JP4042418B2 - ハンダ付けフラックス - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、電子部品を回路基板へ実装するために用いられるハンダ付けフラックスに関する。
【0002】
【従来の技術】
ハンダ付けフラックス、ハンダペースト、糸ハンダ、フロ−用液状フラックス等は、エレクトロニクス産業において電子部品を表面実装するために用いられている。例えばハンダペーストは、プリント基板の上にスクリーン印刷または場合によってはディスペンサーにより塗布され、その後部品が搭載され、ハンダペーストがリフローされる。リフローとは、部品が搭載された基板を予備、その後ハンダの融点以上に加熱し部品の接合を行なう一連の操作をいう。
【0003】
また、最近は環境問題から、鉛を含まないPbフリーハンダが推奨されており、これに対応してPbフリーハンダに移行すべく開発が進められ、接合強度の信頼性から、錫−銀系、錫−銅系、錫−亜鉛系が特に有望視されている。
【0004】
従来の錫−鉛系ハンダは、錫、鉛の電位が非常に近いため安定であるが、鉛フリーハンダは、錫と銀、銅、亜鉛に電位差が生じるため、ハンダ金属が酸化されやすく、ハンダ付け性が低下する。特に、錫・亜鉛系のハンダでは、亜鉛が鉛よりも卑な電位のために、非常に酸化が激しく大気でのハンダ付けの実用化は困難とされてきた。大気でのハンダ付けには、フラックスとして強い活性剤や添加量を多くして使用する必要があるが、その場合ハンダ金属とフラックスが反応しやすく、ハンダペーストの安定性が低下してしまうのが実情である。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上記の問題点に鑑みなされたもので、特に鉛フリーハンダにおいて大気でのハンダ付け性に優れたフラックスを提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】
本発明者は上記の課題を解決すべく鋭意検討した結果、活性剤として第一級または第二級または第三級CH結合を1つ以上含む炭化水素化合物とハロゲン含有水素供与体化合物とを用いることにより、従来使用が困難であった鉛フリーハンダの大気でのハンダ付けにおいても、良好なハンダ付けができることを見出し本発明を完成させた。即ち、本発明は以下に関する。
【0007】
(1)第一級または第二級または第三級CH結合を1つ以上含む炭化水素化合物とハロゲン含有水素供与体化合物とを含むことを特徴とするハンダ付けフラックス。
【0008】
(2)ハロゲン含有水素供与体化合物が有機ハロゲン化合物であることを特徴とする(1)に記載のハンダ付けフラックス。
【0009】
(3)第一級または第二級または第三級CH結合を1つ以上含む炭化水素化合物が、テトラリン、テトライソブチレン、オクタヒドロアントラセン、1−α−ナフチル−1−n−ブチルヘキサデセン、9,10−ジヒドロ−9,10−ジイソブチルアントラセン、n−オクタデシルベンゼン、β−n−オクタデシルテトラリン、ポリイソブチレンからなる群から選ばれた何れか1種であることを特徴とする(1)または(2)に記載のハンダ付けフラックス。
【0010】
(4)ハロゲン含有水素供与体化合物の含有量が、ハンダ付けフラックス全量に対し、塩素換算量で0.02質量%〜20質量%の範囲内であることを特徴とする(1)〜(3)の何れか1項に記載のハンダ付けフラックス。
【0011】
(5)第一級または第二級または第三級CH結合を1つ以上含む炭化水素化合物の含有量が、ハンダ付けフラックス全量に対し、0.01質量%〜20質量%の範囲内であることを特徴とする(1)〜(4)の何れか1項に記載のハンダ付けフラックス。
【0012】
(6)(1)〜(5)の何れか1項に記載のハンダ付けフラックスと、ハンダ粉末とを含むハンダペースト。
【0013】
(7)ハンダ粉末が亜鉛を含むことを特徴とする(6)に記載のハンダペースト。
【0014】
(8)ハンダペースト中のハンダ粉末の比率が、86質量%〜92質量%の範囲内であることを特徴とする(6)または(7)に記載のハンダペースト。
【0015】
(9)(6)〜(8)の何れか1項に記載のハンダペーストを回路基板上に塗布し、該塗布部に電子部品を載置し、その後回路基板を加熱して電子部品を回路基板上に接合する回路基板の製造方法。
【0016】
(10)(1)〜(5)の何れか1項に記載のハンダ付けフラックスを溶剤で希釈して作製したフロー用液状フラックス。
【0017】
(11)(1)〜(5)の何れか1項に記載のハンダ付けフラックスとハンダ合金とを含むヤニ入り糸ハンダ。
【0018】
(12)ハンダ合金が亜鉛を含むことを特徴とする(11)に記載のヤニ入り糸ハンダ。
【0019】
【発明の実施の形態】
ハンダ付けフラックス、ハンダペースト、糸ハンダ、フロ−用液状フラックスには、活性剤、合成樹脂やロジンからなる樹脂成分、溶剤、チクソトロピック剤、その他必要に応じてpH調整剤、防錆剤、酸化防止剤、有機酸成分等が配合されている。
【0020】
本発明のハンダ付けフラックスは活性剤として第一級または第二級または第三級CH結合を1つ以上含む炭化水素化合物とハロゲン含有水素供与体化合物とを含むことを特徴とする。
【0021】
ハロゲン含有水素供与体化合物とは、ハロゲンを含有する化合物であって、さらにハンダ付けフラックス中で還元作用を有する化合物を指し、特に、ハンダ付けフラックスの使用温度において熱分解してハロゲンを発生する化合物が好ましい。
【0022】
このような化合物としては、例えば、ハンダ付けフラックスの使用温度において熱分解してハロゲン化水素を発生する有機ハロゲン化合物があげられる。
【0023】
従来、活性剤としてはイオン性のものが多く用いられてきた。しかしイオン性の活性剤は、室温下でも活性を有するため、特に酸化を起こしやすい鉛フリーハンダにおいては保存安定性に悪影響を与えていた。そのため、鉛フリーハンダでは、リフロー時に分解し活性を発現する有機臭素化合物が好適である。ハンダ付けフラックスに有機ハロゲン化合物を添加することは、たとえば、特公昭56−32079号公報、特開平3−106594号公報、特公平4−59079号公報、特開平8−155676号公報などに開示されている。
【0024】
本発明において、用いることが好ましい有機ハロゲン化合物としては、例えば、1−ブロモ−2−ブタノール、1−ブロモ−2−プロパノール、3−ブロモ−1−プロパノール、3−ブロモ−1,2−プロパンジオール、1,4−ジブロモ−2−ブタノール、1,3−ジブロモ−2−プロパノール、2,3−ジブロモ−1−プロパノール、1,4−ジブロモ−2,3−ブタンジオール、2,3−ジブロモ−2−ブテン−1,4−ジオール、1−ブロモ−3−メチル−1−ブテン、1,4−ジブロモブテン、1−ブロモ−1−プロペン、2,3−ジブロモプロペン、ブロモ酢酸エチル、α−ブロモカプリル酸エチル、α−ブロモプロピオン酸エチル、β−ブロモプロピオン酸エチル、α−ブロモ−酢酸エチル、2,3−ジブロモコハク酸、2−ブロモコハク酸、2,2−ジブロモアジピン酸、2,4−ジブロモアセトフェノン、1,1−ジブロモテトラクロロエタン、1,2−ジブロモ−1−フェニルエタン、1,2−ジブロモスチレン、4−ステアロイルオキシベンジルブロマイド、4−ステアリルオキシベンジルブロマイド、4−ステアリルベンジルブロマイド、4−ブロモメチルベンジルステアレート、4−ステアロイルアミノベンジルブロマイド、2,4−ビスブロモメチルべンジルステアレート、4−パルミトイルオキシベンジルブロマイド、4−ミリストイルオキシベンジルブロマイド、4−ラウロイルオキシべンジルブロマイド、4−ウンデカノイルオキシベンジルブロマイド、9,10,12,13,15,16−ヘキサブロモステアリン酸、9,10,12,13,15,16−へキサブロモステアリン酸メチルエステル、同エチルエステル、9,10,12,13−テトラブロモステアリン酸、同メチルエステル、同エチルエステル、9,10,12,13,15,16−へキサブロモステアリルアルコール、9,10,12,13−テトラブロモステアリルアルコール、1,2,5,6,9,10−ヘキサブロモシクロドデカン、ビス(2,3−ジブロモプロピル)スクシネート、ビス(2,3−ジブロモプロピル)o−フタレート、ビス(2,3−ジブロモプロピル)p−フタレート、ビス(2,3−ジブロモプロピル)o−フタルアミド、ビス(2,3−ジブロモプロピル)p−フタルアミド、トリス(2,3−ジブロモプロピル)トリメリテート、トリス(2,3−ジブロモプロピル)トリメリトアミド、テトラ(2,3−ジブロモプロピル)ピロメリテート、テトラ(2,3−ジブロモプロピル)ピロメリトアミド、ビス(2,3−ジブロモプロピル)グリセロール、トリメチロールプロパンビス(2,3−ジブロモプロピル)エーテル、ビス(2,3−ジブロモプロピル)タータミド、N,N‘−ビス(2,3−ジブロモプロピル)スクシアミド、N,N,N’,N’−テトラ(2,3−ジブロモプロピル)スクシアミド、N,N‘−ビス(2,3−ジブロモプロピル)ウレア、N,N,N’,N’−テトラ(2,3−ジブロモプロピル)ウレア、2,2−ビス[4−(2,3−ジブロモプロピル)−3,5−ジブロモフェニル]プロパン、α、α、α−トリブロモメチルスルフォン、α、β−ジブロモエチルベンゼン、トリス(2,3−ジブロモプロピル)イソシアヌレート等が例示できる。この中で特に、有機ハロゲン化合物が、9,10,12,13,15,16−ヘキサブロモステアリン酸、9,10,12,13,15,16−へキサブロモステアリン酸メチルエステル、同エチルエステル、トリス(2,3−ジブロモプロピル)イソシアヌレートを用いることが好ましい。以上の有機ハロゲン化合物がハンダ付けフラックスに用いることが好ましい理由は定かではないが、熱分解してハロゲン化水素を発生する温度がプレヒート温度に近く好適なためと考えられる。
【0025】
また臭素の代わりに、塩素、ヨウ素を含む有機ハロゲン化合物を用いても良い。またこれらの有機ハロゲン化合物は、単独で使用してもよいし、2種類以上を併用してもよい。
【0026】
有機ハロゲン化合物の添加量としては、ハンダ付けフラックス全量に対し、塩素換算量で0.02質量%〜20質量%の範囲内、好ましくは0.1質量%〜10質量%の範囲内とする。有機ハロゲン化合物の添加量が0.02質量%より少ないと、リフロー時に十分なハンダ付け性が得られず、20質量%より多いと、経済的でないばかりか、他のフラックス成分を減ずることになりフラックスに求められる他の機能を十分に果たすことができなくなる。
【0027】
なお塩素換算量とは、有機臭素化合物の臭素を塩素に換算した分子量を用いての換算量を示す。
【0028】
イオン性の臭素を含む活性剤は安価で少量の添加で活性を出すため、ペーストの安定性を損なわない程度の量で使用できる。また、高価な有機ハロゲン化合物の添加量を低減する目的で、併用して用いることが有効である。
【0029】
その他の添加が好ましいイオン性活性剤としては、例えばイソプロピルアミン臭化水素酸塩、ブチルアミン塩化水素酸塩、シクロヘキシルアミン臭化水素酸塩等のハロゲン化水素酸アミン塩、1,3−ジフェニルグアニジン臭化水素酸塩等が挙げられる。
【0030】
また臭素の代わりに、塩素、ヨウ素のハロゲン水素塩を用いても良い。またこれらのハロゲン水素塩物は、単独で使用してもよいし、2種類以上を併用してもよい。配合量としてはフラックス全量に対し、0.0005質量%〜2質量%の範囲内、好ましくは0.01質量%〜1質量%の範囲内である。添加量が0.0005質量%未満では、活性の効果はほとんどない。添加量が2質量%を超えると、フラックスに含まれる活性剤と反応しハンダペーストの安定性が損なわれる。
【0031】
本発明では、第一級または第二級または第三級CH結合を1つ以上含む炭化水素化合物を添加するが、約100〜150℃において酸素と反応して酸化しやすいもの化合物を用いるのが望ましい。このような化合物としては、テトラリン、テトライソブチレン、オクタヒドロアントラセン、1−α−ナフチル−1−n−ブチルヘキサデセン、9,10−ジヒドロー9,10−ジイソブチルアントラセン、n−オクタデシルベンゼン、β−n−オクタデシルテトラリン、ポリイソブチレン、α―フェニル−2−テトラリルブタン、9,10−ジイソブチルパーヒドロアントラセン、5−イソブチルアセナフテンなどが例示できる。添加量としてはフラックス全量に対して0.01質量%〜20質量%、好ましくは0.5質量%〜5質量%の範囲で使用する。
【0032】
その作用は明確ではないが、ハンダ付けフラックスに添加した第一級または第二級または第三級CH結合を1つ以上含む炭化水素化合物は、プレヒート温度として一般的な約100〜150℃において酸素と反応して酸化し、ハロゲン含有水素供与体化合物はこの酸化反応を触媒的な作用で促進することが考えられる。
【0033】
従来のハンダペーストにおいては、約150℃でプレヒートされた段階でハンダ粉末が著しく酸化される。本発明のハンダペーストは、第一級または第二級または第三級CH結合を1つ以上含む炭化水素化合物を含むことにより、プレヒート温度で本発明の炭化水素化合物が酸素と反応して酸素を吸収するため、プレヒート温度でのハンダ粉末の酸化を抑制する。さらにハロゲン化水素がハンダの酸化された表面を還元するため、ハンダ付け性を向上すると考えられる。
【0034】
本発明のハンダ付けフラックスにおいては、溶剤、樹脂成分、チキソトロピック剤、その他必要に応じて、防錆剤、酸化防止剤、pH調整剤を添加することができる。
【0035】
本発明のハンダ付けフラックスに配合される溶剤としては、従来のフラックスやハンダペーストと同様に、アルコール類、エーテル類、エステル類、グリコールの中級または高級アルコール、芳香族系の溶剤を一種または一種以上を混合して用いることができる。例えばベンジルアルコール、ブタノール、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、ブチルカルビトール、プロピレンジグリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノフェニルエーテル、ジエチレングリコールヘキシルエーテル、プロピレングリコールモノフェニルエーテル、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、ジエチレングリコールーモノ2エチルヘキシルエーテル、ジオクチルフタレート、キシレン、2−メチル−1,3−ヘキサンジオール、2−エチル−1,3−ヘキサンジオールまたはこれらの混合溶剤を用いることができる。
【0036】
本発明のハンダ付けフラックスに配合される樹脂成分としては、従来フラックスに配合されている周知の樹脂を用いることができ、たとえば、天然ロジン、不均化ロジン、重合ロジン、水添ロジン、変性ロジン、ロジンエステルなどのロジン誘導体、合成樹脂としてはポリエステル、ポリウレタン、アクリル系樹脂その他を用いることができる。
【0037】
本発明の印刷性を改善するために添加されるチキソトロピック剤としては、微細なシリカ粒子、カオリン粒子などの無機系のもの、または水添ヒマシ油、アマイド化合物などの有機系のものが使用される
本発明のハンダ付けフラックスに用いることのできるpH調整剤として、アルカノールアミン類、脂肪族第1〜第3アミン類、脂肪族不飽和アミン類、脂環式アミン類、芳香族アミン類などのアミン化合物を例示することができる。これらの化合物を単独で使用してもよいし、2種類以上を併用してもよい。
【0038】
本発明のハンダ付けフラックスはpH値を、4〜9の範囲内、より好ましくは6〜8の範囲とすることが、ハンダ粉とフラックスとの反応を抑制する意味で好ましい。本発明のpH調製剤の添加量は、ハンダ付けフラックスの全量に対し、0.05質量%〜20質量%の範囲内とすることが好ましい。添加量が0.05質量%未満ではpH調整剤としての効果が十分でなく、添加量が20質量%を超えるとハンダペーストが吸湿しやすくなり好ましくない。
【0039】
これらアミン化合物の具体的な化合物としては、エタノールアミン、ブチルアミン、アミノプロパノール、ポリオキシエチレンオレイルアミン、ポリオキシエチレンラウレルアミン、ポリオキシエチレンステアリルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、メトキシプロピルアミン、ジメチルアミノプロピルアミン、ジブチルアミノプロピルアミン、エチルへキシルアミン、エトキシプロピルアミン、エチルへキシルオキシプロピルアミン、ビスプロピルアミン、イソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、ピペリジン、2,6−ジメチルピペリジンなどを挙げることができる。
【0040】
本発明のハンダ付けフラックスは防錆剤としてフラックス中に、アゾール類、例えばベンゾトリアゾール、ベンズイミダゾール、トリルトリアゾールなどを添加しても良い。防錆剤の添加量は、フラックス全量に対して0.05質量%〜20質量%の範囲内が好ましい。
【0041】
本発明のハンダ付けフラックスは酸化防止剤を添加することが好ましい。酸化防止剤としては、通常合成樹脂などの還元剤として使用されている、溶剤に溶解可能なフェノール系化合物、リン酸系化合物、硫黄系化合物、トコフェノール及びその誘導体またはアスコルビン酸及びその誘導体が挙げられる。これらの還元剤は単独で使用しても良いし、または混合して使用してもよい。配合量としてはフラックス全量に対し、0.0005質量%〜20質量%の範囲内、好ましくは0.01質量%〜10質量%の範囲内である。
【0042】
酸化防止剤を添加することの作用機構は十分に解明できていないが、おそらくはこれらの酸化防止剤がハンダペースト中の溶存酸素あるいは空気中の酸素に働き、ハンダ金属の酸化を抑制することによると思われる。また、これらの酸化防止剤はハロゲン含有成分から遊離してくるハロゲンのアクセプターとして働くので、遊離したハロゲンがハンダ金属と反応するのを効果的に防止しているためと考えられる。
【0043】
有機酸成分としては、従来周知のコハク酸、フタル酸、ステアリン酸、セバシン酸等が挙げられ、リフロー温度に達した時に有機酸を発生する化合物である有機酸誘導体は好適に用いられる。分解性の有機酸エステルは、単独ではリフロー温度においても分解性が低いため、分解を促進するためには少量のエステル分解触媒の添加が有効である。エステル分解触媒としては、分解性の有機酸エステルがリフロー温度で分解して酸の発生を促進する作用を有する触媒であればよいが、その中で特に有機塩基とハロゲン化水素酸塩が有効である。
【0044】
有機酸エステルとしては、各種脂肪族カルボン酸エステル、芳香族カルボン酸エステル、脂肪族スルホン酸エステル、芳香族スルホン酸エステル等が挙げられる。具体的な例としては、パラトルエンスルホン酸−n−プロピル、パラトルエンスルホン酸イソプロピル、パラトルエンスルホン酸イソブチル、パラトルエンスルホン酸−n−ブチル、ベンゼンスルホン酸−n−プロピル、ベンゼンスルホン酸イソプロピル、ベンゼンスルホン酸イソブチル、サリチル酸−n−プロピル、サリチル酸イソプロピル、サリチル酸イソブチル、サリチル酸−n−ブチル、4−ニトロ安息香酸イソプロピル、4−ニトロ安息香酸−t−ブチル、メタクリル酸−t−ブチル、アクリル酸−t−ブチル、マロン酸−t−ブチル、ブロモ酢酸−t−ブチルなどが挙げられる。添加量としてはフラックス全量に対して0.01質量%〜20質量%の範囲内、好ましくは0.05質量%〜5質量%の範囲内で使用する。
【0045】
本発明のハンダ付けフラックスに好適に使用できる鉛フリーハンダ合金の金属組成としては、Sn−In系、Sn−Bi系、In−Ag系、In−Bi系、Sn−Zn系、Sn−Ag系、Sn−Cu系、Sn−Sb系、Sn−Au系、Sn−Bi−Ag−Cu系、Sn−Ge系、Sn−Bi−Cu系、Sn−Cu−Sb−Ag系、Sn−Ag−Zn系、Sn−Cu−Ag系、Sn−Bi−Sb系、Sn−Bi−Sb−Zn系、Sn−Bi−Cu−Zn系、Sn−Ag−Sb系、Sn−Ag−Sb−Zn系、Sn−Ag−Cu−Zn系、Sn−Zn−Bi系が挙げられる。
【0046】
上記の具体例としては、48Sn/52In(48質量%のSnと52質量%のInとの合金を示す。以下同じ。)、43Sn/57Bi、97In/3Ag、58Sn/42In、95In/5Bi、60Sn/40Bi、91Sn/9Zn、93Sn/7Zn、96.5Sn/3.5Ag、99.3Sn/0.7Cu、95Sn/5Sb、20Sn/80Au、90Sn/10Ag、Sn90/Bi7.5/Ag2/Cu0.5、97Sn/3Cu、99Sn/1Ge、92Sn/7.5Bi/0.5Cu、97Sn/2Cu/0.8Sb/0.2Ag、95.5Sn/3.5Ag/1Zn、95.5Sn/4Cu/0.5Ag、52Sn/45Bi/3Sb、51Sn/45Bi/3Sb/1Zn、85Sn/10Bi/5Sb、84Sn/10Bi/5Sb/1Zn、88.2Sn/10Bi/0.8Cu/1Zn、89Sn/4Ag/7Sb、88Sn/4Ag/7Sb/1Zn、98Sn/1Ag/1Sb、97Sn/1Ag/1Sb/1Zn、91.2Sn/2Ag/0.8Cu/6Zn、91.5Sn/8Zn/0.5Bi、91Sn/8Zn/1Bi、89Sn/8Zn/3Bi、86Sn/8Zn/6Bi、89.1Sn/2Ag/0.9Cu/8Znなどが挙げられる。この中でも特にZnを含有したハンダ合金が本発明の効果が著しい。また、ハンダ粉末の場合、異なる組成のハンダ粉末を2種類以上混合したものでもよい。
【0047】
本発明のハンダ付けフラックスは、フロー用の液状フラックスや糸ハンダのヤニにも使用できる。液状フラックスで使用する場合は溶剤にイソプロピルアルコール等を使用して40質量%〜70質量%の範囲内に希釈すればよい。また糸ハンダ用ヤニ使用する場合、溶剤を使用せず、溶剤以外の材料をロジンの軟化点以上で調合し、常温で固化し糸ハンダとすればよい。
【0048】
本発明のフラックスおよびハンダペーストは、例えば、プリント配線板にハンダペーストを印刷し、これに電子部品を仮止めし、リフローして回路板を製造する際に好適に使用される。本発明のフラックス、ハンダペーストおよび糸ハンダ等の使用方法、並びに電子部品接合物の製造方法では、例えばハンダ付けを所望する部分に、印刷法等でハンダペーストを塗布し、電子部品を載置、仮止めし、その後加熱してハンダ粒子を溶融し凝固させることにより電子部品を基板に接合することができる。
【0049】
基板と電子部品の接合方法(実装方法)としては、例えば表面実装技術(SMT)があげられる。この実装方法は、まずハンダペーストを印刷法により基板、例えば配線板上の所望する箇所に塗布する。
【0050】
ついで、チップ部品やQFPなどの電子部品を該ハンダペースト上に載置し、リフロー熱源により一括してハンダ付けを行なう。リフロー熱源には、熱風炉、赤外線炉、蒸気凝縮ハンダ付け装置、光ビームハンダ付け装置を使用することができる。
【0051】
本発明のリフロープロセスは、プリント配線板の温度を均一にするためのプレヒートとハンダの融点以上に加熱する工程で行なわれる。それぞれの条件は、ハンダ合金で異なるが、93Sn/7Zn,91Sn/9Zn, 91.5Sn/8Zn/0.5Bi、91Sn/8Zn/1Bi、89Sn/8Zn/3Bi,86Sn/8Zn/6Biなどの錫−亜鉛系の場合、それぞれの条件は、プレヒートが130℃〜180℃の範囲内、好ましくは、150℃〜170℃の範囲内、プレヒート時間が60秒〜120秒の範囲内、好ましくは、60秒〜90秒の範囲内、リフロー温度は200℃〜230℃の範囲内、好ましくは、210℃〜220℃の範囲内、リフロー時間が20秒〜60秒の範囲内、好ましくは、30秒〜40秒の範囲内である。
【0052】
なお、他の合金系におけるリフロー温度は、用いる合金の融点に対して、+20℃〜+50℃の範囲内、好ましくは、合金の融点に対し、+20℃〜+30℃の範囲内とし、他のプレヒート温度、プレヒート時間、リフロー時間は上記と同様の範囲であればよい。
【0053】
本発明のハンダ付けフラックスを用いることにより、従来大気中でリフローが難しかった、鉛フリーハンダ、特に亜鉛を含むハンダ合金系でもハンダ付けを実施することが可能となり、また配線板などの基板へのハンダの濡れ性が向上し、ハンダボールの発生も少なくなり、リフロー特性の高い処理ができる。
【0054】
リフロー後、基板を冷却し表面実装が完了する。この実装方法による電子接合物の製造方法においては、プリント配線板等の基板(被接合板)の両面に接合を行なうことも容易にできる。なお、本発明のハンダペーストを使用できる電子部品としては、例えば、LSI、抵抗器、コンデンサ、トランス、インダクタンス、発振子・振動子等があげられるが、これに限定されるものではない。
【0055】
また本発明は、あらかじめ基板の所定の表面、例えばプリント基板の回路金属の、所定の表面にのみ化学反応により粘着性皮膜を形成し、これにハンダ粉末を付着させた後、フラックスを塗布し、ハンダの溶融温度まで加熱してリフローさせ、ハンダバンプを形成した回路基板(特開平7−7244公報)上に、本発明のハンダペーストを用いてSMT(表面実装技術)で実装した場合、ハンダ中のボイドが減少するなどの優れた接合物の信頼性が得られる。
【0056】
【実施例】
以下実施例をもって発明の内容をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
<試験法>
ハンダ付け性評価として、ソルダボール試験とボイド観察を行った。
【0057】
<ソルダボール試験>
また、厚さ0.2mm、直径6.5mmの孔を5個もつ印刷マスクを用い、アルミナ基板にハンダペーストを印刷した。それらのサンプルを9個作成した。そのうち8個を、30℃90%の恒温恒湿槽にいれ三時間毎に8個ずつ取り出した。
【0058】
これらのサンプルを、予め235℃に設定したホットプレートにのせ、ハンダが溶融してから5秒後に取り出し、ハンダが冷却するまで放置した。
【0059】
凝固したハンダ外観全景を10倍の拡大鏡で観察し、JISZ−3284(付属書11)表1及び図1に規定するハンダ粒子の凝集状態によって評価した。
【0060】
すなわち、ハンダ粉末が溶融して、ハンダは1つの大きな球となり、周囲にソルダボールがない場合を評価1、ハンダ粉末が溶融してハンダは1つの大きな球となり周囲に直径75μm以下のソルダーボールが3つ以上ある場合を評価2、ハンダ粉末が溶融してハンダは1つの大きな球となり周囲に直径75μm以下のソルダーボールが3つ以上あり、半連続の環状に並んではいない場合を評価3、ハンダ粉末が溶融してハンダは1つの大きな球となり周囲に多数の細かい球が半連続の環状に並んでいる場合を評価4、上記以外のものを評価5とした。
【0061】
<ボイド観察>
60mm平方の銅板に厚さ150ミクロンのメタルマスクを用いて、直径6mm×6個のパターンを印刷後、大気雰囲気下でリフローし、次いでカッタでハンダと共に銅板を切断した後、該ハンダ部分を顕微鏡により観察し、ボイドの発生状況を観察した。6個のパターンについて大きさが10μm以上のボイドを計測し、1個のパターン当たりの平均個数が2個以上であった場合を不合格とした。
【0062】
(実施例1〜4、比較例1〜3)
<フラックス及びハンダペーストの製造>
チクソトロピック剤として水添ヒマシ油、樹脂成分として付均化ロジン、重合ロジン、イオン性活性剤としてシクロヘキシルアミン臭化水素酸塩または、1,3−ジフェニルグアニジン臭化水素酸塩、防錆剤としてベンゾトリアゾール、溶剤として、プロピレンジグリコールモノブチルエーテル、有機ハロゲン化合物として9,10,12,13,15,16−ヘキサブロモステアリン酸または9,10,12,13,15,16−へキサブロモステアリン酸メチルエステルまたはトリス(2,3−ジブロモプロピル)イソシアヌレート、アミンとしてトリプロピルアミン、有機酸成分としてパラトルエンスルホン酸−n−プロピルを用いた。
【0063】
このハンダ付けフラックス10質量%に、91Sn/8Zn/1Biのハンダ粉末90質量%を添加し、プラネタリーミルで混練し、ハンダペ−ストを製造した。
【0064】
その配合を表1、評価結果を表2に示した。
【0065】
活性剤としてハロゲン含有水素供与体化合物と第一級または第二級または第三級CH結合を1つ以上含む炭化水素化合物を使用した実施例1〜6においては、ソルダボール試験、ボイド観察においても、比較例1に比べ明らかにハンダ付け性がよくなった。
【0066】
【表1】
【0067】
【表2】
【0068】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の鉛フリーハンダの活性剤としてハロゲン含有水素供与体化合物と第一級または第二級または第三級CH結合を1つ以上含む炭化水素化合物を用いることにより、ハンダ付け性が向上した。特に、リフロー後のソルダーボールの発生や、バンプ中のボイドが低減できた。
【0069】
本発明のハンダ付けフラックスを用いて製造した回路板や電子部品の接合物は接合部にソルダーボールやボイドが無いため信頼性の高いものであり、また、ファインピッチの回路基板の製造が容易となった。
Claims (9)
- 第一級または第二級または第三級CH結合を1つ以上含む炭化水素化合物であって100℃〜150℃において酸素と反応して酸化する化合物をハンダ付けフラックス全量に対し0.01質量%〜20質量%の範囲内で含み、有機ハロゲン化合物であってハンダ付けフラックスの使用温度において熱分解してハロゲン化水素を発生する化合物をハンダ付けフラックス全量に対し塩素換算量で0.02質量%〜20質量%の範囲内で含むことを特徴とするハンダ付けフラックス。
- 第一級または第二級または第三級CH結合を1つ以上含む炭化水素化合物が、テトラリン、テトライソブチレン、オクタヒドロアントラセン、1−α−ナフチル−1−n−ブチルヘキサデセン、9,10−ジヒドロ−9,10−ジイソブチルアントラセン、n−オクタデシルベンゼン、β−n−オクタデシルテトラリン、ポリイソブチレンからなる群から選ばれた何れか1種であることを特徴とする請求項1に記載のハンダ付けフラックス。
- 請求項1または2に記載のハンダ付けフラックスと、ハンダ粉末とを含むハンダペースト。
- ハンダ粉末が亜鉛を含むことを特徴とする請求項3に記載のハンダペースト。
- ハンダペースト中のハンダ粉末の比率が、86質量%〜92質量%の範囲内であることを特徴とする請求項3または4に記載のハンダペースト。
- 請求項3〜5の何れか1項に記載のハンダペーストを回路基板上に塗布し、該塗布部に電子部品を載置し、その後回路基板を加熱して電子部品を回路基板上に接合する回路基板の製造方法。
- 請求項1または2に記載のハンダ付けフラックスを溶剤で希釈して作製したフロー用液状フラックス。
- 請求項1または2に記載のハンダ付けフラックスとハンダ合金とを含むヤニ入り糸ハンダ。
- ハンダ合金が亜鉛を含むことを特徴とする請求項8に記載のヤニ入り糸ハンダ。
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