JP2636819B2 - オキサゾール系複素環式芳香族化合物 - Google Patents

オキサゾール系複素環式芳香族化合物

Info

Publication number
JP2636819B2
JP2636819B2 JP7326571A JP32657195A JP2636819B2 JP 2636819 B2 JP2636819 B2 JP 2636819B2 JP 7326571 A JP7326571 A JP 7326571A JP 32657195 A JP32657195 A JP 32657195A JP 2636819 B2 JP2636819 B2 JP 2636819B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
compound
fluorophenyl
pharmaceutically acceptable
cyclohexyl
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP7326571A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0952882A (ja
Inventor
純一 春田
宏正 橋本
睦佳 松下
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Japan Tobacco Inc
Original Assignee
Japan Tobacco Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=27468109&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=JP2636819(B2) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by Japan Tobacco Inc filed Critical Japan Tobacco Inc
Priority to JP7326571A priority Critical patent/JP2636819B2/ja
Priority to AT95940466T priority patent/ATE180253T1/de
Priority to CZ962749A priority patent/CZ285476B6/cs
Priority to EP95940466A priority patent/EP0745596B1/en
Priority to SK1175-96A priority patent/SK281468B6/sk
Priority to MX9603506A priority patent/MX9603506A/es
Priority to HU9602576A priority patent/HUT76541A/hu
Priority to PCT/JP1995/002600 priority patent/WO1996019463A1/ja
Priority to CA002341921A priority patent/CA2341921A1/en
Priority to ES95940466T priority patent/ES2132751T3/es
Priority to DE69509753T priority patent/DE69509753T2/de
Priority to US08/693,051 priority patent/US5994381A/en
Priority to NZ297105A priority patent/NZ297105A/en
Priority to AU41897/96A priority patent/AU695045B2/en
Priority to KR1019960704530A priority patent/KR100201581B1/ko
Priority to CN95192620A priority patent/CN1146204A/zh
Priority to DK95940466T priority patent/DK0745596T3/da
Priority to CA002183645A priority patent/CA2183645A1/en
Priority to BR9506815A priority patent/BR9506815A/pt
Priority to IL11700396A priority patent/IL117003A/xx
Priority to TW085101428A priority patent/TW403742B/zh
Priority to FI963238A priority patent/FI963238A/fi
Priority to NO963450A priority patent/NO306778B1/no
Publication of JPH0952882A publication Critical patent/JPH0952882A/ja
Publication of JP2636819B2 publication Critical patent/JP2636819B2/ja
Application granted granted Critical
Priority to GR990401729T priority patent/GR3030643T3/el
Priority to US09/398,997 priority patent/US6362209B1/en
Priority to US09/906,762 priority patent/US20020107270A1/en
Priority to US09/906,764 priority patent/US20020198244A1/en
Priority to US09/906,765 priority patent/US20020115701A1/en
Priority to US09/906,763 priority patent/US20020107271A1/en
Priority to US09/906,761 priority patent/US20020143040A1/en
Priority to US09/906,766 priority patent/US20020198245A1/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D413/00Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms
    • C07D413/02Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms containing two hetero rings
    • C07D413/04Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms containing two hetero rings directly linked by a ring-member-to-ring-member bond
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61PSPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
    • A61P25/00Drugs for disorders of the nervous system
    • A61P25/04Centrally acting analgesics, e.g. opioids
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61PSPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
    • A61P29/00Non-central analgesic, antipyretic or antiinflammatory agents, e.g. antirheumatic agents; Non-steroidal antiinflammatory drugs [NSAID]
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61PSPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
    • A61P43/00Drugs for specific purposes, not provided for in groups A61P1/00-A61P41/00
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C233/00Carboxylic acid amides
    • C07C233/01Carboxylic acid amides having carbon atoms of carboxamide groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms
    • C07C233/30Carboxylic acid amides having carbon atoms of carboxamide groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms having the nitrogen atom of at least one of the carboxamide groups bound to a carbon atom of a hydrocarbon radical substituted by doubly-bound oxygen atoms
    • C07C233/31Carboxylic acid amides having carbon atoms of carboxamide groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms having the nitrogen atom of at least one of the carboxamide groups bound to a carbon atom of a hydrocarbon radical substituted by doubly-bound oxygen atoms with the substituted hydrocarbon radical bound to the nitrogen atom of the carboxamide group by an acyclic carbon atom
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C233/00Carboxylic acid amides
    • C07C233/01Carboxylic acid amides having carbon atoms of carboxamide groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms
    • C07C233/45Carboxylic acid amides having carbon atoms of carboxamide groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms having the nitrogen atom of at least one of the carboxamide groups bound to a carbon atom of a hydrocarbon radical substituted by carboxyl groups
    • C07C233/46Carboxylic acid amides having carbon atoms of carboxamide groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms having the nitrogen atom of at least one of the carboxamide groups bound to a carbon atom of a hydrocarbon radical substituted by carboxyl groups with the substituted hydrocarbon radical bound to the nitrogen atom of the carboxamide group by an acyclic carbon atom
    • C07C233/47Carboxylic acid amides having carbon atoms of carboxamide groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms having the nitrogen atom of at least one of the carboxamide groups bound to a carbon atom of a hydrocarbon radical substituted by carboxyl groups with the substituted hydrocarbon radical bound to the nitrogen atom of the carboxamide group by an acyclic carbon atom having the carbon atom of the carboxamide group bound to a hydrogen atom or to a carbon atom of an acyclic saturated carbon skeleton
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C251/00Compounds containing nitrogen atoms doubly-bound to a carbon skeleton
    • C07C251/32Oximes
    • C07C251/34Oximes with oxygen atoms of oxyimino groups bound to hydrogen atoms or to carbon atoms of unsubstituted hydrocarbon radicals
    • C07C251/42Oximes with oxygen atoms of oxyimino groups bound to hydrogen atoms or to carbon atoms of unsubstituted hydrocarbon radicals with the carbon atom of at least one of the oxyimino groups bound to a carbon atom of a ring other than a six-membered aromatic ring
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C311/00Amides of sulfonic acids, i.e. compounds having singly-bound oxygen atoms of sulfo groups replaced by nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups
    • C07C311/15Sulfonamides having sulfur atoms of sulfonamide groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings
    • C07C311/16Sulfonamides having sulfur atoms of sulfonamide groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings having the nitrogen atom of at least one of the sulfonamide groups bound to hydrogen atoms or to an acyclic carbon atom
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C311/00Amides of sulfonic acids, i.e. compounds having singly-bound oxygen atoms of sulfo groups replaced by nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups
    • C07C311/22Sulfonamides, the carbon skeleton of the acid part being further substituted by singly-bound oxygen atoms
    • C07C311/29Sulfonamides, the carbon skeleton of the acid part being further substituted by singly-bound oxygen atoms having the sulfur atom of at least one of the sulfonamide groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C311/00Amides of sulfonic acids, i.e. compounds having singly-bound oxygen atoms of sulfo groups replaced by nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups
    • C07C311/30Sulfonamides, the carbon skeleton of the acid part being further substituted by singly-bound nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups
    • C07C311/31Sulfonamides, the carbon skeleton of the acid part being further substituted by singly-bound nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups having the sulfur atoms of the sulfonamide groups bound to acyclic carbon atoms
    • C07C311/32Sulfonamides, the carbon skeleton of the acid part being further substituted by singly-bound nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups having the sulfur atoms of the sulfonamide groups bound to acyclic carbon atoms of an acyclic saturated carbon skeleton
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C311/00Amides of sulfonic acids, i.e. compounds having singly-bound oxygen atoms of sulfo groups replaced by nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups
    • C07C311/30Sulfonamides, the carbon skeleton of the acid part being further substituted by singly-bound nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups
    • C07C311/37Sulfonamides, the carbon skeleton of the acid part being further substituted by singly-bound nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups having the sulfur atom of at least one of the sulfonamide groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C317/00Sulfones; Sulfoxides
    • C07C317/24Sulfones; Sulfoxides having sulfone or sulfoxide groups and doubly-bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C317/00Sulfones; Sulfoxides
    • C07C317/26Sulfones; Sulfoxides having sulfone or sulfoxide groups and nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, bound to the same carbon skeleton
    • C07C317/32Sulfones; Sulfoxides having sulfone or sulfoxide groups and nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, bound to the same carbon skeleton with sulfone or sulfoxide groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of the carbon skeleton
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C45/00Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
    • C07C45/004Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reaction with organometalhalides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C49/00Ketones; Ketenes; Dimeric ketenes; Ketonic chelates
    • C07C49/527Unsaturated compounds containing keto groups bound to rings other than six-membered aromatic rings
    • C07C49/567Unsaturated compounds containing keto groups bound to rings other than six-membered aromatic rings containing halogen
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C49/00Ketones; Ketenes; Dimeric ketenes; Ketonic chelates
    • C07C49/76Ketones containing a keto group bound to a six-membered aromatic ring
    • C07C49/80Ketones containing a keto group bound to a six-membered aromatic ring containing halogen
    • C07C49/813Ketones containing a keto group bound to a six-membered aromatic ring containing halogen polycyclic
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C69/00Esters of carboxylic acids; Esters of carbonic or haloformic acids
    • C07C69/007Esters of unsaturated alcohols having the esterified hydroxy group bound to an acyclic carbon atom
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D263/00Heterocyclic compounds containing 1,3-oxazole or hydrogenated 1,3-oxazole rings
    • C07D263/02Heterocyclic compounds containing 1,3-oxazole or hydrogenated 1,3-oxazole rings not condensed with other rings
    • C07D263/30Heterocyclic compounds containing 1,3-oxazole or hydrogenated 1,3-oxazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D263/32Heterocyclic compounds containing 1,3-oxazole or hydrogenated 1,3-oxazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C2601/00Systems containing only non-condensed rings
    • C07C2601/12Systems containing only non-condensed rings with a six-membered ring
    • C07C2601/14The ring being saturated

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、新規なオキサゾー
ル系複素環式芳香族化合物に関するものであり、更に詳
しくは、解熱作用、鎮痛作用、抗炎症作用、特にシクロ
オキシゲナーゼ−2(COX−2)の選択的阻害作用を
有するオキサゾール系複素環式芳香族化合物又はその医
薬上許容し得る塩、それらを製造するための中間体化合
物、並びにそれらオキサゾール系複素環式芳香族化合物
を含有してなる消化管障害等の副作用の少ない抗炎症剤
等として有用な医薬に関する。
【0002】
【従来の技術】従来より、アラキドン酸代謝産物である
プロスタグランジンE2(PGE2)、プロスタグランジ
ンI2(PGI2)又はトロンボキサンB4(TXB4)が
炎症に密接に関与していることは知られている。このア
ラキドン酸代謝経路の中で主要な酵素となるのがシクロ
オキシゲナーゼである。シクロオキシゲナーゼは、アラ
キドン酸からプロスタグランジンH2(PGH2)を生成
する合成酵素であり、シクロオキシゲナーゼ−1(CO
X−1)及びシクロオキシゲナーゼ−2(COX−2)
の2種類が知られている。COX−1ついては、198
8年にcDNAクローニングが行われ、その一次構造や
種々の因子による誘導が明らかになった[Yokoya
ma,C.etal.:Biochem.Biophy
s.Res.Commun.,165:888−894
(1989);Smith,W.L.et al.:B
iochim.Biophys.Acta,1083:
1−17(1991);DeWitt,D.L.:Bi
ochim.Biophys.Acta,1083:1
21−134(1991)]。一方、1989年にはC
OX−1のアイソザイム、即ちCOX−2の存在が示唆
され[Holtzman,M.J.et al.:J.
Biol.Chem.,267:21438−2144
5(1992)]、1991年以降ニワトリ、マウス、
ヒトのCOX−2のcDNAがクローニングされた[X
ie,W.et al.:Proc.Natl.Aca
d.Sci.USA,88:2692−2696(19
91);Kujubu,D.A.etal.:J.Bi
ol.Chem.,266:12866−12872
(1991);Hla,T.et al.:Proc.
Natl.Acad.Sci.USA,89:7384
−7388(1992)]。更に、COX−2は、ホル
ボールエステルやリポポリサッカライド(LPS)等で
速やかに誘導され、炎症や気管支喘息等との関連が想定
された。
【0003】COX−1は、殆どすべての細胞に全身的
に恒常的に存在し、生理的作用として、例えば胃、腎臓
等の機能に必要なプロスタグランジン(PG)生成に関
与している。従って、COX−1を阻害した場合、胃粘
膜を保護している血管拡張性のPGE2やPGI2のPG
生合成が抑制され、胃粘膜の保護作用が低下し、その結
果潰瘍を生じる等の悪影響があった。また、一般に腎血
流量の低下している病態においては、体内における血管
拡張性PGE2の産生増加により腎血流量が増加され、
それによって紙球体濾過値が適正に維持されているのに
対し、COX−1の阻害によってこの血管拡張性PGの
産生が抑制された場合、腎血流量が低下し、虚血性急性
腎不全を発症する等といった副作用が生じる場合があ
る。一方、COX−2は単球、滑膜細胞、顆粒膜細胞、
静脈内皮細胞等の特定の部位に存在し、炎症時に局所的
に発現され、COX−2により生成されたPGが炎症や
組織障害に大きく関与しているものと考えられている。
【0004】現在、非ステロイド性抗炎症剤(NSAI
D)としては、例えばアスピリン、メフェナム酸、ジク
ロフェナック、インドメタシン、イブプロフェン又はナ
プロキセン等が、広く臨床で用いられている。これらN
SAIDの多くは、シクロオキシゲナーゼ(COX)を
選択的に阻害する抗炎症剤であるにもかかわらず、同時
に消化管障害等の副作用も生じていた。これは、COX
を選択的に阻害はするものの、COX−1及びCOX−
2の両方を阻害するために副作用が生じると考えられて
いる。
【0005】従って、COX−1を阻害することなく炎
症部位に特異的に誘導されるCOX−2のみを選択的に
阻害すれば、潰瘍のごとき消化管障害等の副作用のない
優れた抗炎症剤を提供することができる。このような消
化管障害等の副作用の低減を目的とした、即ちCOX−
2選択的阻害活性を有する抗炎症剤について様々な報告
がなされている。例えば、WO94/15932号公報
には、COX−2阻害剤としてチオフェン、フラン、ピ
ロール等のヘテロ5員環化合物のビスアリール置換体、
例えば3−(4−メチルスルホニルフェニル)−4−
(4−フルオロフェニル)チオフェンが開示されてい
る。しかしながら、同公報は、単に3位、4位にアリー
ル基又はヘテロアリール基を有するチオフェン等のヘテ
ロ5員環化合物を示すに止まるものである。
【0006】また、シクロオキシゲナーゼ阻害作用、プ
ロスタグランジン合成抑制作用又はトロンボキサンA2
合成阻害作用を有する抗炎症剤についての報告も種々な
されている。例えば、特開平3−141261号公報に
は、1−(4−フルオロフェニル)−5−[4−(メチ
ルスルホニル)フェニル]ピラゾ−ル−3−カルボン酸
エチルエステル等のピラゾール誘導体が、特開昭57−
183767号公報には、2−メチルチオ−5−フェニ
ル−4−(3−ピリジル)−チアゾール等のチアゾール
誘導体が、特開昭60−58981号公報には、2−エ
チル−4−(4−メトキシフェニル)−5−(3−ピリ
ジル)−1,3−チアゾール等のチアゾール誘導体が開
示されている。しかしながら、これら公報には、抗炎症
剤として有用であるとの記載はあるものの、副作用の低
減を目的とした、即ちCOX−2選択的阻害作用を有す
る旨の記載は勿論、それを示唆する記載もない。
【0007】その他にも下記のごとき複素環式芳香族化
合物等についての報告がなされている。例えば、US4
632930号明細書には、5−シクロヘキシル−4−
(4−メチルスルホニルフェニル)−α,α−ビス(ト
リフルオロメチル)オキサゾ−ル−2−メタノ−ル等の
オキサゾール系化合物等が開示されている。しかしなが
ら、同公報開示の化合物は、高血圧症に有効な化合物で
あり、抗炎症としての有用性の開示は勿論、それを示唆
する記載も見当たらない。特表昭59−500054号
公報には、2−[4−フェニル−5−(3−ピリジル)
−オキサゾール−2−イル]−プロピオン酸エチルエス
テル等のオキサゾール環の4位及び5位にヘテロアリー
ル基又は炭素環式アリール基を有し、かつ2位に低級ア
ルキレン等を介したカルボキシ基、エステル基又はアミ
ド化カルボキシ基を有するオキサゾール誘導体が開示さ
れ、特表昭59−500055号公報には、2−[4−
フェニル−5−(3−ピリジル)−イミダゾ−ル−2−
イル]−アセトアルデヒドジメチルアセタ−ル等のイミ
ダゾール環の4位又は5位にヘテロアリール基及び/又
は炭素環式アリール基を有し、かつ2位には低級アルキ
レン等を介したホルミル又はアセタール化ホルミルを有
するイミダゾ−ル誘導体が開示されている。しかしなが
ら、これらの文献にはこれら化合物が炎症性皮膚疾患用
皮膚消炎剤又は粘膜消炎剤として有効である旨の記載が
あるのみで、COX−2選択的阻害作用を有する旨の記
載は勿論、それを示唆する記載も見当たらない。特開平
5−70446号公報には、N−[5−シクロヘキシル
−4−(4−メトキシフェニル)チアゾ−ル−2−イ
ル]トリフルオロメタンスルホンアミド等のN−チアゾ
リルスルホンアミド誘導体が開示され、特開平2−83
372号公報には、4−シクロヘキシル−5−フェニル
−2−t−ブチル−イミダゾ−ル等のシクロヘキシルイ
ミダゾール誘導体が開示されている。しかしながら、こ
れらの文献には置換基としてのシクロヘキシル基が例示
されているのみで、アミノスルホニル基、低級アルキル
アミノスルホニル基又は低級アルキルスルホニル基で置
換されたフェニル基で置換する点に関しては何の示唆も
ない。また、WO94/27980号公報には、COX
−2阻害剤として2−フェニル−4−シクロヘキシル−
5−(4−メチルスルホニルフェニル)オキサゾール等
のオキサゾール化合物が開示されている。しかしなが
ら、これら公報に記載される化合物は、オキサゾール環
の4位及び5位における4−フルオロフェニル基、4−
メチルスルホニルフェニル基を主たる特徴とするもので
あって、本発明のごとき特定の置換基を組み合わせてな
る化合物を示唆するものでない。なお、COX−2阻害
剤に限らず抗炎症剤の分野においては、5員複素環骨格
に対するフェニル置換基としては、従来より4−メチル
スルホニルフェニル基や4−メトキシフェニル基等の1
置換フェニル基がよいとされており、2置換フェニル基
については殆ど試みがなされていなかった。(例えば、
英国特許第1206403号明細書)
【0008】
【発明が解決しようとする課題】本発明者等は、前記の
ごとく消化管障害等の副作用のない解熱、鎮痛、抗炎症
作用を有する新規な化合物を提供すべく鋭意検討した結
果、驚くべきことにオキサゾールの置換基としての4−
低級アルキルスルホニルフェニル基、4−アミノスルホ
ニルフェニル基又は4−低級アルキルアミノスルホニル
フェニル基等のフェニル基に、更に第2の置換基として
ハロゲン原子、特にフッ素原子を導入した化合物が優れ
たCOX−2選択的阻害作用を有することを見出し、本
発明を完成するに至った。
【0009】
【課題を解決するための手段】即ち、本発明は、下記
(1)乃至(21)に示すオキサゾール系複素環式芳香
族化合物又はその医薬上許容し得る塩、それら化合物を
製造するための中間体化合物、及びそれらオキサゾール
系複素環式芳香族化合物を含んでなる医薬組成物に関す
る。 (1)一般式(I)
【0010】
【化10】
【0011】[式中、Zは酸素原子であり、R又はR1
の一方は
【0012】
【化11】
【0013】(式中、R3は低級アルキル基、アミノ基
又は低級アルキルアミノ基であり、R4、R5、R6又は
7は同一又はそれぞれ異なってよく水素原子、ハロゲ
ン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、トリフル
オロメチル基、水酸基又はアミノ基である。但し、
4、R5、R6又はR7の少なくとも1つは水素原子では
ない)で表わされる基であり、他方が置換されてもよい
シクロアルキル基、置換されてもよい複素環基又は置換
されてもよいアリール基であり、R2は低級アルキル基
又はハロゲン化低級アルキル基である]で表わされるオ
キサゾール系複素環式芳香族化合物又はその医薬上許容
し得る塩。
【0014】(2)R1
【0015】
【化12】
【0016】であり、かつR3が低級アルキル基又はア
ミノ基であり、R4、R5、R6及びR7のうち少なくとも
一つがハロゲン原子又は低級アルキル基であり、残りが
水素原子又はハロゲン原子である上記(1)記載のオキ
サゾール系複素環式芳香族化合物又はその医薬上許容し
得る塩。
【0017】(3)R3がメチル基又はアミノ基であ
り、R5がフッ素原子であり、R6が水素原子又はフッ素
原子であり、R4、R7がともに水素原子であり、R2
メチル基である上記(2)記載のオキサゾール系複素環
式芳香族化合物又はその医薬上許容し得る塩。
【0018】(4)置換されてもよいシクロアルキル基
におけるシクロアルキル基が炭素原子数5乃至7個のシ
クロアルキル基であり、置換されてもよい複素環基にお
ける複素環基がチエニル基、フリル基、ピロリル基、モ
ルホリノ基、ピペラジニル基又はピペリジル基であり、
置換されてもよいアリール基におけるアリール基がフェ
ニル基、ナフチル基又はビフェニル基である上記(3)
記載のオキサゾール系複素環式芳香族化合物又はその医
薬上許容し得る塩。
【0019】(5)R3がアミノ基である上記(4)記
載のオキサゾール系複素環式芳香族化合物又はその医薬
上許容し得る塩。
【0020】(6)Rが置換されてもよい炭素原子数5
乃至7個のシクロアルキル基、置換されてもよいフェニ
ル基又は置換されてもよいチエニル基である上記(4)
記載のオキサゾール系複素環式芳香族化合物又はその医
薬上許容し得る塩。
【0021】(7)Rがシクロヘキシル基又は4−フル
オロフェニル基であり、R1が4−アミノスルホニル−
3−フルオロフェニル基、4−アミノスルホニル−3,
5−ジフルオロフェニル基、3−フルオロ−4−メチル
スルホニルフェニル基又は3,5−ジフルオロ−4−メ
チルスルホニルフェニル基である上記(6)記載のオキ
サゾール系複素環式芳香族化合物又はその医薬上許容し
得る塩。
【0022】(8)4−シクロヘキシル−5−(3−フ
ルオロ−4−メチルスルホニルフェニル)−2−メチル
オキサゾ−ル;5−(4−アミノスルホニル−3−フル
オロフェニル)−4−シクロヘキシル−2−メチルオキ
サゾール;5−(4−アミノスルホニル−3,5−ジフ
ルオロフェニル)−4−シクロヘキシル−2−メチルオ
キサゾール;4−シクロヘキシル−5−(3,5−ジフ
ルオロ−4−メチルスルホニルフェニル)−2−メチル
オキサゾール;5−(4−アミノスルホニル−3−フル
オロフェニル)−4−(4−フルオロフェニル)−2−
メチルオキサゾールからなる群から選ばれる上記(1)
記載のオキサゾール系複素環式芳香族化合物又はその医
薬上許容し得る塩。
【0023】(9)下記一般式(XI’)
【0024】
【化13】
【0025】[式中、R1’は
【0026】
【化14】
【0027】(式中、R4、R5、R6及びR7は上記
(1)におけるR4、R5、R6及びR7と同じ)であり、
R’’は置換されてもよいシクロアルキル基又は置換さ
れてもよいアリール基である]で表わされるオキシム化
合物。
【0028】(10)R1’が3−フルオロフェニル基
又は3,5−ジフルオロフェニル基であり、R’’がシ
クロヘキシル基又は4−フルオロフェニル基である上記
(9)記載のオキシム化合物。
【0029】(11)下記一般式(IV’’)
【0030】
【化15】
【0031】(式中、R1’及びR’’はそれぞれ上記
(9)と同じ)で表わされるケトン化合物。
【0032】(12)R1’が3−フルオロフェニル基
又は3,5−ジフルオロフェニル基であり、R’’がシ
クロヘキシル基又は4−フルオロフェニル基である上記
(11)記載のケトン化合物。
【0033】(13)下記一般式(IV)
【0034】
【化16】
【0035】(式中、Rは上記(6)におけるRと同じ
であり、R1は上記(2)におけるR1と同じ)で表わさ
れるケトメチレン化合物。
【0036】(14)Rがシクロヘキシル基であり、R
1が4−アミノスルホニル−3−フルオロフェニル基、
4−アミノスルホニル−3,5−ジフルオロフェニル
基、3−フルオロ−4−メチルスルホニルフェニル基又
は3,5−ジフルオロ−4−メチルスルホニルフェニル
基である上記(13)記載のケトメチレン化合物。
【0037】(15)下記一般式(V)
【0038】
【化17】
【0039】(式中、R、R1、R2及びZは上記(1)
と同じ)で示されるエステル化合物。
【0040】(16)Rがシクロアルキル基であり、Z
が酸素原子であり、R2が低級アルキル基である上記
(15)記載のエステル化合物。
【0041】(17)下記一般式(XVIII’)
【0042】
【化18】
【0043】(式中、R1’及びR’’はそれぞれ上記
(9)と同じであり、Z及びR2は上記(1)と同じ)
で表わされるアミド化合物。
【0044】(18)R1’が3−フルオロフェニル基
又は3,5−ジフルオロフェニル基であり、R’’がシ
クロヘキシル基又は4−フルオロフェニル基であり、Z
が酸素原子であり、R2が低級アルキル基である上記
(17)記載のアミド化合物。
【0045】(19)医薬上許容し得る担体及び上記
(1)記載のオキサゾール系複素環式芳香族化合物又は
その医薬上許容し得る塩を含んでなる医薬組成物。
【0046】(20)医薬上許容し得る担体及び上記
(1)記載のオキサゾール系複素環式芳香族化合物又は
その医薬上許容し得る塩を有効成分としてなるシクロオ
キシゲナーゼ−2阻害剤。
【0047】(21)医薬上許容し得る担体及び上記
(1)記載のオキサゾール系複素環式芳香族化合物又は
その医薬上許容し得る塩を有効成分としてなる抗炎症
剤。
【0048】ここで、「アルキル基」とは、分枝しても
よい炭素原子数1乃至6個のアルキル基を意味し、具体
的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピ
ル基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、t
ert−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ネオ
ペンチル基、tert−ペンチル基、ヘキシル基、イソ
ヘキシル基、ネオヘキシル基等である。好ましくは炭素
原子数1乃至4個の「低級アルキル基」であり、具体的
にはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル
基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、te
rt−ブチル基である。特に好ましくはメチル基であ
る。
【0049】「アルキルアミノ基」とは、アミノ基が上
記アルキル基で置換されたものであり、具体的には、メ
チルアミノ基、エチルアミノ基、プロピルアミノ基、イ
ソプロピルアミノ基、ブチルアミノ基、イソブチルアミ
ノ基、sec−ブチルアミノ基、tert−ブチルアミ
ノ基、ペンチルアミノ基、イソペンチルアミノ基、ネオ
ペンチルアミノ基、tert−ペンチルアミノ基、ヘキ
シルアミノ基、イソヘキシルアミノ基、ネオヘキシルア
ミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基等であ
る。好ましくは炭素原子数1乃至4個の低級アルキル基
で置換された「低級アルキルアミノ基」であり、具体的
にはメチルアミノ基、ジメチルアミノ基、エチルアミノ
基、ジエチルアミノ基、プロピルアミノ基、イソプロピ
ルアミノ基、ブチルアミノ基、イソブチルアミノ基、s
ec−ブチルアミノ基、tert−ブチルアミノ基であ
る。特に好ましくはメチルアミノ基、ジメチルアミノ基
である。
【0050】「ハロゲン原子」とは、塩素原子、臭素原
子、フッ素原子等であり、好ましくは塩素原子、フッ素
原子であり、特に好ましくはフッ素原子である。
【0051】「アルコキシ基」とは、分枝してもよい炭
素原子数1乃至6個のアルコキシ基を意味し、具体的に
はメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポ
キシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、sec−ブトキ
シ基、tert−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、イソ
ペンチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、tert−
ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、イソヘキシルオ
キシ基、ネオヘキシルオキシ基等である。好ましくは炭
素原子数1乃至4個の低級アルコキシ基であり、具体的
にはメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロ
ポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、sec−ブト
キシキ、tert−ブトキシ基である。特に好ましくは
メトキシ基である。
【0052】「シクロアルキル基」とは、炭素原子数3
乃至8個のシクロアルキル基を意味し、具体的にはシク
ロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シ
クロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基
である。好ましくは炭素原子数5乃至7個のシクロアル
キル基、具体的にはシクロペンチル基、シクロヘキシル
基、シクロヘプチル基である。特に好ましくはシクロヘ
キシル基である。
【0053】「複素環基」とは、環を構成する原子とし
て炭素原子以外に窒素原子、酸素原子、硫黄原子から選
ばれる1乃至3個の複素原子を含む5員乃至6員の芳香
族複素環、飽和複素環又はこれら複素環とベンゼン環が
縮合した縮合複素環を意味し、具体的には、チエニル
基、フリル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ピラゾリ
ル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、オキサゾリル
基、イソオキサゾリル基、モルホリノ基、ピペラジニル
基、ピペリジル基、ピラニル基、チオピラニル基、ピリ
ジル基、ベンゾチエニル基、ベンゾフラニル基、インド
ール基、4,5,6,7−テトラヒドロインドール基、
4,5,6,7−テトラヒドロベンゾチエニル基、4,
5,6,7−テトラヒドロベンゾフラニル基等である。
好ましくはチエニル基、フリル基、ピロリル基、モルホ
リノ基、ピペラジニル基、ピペリジル基である。特に好
ましくはチエニル基である。
【0054】「アリール基」とは、例えばフェニル基、
ナフチル基、ビフェニル基等であり、好ましくはフェニ
ル基である。
【0055】「ハロゲン化低級アルキル基」とは、アル
キル基が上記ハロゲン原子で置換されたものであり、具
体的にはフルオロメチル基、クロロメチル基、ブロモメ
チル基、ヨードメチル基、ジフルオロメチル基、ジクロ
ロメチル基、トリフルオロメチル基、トリクロロメチル
基、フルオロエチル基、クロロエチル基、ジフルオロエ
チル基、ジクロロエチル基、トリフルオロエチル基、ト
リクロロエチル基、テトラクロロエチル基、ペンタフル
オロエチル基、フルオロプロピル基等であり、好ましく
はフルオロメチル基、クロロメチル基、ジクロロメチル
基、ジフルオロメチル基、トリクロロメチル基、トリフ
ルオロメチル基である。
【0056】「置換されてもよい」とは、1個乃至3個
の置換基により置換されてもよいことを意味し、該置換
基は同一又は異なっていてもよい。また、置換基の位置
は任意であって、特に制限されるものではない。具体的
にはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル
基、ブチル基、tert−ブチル基等の低級アルキル
基;水酸基;メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、
ブトキシ基等の低級アルコキシ基;フッ素、塩素、臭素
等のハロゲン原子;ニトロ基;シアノ基;ホルミル基、
アセチル基、プロピオニル基等のアシル基;ホルミルオ
キシ基、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基等の
アシルオキシ基;メルカプト基;メチルチオ基、エチル
チオ基、プロピルチオ基、ブチルチオ基、イソブチルチ
オ基等のアルキルチオ基;アミノ基;メチルアミノ基、
エチルアミノ基、プロピルアミノ基、ブチルアミノ基等
のアルキルアミノ基;ジメチルアミノ基、ジエチルアミ
ノ基、ジプロピルアミノ基、ジブチルアミノ基等のジア
ルキルアミノ基;カルボニル基;メトキシカルボニル
基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基等
のアルコキシカルボニル基;アミド基;トリフルオロメ
チル基;メチルスルホニル基、エタンスルホニル基等の
アルキルスルホニル基;アミノスルホニル基;シクロペ
ンチル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基;フ
ェニル基;アセトアミド基、プロピオニルアミド基等の
アシルアミド基等であり、好ましくは水酸基、低級アル
キル基、低級アルコキシ基、メルカプト基、低級アルキ
ルチオ基、ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、アル
キルカルボニル基、アルコキシカルボニル基、アシルア
ミド基である。
【0057】より具体的には、[置換されてもよいアリ
ール基」とは、ハロゲン原子、水酸基、低級アルキル
基、低級アルコキシ基、低級アルキルスルホニル基、ア
ミノスルホニル基等で置換されてもよいアリール基、特
にフェニル基を意味し、例えばフェニル基、フルオロフ
ェニル基、メチルフェニル基、メトキシフェニル基、メ
チルスルホニルフェニル基、アミノスルホニルフェニル
基等、好ましくはフェニル基、4−フルオロフェニル基
を挙げることができる。「置換されてもよい複素環基」
とは、同様にハロゲン原子、水酸基、低級アルキル基、
低級アルコキシ基、低級アルキルスルホニル基、アミノ
スルホニル基等で置換されてもよい複素環基、特にチエ
ニル基、フリル基を意味し、また、「置換されてもよい
シクロアルキル基」とは、これらと同様の置換基で置換
されてもよいシクロアルキル基を意味し、好ましくはシ
クロヘキシル基である。
【0058】「医薬上許容し得る塩」とは、上記一般式
(I)で示されるオキサゾール誘導体と無毒性の塩を形
成するものであれば如何なるものであってもよいが、例
えばナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩;マ
グネシウム塩、カルシウム塩等のアルカリ土類金属塩;
アンモニウム塩;トリメチルアミン塩、トリエチルアミ
ン塩、ピリジン塩、ピコリン塩、ジシクロヘキシルアミ
ン塩、N,N’−ジベンジルエチレンジアミン塩等の有
機塩基塩;リジン塩、アルギニン塩等のアミノ酸塩を挙
げることができる。また、場合によっては水和物であっ
てもよい。
【0059】本発明化合物は、特に優れたCOX−2選
択的阻害作用を有し、消化管障害等の副作用のない優れ
た解熱・鎮痛、抗炎症等に有用な治療薬として期待され
る。一般式(I)で示される本発明化合物又はその医薬
上許容し得る塩を医薬製剤として用いる場合には、通
常、それ自体公知の薬理学的に許容される担体、賦形
剤、希釈剤、増量剤、崩壊剤、安定剤、保存剤、緩衝
剤、乳化剤、芳香剤、着色剤、甘味剤、粘稠剤、矯味
剤、溶解補助剤、その他の添加剤、具体的には水、植物
油、エタノール又はベンジルアルコールのようなアルコ
ール、ポリエチレングリコール、グリセロールトリアゼ
テートゼラチン、ラクトース、デンプン等のような炭水
化物、ステアリン酸マグネシウム、タルク、ラノリン、
ワセリン等と混合して、常法により錠剤、丸剤、散剤、
顆粒剤、座剤、注射剤、点眼剤、液剤、カプセル剤、ト
ローチ剤、エアゾール剤、エリキシル剤、懸濁剤、乳
剤、シロップ剤等の形態となすことにより、経口又は非
経口的に投与することができる。
【0060】投与量は、疾患の種類及び程度、投与する
化合物並びに投与経路、患者の年齢、性別、体重等によ
り変わり得るが、経口投与の場合、通常、成人1日当た
り化合物(I)を0.1〜1000mg、特に1mg〜
300mgを投与するのが好ましい。
【0061】本発明の化合物は例えば下記の方法によっ
て製造することができるが、本発明の化合物の製造方法
は、これらに限定されるものではないことは勿論であ
る。
【0062】
【化19】
【0063】(工程1)化合物(IV)(式中、R及びR
1は前述のとおりである)は、化合物(II)(式中、X
は臭素原子等のハロゲン原子を意味し、R1は前述のと
おりである)と亜鉛又はマグネシウム等の金属の存在
下、化合物(III)(式中、Rは前述のとおりである。
X’は例えば塩素原子等のハロゲン原子であって、化合
物(II)におけるXと同一であっても異なってもよい)
を1,2−ジメトキシエタン、ジオキサン、エーテル、
テトラヒドロフラン、塩化メチレン、ベンゼン又はトル
エン等の不活性溶媒中、室温で反応させることにより合
成することができる。また、この時、パラジウム(O)
錯体又は銅(I)錯体等の触媒を加えてもよい。
【0064】(工程2)化合物(V)(式中、R、
1、R2及びZは前述のとおりである)は、化合物(I
V)(式中、R及びR1は前述のとおりである)を四酢酸
鉛の存在下に酢酸溶媒中で反応させるか、又は酢酸マン
ガン等の錯体存在下、R2COOH(式中、R2は前述の
とおりである)に対応する酢酸、プロピオン酸、安息香
酸等の低級アルカンカルボン酸中、或るいは必要に応じ
ベンゼン等の溶媒とともに加熱還流することにより合成
することができる。
【0065】(工程3)化合物(I)(式中、R、
1、R2及びZは前述のとおりである)は、化合物
(V)(式中、R、R1、R2及びZは前述のとおりであ
る)を酢酸アンモニウム、ギ酸アンモニウム等の低級ア
ルカンカルボン酸アンモニウム又は炭酸アンモニウム等
の無機酸アンモニウム等のアンモニウム塩存在下、ギ
酸、酢酸、プロピオン酸等の低級アルカンカルボン酸等
の酸性溶媒中、加熱還流することにより合成することが
できる。なお、この反応において、R又はR1が芳香族
複素環の場合、4位のRと5位のR1が逆転した異性体
ができることがある。
【0066】また、化合物(I)は下記の経路でも合成
可能である。 (工程4)(X1が水酸基の場合) この工程及び工程6、工程7は、R2(例えばメチル
基)を他のR2(R2’、例えばエチル基)に変換する場
合に有益である。化合物(VI)(この場合、式中のX1
は水酸基を意味し、R及びR1は前述のとおりである)
は、化合物(V)(式中、R、R1、R2及びZは前述の
とおりである)を炭酸カリウム、水酸化リチウム、水酸
化ナトリウム又は水酸化カリウム等の塩基存在下、メタ
ノール、エタノール、ジオキサン等の有機溶媒、水又は
これらの混合溶媒中、冷却下乃至加温下で反応させるこ
とにより合成することができる。
【0067】ところで、化合物(VI)は下記の工程5で
も合成できる。 (工程5)(X1がハロゲン原子又は水酸基の場合) 化合物(VI)(式中、R及びR1は前述のとおりであ
り、X1はハロゲン原子又は水酸基である)は、化合物
(IV)(式中、R及びR1は前述のとおりである)を臭
素、塩素又はN−ブロモスコハク酸イミド等のハロゲン
化剤存在下、酢酸、1,2−ジメトキシエタン、ジオキ
サン、エーテル、テトラヒドロフラン、塩化メチレン、
ベンゼン又はトルエン等の不活性溶媒中で反応させるこ
とによってX1がハロゲン原子である化合物(VI)を合
成することができる。また、X1が水酸基である化合物
(VI)は、酢酸ヨードベンゼン等の酸化剤で化合物(I
V)を酸化することによって、或るいは上記のようにし
て得られたハロゲン化体(VI)をアセトン、1,2−ジ
メトキシエタン、ジオキサン、エーテル、テトラヒドロ
フラン、ベンゼン又はトルエン等の不活性溶媒中、水で
処理することによっても合成することができる。
【0068】(工程6)化合物(V’)(式中、R、R
1及びZは前述のとおりであり、R2’は化合物(V)に
おけるR2自身と同一又は別意のR2である)は、公知の
方法に従って化合物(VI)(式中、R及びR1は前述の
とおりであり、X1は水酸基又はハロゲン原子である)
と化合物(VII’)(式中、R2’は前述のとおりであ
り、X1’はハロゲン原子又は水酸基を意味する)とを
反応させることにより得られる。具体的には、X1が水
酸基である化合物(VI)とX1’がハロゲン原子である
化合物(VII’)を、又はX1がハロゲン原子である化合
物(VI)とX1’が水酸基である化合物(VII’)をピリ
ジン中、又はトリエチルアミン、水酸化ナトリウム等の
塩基の存在下に塩化メチレン、クロロホルム、エタノー
ル等の有機溶媒中、冷却下乃至加温下で反応させること
により合成することができる。また、カルボン酸化合物
(VII’)の代わりにそのアルカリ金属塩、例えば酢酸
ナトリウムを用いてもよい。この場合、塩基は加えても
加えなくてもよい。
【0069】(工程7)化合物(I’)(式中、R、R
1、R2’及びZは前述のとおりである)は、化合物
(V’)(式中、R、R1、R2’及びZは前述のとおり
である)を工程3と同様に処理することによって得られ
る。なお、R又はR1の一方が4−アミノスルホニル−
3−フルオロフェニル基であるような化合物を所望の場
合は、対応する3−フルオロ−4−メチルスルホニルフ
ェニル基を有する化合物から公知の方法に従って製造す
ることもできる。ところで、上記のようにR又はR1
して、
【0070】
【化20】
【0071】(式中、R3、R4、R5、R6及びR7は前
述のとおりである)を有する化合物(II)又は(III)
を用いて化合物(IV)を得る代わりに、
【0072】
【化21】
【0073】を有する化合物(II’)又は(III’)を
出発原料として工程10に従って化合物(IV’)を得た
後、更にこれを工程15の方法に従ってアミノスルホニ
ル化又はメチルスルホニル化することによって化合物
(IV)を得てもよいし、或るいはこのような出発原料
(II’)及び(III’)を用いて工程1乃至工程7に従
って最終化合物(I)又は(I’)に対応する非スルホ
ニル化オキサゾール化合物(XIII)を得た後、工程15
と同様にしてスルホニル化することによって目的化合物
(I)又は(I’)を得てもよい。
【0074】また、R、R1の一方がアルキルアミノス
ルホニル基又はアミノスルホニル基で置換されたフェニ
ル基を有する化合物を所望の場合は、R8又はR9の一方
がメトキシスルホニルフェニル基である化合物(X)か
ら、下記のごとき工程8及び工程9に従うことによって
も化合物(IV)を合成することができる。
【0075】
【化22】
【0076】(工程8)化合物(X)[式中、R8及び
9の一方は下記式で示されるメトキシスルホニルフェ
ニル基
【0077】
【化23】
【0078】(式中、R4、R5、R6及びR7は前述のと
おりである)であり、他方は置換されてもよいシクロア
ルキル基、置換されてもよい複素環基又は置換されても
よいアリール基である]は、化合物(VIII)(式中、R
8及びXは前述のとおりである)及び化合物(IX)(式
中、R9及びX’は前述のとおりである)を用い、(工
程1)と同様にすることで合成することができる。
【0079】(工程9)化合物(IV)(式中、R及びR
1は前述のとおりであるが、R、R1の少なくとも一方は
アミノスルホニル基又はアルキルスルホニル基を4位に
有するフェニル基である)は、化合物(X)(式中、R
8及びR9は前述のとおりである)をピリジン中で加熱す
るか、又はヨウ化ナトリウム、ヨウ化カリウム、ヨウ化
リチウム等の存在下にアセトン、テトラヒドロフラン等
の有機溶媒中で加熱還流した後、チオニルクロライド又
はオキザリルクロライド等を加温下で反応させる。次い
で、その生成物を公知の方法に従ってアミノ化若しくは
アルキルアミノ化、又はアルキル化することによって合
成することができる。より具体的には、アミノ化又はア
ルキルアミノ化の反応は、アンモニア水若しくはアルキ
ルアミン存在下、又は酢酸ナトリウム等の塩基及びアル
キルアミン塩酸塩等のアンモニウム塩存在下、テトラヒ
ドロフラン、エーテル、トルエン、ベンゼン、塩化メチ
レン、ジオキサン等の有機溶媒中、冷却下乃至加温下で
反応させることにより合成することができる。また、ア
ルキル化する場合は、J.Org.Chem.,56:
4974−4976(1991)記載の方法によって合
成することができる。更に、化合物(I)は下記工程1
0乃至工程15に示すような方法でも合成できる。この
方法は、最終段階の第15工程においてスルホニル基を
最終的に導入する方法である。
【0080】
【化24】
【0081】(工程10)化合物(IV’)[式中、R’
及びR1’の一方は下記式
【0082】
【化25】
【0083】(式中、R4、R5、R6及びR7は前記のと
おりである)で示されるフェニル基であり、他方はR、
1の一方に対応する置換基、即ち低級アルキル基等の
置換基で置換されてもよいシクロアルキル基、低級アル
キル基若しくはハロゲン原子等の置換基で置換されても
よいチエニル基又はフリル基等の複素環基、又はハロゲ
ン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基等の置換基
で置換されてもよいアリール基である]は、工程1と同
様にして化合物(II’)(式中、R1’及びXは前述の
とおりである)と化合物(III’)(式中、R’及び
X’は前述のとおりである)を亜鉛又はマグネシウム等
の金属の存在下、1,2−ジメトキシエタン、ジオキサ
ン、エーテル、テトラヒドロフラン、塩化メチレン、ベ
ンゼン又はトルエン等の不活性溶媒中、室温で反応させ
ることにより合成することができる。また、この時、パ
ラジウム(O)錯体又はヨウ化第一銅等の触媒を加えて
もよい。
【0084】(工程11)化合物(XI)(式中、R’及
びR1’は前述のとおりである)は、化合物(IV’)
(式中、R’及びR1’は前述のとおりである)とヒド
ロキシルアミン塩酸塩を酢酸ナトリウム、水酸化ナトリ
ウム又は炭酸カリウム等の塩基存在下、メタノール、エ
タノール若しくはテトラヒドロフラン等の有機溶媒、水
又はこれらの混合溶媒中、加熱還流することにより合成
することができる。
【0085】(工程12)化合物(XII)(式中、
R’、R1’、R2及びZは前述のとおりである)は、化
合物(XI)(式中、R’及びR1’は前述のとおりであ
る)を無水酢酸、塩化アセチル等のアシル化剤の存在
下、ピリジン中、又はトリエチルアミン等の塩基存在下
に塩化メチレン、クロロホルム等の有機溶媒中、冷却下
乃至加温下で反応させることにより合成することができ
る。
【0086】(工程13)化合物(XIII)(式中、
R’、R1’、R2及びZは前述のとおりである)は、化
合物(XII)(式中、R’、R1’、R2及びZは前述の
とおりである)をギ酸、酢酸等の酸性溶媒中、加熱還流
することにより合成することができる。このとき、硫酸
マグネシウム、硫酸ナトリウム等の脱水剤を加えてもよ
い。
【0087】(工程14)この工程は化合物(XI)から
一工程で化合物(XIII)を合成する工程であり、化合物
(XIII)(式中、R’、R1’、R2及びZは前述のとお
りである)は、Indian J.Chem.,20
B:322−323(1981)記載の方法により化合
物(XI)(式中、R’及びR1’は前述のとおりであ
る)と酢酸クロライド等のカルボン酸クロライドから合
成することができる。また、R2がメチル基の場合は、
酢酸中で化合物(XI)と無水酢酸を加熱反応させること
によって化合物(XIII)を合成することができる。
【0088】(工程15)化合物(I)(式中、R、R
1、R2及びZは前述のとおりである)は、化合物(XII
I)(式中、R’、R1’、R2及びZは前述のとおりで
ある)をクロロスルホン酸等のクロロスルホニル化剤存
在下、クロロホルム、塩化メチレン等の有機溶媒中又は
無溶媒で反応させ、次いで、その生成物を公知の方法に
従ってアミノ化若しくはアルキルアミノ化、又はアルキ
ル化することによって合成できる。工程15におけるア
ミノ化又はアルキルアミノ化の反応は、より具体的に
は、アンモニア水若しくはアルキルアミン存在下に、又
は酢酸ナトリウム等の塩基及びアルキルアミン塩酸塩等
のアンモニウム塩存在下に、テトラヒドロフラン、エー
テル、トルエン、ベンゼン、塩化メチレン、ジオキサン
等の有機溶媒中で、冷却下乃至加温下で反応させること
により達成することができる。また、アルキルスルホニ
ル化する場合は、J.Org.Chem.,56:49
74−4976(1991)記載の方法によって合成す
ることができる。なお、上記は最終段階である工程15
において、アルキルスルホニル化又はアミノスルホニル
化する例を挙げたが、出発原料(II’)及び(III’)
の代わりに、化合物(II)及び(III)を用いて化合物
(IV)を得た後、工程11乃至工程14に従ってオキサ
ゾール化合物(I)を得てもよい。この場合は、工程1
5は不要である。また、工程15で用いる化合物(XII
I)は下記の経路でも合成可能である。
【0089】
【化26】
【0090】(工程16)化合物(V’’)(式中、
R’、R1’、R2及びZは前述のとおりである)は、工
程2と同様にして化合物(IV’)(式中、R’及び
1’は前述のとおりである)を四酢酸鉛の存在下に酢
酸溶媒中で反応させるか、又は酢酸マンガン等の錯体存
在下、R2COOH(式中、R2は前述のとおりである)
に対応する酢酸、プロピオン酸、安息香酸等の低級アル
カンカルボン酸中、或るいは必要に応じベンゼン等の溶
媒とともに加熱することにより合成することができる。
【0091】(工程17)化合物(XIII)(式中、
R’、R1’、R2及びZは前述のとおりである)は、工
程3と同様にして化合物(V’’)(式中、R’、
1’、R2及びZは前述のとおりである)を酢酸アンモ
ニウム、ギ酸アンモニウム等の低級アルカンカルボン酸
アンモニウム又は炭酸アンモニウム等の無機酸アンモニ
ウム等のアンモニウム塩存在下、ギ酸、酢酸、プロピオ
ン酸等の低級アルカンカルボン酸等の酸性溶媒中、加熱
還流することにより合成することができる。この反応に
おいて、R’又はR1’が芳香族複素環の場合、4位の
R’と5位のR1’が逆転した異性体ができることがあ
る。
【0092】更に、化合物(I)は下記の工程18乃至
工程21に示すような方法でも合成することができる。
【0093】
【化27】
【0094】(工程18)化合物(XV)(式中、R’及
びR2は前述のとおりである)は、化合物(XIV)をテト
ラヒドロフラン、トルエン、酢酸エチル等の不活性溶媒
中、トリエチルアミン等の塩基存在下、クロロ炭酸エチ
ル等のクロロ炭酸エステルと反応させるか、又は無水酢
酸中で加熱することにより合成することができる。
【0095】(工程19)化合物(XVII)(式中、
R’、R1’、R2及Zは前述のとおりである)は、化合
物(XV)(式中、R’及びR2は前述のとおりである)
をテトラヒドロフラン、アセトニトリル、酢酸エチル、
トルエン等の不活性溶媒中、塩化マグネシウム等のマグ
ネシウム塩及びトリエチルアミン、ピリジン、炭酸カリ
ウム等の塩基の存在下、化合物(XVI)(式中、X2はハ
ロゲン原子であり、R1’及びZは前述のとおりであ
る)又は化合物(XVI)に対応する酸無水物と反応させ
ることにより合成することができる。また、化合物(XV
II)はChem.Ber.,102:883−898
(1969)記載の方法によっても合成することができ
る。
【0096】(工程20)化合物(XVIII)(式中、
R’、R1’、R2及びZは前述のとおりである)は、化
合物(XVII)(式中、R’、R1’、R2及びZは前述の
とおりである)をテトラヒドロフラン、ジオキサン、塩
化メチレン、トルエン等の不活性溶媒中、1N乃至4N
塩酸、しゅう酸、希硫酸等の酸で処理するか、又はピリ
ジン及び酢酸の存在下で加熱することにより合成するこ
とができる。
【0097】(工程21)化合物(I)(式中、R、R
1、R2及びZは前述のとおりである)は、化合物(XVII
I)(式中、R’、R1’、R2及びZは前述のとおりで
ある)をクロロホルム、塩化メチレン等の有機溶媒中、
又は無溶媒中でクロロスルホン酸等のクロロスルホニル
化剤と反応させる。次いで、その生成物をテトラヒドロ
フラン、エーテル、トルエン、塩化メチレン、ジオキサ
ン等の有機溶媒中、アンモニア水又はアルキルアミンと
反応させるか、酢酸ナトリウム、ピリジン、水酸化ナト
リウム等の塩基の存在下、アルキルアミン塩酸塩等のア
ンモニウム塩と反応させることにより合成することがで
きる。
【0098】また、化合物(I)は、化合物(XVIII)
から下記の工程22乃至工程23の経路でも合成するこ
とができる。 (工程22)化合物(XIII)(式中、R’、R1’、R2
及びZは前述のとおりである)は、化合物(XVIII)
(式中、R’、R1’、R2及びZは前述のとおりであ
る)を無水酢酸中又は無溶媒中で、濃硫酸又はポリリン
酸等の無機酸と室温乃至加温下で反応させることにより
合成することができる。
【0099】(工程23)化合物(I)(式中、R、R
1、R2及びZは前述のとおりである)は、化合物(XII
I)を前述の工程15と同様の方法で反応させることに
より合成することができる。なお、上記工程22乃至工
程23は最終段階である工程23において、アルキルス
ルホニル化又はアミノスルホニル化する例を挙げたが、
R’及びR1’を有する化合物の代わりにR及びR1を有
する化合物を用いて、工程18乃至工程20に従って反
応を行った後、工程22に従ってオキサゾール化合物
(I)を得てもよい。この場合は工程23は不要であ
る。
【0100】このようにして得られた化合物(I)は公
知の分離精製手段、例えば、濃縮、減圧濃縮、溶媒抽
出、晶析、再結晶又はクロマトグラフィー等により、単
離精製することができる。
【発明の実施の形態】
【0101】次に実施例及び試験例を挙げて本発明を具
体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるもので
はない。
【実施例】
実施例1 5−(2−クロロ−4−メチルスルホニルフェニル)−
4−シクロヘキシル−2−メチルオキサゾール(式
(I’);R=シクロヘキシル、R1=2−クロロ−4
−メチルスルホニルフェニル、R2’=メチル、Z=酸素
原子)の合成 工程1)2−クロロ−4−メチルスルホニルベンジル
シクロヘキシルケトン(式(IV);R=シクロヘキシ
ル、R1=2−クロロ−4−メチルスルホニルフェニ
ル)
【0102】
【化28】
【0103】テトラキストリフェニルホスフィンパラジ
ウム(1.29g)及び亜鉛末(2.19g)の1,2
−ジメトキシエタン(10ml)溶液にシクロヘキサン
カルボニルクロライド(3.60g)の1,2−ジメト
キシエタン(10ml)溶液を窒素雰囲気下室温で加え
る。これに室温中、攪拌しながら2−クロロ−4−メチ
ルスルホニルベンジルブロマイド(9.40g)の1,
2−ジメトキシエタン(20ml)溶液をゆっくりと滴
下した後、さらに室温で3時間攪拌した。不溶物を濾過
して除去した後、濾液を減圧濃縮した。その後、残留物
に酢酸エチル(200ml)を加え、1N塩酸、次いで
飽和重曹水及び飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥した。溶媒を留去後、酢酸エチルとジイソプロ
ピルエーテルを加え、析出した固体を濾取することによ
り白色固体の表題化合物(3.47g)を得た。
【0104】工程5)2−ブロモ−2−(2−クロロ−
4−メチルスルホニル)−1−シクロヘキシル−1−エ
タノン(式(VI);R=シクロヘキシル、R1=2−ク
ロロ−4−メチルスルホニルフェニル、X1=臭素原
子)
【0105】
【化29】
【0106】上記工程1)で得られた化合物(3.40
g)のベンゼン(20ml)溶液に、氷冷攪拌下、臭素
(1.73g)のベンゼン(20ml)溶液を滴下した
後、1時間攪拌した。この溶液を水に移した後、酢酸エ
チルで抽出した。有機層を飽和重曹水及び飽和食塩水で
洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留
去することで表題化合物(4.20g)を得た。
【0107】工程6)1−(2−クロロ−4−メチルス
ルホニル)−2−シクロヘキシル−2−オキソエチル
アセテート(式(V’);R=シクロヘキシル、R1
2−クロロ−4−メチルスルホニルフェニル、R2’=
メチル、Z=酸素原子)
【0108】
【化30】
【0109】上記工程5)で得られた化合物(4.20
g)に酢酸ナトリウム(1.06g)とエタノール(4
0ml)を加え、4時間加熱還流した後、溶媒を減圧留
去した。残留物に酢酸エチルを加え、水及び飽和食塩水
で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去
するこで表題化合物の粗生成物(3.85g)を得た。
【0110】工程7)5−(2−クロロ−4−メチルス
ルホニルフェニル)−4−シクロヘキシル−2−メチル
オキサゾール(式(I’);R=シクロヘキシル、R1
=2−クロロ−4−メチルスルホニルフェニル、R2
=メチル、Z=酸素原子)
【0111】
【化31】
【0112】上記工程6)で得られた化合物(3.85
g)と酢酸アンモニウム(2.08g)の酢酸(40m
l)溶液を5時間加熱還流した後、溶媒を減圧留去し
た。残留物に酢酸エチルを加えた後、これを水、飽和重
曹水及び飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾
燥した。溶媒を減圧留去することで表題化合物(1.9
5g、収率53%)得た。
【0113】実施例2 5−(4−アミノスルホニル−3−フルオロフェニル)
−4−シクロヘキシル−2−メチルオキサゾール(式
(I);R=シクロヘキシル、R1=4−アミノスルホ
ニル−3−フルオロフェニル、R2=メチル、Z=酸素
原子)の合成 工程10)シクロヘキシル−3−フルオロベンジルケト
ン(式(IV’);R’=シクロヘキシル、R1’=3−
フルオロフェニル)
【0114】
【化32】
【0115】テトラキストリフェニルホスフィンパラジ
ウム(2.00g)及び亜鉛末(17.98g)の1,
2−ジメトキシエタン(50ml)溶液にシクロヘキサ
ンカルボニルクロライド(20.00g)の1,2−ジ
メトキシエタン(50ml)溶液を窒素雰囲気下室温で
加える。これに氷冷中、攪拌しながら3−フルオロベン
ジルブロマイド(26.00g)の1,2−ジメトキシ
エタン(100ml)溶液をゆっくりと滴下した後、さ
らに氷冷下で30分、室温で2時間攪拌した。不溶物を
濾過して除去した後、濾液を減圧濃縮した。その後、残
留物に酢酸エチル(200ml)を加え、1N塩酸、次
いで飽和重曹水及び飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナト
リウムで乾燥した。溶媒を留去後、油状の粗生成物(2
9.20g)を得た。
【0116】工程16)2−シクロヘキシル−1−(3
−フルオロフェニル)−2−オキソエチル アセテート
(式(V’’);R’=シクロヘキシル、R1’=3−
フルオロフェニル、R2’=メチル、Z=酸素原子)
【0117】
【化33】
【0118】上記工程10)で合成した化合物(29.
20g)の酢酸(300ml)溶液に,四酢酸鉛(7
5.00g)を加え、1.5時間加熱還流した後、溶媒
を減圧留去した。残留物に酢酸エチルを加えた後、水、
飽和重曹水及び飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥した。溶媒を減圧留去した後、シリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(展開溶媒;ヘキサン:酸酸エチ
ル=9:1)で精製することにより油状物の表題化合物
(18.30g、収率50%)を得た。
【0119】工程17)4−シクロヘキシル−5−(3
−フルオロフェニル)−2−メチルオキサゾール(式
(XIII);R’=シクロヘキシル、R1’=3−フルオ
ロフェニル、R2=メチル、Z=酸素原子)
【0120】
【化34】
【0121】上記工程16)で得られた化合物(18.
00g)と酢酸アンモニウム(15.00g)の酢酸
(100ml)溶液を5時間加熱還流した後、溶媒を減
圧留去した。残留物に酢酸エチルを加えた後、これを
水、飽和重曹水及び飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナト
リウムで乾燥した。溶媒を減圧留去することで油状物の
粗生成物(17.20g)得た。
【0122】工程15)5−(4−アミノスルホニル−
3−フルオロフェニル)−4−シクロヘキシル−2−メ
チルオキサゾール(式(I);R=シクロヘキシル、R
1=4−アミノスルホニル−3−フルオロフェニル、R2
=メチル、Z=酸素原子)
【0123】
【化35】
【0124】上記工程17)で得られた化合物(17.
00g)のクロロホルム(80ml)溶液に氷冷攪拌
下、クロロスルホン酸(27ml)を滴下した後、10
0℃で3時間加熱した。室温に冷却後、反応溶液を氷水
(300ml)に攪拌しながら滴下する。有機層を分離
した後、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾
燥した。溶媒を減圧留去し、粗生成物(20.31g)
を得た。次いで、得られた化合物(10.00g)のテ
トラヒドロフラン(40ml)溶液に室温攪拌下、28
%アンモニア水を加え、室温で1時間攪拌した。溶媒を
減圧留去し、残留物に酢酸エチル酢酸エチルを加え、水
及び飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾
燥した。溶媒を留去した後、シリカゲルカラムクロマト
グラフィー(展開溶媒;ジクロロメタン:酢酸エチル=
6:1)で分離精製することにより表題化合物(5.7
4g、収率61%)を得た。
【0125】実施例2’ 実施例2の化合物(式(I);R=シクロヘキシル、R
1=4−アミノスルホニル−3−フルオロフェニル、R2
=メチル、Z=酸素原子)を別の合成法に従って合成し
た。 工程11)シクロヘキシル 3−フルオロベンジルケト
ン オキシム(式(XI);R’=シクロヘキシル、
1’=3−フルオロフェニル)
【0126】
【化36】
【0127】上記実施例2の工程10)に従って得られ
た化合物(353g)のエタノール(1300ml)溶
液にヒドロキシルアミン・塩酸塩(123g)と酢酸ナ
トリウム(158g)を加え、2時間加熱還流した後、
溶媒を減圧留去した。残留物に酢酸エチルを加え、これ
を水、飽和重曹水及び飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナ
トリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去した後、粗生成物
をn−ヘプタンから再結晶することにより表題化合物
(160g、収率42%)を得た。
【0128】工程14)4−シクロヘキシル−5−(3
−フルオロフェニル)−2−メチルオキサゾール(式
(XIII);R’=シクロヘキシル、R1’=3−フルオ
ロフェニル、R2=メチル、Z=酸素原子)
【0129】
【化37】
【0130】上記工程11)で得られた化合物(158
g)の酢酸(900ml)溶液に、室温攪拌下、無水酢
酸(95ml)を滴下した後、7時間加熱還流した。溶
媒を減圧留去した後、残留物にn−ヘプタンを加え、こ
れを水、飽和重曹水、飽和食塩水及びアセトニトリルで
洗浄した。溶媒を減圧留去した後、油状物の表題化合物
(119g)を得た。次いで、得られた化合物(119
g)を上記実施例2の工程15)と同様に反応すること
により、実施例2の化合物(式(I);R=シクロヘキ
シル、R1=4−アミノスルホニル−3−フルオロフェ
ニル、R2=メチル、Z=酸素原子)を得た。
【0131】実施例3 4−シクロヘキシル−5−(3−フルオロ−4−メチル
スルホニルフェニル)2−メチルオキサゾール(式
(I);R=シクロヘキシル、R1=3−フルオロ−4
−メチルスルホニルフェニル、R2=メチル、Z=酸素
原子)の合成 工程15)4−シクロヘキシル−5−(3−フルオロ−
4−メチルスルホニルフェニル)2−メチルオキサゾー
ル(式(I);R=シクロヘキシル、R1=3−フルオ
ロ−4−メチルスルホニルフェニル、R2=メチル、Z
=酸素原子)
【0132】
【化38】
【0133】上記実施例2の工程17)で得られた化合
物(17.00g)のクロロホルム(80ml)溶液に
氷冷攪拌下、クロロスルホン酸(27ml)を滴下した
後、100℃で3時間加熱した。室温に冷却後、反応溶
液を氷水(300ml)に攪拌しながら滴下する。有機
層を分離した後、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、粗生成物(20.
31g)を得た。次いで、得られた化合物(3.66
g)に水(25ml)を加え、室温攪拌下、亜硫酸ナト
リウム(1.42g)、次いで炭酸水素ナトリウム
(1.89g)を加え、70℃で2時間加熱した。これ
にエタノール(25ml)、ヨウ化メチル(2.20
g)を加え、100℃で2時間加熱した。室温に冷却
後、酢酸エチルで抽出し、抽出液を飽和食塩水で洗浄
後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し
た後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶
媒;ヘキサン:酢酸エチル=2:1)で分離精製するこ
とにより表題化合物(0.82g、収率24%)を得
た。
【0134】実施例4乃至6 実施例1乃至実施例3と同様にして、或るいは後述の実
施例7の方法に従って実施例4乃至6の化合物を得た。
実施例1乃至6の構造式及び物性値を次表に示す。
【0135】
【表1】
【0136】
【表2】
【0137】実施例7 5−(4−アミノスルホニル−3−フルオロフェニル)
−4−(4−フルオロフェニル)−2−メチルオキサゾ
ール(式(I);R=4−フルオロフェニル、R1=4
−アミノスルホニル−3−フルオロフェニル、R2=メ
チル、Z=酸素原子)の合成
【0138】
【化39】
【0139】前記のごとき方法に従って得られた5−
(3−フルオロフェニル)−4−(4−フルオロフェニ
ル)−2−メチルオキサゾール(1.10g)とクロロ
スルホン酸(1.6ml)のクロロホルム(2ml)溶
液を90℃で2時間加熱撹拌した。反応液を氷水中にあ
けクロロホルムで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で
洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮し、5−
(4−クロロスルホニル−3−フルオロフェニル)−4
−(4−フルオロフェニル)−2−メチルオキサゾール
の粗生成物(1.06g)を得た。次に、この粗生成物
(1.06g)のテトラヒドロフラン(6ml)溶液に
28%アンモニア水(0.6ml)を加え、室温で2時
間撹拌した。この反応液を濃縮し、酢酸エチルを加え、
水、飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾
燥後、濃縮することにより粗生成物(981mg)を得
た。この粗生成物をエタノールから再結晶することによ
り表題化合物(629mg、収率44%)を得た。この
化合物の構造式及び物性値を次表に示す。
【0140】
【表3】
【0141】実施例2’’ 実施例2の化合物(式(I);R=シクロヘキシル、R
1=4−アミノスルホニル−3−フルオロフェニル、R2
=メチル、Z=酸素原子)を別の合成法に従って合成し
た。 工程18)4−シクロヘキシル−2−メチル−5−オキ
サゾロン(式(XV);R’=シクロヘキシル、R2=メ
チル)
【0142】
【化40】
【0143】α−アミノフェニル酢酸から公知の方法
[Collect.Czeck.Chem.Commu
n.,31:4563(1966)]に従って合成され
たDL−N−アセチル−2−シクロヘキシルグリシン
(10.00g)の酢酸エチル(50ml)懸濁液にト
リエチルアミン(8.39ml)を加え、氷冷下、クロ
ロ炭酸エチル(5.28ml)を滴下した。氷冷下で1
時間攪拌した後、酢酸エチル(150ml)を加え、水
及び飽和食塩水で順次洗浄した。酢酸エチル溶液を減圧
濃縮することにより油状物の表題化合物(9.86g)
を得た。
【0144】工程19)4−シクロヘキシル−4−(3
−フルオロベンゾイル)−2−メチル−5−オキサゾロ
ン(式(XVII);R’=シクロヘキシル、R1’=3−
フルオロフェニル、R2=メチル、Z=酸素原子)
【0145】
【化41】
【0146】塩化マグネシウム(3.56g)のテトラ
ヒドロフラン(20ml)懸濁液に、上記工程18)で
得られた化合物(9.86g)のテトラヒドロフラン
(15ml)溶液を加え、次いで氷冷攪拌下、トリエチ
ルアミン(9.49ml)を加え、15分間攪拌した。
これに3−フルオロベンゾイルクロライド(4.55m
l)を滴下し、氷冷下で1時間攪拌した。反応液を酢酸
エチルで希釈した後、水で洗浄し、無水硫酸ナトリウム
で乾燥した。溶媒を減圧留去することにより油状物の表
題化合物(11.69g)を得た。
【0147】工程20)2−N−アセチルアミノ−2−
シクロヘキシル−3’−フルオロアセトフェノン(式
(XVIII);R’=シクロヘキシル、R1’=3−フルオ
ロフェニル、R2=メチル、Z=酸素原子)
【0148】
【化42】
【0149】上記工程19)で得られた化合物(527
mg)のテトラヒドロフラン(3.5ml)溶液に1N
塩酸(0.35ml)を加え、室温下で1時間攪拌した
後、酢酸エチルを加え、水、飽和重曹水及び飽和食塩水
で順次洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し
た後、溶媒を減圧留去することにより固体の表題化合物
(404mg、収率84%)を得た。n−ヘプタンから
再結晶することにより、融点116〜117℃の白色結
晶が得られた。
【0150】工程21)5−(4−アミノスルホニル−
3−フルオロフェニル)−4−シクロヘキシル−2−メ
チルオキサゾール(式(I);R=シクロヘキシル、R
1=4−アミノスルホニル−3−フルオロフェニル、R2
=メチル、Z=酸素原子)
【0151】
【化43】
【0152】上記工程20)で得られた化合物(200
mg)のクロロホルム(2ml)溶液に、氷冷攪拌下、
クロロスルホン酸(0.34ml)を加え、更に5時間
加熱還流した。反応液をクロロホルムで希釈し、氷水に
加えた後、有機層を分離した。これを水及び飽和食塩水
で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を
減圧留去することにより粗生成物(181mg)を得
た。次いで、得られた化合物(169mg)のテトラヒ
ドロフラン(2ml)溶液に、室温攪拌下、28%アン
モニア水(0.1ml)を加え、30分間攪拌した。溶
媒を減圧留去し、残留物に酢酸エチルを加え、水及び飽
和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥
した。溶媒を留去した後、シリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー(展開溶媒;ジクロロメタン:酢酸エチル=
6:1)で分離精製することにより表題化合物(126
mg、収率55%)を得た。
【0153】実施例2’’’ 実施例2の化合物(式(I);R=シクロヘキシル、R
1=4−アミノスルホニル−3−フルオロフェニル、R2
=メチル、Z=酸素原子)を別の合成法に従って合成し
た。 工程22)4−シクロヘキシル−5−(3−フルオロフ
ェニル)−2−メチルオキサゾール(式(XIII);R’
=シクロヘキシル、R1’=3−フルオロフェニル、R2
=メチル)
【0154】
【化44】
【0155】上記実施例の工程20)で得られた化合物
(141mg)の無水酢酸(2ml)懸濁液に濃硫酸
(30μl)を加え、100℃で30分間攪拌した。反
応液を減圧濃縮した後、炭酸カリウム水溶液を加え、酢
酸エチルで抽出した。有機層を水で洗浄し、無水硫酸ナ
トリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去することにより油
状物の表題化合物(135mg)を得た。
【0156】工程23)5−(4−アミノスルホニル−
3−フルオロフェニル)−4−シクロヘキシル−2−メ
チルオキサゾール(式(I);R=シクロヘキシル、R
1=4−アミノスルホニル−3−フルオロフェニル、R2
=メチル、Z=酸素原子)
【0157】
【化45】
【0158】上記工程22)で得られた化合物を上記実
施例2の工程15)と同様に反応することにより、実施
例2の化合物(式(I);R=シクロヘキシル、R1
4−アミノスルホニル−3−フルオロフェニル、R2
メチル、Z=酸素原子)を得た。
【0159】試験例1(シクロオキシゲナーゼに対する
阻害活性試験) 酵素活性は14Cアラキドン酸のプロスタグランジンH2
(PGH2)及びその分解物への変換率より求めた。即
ち、ヘマチン(2μM)及びトリプトファン(5mM)
を含む100mMトリス−塩酸緩衝液(pH8)140
μlに検体(20μl)、酵素液(20μl)及び蒸留
水(10μl)を加え、よく攪拌した後、24℃で5分
間プレインキュベーションを行った。更に、14Cアラキ
ドン酸溶液(10μl)を加え、24℃で反応させた
後、−20℃に氷冷したエチルエーテル/メタノール/
1Mクエン酸(30/4/1)溶液(40μl)を加え
ることにより反応を停止させた。その後、3000rp
mで5分間遠心することにより得られたエーテル層を薄
層プレートに載せ、エチルエーテル/メタノール/酢酸
(90/2/0.1)で展開し、アラキドン酸からPG
2及びその分解物への変換率(A)を測定した。また
検体を加えない場合の変換率(B)も測定し、下記のご
とき数式により阻害率を算出し、検体の50%阻害に必
要な濃度(IC50)を求めた。
【0160】
【数1】
【0161】シクロオキシゲナーゼ−1の酵素液として
はヒト血小板より調整した酵素を用い、シクロオキシゲ
ナーゼ−2の酵素液としてはInvitrogen社の
キットを使用してヒトシクロオキシゲナーゼ−2のcD
NAを酵母に組み込み発現させた酵素を用いた。なお、
ここで対照化合物1は我々が先に出願した5−(4−ア
ミノスルホニルフェニル)−4−シクロヘキシル−2−
メチルオキサゾールであり、対照化合物2は公知の類似
化合物5−(4−アミノスルホニルフェニル)−4−
(4−フルオロフェニル)−2−メチルオキサゾールで
ある。結果を表4に示した。対照化合物1と実施例2化
合物の比較、或るいは対照化合物2と実施例化合物7の
比較から明らかなように、フッ素原子を導入することに
よりCOX−2に対する活性はそのまま維持しながら、
COX−に1に対する作用を著しく低減することが可能
となった。
【0162】
【表4】
【0163】試験例2(カラゲニン誘発足浮腫に対する
効果試験) Donryu系雄性ラットの左後肢足に生理食塩水で調
整した1%カラゲニン(0.05ml)を皮下注射し、
足浮腫を誘発させた。足浮腫の程度はカラゲニン投与3
時間後の足容積を測定することにより評価した。検体
(1、3、10、30mg/kg)は、カラゲニン投与
1時間前に経口投与しておき、その抑制程度を検討し
た。阻害活性は対照群に比べ検体が30%阻害するのに
必要な用量(ED30)で表示した。結果を表5に示し
た。
【0164】
【表5】
【0165】
【発明の効果】本発明化合物、特にR3がメチル基又は
アミノ基であり、R5がフッ素原子であり、R6が水素原
子又はフッ素原子であり、更にR4、R7が水素原子であ
るような化合物又はその医薬上許容し得る塩は、COX
−2のみを驚くほど選択的に阻害し、一方COX−1に
対しては殆ど阻害活性を示さない。従って、本発明化合
物は従来品に見られない優れた解熱作用、鎮痛作用、抗
炎症作用を有する一方、消化管等に対しては殆ど副作用
を有しない優れた化合物であるといえる。よって、今ま
でにない優れた抗炎症剤の開発が可能であり、また、C
OX−2産物が因子となる得る疾患、例えば、喘息、リ
ウマチ等の治療剤としての実用化が大いに期待できるも
のである。
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C07C 49/563 C07C 49/563 49/792 49/792 235/74 9547−4H 235/74 251/40 9451−4H 251/40 311/16 311/16 317/22 317/22 317/24 7419−4H 317/24 C12N 9/99 C12N 9/99 (56)参考文献 特開 昭62−138485(JP,A) 特開 昭59−155365(JP,A) 米国特許4782058(US,A) CHEM.BER.Vol.102 N o.9 P.2881−2888 J.ORG.CHEM.Vol.43 No.15(1978)P.3063−3065 J.ORG.CHEM.Vol.53 No.24(1988)P.5789−5791 J.AM.CHEM.SOC.Vo l.115 No.8(1993)P.3105− 3110

Claims (20)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一般式(I) 【化1】 [式中、Zは酸素原子であり、R又はR1の一方は 【化2】 (式中、R3は低級アルキル基、アミノ基又は低級アル
    キルアミノ基であり、 4 、R 5 、R 6 又はR 7 は同一又は
    それぞれ異なってよく水素原子、ハロゲン原子又は低級
    アルキル基である。但し、R4、R5、R6又はR7の少な
    くとも1つは水素原子ではない)で表わされる基であ
    り、他方が置換されてもよいシクロアルキル基、置換さ
    れてもよいチエニル基又は置換されてもよいアリール基
    であり、R2は低級アルキル基又はハロゲン化低級アル
    キル基である]で表わされるオキサゾール系複素環式芳
    香族化合物又はその医薬上許容し得る塩。
  2. 【請求項2】 R1が 【化3】 であり、かつR3が低級アルキル基又はアミノ基であ
    り、R4、R5、R6及びR7のうち少なくとも一つがハロ
    ゲン原子又は低級アルキル基であり、残りが水素原子又
    はハロゲン原子である請求項1記載のオキサゾール系複
    素環式芳香族化合物又はその医薬上許容し得る塩。
  3. 【請求項3】 R3がメチル基又はアミノ基であり、R5
    がフッ素原子であり、R6が水素原子又はフッ素原子で
    あり、R4、R7がともに水素原子であり、R2がメチル
    基である請求項2記載のオキサゾール系複素環式芳香族
    化合物又はその医薬上許容し得る塩。
  4. 【請求項4】 置換されてもよいシクロアルキル基にお
    けるシクロアルキル基が炭素原子数5乃至7個のシクロ
    アルキル基であり、置換されてもよいアリール基におけ
    るアリール基がフェニル基、ナフチル基又はビフェニル
    基である請求項3記載のオキサゾール系複素環式芳香族
    化合物又はその医薬上許容し得る塩。
  5. 【請求項5】 R3がアミノ基である請求項4記載のオ
    キサゾール系複素環式芳香族化合物又はその医薬上許容
    し得る塩。
  6. 【請求項6】 Rが置換されてもよい炭素原子数5乃至
    7個のシクロアルキル基、置換されてもよいフェニル基
    又は置換されてもよいチエニル基である請求項4記載の
    オキサゾール系複素環式芳香族化合物又はその医薬上許
    容し得る塩。
  7. 【請求項7】 Rがシクロヘキシル基又は4−フルオロ
    フェニル基であり、R1が4−アミノスルホニル−3−
    フルオロフェニル基、4−アミノスルホニル−3,5−
    ジフルオロフェニル基、3−フルオロ−4−メチルスル
    ホニルフェニル基又は3,5−ジフルオロ−4−メチル
    スルホニルフェニル基である請求項6記載のオキサゾー
    ル系複素環式芳香族化合物又はその医薬上許容し得る
    塩。
  8. 【請求項8】 4−シクロヘキシル−5−(3−フルオ
    ロ−4−メチルスルホニルフェニル)−2−メチルオキ
    サゾール; 5−(4−アミノスルホニル−3−フルオロフェニル)
    −4−シクロヘキシル−2−メチルオキサゾール; 5−(4−アミノスルホニル−3,5−ジフルオロフェ
    ニル)−4−シクロヘキシル−2−メチルオキサゾー
    ル; 4−シクロヘキシル−5−(3,5−ジフルオロ−4−
    メチルスルホニルフェニル)−2−メチルオキサゾー
    ル; 5−(4−アミノスルホニル−3−フルオロフェニル)
    −4−(4−フルオロフェニル)−2−メチルオキサゾ
    ールからなる群から選ばれる請求項1記載のオキサゾー
    ル系複素環式芳香族化合物又はその医薬上許容し得る
    塩。
  9. 【請求項9】 下記一般式(XI’) 【化4】 [式中、R1’は 【化5】 (式中、R4、R5、R6及びR7は請求項1における
    4、R5、R6及びR7と同じ)であり、R’’は置換さ
    れてもよいシクロアルキル基又は4−フルオロフェニ
    である]で表わされるオキシム化合物。
  10. 【請求項10】 R1’が3−フルオロフェニル基又は
    3,5−ジフルオロフェニル基であり、R’’がシクロ
    ヘキシル基又は4−フルオロフェニル基である請求項9
    記載のオキシム化合物。
  11. 【請求項11】 1 ’が3−フルオロフェニル基又は
    3,5−ジフルオロフェニル基であり、R’’がシクロ
    ヘキシル基又は4−フルオロフェニル基である下記一般
    式(IV’’) 【化6】 で表わされるケトン化合物。
  12. 【請求項12】 下記一般式(IV) 【化7】 (式中、Rは請求項6におけるRと同じであり、R1
    請求項2におけるR1と同じ)で表わされるケトメチレ
    ン化合物。
  13. 【請求項13】 Rがシクロヘキシル基であり、R1
    4−アミノスルホニル−3−フルオロフェニル基、4−
    アミノスルホニル−3,5−ジフルオロフェニル基、3
    −フルオロ−4−メチルスルホニルフェニル基又は3,
    5−ジフルオロ−4−メチルスルホニルフェニル基であ
    請求項12記載のケトメチレン化合物。
  14. 【請求項14】 下記一般式(V) 【化8】 (式中、R、R1、R2及びZは請求項1と同じ)で示さ
    れるエステル化合物。
  15. 【請求項15】 Rがシクロアルキル基であり、Zが酸
    素原子であり、R2が低級アルキル基である請求項14
    記載のエステル化合物。
  16. 【請求項16】 下記一般式(XVIII’) 【化9】 (式中、 1 ’は請求項9と同じであり、R’’は置換
    されてもよいシクロアルキル基又は置換されてもよいア
    リール基であり、Z及びR2は請求項1と同じ)で表わ
    されるアミド化合物。
  17. 【請求項17】 R1’が3−フルオロフェニル基又は
    3,5−ジフルオロフェニル基であり、R’’がシクロ
    ヘキシル基又は4−フルオロフェニル基であり、Zが酸
    素原子であり、R2が低級アルキル基である請求項16
    記載のアミド化合物。
  18. 【請求項18】 医薬上許容し得る担体及び請求項1記
    載のオキサゾール系複素環式芳香族化合物又はその医薬
    上許容し得る塩を含んでなる医薬組成物。
  19. 【請求項19】 医薬上許容し得る担体及び請求項1記
    載のオキサゾール系複素環式芳香族化合物又はその医薬
    上許容し得る塩を有効成分としてなるシクロオキシゲナ
    ーゼ−2阻害剤。
  20. 【請求項20】 医薬上許容し得る担体及び請求項1記
    載のオキサゾール系複素環式芳香族化合物又はその医薬
    上許容し得る塩を有効成分としてなる抗炎症剤。
JP7326571A 1994-12-20 1995-11-20 オキサゾール系複素環式芳香族化合物 Expired - Lifetime JP2636819B2 (ja)

Priority Applications (31)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7326571A JP2636819B2 (ja) 1994-12-20 1995-11-20 オキサゾール系複素環式芳香族化合物
DK95940466T DK0745596T3 (da) 1994-12-20 1995-12-18 Heteroaromatiske oxazolforbindelser og anvendelse deraf
BR9506815A BR9506815A (pt) 1994-12-20 1995-12-18 Compostos de oxazol aromáticos heterociclicos e o uso dos mesmos
EP95940466A EP0745596B1 (en) 1994-12-20 1995-12-18 Heteroaromatic oxazole compounds and use thereof
CZ962749A CZ285476B6 (cs) 1994-12-20 1995-12-18 Heterocyklické aromatické oxazolové sloučeniny, jejich oximové, ketonové, ketomethylenové, esterové a amidové sloučeniny a farmaceutické přípravky, inhibitory cyklooxygenasy a protizánětlivá činidla obsahující tyto oxazolové sloučeniny
MX9603506A MX9603506A (es) 1994-12-20 1995-12-18 Compuestos oxazol aromaticos, heterociclicos y sus usos.
CA002183645A CA2183645A1 (en) 1994-12-20 1995-12-18 Heterocyclic aromatic oxazole compounds and use thereof
PCT/JP1995/002600 WO1996019463A1 (fr) 1994-12-20 1995-12-18 Composes heteroatomiques d'oxazole et leur emploi
CA002341921A CA2341921A1 (en) 1994-12-20 1995-12-18 Amide compounds intermediates
ES95940466T ES2132751T3 (es) 1994-12-20 1995-12-18 Compuestos de oxazol heteroaromaticos y su uso.
DE69509753T DE69509753T2 (de) 1994-12-20 1995-12-18 Hetero aromatische oxazole und deren verwendung
US08/693,051 US5994381A (en) 1994-12-20 1995-12-18 Heterocyclic aromatic oxazole compounds and use thereof
NZ297105A NZ297105A (en) 1994-12-20 1995-12-18 Heteroaromatic oxazole derivatives and medicaments
AU41897/96A AU695045B2 (en) 1994-12-20 1995-12-18 Heteroaromatic oxazole compounds and use thereof
KR1019960704530A KR100201581B1 (ko) 1994-12-20 1995-12-18 헤테로사이클릭 방향족옥사졸 화합물 및 그의 용도
CN95192620A CN1146204A (zh) 1994-12-20 1995-12-18 噁唑类杂环芳香族化合物及其用途
AT95940466T ATE180253T1 (de) 1994-12-20 1995-12-18 Hetero aromatische oxazole und deren verwendung
HU9602576A HUT76541A (en) 1994-12-20 1995-12-18 Substituted (4-sulfonylphenyl)oxazoles and pharmaceutical compositions containing them, as well as intermediates thereof
SK1175-96A SK281468B6 (sk) 1994-12-20 1995-12-18 Heterocyklické aromatické oxazolové zlúčeniny, medziprodukt na ich prípravu, farmaceutický prípravok, inhibítory cyklooxygenázy a protizápalové činidlá
IL11700396A IL117003A (en) 1995-06-06 1996-02-01 Aromatic oxazole derivatives and pharmaceutical compositions containing the same
TW085101428A TW403742B (en) 1994-12-20 1996-02-06 Oxazole derivatives for inhibiting cyclooxygenase and the pharmaceutical compositions
FI963238A FI963238A (fi) 1994-12-20 1996-08-19 Heteroaromaattisia oksatsoli yhdisteitä ja niiden käyttö
NO963450A NO306778B1 (no) 1994-12-20 1996-08-19 Heterocyklisk aromatisk oksazolforbindelse, mellomprodukter, farmasöytiske preparater inneholdende forbindelsene, rene cyklooksagenase-2 inhibitorer samt et antiinflammatorisk middel
GR990401729T GR3030643T3 (en) 1994-12-20 1999-06-30 Heteroaromatic oxazole compounds and use thereof
US09/398,997 US6362209B1 (en) 1994-12-20 1999-09-17 Heterocyclic aromatic oxazole compounds and use thereof
US09/906,762 US20020107270A1 (en) 1994-12-20 2001-07-18 Heterocyclic aromatic oxazole compounds and use thereof
US09/906,766 US20020198245A1 (en) 1994-12-20 2001-07-18 Heterocyclic aromatic oxazole compounds and use thereof
US09/906,761 US20020143040A1 (en) 1994-12-20 2001-07-18 Heterocyclic aromatic oxazole compounds and use thereof
US09/906,764 US20020198244A1 (en) 1994-12-20 2001-07-18 Heterocyclic aromatic oxazole compounds and use thereof
US09/906,765 US20020115701A1 (en) 1994-12-20 2001-07-18 Heterocyclic aromatic oxazole compounds and use thereof
US09/906,763 US20020107271A1 (en) 1994-12-20 2001-07-18 Heterocyclic aromatic oxazole compounds and use thereof

Applications Claiming Priority (7)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6-335838 1994-12-20
JP33583894 1994-12-20
JP9309995 1995-03-27
JP7-93099 1995-03-27
JP16465695 1995-06-06
JP7-164656 1995-06-06
JP7326571A JP2636819B2 (ja) 1994-12-20 1995-11-20 オキサゾール系複素環式芳香族化合物

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0952882A JPH0952882A (ja) 1997-02-25
JP2636819B2 true JP2636819B2 (ja) 1997-07-30

Family

ID=27468109

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP7326571A Expired - Lifetime JP2636819B2 (ja) 1994-12-20 1995-11-20 オキサゾール系複素環式芳香族化合物

Country Status (22)

Country Link
US (8) US5994381A (ja)
EP (1) EP0745596B1 (ja)
JP (1) JP2636819B2 (ja)
KR (1) KR100201581B1 (ja)
CN (1) CN1146204A (ja)
AT (1) ATE180253T1 (ja)
AU (1) AU695045B2 (ja)
BR (1) BR9506815A (ja)
CA (2) CA2341921A1 (ja)
CZ (1) CZ285476B6 (ja)
DE (1) DE69509753T2 (ja)
DK (1) DK0745596T3 (ja)
ES (1) ES2132751T3 (ja)
FI (1) FI963238A (ja)
GR (1) GR3030643T3 (ja)
HU (1) HUT76541A (ja)
MX (1) MX9603506A (ja)
NO (1) NO306778B1 (ja)
NZ (1) NZ297105A (ja)
SK (1) SK281468B6 (ja)
TW (1) TW403742B (ja)
WO (1) WO1996019463A1 (ja)

Families Citing this family (60)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2636819B2 (ja) * 1994-12-20 1997-07-30 日本たばこ産業株式会社 オキサゾール系複素環式芳香族化合物
EP0825989A1 (en) 1995-05-19 1998-03-04 G.D. Searle & Co. Substituted oxazoles for the treatment of inflammation
ES2125161B1 (es) 1996-03-21 1999-11-16 Grupo Farmaceutico Almirall S Nuevos derivados de 2-(3h)-oxazolona.
US5908858A (en) * 1996-04-05 1999-06-01 Sankyo Company, Limited 1,2-diphenylpyrrole derivatives, their preparation and their therapeutic uses
CN1098256C (zh) * 1996-04-12 2003-01-08 G·D·瑟尔公司 作为cox-2抑制剂前药的取代的苯磺酰胺衍生物
DE69810938T2 (de) * 1997-04-11 2003-11-06 Grelan Pharmaceutical Co Pyrazolderivate und sie enthaltende cox-inhibitoren
US20040072889A1 (en) * 1997-04-21 2004-04-15 Pharmacia Corporation Method of using a COX-2 inhibitor and an alkylating-type antineoplastic agent as a combination therapy in the treatment of neoplasia
WO1998051667A1 (fr) * 1997-05-16 1998-11-19 Chugai Seiyaku Kabushiki Kaisha Derives d'indole et derives de mono- et diazaindole
US6255304B1 (en) * 1997-05-30 2001-07-03 Pharmacia & Upjohn Company Oxazolidinone antibacterial agents having a thiocarbonyl functionality
NZ333399A (en) * 1997-12-24 2000-05-26 Sankyo Co Cyclooxygenase-2 inhibitors (COX-2) for the prevention and treatment of tumors, cachexia and tumor-metastasis
US6727238B2 (en) 1998-06-11 2004-04-27 Pfizer Inc. Sulfonylbenzene compounds as anti-inflammatory/analgesic agents
US6294558B1 (en) * 1999-05-31 2001-09-25 Pfizer Inc. Sulfonylbenzene compounds as anti-inflammatory/analgesic agents
TW477789B (en) 1998-09-03 2002-03-01 Japan Tobacco Inc Production method of oxazole compound
CA2348979A1 (en) * 1998-11-02 2000-05-11 Merck & Co., Inc. Method of treating migraines and pharmaceutical compositions
US20040122011A1 (en) * 1998-12-23 2004-06-24 Pharmacia Corporation Method of using a COX-2 inhibitor and a TACE inhibitors as a combination therapy
JP2002538176A (ja) * 1999-03-01 2002-11-12 オーソ−マクニール・フアーマシユーチカル・インコーポレーテツド トラマドール物質および選択的cox−2阻害薬を含んで成る組成物
JP2003523958A (ja) 1999-12-23 2003-08-12 ニトロメド インコーポレーテッド ニトロソ化およびニトロシル化されたシクロオキシゲナーゼ−2の阻害剤、組成物ならびに使用法
EP1296971A2 (en) * 2000-04-25 2003-04-02 Pharmacia Corporation 2-fluorobenzenesulfonyl compounds for the treatment of inflammation
US20020032226A1 (en) * 2000-05-26 2002-03-14 Schultz Thomas W. Novel form of an oxazole compound
JP2002179657A (ja) * 2000-05-26 2002-06-26 Japan Tobacco Inc 5−(4−アミノスルホニル−3−フルオロフェニル)−4−シクロヘキシル−2−メチルオキサゾールの結晶多形
AU5754701A (en) * 2000-07-13 2002-01-30 Pharmacia Corp Method of using cox-2 inhibitors in the treatment and prevention of ocular cox-2mediated disorders
US7115565B2 (en) * 2001-01-18 2006-10-03 Pharmacia & Upjohn Company Chemotherapeutic microemulsion compositions of paclitaxel with improved oral bioavailability
WO2002062391A2 (en) * 2001-02-02 2002-08-15 Pharmacia Corporation Method of using a cyclooxygenase-2 inhibitor and sex steroids as a combination therapy for the treatment and prevention of dismenorrhea
MY137736A (en) 2001-04-03 2009-03-31 Pharmacia Corp Reconstitutable parenteral composition
US6673818B2 (en) 2001-04-20 2004-01-06 Pharmacia Corporation Fluoro-substituted benzenesulfonyl compounds for the treatment of inflammation
US20060167074A1 (en) * 2001-06-19 2006-07-27 Norbert Muller Methods and compositions for the treatment of psychiatric disorders
DE10129320A1 (de) * 2001-06-19 2003-04-10 Norbert Mueller Verwendung von COX-2 Inhibitoren zur Behandlung von Schizophrenie, wahnhaften Störungen, affektiven Störungen oder Ticstörungen
UA80682C2 (en) * 2001-08-06 2007-10-25 Pharmacia Corp Orally deliverable stabilized oral suspension formulation and process for the incresaing physical stability of thixotropic pharmaceutical composition
AR038957A1 (es) 2001-08-15 2005-02-02 Pharmacia Corp Terapia de combinacion para el tratamiento del cancer
US20040062823A1 (en) * 2001-12-13 2004-04-01 Obukowicz Mark G. Selective cox-2 inhibition from non-edible plant extracts
US20030212138A1 (en) * 2002-01-14 2003-11-13 Pharmacia Corporation Combinations of peroxisome proliferator-activated receptor-alpha agonists and cyclooxygenase-2 selective inhibitors and therapeutic uses therefor
US20030220374A1 (en) * 2002-01-14 2003-11-27 Pharmacia Corporation Compositions and methods of treatment involving peroxisome proliferator-activated receptor-gamma agonists and cyclooxygenase-2 selective inhibitors
ITMI20021391A1 (it) * 2002-06-25 2003-12-29 Nicox Sa Nitroderivati di inibitori della cicloossigenasi-2
JP2006501179A (ja) * 2002-06-27 2006-01-12 ニトロメッド インコーポレーティッド シクロオキシゲナーゼ−2選択的阻害剤、組成物、および使用方法
WO2004002420A2 (en) * 2002-06-28 2004-01-08 Nitromed, Inc. Oxime and/or hydrazone containing nitrosated and/or nitrosylated cyclooxigenase-2 selective inhibitors, compositions and methods of use
US20040147581A1 (en) * 2002-11-18 2004-07-29 Pharmacia Corporation Method of using a Cox-2 inhibitor and a 5-HT1A receptor modulator as a combination therapy
EP1572173B1 (en) 2002-12-13 2010-04-28 Warner-Lambert Company LLC Alpha-2-delta ligand to treat lower urinary tract symptoms
ES2215474B1 (es) 2002-12-24 2005-12-16 J. URIACH & CIA S.A. Nuevos derivados de fosforamida.
TW200505446A (en) * 2003-01-17 2005-02-16 Fuj Isawa Pharmaceutical Co Ltd Inhibitor of cox
US20040220155A1 (en) * 2003-03-28 2004-11-04 Pharmacia Corporation Method of providing a steroid-sparing benefit with a cyclooxygenase-2 inhibitor and compositions therewith
DK1534305T3 (da) * 2003-05-07 2007-02-05 Osteologix As Behandling af brusk-/knoglelidelser med vandoplöselige strontiumsalte
SI2266584T1 (sl) 2003-05-07 2012-12-31 Osteologix A/S, Symbion Sestavek s stroncijem in vitaminom D za profilakso in/ali zdravljenje patologij hrustanca in/ali kosti
WO2005009342A2 (en) * 2003-07-16 2005-02-03 Pharmacia Corporation Method for the treatment or prevention of dermatological disorders with a cyclooxygenase-2 inhibitor alone and in combination with a dermatological treatment agent and compositions therewith
US20050119262A1 (en) * 2003-08-21 2005-06-02 Pharmacia Corporation Method for preventing or treating an optic neuropathy with a cox-2 inhibitor and an intraocular pressure reducing agent
US20050107350A1 (en) * 2003-08-22 2005-05-19 Pharmacia Corporation Method for the treatment or prevention of bone disorders with a cyclooxygenase-2 inhibitor alone and in combination with a bone disorder treatment agent and compositions therewith
US20050187278A1 (en) * 2003-08-28 2005-08-25 Pharmacia Corporation Treatment or prevention of vascular disorders with Cox-2 inhibitors in combination with cyclic AMP-specific phosphodiesterase inhibitors
WO2005023189A2 (en) * 2003-09-03 2005-03-17 Pharmacia Corporation Method of cox-2 selective inhibitor and nitric oxide-donating agent
BRPI0506994A (pt) 2004-01-22 2007-07-03 Pfizer derivados de triazol que inibem a atividade antagonista da vasopressina
BRPI0510340A (pt) * 2004-04-28 2007-10-30 Pfizer derivados de 3-heterociclil-4-feniltriazol como inibidores do receptor via da vasopressina
US7521435B2 (en) * 2005-02-18 2009-04-21 Pharma Diagnostics, N.V. Silicon containing compounds having selective COX-2 inhibitory activity and methods of making and using the same
US20060251702A1 (en) * 2005-05-05 2006-11-09 Cook Biotech Incorporated Implantable materials and methods for inhibiting tissue adhesion formation
US20080234252A1 (en) * 2005-05-18 2008-09-25 Pfizer Inc Compounds Useful in Therapy
SI2125021T1 (sl) 2006-12-22 2011-09-30 Recordati Ireland Ltd Kombinirano zdravljenje bolezni spodnjega urinarnega trakta z alfa2delta ligandi in NSAR
MX2009013667A (es) 2007-06-14 2010-03-22 Amgen Inc Inhibidores triciclicos de hidroxiesteroide deshidrogenasas.
EA201000016A1 (ru) 2007-07-12 2010-10-29 Трагара Фармасьютикалс, Инк. Способы и композиции для лечения рака, опухолей и нарушений, связанных с опухолями
US10842653B2 (en) 2007-09-19 2020-11-24 Ability Dynamics, Llc Vacuum system for a prosthetic foot
GB0903493D0 (en) 2009-02-27 2009-04-08 Vantia Ltd New compounds
CN102329280A (zh) * 2011-08-05 2012-01-25 上海大学 三氟甲基取代恶唑衍生物及其制备方法
CN102997862B (zh) * 2011-09-13 2015-12-16 上海汇众汽车制造有限公司 焊接熔深测量方法
WO2022195579A1 (en) 2021-03-15 2022-09-22 Saul Yedgar Hyaluronic acid-conjugated dipalmitoyl phosphatidyl ethanolamine in combination with non-steroidal anti-inflammatory drugs (nsaids) for treating or alleviating inflammatory diseases

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4782058A (en) 1985-04-26 1988-11-01 Pennwalt Corporation 1,3,4,6,7,11b-Hexahydro-6-phenyl-2H-pyrazino-(2,1-a)isoquinolines, for anti-histamine or anti-depression treatment

Family Cites Families (38)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1206403A (en) 1966-12-15 1970-09-23 Wyeth John & Brother Ltd Oxazoles
US3546342A (en) 1966-11-18 1970-12-08 Wyeth John & Brother Ltd Method of relieving inflammation by administration of 2,4 - diarylthiazole- 5 - alkanoic acids and derivatives thereof
GB1145884A (en) 1966-11-18 1969-03-19 Wyeth John & Brother Ltd Thiazole derivatives
IE32084B1 (en) 1967-06-07 1973-04-04 Wyeth John & Brother Ltd Thiazole derivatives
FI53314C (fi) 1967-06-14 1978-04-10 Wyeth John & Brother Ltd Foerfarande foer framstaellning av farmaceutiskt anvaendbar 2-(fenyleller p-klorfenyl) oxazol-4-yl (aettiksyra -acetatsalt eller -acetamid)
US3901908A (en) * 1970-12-28 1975-08-26 Ciba Geigy Corp 2-alkyl- and 2-cycloalkyl-4,5-bis-phenyl-imidazoles
US4451171A (en) 1980-11-07 1984-05-29 Owens-Corning Fiberglas Corporation Polyamide as a primer for use with asphaltic membranes
US4451471A (en) 1981-03-18 1984-05-29 Ciba-Geigy Corporation Certain 2,4,5-tri-substituted thiazoles, pharmaceutical compositions containing same and methods of using same
WO1983002613A1 (en) 1981-07-20 1983-08-04 Sallmann, Alfred Trisubstituted oxazo compounds
AU8002282A (en) 1982-01-22 1983-08-12 Ciba-Geigy Ag Trisubstituted oxazo compounds
AU8003782A (en) 1982-01-25 1983-08-12 Ciba-Geigy Ag Trisubstituted diazo compounds
EP0117578A3 (en) * 1983-02-23 1985-01-30 Shionogi & Co., Ltd. Azole-substituted alcohol derivatives
JPS59155365A (ja) * 1983-02-23 1984-09-04 Shionogi & Co Ltd 2−ヒドロキシプロピオフエノン誘導体
JPS6058981A (ja) 1983-09-09 1985-04-05 Takeda Chem Ind Ltd 5−ピリジル−1,3−チアゾ−ル誘導体,その製造法およびそれを含んでなる医薬組成物
DE3486009T2 (de) 1983-09-09 1993-04-15 Takeda Chemical Industries Ltd 5-pyridyl-1,3-thiazol-derivate, ihre herstellung und anwendung.
US4632930A (en) 1984-11-30 1986-12-30 E. I. Du Pont De Nemours And Company Antihypertensive alkyl-arylimidazole, thiazole and oxazole derivatives
JPS62138485A (ja) * 1985-12-02 1987-06-22 チバ−ガイギ− アクチエンゲゼルシヤフト 除草及び植物生長調節組成物
US4849007A (en) 1985-12-02 1989-07-18 Ciba-Geigy Corporation Herbicidal epoxides
IL83467A0 (en) 1986-08-15 1988-01-31 Fujisawa Pharmaceutical Co Imidazole derivatives,processes for their preparation and pharmaceutical compositions containing the same
JPH0283372A (ja) 1988-09-19 1990-03-23 Taisho Pharmaceut Co Ltd シクロヘキシルイミダゾール誘導体
PH27357A (en) 1989-09-22 1993-06-21 Fujisawa Pharmaceutical Co Pyrazole derivatives and pharmaceutical compositions comprising the same
JPH03116048A (ja) * 1989-09-29 1991-05-17 Toshiba Corp 感光性組成物
JPH03208056A (ja) * 1990-01-11 1991-09-11 Toshiba Corp 感光性組成物
GB9012936D0 (en) 1990-06-11 1990-08-01 Fujisawa Pharmaceutical Co Thiophene derivatives,processes for preparation thereof and pharmaceutical composition comprising the same
JPH0545883A (ja) * 1991-03-26 1993-02-26 Toshiba Corp 感光性組成物
JPH0570446A (ja) 1991-09-13 1993-03-23 Taisho Pharmaceut Co Ltd N−チアゾリルスルホンアミド誘導体
US5219731A (en) * 1991-11-01 1993-06-15 Wisconsin Alumni Research Foundation Method for preparing optically-active amino acid derivatives
US5541080A (en) * 1991-11-01 1996-07-30 Wisconsin Alumni Research Fdn. Method for preparing L-alpha-amino acids
JP3116048B2 (ja) 1991-11-09 2000-12-11 ローム株式会社 強誘電体層を有する半導体素子及びその製法
JP3141261B2 (ja) 1992-10-22 2001-03-05 松下電工株式会社 警報表示器
ATE160345T1 (de) 1993-01-15 1997-12-15 Searle & Co 3,4-diarylthiophene und analoga davon, sowie deren verwendung als entzündungshemmende mittel
AU6718494A (en) 1993-05-13 1994-12-12 Merck Frosst Canada Inc. 2-substituted-3,4-diarylthiophene derivatives as inhibitors of cyclooxygenase
US6090834A (en) 1993-05-21 2000-07-18 G.D. Searle & Co. Substituted oxazoles for the treatment of inflammation
US5380738A (en) * 1993-05-21 1995-01-10 Monsanto Company 2-substituted oxazoles further substituted by 4-fluorophenyl and 4-methylsulfonylphenyl as antiinflammatory agents
US5474995A (en) * 1993-06-24 1995-12-12 Merck Frosst Canada, Inc. Phenyl heterocycles as cox-2 inhibitors
JP2636819B2 (ja) * 1994-12-20 1997-07-30 日本たばこ産業株式会社 オキサゾール系複素環式芳香族化合物
EP0825989A1 (en) 1995-05-19 1998-03-04 G.D. Searle & Co. Substituted oxazoles for the treatment of inflammation
JP3208056B2 (ja) 1996-01-29 2001-09-10 株式会社ノリタケカンパニーリミテド 複合材料のポリシング加工方法

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4782058A (en) 1985-04-26 1988-11-01 Pennwalt Corporation 1,3,4,6,7,11b-Hexahydro-6-phenyl-2H-pyrazino-(2,1-a)isoquinolines, for anti-histamine or anti-depression treatment

Non-Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
CHEM.BER.Vol.102 No.9 P.2881−2888
J.AM.CHEM.SOC.Vol.115 No.8(1993)P.3105−3110
J.ORG.CHEM.Vol.43 No.15(1978)P.3063−3065
J.ORG.CHEM.Vol.53 No.24(1988)P.5789−5791

Also Published As

Publication number Publication date
EP0745596A4 (en) 1997-05-02
US20020107270A1 (en) 2002-08-08
GR3030643T3 (en) 1999-10-29
US20020143040A1 (en) 2002-10-03
ATE180253T1 (de) 1999-06-15
DK0745596T3 (da) 1999-11-08
EP0745596B1 (en) 1999-05-19
NO306778B1 (no) 1999-12-20
JPH0952882A (ja) 1997-02-25
CA2183645A1 (en) 1996-06-27
US20020107271A1 (en) 2002-08-08
NZ297105A (en) 1997-09-22
US20020198245A1 (en) 2002-12-26
FI963238A (fi) 1996-10-17
HUT76541A (en) 1997-09-29
DE69509753T2 (de) 1999-12-02
US20020198244A1 (en) 2002-12-26
BR9506815A (pt) 1997-09-09
DE69509753D1 (de) 1999-06-24
EP0745596A1 (en) 1996-12-04
WO1996019463A1 (fr) 1996-06-27
US20020115701A1 (en) 2002-08-22
SK117596A3 (en) 1997-05-07
ES2132751T3 (es) 1999-08-16
AU695045B2 (en) 1998-08-06
US5994381A (en) 1999-11-30
HU9602576D0 (en) 1996-11-28
SK281468B6 (sk) 2001-04-09
KR100201581B1 (ko) 1999-06-15
TW403742B (en) 2000-09-01
AU4189796A (en) 1996-07-10
FI963238A0 (fi) 1996-08-19
US6362209B1 (en) 2002-03-26
MX9603506A (es) 1997-03-29
NO963450L (no) 1996-10-04
CN1146204A (zh) 1997-03-26
NO963450D0 (no) 1996-08-19
CZ274996A3 (en) 1996-12-11
CA2341921A1 (en) 1996-06-27
CZ285476B6 (cs) 1999-08-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2636819B2 (ja) オキサゾール系複素環式芳香族化合物
JP3181190B2 (ja) オキサゾール誘導体
JP2512751B2 (ja) 薬理学的に活性な1,5−ジアリ−ル−3−置換−ピラゾ−ル類およびそれらを製造する方法
JPH08510736A (ja) 炎症治療用置換オキサゾリル化合物
JP2007197324A (ja) 2,4,5−置換−1,3−アゾール誘導体
HUT74611A (en) Biphenyl derivatives with phosphodiesterase inhibitor activity and pharmaceutical compns. contg. them
US5866596A (en) 3,4-diaryloxazolone derivatives, their methods of preparation and their uses in therapeutics
US5086064A (en) 3,5-di-tertiary-butyl-4-hydroxyphenyl thiazolyl, oxazolyl, and imidazolyl methanones and related compounds as antiinflammatory agents
Gilani et al. Thiazolidin-4-one, azetidin-2-one and 1, 3, 4-oxadiazole derivatives of isonicotinic acid hydrazide: synthesis and their biological evaluation
JP3810091B2 (ja) 2―(3h)―オキサゾロン誘導体およびcox―2阻害剤としてのそれらの使用
US6080876A (en) Process for making phenyl heterocycles useful as COX-2 inhibitors
JPH06505476A (ja) 抗炎症剤として有用な2−置換−4,6−ジ−第三ブチル−5−ヒドロキシ−1,3−ピリミジン類
WO1990005132A1 (en) Substituted allylamine derivatives, process for their preparation and their use
US5234937A (en) 3,5-di-tertiary-butyl-4-hydroxphenyl oxazolyl methanones and related compounds as antiinflammatory agents
CA1299577C (en) Tetrahydrocarbazole 1-alkanoic acids
US6686493B2 (en) 3,4-dihydro-1H-naphthalene derivatives as a highly selective cyclooxygenase-2 inhibitor
JPH0477742B2 (ja)
CA2578332A1 (en) Derivatives of pyrazoline, procedure for obtaining them and use thereof as therapeutic agents
WO1993013057A1 (en) Substituted benzenesulfonamide derivative
JP2758041B2 (ja) シクロヘキサジエノン誘導体

Legal Events

Date Code Title Description
EXPY Cancellation because of completion of term