JP3503198B2 - 凹版およびこれを用いた印刷方法 - Google Patents

凹版およびこれを用いた印刷方法

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JP3503198B2
JP3503198B2 JP15312394A JP15312394A JP3503198B2 JP 3503198 B2 JP3503198 B2 JP 3503198B2 JP 15312394 A JP15312394 A JP 15312394A JP 15312394 A JP15312394 A JP 15312394A JP 3503198 B2 JP3503198 B2 JP 3503198B2
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    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/10Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern
    • H05K3/12Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using thick film techniques, e.g. printing techniques to apply the conductive material or similar techniques for applying conductive paste or ink patterns

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  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
  • Printing Methods (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、微細なパターンを印刷
する必要がある分野、具体的には電気部品、電子部品等
の製造において配線パターン等を印刷する場合の技術に
関する。
【0002】また、通常の印刷においても、印刷品質が
特に高いことを必要とする場合に係わり、インキの厚さ
を厚くすることが必要な場合等に有用な技術を提供す
る。
【0003】
【従来の技術】電子技術の進歩に伴って、素子類のサイ
ズは益々小さくなっており、それにつれて配線パターン
も微細化することが要求され、その解決策として主にフ
ォトリソグラフィがある。しかし、低価格化を図るた
め、他の方法の開発が強く求められている。また、従来
技術より精度の高いパターン形成方法の要求もある。
【0004】フォトリソグラフィ以外の新しい製法とし
て、凹版のセル中でインキを硬化させ、この硬化したイ
ンキを粘着剤を賦与した被印刷物の表面に剥離して転移
させる技術が特開平3−150376号公報、特開平3
−280416号公報等に開示されている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかし、セル内で硬化
したインキは、版から剥離し難くなることがあると云っ
た問題点があった。すなわち、特開平3−150376
号公報の技術においては、ステンレス鋼板上に銅めっき
のパターンを形成したときには、その間の接着力は水洗
水の圧力で剥離するほど低い。しかし、ステンレス鋼板
−電着樹脂や、ステンレス鋼以外の金属板−金属めっき
パターンの場合は、粘着剤の側へ剥離して転移すること
が極めて困難であった。
【0006】一方、特開平3−280416号公報の実
施例には、銅製凹版とエポキシアクリル系インキとの組
み合わせが開示されているが、この場合もインキが完全
に硬化すると版から剥離させることが極めて困難になる
と云った問題点があった。
【0007】なお、凹版のセル内で硬化したインキが容
易に剥離して被印刷物の側に転移し得るようにする対策
として、シリコーン樹脂やテフロン樹脂を凹版のセル内
に配置することが考えられる。しかし、本発明者等の検
討によると、離型性の優れた通常のシリコーン樹脂やテ
フロン樹脂を配置した場合には、インキをセル内へ供給
することが難しくなった。例えば、このような凹版へイ
ンキングロールを用いてインキを供給しようとしても、
セル内にインキが全く移らず、インキングロール上に残
ったままであった。また、ドクターリングによって供給
しようとしても、一度セル内に入ったインキがドクター
の移動と共にドクターの刃先に付着して引っ張り出さ
れ、セル内が空になってしまった。
【0008】従って、インキングロールやドクターでイ
ンキを供給することが可能で、かつ硬化したインキが容
易に離型する凹版と、その製造方法、さらにはその凹版
を用いた印刷方法を見い出すことが課題であった。
【0009】
【課題を解決するための手段】従来技術の課題を解決す
る手段として、本発明はセルの少なくとも底面に硬化イ
ンキ離型性樹脂を配設して形成した凹版のセルに、硬化
促進可能なインキを供給してセル内で硬化させ、この版
表面と被印刷物の表面に配設した粘着剤とを密着した
後、粘着剤を硬化させるかそのままの硬度で被印刷物と
凹版とを引き離し、セル内で硬化したインキを硬化した
粘着剤の粘着力または硬化しないそのままの粘着剤の粘
着力によって被印刷物に転移させる凹版を用いた印刷方
法、あるいは、セルの少なくとも底面に硬化インキ離型
性樹脂を配設して形成した凹版のセルに、硬化促進可能
なインキを供給してセル内で硬化させ、さらに粘着性イ
ンキを硬化したインキの上に供給し、この版表面と被印
刷物の面または被印刷物の表面に配設した粘着剤とを重
ね、粘着剤を被印刷物と密着させた後、粘着剤を硬化さ
せるかそのままの硬度で被印刷物と凹版とを引き離し、
セル内で硬化したインキと粘着剤を被印刷物に転移させ
る凹版を用いた印刷方法において、凹版基板の上面に配
設した未硬化の撥インキ性樹脂層に、凸部を片面に有す
る母型基板の凸部上に硬化インキ離型性樹脂層を剥離可
能に配設して形成した型取り母型の硬化インキ離型性樹
脂層を合わせて密着型取りし、撥インキ性樹脂層の硬化
後、母型基板を除去して凹版が形成された印刷方法、あ
るいは、凹版基板の片面に硬化インキ離型性樹脂層を配
設し、この上に光硬化型シリコーン樹脂層を設け、この
光硬化型シリコーン樹脂層をパターン露光して所要部を
硬化させた後、未硬化部を除去し、撥インキ性樹脂を光
硬化型シリコーン樹脂層によって構成すると共に、下層
に配設した硬化インキ離型性樹脂層を露出して凹版が形
成された印刷方法、あるいは、凹版基板の片面に硬化イ
ンキ離型性樹脂層を配設し、この上に光硬化性粘着剤層
を設け、さらにこの光硬化性粘着剤層の上にシリコーン
樹脂層を設け、このシリコーン樹脂層の上からパターン
露光して光硬化性粘着剤層の所要部を硬化させた後、光
硬化性粘着剤層の未硬化部をその表層部のシリコーン樹
脂と共に除去し、撥インキ性樹脂をシリコーン樹脂層に
よって構成すると共に、下層に配設した硬化インキ離型
性樹脂層を露出して凹版が形成された印刷方法、あるい
は、凹凸部を逆に形成したネガ状凹版の版表面に、未硬
化の硬化インキ離型性樹脂を密着させて型取りした後、
ネガ状凹版を除去し、硬化インキ離型性樹脂の凸部端面
に撥インキ性樹脂を配設して凹版が形成された印刷方
法、あるいは、凹版基板の片面に硬化インキ離型性シリ
コーン樹脂層を配設し、これを加湿硬化してこの上にシ
リコーン樹脂接着用プライマーを塗布し、さらにこのプ
ライマーの上に紫外線硬化型シリコーン樹脂層を設け、
この紫外線硬化型シリコーン樹脂層をパターン露光して
所要部を硬化させた後、未硬化部を除去し、撥インキ性
樹脂を紫外線硬化型シリコーン樹脂層によって構成する
と共に、下層に配設した硬化インキ離型性シリコーン樹
脂層を露出して凹版が形成された印刷方法を提供するも
のであり、
【0010】 また、前記凹版の硬化インキ離型性樹脂
がポリオレフィン樹脂・変性ポリオレフィン樹脂・ポリ
エチレンオキシド樹脂・メラミン樹脂・加水硬化型シリ
コーン樹脂から選択された樹脂からなる印刷方法を提供
するものである。
【0011】なお、本発明において硬化インキ離型性樹
脂とは、第一に液状(硬化前)インキを受容する特性が
あること、すなわち通常の方法(ロールインキング、ド
クターリング等)でインキを載せることが可能である特
性を有すること、第二にインキが版内で硬化した時に離
型することができる程、接着力が低下する特性の樹脂を
意味する。
【0012】例えばポリオレフィン樹脂の一種であるポ
リエチレンには通常のアマニ油系のオフセットインキが
未硬化の状態では載る。すなわち、インキング可能であ
る。しかし、インキが硬化して固体状になると剥がれ易
くなり、例えばそのインキの上にセロテープを貼りつけ
て引き剥がすと、固体状のインキは容易にポリエチレン
フィルムから剥がれる。すなわち、離型する。
【0013】硬化インキ離型性樹脂とインキの種類には
組合せがあり、高い離型性が得られる組合せ、すなわち
離型性に優れた組合せと、その逆の組合せがある。本発
明においては、粘着剤の粘着力程度で容易に離型するイ
ンキ−硬化インキ離型性樹脂の組合せが対象である。
【0014】硬化インキとして一般的に使用されるアマ
ニ油系、アクリル系に対して、ポリオレフィン樹脂、変
性ポリオレフィン樹脂、ポリエチレンオキシド樹脂、メ
ラミン樹脂は親インキ性を液体状態では示す。しかし、
インキが硬化すると離型性を示すようになる。このよう
な特性は一般的には樹脂とインキの成分との組合せによ
って発現したりしかなったりするが、理論的には液状イ
ンキの表面張力が対する樹脂の表面張力より低く、ヌレ
が発生し、かつ硬化したインキの表面張力が対する樹脂
の表面張力より大きく、また両者の間に何らの化学的結
合が生じない場合に発現すると考えられる。しかし、現
在ではこの考えは推定の域を出ていず、実際には各種の
組合せを具体的に検討する必要がある。
【0015】本発明のポリオレフィン樹脂、変性ポリオ
レフィン樹脂、ポリエチレンオキシド樹脂、メラミン樹
脂、加水硬化型シリコーン樹脂はテストの結果、硬化性
インキの内、樹脂分がアマニ油系、アクリル系であるも
のに対して上記特性「硬化インキ離型性」を有すること
が判明したものである。ただし、本発明の内容はこれに
限定されず、この硬化インキ離型性を発現するインキと
樹脂とさらには粘着剤(接着剤)の組合せを対象として
いる。粘着剤とインキの粘着力は硬化したインキと版面
上の上記樹脂との間の粘着力より高いことが必要であ
る。
【0016】
【0017】
【0018】
【0019】
【0020】
【0021】
【0022】
【0023】
【0024】以上の解決手段において、インキが硬化イ
ンキ離型性樹脂表面に付着するためには、その付着力が
インキ自体の凝集力より大きい必要がある。また、硬化
したインキが版から離型して粘着剤の方へ転移するため
には、付着力(硬化したインキ対硬化インキ離型性樹
脂)<粘着力(硬化したインキ対粘着剤)<凝集力(粘
着剤)、粘着力(粘着剤対被転写体)という関係が成立
する必要があり、各材料を選定する際にはこの関係式を
満足することを確認する必要がある。
【0025】
【作用】セルの少なくとも底面がポリオレフィン樹脂・
変性ポリオレフィン樹脂・ポリエチレンオキシド樹脂・
メラミン樹脂・加水硬化型シリコーン樹脂から選択され
た硬化インキ離型性樹脂によって形成された凹版を用い
るので、セルにインキを供給することが可能であり、供
給されてセル内で硬化したインキはセル内に密着するこ
とがない。このため、被印刷物の表面と版表面とを密着
した後、粘着剤を硬化させるかそのままの硬度で被印刷
物の表面と版表面とを引き離すと、セル内で硬化してい
たインキは被印刷物の表面に配設した粘着剤に取られて
被印刷物の側に全て転移する。
【0026】インキが凹版から被印刷物の側に転移する
時には、インキは硬化していてダレることがないので、
形状良く転移するだけでなく、重ね印刷でなければ従来
得られなかったような厚さのパターンを、1回の印刷で
得ることができる。
【0027】版表面を撥インキ性樹脂によって形成した
凹版においては、インキがセルにのみ充填されるので、
インキングが容易であるだけでなく、地汚れを起こす懸
念がない等操作性に優れている。
【0028】 銅層をエッチングして所要の回路パター
ンを具備するプリント回路基板を得た第1の実施例
1および図2に基づいて説明する。
【0029】先ず、印刷に使用した凹版1の製法を説明
すると、例えば板厚0.3mm、600mm四方のステ
ンレス鋼板からなる凹版基板2の片面に、従来周知の手
法によって、例えばフィルム状レジストであるネガ型フ
ォトレジスト(例えば、デュポン社製リストン101
0、膜厚25μm)を所定の温度、圧力で帖着、この帖
着したフォトレジストに紫外線を所望のパターンで照射
し、未露光部を現像によって除去し、露光した部分のフ
ォトレジスト4がパターン状に片面に残存する凹版基板
21を最初に得た(工程A1)。
【0030】次に、工程A1で得た凹版基板21を図示
しないニッケルめっき液に浸漬し、ニッケル板を陽極に
繋ぎ、凹版基板21を陰極に繋いでニッケルめっき層5
を、フォトレジスト4によって囲繞形成された凹部に、
例えば9.5μmの厚さに形成し、その後水洗して乾燥
し、凹版基板22を得た(工程A2)。なお、めっきが
不要な部分、例えば凹版基板21の側面や裏面には図示
しないマスキングを施してめっき液に浸漬し、不要部に
ニッケルめっきが形成されないようにした。
【0031】工程A2で得た凹版基板22をナフトキノ
ンジアジドの図示しない所定の剥離液に浸漬してフォト
レジスト4を除去し、水洗・乾燥し、ニッケルめっき層
5のみがパターン状に片面に形成された凹版基板23を
得た(工程A3)。
【0032】さらに、工程A3で得た凹版基板23の表
面に金属接着用のプライマー6(例えば、東芝シリコー
ン社製ME−121)を所定の方法に従い、従来周知の
手法でスピンコートした後乾燥させ、ニッケルめっき層
5が囲繞形成する凹部に、シリコーンゴム(例えば、東
芝シリコーン社製TSE−3450)に硬化剤を規定量
加えて室温硬化可能にした室温硬化型シリコーンゴム7
を、ドクター8で扱いて充填し、室内に所定時間(例え
ば、48時間)放置してこれを硬化させ、凹版基板24
を得た(工程A4)。
【0033】そして、工程A4で得た凹版基板24の表
面に接着力を有する適宜のテープ、例えばセロテープ9
を貼り付けてこれを引き剥がすと、セロテープ9に接着
したニッケルめっき層5が凹版基板2から剥がれて、室
温硬化型シリコーンゴム7がパターン状に片面に形成さ
れた凹版基板25を得た(工程A5)。
【0034】さらに、工程A5で得た凹版基板25の表
面に硬化インキ離型性樹脂の一つである塩素化ポリオレ
フィン(例えば、山陽国策パルプ社製スーパークロン8
22)のトルエン希釈液を乾燥後の膜厚が、例えば4μ
mとなるようにスプレーコートし、この固化した塩素化
ポリオレフィンを、例えば120℃で加熱融解して基板
表面との密着性を高め、室温硬化型シリコーンゴム7の
上の塩素化ポリオレフィンを前工程A5と同様にセロテ
ープ等を貼り付けて引き剥がすことにより、セル11を
囲繞する版表面が室温硬化型シリコーンゴム7から構成
され、セル底面が塩素化ポリオレフィン10の硬化イン
キ離型性樹脂によって形成されている凹版1を作成した
(工程A6)。
【0035】上記のようにして作成した凹版1の一使用
例を以下に説明すると、先ず最初にセル11に紫外線硬
化インキ(例えば、東洋インキ社製FD−黒)を図示し
ないインキングロール等によって供給し、これに紫外線
を照射してセル内のインキ12を硬化させた(工程A
7)。
【0036】一方、ガラスや高分子樹脂等からなる被印
刷物基板13の片面に、被エッチング層として銅層14
を例えば10μmの厚さに被覆して準備した被印刷物1
5の表面に、例えばポジ型のフォトレジスト4a(例え
ば、東京応化社製OFPR800)とアクリル系の粘着
剤16(例えば、ダイアボンド工業社製DA672)と
を順次積層して印刷に備えた(工程A8)。
【0037】そして、上記のように準備した凹版1と被
印刷物15とを、硬化したインキ12と粘着剤16とが
接するように対向設置して加圧密着した後、凹版1と被
印刷物15とを引き離すと、セル11内で硬化していた
インキ12は粘着剤16に取られて被印刷物15の側に
全て転移した(工程A9)。
【0038】インキ12が転移した被印刷物15の表面
に紫外線を照射し、インキ12によって遮光されていな
い部分のフォトレジスト4aを、粘着剤16を透過した
紫外線で露光した後、インキ12と粘着剤16とを図示
しないトルエン等の溶剤によって除去し、さらに露光し
た部分のフォトレジストを現像液に浸漬して除去するこ
とで、被エッチング層である銅層14の上に未露光部の
フォトレジスト4aをパターン状に残存形成することが
できた(工程A10)。
【0039】銅層14の上に未露光部のフォトレジスト
4aがパターン状に残存した被印刷物15の表面に、図
示しない鉄液をスプレーして銅層14の露出部分をエッ
チングして除去した後、水洗・乾燥し、さらにフォトレ
ジスト4aを剥離液を用いて除去することによって、被
印刷物基板13の片面に銅層14による所要の回路パタ
ーンが形成された印刷加工物17を得ることができた
(工程A11)。なお、線幅は最少部分で30μmであ
ったが、鮮明に形成されていた。
【0040】 (実施例2) プラズマディスプレイパネルの隔壁成した第2の実
施例以下に説明する。
【0041】なお、プラズマディスプレイパネルの隔壁
とは、図4に符号30で示したように、対向設置される
2枚のガラス基板31の間に設置されて、ガラス基板間
の間隔を一定に支持すると共に、放電領域を限定するも
のであり、材質的には黒色顔料を含んだガラスであり、
現在は主にスクリーン印刷により形成されている。
【0042】図中、32は表面マスク、33は透明電
極、34は蛍光体、35はニッケル陰極、36は誘電
体、37は第3電極であり、上方の31は前面板、下方
の31はは背面板を示す。
【0043】隔壁30を形成するインキは、一般的には
ガラス粉末・黒色顔料・焼成すると完全に燃えてしまう
バインダ樹脂(主としてアクリル系樹脂)・溶剤より成
っていて、従来法であるスクリーン印刷で所要の厚さ
(120μm程度)を得るためには、数回以上の重ね印
刷を行うことが必要であった。
【0044】この実施例2では凹版の基板として、厚さ
0.3mm、450mm四方の通常のアンバー材を使用
した。アンバー材を用いた理由は、熱膨張率を小さくし
て印刷精度を高めるためである。
【0045】なお、実施例2における凹版の製法と印刷
要領は、図1・図2に示した実施例1と重複する部分が
多いので、以下の説明は図3と共に図1・図2の一部を
用いて行った。また、図1・図2で説明した部分と同一
の機能部分には図3においても同一の符号を付し、理解
を容易とした。
【0046】この実施例2においては、凹版基板2の片
面に所要のパターンのニッケルめっき層5を、図示しな
いめっき用ドライフィルム(例えば、東洋インキ社製リ
オドライDFS特注品、膜厚150μm)を用いて形成
し、さらに、このドライフィルムを除去してニッケルめ
っき部が凸部となる構成の凹版基板23を作成した(工
程B1)。
【0047】そして、凹版基板23の表面に前記のプラ
イマー6を所定の方法に従い全面にスプレーコートした
後乾燥させ、この上に硬化インキ離型性樹脂の一つであ
る加湿硬化性シリコーン樹脂18(例えば、東芝シリコ
ーン社製XS66−A6847)を硬化後の膜厚が約5
μmになるようにスプレーコートし、加湿硬化して版深
130μmの凹版1を得た(工程B2)。
【0048】印刷に使用するインキとしては、触媒硬化
型アクリル系樹脂(例えば、丸本工業社製アクリフィッ
クス)をバインダ成分とし、ガラス粉末・黒色顔料をこ
の用途に使用されるスクリーンインキと同程度含有する
ものを用い、使用直前に所定の硬化触媒を規定量添加し
て攪拌し、凹版1のセル11にドクタリングによって充
填し、室内に所定時間放置してインキ12を硬化させた
(工程B3)。
【0049】セル11内でインキ12が硬化した凹版1
と、硬化剤を添加したアクリル系の粘着剤16を表面に
塗布した被印刷物としてのガラス基板31とを位置合わ
せして対向設置し、加圧・密着して硬化が完了するのを
待ち、両者を引き剥がすとセル11内で硬化した全ての
インキ12が、粘着剤16に取られてガラス基板31の
側に転移した(工程B4)。
【0050】インキ12が転移したガラス基板31を、
従来技術と同様に図示しない焼成炉に入れて例えば50
0℃で70分間加熱したところ、粘着剤16は燃焼し、
インキ12中の燃焼しない成分が焼成した固形物がガラ
ス基板31の表面に密着して残り、線幅80μm、高さ
120μmの隔壁30が1回の印刷によって形成された
(工程B5)。
【0051】また、図5に示した工程に従って凹版を形
成することもできる。すわわち、ガラス基板31にポリ
ビニルアルコール等の水溶性樹脂51を乾燥膜厚が、例
えば20μmとなるようにスピンコートし、この上にポ
ジ形のプリント基版用厚膜用のフォトレジスト(例え
ば、ヘキストジャパン社製AZ4903)を乾燥膜厚
が、例えば8μmとなるようにスピンコートし、これに
所要のパターンで紫外線を照射し、キシレンとイソプロ
ピルアルコールとの混合系現像液に浸漬して、露光され
た部分のフォトレジストを除去し、露光されなかった部
分のフォトレジスト4を残して所要のパターンを片面に
有する母型基板41を先ず作成する(工程C1)。
【0052】次に、小量の水を湿し水として母型基板4
1に塗布し、インキングローラでシランカップリング材
を添加した硬化インキ離型性樹脂インキを供給してフォ
トレジスト4のパタ−ンの上に硬化インキ離型性樹脂イ
ンキ43の層を形成し、これを硬化させて型取り母型4
4を作成する(工程C2)。
【0053】ここで、硬化インキ離型性樹脂インキと
は、硬化インキ離型性樹脂を溶剤に溶解したり、エマル
ジョン状態にしてインキングローラでインキング可能に
したものを云う。また、硬化させる方法としては、紫外
線硬化、熱融解凝固、2液硬化等、硬化インキ離型性樹
脂に適合した各種方法を用いる。
【0054】水溶性樹脂51の表面が親水性でフォトレ
ジスト4が撥水性であるので、母型基板41の上の小量
の水は水溶性樹脂51の表面部分のみに載る。この状態
で硬化インキ離型性樹脂インキ43を供給すると、撥水
性のフォトレジスト4の部分にのみ硬化インキ離型性樹
脂インキ43が付着する。つまりオフセット印刷版への
インキ供給と同一のメカニズムである。
【0055】次に、厚さ5mmのガラス製の凹版基板2
の表面に金属接着用のプライマー6(例えば東芝シリコ
ーン社製ME−121)を塗布し、この上に厚さ1m
m、幅20mmのステンレス鋼板4枚で140mm四方
の枠45を作り、シリコーンゴム(例えば、東芝シリコ
−ン社製TSE−3466)に所定の硬化剤10%を添
加混合したものを注入し、その上に型取り母型44を載
せ、所定時間放置して室温硬化型シリコーンゴム7を硬
化させ、型取りした(工程C3)。
【0056】枠45を外し、室温硬化型シリコーンゴム
7に型取りをした状態で、アルカリ性水系現像液(例え
ば、ヘキストジャパン社製AZ400K)に浸漬し、充
分時間をかけて水溶性樹脂51を溶解するとガラス基板
31が外れ、さらに浸漬を続けるとフォトレジスト4が
除去されて、フォトレジスト4にインキングされて硬化
していた紫外線硬化インキ43が、室温硬化型シリコー
ンゴム7によって囲繞形成されたセル11の底面に配設
され、セル11の底面に硬化インキ離型性樹脂層を備え
た凹版1が形成された(工程C4)。このようにして形
成した凹版1は、線巾5μmのパターンの周辺部にギザ
ギザがなく、微細なパターンを印刷するのに適してい
た。
【0057】また、図6に示したように、凹版基板2の
片面に一様な厚さに形成した硬化インキ離型性樹脂52
の上に、撥インキ性樹脂53による凸部を所要のパター
ンに形成して凹版1を作成しても良い。この構成の凹版
は、例えば撥インキ性樹脂53を光硬化型のシリコーン
樹脂等で形成すれば簡単に作成することができる。
【0058】すなわち、撥インキ性樹脂53を、先ず硬
化インキ離型性樹脂52の上に例えばスピンコート等し
て一様な膜厚に形成し、この撥インキ性樹脂53をパタ
ーン露光して未硬化部を除去すれば、下層に配置した硬
化インキ離型性樹脂52が露出して、版表面が撥インキ
性樹脂53、セル11の底面が硬化インキ離型性樹脂5
2である凹版が形成される。
【0059】また、図7に示したように、凹版基板2の
片面に一様な厚さに形成した硬化インキ離型性樹脂52
の上に、粘着剤16と撥インキ性樹脂53との積層部に
よる凸部を所要のパターンに形成して、凹版1とするこ
とも可能である。
【0060】この構成の凹版1は、硬化インキ離型性樹
脂52の上に例えば光硬化型の粘着剤とシリコーン樹脂
等からなる撥インキ性樹脂とを、スピンコート等してそ
れぞれ一様な膜厚に積層し、撥インキ性樹脂の上から光
硬化型の粘着剤をパターン露光して粘着剤を部分的に硬
化させ、所要の溶剤に浸漬して溶剤を撥インキ性樹脂に
浸透させてから、撥インキ性樹脂を擦り現像し、溶解し
た粘着剤と共にその上の撥インキ性樹脂を除去すると、
下層に配置した硬化インキ離型性樹脂52が露出して、
版表面が撥インキ性樹脂53、セル11の底面が硬化イ
ンキ離型性樹脂52である凹版が形成される。
【0061】また、図8に示したように、凹版基板2の
片面に所要のパターンに金属やフォトレジストからなる
凸部形成材によって凸部54を所要のパターンに形成
し、この凸部上面にシリコーン樹脂やテフロン樹脂等か
らなる撥インキ性樹脂53の層を形成し、凸部54によ
って囲繞形成される凹部55に硬化インキ離型性樹脂5
2を配設して凹版1とすることも可能である。なお、こ
の構成の凹版は、撥インキ性樹脂53を設けない構成と
することも可能である。
【0062】この構成の凹版1は、凹部55に硬化イン
キ離型性樹脂52が溶融した液を供給した後固化させる
方法によって形成される。凹部55のみに液を供給する
方法としては、ドクタリングの他、凸部形成材54を撥
溶液性とした後、ロールインキング、ドクタリングで供
給する方法がある。
【0063】凸部54を撥溶液性とする方法としては、
凸部にシリコーン樹脂、テフロン樹脂等の撥溶液樹脂層
を配設するか、クロム等の親水性金属とする(トライメ
タル凹版)又は親水性樹脂層を形成する方法がある。凸
部54に親水性樹脂の層を設ける方法としては、凹部5
5にインキをドクタリングで供給し、次に親水性樹脂の
溶液を全面に供給し、これを固化させた後、凹部55の
インキを親水性インキを溶解しない溶剤で溶解する方法
がある。シリコーン樹脂、テフロン樹脂等の撥溶液樹脂
も同様にして形成できる。固化する方法としては、樹脂
を重合させる方法を採用しても良い。
【0064】また、図9に示したように、凹版基板2の
片面に接着剤や粘着剤16の層を介して硬化インキ離型
性樹脂52を設け、この表面に凸部54と凹部55とを
所要のパターンの形成し、凸部54の上にシリコーン樹
脂やテフロン樹脂等の撥インキ性樹脂53の層を形成し
て凹版1とすることも可能である。なお、この構成の凹
版は、撥インキ性樹脂53、凹版基板2、粘着剤16を
設けない構成とすることも可能である。
【0065】この構成の凹版は、パターンエッチング・
パターンめっき・フォトレジストパターンニング等によ
って凹凸部が逆になったネガ状凹版を先ず形成し、加熱
溶融や溶剤溶解等して流動可能にした硬化インキ離型性
樹脂を、ネガ状凹版の凹部に流し込んで固化させたり、
塑性加工可能な状態に例えば加熱した硬化インキ離型性
樹脂をネガ状凹版にプレスすることで、セル11となる
凹部55を硬化インキ離型性樹脂52によって形成する
ことも可能である。
【0066】そして、凸部54の端面にシリコーン樹脂
・テフロン樹脂等からなる撥インキ性樹脂53を配設す
れば凹版1とすることができる。
【0067】なお、硬化インキ離型性樹脂52からなる
凸部54の端面に、シリコーン樹脂・テフロン樹脂等か
らなる撥インキ性樹脂53を配設する方法としては、図
9に示した凹版1の作成要領等が利用される。
【0068】 ところで、セル11の少なくとも底面に
配設する硬化インキ離型性樹脂52としては、ポリオレ
フィン樹脂・変性ポリオレフィン樹脂・ポリエチレンオ
キシド樹脂・メラミン樹脂・加水硬化型シリコーン樹脂
から選択された印刷用油性インキを受容することがで
き、且つ、硬化したインキが比較的容易に剥離し得る樹
が使用される。
【0069】
【発明の効果】以上説明した様に本発明に用いる凹版
は、セルの少なくとも底面がポリオレフィン樹脂・変性
ポリオレフィン樹脂・ポリエチレンオキシド樹脂・メラ
ミン樹脂・加水硬化型シリコーン樹脂から選択された硬
化インキ離型性樹脂によって形成されているので、セル
に供給したインキをセル内で硬化させても、インキがセ
ル内に密着することがない。このため、被印刷物の表面
と版表面とを密着した後、被印刷物の表面と版表面とを
引き離せば、セル内で硬化していたインキは、被印刷物
の表面の粘着剤に取られて被印刷物の側に全て転移す
る。
【0070】そして、インキが凹版から被印刷物の側に
転移する時には、インキは硬化していてダレることがな
いので、微細なパターンが形状良く形成できるだけでな
く、重ね印刷でなければ従来得られなかったような厚さ
のパターンも、1回の印刷で得ることができるようにな
った。
【0071】また、版表面を撥インキ性樹脂によって形
成した凹版においては、インキがセルにのみ充填される
ので、インキングが容易であるだけでなく、地汚れを起
こす懸念がない等、操作性に優れていると云った特長が
ある。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施例1における凹版製造法の説明図である。
【図2】実施例1における印刷法の説明図である。
【図3】実施例2の説明図である。
【図4】プラズマディスプレイパネルの断面説明図であ
る。
【図5】凹版の作成要領を示す説明図である。
【図6】凹版の他の構成を示す説明図である。
【図7】凹版の他の構成を示す説明図である。
【図8】凹版の他の構成を示す説明図である。
【図9】凹版の他の構成を示す説明図である。
【符号の説明】
1 凹版 2・21・22・23・24・25 凹版基板 4・4a フォトレジスト 5 ニッケルめっき層 6・6a プライマー 7 室温硬化型シリコーンゴム 8 ドクター 9 セロテープ 10 塩素化ポリオレフィン 11 セル 12 インキ 13 被印刷物基板 14 銅層 15 被印刷物 16 粘着剤 17 印刷加工物 18 加湿硬化性シリコーン樹脂 30 隔壁 31 ガラス基板 41 母型基板 42 アマニ油系インキ 43 硬化インキ離型性樹脂インキ 44 型取り母型 45 枠 51 水溶性樹脂 52 硬化インキ離型性樹脂 53 撥インキ性樹脂 54 凸部 55 凹部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平5−309962(JP,A) 特開 平5−139065(JP,A) 特開 平5−309963(JP,A) 特開 平5−4464(JP,A) 特開 平6−47895(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B41N 1/12

Claims (6)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】セルの少なくとも底面に硬化インキ離型性
    樹脂を配設して形成した凹版のセルに、硬化促進可能な
    インキを供給してセル内で硬化させ、この版表面と被印
    刷物の表面に配設した粘着剤とを密着した後、粘着剤を
    硬化させるかそのままの硬度で被印刷物と凹版とを引き
    離し、セル内で硬化したインキを硬化した粘着剤の粘着
    力または硬化しないそのままの粘着剤の粘着力によって
    被印刷物に転移させる凹版を用いた印刷方法、あるい
    は、 セルの少なくとも底面に硬化インキ離型性樹脂を配設し
    て形成した凹版のセルに、硬化促進可能なインキを供給
    してセル内で硬化させ、さらに粘着性インキを硬化した
    インキの上に供給し、この版表面と被印刷物の面または
    被印刷物の表面に配設した粘着剤とを重ね、粘着剤を被
    印刷物と密着させた後、粘着剤を硬化させるかそのまま
    の硬度で被印刷物と凹版とを引き離し、セル内で硬化し
    たインキと粘着剤を被印刷物に転移させる凹版を用いた
    印刷方法であって、 凹版基板の上面に配設した未硬化の撥インキ性樹脂層
    に、凸部を片面に有する母型基板の凸部上に硬化インキ
    離型性樹脂層を剥離可能に配設して形成した型取り母型
    の硬化インキ離型性樹脂層を合わせて密着型取りし、撥
    インキ性樹脂層の硬化後、母型基板を除去して凹版が形
    成されたことを特徴とする印刷方法。
  2. 【請求項2】セルの少なくとも底面に硬化インキ離型性
    樹脂を配設して形成した凹版のセルに、硬化促進可能な
    インキを供給してセル内で硬化させ、この版表面と被印
    刷物の表面に配設した粘着剤とを密着した後、粘着剤を
    硬化させるかそのままの硬度で被印刷物と凹版とを引き
    離し、セル内で硬化したインキを硬化した粘着剤の粘着
    力または硬化しないそのままの粘着剤の粘着力によって
    被印刷物に転移させる凹版を用いた印刷方法、あるい
    は、 セルの少なくとも底面に硬化インキ離型性樹脂を配設し
    て形成した凹版のセルに、硬化促進可能なインキを供給
    してセル内で硬化させ、さらに粘着性インキを硬化した
    インキの上に供給し、この版表面と被印刷物の面または
    被印刷物の表面に配設した粘着剤とを重ね、粘着剤を被
    印刷物と密着させた後、粘着剤を硬化させるかそのまま
    の硬度で被印刷物と凹版とを引き離し、セル内で硬化し
    たインキと粘着剤を被印刷物に転移させる凹版を用いた
    印刷方法であって、凹版基板の片面に硬化インキ離型性樹脂層を配設し、こ
    の上に光硬化型シリコーン樹脂層を設け、この光硬化型
    シリコーン樹脂層をパターン露光して所要部を硬化させ
    た後、未硬化部を除去し、撥インキ性樹脂を光硬化型シ
    リコーン樹脂層によって構成すると共に、下層に配設し
    た硬化インキ離型性樹脂層を露出して凹版が形成された
    ことを特徴とする印刷方法。
  3. 【請求項3】セルの少なくとも底面に硬化インキ離型性
    樹脂を配設して形成した凹版のセルに、硬化促進可能な
    インキを供給してセル内で硬化させ、この版表面と被印
    刷物の表面に配設した粘着剤とを密着した後、粘着剤を
    硬化させるかそのままの硬度で被印刷物と凹版とを引き
    離し、セル内で硬化したインキを硬化した粘着剤の粘着
    力または硬化しないそのままの粘着剤の粘着力によって
    被印刷物に転移させる凹版を用いた印刷方法、あるい
    は、 セルの少なくとも底面に硬化インキ離型性樹脂を配設し
    て形成した凹版のセルに、硬化促進可能なインキを供給
    してセル内で硬化させ、さらに粘着性インキを硬化した
    インキの上に供給し、この版表面と被印刷物の面または
    被印刷物の表面に配設した粘着剤とを重ね、粘着剤を被
    印刷物と密着させた後、粘着剤を硬化させるかそのまま
    の硬度で被印刷物と凹版とを引き離し、セル内で硬化し
    たインキと粘着剤を被印刷物に転移させる凹版を用いた
    印刷方法であって、 凹版基板の片面に硬化インキ離型性樹脂層を配設し、こ
    の上に光硬化性粘着剤層を設け、さらにこの光硬化性粘
    着剤層の上にシリコーン樹脂層を設け、このシリコーン
    樹脂層の上からパターン露光して光硬化性粘着剤層の所
    要部を硬化させた後、光硬化性粘着剤層の未硬化部をそ
    の表層部のシリコーン樹脂と共に除去し、撥インキ性樹
    脂をシリコーン樹脂層によって構成すると共に、下層に
    配設した硬化インキ離型性樹脂層を露出して凹版が形成
    されたことを特徴とする印刷方法。
  4. 【請求項4】セルの少なくとも底面に硬化インキ離型性
    樹脂を配設して形成した凹版のセルに、硬化促進可能な
    インキを供給してセル内で硬化させ、この版表面と被印
    刷物の表面に配設した粘着剤とを密着した後、粘着剤を
    硬化させるかそのままの硬度で被印刷物と凹版とを引き
    離し、セル内で硬化したインキを硬化した粘着剤の粘着
    力または硬化しないそのままの粘着剤の粘着力によって
    被印刷物に転移させる凹版を用いた印刷方法、あるい
    は、 セルの少なくとも底面に硬化インキ離型性樹脂を配設し
    て形成した凹版のセルに、硬化促進可能なインキを供給
    してセル内で硬化させ、さらに粘着性インキを硬化した
    インキの上に供給し、この版表面と被印刷物の面または
    被印刷物の表面に配設した粘着剤とを重ね、粘着剤を被
    印刷物と密着させた後、粘着剤を硬化させるかそのまま
    の硬度で被印刷物と凹版とを引き離し、セル内で硬化し
    たインキと粘着剤を被印刷物に転移させる凹版を用いた
    印刷方法であって、凹凸部を逆に形成したネガ状凹版の版表面に、未硬化の
    硬化インキ離型性樹脂を密着させて型取りした後、ネガ
    状凹版を除去し、硬化インキ離型性樹脂の凸部端面に撥
    インキ性樹脂を配設して凹版が形成されたことを特徴と
    する印刷方法。
  5. 【請求項5】セルの少なくとも底面に硬化インキ離型性
    樹脂を配設して形成した凹版のセルに、硬化促進可能な
    インキを供給してセル内で硬化させ、この版表面と被印
    刷物の表面に配設した粘着剤とを密着した後、粘着剤を
    硬化させるかそのままの硬度で被印刷物と凹版とを引き
    離し、セル内で硬化したインキを硬化した粘着剤の粘着
    力または硬化しないそのままの粘着剤の粘着力によって
    被印刷物に転移させる凹版を用いた印刷方法、あるい
    は、 セルの少なくとも底面に硬化インキ離型性樹脂を配設し
    て形成した凹版のセルに、硬化促進可能なインキを供給
    してセル内で硬化させ、さらに粘着性インキを硬化した
    インキの上に供給し、この版表面と被印刷物の面または
    被印刷物の表面に配設した粘着剤とを重ね、粘着剤を被
    印刷物と密着させた後、粘着剤を硬化させるかそのまま
    の硬度で被印刷物と凹版とを引き離し、セル内で硬化し
    たインキと粘着剤を被印刷物に転移させる凹版を用いた
    印刷方法であって、 凹版基板の片面に硬化インキ離型性シリコーン樹脂層を
    配設し、これを加湿硬化してこの上にシリコーン樹脂接
    着用プライマーを塗布し、さらにこのプライマーの上に
    紫外線硬化型シリコーン樹脂層を設け、この紫外線硬化
    型シリコーン樹脂層をパターン露光して所要部を硬化さ
    せた後、未硬化部を除去し、撥インキ性樹脂を紫外線硬
    化型シリコーン樹脂層によって構成すると共に、下層に
    配設した硬化インキ離型性シリコーン樹脂層を露出して
    凹版が形成されたことを特徴とする印刷方法。
  6. 【請求項6】硬化インキ離型性樹脂がポリオレフィン樹
    脂・変性ポリオレフィン樹脂・ポリエチレンオキシド樹
    脂・メラミン樹脂・加水硬化型シリコーン樹脂から選択
    された樹脂からなる請求項1〜5何れかに記載の印刷方
    法。
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