JP4255826B2 - 磁気記録媒体及び磁気記録媒体の製造方法並びに磁気記録再生装置 - Google Patents
磁気記録媒体及び磁気記録媒体の製造方法並びに磁気記録再生装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4255826B2 JP4255826B2 JP2003434826A JP2003434826A JP4255826B2 JP 4255826 B2 JP4255826 B2 JP 4255826B2 JP 2003434826 A JP2003434826 A JP 2003434826A JP 2003434826 A JP2003434826 A JP 2003434826A JP 4255826 B2 JP4255826 B2 JP 4255826B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic recording
- magnetic
- oxide
- tio
- underlayer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 title claims description 264
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 18
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 66
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 60
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 36
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 27
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 18
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 17
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 15
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 claims description 10
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 7
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 claims description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 108
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 23
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 22
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 17
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 14
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 14
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 14
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 14
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 11
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 9
- 229910019222 CoCrPt Inorganic materials 0.000 description 8
- 238000004833 X-ray photoelectron spectroscopy Methods 0.000 description 7
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 6
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 6
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 6
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 6
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 6
- 238000002149 energy-dispersive X-ray emission spectroscopy Methods 0.000 description 5
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 230000005381 magnetic domain Effects 0.000 description 3
- 239000010702 perfluoropolyether Substances 0.000 description 3
- 229910005435 FeTaN Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910001030 Iron–nickel alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 2
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 2
- 238000001941 electron spectroscopy Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 238000000192 extended X-ray absorption fine structure spectroscopy Methods 0.000 description 2
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 2
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 2
- 239000006249 magnetic particle Substances 0.000 description 2
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 2
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 2
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- 229910018979 CoPt Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000684 Cobalt-chrome Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910005335 FePt Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 230000005290 antiferromagnetic effect Effects 0.000 description 1
- 239000010952 cobalt-chrome Substances 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 230000004069 differentiation Effects 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 238000013467 fragmentation Methods 0.000 description 1
- 238000006062 fragmentation reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000005389 magnetism Effects 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000007670 refining Methods 0.000 description 1
- 238000005204 segregation Methods 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/0688—Cermets, e.g. mixtures of metal and one or more of carbides, nitrides, oxides or borides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/14—Metallic material, boron or silicon
- C23C14/18—Metallic material, boron or silicon on other inorganic substrates
- C23C14/185—Metallic material, boron or silicon on other inorganic substrates by cathodic sputtering
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/64—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent
- G11B5/65—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent characterised by its composition
- G11B5/658—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent characterised by its composition containing oxygen, e.g. molecular oxygen or magnetic oxide
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/73—Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer
- G11B5/7368—Non-polymeric layer under the lowermost magnetic recording layer
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/73—Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer
- G11B5/7368—Non-polymeric layer under the lowermost magnetic recording layer
- G11B5/7369—Two or more non-magnetic underlayers, e.g. seed layers or barrier layers
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/73—Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer
- G11B5/7368—Non-polymeric layer under the lowermost magnetic recording layer
- G11B5/7369—Two or more non-magnetic underlayers, e.g. seed layers or barrier layers
- G11B5/737—Physical structure of underlayer, e.g. texture
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/73—Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer
- G11B5/7368—Non-polymeric layer under the lowermost magnetic recording layer
- G11B5/7373—Non-magnetic single underlayer comprising chromium
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/73—Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer
- G11B5/7368—Non-polymeric layer under the lowermost magnetic recording layer
- G11B5/7377—Physical structure of underlayer, e.g. texture
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/68—Record carriers characterised by the selection of the material comprising one or more layers of magnetisable material homogeneously mixed with a bonding agent
- G11B5/70—Record carriers characterised by the selection of the material comprising one or more layers of magnetisable material homogeneously mixed with a bonding agent on a base layer
- G11B5/712—Record carriers characterised by the selection of the material comprising one or more layers of magnetisable material homogeneously mixed with a bonding agent on a base layer characterised by the surface treatment or coating of magnetic particles
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/85—Coating a support with a magnetic layer by vapour deposition
Description
また、記録層にTiO2を添加し、磁性結晶粒子がTiO2添加物によって取り囲まれたグラニュラ構造を有する磁気記録層を形成する方法もある(例えば、特許文献2参照)。
またTiO2は、熱安定性が高く、磁性結晶粒界へ十分に析出しないため、TiO2の一部が磁性結晶粒子と過飽和固溶体を形成し、これにより磁性結晶粒子の結晶性や配向性が乱され、R/W特性におけるSNRが低化するという問題があった。
(1)基板と、該基板上に形成された少なくとも一層の下地層と、該下地層上に形成され、磁性結晶粒子及び該磁性結晶粒子を取り囲む粒界領域とを有する磁気記録層とを具備してなり、前記粒界領域は、Tiの酸化物を含み、前記磁気記録層中の該Tiの酸化物の物質量の割合が5モル%以上15モル%以下であり、かつ前記Tiの酸化物としてTiO及び/またはTi2O3が少なくとも含有されてなることを特徴とする磁気記録媒体。
(2)前記Tiの酸化物としてTiO2が含まれ、該Tiの酸化物中のTiO2成分の割合が、90モル%以下であることを特徴とする前項1に記載の磁気記録媒体。
(3)前記磁性結晶粒子は、主成分としてCoを含有するとともにPt及びCrを含有し、かつ磁化容易軸が前記基板に対し垂直に配向されてなることを特徴とする前項1または前項2に記載の磁気記録媒体。
(4)前記下地層の少なくとも一層に、Ru、Rh、Pt、Pdの内より選択される少なくとも一種の元素を主成分とする非磁性結晶粒子が含まれていることを特徴とする前項1ないし前項3のいずれかに記載の磁気記録媒体。
(5)前記下地層が、Ru、Rh、Pt、Pdの内より選択される少なくとも一種の元素を主成分とする非磁性結晶粒子と、該非磁性結晶粒子を取り囲む粒界領域とから構成され、該粒界領域は、Si、Cr、Tiの内より選択される少なくとも1種の元素の酸化物を含むことを特徴とする前項1ないし前項4のいずれかに記載の磁気記録媒体。
(6)前記下地層中の前記酸化物の物質量の割合が1モル%以上15モル%以下であることを特徴とする前項5に記載の磁気記録媒体。
(7)前記下地層に含まれる前記酸化物がTiの酸化物であり、かつTiの酸化物としてTiO及び/またはTi2O3が少なくとも含有されていることを特徴とする前項5または前項6に記載の磁気記録媒体。
(8)前記下地層に含まれる前記Tiの酸化物としてTiO2が含まれ、該Tiの酸化物中のTiO2成分の割合が、90モル%以下であることを特徴とする前項7に記載の磁気記録媒体。
(9)下地層が形成された基板を用意し、該下地層上に、磁性結晶粒子材料と、TiO及び/またはTi2O3を含む材料とを蒸着することにより、磁性結晶粒子と、該磁性結晶粒子を取り囲む粒界領域とを有する磁気記録層を形成する工程を含み、前記磁気記録層中の粒界領域は、Tiの酸化物を含み、該Tiの酸化物の物質量の割合が、5モル%以上15モル%以下であることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
(10)前記磁気記録層に含まれる前記Tiの酸化物としてTiO2が含まれ、該Tiの酸化物中のTiO2成分の割合が、90モル%以下であることを特徴とする前項9に記載の磁気記録媒体の製造方法。
(11)前記磁気記録層に含まれる前記磁性結晶粒子が、主成分としてCoを含有するとともにPt及びCrを含有し、かつ磁化容易軸が基板に対し垂直に配向していることを特徴とする前項9ないし前項10のいずれかに記載の磁気記録媒体の製造方法。
(12)前記下地層の少なくとも一層が、Ru、Rh、Pt、Pdの内より選択される少なくとも一種の元素を主成分とする非磁性結晶粒子を含むことを特徴とする前項9ないし前項11のいずれかに記載の磁気記録媒体の製造方法。
(13)前記下地層の少なくとも一層が、Ru、Rh、Pt、Pdの内より選択される少なくとも一種の元素を主成分とする非磁性結晶粒子と、該非磁性結晶粒子を取り囲む粒界領域から構成され、該粒界領域は、Si、Cr、Tiの内より選択される少なくとも1種の元素の酸化物を含むことを特徴とする前項9ないし前項12のいずれかに記載の磁気記録媒体の製造方法。
(14)前記下地層に含まれる前記酸化物の物質量の割合が1モル%以上15モル%以下であることを特徴とする前項13に記載の磁気記録媒体の製造方法。
(15)前記下地層に含まれる前記酸化物がTiの酸化物であり、かつTiの酸化物としてTiO及び/またはTi2O3を含有することを特徴とする前項13または14に記載の磁気記録媒体の製造方法。
(16)下地層に含まれる前記Tiの酸化物としてTiO2が含まれ、該Tiの酸化物中のTiO2成分の割合が、90モル%以下であることを特徴とする前項15に記載の磁気記録媒体の製造方法。
(17)前項1ないし前項8のいずれかに記載の磁気記録媒体と記録再生ヘッドとを具備することを特徴とする磁気記録再生装置。
(18)前記記録再生ヘッドが単磁極記録ヘッドであることを特徴とする前項17に記載の磁気記録再生装置。
Tiの酸化物には、酸化数の低いものから順にTiO、Ti2O3、TiO2などの存在が知られているが、このうち酸化数4のTiO2が常温・大気下で最も熱力学的に安定な相であり、酸化数の小さいTiOやTi2O3はTiO2に比べて不安定な相である。従って、酸素が存在する雰囲気中では下記の化学反応式において、化学反応は右辺側に進行する。
Ti2O3 + 1/2O2 = 2TiO2
なお、磁性層中のTiの酸化物の物質量の割合は、例えば透過型電子顕微鏡を用いたエネルギー分散型X線分光分析法(TEM−EDX)や、X線光電子分光法(XPS)、オージェ電子分光法(AES)等で分析することができる。
なお、Tiの酸化物中のTiO2成分の割合は、例えばXPSやX線吸収広域連続微細構造(EXAFS)、X線吸収端近傍微細構造(XANES)等によって分析することができる。
[第1の実施形態]
図1には、第1の実施形態である磁気記録再生装置の一例を一部分解した斜視図を示し、図2には図1の磁気記録再生装置に備えられた磁気ディスク(磁気記録媒体)の一例の断面模式図を示し、図3には磁気ディスク(磁気記録媒体)の別の例の断面模式図を示し、図4には磁気ディスク(磁気記録媒体)の他の例の断面模式図を示す。
筐体61内には、本発明に係る磁気記録媒体からなる磁気ディスク62と、この磁気ディスク62を支持及び回転させる駆動手段としてのスピンドルモータ63と、磁気ディスク62に対して磁気信号の記録及び再生を行う磁気ヘッド64と、磁気ヘッド64を先端に搭載したサスペンションを有し且つ磁気ヘッド64を磁気ディスク62に対して移動自在に支持するヘッドアクチュエータ65と、ヘッドアクチュエータ65を回転自在に支持する回転軸66と、回転軸66を介してヘッドアクチュエータ65を回転及び位置決めするボイスコイルモータ67と、ヘッドアンプ回路68とが収納されている。
第2下地層13と基板11との間に軟磁性層12を設けることにより、軟磁性層12上に垂直磁気記録層を有するいわゆる垂直二層媒体が構成される。この軟磁性層12は、単磁極ヘッドからの記録磁界を水平方向に通して磁気ヘッド側へ還流させるという磁気ヘッドの機能の一部を担っている。
磁性結晶粒子は、主成分としてCoを含有するとともにPt及びCrを含有し、かつ磁化容易軸が前記基板に対し垂直に配向されてなるものである。この磁性結晶粒子を構成するCoPtCr系合金は、高い結晶磁気異方性エネルギーを有しているため熱揺らぎ耐性が高く、本発明の磁気記録媒体に用いて好適である。これらの合金系に、磁気特性を改善する目的で、必要に応じてTaやCu、Bといった添加元素を加えることもできる。より好ましくは、CoCrPt、CoCrPtB、CoCrPtTa、CoCrPtNd、CoCrPtCu等があげられる。
さらに、Tiの酸化物中のTiO2成分の割合が90モル%を超えると、TiO2のみを添加した場合に比べてR/W特性におけるSNRの顕著な向上効果が現れないので好ましくない。
図5には、本発明の第2の実施形態である磁気ディスク72(磁気記録媒体)の断面模式図を示す。
本実施形態の磁気ディスク72(磁気記録媒体)は、基板11と、基板11上に積層された軟磁性層12と、軟磁性層12上に積層された第2下地層(下地層)13と、第2下地層13に積層された第1下地層24(下地層)と、第1下地層24に積層された磁気記録層15と、磁気記録層15に積層された保護層16とから構成されている。
また、Tiの酸化物中のTiO2成分の割合は、90モル%以下であればR/W特性におけるSNR向上効果みられて好ましく、40モル%ないし60モル%であればSNR向上効果がさらに顕著であるためより好ましい。
(実施例1)
2.5インチハードディスク形状の非磁性ガラス基板を用意した。
次に、スパッタリング装置の真空チャンバ内を2×10−5Pa以下に排気した後、0.67PaのAr雰囲気とし、Co84Zr6Nb10ターゲットを使用して、厚さ200nmのCo84Zr6Nb10からなる軟磁性層を積層した。次に、Taターゲットを使用して厚さ8nmのTa層からなる第2下地層を形成した。その後、3PaのAr雰囲気中で、Ruターゲットを使用して厚さ15nmのRu層からなる第1下地層を積層した。
媒体SNRとして微分回路を通した後の微分波形の信号ノイズ比(SNRm)(但し、Sは線記録密度119kfciの出力、Nmは716kfciでのrms(root mean square)値)の値を、また、記録分解能の指標として、微分波形の半値幅dPW50を評価した。
磁気記録層中の各酸化物の組成は、加速電圧400kVのTEM−EDXを用いて分析した。また、磁気記録層中のTiO、Ti2O3、TiO2の比は、XPSによって得られたそれぞれの相に対応するエネルギーの位置にあるピークの積分強度を比較することで同定した。
下記表1に、x=0.08で各添加材料を添加した場合のSNRm値及びdPW50値を示す。
また、図6に、TiO添加の場合について、添加量xとSNRm値の関係を表すグラフを示す。添加量が5モル%から15モル%の場合、SNRmが向上して、好ましいことが分かった。
また、図7に、添加材料がTiOの場合について、添加量xが0.08の場合について、(TiO+Ti2O3+TiO2):TiO2の比を(1−y):yとして、yとSNRm値の関係を示す。yが0.9以下の場合、SNRmが向上して、好ましいことが分かった。
更に、添加材料がTiOの場合について、x=0.08、y=0.6のものについてTEMを用いて磁気記録層部分の微細構造を観察した。その結果、磁性結晶粒子部分と結晶粒界部分が明確に観察され、磁性結晶粒子を母材が取り囲むグラニュラ構造が形成されていることが分かった。
まず、2.5インチハードディスク形状の非磁性ガラス基板を用意した。
次に、スパッタリング装置の真空チャンバ内を2×10―5Pa以下に排気した後、0.67PaのAr雰囲気とし、実施例1と同様にして、厚さ200nmのCo84Zr6Nb10なる組成の軟磁性層、厚さ8nmのTa層からなる第2下地層を形成した。
次に、真空チャンバ内を3PaのAr雰囲気とし、SiO2、Cr2O3、TiO、TiO2のうちのいずれかと、Ruとを混合したコンポジットターゲットを使用し、厚さ15nmの第1下地層を積層した。
作製した磁気記録媒体について、実施例1と同様の方法で各特性を評価した。a=0.09の場合について、各酸化物を用いた場合のSNRm値及びdPW50値を下記表4に示す。
図8に、第1下地層への添加材料がTiOの場合について、添加量aとSNRm値の関係を示す。添加量aが0.01から0.2の範囲の場合、SNRmが向上して、さらに好ましいことが分かった。第1下地層への添加材料をSiO2、Cr2O3、TiO2とした場合においても同様の傾向が見られた。
また、図9に、第1下地層への添加材料がTiOの場合について、a=0.09の場合の、TiO2成分の割合bとSNRmの関係を示す。bが0.9以下の場合、SNRmが向上して、好ましいことが分かった。
Claims (18)
- 基板と、該基板上に形成された少なくとも一層の下地層と、該下地層上に形成され、磁性結晶粒子及び該磁性結晶粒子を取り囲む粒界領域とを有する磁気記録層とを具備してなり、
前記粒界領域は、Tiの酸化物を含み、前記磁気記録層中の該Tiの酸化物の物質量の割合が5モル%以上15モル%以下であり、かつ前記Tiの酸化物としてTiO及び/またはTi2O3が少なくとも含有されてなることを特徴とする磁気記録媒体。 - 前記Tiの酸化物としてTiO2が含まれ、該Tiの酸化物中のTiO2成分の割合が、90モル%以下であることを特徴とする請求項1に記載の磁気記録媒体。
- 前記磁性結晶粒子は、主成分としてCoを含有するとともにPt及びCrを含有し、かつ磁化容易軸が前記基板に対し垂直に配向されてなることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の磁気記録媒体。
- 前記下地層の少なくとも一層に、Ru、Rh、Pt、Pdの内より選択される少なくとも一種の元素を主成分とする非磁性結晶粒子が含まれていることを特徴とする請求項1ないし請求項3のいずれかに記載の磁気記録媒体。
- 前記下地層が、Ru、Rh、Pt、Pdの内より選択される少なくとも一種の元素を主成分とする非磁性結晶粒子と、該非磁性結晶粒子を取り囲む粒界領域とから構成され、該粒界領域は、Si、Cr、Tiの内より選択される少なくとも1種の元素の酸化物を含むことを特徴とする請求項1ないし請求項4のいずれかに記載の磁気記録媒体。
- 前記下地層中の前記酸化物の物質量の割合が1モル%以上15モル%以下であることを特徴とする請求項5に記載の磁気記録媒体。
- 前記下地層に含まれる前記酸化物がTiの酸化物であり、かつTiの酸化物としてTiO及び/またはTi2O3が少なくとも含有されていることを特徴とする請求項5または請求項6に記載の磁気記録媒体。
- 前記下地層に含まれる前記Tiの酸化物としてTiO2が含まれ、該Tiの酸化物中のTiO2成分の割合が、90モル%以下であることを特徴とする請求項7に記載の磁気記録媒体。
- 下地層が形成された基板を用意し、該下地層上に、磁性結晶粒子材料と、TiO及び/またはTi2O3を含む材料とを蒸着することにより、磁性結晶粒子と、該磁性結晶粒子を取り囲む粒界領域とを有する磁気記録層を形成する工程を含み、
前記磁気記録層中の粒界領域は、Tiの酸化物を含み、該Tiの酸化物の物質量の割合が、5モル%以上15モル%以下であることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 - 前記磁気記録層に含まれる前記Tiの酸化物としてTiO2が含まれ、該Tiの酸化物中のTiO2成分の割合が、90モル%以下であることを特徴とする請求項9に記載の磁気記録媒体の製造方法。
- 前記磁気記録層に含まれる前記磁性結晶粒子が、主成分としてCoを含有するとともにPt及びCrを含有し、かつ磁化容易軸が基板に対し垂直に配向していることを特徴とする請求項9ないし請求項10のいずれかに記載の磁気記録媒体の製造方法。
- 前記下地層の少なくとも一層が、Ru、Rh、Pt、Pdの内より選択される少なくとも一種の元素を主成分とする非磁性結晶粒子を含むことを特徴とする請求項9ないし請求項11のいずれかに記載の磁気記録媒体の製造方法。
- 前記下地層の少なくとも一層が、Ru、Rh、Pt、Pdの内より選択される少なくとも一種の元素を主成分とする非磁性結晶粒子と、該非磁性結晶粒子を取り囲む粒界領域から構成され、該粒界領域は、Si、Cr、Tiの内より選択される少なくとも1種の元素の酸化物を含むことを特徴とする請求項9ないし請求項12のいずれかに記載の磁気記録媒体の製造方法。
- 前記下地層に含まれる前記酸化物の物質量の割合が1モル%以上15モル%以下であることを特徴とする請求項13に記載の磁気記録媒体の製造方法。
- 前記下地層に含まれる前記酸化物がTiの酸化物であり、かつTiの酸化物としてTiO及び/またはTi2O3を含有することを特徴とする請求項13または14のいずれか1項に記載の磁気記録媒体の製造方法。
- 下地層に含まれる前記Tiの酸化物としてTiO2が含まれ、該Tiの酸化物中のTiO2成分の割合が、90モル%以下であることを特徴とする請求項15に記載の磁気記録媒体の製造方法。
- 請求項1ないし請求項8のいずれかに記載の磁気記録媒体と記録再生ヘッドとを具備することを特徴とする磁気記録再生装置。
- 前記記録再生ヘッドが単磁極記録ヘッドであることを特徴とする請求項17に記載の磁気記録再生装置。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003434826A JP4255826B2 (ja) | 2003-12-26 | 2003-12-26 | 磁気記録媒体及び磁気記録媒体の製造方法並びに磁気記録再生装置 |
CNB2004800383889A CN100505045C (zh) | 2003-12-26 | 2004-12-24 | 磁记录介质及其制造方法和磁读/写装置 |
PCT/JP2004/019781 WO2005064597A1 (en) | 2003-12-26 | 2004-12-24 | Magnetic recording medium, manufacturing method for the magnetic recording medium, and magnetic read/write apparatus |
US10/583,951 US7781081B2 (en) | 2003-12-26 | 2004-12-24 | Magnetic recording medium, manufacturing method for the magnetic recording medium, and magnetic read/write apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003434826A JP4255826B2 (ja) | 2003-12-26 | 2003-12-26 | 磁気記録媒体及び磁気記録媒体の製造方法並びに磁気記録再生装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005196813A JP2005196813A (ja) | 2005-07-21 |
JP4255826B2 true JP4255826B2 (ja) | 2009-04-15 |
Family
ID=34815138
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003434826A Expired - Lifetime JP4255826B2 (ja) | 2003-12-26 | 2003-12-26 | 磁気記録媒体及び磁気記録媒体の製造方法並びに磁気記録再生装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7781081B2 (ja) |
JP (1) | JP4255826B2 (ja) |
CN (1) | CN100505045C (ja) |
WO (1) | WO2005064597A1 (ja) |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3947771B2 (ja) * | 2004-10-05 | 2007-07-25 | 独立行政法人科学技術振興機構 | 磁気記録媒体 |
JP2006164440A (ja) * | 2004-12-09 | 2006-06-22 | Fuji Electric Device Technology Co Ltd | 垂直磁気記録媒体および磁気記録装置 |
US8592061B2 (en) | 2006-09-29 | 2013-11-26 | Wd Media (Singapore) Pte. Ltd. | Magnetic recording medium with controlled grain diameters |
JP2008090917A (ja) * | 2006-09-30 | 2008-04-17 | Hoya Corp | 磁気記録媒体製造用スパッタリングターゲット、及び垂直磁気記録媒体の製造方法並びに垂直磁気記録媒体 |
JP5174474B2 (ja) * | 2008-01-18 | 2013-04-03 | 昭和電工株式会社 | 磁気記録媒体の製造方法 |
US20090190267A1 (en) * | 2008-01-25 | 2009-07-30 | Xiaoping Bian | RuTi AS A SEED LAYER IN PERPENDICULAR RECORDING MEDIA |
JP5245734B2 (ja) * | 2008-11-07 | 2013-07-24 | 富士電機株式会社 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
US8722214B2 (en) | 2008-12-22 | 2014-05-13 | Seagate Technology Llc | Hybrid grain boundary additives in granular media |
US8268462B2 (en) * | 2008-12-22 | 2012-09-18 | Seagate Technology Llc | Hybrid grain boundary additives |
US9412404B2 (en) * | 2009-12-15 | 2016-08-09 | HGST Netherlands B.V. | Onset layer for perpendicular magnetic recording media |
JP5561766B2 (ja) | 2010-02-04 | 2014-07-30 | 昭和電工株式会社 | 熱アシスト磁気記録媒体及び磁気記憶装置 |
JP6261399B2 (ja) * | 2014-03-17 | 2018-01-17 | 株式会社神戸製鋼所 | 磁気記録媒体用アルミニウム基板 |
US11900978B1 (en) | 2022-08-11 | 2024-02-13 | Western Digital Technologies, Inc. | Magnetic recording medium with underlayer configured to reduce diffusion of titanium into a magnetic recording layer |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07254242A (ja) | 1994-03-16 | 1995-10-03 | Hitachi Ltd | ヘッド切り換え制御装置 |
JPH09102419A (ja) | 1995-10-03 | 1997-04-15 | Asahi Komagu Kk | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
JP3522944B2 (ja) | 1996-01-26 | 2004-04-26 | 株式会社東芝 | 磁気記録媒体 |
JP2001043526A (ja) | 1999-05-26 | 2001-02-16 | Fuji Electric Co Ltd | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
JP2001291230A (ja) * | 2000-03-31 | 2001-10-19 | Sony Corp | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
JP2002025032A (ja) | 2000-06-30 | 2002-01-25 | Sony Corp | 磁気記録媒体 |
JP2002083411A (ja) | 2000-06-30 | 2002-03-22 | Sony Corp | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
JP2002222517A (ja) | 2001-01-25 | 2002-08-09 | Sony Corp | 磁気記録媒体 |
US7056606B2 (en) | 2001-02-28 | 2006-06-06 | Showa Denko K.K. | Magnetic recording medium, method manufacture therefor, and apparatus for magnetic reproducing and reproducing recordings |
JP2002358615A (ja) | 2001-02-28 | 2002-12-13 | Showa Denko Kk | 磁気記録媒体、その製造方法、および磁気記録再生装置 |
US6699600B2 (en) * | 2001-02-28 | 2004-03-02 | Showa Denko K.K. | Magnetic recording medium, method of manufacture therefor, and apparatus for magnetic recording and reproducing recordings |
JP2002342908A (ja) * | 2001-05-14 | 2002-11-29 | Sony Corp | 磁気記録媒体とその製造方法 |
JP4175829B2 (ja) * | 2002-04-22 | 2008-11-05 | 株式会社東芝 | 記録媒体用スパッタリングターゲットと磁気記録媒体 |
JP3639281B2 (ja) | 2003-03-28 | 2005-04-20 | 株式会社日立製作所 | 磁気記録媒体 |
WO2004090874A1 (en) * | 2003-04-07 | 2004-10-21 | Showa Denko K. K. | Magnetic recording medium, method for producing thereof, and magnetic recording and reproducing apparatus. |
US7192664B1 (en) * | 2003-06-24 | 2007-03-20 | Seagate Technology Llc | Magnetic alloy containing TiO2 for perpendicular magnetic recording application |
-
2003
- 2003-12-26 JP JP2003434826A patent/JP4255826B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
2004
- 2004-12-24 CN CNB2004800383889A patent/CN100505045C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2004-12-24 US US10/583,951 patent/US7781081B2/en active Active
- 2004-12-24 WO PCT/JP2004/019781 patent/WO2005064597A1/en active Application Filing
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN1898726A (zh) | 2007-01-17 |
JP2005196813A (ja) | 2005-07-21 |
US20070148500A1 (en) | 2007-06-28 |
CN100505045C (zh) | 2009-06-24 |
US7781081B2 (en) | 2010-08-24 |
WO2005064597A1 (en) | 2005-07-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4213001B2 (ja) | 垂直磁気記録媒体、及び磁気記録再生装置 | |
JP4751344B2 (ja) | 垂直磁気記録媒体、及び磁気記録再生装置 | |
JP2008287829A (ja) | 垂直磁気記録媒体 | |
JP2005276367A (ja) | 垂直磁気記録媒体及び磁気記録再生装置 | |
JP2008140460A (ja) | 垂直磁気記録媒体及び磁気記録再生装置 | |
JP2006155861A (ja) | 垂直磁気記録媒体及びその製造方法並びに磁気記録再生装置 | |
JP4874526B2 (ja) | 磁気記録媒体及び磁気記録媒体の製造法、並びに磁気記録再生装置 | |
JP4557880B2 (ja) | 磁気記録媒体及び磁気記録再生装置 | |
JP4255826B2 (ja) | 磁気記録媒体及び磁気記録媒体の製造方法並びに磁気記録再生装置 | |
JP4188196B2 (ja) | 垂直磁気記録媒体、その製造方法、及びこれを用いた磁気記録再生装置 | |
JP2005276364A (ja) | 磁気記録媒体及びその製造法、並びにそれを用いた磁気記録再生装置 | |
JP4585214B2 (ja) | 磁気記録媒体及びそれを用いた磁気記録再生装置 | |
US7141316B2 (en) | Perpendicular magnetic recording medium and magnetic recording/reproducing apparatus | |
JP2007317255A (ja) | 垂直磁気記録媒体の製造方法及び垂直磁気記録媒体と磁気記録再生装置 | |
JP3725132B2 (ja) | 垂直磁気記録媒体、及びこれを用いた磁気記録再生装置 | |
JP4951075B2 (ja) | 磁気記録媒体及びその製造法、並びにそれを用いた磁気記録再生装置 | |
JP2007052852A (ja) | 垂直磁気記録媒体及び磁気記録再生装置 | |
JP2004127502A (ja) | 磁気記録媒体 | |
JP2008276863A (ja) | 垂直磁気記録媒体、その製造方法及び磁気記録装置 | |
KR100935147B1 (ko) | 수직 자기 기록 매체, 그 제조 방법 및 자기 기록 장치 | |
JP4746701B2 (ja) | 磁気記録媒体及び磁気記録媒体の製造法、並びに磁気記録再生装置 | |
JP2000163732A (ja) | 磁気記録媒体及びその製造方法 | |
JP5075993B2 (ja) | 垂直磁気記録媒体、及び磁気記録再生装置 | |
WO2005034095A1 (en) | Perpendicular magnetic recording medium, manufacturing method therefor, and magnetic read/write apparatus using the same | |
JP2009026408A (ja) | 垂直磁気記録媒体および垂直磁気記録媒体の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20061113 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20081021 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20081219 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090120 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090128 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120206 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4255826 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120206 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150206 Year of fee payment: 6 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313115 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |