JP2003001487A - ハンダ付けフラックス - Google Patents
ハンダ付けフラックスInfo
- Publication number
- JP2003001487A JP2003001487A JP2001181718A JP2001181718A JP2003001487A JP 2003001487 A JP2003001487 A JP 2003001487A JP 2001181718 A JP2001181718 A JP 2001181718A JP 2001181718 A JP2001181718 A JP 2001181718A JP 2003001487 A JP2003001487 A JP 2003001487A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- solder
- soldering flux
- flux
- acid
- soldering
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
- Structures For Mounting Electric Components On Printed Circuit Boards (AREA)
Abstract
抑制された、ハンダ付け性が高く、保存安定性が良好な
ハンダ付けフラックスの提供。 【解決手段】 カルボン酸基を有し軟化点が100℃以
下の樹脂成分を1〜50質量%、酸解離定数(pKa)
が10.0〜11.5の範囲内で沸点が50℃〜200
℃の範囲内である有機アミンおよび非イオン性有機ハロ
ゲン化合物を含有し、全体としてpHが4〜9の範囲内
であるすることを特徴とするハンダ付けフラックス。
Description
板への実装に用いられるハンダ付けフラックス、それを
用いたハンダペースト、特にPbフリーハンダを用いた
ハンダペースト並びに該ハンダペーストを用いた回路基
板の製造方法に関する。
ト、糸ハンダ、フロ−用液状フラックス等は、エレクト
ロニクス産業において電子部品を表面実装するために用
いられている。ハンダペーストは、プリント基板の上に
スクリーン印刷または場合によってはディスペンサーに
より塗布される。その後部品が搭載され、ハンダペース
トがリフローされる。リフローとは、部品が搭載された
基板を予備、その後ハンダの融点以上に加熱し部品の接
合を行なう一連の操作をいう。
Pbフリーハンダが推奨されており、これに対応してP
bフリーハンダに移行すべく開発が進められ、接合強度
の信頼性から、錫−銀系、錫−銅系、錫−亜鉛系が特に
有望視されている。従来の錫−鉛系ハンダは、錫、鉛の
電位が非常に近いため安定であるが、Pbフリーハンダ
は、錫と銀、銅、亜鉛に電位差が生じるため、ハンダ金
属が酸素と接すると卑な金属が酸化する。ハンダ接合の
ためにはこの酸化膜を除去する必要があり、そのために
はフラックスとして強い活性剤を使用する必要がある。
しかしながら、活性剤が強くなるとハンダ金属とフラッ
クスとが反応し、ハンダペーストの安定性が低下し、ハ
ンダ付け性が低下する。特に、Sn−Zn系のハンダ
は、亜鉛が鉛よりも卑な電位のために、フラックスに含
まれる活性剤と反応し著しくハンダ付け性が低下し実用
化が困難とされてきた。
点に鑑みなされたもので、保存時のハンダ金属とフラッ
クスとの反応が抑制された、ハンダ付け性が高く、保存
安定性が良好なハンダ付けフラックスを提供することを
目的とする。
解決すべく鋭意検討した結果、活性剤として有機ハロゲ
ン化合物を用いたハンダ付けフラックスにおいて、軟化
点が100℃以下のカルボン酸基を有する化合物、及び
沸点が50℃〜200℃、pKaが10.0〜11.5
のアミンを含有させることにより、従来使用が困難であ
ったPbフリーハンダにおいても高いハンダ付け性と保
存安定性が得られることを見出し本発明を完成させた。
即ち、本発明は以下に関する。
0℃以下の樹脂成分、酸解離定数(pKa)が10.0
〜11.5の範囲内で沸点が50℃〜200℃の範囲内
である有機アミンおよび非イオン性有機ハロゲン化合物
を含有することを特徴とするハンダ付けフラックス。 [2] 樹脂成分を1〜50質量%、有機アミンを0.
05〜20質量%の範囲で含み、全体としてpHが4〜
9の範囲内である上記[1]に記載のハンダ付けフラッ
クス、 [3] 樹脂成分が、酸価が140〜180mgKOH
/g、軟化点が60〜90℃の天然ロジン、不均化ロジ
ン、水添ロジン、変性ロジンの一種または2種以上の混
合物を含む樹脂である上記[1]または[2]に記載の
ハンダ付け用フラックス、
元素を含む脂肪族モノアミンまたは脂環式モノアミンで
ある上記[1]〜[3]の何れかに記載のハンダ付けフ
ラックス、 [5] 有機アミンが、3−アミノペンタン、iso−
アミルアミン、ネオペンチルアミン、t−ペンチルアミ
ン、n−ペンチルアミン、n−ヘキシルアミン、シクロ
ヘキシルアミン、ヘプチルアミン、2−オクチルアミ
ン、ジエチルアミン、ジ−n−プロピルアミン、ジ−i
so−プロピルアミン、ジ−iso−ブチルアミン、ジ
−n−ブチルアミン、ジ−sec−ブチルアミン、トリ
エチルアミン、トリ−n−プロピルアミン、N,N−ジ
メチルシクロヘキシルアミン、ピペリジン、N−メチル
ピペリジン、2−メチルピペリジン、3−メチルピペリ
ジン、4−メチルピペリジン、N−エチルピペリジン、
2−エチルピペリジン、3−エチルピペリジン、4−エ
チルピペリジン、1−n−プロピルピペリジン、2,6
−ジメチルピペリジン、3,5−ジメチルピペリジン、
2,2,6−トリメチルピペリジン、2,2,4−トリ
メチルピペリジン、2,2,6,6−テトラメチルピペ
リジン、ピロリジン、2,5−ジメチルピロリジン、N
−メチルピロリジン、ヘキサメチレンイミン、ヘプタメ
チレンイミンから選択される何れか1つである上記
[1]〜[4]の何れかに記載のハンダ付けフラック
ス、
載のハンダ付けフラックスを用いたハンダ粉末とを含む
ハンダペースト、 [7] ハンダ粉末がPbフリーハンダであることを特
徴とする上記[6]に記載のハンダペースト、 [8] Pbフリーハンダ粉末が亜鉛を含むことを特徴
とする上記[7]に記載のハンダペースト、
載のハンダペーストを回路基板上に塗布し、該塗布部に
電子部品を載置し、その後回路基板を加熱して電子部品
を回路基板上に接合する回路基板の製造方法、 [10] 上記[1]〜[5]の何れかに記載のハンダ
付けフラックスを溶剤で希釈して作製したフロー用液状
フラックス、 [11] 上記[1]〜[5]の何れかに記載のハンダ
付けフラックスとハンダ合金とを含むヤニ入り糸ハン
ダ、 [12] ハンダ合金が亜鉛を含むことを特徴とする上
記[11]に記載のヤニ入り糸ハンダ、および [13] 上記[1]〜[5]の何れかに記載のハンダ
付けフラックスを用いて製造した回路基板、及び電子部
品の接合物、を開発することにより上記の課題を解決し
た。
ースト、糸ハンダ、フロ−用液状フラックスには、合成
樹脂やロジンからなる樹脂成分、有機酸成分等の活性
剤、溶剤、チクソトロピック剤、その他必要に応じてp
H調整剤、防錆剤、酸化防止剤などが配合されている。
本発明のハンダ付けフラックスは非イオン性有機ハロゲ
ン化合物を含み、さらに、カルボン酸基を有する軟化点
が100℃以下の樹脂成分、酸解離定数(pKa)が1
0.0〜11.5の範囲内で沸点が50℃〜200℃の
範囲内である有機アミンおよび非イオン性有機ハロゲン
化合物を含有することを特徴とするハンダ付けフラック
スである。
点が100℃以下の樹脂成分としては、通常ハンダ付け
フラックスに使用されている合成樹脂であってもよい
が、一般には安価なガムロジン、ウッドロジン、トール
油ロジンなどの天然ロジンや、それを安定化した不均化
ロジン、水添ロジン、変性ロジン等を例示できる。これ
らの樹脂成分は単独で使用してもよいし、2種類以上を
併用してもよい。この中で特に、酸価が140〜180
の範囲内で、軟化点が60〜90℃の範囲内の樹脂を用
いることが好ましい。
成やフラックスとしての用途により異なるが、フラック
ス全量に対して、1〜50質量%の範囲内、より好まし
くは、5〜40質量%の範囲内、最も好ましくは、10
〜30質量%の範囲内とする。樹脂成分の添加量が、5
0質量%より高くなると粘度が高くなり良好な印刷性が
得られない。一方、1質量%より低くなると粘度が低く
なり良好な印刷性が得られない。本発明の樹脂成分の軟
化点は、環球法による軟化点測定装置(ASTM規定N
o.D36及びDIN 1995)により行ったものを
使用している。具体的には、樹脂成分を充てんした黄銅
製環を水浴中に水平に保持し、試料の中心に一定重量の
鋼球を載せ、一定速度で浴温を上昇させ、樹脂成分が次
第に軟化し、鋼球が下降し、ついに厚さ25mmの位置
の底板に達したときの示度をもって軟化点とする。
酸を中和するのに要する水酸化カリウム(KOH)のミ
リグラム当量数をいう。本発明の樹脂成分の酸価は、D
IN 55935により行う。具体的には、中性のエタ
ノール(95%)とベンゼンとの混合液(混合比率1:
1)50mlに樹脂成分0.6gを溶解し、フェノール
フタレインを指示薬として中和に要するKOHの量を測
定する。得られたKOHの量から、樹脂成分1g中に含
まれる遊離脂肪酸を中和するのに要したKOHのミリグ
ラム数を求め、この値を酸価とする。
しい、酸価が140〜180の範囲内で、軟化点が60
〜90℃の範囲内の樹脂成分としては、ガムロジン、ウ
ッドロジン、トール油ロジンなどの天然ロジンや、それ
らロジン類を安定化した不均化ロジン、水添ロジン、変
性ロジン等を例示できる。これらの樹脂成分は、単独で
使用してもよいし、2種類以上を併用してもよい。
配合されている周知の樹脂も添加することができる。た
とえば、酸価が140〜180の範囲で、軟化点が60
〜90℃の範囲外の重合ロジン、ロジンエステルなどの
ロジン、合成樹脂としてはポリエステル、ポリウレタ
ン、アクリル系樹脂その他を粘度調整のために添加して
もよく、結果として樹脂成分が酸価140〜180,軟
化点60〜90℃であれば好ましく使用できる。
100℃以下のカルボン酸基を有する樹脂成分とともに
沸点が50℃〜200℃、酸解離定数(pKa)が1
0.0〜11.5の有機アミンを配合する。ここで酸解
離定数pKaとは、酸解離定数の逆数の常用対数であっ
て酸の強さを示す尺度の一つであり、この値が大きいほ
ど強い酸を示す。例えば電解質の物質をBOHで表し、
水溶液中での電離平衡を HA⇔H++A- で表すとき、酸解離定数は pKa=−log〔[H+][A-]/[HA]〕 で定義される。ここで[H+]、[A-]はイオンの濃度
を表し、[HA]は分子の濃度を表す。
有機アミンのpKaの測定方法としては、通常は水溶液
に有機アミンを溶解しpHを測定して、その濃度等を補
正して測定を行う。水に溶けない物質については、別の
溶剤に溶解して、溶剤の乖離定数を水と同様に補正して
測定する。また、pKaは物質固有の値のため、化学便
覧(日本化学会 編)等の値を用いることができる。本
発明のフラックスは上記の有機アミンを含むことにより
ハンダ金属溶融後の未溶融ハンダ粒子およびハンダボー
ルの発生が防止でき、ハンダ付け性が著しく向上してい
る。
クスの保存時においては、本発明の樹脂成分のカルボン
酸と有機アミンが塩を形成し樹脂成分のカルボン酸の活
性剤としての機能を抑制し、100℃以上の昇温時に
は、有機アミンが揮発することにより樹脂成分のカルボ
ン酸の活性力が増加し、ハンダ付け性が向上するためと
思われる。この際、樹脂成分のカルボン酸は、フラック
ス中の有機ハロゲン化合物と共存することにより活性力
を発揮するものと考えられる。
0℃の範囲内で、pKaが10.0〜11.5の範囲内
の炭素、水素、窒素元素のみで構成された脂肪族モノア
ミン、脂環式モノアミンが特に好適である。モノアミン
とは、アミン1分子中にあるアミンの窒素の数が1個の
物質をいう。
−アミルアミン、ネオペンチルアミン、t−ペンチルア
ミン、n−ペンチルアミン、n−ヘキシルアミン、シク
ロヘキシルアミン、ヘプチルアミン、2−オクチルアミ
ン、ジエチルアミン、ジ−n−プロピルアミン、ジ−i
so−プロピルアミン、ジ−iso−ブチルアミン、ジ
−n−ブチルアミン、ジ−sec−ブチルアミン、トリ
エチルアミン、トリ−n−プロピルアミン、N,N−ジ
メチルシクロヘキシルアミン、ピペリジン、N−メチル
ピペリジン、2−メチルピペリジン、3−メチルピペリ
ジン、4−メチルピペリジン、N−エチルピペリジン、
2−エチルピペリジン、3−エチルピペリジン、4−エ
チルピペリジン、1−n−プロピルピペリジン、2,6
−ジメチルピペリジン、3,5−ジメチルピペリジン、
2,2,6−トリメチルピペリジン、2,2,4−トリ
メチルピペリジン、2,2,6,6−テトラメチルピペ
リジン、ピロリジン、2,5−ジメチルピロリジン、N
−メチルピロリジン、ヘキサメチレンイミン、ヘプタメ
チレンイミンなどが例示できるが、この中で特に、2級
および3級の脂肪族または脂環式アミンであるトリ−n
−プロピルアミン、ピペリジン、N−メチルピペリジ
ン、3−メチルピペリジンを用いることが好ましい。
有機アミンの沸点が50℃未満の場合は、ハンダペース
トの保存中、印刷時或いは部品搭載時において室温にお
いても有機アミンが揮発し、カルボン酸の活性力が増し
ハンダペーストが劣化し接着性を低下させる。また有機
アミンの沸点が200℃より高い場合は、接合時(リフ
ロー時)においても有機アミンが樹脂成分のカルボン酸
或いは活性剤の酸性成分の活性機能を抑制し、ハンダ付
け性を低下させるものと推定する。本発明の有機アミン
のpKaが10.0より低い場合は、本発明の樹脂成分
のカルボン酸または活性剤の酸性成分との塩形成力が弱
く、室温においてカルボン酸の活性剤としての機能を抑
制する効果が弱くなり。また有機アミンのpKaが1
1.5より高い場合は、カルボン酸との塩形成力が強く
なりすぎて、カルボン酸の活性剤としての機能を抑制し
ハンダ付け性が低下するものと推定している。特に錫−
亜鉛系のハンダ合金やPbフリーハンダ合金に用いる場
合には、有機アミンの沸点を80℃〜150℃の範囲
内、pKaを10.0〜11.2の範囲内とすることが
特に好ましい。
いし、2種類以上を併用してもよい。またこの際、ハン
ダ付けフラックスのpHを4〜9の範囲内、より好まし
くは6〜8の範囲とすることがハンダ合金とフラックス
との反応を抑制する意味で好ましい。なお有機アミンの
添加量は、ハンダペーストのフラックスの全量に対し、
0.05〜20質量%の範囲内とすることが好ましい。
添加量が0.05質量%未満ではpH調整剤としての効
果が十分でなく、添加量が20質量%を超えるとハンダ
ペーストが吸湿しやすくなり好ましくない。
としては特に非イオン性有機ハロゲン化合物を含有して
いる。従来の錫−鉛系ハンダでは、活性剤としてイオン
性のものが多く用いられてきた。しかしイオン性の活性
剤は、室温下でも活性を有するため、保存安定性には悪
影響を与えていた。本発明のハンダ付けフラックスの活
性剤に用いた非イオン性有機ハロゲン化合物は、常温に
おいてはフラックス製造後使用するまでの保存中や印刷
時にはハンダ金属粒子と反応することなく長期間にわた
り安定であり、活性剤性能が劣化することがな。しかし
一旦リフロー時加熱されたときにはじめて分解し、活性
を発現する化合物である。このような有機ハロゲン化合
物は、特公昭56−32079号公報、特開平3−10
6594号公報、特公平4−59079号公報などに有
効な化合物が開示されている。
機ハロゲン化合物としては、例えば、1−ブロモ−2−
ブタノール、1−ブロモ−2−プロパノール、3−ブロ
モ−1−プロパノール、3−ブロモ−1,2−プロパン
ジオール、1,4−ジブロモ−2−ブタノール、1,3
−ジブロモ−2−プロパノール、2,3−ジブロモ−1
−プロパノール、1,4−ジブロモ−2,3−ブタンジ
オール、2,3−ジブロモ−2−ブテン−1,4−ジオ
ール、1−ブロモ−3−メチル−1−ブテン、1,4−
ジブロモブテン、1−ブロモ−1−プロペン、2,3−
ジブロモプロペン、ブロモ酢酸エチル、α−ブロモカプ
リル酸エチル、α−ブロモプロピオン酸エチル、β−ブ
ロモプロピオン酸エチル、α−ブロモ−酢酸エチル、
2,3−ジブロモコハク酸、2−ブロモコハク酸、2,
2−ジブロモアジピン酸、2,4−ジブロモアセトフェ
ノン、1,1−ジブロモテトラクロロエタン、1,2−
ジブロモ−1−フェニルエタン、1,2−ジブロモスチ
レン、4−ステアロイルオキシベンジルブロマイド、4
−ステアリルオキシベンジルブロマイド、4−ステアリ
ルベンジルブロマイド、4−ブロモメチルベンジルステ
アレート、4−ステアロイルアミノベンジルブロマイ
ド、2,4−ビスブロモメチルべンジルステアレート、
4−パルミトイルオキシベンジルブロマイド、4−ミリ
ストイルオキシベンジルブロマイド、4−ラウロイルオ
キシべンジルブロマイド、4−ウンデカノイルオキシベ
ンジルブロマイド、9,10,12,13,15,16
−ヘキサブロモステアリン酸、9,10,12,13,
15,16−へキサブロモステアリン酸メチルエステ
ル、同エチルエステル、9,10,12,13−テトラ
ブロモステアリン酸、同メチルエステル、同エチルエス
テル、9,10,12,13,15,16−へキサブロ
モステアリルアルコール、9,10,12,13−テト
ラブロモステアリルアルコール、1,2,5,6,9,
10−ヘキサブロモシクロドデカン、ビス(2,3−ジ
ブロモプロピル)スクシネート、ビス(2,3−ジブロ
モプロピル)o−フタレート、ビス(2,3−ジブロモ
プロピル)p−フタレート、ビス(2,3−ジブロモプ
ロピル)o−フタルアミド、ビス(2,3−ジブロモプ
ロピル)p−フタルアミド、トリス(2,3−ジブロモ
プロピル)トリメリテート、トリス(2,3−ジブロモ
プロピル)トリメリトアミド、テトラ(2,3−ジブロ
モプロピル)ピロメリテート、テトラ(2,3−ジブロ
モプロピル)ピロメリトアミド、ビス(2,3−ジブロ
モプロピル)グリセロール、トリメチロールプロパンビ
ス(2,3−ジブロモプロピル)エーテル、ビス(2,
3−ジブロモプロピル)タータミド、N,N‘−ビス
(2,3−ジブロモプロピル)スクシアミド、N,N,
N’,N’−テトラ(2,3−ジブロモプロピル)スク
シアミド、N,N‘−ビス(2,3−ジブロモプロピ
ル)ウレア、N,N,N’,N’−テトラ(2,3−ジ
ブロモプロピル)ウレア、2,2−ビス[4−(2,3
−ジブロモプロピル)−3,5−ジブロモフェニル]プ
ロパン、α、α、α−トリブロモメチルスルフォン、
α、β−ジブロモエチルベンゼン、トリス(2,3−ジ
ブロモプロピル)イソシアヌレート等が例示できる。こ
の中で特に、9,10,12,13,15,16−ヘキ
サブロモステアリン酸、9,10,12,13,15,
16−へキサブロモステアリン酸メチルエステル、同エ
チルエステル、トリス(2,3−ジブロモプロピル)イ
ソシアヌレートを用いることが好ましい。
おいて、臭素の代わりに塩素、ヨウ素を含む有機ハロゲ
ン化合物を用いても良い。この中で本発明の有機ハロゲ
ン化合物として好ましいのは上記の臭素化合物の臭素を
塩素またはヨウ素に置き換えたものが例示できる。また
これらの有機ハロゲン化合物は、単独で使用してもよい
し、2種類以上を併用してもよい。
ては、ハンダ付けフラックス全量に対し、塩素換算量で
0.02〜20質量%の範囲内、好ましくは0.1〜1
0質量%の範囲内である。有機ハロゲン化合物の添加量
が0.02質量%より少ないと、リフロー時に十分なハ
ンダ濡れ性が得られず、20質量%より多いと、フラッ
クスの絶縁抵抗が悪化(信頼性の悪化)するばかりか他
のフラックス成分の配合量を削減することになり、ハン
ダ付けフラックスに求められる他の機能を十分に果たす
ことができなくなる。なお本発明において塩素換算量と
は、有機ハロゲン化合物のハロゲンを塩素に換算した分
子量を用いての換算量を示す。
は、溶剤、チクソトロピック剤、その他必要に応じてそ
の他上記以外の活性剤、上記以外の樹脂成分、防錆剤、
酸化防止剤等を添加することができる。
するために添加されるチキソトロピックトロピック剤と
しては、微細なシリカ粒子、カオリン粒子などの無機系
のもの、または水添ヒマシ油、アマイド化合物などの有
機系のものが使用できる。
剤としては、通常のハンダ付けフラックスと同様に、ハ
ンダペーストとしたときの印刷適性が必要であり、樹脂
成分、活性剤、チクソトロピック剤などとの溶解性が高
く、リフロー後に残査が生じない有機系溶剤が挙げられ
る。この溶剤の沸点があまりに低いと、印刷時に揮発す
るので、ハンダペーストの粘度が高くなり著しく作業性
が低下する。沸点があまりに高いと、リフローしても揮
発せずハンダ表面にベタベタしたフラックス残査が残
り、また絶縁抵抗などの信頼性の観点から好ましくな
い。
ペーストと同様にアルコール類、エーテル類、エステル
類、グリコールの中級または高級アルコール類、芳香族
系の溶剤を、1種または2種以上混合して用いることが
できる。例えばベンジルアルコール、ブタノール、エチ
ルセロソルブ、ブチルセロソルブ、ブチルカルビトー
ル、ジエチレングリコールモノフェニルエーテル、ジエ
チレングリコールヘキシルエーテル、プロピレングリコ
ールモノフェニルエーテル、ジエチレングリコールモノ
ヘキシルエーテル、ジエチレングリコールーモノ2エチ
ルヘキシルエーテル、2−エチル−1,3−ヘキサンジ
オール、ジオクチルフタレート、キシレン、またはこれ
らの混合溶媒が例示できる。
に、アゾール類、例えばベンゾトリアゾール、ベンズイ
ミダゾール、トリルトリアゾールなどを配合しても良
い。防錆剤の添加量は、フラックス全量に対して0.0
5〜20質量%の範囲内が好ましい。
剤として使用されている溶剤に溶解可能なフェノール系
化合物、リン酸系化合物、硫黄系化合物、トコフェロー
ル及びその誘導体またはアスコルビン酸及びその誘導体
が挙げられる。該還元剤は単独であってもまたは混合し
て使用してもよい。配合量としてはフラックス全量に対
し、0.0005〜20質量%の範囲内、好ましくは
0.01%〜10質量%の範囲内である。
解明できていないが、おそらくはこれらの還元剤がハン
ダペースト中の溶存酸素あるいは空気中の酸素に働き、
ハンダ金属の酸化を抑制することによると思われる。ま
た、これらの還元剤はハロゲン含有成分から遊離してく
るハロゲンのアクセプターとして働くので、遊離したハ
ロゲンがハンダ金属、特にハンダ金属中のZnと反応す
るのを効果的に防止しているためと考えられる。Pb含
有ハンダにおいても同様な効果を有すると考えられる。
ン性活性剤としては、例えばイソプロピルアミン臭化水
素酸塩、ブチルアミン塩化水素酸塩、シクロヘキシルア
ミン臭化水素酸塩等のハロゲン化水素酸アミン塩、1,
3−ジフェニルグアニジン臭化水素酸塩等が挙げられ
る。しかしこれらの活性剤は、フラックスをハンダペー
ストとしたとき保存安定性を低下させるので使用態様、
使用目的に応じて使用することが必要である。
分としては、従来周知のコハク酸、フタル酸、ステアリ
ン酸、セバシン酸等が挙げらる。またリフロー温度に達
した時に有機酸を発生する化合物である有機酸誘導体も
有機酸成分として好適に用いられる。例えば各種脂肪族
カルボン酸エステル、芳香族カルボン酸エステル、脂肪
族スルホン酸エステル、芳香族スルホン酸エステル等が
挙げられる。具体的な例としては、パラトルエンスルホ
ン酸−n−プロピル、パラトルエンスルホン酸イソプロ
ピル、パラトルエンスルホン酸イソブチル、パラトルエ
ンスルホン酸−n−ブチル、ベンゼンスルホン酸−n−
プロピル、ベンゼンスルホン酸イソプロピル、ベンゼン
スルホン酸イソブチル、サリチル酸−n−プロピル、サ
リチル酸イソプロピル、サリチル酸イソブチル、サリチ
ル酸−n−ブチル、4−ニトロ安息香酸イソプロピル、
4−ニトロ安息香酸−t−ブチル、メタクリル酸−t−
ブチル、アクリル酸−t−ブチル、マロン酸−t−ブチ
ル、ブロモ酢酸−t−ブチルなどが挙げられる。添加量
としてはフラックス全量に対して0.01〜20質量
%、好ましくは0.05〜5質量%の範囲を使用する。
はリフロー温度においても分解性が低いため、分解を促
進するためには少量のエステル分解触媒の添加が有効で
ある。エステル分解触媒としては、分解性の有機酸エス
テルがリフロー温度で分解して酸の発生を促進する作用
を有する触媒であればよいが、その中で特に有機塩基と
ハロゲン化水素酸塩が有効である。
用できるPbフリーハンダ合金の金属組成としては、S
n−In系、Sn−Bi系、In−Ag系、In−Bi
系、Sn−Zn系、Sn−Ag系、Sn−Cu系、Sn
−Sb系、Sn−Au系、Sn−Bi−Ag−Cu系、
Sn−Ge系、Sn−Bi−Cu系、Sn−Cu−Sb
−Ag系、Sn−Ag−Zn系、Sn−Cu−Ag系、
Sn−Bi−Sb系、Sn−Bi−Sb−Zn系、Sn
−Bi−Cu−Zn系、Sn−Ag−Sb系、Sn−A
g−Sb−Zn系、Sn−Ag−Cu−Zn系、Sn−
Zn−Bi系が挙げられる。
n、43Sn/57Bi、97In/3Ag、58Sn
/42In、95In/5Bi、60Sn/40Bi、
91Sn/9Zn、96.5Sn/3.5Ag、99.
3Sn/0.7Cu、95Sn/5Sb、20Sn/8
0Au、90Sn/10Ag、Sn90/Bi7.5/
Ag2/Cu0.5、97Sn/3Cu、99Sn/1
Ge、92Sn/7.5Bi/0.5Cu、97Sn/
2Cu/0.8Sb/0.2Ag、95.5Sn/3.
5Ag/1Zn、95.5Sn/4Cu/0.5Ag、
52Sn/45Bi/3Sb、51Sn/45Bi/3
Sb/1Zn、85Sn/10Bi/5Sb、84Sn
/10Bi/5Sb/1Zn、88.2Sn/10Bi
/0.8Cu/1Zn、89Sn/4Ag/7Sb、8
8Sn/4Ag/7Sb/1Zn、98Sn/1Ag/
1Sb、97Sn/1Ag/1Sb/1Zn、91.2
Sn/2Ag/0.8Cu/6Zn、89Sn/8Zn
/3Bi、86Sn/8Zn/6Bi、89.1Sn/
2Ag/0.9Cu/8Znなどが挙げられる。この中
でも特にZnを含有したPbフリーハンダ合金が好まし
い。また、ハンダ粉末の場合、異なる組成のハンダ粉末
を2種類以上混合したものでもよい。
用の液状フラックスや糸ハンダのヤニにも使用できる。
液状フラックスで使用する場合は溶剤としてイソプロピ
ルアルコール等を使用し、固形分濃度40〜70質量%
程度に希釈すればよい。また糸ハンダ用ヤニに使用する
場合、溶剤を使用せず溶剤以外の材料をロジンの軟化点
以上で調合し、常温で固化し、ハンダ粉末を混合して糸
ハンダとすればよい。
は、例えばプリント配線板にハンダペーストを印刷し、
これに電子部品を仮止めし、リフローして回路基板を製
造する際に好適に使用される。本発明のフラックス、ハ
ンダペーストおよび糸ハンダ等の使用方法、並びに電子
部品接合物の製造方法では、例えばハンダ付けを所望す
る部分に、印刷法等でハンダペーストを塗布し、電子部
品を載置、仮止めし、その後加熱してハンダ粒子を溶融
し凝固させることにより電子部品を基板に接合すること
ができる。
ては、例えば表面実装技術(SMT)があげられる。この
実装方法は、まずハンダペーストを印刷法により基板、
例えば配線板上の所望する箇所に塗布する。ついで、チ
ップ部品やQFPなどの電子部品を該ハンダペースト上に
載置し、リフロー熱源により一括してハンダ付けを行な
う。リフロー熱源には、熱風炉、赤外線炉、蒸気凝縮ハ
ンダ付け装置、光ビームハンダ付け装置を使用すること
ができる。
線板の温度を均一にするためのプレヒートとハンダの融
点以上に加熱する工程で行なわれる。それぞれの条件
は、ハンダ合金で異なるが、91Sn/9Zn,89Sn
/8Zn/3Bi,86Sn/8Zn/6Biなどの錫−亜
鉛系の場合、それぞれの条件は、プレヒートが130〜
180℃、好ましくは、150〜170℃、プレヒート
時間が60〜120秒、好ましくは、60〜90秒、リ
フロー温度は200〜230℃、好ましくは、210〜
220℃、リフロー時間が20〜60秒、好ましくは、
30〜40秒である。なお、他の合金系におけるリフロ
ー温度は、用いる合金の融点に対して、+20〜+50
℃、好ましくは、合金の融点に対し、+20〜+30℃
とし、他のプレヒート温度、プレヒート時間、リフロー
時間は上記と同様の範囲であればよい。
とにより、従来大気中でリフローが難しかった、Pbフ
リーハンダ、特に亜鉛を含むハンダ合金系でもハンダ付
けを実施することが可能となり、また配線板などの基板
へのハンダの濡れ性が向上し、ハンダボールの発生も少
なくなり、リフロー特性の高い処理ができる。
る。この実装方法による電子接合物の製造方法において
は、プリント配線板等の基板(被接合板)の両面に接合
を行なうことも容易にできる。なお、本発明のハンダペ
ーストを使用できる電子部品としては、例えば、LS
I、抵抗器、コンデンサ、トランス、インダクタンス、
発振子・振動子等があげられるが、これに限定されるも
のではない。
面、例えばプリント基板の回路金属の、所定の表面にの
み化学反応により粘着性皮膜を形成し、これにハンダ粉
末を付着させた後、フラックスを塗布し、ハンダの溶融
温度まで加熱してリフローさせ、ハンダバンプを形成し
た回路基板(特開平7−7244公報)上に、本発明の
ハンダペーストを用いてSMT(表面実装技術)で実装
した場合、ハンダ中のボイドが減少するなどの優れた接
合物の信頼性が得られる。
をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらに限定さ
れるものではない。
0)によりぬれ効力及びディウェッティング試験を行っ
た。銅板に6.5mmφ厚み0.2mmのメタルマスク
を用いて、ハンダペーストを印刷し、235℃のソルダ
バスで加熱した。ハンダ溶解後5秒後に取り出し、広が
りの度合いを判定した。JISZ−3284(付属書1
1)によりハンダボール試験を行なった。アルミナ板に
6.5mmφ厚み0.2mmのメタルマスクを用いて、
ハンダペーストを印刷し、235℃のソルダバスで加熱
した。ハンダ溶解後5秒後に取り出し、ソルダボールの
粒径、数を観察した。また、EIAJ ET−7404
に準じたハンダペーストウェッテングバランス法にて濡
れ力を測定した。測定器として、マルコム製ソルダペー
スト濡れ性試験器SP−2を用いた。
ルマスクを用いて、ハンダペーストを印刷し、銅パイプ
(外径5mm、内径4mm)における大気リフローでの
濡れ力(mN)を、温度プロファイルを、室温から18
0℃まで加温速度1.5℃/分、180℃で3分保持、
230℃まで加温速度2℃/分、230℃で3秒保持と
して測定した。pHの測定は、トルエン50ml、イソ
プロピルアルコール49.5ml、水0.5mlからな
る混合液に、フラックス4gを溶解してpH計で測定し
た。なおハンダペーストの場合は、フラックス4gに相
当するハンダペーストを計りとりフラックスと同様にし
て測定した。
ック剤として水添ヒマシ油、活性剤としてシクロヘキシ
ルアミン臭化水素酸塩、防錆剤としてベンゾトリアゾー
ル、溶剤としてプロピレングリコールモノフェニルエー
テル、有機活性剤として9,10,12,13,15,
16−ヘキサブロモステアリン酸または1,2,5,
6,9,10−ヘキサブロモシクロドデカン、有機酸成
分としてパラトルエンスルホン酸−n−プロピルを用い
た。樹脂成分としては、本発明の酸価165,軟化点7
8℃の天然ロジン、酸価160、軟化点120℃の不均
化ロジン、酸価170、軟化点85℃の水添ロジンおよ
び本発明からは除外される酸価150、軟化点140℃
の重合ロジンを添加した。
℃、pKa10.3のトリプロピルアミン、沸点106
℃、pKa11.12のピペリジン、沸点127℃、p
Ka11.07の2,6−ジメチルピペリジン、沸点1
31℃、pKa10.45の1−エチルピペリジン、本
発明からは除外される沸点184℃、pKa4.58の
アニリン、沸点185℃、pKa9.34のベンジルア
ミン、沸点210℃、pKa11.0のジ−n−アミル
アミンを適宜加えてハンダ付けフラックスを調製した。
その配合を表1に示した。
ハンダ付けフラックスにおいて、軟化点が100℃以下
のカルボン酸基を有する樹脂成分、及び沸点が50℃〜
200℃の範囲内、pKaが10.0〜11.5の範囲
内のアミンを含有した実施例1〜8においては、優れた
濡れ性を発現した。実施例1〜8と比較して、有機ハロ
ゲン化合物を含まない比較例1、軟化点が100℃以下
のカルボン酸基を有する樹脂成分を含まない比較例2、
沸点が50℃〜200℃の範囲内、またはpKaが1
0.0〜11.5の範囲内以外のアミンを含む比較例3
〜5では、実用レベルの濡れ性を発現しなかった。この
ハンダ付けフラックス10質量%に、89Sn/8Zn
/3Biのハンダ粉末を90質量%を添加し、プラネタ
リーミルで混練し、ハンダペ−ストを製造した。
以下のカルボン酸基を有する樹脂成分、沸点が50℃〜
200℃の範囲内であってpKaが10.0〜11.5
の範囲内の有機アミンおよび活性剤として非イオン性有
機ハロゲン化合物を含有するハンダ付け用フラックスを
用いることにより、ハンダペーストとしたとき、反応性
の高いZn等を含むPbフリーハンダを用いた場合にお
いても保存安定性があり、活性剤の性能も劣化すること
なく、リフロー及び溶融後の未溶融粒子及びハンダボー
ルの発生が防止でき、極めて優れたハンダ付け性のある
ハンダペーストが得られた。このためこのハンダペース
トを用いたときには接着性の優れた回路基板および電子
部品の接合物が容易に安定して製造できる。
Claims (13)
- 【請求項1】 カルボン酸基を有し軟化点が100℃以
下の樹脂成分、酸解離定数(pKa)が10.0〜1
1.5の範囲内で沸点が50℃〜200℃の範囲内であ
る有機アミンおよび非イオン性有機ハロゲン化合物を含
有することを特徴とするハンダ付けフラックス。 - 【請求項2】 樹脂成分を1〜50質量%、有機アミン
を0.05〜20質量%の範囲で含み、全体としてpH
が4〜9の範囲内である請求項1に記載のハンダ付けフ
ラックス。 - 【請求項3】 樹脂成分が、酸価が140〜180mg
KOH/g、軟化点が60〜90℃の天然ロジン、不均
化ロジン、水添ロジン、変性ロジンの一種または2種以
上の混合物を含む樹脂である請求項1または2に記載の
ハンダ付け用フラックス。 - 【請求項4】 有機アミンが、炭素、水素、窒素元素を
含む脂肪族モノアミンまたは脂環式モノアミンである請
求項1〜3の何れか1項に記載のハンダ付けフラック
ス。 - 【請求項5】 有機アミンが、3−アミノペンタン、i
so−アミルアミン、ネオペンチルアミン、t−ペンチ
ルアミン、n−ペンチルアミン、n−ヘキシルアミン、
シクロヘキシルアミン、ヘプチルアミン、2−オクチル
アミン、ジエチルアミン、ジ−n−プロピルアミン、ジ
−iso−プロピルアミン、ジ−iso−ブチルアミ
ン、ジ−n−ブチルアミン、ジ−sec−ブチルアミ
ン、トリエチルアミン、トリ−n−プロピルアミン、
N,N−ジメチルシクロヘキシルアミン、ピペリジン、
N−メチルピペリジン、2−メチルピペリジン、3−メ
チルピペリジン、4−メチルピペリジン、N−エチルピ
ペリジン、2−エチルピペリジン、3−エチルピペリジ
ン、4−エチルピペリジン、1−n−プロピルピペリジ
ン、2,6−ジメチルピペリジン、3,5−ジメチルピ
ペリジン、2,2,6−トリメチルピペリジン、2,
2,4−トリメチルピペリジン、2,2,6,6−テト
ラメチルピペリジン、ピロリジン、2,5−ジメチルピ
ロリジン、N−メチルピロリジン、ヘキサメチレンイミ
ン、ヘプタメチレンイミンから選択される何れか1つで
ある請求項1〜4の何れか1項に記載のハンダ付けフラ
ックス。 - 【請求項6】 請求項1〜5の何れか1項に記載のハン
ダ付けフラックスを用いたハンダ粉末とを含むハンダペ
ースト。 - 【請求項7】 ハンダ粉末がPbフリーハンダであるこ
とを特徴とする請求項6に記載のハンダペースト。 - 【請求項8】 Pbフリーハンダ粉末が亜鉛を含むこと
を特徴とする請求項7に記載のハンダペースト。 - 【請求項9】 請求項6〜8の何れか1項に記載のハン
ダペーストを回路基板上に塗布し、該塗布部に電子部品
を載置し、その後回路基板を加熱して電子部品を回路基
板上に接合する回路基板の製造方法。 - 【請求項10】 請求項1〜5の何れか1項に記載のハ
ンダ付けフラックスを溶剤で希釈して作製したフロー用
液状フラックス。 - 【請求項11】 請求項1〜5の何れか1項に記載のハ
ンダ付けフラックスとハンダ合金とを含むヤニ入り糸ハ
ンダ。 - 【請求項12】 ハンダ合金が亜鉛を含むことを特徴と
する請求項11に記載のヤニ入り糸ハンダ。 - 【請求項13】 請求項1〜5の何れか1項に記載のハ
ンダ付けフラックスを用いて製造した回路基板、及び電
子部品の接合物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001181718A JP2003001487A (ja) | 2001-06-15 | 2001-06-15 | ハンダ付けフラックス |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001181718A JP2003001487A (ja) | 2001-06-15 | 2001-06-15 | ハンダ付けフラックス |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003001487A true JP2003001487A (ja) | 2003-01-08 |
Family
ID=19021943
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001181718A Pending JP2003001487A (ja) | 2001-06-15 | 2001-06-15 | ハンダ付けフラックス |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2003001487A (ja) |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1897652A1 (en) * | 2006-09-05 | 2008-03-12 | Denso Corporation | Soldering flux and solder paste composition |
JP2012166226A (ja) * | 2011-02-14 | 2012-09-06 | Jsr Corp | フラックスおよび電気的接続構造の形成方法 |
WO2013150635A1 (ja) | 2012-04-05 | 2013-10-10 | 千住金属工業株式会社 | フラックス及びソルダペースト |
CN104070307A (zh) * | 2013-03-28 | 2014-10-01 | 株式会社田村制作所 | 助焊剂组合物及焊料组合物 |
CN104741833A (zh) * | 2013-12-27 | 2015-07-01 | 株式会社田村制作所 | 焊料组合物 |
JP5816947B1 (ja) * | 2015-02-05 | 2015-11-18 | 株式会社弘輝 | フラックス用活性剤、フラックス及びはんだ |
JP2016159325A (ja) * | 2015-02-27 | 2016-09-05 | 住友金属鉱山株式会社 | はんだ用フラックスおよびはんだペースト |
KR102468947B1 (ko) * | 2021-05-12 | 2022-11-18 | 잉커송 비예 리서치 앤드 디벨롭먼트 센터 션젼 컴퍼니 리미티드 | 간소화된 펜코어 모듈 및 그 제조 방법 |
JP7212298B1 (ja) | 2022-07-22 | 2023-01-25 | 千住金属工業株式会社 | フラックス及びソルダペースト |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1999064199A1 (fr) * | 1998-06-10 | 1999-12-16 | Showa Denko K.K. | Poudre de soudage, fondant, pate de soudage, procede de soudage, carte a circuit soudee et produit de jonction soude |
JP2001105180A (ja) * | 1999-10-05 | 2001-04-17 | Showa Denko Kk | はんだ付けフラックス |
JP2001138089A (ja) * | 1999-11-19 | 2001-05-22 | Nippon Genma:Kk | はんだ用フラックスおよびソルダペースト |
-
2001
- 2001-06-15 JP JP2001181718A patent/JP2003001487A/ja active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1999064199A1 (fr) * | 1998-06-10 | 1999-12-16 | Showa Denko K.K. | Poudre de soudage, fondant, pate de soudage, procede de soudage, carte a circuit soudee et produit de jonction soude |
JP2001105180A (ja) * | 1999-10-05 | 2001-04-17 | Showa Denko Kk | はんだ付けフラックス |
JP2001138089A (ja) * | 1999-11-19 | 2001-05-22 | Nippon Genma:Kk | はんだ用フラックスおよびソルダペースト |
Cited By (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1897652A1 (en) * | 2006-09-05 | 2008-03-12 | Denso Corporation | Soldering flux and solder paste composition |
JP2012166226A (ja) * | 2011-02-14 | 2012-09-06 | Jsr Corp | フラックスおよび電気的接続構造の形成方法 |
WO2013150635A1 (ja) | 2012-04-05 | 2013-10-10 | 千住金属工業株式会社 | フラックス及びソルダペースト |
CN104070307B (zh) * | 2013-03-28 | 2018-02-23 | 株式会社田村制作所 | 助焊剂组合物及焊料组合物 |
CN104070307A (zh) * | 2013-03-28 | 2014-10-01 | 株式会社田村制作所 | 助焊剂组合物及焊料组合物 |
JP2014188578A (ja) * | 2013-03-28 | 2014-10-06 | Tamura Seisakusho Co Ltd | フラックス組成物およびはんだ組成物 |
CN104741833A (zh) * | 2013-12-27 | 2015-07-01 | 株式会社田村制作所 | 焊料组合物 |
JP2015123491A (ja) * | 2013-12-27 | 2015-07-06 | 株式会社タムラ製作所 | はんだ組成物 |
KR20150077344A (ko) * | 2013-12-27 | 2015-07-07 | 가부시키가이샤 다무라 세이사쿠쇼 | 땜납 조성물 |
KR102181112B1 (ko) | 2013-12-27 | 2020-11-20 | 가부시키가이샤 다무라 세이사쿠쇼 | 땜납 조성물 |
US10702956B2 (en) | 2015-02-05 | 2020-07-07 | Koki Company Limited | Flux activator, flux, and solder |
CN107107278A (zh) * | 2015-02-05 | 2017-08-29 | 株式会社弘辉 | 助焊剂用活性剂、助焊剂和软钎料 |
TWI665047B (zh) * | 2015-02-05 | 2019-07-11 | Koki Company Limited | 助焊劑用活性劑、助焊劑及焊料 |
CN107107278B (zh) * | 2015-02-05 | 2019-09-03 | 株式会社弘辉 | 助焊剂用活性剂、助焊剂和软钎料 |
WO2016125901A1 (ja) * | 2015-02-05 | 2016-08-11 | 株式会社弘輝 | フラックス用活性剤、フラックス及びはんだ |
JP5816947B1 (ja) * | 2015-02-05 | 2015-11-18 | 株式会社弘輝 | フラックス用活性剤、フラックス及びはんだ |
JP2016159325A (ja) * | 2015-02-27 | 2016-09-05 | 住友金属鉱山株式会社 | はんだ用フラックスおよびはんだペースト |
KR102468947B1 (ko) * | 2021-05-12 | 2022-11-18 | 잉커송 비예 리서치 앤드 디벨롭먼트 센터 션젼 컴퍼니 리미티드 | 간소화된 펜코어 모듈 및 그 제조 방법 |
JP7212298B1 (ja) | 2022-07-22 | 2023-01-25 | 千住金属工業株式会社 | フラックス及びソルダペースト |
WO2024019147A1 (ja) * | 2022-07-22 | 2024-01-25 | 千住金属工業株式会社 | フラックス及びソルダペースト |
JP2024014538A (ja) * | 2022-07-22 | 2024-02-01 | 千住金属工業株式会社 | フラックス及びソルダペースト |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6881278B2 (en) | Flux for solder paste | |
EP1348513B1 (en) | Solder pastes | |
JP6402213B2 (ja) | はんだ組成物および電子基板 | |
JP4042418B2 (ja) | ハンダ付けフラックス | |
JP3385272B2 (ja) | はんだ粉末、フラックス、はんだペースト、はんだ付け方法、はんだ付けした回路板、及びはんだ付けした接合物 | |
JP2003170294A (ja) | ソルダペースト | |
WO2001058639A9 (fr) | Pate a souder, procede de soudage utilisant ladite pate a souder et produit brase prepare par ledit procede de soudage | |
JP2020040105A (ja) | はんだ組成物および電子基板の製造方法 | |
JP2003001487A (ja) | ハンダ付けフラックス | |
JP2003225795A (ja) | ハンダ付け用フラックスおよびハンダペースト | |
JP2018034190A (ja) | はんだ組成物および電子基板 | |
JP2019081200A (ja) | はんだ組成物および電子基板 | |
JP6130418B2 (ja) | 電子部品の接合方法、並びに、その方法に用いるはんだ組成物および前処理剤 | |
JP2001105180A (ja) | はんだ付けフラックス | |
JP2001018090A (ja) | はんだペースト及びはんだ付け方法 | |
JP4426076B2 (ja) | 低温活性ハンダペースト | |
JP3774311B2 (ja) | はんだペースト | |
US11780035B2 (en) | Solder composition and electronic substrate | |
JP2003025089A (ja) | ハンダペースト | |
JP3177197B2 (ja) | はんだペースト | |
JP4347492B2 (ja) | ハンダ付けフラックス、ハンダペースト、ハンダ付け方法、接合物 | |
JP3930690B2 (ja) | ハンダペースト用フラックス | |
JP2002361476A (ja) | ハンダ金属、ハンダペースト、ハンダ付け方法、ハンダ付けした回路板、及びハンダ付けした接合物 | |
JP4223648B2 (ja) | はんだ付けフラックス | |
JP6826061B2 (ja) | はんだ組成物および電子基板の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD13 | Notification of appointment of power of sub attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7433 Effective date: 20050411 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20050411 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080327 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100621 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100706 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20101102 |