JP4198884B2 - 半導体メモリおよび半導体メモリのアクセス方法 - Google Patents
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Description
日本国特許出願平成9年第313359号(平成9年11月14日出願)および日本国特許出願平成9年第313360号(平成9年11月14日出願)の明細書、請求の範囲、図面および要約を含む全開示内容は、これら全開示内容を参照することによって本出願に合体される。
技術分野
本発明は強誘電体キャパシタを用いた不揮発性の半導体メモリに関し、特に、ゲート電極と半導体層との間に少なくとも強誘電体層を有する強誘電体メモリFETを備えた半導体メモリおよび半導体メモリのアクセス方法に関する。
背景技術
強誘電体メモリFETは、たとえば図14に示されるように、半導体基板51に形成されたドレイン領域52とソース領域53との間の基板51上に強誘電体層54とゲート電極55が設けられたFET構造になっている。そして、ゲート電極55と半導体基板51との間に高い電圧を印加することにより、強誘電体層54に分極電荷が生じ、その分極の方向に応じて“1”と“0”の書込みをし、ゲート電極に低い電圧を印加することにより、“1”か“0”かを読み出すことができ、電源のオフなどによってもデータを消滅させることがなく、非破壊読出しの不揮発性メモリとして利用できることが知られている。しかし、このメモリセルをマトリックス状に設けてメモリを構成する回路構成が実用段階に至っていない。すなわち、各セルごとに書込み用および読出し用の選択素子をそれぞれ1個づつ設けて、選択素子を用いてマトリックス状の各セルにアクセスする方法が知られているが、書込み、読出しそれぞれに選択素子を用いると、セル面積が大きくなり、集積度が非常に低下するという問題がある。
一方、たとえば書込み時に所望の選択セル以外のセルに電圧が印加されてデータを書き替えてしまわないようにするため、電源電圧Vccを3等分して各ラインに電圧を印加するアクセス方法が、たとえば強誘電体キャパシタをマトリックス状に並べたメモリにおいて考えられている。この3等分電圧印加方法を強誘電体メモリFETをマトリックス状に並べたメモリに適用すると、つぎのようなアクセス方法が考えられる。
すなわち、図13(a)に簡略化して示されるように、マトリックス状の複数個の強誘電体メモリFETからなるセルを配線し、選択セルPに“1”の書込みを行う場合、選択セルPのあるワード線WL1にVcc、選択セルPのないワード線WL2に1/3・Vcc、選択セルPのあるビット線BL1に0、選択セルPのないビット線BL2に2/3・Vccをそれぞれ印加することにより書込みを行う。また、“0”を選択セルPに書き込むときは、ワード線WL1に0、ワード線WL2に2/3・Vcc、ビット線BL1にVcc、ビット線BL2に1/3・Vccを、選択セルPを読み出すときはワード線WL1にV1(Vccより低い電圧で、読出し時の電圧)、ワード線WL2に0、ビット線BL1に0、データ線DL1にVSA(データ検出用電圧)をそれぞれ印加する。この“1”および“0”の書込みおよび読出し時のシーケンスを図13(b)に示す。なお、図13(b)において、空欄部分はオープンまたは0Vであることを意味する。その結果、書込み時には、選択セルPにVccまたは−Vccの高い電圧がゲート電極と半導体基板との間に印加されて“1”または“0”の書込みが行われる。この時、非選択セルにかかる電圧は1/3・Vccまたは−1/3・Vccとなり、書込みは行われない。また、読出し時には、選択セルPにはゲート電極と半導体基板間にV1が印加されるが、非選択セルは0かオープンで、殆ど電圧は印加されず、読出しは行われない。
前述のように、書込みおよび読出しは選択セルのみを選択して行えるが、たとえば書込み時に非選択セルにも1/3・Vccの電圧が印加される。この1/3・Vcc電圧の印加により、強誘電体キャパシタの分極(記憶“1”か“0”に対応する分極)がディスターブされて、何回も繰り返されることにより、書込みが行われないセルの記憶内容が変化することが懸念される。そのため、強誘電体メモリセルを利用した小形の半導体メモリで、非選択メモリのデータをディスターブしないアクセス方法が確立しておらず、前述のように、強誘電体メモリFETを使用してマトリックス状にセルを形成した半導体メモリがまだ実用化していないという問題がある。
発明の開示
本発明は、このような問題を解決して、強誘電体メモリFETをマトリックス状に並べて半導体メモリを構成する場合に、各セルに選択素子を設けなくても非選択セルへ印加されるディスターブ電圧によりデータが破壊されないで、所望のメモリセルのみにデータの書込みおよび/または読出しをすることができる半導体メモリの書込み方法および読出し方法を提供することを目的とする。
本発明は、また、このような非選択時に低い電圧が印加される場合のデータのディスターブ(劣化)に対しても、そのデータを修復しメモリとして信頼性よく使用することができる構造の強誘電体メモリFETを用いた半導体メモリを提供することを目的とする。
本発明のさらに他の目的は、強誘電体メモリFETをマトリックス状に並べて半導体メモリを構成する場合に、電源電圧の3等分の電圧を印加するアクセス方法によっても記憶内容がディスターブされないような半導体メモリのアクセス方法を提供することにある。
すなわち、本発明は、記憶内容がディスターブされないような強誘電体メモリを用いた半導体メモリ等を提供することを目的とする。
本発明による半導体メモリの書込み方法は、強誘電体層をゲート電極と半導体層との間に有する強誘電体メモリFETからなるメモリセルを含む半導体メモリにおいて、前記メモリセルにデータを書き込む際に、該データの書込みの電圧と逆方向の電圧を印加した後に前記書込み用の電圧を印加することを特徴とする。
また、本発明の半導体メモリの読出し方法は、強誘電体層をゲート電極側に有する強誘電体メモリFETからなるメモリセルを含む半導体メモリにおいて、前記メモリセルのデータを読み出す際に、該データの読出しの電圧と逆方向の電圧を印加した後に前記読出し用の電圧を印加することを特徴とする。
ここに強誘電体層をゲート電極と半導体層との間に有する強誘電体メモリFETとは、ゲート電極(メタルM)−強誘電体(F)−半導体(S)構造(MFS構造)、MFS構造のメタルMと半導体Sとの間に強誘電体F以外の層を少なくとも1層有する構造、ゲート電極(M)−強誘電体(F)−フローティングゲート(M)−絶縁膜(I)−半導体(S)構造(MFMIS構造)など、ゲート電極と半導体層との間に少なくとも強誘電体層が設けられたFET構造のメモリ素子を意味する。
このような方法にすることにより、たとえば電源電圧を3等分して各ラインに電圧を印加するアクセス方法において、非選択セルに1/3・Vccのディスターブ電圧が印加されても、常にディスターブ電圧と逆方向の電圧が前後して印加されるため、ディスターブ電圧による電荷の減少は回復してデータが消滅することがない。
前述の書込み時の各メモリセルへの電圧の印加は、たとえば電源電圧を3等分して各ラインに印加する3等分法を使用することができ、選択セルに電源電圧を、非選択セルに電源電圧の±1/3・の電圧を印加することができる。
前述のメモリセルをマトリックス状に配列してメモリを構成するには、前記強誘電体メモリFETからなるセルをマトリックス状に複数個配列し、行または列方向に並ぶ各セルのゲートを連結してワード線を形成し、行または列方向に並ぶ各セルのソースを連結してソース線を形成し、列または行方向に並ぶ各セルのドレインを連結してデータ線を形成し、列または行方向に並ぶ各セルの半導体層を連結してビット線を形成し、前記ワード線とビット線との間に電圧を印加することにより書込みまたは読出しをすることができる。
本発明による強誘電体層を用いた半導体メモリは、また、強誘電体層をゲート電極と半導体層との間に有する強誘電体メモリFETからなるメモリセルと、該メモリセルのデータを転写し得るバッファセルと、前記メモリセルのデータを前記バッファセルに転写し、かつ、該転写されたデータを再度前記メモリセルに再書込みをするバッファ回路とからなっている。
この構造にすることにより、バッファセルを利用して定期的にメモリセルのデータをリフレッシュすることができるため、データを消滅させることなく長時間に亘ってデータを保持することができる。
前記メモリセルがマトリックス状に複数個設けられ、前記バッファセルが前記メモリセルの行または列の少なくとも1ラインのメモリセルのデータを転写し得るセル列からなり、前記バッファ回路が前記メモリセルの少なくとも1ラインのデータを一括して転写し、かつ、再書込みをし得る回路であることが、1ラインごとにデータの転写および再書込みをすることができるため、短時間でデータをリフレッシュすることができる。
前記バッファセルが、強誘電体層をゲート電極と半導体層との間に有する強誘電体メモリFETからなっておれば、メモリセルと同じ工程で同時にダミーの記憶セルを作製することができる。
前記バッファセルのゲート電極と前記メモリセルのデータラインとの間に接続され前記メモリセルの転写を制御する第1の選択素子と、前記バッファセルのゲート側に接続される前記バッファセルのデータの読出しを制御する第2の選択素子と、前記バッファセルの読出しデータの電圧を変換して前記メモリセルの基板を連結するビットラインに接続する変圧器とから前記バッファ回路が形成されることにより、選択素子の制御によりデータのリフレッシュを随時行うことができる。
本発明の強誘電体層を有する半導体メモリのアクセス方法は、強誘電体層をゲート電極と半導体層との間に有する強誘電体メモリFETからなるメモリセルと、該メモリセルのデータを転写し得るバッファセルとを有する半導体メモリにおいて、前記メモリセルのデータを一旦前記バッファセルに転写し、かつ、転写された前記データを再度前記メモリセルに再書込みをすることにより、前記メモリセルのデータをリフレッシュすることを特徴とする。
前記メモリセルのデータのリフレッシュは、該メモリセルに用いられる強誘電体層のデータの予め把握されたディスターブ特性に応じて一定の時間ごとに行ったり、該メモリセルへの書込みおよびまたは読出しの回数が一定回数に達したごとに行うことが好ましい。この場合、前記アクセスの回数を書込みおよび/または読出しの回数をカウンタによりカウントして、所定の回数に達したときにリフレッシュすることができる。
本発明の特徴は、上記のように広く示すことができるが、その構成や内容は、目的および特徴とともに、図面を考慮に入れた上で、以下の開示によりさらに明らかになるであろう。
発明を実施するための最良の形態
つぎに、図面を参照しながら本発明の一実施形態である強誘電体層を用いた半導体メモリの書込み方法および読出し方法について説明をする。
本発明の強誘電体層を用いた半導体メモリの書込み方法および読出し方法は、図1にその一実施形態の一部である4個のメモリセルQ1〜Q4部の回路説明図と共に、シーケンスが示されるように、強誘電体層をゲート電極と半導体層との間に有する強誘電体メモリFETからなるメモリセルQ1〜Q4が、たとえばマトリックス状に複数個設けられる半導体メモリにおいて、メモリセルを選択してデータを書き込む際、または読み出す際に、そのデータの書込みまたは読出しの電圧と逆方向の電圧を印加した後に、書込み用または読出し用の電圧を印加することを特徴としている。すなわち、本発明者が鋭意検討を重ねて、たとえば電源電圧の3等分法による書込みをする場合に、非選択セルに印加される1/3・Vccのディスターブ電圧による非選択セルのデータへの影響を、強誘電体キャパシタの電荷量の変化により調べた結果、後述するように、低い電圧が印加される場合でも、強誘電体キャパシタの電荷量がディスターブされるが、そのディスターブの現象は逆方向のディスターブパルスが印加されることにより元の電荷量に修復することを見出した。その知見に基づき、書込みおよび/または読出しを行う際に、まず逆方向の電圧を印加してから書込みまたは読出しの電圧を印加することにより、ディスターブ電圧によるデータの劣化の防止をすることに本発明の特徴がある。
つぎに、図1を参照しながら具体例によりさらに詳細に説明をする。図1(a)には、4個の強誘電体メモリFETからなるメモリセルQ1〜Q4がマトリックス状に配列され、横方向に並ぶセルのゲート電極が連結されてワード線WL1、WL2がそれぞれ設けられ、横方向に並ぶセルのソースが連結されてソース線SL1、SL2がそれぞれ設けられ、縦方向に並ぶセルのドレインが連結されてデータ線DL1、DL2が、縦方向のセルの基板(半導体層)が連結されてビット線BL1、BL2がそれぞれ設けられてマトリックスが形成されている。
このマトリックスの選択セルQ1に“1”を書き込む場合、まず選択セルQ1のワード線WL1に0、ビット線BL1にVccを印加し、非選択セルとなるワード線WL2に2/3・Vcc、ビットラインBL2に1/3・Vccを印加して“0”(“1”の逆の電圧を印加)を書き込む。ついで、ワード線WL1にVcc、ビット線BL1に0を印加し、非選択セルとなるワード線WL2に1/3・Vcc、ビット線BL2に2/3・Vccをそれぞれ印加することにより、メモリセルQ1に“1”を書き込む。逆にメモリセルQ1に“0”を書き込むときは、まず“1”を書き込むのと同様に、選択セルQ1のワード線WL1にVcc、ビット線BL1に0を印加して、非選択セルとなるワード線WL2に1/3・Vcc、ビット線BL2に2/3・Vccを印加する。ついで、ワード線WL1に0、ビット線BL1にVccを印加して“1”を書き込み、非選択セルとなるワード線WL2に2/3・Vcc、ビット線BL2に1/3・Vccをそれぞれ印加する。
また、選択セルQ1の読出しをするときは、まずワード線WL1に−V1(V1は、“1”または“0”に書き込まれたセルのFETをオンにするために必要な電圧で、FETのスレッショルド電圧の差とSi基板の不純物濃度などにより決まる値で、不純物注入量を調整することによりFETのスレッショルド電圧が変化し調整することができる)、ビット線BL1とワード線WL2を0にし、データ線DL1に−VSA(データ検出用電圧)を印加してから、ワード線WL1にV1、ビット線BL1とワード線WL2に0を、データ線DL1にVSAを印加することにより、選択セルQ1のデータを読み出す。この一連の書込みおよび読出しのシーケンスを図1(b)に示す。なお、図1(b)において、空欄のところはオープンまたは0Vであることを意味する。
前述のメモリセルを配列する構造は、たとえば図2〜3に示される構造にすることができる。すなわち、図2はその一例の平面図で、図3はそのA−A線、B−B線、C−C線、およびD−D線の断面説明図で、強誘電体メモリFET(メモリセルQ1〜Q4)部分を示した図である。この例は、各セル列の分離を半導体基板に深い溝を掘ってその中に絶縁物を埋め込んで分離するディープトレンチアイソレーション10により行う例である。
この構造は、たとえばp形またはn形の半導体基板1にp形ウェル1aが設けられ、n形のドレイン領域2、ソース領域3がウェル1a内にそれぞれ形成されて、その間のウェル1a上にたとえばPZT系からなる強誘電体層4を介して、たとえばポリシリコンからなるゲート電極5(WL1、WL2)が設けられている。6はLOCOS酸化膜、7、8、9はそれぞれ層間絶縁膜で、10がウェル1aを各列に分離するディープトレンチアイソレーションである。図2のQ2で示される部分が1つのメモリセルで、図2で横方向に並ぶ各セルのゲート電極をそれぞれ連結してワード線WL1、WL2が設けられ、同様に横方向に並ぶ各セルのソース領域3を連結してソース線SL1、SL2が設けられ、縦方向に並ぶ各セルのドレイン領域2に電気的に接続された第1メタル層11を連結してデータ線DL1、DL2がそれぞれ設けられることにより、図1に等価回路図で示されるようなマトリックス状にメモリセルが設けられている。なお、ビット線BL1、BL2はウェル1aに接続して設けられている。
図4〜5は本発明の半導体メモリを構成する別の構造例の図2〜3と同様の図である。この例は、たとえば半導体基板1にp形のウェル16を形成し、そのウェル16内にn形のドレイン領域2、ソース領域3が形成され、各ウェル16の間は素子分離用のたとえばLOCOS酸化膜15により分離されている。そして、そのウェル16がビット線になっている。その他の構造は、図2〜3に示される構造と同じであり、同じ符号を付してその説明を省略する。
これらの構造では、いずれも半導体層上に直接強誘電体層が設けられ、その上にゲート電極とするメタルが設けられたMFS構造のメモリセルであったが、強誘電体層と半導体層との間にSiO2やSi3N4などの他の絶縁膜が介在したMFIS構造のものや、その間にさらにフローティングゲートのメタル層が設けられたMFMIS構造などでもよく、要は強誘電体層がFETのゲート電極と半導体層との間に設けられる強誘電体メモリFETを構成するものであればどの構造でもよい。
つぎに、前述の書込みまたは読出しの前に逆方向の電圧を印加してから通常の書込みまたは読出しをすることにより、データを破壊することなく保存をすることができる根拠となる、非選択セルに印加される1/3・Vccの影響の検証について説明をする。この検証は、300nmの厚さのPZTキャパシタを用い、強誘電体キャパシタに1/3・Vccの電圧を印加してそのスイッチング電荷量(一定方向に電圧を印加したときに分極方向が反転する場合に発生する電荷量と分極方向が反転しない場合に発生する電荷量との差をいう)の変化を調べることにより行った。
まず、図6(a)に示されるような負方向に電源電圧Vccを印加することにより、膜を負方向に分極した後に、図6(b)に示されるような正方向(分極と反対方向)のみの同方向の1/3・Vccパルスを所定回数(n回)印加し、その後に図6(c)に示されるダブルパルスを印加して、スイッチング電荷量の測定を行った。また、前述の図6(b)に示される同方向のパルスに代えて図6(d)に示されるような正負方向に交互に変化する±1/3・Vccの双方向パルスを印加したときの電荷量の測定も行った。なお、ディスターブパルスのパルス幅はすべて200nsで行い、電源電圧Vccは5Vと3.3V(印加する電圧はこの1/3になる)で行った。また、双方向パルスの場合も、正方向および負方向それぞれで1回のパルスの印加として1サイクルで2回のパルス印加としている。
図7は、1/3・Vcc(または±1/3・Vcc)のパルスを印加した回数nに対する測定したスイッチング電荷量の絶対値をプロットしたグラフである。図7において、A1は3.3Vで同方向パルス、A2は3.3Vで双方向パルス、B1は5Vで同方向パルス、B2は5Vで双方向パルスをそれぞれ印加した場合の結果である。図7から明らかなように、電源電圧Vccが5Vの場合も3.3Vの場合も同様の結果が得られ、同方向パルス印加の場合は徐々にスイッチング電荷量は減少し、103〜104回程度のパルス印加でスイッチング電荷量は1/3以下となっている。これは、言い換えると、1つのメモリセルに同方向のディスターブパルスがかかるようなアクセスを繰り返すと、そのセルのデータが消されてしまう虞れがあることを示している。
一方、正負方向に交互にパルスを印加したもの(A2、B2)は、108回以上のパルス印加でもスイッチング電荷量は殆ど変化していないことが分る。この正負方向に交互にパルスを印加することにより、非常に多くのパルス印加に対してもデータが変化しないという結果に基づき本発明がなされている。
この双方向パルスを印加した場合の正負それぞれ1回ごとのパルスの印加に対してスイッチング電荷量がどのように変化するかを、電源電圧Vccを5Vにして調べた結果が図8に示されている。図8から明らかなように、Vccが5V(印加電圧は1.67V)の場合、分極方向と逆方向のディスターブパルスを加えるとスイッチング電荷量は30から15ぐらいまで減少する。しかし、分極方向と同方向のパルスを加えることにより、ほぼ元の値まで回復していることが分る。すなわち、交互パルス(双方向パルス)が印加されることにより、ある一定の値まで蓄積電荷量は減少するが、それ以上の減少は起こらない。その減少した値がセルのデータを判別するのに十分な電荷量であればディスターブによりデータが失われることを防止することができる。
また、このスイッチング電荷量の変化をキャパシタに1/3・Vccを印加したときの印加時間に対する電流密度(A/cm2)の変化で示すと図9のようになる。図9で、Dは分極方向を反転させて書込みを行う場合およびその後のディスターブパルスが偶数回(n=2k)、すなわち双方向パルスが分極方向と同じ方向のパルスが印加されたときの電流値、Eは奇数回(n=2k+1)、すなわち分極方向と異なる方向のディスターブパルスが印加された後の電流値、Fは分極方向と同じ方向に電圧を印加して書込みをする場合の電流値を示している。前述のスイッチング電荷量は、このDまたはEの電流値とFの電流値との差を示す電荷量である。
つぎに、1回のディスターブパルスによるスイッチング電荷量の減少を低く抑えるため、パルス幅の依存性と電源電圧Vccの依存性を調べて最適値を検討した。その結果を図10〜11に示す。図10は、電源電圧が3.3Vの場合(A)と、5Vの場合(B)において、1回のディスターブパルス(分極方向と反対方向)を印加することによりどれだけ蓄積電荷量が減少するかを、パルス幅を変化させて測定したものである。その結果、パルス幅を長くすることにより、減少が大きくなっていることが分る。Vcc=3.3V、パルス幅10−7秒以下ではディスターブ(電荷量の減少)が非常に小さくなっていることが分る。実際の素子では、パルス幅は10−7秒以下になると予想されるため、単パルスによる大きなディスターブの心配はないといえる。
また、図11に、5Vで正方向と負方向に分極させたキャパシタにそれぞれ分極方向と逆方向の電圧(ディスターブ電圧)を印加した後にスイッチング電荷量を測定したもので、ディスターブ電圧の値を変化させて測定している。書込みの分極方向と逆方向パルスによる測定がAで同方向パルスによる測定がBである。なお、パルス幅は500nsで行っている。2つのキャパシタのスイッチング電荷量の差がデータ検出のための電荷量となる。その結果、ディスターブ電圧が約1.5V付近で2つのキャパシタのスイッチング電荷量が逆転していてデータが検出できなくなっていることを示している。1/3・Vccのディスターブパルスが印加されても充分に検出できるための電荷量を保持するためには、2つの線の交差する電圧の約2倍程度の電圧をVccとするのが最も適している。ただし、この特性は、強誘電体の飽和特性や膜厚などによって変化するため、膜に適したVccを定めるというよりは、Vccに適した膜厚、材料を選択するとよいと考えられる。今回の検討膜では、電源電圧Vccが3.3V、書込みパルス幅が100ns以下が最も適していると考えられる。
このように、一定方向のディスターブ電圧の印加がある回数以上繰り返されると、非選択セルに書き込まれたデータが消去される虞れがあり、しかもこれはパルス幅やパルスの大きさにも大きく依存している。しかし、本発明によれば常に正方向と負方向の電圧が交互に印加されるため、データの減少は1回目のディスターブ電圧による減少のみで、その後の減少は進行しない。その結果、1回目のディスターブ電圧によるデータの減少が読出しに不都合のない程度に、電源電圧Vccや書込み(読出し)速度、強誘電体材料やその膜厚を最適化することにより、読出しに何等の支障なく、108回のディスターブパルスの印加に対しても常にデータが消去されずに維持される。その結果、強誘電体メモリFETを利用しながらマトリックス状に配列されたランダムアクセスメモリを構成することができる。
前述の例では、書込みおよび読出しの両方についてその書込みまたは読出しの電圧を印加する前に、逆方向の電圧を印加する例であったが、半導体メモリの種類によっては、書込みと読出しの比率が極端に偏る場合もあり、頻繁に行われる側(書込みまたは読出し)には選択素子を接続してその選択素子により選択セルと非選択セルとをスイッチングし、頻度の少ない側には選択素子を用いないで本発明の方法を用いることにより、選択素子の数を減らしてチップ面積を小さくしながら書換え、読出しのスピードを低下させることなくアクセスすることができる。
つぎに、図面を参照しながら本発明の他の実施形態である強誘電体層を用いた半導体メモリおよびそのアクセス方法について説明をする。
本発明の強誘電体層を用いた半導体メモリは、図12にその一実施形態の一部の等価回路図が示されるように、強誘電体層をゲート電極と半導体層との間に有する強誘電体メモリFETからなり、たとえばマトリックス状に設けられる複数個(図12では4個)のメモリセルQ1〜Q4と、そのメモリセルQ1〜Q4のデータを転写し得るバッファセル20と、メモリセルQ1〜Q4のデータをバッファセル20に転写し、かつ、転写されたデータを再度前記メモリセルQ1〜Q4に再書込みをするバッファ回路30とからなっている。すなわち、本発明者が鋭意検討を重ねて、非選択セルに印加される1/3・Vccのディスターブ電圧による非選択セルのデータへの影響を、強誘電体キャパシタの電荷量の変化により調べた結果、後述するように、低い電圧が印加される場合でも、メモリセルの書込みおよび読出しにより記憶されたデータがディスターブされるが、そのディスターブの現象は印加される電圧の大きさおよび時間により一定の割合で生じ、定期的にデータを再書込み(リフレッシュ)することにより、データを破壊することなくメモリとして使用することができることを見出した。その知見に基づき、定期的にそのデータをリフレッシュすることができるようにバッファセル20およびその転写と再書き込みを制御することができるバッファ回路30が設けられていることに本発明の特徴がある。
バッファセル20は、図12に示される例では、メモリセルの強誘電体メモリFETと同じ構造のもので、FETのゲートと半導体層との間に強誘電体層が介在された構造のものを使用することができる。しかし、一定のデータを記憶することができれば、他の構造のものでもよい。このバッファセル20は、マトリックス状に設けられたメモリセルの行または列と平行に少なくとも1ライン設けられることが、マトリックスの少なくとも1ラインごとにリフレッシュすることができるため好ましい。
バッファ回路30は、メモリセルからバッファセル20へのデータの転写および転写されたデータを再度メモリセルに書き込むための制御回路を構成している。図12に示される例では、メモリセルのデータ線DLとバッファセル20のゲートとの間にFETからなる第1の選択素子31が接続され、横方向に並ぶ(1ラインに形成された隣接するバッファセルにそれぞれ接続される)第1の選択素子31のゲートを連結してRL5が引き出されている。そして、バッファセル20のゲートにFETからなる第2の選択素子32のドレイン(ソース)が接続され、同じく横方向に並ぶ第2の選択素子のソース(ドレイン)が連結されてRL3として、同様にゲートが連結されてRL4として引き出され、バッファセル20のソースが連結されてRL1、バッファセル20の基板が連結されてRL2、バッファセル20のドレインが変圧器33を介してメモリセルのビット線BLに接続されることにより構成されている。
これらのメモリセルを配列する構造は、たとえば前述の図2〜3に示される構造と同様の構造にすることができる。また、前述の場合と同様に、図4〜5のような構造にすることもできる。
前述の場合と同様に、これらのメモリセルの構造は、半導体層上に直接強誘電体層が設けられ、その上にゲート電極とするメタルが設けられたMFS構造とするほか、強誘電体層と半導体層との間にSiO2やSi3N4などの他の絶縁膜が介在したMFIS構造のものや、その間にさらにフローティングゲートのメタル層が設けられたMFMIS構造などでもよく、要は強誘電体層がFETのゲート電極と半導体層との間に設けられる強誘電体メモリFETを構成するものであればどの構造でもよい。
バッファセルおよびバッファ回路を設けてデータをリフレッシュすることにより、データを破壊することなく保存をすることができる根拠となる、非選択セルに印加される1/3・Vccの影響の検証については、前述の場合(図6、図7、図10、図11)と同様であるので、記載を省略する。
前述のように、一定方向のディスターブ電圧の印加がある回数以上繰り返されると、非選択セルに書き込まれたデータが消去される虞れがあり、しかもこれはパルス幅やパルスの大きさにも大きく依存しており、電源電圧Vccや書込み(読出し)速度、強誘電体材料や膜厚を最適化することによりディスターブパルスによる電荷量の減少を低減することができることを見出した。この知見に基づき、前述のように、一定回数(たとえば1000回程度)の書換えごとにリフレッシュすることにより常にデータが消去されずに維持され、強誘電体メモリFETを利用しながらマトリックス状に配列されたランダムアクセスメモリを構成することができる。
つぎに、図12に示される本発明の半導体メモリの一実施形態の回路図を参照しながら、そのデータをリフレッシュするアクセス方法について説明をする。まず、バッファ回路30内のバッファセル20に“0”を書き込んでイニシャライズをする。シーケンスとしては、RL4にVccを加え、第2の選択素子32をオンし、RL3を接地して、RL2にVccを印加する。この作業によりバッファ回路内の強誘電体メモリFET(バッファセル20)は全てデータ“0”が書き込まれる。つぎに、メモリセルのデータをバッファセル20に転写する。シーケンスとしては、RL5にVccを印加してRL4を接地することにより第1の選択素子31をオンにして、バッファセル20のゲートにつながるラインを選択する。転写を行うメモリセル列のワード線WL1にV1を印加してビット線BLを接地する。V1はWL1につながって“1”が書き込まれているメモリセルのFETをオンするために必要な電圧で、FETのスレッショルド電圧の差とSi基板の不純物濃度などにより決まる値で、不純物注入量を調整することによりFETのスレッショルド電圧が変化し調整することができる。SL1にVccを印加するとメモリFETがオンになったセルのDLのみ電位がVccとなり、バッファセル20のゲートにVccが印加され、データ“1”が書き込まれる。
つぎに、バッファセル20にストアされたデータをメモリセルに再書込みする。まず、メモリセルの初期化を行う。WL1にVccを印加してBL1、BL2を接地することによりWL1につながっているメモリセルに“1”を書き込む。つぎにバッファセルのデータをメモリセルに転写する。シーケンスとしては、RL4にVccを印加し、RL5を接地することにより第1の選択素子31をオフ、第2の選択素子33をオンにする。RL1にVccより小さな電圧Vrwを印加すると変圧器33に0またはVrwの電圧が印加される。変圧器33の部分で0をVccに、Vrwを1/3・Vccにそれぞれ変換する。WL1、WL2は図10でのデータ“0”の書込みのときと同様に設定すると、メモリセルに元のデータが書き込まれる。このデータの転写および再書込みの一連のシーケンスを図12(b)に示す。
この再書込みシーケンスの間隔の設定は2通り考えられる。データが書き込まれたセルにその反対方向に1/3・Vccのディスターブ電圧を印加したときにデータが消滅してしまう(検出不可能となる)時間をteとする。1回の書込みの際にかかるディスターブパルスの幅をtwとすると、n=te/tw回の書込みで、データが消滅する虞れが出てくる。ゆえに、データを消滅させないためには、カウンタにより書込み回数をカウントし、n回の書込みが行われる前に再書込みシーケンスを実行する。この場合、読出し時にも僅かづつのデータの消滅が生じるため、読出し回数も書込みの回数に換算して(印加電圧が書込み時より低いため、その電圧に比例してディスターブが減少する)同様にカウントすることが好ましい。
データのリフレッシュのタイミングのもう一つの方法は、タイマーによりte以下の周期で一定時間ごとに再書込みシーケンスを実行すれば、データの消滅は生じない。すなわち、書込みおよび読出しの頻度が半導体メモリの使用時間に対してほぼ一定であれば、半導体メモリの使用時間をタイマーによりカウントすることにより、データが消去される時期を把握することができ、その時期の前にリフレッシュすることができる。
これらの方法のどちらを採用するかは、その半導体メモリの使用環境により決定され、または書込みと読出しの頻度の割合などにより決定される。また、書込みおよび読出しの一方のみの頻度が非常に多い使い方の場合には、その頻度の多い方の選択素子を1個設けて、全然ディスターブ電圧が印加されないようにすることもできる。そうすれば、殆どリフレッシュをしないでデータを保存することができる。
この再書込み用バッファ回路は1つの行または列に1つ設ければよいため、チップ面積が増大することはない。そのため、殆どチップ面積を大きくする必要がなく、小形のセルでデータを長期間に亘って保持することができる。しかも、常にリフレッシュする必要はなく、使用頻度に応じてリフレッシュをすればよいため、リフレッシュの時間処理速度が遅れるということも殆どない。さらに、使用しないで電源をオフにしているときは、強誘電体層のデータはそのまま保存されるため、使用しないときにはデータのリフレッシュの必要が全然ない。
本発明によれば、強誘電体メモリFETがマトリックス状に配列された半導体メモリにおいて、書込み時および/または読出し時に非選択セルへのディスターブ電圧によってもデータが消滅することがない。そのため、完全なディスターブを防止するためには書込みおよび読出しのための2つの選択素子が必要であったものが、選択素子をなくしたり、減らすことができ、セル面積を小さくした1FET/1セルの小形の強誘電体メモリFETを用いた不揮発性の半導体メモリが得られる。
本発明によれば、使用頻度に応じた一定の割合でデータをリフレッシュするだけで、選択素子がなくてもデータを破壊することなく書込みおよび読出しをすることができる。その結果、強誘電体メモリFETをマトリックス状に並べて1FET/1セルの半導体メモリを実用化することができ、電源がオフになってもデータを保持することができる不揮発性の半導体メモリを小形のチップで実現することができる。
また、リフレッシュのタイミングは、使用される強誘電体の性質(厚さや誘電特性など)、および使用条件(電源電圧、パルス幅など)により、予期することができ、カウンタまたはタイマーなどを設けることにより、そのリフレッシュのタイミングを確実に把握することができ、データを破壊することなく維持することができる。
上記においては、本発明を好ましい実施形態として説明したが、各用語は、限定のために用いたのではなく、説明のために用いたものであって、本発明の範囲および精神を逸脱することなく、添付のクレームの範囲において、変更することができるものである。
【図面の簡単な説明】
図1(a)は、本発明の半導体メモリの一実施形態の結線図である。
図1(b)は、図1(a)の半導体メモリの動作のシーケンス図である。
図2は、図1のメモリセル部分の構造例を示す平面説明図である。
図3(a)〜(d)は、図2の断面説明図である。
図4は、図1のメモリセル部分の他の構造例を示す平面説明図である。
図5(a)〜(d)は、図4の断面説明図である。
図6(a)〜(d)は、ディスターブ特性を調べる際の印加する波形の例を示す図である。
図7は、印加するパルスの回数に対するディスターブ特性の図である。
図8は、双方向パルスを印加したときの正負1回ごとの電荷の変化を示す図である。
図9は、強誘電体キャパシタに電圧を印加したときの印加時間に対する電流の変化を示す図である。
図10は、印加するパルスのパルス幅に対するデイスターブ特性の図である。
図11は、印加するパルスの大きさ(振幅)に対するディスターブ特性の図である。
図12は、本発明の半導体メモリの他の実施形態の等価回路図である。
図13(a)〜(b)は、強誘電体メモリFETをマトリックス状に配設して3等分法によりアクセスする方法の説明図である。
図14は、強誘電体メモリFETの一例の構造説明図である。
Claims (12)
- 強誘電体層をゲート電極と半導体層との間に有する強誘電体メモリFETからなるメモリセルを含む半導体メモリにおいて、前記メモリセルにデータを書き込む際に選択セルおよび非選択セルそれぞれのゲート電極と半導体層との間に、選択セルには該データの書込みの際に印可される書込み用の電圧と逆方向の電圧を印加した後に前記書込み用の電圧を印加し、非選択セルには書込み電圧よりも低い逆方向の電圧を印加した後に元の電荷量を修復するように書込み電圧よりも低い電圧を印加することを特徴とする半導体メモリの書込み方法。
- 前記メモリセルへの書込み時の電圧の印加を電源電圧を3等分して各ラインに印加する3等分法を使用し、選択セルに電源電圧を、非選択セルに電源電圧の±1/3の電圧を印加する請求項1記載の書込み方法。
- 前記強誘電体メモリFETからなるセルをマトリックス状に複数個配列し、行または列方向に並ぶ各セルのゲートを連結してワード線を形成し、行または列方向に並ぶ各セルのソースを連結してソース線を形成し、列または行方向に並ぶ各セルのドレインを連結してデータ線を形成し、列または行方向に並ぶ各セルの半導体層を連結してビット線を形成することにより前記半導体メモリを構成し、前記ワード線とビット線との間に電圧を印加することにより書込みをする請求項1または2記載の半導体メモリの書込み方法。
- 強誘電体層をゲート電極と半導体層との間に有する強誘電体メモリFETからなるメモリセルを含む半導体メモリにおいて、前記メモリセルのデータを読み出す際に、該データの劣化を防止するために選択セルのゲート電極と半導体層との間に該データの読出しの電圧と逆方向の電圧を印加した後に前記読出し用の電圧を印加することを特徴とする半導体メモリの読出し方法。
- 強誘電体層をゲート電極と半導体層との間に有する強誘電体メモリFETからなるメモリセルと、該メモリセルのデータ線とバッファセルのゲートとが接続されることにより該メモリセルのデータを他の記憶素子を介在させることなく直接的に転写し得るバッファセルと、前記メモリセルのデータを前記バッファセルに転写し、かつ、該転写されたデータを再度前記メモリセルに再書込みをするバッファ回路とからなる強誘電体層を用いた半導体メモリ。
- 前記メモリセルがマトリックス状に複数個設けられ、前記バッファセルが前記メモリセルの行または列の少なくとも1ラインのメモリセルのデータを転写し得るセル列からなり、前記バッファ回路が前記メモリセルの少なくとも1ラインのデータを一括して転写し、かつ、再書込みをし得る回路である請求項5記載の半導体メモリ。
- 前記バッファセルが、強誘電体層をゲート電極と半導体層との間に有する強誘電体メモリFETからなる請求項5または6記載の半導体メモリ。
- 前記バッファセルのゲート電極と前記メモリセルのデータラインとの間に接続され前記メモリセルの転写を制御する第1の選択素子と、前記バッファセルのゲート側に接続される前記バッファセルのデータの読出しを制御する第2の選択素子と、前記バッファセルの読出しデータの電圧を変換して前記メモリセルの基板を連結するビットラインに接続する変圧器とから前記バッファ回路が形成されてなる請求項7記載の半導体メモリ。
- 強誘電体層をゲート電極と半導体層との間に有する強誘電体メモリFETからなるメモリセルと、該メモリセルのデータ線とバッファセルのゲートとが接続されることにより該メモリセルのデータを他の記憶素子を介在させることなく直接的に転写し得るバッファセルとを有する半導体メモリにおいて、前記メモリセルのデータを一旦前記バッファセルに転写し、かつ、転写された前記データを再度前記メモリセルに再書込みをすることにより、前記メモリセルのデータをリフレッシュする強誘電体層を有する半導体メモリのアクセス方法。
- 前記メモリセルのデータのリフレッシュを、該メモリセルに用いられる強誘電体層のデータの予め把握されたディスターブ特性に応じて一定のアクセス時間ごとに行う請求項9記載のアクセス方法。
- 前記メモリセルのデータのリフレッシュを、該メモリセルへの書込みおよび/または読出しの回数が一定回数になるごとに行う請求項9記載のアクセス方法。
- 前記書込みおよび/または読出しの回数をカウンタによりカウントする請求項11記載のアクセス方法。
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