JP4209773B2 - 半導体装置及びその製造方法並びに無線通信装置 - Google Patents
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- H01L2224/44—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
- H01L2224/45—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/45001—Core members of the connector
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- H01L2224/45138—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
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- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
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- H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/48225—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
- H01L2224/48227—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation connecting the wire to a bond pad of the item
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- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
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- H01L2224/48638—Principal constituent of the connecting portion of the wire connector being Gold (Au) with a principal constituent of the bonding area being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
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- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/485—Material
- H01L2224/48505—Material at the bonding interface
- H01L2224/48599—Principal constituent of the connecting portion of the wire connector being Gold (Au)
- H01L2224/486—Principal constituent of the connecting portion of the wire connector being Gold (Au) with a principal constituent of the bonding area being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
- H01L2224/48638—Principal constituent of the connecting portion of the wire connector being Gold (Au) with a principal constituent of the bonding area being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
- H01L2224/48647—Copper (Cu) as principal constituent
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- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/49—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
- H01L2224/491—Disposition
- H01L2224/4911—Disposition the connectors being bonded to at least one common bonding area, e.g. daisy chain
- H01L2224/49113—Disposition the connectors being bonded to at least one common bonding area, e.g. daisy chain the connectors connecting different bonding areas on the semiconductor or solid-state body to a common bonding area outside the body, e.g. converging wires
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- H01L2224/732—Location after the connecting process
- H01L2224/73251—Location after the connecting process on different surfaces
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- H01L2224/757—Means for aligning
- H01L2224/75743—Suction holding means
- H01L2224/75745—Suction holding means in the upper part of the bonding apparatus, e.g. in the bonding head
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- H01L2224/81—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a bump connector
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- H01L2224/92242—Sequential connecting processes the first connecting process involving a layer connector
- H01L2224/92247—Sequential connecting processes the first connecting process involving a layer connector the second connecting process involving a wire connector
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- H01L24/44—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
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- H01L24/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L24/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
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- H01L2924/097—Glass-ceramics, e.g. devitrified glass
- H01L2924/09701—Low temperature co-fired ceramic [LTCC]
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- H01L2924/1016—Shape being a cuboid
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- H01L2924/1025—Semiconducting materials
- H01L2924/1026—Compound semiconductors
- H01L2924/1032—III-V
- H01L2924/10329—Gallium arsenide [GaAs]
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- H01L2924/1204—Optical Diode
- H01L2924/12041—LED
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- H01L2924/1304—Transistor
- H01L2924/1305—Bipolar Junction Transistor [BJT]
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- H01L2924/13—Discrete devices, e.g. 3 terminal devices
- H01L2924/1304—Transistor
- H01L2924/1305—Bipolar Junction Transistor [BJT]
- H01L2924/13055—Insulated gate bipolar transistor [IGBT]
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- H01L2924/11—Device type
- H01L2924/13—Discrete devices, e.g. 3 terminal devices
- H01L2924/1304—Transistor
- H01L2924/1306—Field-effect transistor [FET]
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- H01L2924/11—Device type
- H01L2924/13—Discrete devices, e.g. 3 terminal devices
- H01L2924/1304—Transistor
- H01L2924/1306—Field-effect transistor [FET]
- H01L2924/13064—High Electron Mobility Transistor [HEMT, HFET [heterostructure FET], MODFET]
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- H01L2924/1515—Shape
- H01L2924/15151—Shape the die mounting substrate comprising an aperture, e.g. for underfilling, outgassing, window type wire connections
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- H01L2924/151—Die mounting substrate
- H01L2924/1515—Shape
- H01L2924/15153—Shape the die mounting substrate comprising a recess for hosting the device
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- H01L2924/151—Die mounting substrate
- H01L2924/1517—Multilayer substrate
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- H01L2924/151—Die mounting substrate
- H01L2924/153—Connection portion
- H01L2924/1531—Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface
- H01L2924/15313—Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface being a land array, e.g. LGA
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Description
本発明は、半導体装置及びその製造方法並びに無線通信装置に係わり、例えば、複数の半導体増幅素子(トランジスタ)を多段に縦続接続した多段増幅器(高周波電力増幅装置:高周波電力増幅モジュール)及びその高周波電力増幅装置を組み込んだ携帯電話機等の無線通信装置に適用して有効な技術に関する。
背景技術
自動車電話機,携帯電話機等の無線通信装置に用いられる高周波電力増幅装置は、トランジスタ(半導体増幅素子)で構成される複数の増幅器を、2段または3段等多段に縦続接続した多段構成となっている。多段増幅器の最終段の増幅器(最終増幅段)は出力段となり、その前の各段の増幅器(増幅段)は駆動段となる。また、回路インピーダンス調整のために、各所にインダクタが組み込まれている。
この種の高周波電力増幅については、特開平9−283700号公報や特開平10−70159号公報に記載されている。特開平9−283700号公報には、ガラスを主成分とする多層基板の上面に設けた開口部の底に電力用トランジスタ(半導体チップ:ベアチップ状態)を固定した高周波用電力増幅器が開示されている。前記電力用トランジスタの周面と開口部の内側壁面との間には隙間が存在している。従って、電力用トランジスタ(半導体チップ)は内側壁によって固定位置を規定されることもない。
また、特開平10−70159号公報には、プリント回路基板の主面に設けた開口部の底に半導体チップを搭載した高周波モジュールの製造技術について記載されている。この例でも半導体チップは開口部の内側壁に接触することなく、内側壁によって固定位置を規定されることがない。
一方、半導体チップを所定箇所に位置決め固定する技術としては、特開平5−13474号公報、特開平9−148623号公報に開示された技術がある。
特開平5−13474号公報記載の技術は、ダイパッド上に、その上に搭載するダイと相似形でかつひと回り小さい面積のメッキを施し、これにロー材とダイを載せて位置精度高く接着する技術である。
特開平9−148623号公報記載の技術は、実装用基板上に光受発光素子を固定する際、基準面から実装される光受発光素子の光軸までの高さを超高精度に実装するため、光受発光素子と同じ大きさの多層の金属層を実装用基板上面に設けておき、加熱して光受発光素子を固定する技術である。
また、特開平5−114800号公報には、実装基板に設けた矩形状の凹部に半導体チップを搭載するに際して、超音波による微小振動を印加して位置決め固定する技術が開示されている。しかし、この技術は凹部の内側壁を傾斜させ、この傾斜面を利用して半導体チップを移動させたり、あるいは半導体チップと凹部の側面(内側壁)との間に挿入した所定の表面張力を有する部材の前記表面張力を利用して半導体チップの位置決めを行う技術であり、凹部の内側壁で直接半導体チップの固定位置を規定する技術ではない。
高周波電力増幅装置は携帯電話機の増幅器として使用されている。携帯電話機に組み込まれる高周波電力増幅装置(高周波電力増幅モジュール)は、通常2個または3個のトランジスタ(半導体増幅素子)を多段に縦続接続した多段構成の増幅器(多段増幅器)が採用されている。トランジスタの各電極と、モジュール基板のマイクロストリップライン等の配線は導電性のワイヤによって接続されている。
高周波電力増幅モジュールの製造における半導体チップの固定のためのチップ供給は、一般にチップボンディング装置によって行われる。チップの固定位置精度はチップボンディング装置の精度、またはチップ供給後の半田リフローによって決まる。
いずれにしても半導体チップの固定位置の精度は、チップボンディング装置等による半導体チップの供給精度に影響されることになる。
半導体チップの固定位置のバラツキは、その後に行う半導体チップ表面の電極と配線とを電気的に接続するワイヤのワイヤ長のバラツキとなって現れることになる。
従来、高周波電力増幅モジュールにおける各トランジスタ(半導体チップ)は、所定箇所に高精度にチップボンディングすることのみに配慮されていた。そして、高精度な半導体チップの固定によってワイヤ長も設計値通りになると考えられていた。
しかし、携帯電話機等高効率で高出力が要求される無線通信装置においては、このようなチップボンディング装置の性能のみに依存する半導体チップの固定技術では充分でないことが判明した。即ち、多段増幅器からなる高周波電力増幅モジュールにおいて、最終増幅段を構成するトランジスタの出力端子(例えば、電界効果トランジスタの場合はドレイン電極、バイポーラトランジスタの場合はコレクタ電極)と配線との接続長さ(ワイヤ長)のバラツキは、寄生インダクタンスのバラツキとなり、出力及び効率の変動となって現れることが判明した。
また、最終段トランジスタの出力端子と配線を接続するワイヤの長さは寄生インダクタンスの低減から短いことが望まれる。
図25は本発明に先立つワイヤボンディング部分の検討課題を示す模式的断面図である。図25に示すように、積層法で製造したセラミック配線基板70では、セラミック配線基板70の主面(上面)に設けた窪み71の縁は、その製造時だれが発生して、傾斜面や円弧面となり、ワイヤを接続するためのボンディングパッドを設けてもその表面が傾斜面や円弧面となることからワイヤボンディングの接続性が低下することが多い。
即ち、セラミック配線基板70は、例えば、導体層の印刷を含みパターニングされた複数の未焼成基板(グリーンシート)を重ねてプレスした後、加熱焼成して焼成セラミック板とする。この焼成時、窪み71の縁部分は溶けて窪み側に流れるようになるため、窪み71の縁はだれてしまう。
この結果、窪み71の縁に至る部分にワイヤボンディングを行うボンディングパッドを形成すると、ボンディングパッドの上面が平らにならず、傾斜したり、円弧面となるため、ワイヤボンディングが確実に行えなくなる。
そこで、本出願人にあっては、窪み71の縁から所定距離a離れた位置の外側にボンディングパッド72を配置している。このボンディングパッド72には、窪み71の底に接合材(溶融接合材)73を介して固定した半導体素子(半導体チップ)74の電極75に一端が固定されるワイヤ76の他端が接続される。なお、ボンディングパッド72は配線77に繋がっている。
しかし、このような構造では、半導体素子(半導体チップ)74の電極75とボンディングパッド72を繋ぐワイヤ76の長さ(ワイヤ長)が長くなり、寄生インダクタンスが大きくなる。
本発明の目的は、多段増幅器を組み込んだ半導体装置において、増幅段を構成する半導体素子の固定位置の高精度化を図ることにある。
本発明の他の目的は、多段増幅器を組み込んだ半導体装置において、半導体素子の電極と配線のボンディングパッドとの間を接続するワイヤの長さを高精度に形成できる技術を提供することにある。
本発明の他の目的は、多段増幅器を組み込んだ半導体装置において、半導体素子の電極と配線のボンディングパッドとの間を接続するワイヤの長さを安定化し寄生インダクタンスを一定にして製造歩留りを安定化できる技術を提供することにある。
本発明の他の目的は、多段増幅器を組み込んだ半導体装置において、最終段トランジスタの出力端子側の寄生インダクタンスのバラツキの低減を図ることにある。
本発明の他の目的は、多段増幅器を組み込んだ半導体装置(高周波電力増幅装置)の出力向上及び前記高周波電力増幅装置を組み込んだ無線通信装置の出力向上を図ることにある。
本発明の前記ならびにそのほかの目的と新規な特徴は、本明細書の記述および添付図面からあきらかになるであろう。
発明の開示
本願において開示される発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば、下記のとおりである。
(1)配線基板(モジュール基板)と、前記配線基板の主面にそれぞれ設けられるメタライズ層上に溶融接合材を介してそれぞれ固定される電界効果トランジスタが組み込まれた複数の半導体チップと、前記半導体チップのゲート電極及びドレイン電極と、前記配線基板主面に設けられる各ボンディングパッドとを電気的にそれぞれ接続する導電性のワイヤを有し、前記複数の電界効果トランジスタは順次縦続接続されて多段増幅器の各増幅段を構成する半導体装置であって、前記トランジスタのうちの少なくとも一つのトランジスタ(最終増幅段を構成する最終段トランジスタ)は前記ドレイン電極と前記ボンディングパッドを接続するドレインワイヤの長さが前記ゲート電極と前記ボンディングパッドを接続するゲートワイヤの長さよりも短くなっている。
前記半導体チップのドレイン電極から前記ドレインワイヤが延在する方向に沿う前記半導体チップの縁までの距離が、前記半導体チップのゲート電極から前記ゲートワイヤが延在する方向に沿う前記半導体チップの縁までの距離が短い半導体チップが使用されている。
前記ゲート電極に対応する前記ゲート用のボンディングパッドと、前記ドレイン電極に対応する前記ドレイン用のボンディングパッドとの間に位置する半導体チップは、前記ドレイン用のボンディングパッド側に片寄って前記配線基板に固定されている。
前記配線基板の主面に窪みが設けられ、前記半導体チップは前記窪みの底に設けられたメタライズ層上に前記溶融接合材を介して固定されている。前記半導体チップのドレイン電極が並ぶ側の1側面が前記窪みの内側壁に接触して位置決めされる構造になっている。前記メタライズ層は前記ドレイン用ボンディングパッド寄りの前記窪みの内側壁にまで延在している。前記メタライズ層は前記半導体チップと同じ大きさとなり、前記半導体チップを前記メタライズ層に接着させる前記溶融接合材も前記半導体チップと同じ大きさになっている。前記半導体チップは前記メタライズ層上に前記溶融接合材の溶融時の自己整合作用によって固定位置が補正されて固定されている。
半導体チップには多段増幅器が複数(例えば、2系統)形成され、2系統の通信システムに対応できるようになっている。2系統の多段増幅器の各入力端子及び各出力端子は相互に独立している。
このような半導体装置は次の製造方法で製造される。即ち、配線基板(モジュール基板)と、前記配線基板の主面にそれぞれ設けられるメタライズ層上に溶融接合材を介してそれぞれ固定されるトランジスタが組み込まれた複数の半導体チップと、前記半導体チップの制御電極及び信号を出力する電極と前記配線基板主面に設けられる各ボンディングパッドとを電気的にそれぞれ接続する導電性のワイヤを有し、前記複数のトランジスタは回路的に順次縦続接続されて多段構成の増幅器が構成されてなる半導体装置の製造方法であって、前記トランジスタのうちの少なくとも一つのトランジスタ(最終段トランジスタ)は、前記信号を出力する電極と前記ボンディングパッドを接続するワイヤの長さが前記制御電極と前記ボンディングパッドを接続するワイヤの長さよりも短くなるように前記半導体チップを片寄らせて固定する。
前記配線基板の主面に窪みを設けるとともに、この窪みの底に半導体チップと同じ大きさのメタライズ層を部分的に設ける。前記メタライズ層上に溶融接合材を形成し、前記溶融接合材上に前記半導体チップを供給して前記半導体チップを前記溶融接合材の一時的な加熱によって固定する。メタライズ層はその一辺が前記窪みの内側壁の一辺まで到達するように設けられる。溶融接合材の一時的な加熱溶融時の表面張力による自己整合によって半導体チップはメタライズ層上に一致して重なるようにして固定されるとともに、前記自己整合によって半導体チップの一辺は窪みの一内側壁に当接して半導体チップの位置決めがなされることになる。このような複数の多段増幅器を組み込んだ半導体チップは無線通信装置に組み込まれる。
前記(1)の手段によれば、(a)多段増幅器の最終段トランジスタのドレインワイヤを短くすることによって寄生インダクタンスを低減させることができる。即ち、半導体チップの固定位置をゲート用ボンディングパッド側に比較してドレイン用ボンディングパッド側に近づけて(片寄らせて)固定したり、ドレイン電極の半導体チップ縁からの距離をゲート電極の半導体チップ縁からの距離よりも短くしたりすることによって、ドレインワイヤの長さをゲートワイヤの長さよりも短くしている。
(b)半導体チップの固定位置は、▲1▼配線基板の表面に設けたメタライズ層の位置、▲2▼半導体チップと同じ大きさに形成されたメタライズ層、▲3▼メタライズ層と半導体チップとの間に介在される溶融接合材の自己整合作用によって高精度に決められる。さらに、本実施形態では、▲4▼半導体チップのドレイン電極が設けられる縁側の辺が、配線基板に設けられた窪みの内側壁の一辺に当接して半導体チップの位置が決められることから、半導体チップの位置決めは高精度に決定されることになる。
即ち、メタライズ層はドレイン用ボンディングパッド寄りの窪みの内側壁にまで延在し、かつメタライズ層は半導体チップと同じ大きさとなることから、溶けた溶融接合材上に載る半導体チップは溶融接合材の表面張力によって溶融接合材上に載り、溶けた溶融接合材の表面張力による自己整合作用によって、半導体チップの一辺はドレイン用ボンディングパッド寄りの窪みの内側壁に当接することになる。
なお、ドレイン用ボンディングパッド寄りの窪みの内側壁に直交する方向に沿うメタライズ層の長さを半導体チップの長さよりも少し短くしておくことによって、溶融接合材の自己整合作用によって確実に半導体チップの一辺をドレイン用ボンディングパッド寄りの窪みの内側壁に確実に当接させることができる。従って、半導体チップのドレイン電極と配線基板の表面に設けられるドレイン用ボンディングパッドを接続するドレインワイヤの長さが一定し、ワイヤインダクタンスを一定にすることができる。この結果、本実施形態の半導体装置を組み込んだ携帯電話機の各通信システムの出力や効率が一定し、特性の安定した携帯電話機(無線通信装置)を提供することができる。
(c)本実施形態の半導体装置の製造方法によれば、配線基板の主面に窪みを設けるとともに、この窪みの底に半導体チップと同じ大きさのメタライズ層をドレイン用ボンディングパッド寄りの窪みの内側壁に至るまで設け、メタライズ層上に溶融接合材を形成し、溶融接合材上に半導体チップを供給し、溶融接合材の一時的な加熱と溶融接合材による自己整合作用によって半導体チップを窪み底に固定することから、半導体チップはその一辺がドレイン用ボンディングパッド寄りの窪みの内側壁に当接して固定できるため、半導体チップのドレイン電極の位置は常に一定する。この結果、ドレインワイヤの長さを一定にできワイヤインダクタンスのバラツキを小さくすることができる。従って、本実施形態の半導体装置を組み込んだ携帯電話機の効率及び出力の安定化を図ることができる。
発明を実施するための最良の形態
以下、図面を参照して本発明の実施の形態を詳細に説明する。なお、発明の実施の形態を説明するための全図において、同一機能を有するものは同一符号を付け、その繰り返しの説明は省略する。
(実施形態1)
図1乃至図15は本発明の一実施形態(実施形態1)である多段増幅器を組み込んだ半導体装置(高周波電力増幅装置)及びその製造技術並びにその半導体装置を組み込んだ無線通信装置(携帯電話機)に係わる図である。
本発明を適用したデュアルバンド用の高周波電力増幅装置及び携帯電話機(無線通信装置)を説明する前に、図1乃至図9を用いて本発明の多段増幅器を有する半導体装置及びその製造方法について説明する。
多段増幅器が組み込まれた半導体装置1は、図1に示すように、配線基板で構成されるモジュール基板2の主面に各種の電子部品が搭載されている。このモジュール基板2は図示しないが、その主面側にキャップが取り付けられて単体製品となる構造になるとともに、モジュール基板2の裏面に外部電極端子を有し、表面実装型構造となる。なおモジュール基板2の主面の配線等は省略してある。
図1に示すように、モジュール基板2の主面には、3個の半導体チップ(半導体素子)3が搭載されている。これら3個の半導体チップは、初段増幅器,次段増幅器,最終段増幅器を構成するトランジスタ(T1st,T2nd,T3nd)のいずれかが形成された半導体チップである。これらトランジスタによって三段構成の多段増幅器が構成されている。本実施形態1においてはこれらトランジスタは電界効果トランジスタ(FET)であり、半導体チップ3の表面の一側には図示しないゲート電極(G)が並び、他側には図示しないドレイン電極(D)が並ぶ。ゲート電極は制御信号が入力される制御電極でもあり、バイポーラトランジスタのベース電極に相当する。またドレイン電極は信号を出力する電極でもあり、バイポーラトランジスタのコレクタ電極に相当する。
これら電極はモジュール基板2の表面に形成されたボンディングパッド6に導電性のワイヤ7で電気的に接続される。ここでゲート用のボンディングパッドをゲート用ボンディングパッド6Gとし、ドレイン用のボンディングパッドをドレイン用ボンディングパッド6Dとも呼称する。また、ゲート電極とゲート用ボンディングパッド6Gを接続するワイヤをゲートワイヤ7Gと呼称し、ドレイン電極とドレイン用ボンディングパッド6Dを接続するワイヤをドレインワイヤ7Dと呼称する。また、特に区別しないが、モジュール基板2の主面にはチップ抵抗やチップコンデンサ等を構成するチップ部品8が搭載されている。
図2はモジュール基板2と、初段増幅器,次段増幅器,最終段増幅器を構成するトランジスタ(T1nd,T2nd,T3nd)を組み込んだ半導体チップ3を示す模式的断面図である。各半導体チップ3はモジュール基板2の主面に設けた窪み9の底に固定されている。本実施形態1では、矩形状の窪み9の底に部分的にメタライズ層10を設け、このメタライズ層10上に溶融接合材11を重ねて形成し、さらに半導体チップ3を溶融接合材11上に載置し、ついで溶融接合材11を一時的に溶かし、溶融接合材11の溶融時の表面張力による自己整合によって半導体チップ3をメタライズ層10上に固定するものである。このため、メタライズ層10及び溶融接合材11の大きさが選択される。
ここで、半導体チップ3の搭載について、図3の半導体装置の製造の一部を示す各工程図と、図4の半導体チップの固定状態を示す模式図を参照しながら説明する。図3(a)〜(d)は半導体装置の製造の一部を示す各工程の図であり、左側の図は平面図であり、右側の図は断面図である。
図3(a)に示すように、モジュール基板2の上面(主面)には、図1に対応するように窪み9が設けられている。また、窪み9の底やモジュール基板2の主面には半導体チップ3を固定するためのメタライズ層10、ワイヤを接続するためのボンディングパッド6(ドレイン用ボンディングパッド6D,ゲート用ボンディングパッド6G)、チップ部品8の一対の電極を固定する一対の電極パッド8aが設けられている。
前記メタライズ層10、ボンディングパッド6及び電極パッド8aは、例えば、銀ペースト(または銅ペースト等)を15μm程度の厚さにスクリーン印刷して形成する。
各窪み9の底に設けられるメタライズ層10は、それぞれ固定される半導体チップ3と同じ大きさに形成されている。しかし、メタライズ層10を半導体チップ3の大きさよりもある程度大きくしても、溶融接合材溶融時の自己整合によって半導体チップの中心がメタライズ層の中心に一致するような固定ができる。半導体チップ3から発生する熱を効果的に放散できる場合には、メタライズ層10は半導体チップ3よりもわずかに小さくてもよい。
初段増幅器を構成するトランジスタを有する半導体チップ3を固定する窪み9においては、メタライズ層10はドレイン用ボンディングパッド6D側にやや片寄るようになるが、メタライズ層10の縁は窪み9の内側壁に接触することはない。
次段増幅器を構成するトランジスタを有する半導体チップ3を固定する窪み9においては、メタライズ層10はその縁が窪み9の内側壁に接触することなく窪み9の中央に設けられている。
最終段増幅器を構成するトランジスタを有する半導体チップ3を固定する窪み9においては、メタライズ層10は窪み9のドレイン用ボンディングパッド6D側の内側壁にまで延在している(図4(a)参照)。
つぎに、図3(b)に示すように、窪み底のメタライズ層10上に溶融接合材11をディスペンサーによって所定量供給する。溶融接合材11は、例えば、銀ペーストを用いる。図3(b)の右側の図ではメタライズ層10を省略してある。
つぎに、図3(c)に示すように、半導体チップ3をそれぞれの窪み9のメタライズ層10上の溶融接合材11上に供給するとともに、溶融接合材11を所定温度で加熱して一時的に溶かして溶融接合材11で半導体チップ3をメタライズ層10に固定する。図3(c)の右側の図ではメタライズ層10及び溶融接合材11を省略して半導体チップ3のみを示してある。
図4(a),(b)は最終段トランジスタを有する半導体チップの固定の前後の状態を示す模式図であり、図4(a)は半導体チップを溶融接合材上に供給した図であり、上段の図は平面図、下段の図は断面図、図4(b)は半導体チップの固定が終了した図であり、上段の図は平面図、下段の図は断面図である。
図4(b)下段の図に示すように、溶融接合材11の上に載る半導体チップ3は、溶融接合材11の加熱による溶融に従って、溶けた溶融接合材11が半導体チップ3の裏面全域の電極面に濡れ広がることと、溶融接合材11の表面張力によって台座であるメタライズ層10の中心に半導体チップ3の中心が一致するような自己整合作用が働くことから、溶融接合材11上を矢印で示す用に右側に移動する。
メタライズ層10は窪み9のドレイン用ボンディングパッド6D寄りの内側壁(内側壁の一辺)にまで延在するように設けられている。この結果、移動する半導体チップ3はこの内側壁の一辺9aに当接して静止し、そのまま固定される(図4(b)参照)。従って、最終段トランジスタを含む半導体チップ3のドレイン電極が設けられる側の一辺は、内側壁の一辺9aのドレイン用ボンディングパッド6D寄りの内側壁に当接した状態で固定されることになり、高精度な固定となる。この結果、最終段トランジスタのドレイン電極の位置からドレイン用ボンディングパッド6Dとの距離は一定になる。
つぎに、図3(d)に示すように、各半導体チップ3の上面に設けられた電極と、モジュール基板2の上面に設けられたボンディングパッド6を導電性のワイヤ7で接続する。即ち、図示しないゲート電極とゲート用ボンディングパッド6Gをゲートワイヤ7Gで接続し、図示しないドレイン電極とドレイン用ボンディングパッド6Dをドレインワイヤ7Dで接続する。図3(d)において図が不明瞭となることから符号は一部省略してある。図3(d)の左側の図の詳細は図1のようになる。また、図3(d)の右側の図ではメタライズ層10及び溶融接合材11を省略して半導体チップ3のみを示してある。
最終段トランジスタのドレイン電極の位置は、半導体チップ3のドレイン用ボンディングパッド6D側の一辺が基準面となる内側壁の一辺9aに当接するため常に一定になる。従って、ドレイン用ボンディングパッド6Dとドレイン電極を接続するドレインワイヤ7Dの長さも常に一定になり、寄生インダクタンスのバラツキが抑えられることになる。
また、モジュール基板2の製造において、窪み9の周縁部分は焼成によってだれるため、図25に示すように所定の距離aだけ離してボンディングパッド6を設ける必要がある。このためワイヤ長が長くなるが、本実施形態1の場合最終段トランジスタが形成された半導体チップ3では、ドレイン用ボンディングパッド6D側の半導体チップ3の一辺が窪み9のドレイン用ボンディングパッド6D寄りの内側壁に接触するため、ワイヤ長を短くできる特長がある。これによりワイヤインダクタンスを低減することができる。
図5はFET構成のトランジスタ(半導体チップ)の固定状態を示す模式的断面図である。窪み9のドレイン用ボンディングパッド6D寄りの内側壁の一辺9aに半導体チップ3のドレイン用ボンディングパッド6D側の一辺が当接する。これにより、ドレインワイヤ7Dは常に所定の長さとなる。
上述したように、溶融した溶融接合材11の表面張力による自己整合作用によって、半導体チップ3は同じ大きさのメタライズ層10上に一致して重なるようになり、高精度な位置決め固定が行える。
初段増幅器を構成する半導体チップ3は、ドレイン用ボンディングパッド6Dとの距離がゲート用ボンディングパッド6Gとの距離よりも短く、ドレイン用ボンディングパッド6D側に片寄っている。
次段増幅器を構成する半導体チップ3は、ドレイン用ボンディングパッド6Dとゲート用ボンディングパッド6Gとの中間に位置している。
最終段増幅器を構成する半導体チップ3は、ドレイン用ボンディングパッド6Dとの距離がゲート用ボンディングパッド6Gとの距離よりも短く、ドレイン用ボンディングパッド6D側に片寄っている。
一般的に、半導体チップの供給はチップボンディング装置の真空吸着コレットによって行われる。即ち、コレットの下端に半導体チップを真空吸着した後、コレットを支持するアームを移動させてコレットをメタライズ層上に移動し、真空吸着を解除させてメタライズ層に半導体チップを供給する。この供給位置の精度はチップボンディング装置のアームの移動精度によって決まる。
しかし、本実施形態1のように、メタライズ層の位置及びその大きさと、溶融接合材11の自己整合作用によって半導体チップ3の固定位置を決定するため、チップボンディング装置のチップ供給位置の精度が低くても、高精度なチップボンディングが可能になる。
ところで、窪み9の窪み底一面をメタライズ層10とし、窪み9の中央にディスペンサーで溶融接合材11を供給し、その後溶融接合材11上に半導体チップ3を重ねて溶融接合材11の加熱によってチップボンディングを行ったり、あるいは半導体チップ3の下面に設けた溶融接合材を溶かしてメタライズ層10上に半導体チップ3を固定したりした場合、半導体チップ3の供給位置や溶融接合材11の溶け方によって半導体チップ3の位置が窪み9内でバラツク。この結果、半導体チップの電極とモジュール基板の主面のボンディングパッドを繋ぐワイヤの長さは変わることになる。
即ち、窪み9内に半導体チップ3を供給した場合、半導体チップ3の静止位置のバラツキの典型的な例としては、図7(b)に示すように、窪み9の中心に半導体チップ3の中心が位置する中央状態B、図7(a)に示すように、窪み9のゲート用ボンディングパッド6Gに寄る内側壁に半導体チップ3の左端が接触する左寄り状態A、図7(c)に示すように、窪み9のドレイン用ボンディングパッド6Dに寄る内側壁に半導体チップ3の右端が接触する右寄り状態Cがある。これにより、ゲートワイヤ7G及びドレインワイヤ7Dの長さが変化する。
ここで図6に、最終段トランジスタが形成された半導体チップ3に関係ある各部の寸法の一例を挙げる。窪み9の長さを1.3mm、幅を2.9mmとし、この窪み9の底に長さ1.0mm、幅2.5mmの半導体チップ3を供給する。窪み9の両端の外側にはそれぞれ長さ0.4mmで幅2.9mmのゲート用ボンディングパッド6G及びドレイン用ボンディングパッド6Dが窪み9の縁からそれぞれ0.2mm離れた位置に設けられている。
半導体チップ3の両端には縁に沿ってワイヤボンディングパッドが並んで配置されている。ゲート用ボンディングパッド6Gに対面するワイヤボンディングパッドはゲート用ワイヤボンディングパッド12Gであり、ドレイン用ボンディングパッド6Dに対面するワイヤボンディングパッドはドレイン用ワイヤボンディングパッド12Dである。ワイヤボンディングパッドとボンディングパッドは導電性のワイヤで接続される。ワイヤは、例えば、27μm直径の金線である。
ゲート用ワイヤボンディングパッド12Gの中心からゲート用ボンディングパッド6G寄りのチップの縁までの距離はdmmであり、ドレイン用ワイヤボンディングパッド12Dの中心からドレイン用ボンディングパッド6D寄りのチップの縁までの距離はd−0.2mmである。これは、ドレイン側寄生インダクタンスを低減する効果を得るためである。
このような寸法関係において、チップ供給位置が図7(a)〜(c)に示すように、左寄り供給状態A、中央供給状態B、右寄り供給状態Cの場合、効率(%)は図8に示すグラフのようになるとともに、出力電力(W)は図9に示すグラフのようになる。
即ち、図7(b)に示すように、半導体チップ3が窪み9の中央に位置する中央状態Bのときのゲートワイヤ7Gの長さをAmm、ドレインワイヤ7Dの長さをBとする時、主要モジュール特性である効率をη%、出力電力をPWとする。
図7(a)に示すように、半導体チップ3が窪み9の左側の内側壁に当接する左寄り状態A(ゲート用ボンディングパッド6Gに近づいた状態)にすることでゲートワイヤ7Gの長さは0.9Amm、ドレインワイヤ7Dの長さは1.15Bmmになることにより、絶対値比較として効率は1%の向上、出力電力3%低下になる。
また、図7(c)に示すように、半導体チップ3が窪み9の右側内側壁に当接する右寄り状態C(ドレイン用ボンディングパッド6Dに近づいた状態)では、ゲートワイヤ7Gの長さは1.14Amm、ドレインワイヤ7Dの長さは0.83Bmmになることにより、絶対値比較として効率は4%低下、出力電力は8%向上になることが判明した。
本実施形態1では、最終段トランジスタが形成された半導体チップ3の窪み9内での位置をドレイン用ボンディングパッド6D側に片寄せることによって、出力電力を従来の3.2W程度に比較して大幅に増大したものである。これは、後述するデュアルバンド用高周波電力増幅装置において、GSM(Global System for Mobile Communication)で一般の出力電力3.2Wよりも出力電力を4.1W以上と大幅に高くすることを目的としている。効率はわずかに落ちるが、この程度では特に通信系に支障は来さない。
本実施形態1においては、半導体チップの少なくとも一つはチップ辺の一辺が窪みの内側壁の一辺に接触させるようにすることによって半導体チップの位置決めを行う点にある。即ち、多段増幅器としての出力や効率に最も影響が大きい最終段トランジスタのドレインの寄生インダクタンス(ワイヤインダクタンス)を一定とするため、半導体チップ3のドレイン用ボンディングパッド6D寄りのチップ辺を窪み9の内側壁の一辺に当接させるようにしている。このため、メタライズ層の一辺はドレイン用ボンディングパッド6D寄りのチップ辺を窪み9の内側壁にまで到達するように配置してある。このようにすることによって、溶けた溶融接合材上に載る半導体チップは、溶融接合材の表面張力による自己整合作用によってチップの一辺が、ドレイン用ボンディングパッド6D寄りの窪み9の内側壁に当接するようになる。
つぎに、本発明を適用したデュアルバンド用の高周波電力増幅装置及び携帯電話機(無線通信装置)について、図10乃至図15を参照しながら説明する。
本実施形態1のより具体的な例である半導体装置は、例えば、GSM通信系とDCS(Digital Cellular System)通信系の多段増幅器が組み込まれた携帯電話機(無線通信装置)用のデュアルバンド用の高周波電力増幅装置である。
本実施形態1の半導体装置(高周波電力増幅装置:高周波パワーアンプモジュール)1は、図10に示すように外観的には偏平な矩形体構造になっている。高周波電力増幅装置1は、前述のようにセラミック配線板からなるモジュール基板2と、このモジュール基板2の一面側(主面側)に重ねて取り付けられたキャップ4とによって偏平矩形体構造のパッケージ5が構成された構造になっている。キャップ4は、電磁シールド効果の役割を果たす金属製であり、プレスによる成形品となっている。
図14は、本実施形態1の高周波電力増幅装置の回路構成を示すブロック図である。この高周波電力増幅装置1は外部電極端子として、GSM用入力端子(PinGSM▲1▼)、コントロール端子(Vapc▲2▼)、電源電圧Vddの一方の電源電圧端子(Vdd1▲3▼)、GSM用出力端子(PoutGSM▲4▼)、DCS用出力端子(PoutDCS▲5▼)、電源電圧Vddの他方の電源電圧端子(Vdd2▲6▼)、通信バンド切替用端子(Vctl▲7▼)、DCS用入力端子(PinDCS▲8▼)、図示しないグランド電圧端子(GND)を有している。端子配列は、図1のように、モジュール基板2の手前左から右に向かって端子▲1▼,▲2▼,▲3▼,▲4▼と並び、後方右から左に向かって端子▲5▼〜▲8▼となっている。
DCS及びGSM共にその増幅系は前述のように3段増幅構成になっている。DCS増幅系はトランジスタの1st,2nd,3rdで示す増幅段(amp1,amp2,amp3)で構成され、GSM増幅系はトランジスタの1st,2nd,3rdで示す増幅段(amp4,amp5,amp6)で構成されている。各増幅段はシリコン基板を基にして形成される電界効果トランジスタ(FET)によって形成されている。図5にFET構造の半導体チップ3の模式的断面図と、モジュール基板2の窪み9の底への固定状態及びゲートワイヤ7G及びドレインワイヤ7Dの接続の状態を示してある。
このような多段増幅器構成において、PinDCS▲8▼はamp1に接続され、PoutDCS▲5▼はamp3に接続されている。PinGSM▲1▼はamp4に接続され、PoutGSM▲4▼はamp6に接続されている。
Vapc▲2▼はバイアス回路21に接続されるとともに、このVapc▲2▼に入力された信号によってamp1〜amp6は制御される。
Vdd1▲3▼は、マイクロストリップラインMS1を介してamp1に接続され、マイクロストリップラインMS4を介してamp5に接続され、インダクタL2を介してamp6に接続されている。また、高周波特性の安定化のために外付けでVdd1▲3▼には一端がGNDに接地される容量C1が接続されている。
Vdd2▲6▼は、マイクロストリップラインMS3を介してamp4に接続され、マイクロストリップラインMS2を介してamp2に接続され、インダクタL1を介してamp3に接続されている。また、高周波特性の安定化のために外付けでVdd2▲6▼には一端がGNDに接地される容量C2が接続されている。
このように、電源電圧は二つの端子(Vdd1▲3▼,Vdd2▲6▼)が用意され、一方の電源電圧端子は一方の増幅系の初段増幅器と他方の増幅系の2段及び3段増幅器に電源電圧を供給し、他方の電源電圧端子は他方の増幅系の初段増幅器と一方の増幅系の2段及び3段増幅器に電源電圧を供給する、所謂たすき掛け構成になっていることから、初段増幅器への後段増幅器(特に最終増幅段)からの漏れ信号の電源ラインを通しての帰還を抑止できるため発振マージンの改善ができる。
Vctl▲7▼は、バンド選択回路25に接続されている。このバンド選択回路25は、ソース接地される3個のnチャネル型の電界効果トランジスタ(FET)Q8,Q9,Q10と、一つの抵抗R1とで構成されている。Q8とQ9のゲート端子はVctl▲7▼に接続されている。Q10のゲート端子はQ9のドレイン端子に接続され、ドレイン端子は抵抗R2を介してamp5の出力側に接続されている。Q9のドレイン端子は抵抗R1を介してVdd2▲6▼に接続されている。Q8のドレイン端子はインダクタL3を介してamp3の入力側に接続されている。Vctl▲7▼に供給される信号によってバンドの切り替えが行われ、DCS通信のための増幅またはGSM通信のための増幅が行われる。
図11は、例えば、ガラスセラミックスを積層させた低温焼成のセラミック配線板からなるモジュール基板2の表面に搭載された各電子部品を示す平面図である。図11に示すように、モジュール基板2の表面には4個の半導体チップ3a〜3dと、符号は付けないが多数のチップ抵抗とチップコンデンサが搭載されている。また、モジュール基板2の表裏面は勿論のこと内部にも導体が選択的に形成されている。そして、これら導体によって配線(符号は付けない)が形成されている。この配線の一部は、前記半導体チップを固定するための前述のメタライズ層となり、チップ抵抗やチップコンデンサ等のチップ型電子部品の電極を固定する電極パッドとなり、あるいは半導体チップ3a〜3dの図示しない電極に一端が接続されるワイヤの他端を接続するボンディングパッド等を構成する。モジュール基板2の裏面には表面実装型の電極が前記配線によって形成され、前記▲1▼〜▲8▼の外部電極端子が形成されている。これら外部電極端子はLGA(ランドグリッドアレイ)構造になっている。
半導体チップ3a〜3dはモジュール基板2の主面に設けた窪み9の底に固定されている。また、動作時に発熱量が大きい半導体チップにおいては、その下のモジュール基板2にはビアホールが形成されるとともに、このビアホールには前記導体が充填され、モジュール基板2の裏面に熱を伝達するようになっている。
半導体チップ3bはDCS通信系の多段増幅器の最終段トランジスタを有するものであり、半導体チップ3dはGSM通信系の多段増幅器の最終段トランジスタを有するものである。これら半導体チップ3b,3dは、前述のようにドレインインダクタンスを小さくするとともに所定の値にするため、窪み9のドレイン用ボンディングパッド6D寄りの内側壁に、ドレイン用ボンディングパッド6D寄りの半導体チップの一辺が当接させられている。
図12は高周波電力増幅装置のモジュール基板を示す平面図である。モジュール基板2の表面には符号は付さないが配線パターンが形成されている。また、半導体チップ3a〜3dを固定するための窪み9が4個設けられている。また、窪み9の底に点々で示す部分がメタライズ層10である。
図13はモジュール基板の底面図であり、表面実装時の固定用の電極パターンが示されている。薄く黒く塗った部分が各電極である。
つぎに、高周波電力増幅装置1を組み込んだ携帯電話機(無線通信装置)について説明する。図15は前記高周波電力増幅装置1が組み込まれた携帯電話機のシステム構成を示すブロック図である。具体的には、携帯電話機(移動体通信端末)のシステム構成を示すものである。
図15はデュアルバンド無線通信機の一部を示すブロック図であり、高周波信号処理IC(RFlinear)50からアンテナ(Antenna)51までの部分を示す。なお、図15では、高周波電力増幅装置の増幅系はGSM用の増幅系と、DCS用の増幅系の二つを別けて示してあり、その増幅器をPA(パワーアンプ)58a,58bとして示してある。
アンテナ51はアンテナ送受信切替器52のアンテナ端子Antennaに接続されている。アンテナ送受信切替器52は、PA58a,58bの出力を入力する端子Pout1,Pout2と、受信端子RX1,RX2と、制御端子control1,control2とを有している。
高周波信号処理IC50からのGSM用の信号はPA58aに送られ、Pout1に出力される。PA58aの出力はカプラー54aによって検出され、この検出信号は自動出力制御回路(APC回路)53にフィードバックされる。APC回路53は上記検出信号を基に動作してPA58aを制御する。
また、同様に高周波信号処理IC50からのDCS用の信号はPA58bに送られ、Pout2に出力される。PA58bの出力はカプラー54bによって検出され、この検出信号はAPC回路53にフィードバックされる。APC回路53は上記検出信号を基に動作してPA58bを制御する。
アンテナ送受信切替器52はデュプレクサー55を有している。このデュプレクサー55は端子を有し、1端子は上記アンテナ端子Antennaに接続され、他の2端子の内一方はGSM用の送信受信切替スイッチ56aに接続され、他方はDCS用の送信受信切替スイッチ56bに接続されている。
送信受信切替スイッチ56aのa接点はフィルター57aを介してPout1に接続されている。送信受信切替スイッチ56aのb接点は容量C1を介して受信端子RX1に接続されている。送信受信切替スイッチ56aは制御端子control1に入力される制御信号によってa接点またはb接点との電気的接続の切り替えが行われる。
また、送信受信切替スイッチ56bのa接点はフィルター57bを介してPout2に接続されている。送信受信切替スイッチ56bのb接点は容量C2を介して受信端子RX2に接続されている。送信受信切替スイッチ56bは制御端子control2に入力される制御信号によってa接点またはb接点との電気的接続の切り替えが行われる。
受信端子RX1と高周波信号処理IC50との間には、フィルター60aと低雑音アンプ(LNA)61aが順次接続されている。また、受信端子RX2と高周波信号処理IC50との間には、フィルター60bと低雑音アンプ(LNA)61bが順次接続されている。この無線通信機によってGSM通信及びDCS通信が可能になる。
本実施形態1によれば以下の効果を有する。(1)多段増幅器の最終段トランジスタのドレインワイヤ7Dを短くすることによって寄生インダクタンスを低減させることができる。即ち、半導体チップ3の固定位置をゲート用ボンディングパッド6G側に比較してドレイン用ボンディングパッド6D側に近づけて(片寄らせて)固定したり、ドレイン電極の半導体チップ縁からの距離をゲート電極の半導体チップ縁からの距離よりも短くしたりすることによって、ドレインワイヤ7Dの長さをゲートワイヤ7Gの長さよりも短くなっている。この結果、ドレインワイヤ7Dの寄生インダクタンスが小さくなる。
(2)半導体チップ3の固定位置は、配線基板(モジュール基板2)の表面に設けたメタライズ層10の位置と、半導体チップ3と同じ大きさとなるメタライズ層10に規定されて高精度な位置状態で固定される。即ち、半導体チップ3はメタライズ層10と半導体チップ3の下面との間に介在される溶融接合材11の溶融時の表面張力による自己整合作用によって高精度に位置決め固定される。
(3)また、本実施形態1では、半導体チップ3のドレイン電極が設けられる縁側の辺が、モジュール基板2に設けられた窪み9の内側壁の一辺に当接して半導体チップ3の位置が決められることから、半導体チップ3の位置決めは高精度に決定されることになる。即ち、メタライズ層10はドレイン用ボンディングパッド6D寄りの窪み9の内側壁にまで延在するとともに、メタライズ層10は半導体チップ3と同じ大きさとなっている。従って、溶けた溶融接合材11上に載る半導体チップ3は溶融接合材11の表面張力によって溶融接合材11上に載ることから、半導体チップ3の供給位置がメタライズ層10に対してずれていても、前記表面張力によって半導体チップ3は自己整合作用によって移動し、この結果、半導体チップ3の一辺はドレイン用ボンディングパッド6D寄りの窪み9の内側壁に当接することになる。
(4)従って、半導体チップ3のドレイン電極とモジュール基板2の表面に設けられるドレイン用ボンディングパッド6Dを接続するドレインワイヤ7Dの長さが一定し、ワイヤインダクタンスを一定にすることができる。この結果、本実施形態の半導体装置を組み込んだ携帯電話機の各通信システムの出力や効率が一定し、特性の安定した携帯電話機(無線通信装置)を提供することができる。
(5)本実施形態の高周波電力増幅装置1を組み込んだ携帯電話機では、2系統の通信システムに対応できるようになっている。この場合、2系統の多段増幅器の各入力端子及び各出力端子は相互に独立しているため、ドレイン側寄生インダクタンスを低減する効果がある。
(6)本実施形態の高周波電力増幅装置1の製造方法によれば、モジュール基板2(配線基板)の主面に窪み9を設けるとともに、この窪み9の底に半導体チップ3と同じ大きさのメタライズ層10をドレイン用ボンディングパッド6Dの窪み9の内側壁に至るまで設け、メタライズ層10上に溶融接合材11を形成し、溶融接合材11上に半導体チップ3を供給し、溶融接合材11の一時的な加熱と溶けた溶融接合材11による自己整合作用によって半導体チップ3を窪み9の底に固定することから、半導体チップ3はその一辺がドレイン用ボンディングパッド6D寄りの窪み9の内側壁に当接して固定され、半導体チップ3のドレイン電極の位置は常に一定する。この結果、ドレインワイヤ7Dの長さを一定にできワイヤインダクタンスのバラツキを小さくすることができる。従って、本実施形態の高周波電力増幅装置1を組み込んだ携帯電話機の効率及び出力の安定化を図ることができる。
(実施形態2)
図16乃至図18は本発明の他の実施形態(実施形態2)である高周波電力増幅装置に係わる図である。図16は高周波電力増幅装置のモジュール基板に搭載された電子部品のレイアウトを示す平面図、図17はモジュール基板の底面図、図18は高周波電力増幅装置の回路構成を示すブロック図である。
本実施形態2の高周波電力増幅装置1は実施形態1と同様にGSM通信系とDCS通信系の多段増幅器を有するものである。しかし、本実施形態2の高周波電力増幅装置1は、図16乃至図18に示すように、GSM及びDCSの入力端子(Pin)は共に共通であり、2入力端子2出力端子構成になっている。
図16に示すように、手前左側から右側に掛けて/Vctl端子▲1▼,Vctl端子▲2▼,グランド端子(GND),Vdd2端子▲3▼,Pout−GSM端子▲4▼が並び、奥前右側から左側に掛けてPout−DCS端子▲5▼,Vdd1端子▲6▼,グランド端子(GND),Vapc端子▲7▼,GSM及びDCS共通の入力端子Pin▲8▼が並ぶ。
このような多段増幅器構成において、Pin▲8▼は結合コンデンサC1を介してamp1に接続されている。amp1はamp2に縦続接続され、GSM及びDCSの初段増幅器(増幅段)及び次段増幅器(増幅段)を構成している。amp2はGSMの最終段増幅器(増幅段)を構成するamp3Gと、DCSの最終段増幅器(増幅段)を構成するamp3Dに縦続接続されている。amp3Gは結合コンデンサC20を介してPout−GSM端子▲4▼に接続され、amp3Dは結合コンデンサC30を介してPout−DCS端子▲5▼に接続されている。
amp1とamp2は、図16に示すように、単一の半導体チップ3にモノリシックに形成されている。amp3Dは図16に示すように単一の半導体チップ3で形成されるとともに、ドレインワイヤ7Dが短くなるように半導体チップ3のドレイン用ボンディングパッド6D寄りの縁が、窪み9のドレイン用ボンディングパッド6D寄りの内側壁に接触するようになっている。これは実施形態1と同様である。
また、amp3Gは図16に示すように単一の半導体チップ3で形成されるとともに、ドレインワイヤ7Dが短くなるように半導体チップ3のドレイン用ボンディングパッド6D寄りの縁が、窪み9のドレイン用ボンディングパッド6D寄りの内側壁に接触するようになっている。これも実施形態1と同様である。なお、実施形態1と同様にモジュール基板2の上面の配線やチップ部品の符号を用いての説明は省略する。
/Vctl端子▲1▼,Vctl端子▲2▼及びVapc端子▲7▼はバイアス回路21に接続されている。バイアス回路21はamp1,amp2,amp3G,amp3Dにバイアス電位を印加するようになっている。Vdd1▲6▼はamp1及びamp2のトランジスタに電源電位を印加し、Vdd2はGSM及びDCSの最終段トランジスタに電源電位を印加する。
本実施形態2においても、DCS及びGSMの最終段トランジスタのドレインの寄生インダクタンスの低減を図ることができるとともに、半導体チップ3の固定位置を窪み9の内側壁の一辺で規定するため、寄生インダクタンスのバラツキを小さく抑えることができる。
実施形態1及び実施形態2では、増幅段を構成する半導体増幅素子(トランジスタ)としてMOS(Metal Oxide Semiconductor)FETを用いた例について説明したが、他のトランジスタでもよい。例えば、トランジスタとして、シリコンバイポーラトランジスタ,GaAs−MES(Metal−Semiconductor)FET,HBT(Hetero Junction Bipolar Transistor),HEMT(High Electron Mobility Transistor),Si−GeFET等であってもよい。特に高性能のトランジスタは出力段を構成する最終段増幅段に用いると効果が高い。
(実施形態3)
図19は本発明の他の実施形態(実施形態3)である高周波電力増幅装置に係わる図である。本実施形態3では、モジュール基板2の主面に設けられる四角形状の窪み9の隣り合う2辺を半導体チップ3の固定位置の基準として用いる例であり、この窪み9の2辺(図19における左の辺及び上側の辺)に半導体チップ3の対応する辺(図19における左の辺及び上側の辺)が当接している。また、この例ではヘテロバイポーラトランジスタ(HBT)を増幅器を構成するトランジスタとしている。
本実施形態3では、図21(a),(b)に示すように半導体チップ3を窪み9の窪み底に固定する。図21(a),(b)は最終段トランジスタを有する半導体チップ3の固定の前後の状態を示す模式図であり、図21(a)はメタライズ層10上に供給した溶融接合材11(例えば、銀ペースト)上に半導体チップ3を供給する図であり、上段の図は平面図、下段の図は断面図である。図21(b)は半導体チップの固定が終了した図であり、上段の図は平面図、下段の図は断面図である。
最終段増幅器を構成するトランジスタを有する半導体チップ3を固定する窪み9においては、図21(a)に示すように、メタライズ層10は窪み9のコレクタ用ボンディングパッド6C側の内側壁の一辺9aまで延在するとともに、その内側壁と隣り合う他の一辺9fまで延在している。
従って、図21(a)に示すように、窪み底のメタライズ層10上に溶融接合材11をディスペンサーによって所定量供給した後、図示しないチップボンディング装置によって溶融接合材11上に半導体チップ3を供給し、ついで加熱して溶融接合材11を溶かし(リフロー)、溶けた溶融接合材11の表面張力による自己整合作用を利用して半導体チップ3をメタライズ層10に固定することができる。
この際、溶融接合材11の供給は溶融接合材11の加熱による溶融の点からメタライズ層10上に供給することが望ましい。これは、溶融接合材の溶融時、溶融接合材11がメタライズ層10からはみ出ることなく、かつ半導体チップ3と同じ大きさのメタライズ層10の全面に濡れ広がり、半導体チップ3の下面全域が溶融接合材11を介してメタライズ層10に固定できるようにするためである。
これに対して、半導体チップ3の供給位置は高精度でなくともよく、全体が略溶融接合材11上に載るように供給すればよい。即ち、チップボンディング装置による半導体チップ3の供給において、供給位置精度が低くてもよくなりチップ供給が容易になる。
前記溶融接合材11のリフロー時、メタライズ層10の中心から半導体チップ3の中心がずれた半導体チップ3は、半導体チップ3の下面全域が溶融接合材11に濡れることと、溶融接合材11の表面張力の力によってメタライズ層10の中心に半導体チップ3の中心が一致するように溶融接合材11に浮いた状態で移動する。そして、この移動時、コレクタ用ボンディングパッド6C側の半導体チップ3の一辺が窪み9の内側壁の一辺9aに当接し、かつ半導体チップ3の他の辺が内側壁の他の一辺9fに当接するため、半導体チップ3は内側壁の一辺9aと他の一辺9fを基準に固定されることになり、高精度な位置決め固定が可能になる(図21(b)参照)。
この結果、図19に示すように、最終段トランジスタのコレクタ用ワイヤボンディングパッド12Cからコレクタ用ボンディングパッド6Cとの距離は短くかつ一定になり、これらを接続するコレクタワイヤ7Cの長さも短くかつ均一になる。この結果、コレクタワイヤの寄生インダクタンスも均一になり、効率の安定及び出力の向上を図ることができる。
ここで、図19及び図20を参照しながらヘテロバイポーラトランジスタについて簡単に説明する。図19は高周波電力増幅装置に搭載されたHBTチップの実装状態を示す模式的平面図、図20はHBTチップの実装状態を示す模式的断面図である。
HBTが形成された半導体チップ3は、図19及び図20に示すように、半絶縁性GaAs基板30の主面に選択的にn+型GaAsサブコレクタ層31が形成されているとともに、このサブコレクタ層31上にn型GaAsコレクタ層32が形成された構造になっている。また、コレクタ層32はその周辺部分が途中深さまでエッチングされ、中央部分が突出したメサ部になっている。前記メサ部から外れた薄いコレクタ層部分が形成されている領域において、部分的にコレクタ層32がエッチング除去され、この除去部分にはコレクタ電極33が設けられている。
前記メサ部上にはp+型GaAsベース層34,n型InGaPエミッタ層35,n+型GaAsキャップ層36が順次重なるように設けられている。ベース層34とエミッタ層35は略同じ大きさで一致して重なっているが、キャップ層36はメサ部分の中央に細長矩形状に形成されている。
前記キャップ層36から外れたメサ領域において、選択的にエミッタ層35及びベース層34がエッチング除去されてコンタクト穴が設けられ、このコンタクト穴部分にはベース電極37が設けられている。
また、キャップ層36の上面にはエミッタ電極38が形成されている。前記エミッタ電極38上にはエミッタ配線層39が形成されている。このエミッタ配線層39の一部はサブコレクタ層31及びコレクタ層32から外れた半絶縁性GaAs基板30の表面にも延在している。
前記半絶縁性GaAs基板30の主面側の前記各部は絶縁膜40で被われて素子の保護が図られている。この絶縁膜40は、図では単層で示してあるが、実際には複数層となり、各層でそのパターンが異なっている。
本実施形態3のHBTはPHSとなることから、半絶縁性GaAs基板30の裏面側には全域に電極層41が形成されている。この電極層41と前記半絶縁性GaAs基板30上のエミッタ配線層39を電気的に接続するため、半絶縁性GaAs基板30の主面から裏面に亘って第2溝(ビアホール)42が形成されている。ビアホール42の半絶縁性GaAs基板30の主面側の端は、導電体で形成されるエッチングストッパ層43で塞がれている。このエッチングストッパ層43はビアホール42を開ける前に半絶縁性GaAs基板30の主面側に設けられるものである。エッチングストッパ層43とエミッタ配線層39は絶縁膜40上を延在する配線層44によって電気的に接続されている。
前記電極層41は半導体チップ3の周面をも被う構造となり、その先端部分は半絶縁性GaAs基板30の主面に設けられた金属層45(図20参照)に重なっている。半導体チップ3を形成する前の半導体ウエハの状態では、半導体ウエハの主面のスクライブ領域(ダイシング領域とも呼称する)に重ねてエッチングストッパ層となる金属層45を形成しておき、半導体チップ化における半導体ウエハ裏面側のスクライブ領域エッチング時、エッチングを前記金属層45に到達するようにエッチングし、最終的には金属層45とこの金属層45に重なった電極層41をスクライブ領域に沿って切断することによって半導体チップを形成する。
図19に示すように、コレクタ用ワイヤボンディングパッド12Cとコレクタ用ボンディングパッド6Cはコレクタワイヤ7Cで電気的に接続されている。また、ベース用ワイヤボンディングパッド12Bとベース用ボンディングパッド6Bはベースワイヤ7Bで電気的に接続されている。
半導体チップ3のコレクタ用ボンディングパッド6C側の一辺が内側壁のコレクタ用ボンディングパッド6C側の辺(一辺9a)に当接(接触)する状態になるとともに、半導体チップ3の他の内側壁の他の一辺9fに当接する状態になることから、各コレクタ用ワイヤボンディングパッド12Cの位置は一定となり、コレクタワイヤ7Cの長さはそれぞれ一定になる。このため、コレクタワイヤの寄生インダクタンスが一定になり、多段増幅器の効率の安定、出力の安定が得られる。
従って、コレクタワイヤ長を窪み9とコレクタ用ボンディングパッド6Cとの間で所定寸法に設定することによって実施形態1と同様に高い出力を得ることができる。また、窪み9の内側壁の一辺9aに半導体チップ3の一辺を接触させる構造とすることによって、窪み9の縁のだれが発生する領域から外れた領域にコレクタ用ボンディングパッド6Cを配置することができるため、コレクタ用ボンディングパッド6Cは平坦となり、ワイヤのボンディング性能も良好になる。
(実施形態4)
図22は本発明の他の実施形態(実施形態4)である半導体チップの搭載状態を示す斜視図、図23は半導体チップが搭載されたモジュール基板の一部を示す平面図である。
本実施形態4は実施形態3において、窪み9の底全体にメタライズ層10を設け、メタライズ層10の一部に半導体チップ3と同じ大きさの溶融接合材11を形成し、ついで図22に示すように、半導体チップ3を溶融接合材11のリフローによって自己整合的に固定するものである。図23に示すように、四角形状の溶融接合材11の隣り合う2辺を、四角形状の窪み9の内側壁の隣り合う2辺に接触させるように形成する。これによって、半導体チップ3の供給位置がずれても、実施形態3と同様に溶融接合材11のリフロー時の表面張力による自己整合作用によって半導体チップ3は窪み9の一隅に寄せられ、隣り合うチップ2辺が隣り合う内側壁に接触した状態で高精度に位置決め固定されることになる。
本実施形態4では、半導体チップ3の固定位置を溶融接合材11の供給位置及び供給形状によって決めるものである。
(実施形態5)
図24(a),(b)は本発明の他の実施形態(実施形態5)である半導体チップの搭載状態を示す模式的な平面図及び断面図である。
本実施形態5はモジュール基板2の平坦な上面に半導体チップ3と同じ形状にメタライズ層10を形成し、このメタライズ層10上に所定量の溶融接合材11を供給し、ついで半導体チップ3を溶融接合材11上に載置し、その後溶融接合材11をリフローして溶融接合材11の表面張力による自己整合作用によって半導体チップ3をメタライズ層10上に高精度に位置決め固定するものである。
本実施形態5では、モジュール基板2の平坦な表面に設けるメタライズ層10の位置及び形状によって半導体チップ3の固定位置を決定する例である。
以上本発明者によってなされた発明を実施形態に基づき具体的に説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることはいうまでもない。
以上の説明では主として本発明者によってなされた発明をその背景となった利用分野である携帯電話機に適用した場合について説明したが、それに限定されるものではなく、他の電子装置や他の半導体装置(混成集積回路装置)にも同様に適用できる。即ち、本発明に係る高周波電力増幅装置は、移動体通信端末等の携帯電話機を始めとする各種の無線通信装置の電力増幅器として使用することができる。また、安定した通話が達成できる無線通信装置を提供することができる。さらに、高周波電力増幅モジュールや無線通信装置の製造歩留り向上により高周波電力増幅装置や無線通信装置の製造コストの低減が可能になる。
本願において開示される発明のうち代表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、下記のとおりである。
(1)多段増幅器を組み込んだ半導体装置において、増幅段を構成する半導体素子の固定位置を半導体素子と同じ大きさのメタライズ層上に溶融接合材の表面張力による自己整合作用によって高精度に固定することができる。
(2)前記メタライズ層を四角形状の窪み底に前記メタライズ層を形成するとともに、前記メタライズ層を窪みの内側壁の一辺に接触するように設けることによって半導体素子の一辺を前記窪みの内側壁の一辺に接触させることができ、高精度な半導体素子の位置決めが可能になる。従って、この位置決め部分に交差する方向にドレインワイヤやコレクタワイヤを延在させることによって、これらのワイヤ長が一定になり、ワイヤインダクタンスのバラツキが小さくなる。この結果、効率の向上や出力電力の向上が達成できる。
(3)上記(2)のように窪みの内側壁の一辺に半導体素子の一辺を当接させて窪み底に半導体素子を固定することができる結果、窪みの縁のダレ部分から外れた領域にドレイン用ボンディングパッドやコレクタ用ボンディングパッドを形成することができるため、ワイヤのボンディング性能が良好になり半導体装置の信頼性が高くなる。また、ドレインワイヤやコレクタワイヤの長さも、窪みの内側壁の一辺に半導体素子の一辺を当接させることから短くすることができ、寄生インダクタンスの低減を図ることができる。
(4)多段増幅器を組み込んだ半導体装置(高周波電力増幅装置)の出力向上及び前記高周波電力増幅装置を組み込んだ無線通信装置の出力向上を図ることができる。
産業上の利用可能性
以上のように、本発明にかかる高周波電力増幅装置は、移動体通信端末等の携帯電話機を始めとする各種の無線通信装置の電力増幅器として有用である。
【図面の簡単な説明】
図1は本発明の一実施形態(実施形態1)である半導体装置におけるモジュール基板上の電子部品の配列状態を示す模式的平面図である。
図2は前記モジュール基板の断面図である。
図3は本実施形態1の半導体装置の製造の一部を示す各工程の平面図及び断面図である。
図4は本実施形態1の半導体装置の製造における半導体チップの固定状態を示す模式的な平面図及び断面図である。
図5は本実施形態1の半導体装置における半導体素子の固定状態を示す模式的断面図である。
図6は本実施形態1の半導体装置における半導体素子の電極位置とゲートパッド及びドレインパッドとの位置関係を示す模式図である。
図7は前記半導体素子の固定位置の違いによるゲートワイヤ長(LG)及びドレインワイヤ長(LD)の違いを示す図及び表である。
図8は前記半導体素子の固定位置と効率の変化を示すグラフである。
図9は前記半導体素子の固定位置と出力電力の変化を示すグラフである。
図10は本実施形態1である高周波電力増幅装置(半導体装置)の外観を示す斜視図である。
図11は前記高周波電力増幅装置のモジュール基板に搭載された電子部品のレイアウトを示す平面図である。
図12は前記高周波電力増幅装置のモジュール基板を示す平面図である。
図13は前記モジュール基板の底面図である。
図14は前記高周波電力増幅装置の回路構成を示すブロック図である。
図15は前記高周波電力増幅装置が組み込まれた携帯電話機の一部の構成を示すブロック図である。
図16は本発明の他の実施形態(実施形態2)である高周波電力増幅装置のモジュール基板に搭載された電子部品のレイアウトを示す平面図である。
図17は本実施形態2の高周波電力増幅装置のモジュール基板の底面図である。
図18は本実施形態2の高周波電力増幅装置の回路構成を示すブロック図である。
図19は本発明の他の実施形態(実施形態3)である高周波電力増幅装置におけるヘテロバイポーラトランジスタチップの実装状態を示す模式的平面図である。
図20は前記ヘテロバイポーラトランジスタチップの実装状態を示す模式的断面図である。
図21は前記ヘテロバイポーラトランジスタチップの実装前後の状態を示す模式的平面図及び断面図である。
図22は本発明の他の実施形態(実施形態4)である半導体チップの搭載状態を示す斜視図である。
図23は前記半導体チップが搭載されたモジュール基板の一部を示す平面図である。
図24は本発明の他の実施形態(実施形態5)である半導体チップの搭載状態を示す平面図及び断面図である。
図25は本発明に先立つワイヤボンディング部分の検討課題を示す模式的断面図である。
Claims (32)
- 配線基板と、
前記配線基板の主面にそれぞれ設けられるメタライズ層上に溶融接合材を介してそれぞれ固定される電界効果トランジスタが組み込まれた複数の半導体チップと、
前記半導体チップのゲート電極及びドレイン電極と、前記配線基板主面に設けられる各ボンディングパッドとを電気的にそれぞれ接続する導電性のワイヤを有し、
前記複数の電界効果トランジスタは順次縦続接続されて多段増幅器の各増幅段を構成する半導体装置であって、
前記トランジスタのうちの少なくとも一つのトランジスタは前記ドレイン電極と前記ボンディングパッドを接続するドレインワイヤの長さが前記ゲート電極と前記ボンディングパッドを接続するゲートワイヤの長さよりも短く、
前記半導体チップは前記メタライズ層上に前記溶融接合材の溶融時の自己整合作用によって固定位置が補正されて固定されていることを特徴とする半導体装置。 - 前記半導体チップのドレイン電極から前記ドレインワイヤが延在する方向に沿う前記半導体チップの縁までの距離が、前記半導体チップのゲート電極から前記ゲートワイヤが延在する方向に沿う前記半導体チップの縁までの距離が短いことを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。
- 前記ゲート電極に対応する前記ゲート用のボンディングパッドと、前記ドレイン電極に対応する前記ドレイン用のボンディングパッドとの間に位置する半導体チップは、前記ドレイン用のボンディングパッド側に片寄って前記配線基板に固定されていることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。
- 前記配線基板の主面に窪みが設けられ、前記半導体チップは前記窪みの底に設けられたメタライズ層上に前記溶融接合材を介して固定されていることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。
- 前記半導体チップの1乃至2側面が前記窪みの内側壁に接触して位置決めされていることを特徴とする請求項4に記載の半導体装置。
- 前記メタライズ層は前記ドレイン用ボンディングパッド寄りの前記窪みの内側壁にまで延在していることを特徴とする請求項4に記載の半導体装置。
- 前記窪みの底全面に前記メタライズ層が形成され、前記メタライズ層上の一部に前記溶融接合材が配置されていることを特徴とする請求項4に記載の半導体装置。
- 前記メタライズ層は前記半導体チップと同じ大きさまたは近似した大きさとなり、前記半導体チップを前記メタライズ層に接着させる前記溶融接合材も前記半導体チップと同じ大きさになっていることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。
- 前記メタライズ層上の一部に前記溶融接合材が設けられ、この溶融接合材上に前記半導体チップが位置していることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。
- 前記多段増幅器の最終増幅段を構成するトランジスタのドレインワイヤのワイヤ長がゲートワイヤのワイヤ長よりも短いことを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。
- 前記多段増幅器が複数組形成されていることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。
- 前記多段増幅器が複数組形成され、各多段増幅器の入力端子は一部または全てで共通で、出力端子は相互に独立していることを特徴とする請求項11に記載の半導体装置。
- 前記多段増幅器が複数組形成され、各多段増幅器の入力端子及び出力端子は相互に独立していることを特徴とする請求項11に記載の半導体装置。
- 配線基板と、
前記配線基板の主面にそれぞれ設けられるメタライズ層上に溶融接合材を介してそれぞれ固定されるバイポーラトランジスタが組み込まれた複数の半導体チップと、
前記半導体チップのベース電極及びコレクタ電極と、前記配線基板主面に設けられる各ボンディングパッドとを電気的にそれぞれ接続する導電性のワイヤを有し、
前記複数のバイポーラトランジスタは順次縦続接続されて多段増幅器の各増幅段を構成する半導体装置であって、
前記トランジスタのうちの少なくとも一つのトランジスタは前記コレクタ電極と前記ボンディングパッドを接続するコレクタワイヤの長さが前記ベース電極と前記ボンディングパッドを接続するベースワイヤの長さよりも短く、
前記半導体チップは前記メタライズ層上に前記溶融接合材の溶融時の自己整合作用によって固定位置が補正されて固定されていることを特徴とする半導体装置。 - 前記半導体チップのコレクタ電極から前記コレクタワイヤが延在する方向に沿う前記半導体チップの縁までの距離が、前記半導体チップのベース電極から前記ベースワイヤが延在する方向に沿う前記半導体チップの縁までの距離が短いことを特徴とする請求項14に記載の半導体装置。
- 前記ベース電極に対応する前記ベース用のボンディングパッドと、前記コレクタ電極に対応する前記コレクタ用のボンディングパッドとの間に位置する半導体チップは、前記コレクタ用のボンディングパッド側に片寄って前記配線基板に固定されていることを特徴とする請求項14に記載の半導体装置。
- 前記配線基板の主面に窪みが設けられ、前記半導体チップは前記窪みの底に設けられたメタライズ層上に前記溶融接合材を介して固定されていることを特徴とする請求項14に記載の半導体装置。
- 前記半導体チップの1乃至2側面が前記窪みの内側壁に接触して位置決めされていることを特徴とする請求項17に記載の半導体装置。
- 前記メタライズ層は前記コレクタ用ボンディングパッド寄りの前記窪みの内側壁にまで延在していることを特徴とする請求項17に記載の半導体装置。
- 前記窪みの底全面に前記メタライズ層が形成され、前記メタライズ層上の一部に前記溶融接合材が配置されていることを特徴とする請求項17に記載の半導体装置。
- 前記メタライズ層は前記半導体チップと同じ大きさまたは近似した大きさとなり、前記半導体チップを前記メタライズ層に接着させる前記溶融接合材も前記半導体チップと同じ大きさになっていることを特徴とする請求項14に記載の半導体装置。
- 前記メタライズ層上の一部に前記溶融接合材が設けられ、この溶融接合材上に前記半導体チップが位置していることを特徴とする請求項14に記載の半導体装置。
- 前記多段増幅器の最終増幅段を構成するトランジスタのコレクタワイヤのワイヤ長がベースワイヤのワイヤ長よりも短いことを特徴とする請求項14に記載の半導体装置。
- 前記多段増幅器が複数組形成されていることを特徴とする請求項14に記載の半導体装置。
- 前記多段増幅器が複数組形成され、各多段増幅器の入力端子は一部または全てが共通で、出力端子は相互に独立していることを特徴とする請求項24に記載の半導体装置。
- 前記多段増幅器が複数組形成され、各多段増幅器の入力端子及び出力端子は相互に独立していることを特徴とする請求項24に記載の半導体装置。
- 配線基板と、
前記配線基板の主面にそれぞれ設けられるメタライズ層上に溶融接合材を介してそれぞれ固定されるトランジスタが組み込まれた複数の半導体チップと、
前記半導体チップの制御電極及び信号を出力する電極と前記配線基板主面に設けられる各ボンディングパッドとを電気的にそれぞれ接続する導電性のワイヤを有し、
前記複数のトランジスタは回路的に順次縦続接続されて多段構成の増幅器が構成されてなる半導体装置の製造方法であって、
前記トランジスタのうちの少なくとも一つのトランジスタは、前記信号を出力する電極と前記ボンディングパッドを接続するワイヤの長さが前記制御電極と前記ボンディングパッドを接続するワイヤの長さよりも短くなるように前記半導体チップを片寄らせて固定され、
前記半導体チップは、前記メタライズ層上に供給された前記溶融接合材の一時的な加熱によって固定され、
前記配線基板の主面に窪みが設けられ、この窪みの底に、前記メタライズ層の一辺を前記窪みの内側壁の一辺まで到達するように前記メタライズ層を形成した後、前記メタライズ層上に前記溶融接合材を形成しておき、前記溶融接合材の一時的な加熱溶融による前記半導体チップの固定時、前記溶融接合材の表面張力による自己整合によって前記半導体チップの一辺を前記窪みの前記内側壁一辺に接触させて固定することを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 前記窪みの底全域にメタライズ層を形成するとともに、このメタライズ層の一部に前記溶融接合材を形成しておくことを特徴とする請求項27に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記窪みの底の一部にメタライズ層を形成するとともに、このメタライズ層の上面に前記溶融接合材を形成しておくことを特徴とする請求項27に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記メタライズ層の隣り合う二辺を前記窪みの内側壁の隣り合う二辺まで到達するように前記メタライズ層を形成した後、前記メタライズ層上に前記溶融接合材を形成しておき、前記溶融接合材の一時的な加熱溶融による前記半導体チップの固定時、前記半導体チップの隣り合う二辺を前記窪みの前記内側壁の隣り合う二辺に接触させて固定することを特徴とする請求項27に記載の半導体装置の製造方法。
- 送信部に多段増幅器が形成された半導体装置を有する無線通信装置であって、前記半導体装置は請求項1に記載の半導体装置であることを特徴とする無線通信装置。
- 送信部に多段増幅器が形成された半導体装置を有する無線通信装置であって、前記半導体装置は請求項14に記載の半導体装置であることを特徴とする無線通信装置。
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