JP5251042B2 - 印刷物の形成方法 - Google Patents
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Description
しかしながら、上記従来の構成で実際に凹版印刷方法を用いて印刷してみると、印刷パターンのピッチ(線幅と線間幅の合計)が数十μm以下と、高解像度化するほど、画像部の欠ける不良等の不良発生率が増加し、印刷基板の歩留まりが悪くなるという課題を有していた。このような課題に対し、画像部の欠ける不良に対しては重ね刷り印刷を行うことや、例えば、特許文献3で提案されているような、各々異なる位置で受け取ったインクを同一箇所に転写することで凹版の不良に起因するような画像部の欠ける不良の発生を低減させる方法が考案されているが、量産性に乏しいという問題点があった。
凸版印刷法が知られている。凸版印刷法とは、所望の凹凸パターンを形成した版に、インクを付着した後に、版と基板を接触させ、基板上にインクを転写し、インクパターンを形成する方法である。特許文献1では、有機薄膜として、欠陥の少ない単分子膜が、再現性よく多様な基板(金属、半導体、酸化物など)上に形成できる自己組織化膜を利用している。(特許文献4参照)
凸版印刷法は、面積の広い非画像部に対して凸版の凹部の深さ(版深)が浅い場合、面積の広い非画像部にインクが付着する「底あたり」と呼ばれる不具合がある。これを図3(a)で説明する。図4(a)には、凸版300を、凸版印刷法の版として用い、インキング機構のインク膜341と当該凸版300の凸部頂部を接触させた状態を模式的に示す断面図である。この凸版300は、画像パターンが相対的に疎であるパターン疎部370と、密であるパターン密部360を備えている。
高精細かつパターン抜けの起こらない印刷用版と、その形成方法、及び印刷物の形成方法を提供することを課題とする。第2の課題は、版深を深くしなくても凹部からのインクの転写性が優れた高精細かつ高品質の印刷物を与える凹版を提供するために成されたものであり、特にインクの付着性の低い被印刷基材への印刷の際も画像部の欠ける不良が起こりにくい凹版と、を提供することを課題とする。第3の課題は、版深を深くしなくてもパターンが疎である部分の非画像部へのインク付着が起こらない、特に、パターンが疎である部分と密である部分が混在していても高精細かつ底あたりの起こらない凸版と、その形成方法、及び印刷物の形成方法を提供することを課題とする。
前記凹部が下地層に形成され、該凹部の下地層上に吸着層が形成されていることを特徴とする印刷用版である。
R1R2SiX1X2・・・・・・・化学式(2)
R1R2R3SiX1・・・・・・・化学式(3)
(式中、R1、R2、R3は独立してアルキル基、シクロアルキル基、フェニル基であり、アルキル基、シクロアルキル基、フェニル基は全フッ素化もしくは部分フッ素化されていてもよい。また、式中、X1、X2、X3は独立して塩素、臭素、ヨウ素などのハロゲンもしくはアルコキシ基である。)
(式中、R1は独立してアルキル基、シクロアルキル基、フェニル基であり、アルキル基、シクロアルキル基、フェニル基は全フッ素化もしくは部分フッ素化されていてもよい。R2は独立して水素、アルキル基、シクロアルキル基、フェニル基であり、アルキル基、シクロアルキル基、フェニル基は全フッ素化もしくは部分フッ素化されていてもよい。
また、式中、nは1〜3までの間で選択される整数である。)
下地層上の凸部に対応する位置をパターン状にマスキングする工程と、
マスキングされていない領域の下地層をエッチングする工程と、
下地層のエッチングされた領域に気相もしくは液相で吸着層を形成する工程と、
を備えることを特徴とする印刷用版の形成方法である。
本発明の印刷用版について、図1を用いて説明する。本発明の版は、凸部と凹部の設けられた下地層と、凹部を成す吸着層で形成されている。下地層120は枚葉状もしくは柔軟性のある支持基材上に形成されても良く、支持基材は無くても良い。印刷する際には、下地層130の凸部131が印刷物の非画像部に相当し、吸着層110の凹部131が印刷物の画像部に相当する。
本発明の印刷用版の形成工程について図5を用いて説明する。
下地層420上にエッチングレジストパターン430の形成を行う。パターニング方法はインプリントやフォトリソグラフィー、切削加工などを用いることができるが、パターニング精度と残膜の点からフォトリソグラフィーが好ましい。
下地層420の凹部421の形成を行う。エッチングレジストパターン430をマスクとして、下地層のマスキングされていない領域に凹部の形成を行う。凹部の形成方法はウェットエッチングもしくはドライエッチング、サンドブラスト、ウェットブラストなどのブラスト法、収束イオンビームによる切削などを用いることができる。
下地層420上に吸着層410の形成を行う。吸着層410の形成は吸着層の材料を水や有機溶媒に溶かした溶液を用いた浸漬法やディップ法、スピンコート法などのウェットプロセスや密閉容器内で吸着層の材料蒸気に基板をさらすドライプロセスを用いることができる。吸着層は自己整合的に下地層に吸着するため、吸着層の位置精度の高い版を容易に形成することが可能である。
本発明の印刷用版を構成する材料を説明する。下地層は、二酸化珪素、アルミナ、カオリン、マイカ、タルク、クレイ、アルミナ、ウォラストナイト、チタン酸カリウム、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化クロム、酸化ジルコニウム、酸化インジウムなどの金属酸化物や、Au、Ag、Cu、Pt、Pd、Rh、Ru、Fe、Co、Cr、Al、Zn、Ti、Mn、Mo、W、Zrやこれらから選ばれる合金などの金属を用いることができる。
R1R2SiX1X2・・・・・・・化学式(2)
R1R2R3SiX1・・・・・・・化学式(3)
上記式中、R1、R2、R3は独立してアルキル基もしくは、全フッ素化もしくは部分フッ素化されたアルキル基である。また、式中、X1、X2、X3は独立してアルコキシ基もしくはハロゲンである。
チオアルキル化合物は下記化学式で表される化合物から選択された1種類以上の化合物で有ることが好ましい。
式中、R1は独立してアルキル基、シクロアルキル基、フェニル基であり、アルキル基、シクロアルキル基、フェニル基は全フッ素化もしくは部分フッ素化されていてもよい。R2は独立して水素、アルキル基、シクロアルキル基、フェニル基であり、アルキル基、シクロアルキル基、フェニル基は全フッ素化もしくは部分フッ素化されていてもよい。
また、式中、nは1から3までの間で選択される整数である。
本発明の印刷用版を用いた反転オフセット印刷法による印刷物の製造について図6を用い説明する。
画像部インク膜の転写が可能なものが用いられる。また、変形の少ない材料が好ましいが、ある程度の柔軟性が求められる。このような材料として、シリコーン系エラストマー、ブチルゴム、エチレンプロピレンゴム、ウレタンゴムなどの各種高分子材料を用いることができる。また、ブランケット表面の濡れ性を調整するため、ブランケット表面にフッ素樹脂およびシリコーンの塗布、プラズマ処理、UVオゾン洗浄処理などの表面処理を施しても良い。このようなインク膜形成部材は通常可とう性の板として供給されるので、これを円筒形の版胴に巻きつけて用いたり、強度のある平板に固定して用いたりすることができる。
本発明の凹版を用いた凹版印刷法による印刷物の製造について図7を用い説明する。
本発明の凸版を用いた凸版印刷法による印刷物の製造について図8を用い説明する。
0に凸版500を接触させてインク541を凸版500の凸部を成す下地層530に付着させる(図8a)。次いで、被印刷基材550に凸版を接触させてインク543を被印刷基材550に転移させる(図8b)。この際、凸版500上のインク533は被印刷基材550へ全量転写しても部分転写でも良い。
版の基材として、100mm×100mm、0.7mm厚のガラス基板を下地層として用いた。このガラス基板上にCrを蒸着により30nm製膜し、フォトリソグラフィー法でCrのパターンを形成した。Crをマスクとしてガラスのウェットエッチングを行い、版深1μmの凹部を形成した。
インクとして、平均粒径20nmの銀粒子水分散液を、銀粒子が20重量部、水が80重量部となるように溶解させ導電性インクを調製した。
実施例に係る印刷物の製造は次のようにして行った。インク膜形成基材として用いるシ
リコーンシートに上記のように調整した導電性インクをバーコータで塗布して導電性のインク膜を形成した。
吸着層に用いる材料としてチオアルキル化合物(Fluorous Technologies製:1H,1H,2H,2H−パーフルオロオクタン−1−チオール)、下地層として金を用いた以外は、実施例1と同様に反転オフセット印刷に用いる版を製造し、これを用いてインク1で調整した導電性インクを用いて印刷物の製造を行った。得られた印刷物について、導電性パターンを光学顕微鏡で観察したところ、パターン疎部において底あたりによる非画像部へのインク付着はみられなかった。
インクとして、以下に示すように調整したカラーフィルター用の着色インクを用いた他は実施例1と同様に反転オフセット印刷に用いる版を製造し、これを用いて印刷物の製造を行った。
まず、赤色顔料分散液を下記の組成で調整した。
〔赤色顔料分散液〕
・赤色顔料
C.I. Pigment Red 254(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製「イルガーフォーレッド B−CF」)…18重量部
C.I. Pigment Red 177 (チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製「クロモフタールレッド A2B」)…2重量部
・アクリルワニス(固形分20%)…108重量部
〔赤色着色インク〕
その後、下記組成の混合物を均一になるように攪拌混合した後、5μmのフィルタで濾過して赤色着色インクを得た。
・上記赤色顔料分散液…100重量部
・メチル化メチロールメラミン(三洋化成工業株式会社製:商品名MW−30)…20重量部
・レベリング剤(大日本インキ化学工業株式会社製:商品名メガファック F−483SF)…1重量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテル…85重量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート…45重量部
こうして調整した赤色着色インクを実施例1と同様にインク膜形成基材に塗布・非画像部の除去・被印刷基材への転写を行ってガラス基板上にインクパターンを得た。こうして得られた印刷物は、パターン疎部において底あたりによる非画像部へのインク付着はみられなかった。
実施例1と同様にして、非画像部に対応する部位が凸部、画像部に対応する部位が凹部となり、画像部対応領域である凹部底部に吸着層が形成された凹版印刷用凹版を作製した。
実施例1と同様にして、導電性インクを調製した。
実施例に係る印刷物の製造は次のようにして行った。インキング基板として用いるガラス基板上に上記のように調整した導電性インクをバーコータで塗布して導電性のインク膜を形成した。
吸着層に用いる材料としてチオアルキル化合物(Fluorous Technologies製:1H,1H,2H,2H−パーフルオロオクタン−1−チオール)、下地層として金を用いた以外は、実施例4と同様に凹版印刷用凹版を製造し、これを用いてインク1で調整した導電性インクを用いて印刷物の製造を行った。得られた印刷物について、導電性パターンを光学顕微鏡で観察したところ、パターン密部において画像部のインク欠けはみられなかった。
インクとして、実施例3と同様のインキ2を用いた他は実施例4と同様に凹版印刷用凹版を製造し、これを用いて印刷物の製造を行った。
実施例1と同様にして、画像部に対応する部位が凸部、非画像部に対応する部位が凹部となり、非画像部対応領域である凹部に吸着層が形成された凸版印刷用凸版を作製した。
μmの方形であり、パターン密部211に対応する画像パターンは140μm×210μmの矩形である。パターン疎部とパターン密部の間のライン/スペース幅は5μm/5μmである。
インクとして、実施例1と同様にして導電性インクを調製した。
実施例に係る印刷物の製造は次のようにして行った。インキング基板として用いるガラス基板上に上記の導電性インクをバーコータで塗布して導電性のインク膜を形成した。
吸着層に用いる材料としてチオアルキル化合物(Fluorous Technologies製:1H,1H,2H,2H−パーフルオロオクタン−1−チオール)、下地層として銅を用いた以外は、実施例7と同様に凸版印刷用凸版を製造し、これを用いてインク1で調整した導電性インクを用いて印刷物の製造を行った。得られた印刷物について、導電性パターンを光学顕微鏡で観察したところ、パターン疎部において底あたりによる非画像部へのインク付着はみられなかった。
インクとして、実施例3と同様のインク2を用いた他は実施例7と同様に凸版印刷用凸版を製造し、これを用いて印刷物の製造を行った。
凹部に吸着層を形成しない他は実施例1と同様に反転オフセット印刷に用いる版を製造し、印刷物の製造までを行った。得られた印刷物について、導電性パターンを光学顕微鏡で観察したところ、パターン疎部における底あたりが顕著で、非画像部にインクの付着が見られた。
凹部底部に吸着層を形成しない他は実施例4と同様に凹版印刷用凹版を製造し、印刷物の製造までを行った。得られた印刷物について、導電性パターンを光学顕微鏡で観察したところ、パターン密部において画像部のインク欠けが顕著に見られた。
以上の実施例結果を表2にまとめる。
凹部に吸着層を形成しない他は実施例7と同様に凸版印刷用凸版を製造し、印刷物の製
造までを行った。得られた印刷物について、導電性パターンを光学顕微鏡で観察したところ、パターン疎部における底あたりが顕著で、非画像部にインクの付着が見られた。
110:吸着層
111:凹部
120:下地層
131:凸部
200:版
211:凹部
260:パターン密部
270:パターン疎部
300:版
340:インク膜形成基材
341:インク
342:インク膜形成基材のインク支持体
343:画像パターン抜け
350:被印刷基材
360:パターン密部
370:パターン疎部
410:吸着層
420:下地層
421:露出している下地層
480:支持基材
500:版
510:吸着層
520:下地層
540:インク膜形成基材
541:インク
542:インク膜形成基材のインク支持体
543:インク
550:被印刷基材
Claims (1)
- 基材上に非画線部もしくは画線部に対応する凸部と画線部もしくは非画線部に対応する凹部とからなる版パターンが設けられている微細パターンを印刷するのに用いる版であって、
前記凹部が下地層に形成され、該凹部の下地層上に吸着層が形成されている版を反転オフセット印刷の除去版として用いる印刷物の形成方法であり、
前記下地層は、金属酸化物で構成され、吸着層はシランカップリング剤で構成されていることを特徴とする印刷物の形成方法。
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