リンスした後、スプレー乾燥し、画像を形成した。尚、画像形成は光学顕微鏡及びＳＥＭ写真観察により通常の方法で確認した。

〔評価〕
得られた画像について以下の評価をおこなった。結果を表１に示す。

（未露光部現像性・露光部残膜率）
色度計（商品名：ＭＣＰＤ−１０００、大塚電子（株）製）を用いて、得られた画像の未露光部現像性及び露光部残膜率を測定した。
ここで、「未露光部現像性」とは、現像前後での膜の吸光度値の変化率［％］をいい、ネガ型着色剤含有レジストの場合は、値の大きい方が現像性に優れることを示す。また、「露光部残膜率」とは、現像前後での膜の吸光度値の維持率［％］をいい、ネガ型着色剤含有レジストの場合は、値の大きい方がパターン形状が良好であることを示す。
即ち、未露光部現像性及び露光部残膜率がともに高い値であることは、ネガ型着色剤含有レジストの場合は、パターン形成性（現像性）が良好であることを意味する。
一方、ポジ型着色剤含有レジストの場合は、露光部残膜率及び未露光部現像性の値は小さい方がよい。即ち、ポジ型着色剤含有レジストの場合は、未露光部現像性及び露光部残膜率が共に低い値であるということは、パターン形成性が良いということを意味する。

（耐熱性）
着色剤含有レジスト溶液を塗布したガラス基板を、ホットプレートにより２００℃で１時間加熱した。その後、色度計（商品名：ＭＣＰＤ−１０００、大塚電子（株）製）にて、色度変化すなわちΔＥａｂ値を測定した。ΔＥａｂ値が小さいほど耐熱性が優れていることを意味する。

（耐光性）
染料レジスト溶液を塗布したガラス基板に対し、キセノンランプを２０万ｌｕｘで１０時間照射（２００万ｌｕｘ・ｈ相当）したのち、色度変化すなわちΔＥａｂ値を測定した
。ΔＥａｂ値が小さいほど耐光性が優れていることを意味する。

［実施例２〜７］
実施例１の３）着色剤含有レジスト溶液の調製において、着色剤を上記表１に示される化合物に変えた以外は実施例１と同様して画像を形成し、評価をおこなった。結果を実施例１と併せて下記表１に示す。

［実施例８〜１４］
実施例１〜７のガラス基板をシリコンウエハー基板に代えた以外は、全て同様の操作を行い、パターン画像を得た。未露光部現像性及び露光部の残膜率は実施例１〜７と同じ結果が得られた。
実施例８〜１４は基板としてシリコンウエハー基板を用いており、この点で実施例１〜７と異なるが、着色剤レジスト溶液は実施例１〜１４を通してすべて下塗り層上に塗布されているため、実質的に違いが生じることはなく、同じ諸性能が得られた。

［実施例１５］
実施例１の１）レジスト溶液の調製において、光重合開始剤を「ＴＡＺ−１０７」（みどり化学（株）製）に代えた以外は実施例１と同様にして画像を形成し、評価をおこなった。結果を実施例１と併せて下記表１に示す。

［実施例１６］
実施例１の１）レジスト溶液の調製において、光重合開始剤を２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−４−モルホリノブチロフェノンに代えた以外は実施例１と同様にして画像を形成し、評価をおこなった。結果を実施例１と併せて下記表１に示す。

［比較例１］
実施例１の３）着色剤含有レジスト溶液の調製において、着色剤を下記比較化合物に代えた以外に代えた以外は実施例１と同様にして画像を形成し、評価をおこなった。結果を実施例１と併せて表１に示す。

［実施例１８〜２１］
実施例１の３）着色剤含有レジスト溶液の調製において、着色剤を下記表１に示す着色剤に各々代えた以外は実施例１と同様にして画像を形成し、評価をおこなった。結果を実施例１と併せて表１に示す。

表１に示すように、従来、表１の諸性能を同時に満足することは困難であったが、本発明の「着色剤が２価以上の金属の塩を含むことを特徴とする着色剤含有硬化性組成物」を使用することによって、着色剤の耐熱性、耐光性に優れた性能を示す硬化性組成物を得ることができた。また、同時に、未露光部現像性及び、露光部の残膜率も向上させることができた。
また、表１の結果から明白であるように、従来の染料を用いた比較例１だと、未露光部現像性、露光部の残膜率、耐熱性、耐光性が劣る性能を示すことが明白となった。

Claims (7)

1. 下記一般式（Ｉ）で表される２価以上の金属の塩を含む着色剤と、（メタ）アクリルエステル系の重合性化合物と、光重合開始剤とを含む着色剤含有硬化性組成物。
   

   

   
   〔式中、Ｒ ^１ は、水素原子、炭素数１〜２１のアルキル基、炭素数１〜２１のアルコキシ基、又は電子吸引性の置換基を表す。Ｒ ^２ は、２価以上の金属原子のカチオンの１価分のカチオンを表す。ｎは０〜５の整数を表す。〕
2. 前記（メタ）アクリルエステル系の重合性化合物が４官能以上の（メタ）アクリルエステル系モノマーである請求項１に記載の着色剤含有硬化性組成物。
3. 前記光重合開始剤が、α−アミノケトン化合物、フォスフィンオキサイド系化合物、メタロセン化合物、オキシム系化合物、及びトリアリルイミダゾールダイマーからなる群より選ばれる化合物である請求項１または請求項２に記載の着色剤含有硬化性組成物。
4. さらに（メタ）アクリル系のアルカリ可溶性ポリマーを含む請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の着色剤含有硬化性組成物。
5. 前記（メタ）アクリル系のアルカリ可溶性ポリマーが、重合性側鎖を有するポリマーである請求項４に記載の着色剤含有硬化性組成物。
6. 請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の着色剤含有硬化性組成物を用いてなる着色パターンを有することを特徴とするカラーフィルター。
7. 請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の着色剤含有硬化性組成物を支持体上に塗布後、マスクを通して露光し、現像してパターン像を形成する工程を有することを特徴とするカラーフィルターの製造方法。