JP2758041B2 - シクロヘキサジエノン誘導体 - Google Patents
シクロヘキサジエノン誘導体Info
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- JP2758041B2 JP2758041B2 JP24632889A JP24632889A JP2758041B2 JP 2758041 B2 JP2758041 B2 JP 2758041B2 JP 24632889 A JP24632889 A JP 24632889A JP 24632889 A JP24632889 A JP 24632889A JP 2758041 B2 JP2758041 B2 JP 2758041B2
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Description
【発明の詳細な説明】 本発明は新規なシクロヘキサジエノン誘導体に関し、
さらに詳しくは下記式 式中、 R1は水素原子、低級アルキル基、ホルミル基、低級
アルキルカルボニル基、低級アルコキシカルボニル基又
は低級アルキルスルホニル基を表わし、 R2及びR3は各々水素原子、ハロゲン原子、低級アル
キル基、低級アルコキシ基、水酸基、ニトロ基、アミノ
基又はシアノ基を表わす、 で示される化合物又はその塩に関する。
さらに詳しくは下記式 式中、 R1は水素原子、低級アルキル基、ホルミル基、低級
アルキルカルボニル基、低級アルコキシカルボニル基又
は低級アルキルスルホニル基を表わし、 R2及びR3は各々水素原子、ハロゲン原子、低級アル
キル基、低級アルコキシ基、水酸基、ニトロ基、アミノ
基又はシアノ基を表わす、 で示される化合物又はその塩に関する。
従来、抗炎症作用を有する2,6−ジ−t−ブチル−4
−ジ置換メチレン−2,5−シクロヘキサジエン−1−オ
ン誘導体として、特開昭59-101482号公報には、下記式 式中、R′は低級アルキル基であり、R″は低級アル
キル基、ベンジル基及び2−(N,N−ジメチルアミノ)
エチル基より成る群から選択されるか、又はR′とR″
が融合して、置換又は非置換の五員又は六員のヘテロ環
をつくり、X′は水素原子、メチル基又はハロゲン原子
である。
−ジ置換メチレン−2,5−シクロヘキサジエン−1−オ
ン誘導体として、特開昭59-101482号公報には、下記式 式中、R′は低級アルキル基であり、R″は低級アル
キル基、ベンジル基及び2−(N,N−ジメチルアミノ)
エチル基より成る群から選択されるか、又はR′とR″
が融合して、置換又は非置換の五員又は六員のヘテロ環
をつくり、X′は水素原子、メチル基又はハロゲン原子
である。
で示される化合物が開示されている。
今回、上記式(A)の化合物とはメチレン基の2つの
置換基において異なっている、前記式(I)のシクロヘ
キサジエノン誘導体が、優れた抗炎症作用を有してお
り、且つ生体の炎症反応に深く関与していると考えられ
ている多価不飽和脂肪酸、殊にアラキドン酸のシクロオ
キシゲナーゼ及び/又はリポキシゲナーゼの阻害作用に
も優れており、しかも消化器障害誘発作用が極めて少な
く、胃腸管障害作用を殆ど伴わない抗炎症、鎮痛、抗リ
ユウマチ剤等として有望であることを見い出した。さら
に、本発明者らは、前記式(I)のシクロヘキサジエノ
ン誘導体が生体内の活性酸素を消去する作用を有してい
ることを見出した。
置換基において異なっている、前記式(I)のシクロヘ
キサジエノン誘導体が、優れた抗炎症作用を有してお
り、且つ生体の炎症反応に深く関与していると考えられ
ている多価不飽和脂肪酸、殊にアラキドン酸のシクロオ
キシゲナーゼ及び/又はリポキシゲナーゼの阻害作用に
も優れており、しかも消化器障害誘発作用が極めて少な
く、胃腸管障害作用を殆ど伴わない抗炎症、鎮痛、抗リ
ユウマチ剤等として有望であることを見い出した。さら
に、本発明者らは、前記式(I)のシクロヘキサジエノ
ン誘導体が生体内の活性酸素を消去する作用を有してい
ることを見出した。
本明細書を通じて「低級」なる語は、この語が付され
た基又は化合物の炭素原子数が6個以下、好ましくは4
個以下であることを意味する。
た基又は化合物の炭素原子数が6個以下、好ましくは4
個以下であることを意味する。
本明細書において用いる「低級アルキル基」或いは
「低級アルコキシ基」、「低級アルキルカルボニル
基」、「低級アルコキシカルボニル基」及び「低級アル
キルスルホニル基」における低級アルキル部分は直鎖状
及び分岐鎖状のいずれであってもよく、例えばメチル、
エチル、n−プロピル、iso−プロピル、n−ブチル、s
ec−ブチル、iso−ブチル、tert−ブチル、n−ペンチ
ル基等が挙げられる。
「低級アルコキシ基」、「低級アルキルカルボニル
基」、「低級アルコキシカルボニル基」及び「低級アル
キルスルホニル基」における低級アルキル部分は直鎖状
及び分岐鎖状のいずれであってもよく、例えばメチル、
エチル、n−プロピル、iso−プロピル、n−ブチル、s
ec−ブチル、iso−ブチル、tert−ブチル、n−ペンチ
ル基等が挙げられる。
しかして、「低級アルコキシ基」としては例えば、メ
トキシ、エトキシ、iso−プロポキシ基等が挙げられ、
「低級アルキルカルボニル基」には例えば、アセチル、
プロピオニル、ブチリル基等が包含され、「低級アルコ
キシカルボニル基」としては例えば、メトキシカルボニ
ル、エトキシカルボニル基等が挙げられ、また「低級ア
ルキルスルホニル基」としては、例えばメタンスルホニ
ル、エタンスルホニル基等が挙げられる。
トキシ、エトキシ、iso−プロポキシ基等が挙げられ、
「低級アルキルカルボニル基」には例えば、アセチル、
プロピオニル、ブチリル基等が包含され、「低級アルコ
キシカルボニル基」としては例えば、メトキシカルボニ
ル、エトキシカルボニル基等が挙げられ、また「低級ア
ルキルスルホニル基」としては、例えばメタンスルホニ
ル、エタンスルホニル基等が挙げられる。
さらに「ハロゲン原子」には、フッ素、塩素及び臭素
原子が包含される。
原子が包含される。
本発明により提供される前記式(I)の化合物の代表
例を示せば次のとおりである。
例を示せば次のとおりである。
2,6−ジ−t−ブチル−4−[アミノ(フエニル)メ
チレン]−2,5−シクロヘキサジエン−1−オン、 2,6−ジ−t−ブチル−4−[アミノ(4−クロロフ
エニル)メチレン]−2,5−シクロヘキサジエン−1−
オン、 2,6−ジ−t−ブチル−4−[アミノ(4−ブロモフ
エニル)メチレン]−2,5−シクロヘキサジエン−1−
オン、 2,6−ジ−t−ブチル−4−[アミノ(2,4−ジフルオ
ロフエニル)メチレン]−2,5−シクロヘキサジエン−
1−オン、 2,6−ジ−t−ブチル−4−[アミノ(3−メチルフ
エニル)メチレン]−2,5−シクロヘキサジエン−1−
オン、 2,6−ジ−t−ブチル−4−[アミノ(2−メトキシ
フエニル)メチレン]−2,5−シクロヘキサジエン−1
−オン、 2,6−ジ−t−ブチル−4−[アミノ(4−メトキシ
フエニル)メチレン]−2,5−シクロヘキサジエン−1
−オン、 2,6−ジ−t−ブチル−4−[アミノ(3,4−ジメトキ
シフエニル)メチレン]−2,5−シクロヘキサジエン−
1−オン、 2,6−ジ−t−ブチル−4−[アミノ(4−イソプロ
ポキシフエニル)メチレン]−2,5−シクロヘキサジエ
ン−1−オン、 2,6−ジ−t−ブチル−4−[アミノ(4−ヒドロキ
シフエニル)メチレン]−2,5−シクロヘキサジエン−
1−オン、 2,6−ジ−t−ブチル−4−[アミノ(4−ニトロフ
エニル)メチレン]−2,5−シクロヘキサジエン−1−
オン、 2,6−ジ−t−ブチル−4−[アミノ(2−アミノフ
エニル)メチレン]−2,5−シクロヘキサジエン−1−
オン、 2,6−ジ−t−ブチル−4−[アミノ(4−シアノフ
エニル)メチレン]−2,5−シクロヘキサジエン−1−
オン、 2,6−ジ−t−ブチル−4−[メチルアミノ(フエニ
ル)メチレン]−2,5−シクロヘキサジエン−1−オ
ン、 2,6−ジ−t−ブチル−4−[ホルミルアミノ(フエ
ニル)メチレン]−2,5−シクロヘキサジエン−1−オ
ン、 2,6−ジ−t−ブチル−4−[アセチルアミノ(フエ
ニル)メチレン]−2,5−シクロヘキサジエン−1−オ
ン、 2,6−ジ−t−ブチル−4−[エトキシカルボニルア
ミノ(フエニル)メチレン]−2,5−シクロヘキサジエ
ン−1−オン、 2,6−ジ−t−ブチル−4−[メタンスルホニルアミ
ノ(フエニル)メチレン]−2,5−シクロヘキサジエン
−1−オン、 2,6−ジ−t−ブチル−4−[メチルアミノ(4−フ
ルオロフエニル)メチレン]−2,5−シクロヘキサジエ
ン−1−オン、 2,6−ジ−t−ブチル−4−[エトキシカルボニルア
ミノ(4−クロロフエニル)メチレン]−2,5−シクロ
ヘキサジエン−1−オン、 2,6−ジ−t−ブチル−4−[メチルアミノ(4−メ
チルフエニル)メチレン]−2,5−シクロヘキサジエン
−1−オン、 2,6−ジ−t−ブチル−4−[ホルミルアミノ(2−
メチルフエニル)メチレン]−2,5−シクロヘキサジエ
ン−1−オン、 2,6−ジ−t−ブチル−4−[エチルアミノ(2−ジ
メチルフエニル)メチレン]−2,5−シクロヘキサジエ
ン−1−オン、 2,6−ジ−t−ブチル−4−[ホルミルアミノ(2−
メトキシフエニル)メチレン]−2,5−シクロヘキサジ
エン−1−オン、 2,6−ジ−t−ブチル−4−[メチルアミノ(2,4−ジ
メトキシフエニル)メチレン]−2,5−シクロヘキサジ
エン−1−オン、 2,6−ジ−t−ブチル−4−[エトキシカルボニルア
ミノ(3,4−ジメトキシフエニル)メチレン]−2,5−シ
クロヘキサジエン−1−オン、 2,6−ジ−t−ブチル−4−[アセチルアミノ(2−
ヒドロキシフエニル)メチレン]−2,5−シクロヘキサ
ジエン−1−オン、 2,6−ジ−t−ブチル−4−[メタンスルホニルアミ
ノ(2−ニトロフエニル)メチレン]−2,5−シクロヘ
キサジエン−1−オン、 2,6−ジ−t−ブチル−4−[メチルアミノ(4−ア
ミノフエニル)メチレン]−2,5−シクロヘキサジエン
−1−オン、 2,6−ジ−t−ブチル−4−[ホルミルアミノ(4−
シアノフエニル)メチレン]−2,5−シクロヘキサジエ
ン−1−オン。
チレン]−2,5−シクロヘキサジエン−1−オン、 2,6−ジ−t−ブチル−4−[アミノ(4−クロロフ
エニル)メチレン]−2,5−シクロヘキサジエン−1−
オン、 2,6−ジ−t−ブチル−4−[アミノ(4−ブロモフ
エニル)メチレン]−2,5−シクロヘキサジエン−1−
オン、 2,6−ジ−t−ブチル−4−[アミノ(2,4−ジフルオ
ロフエニル)メチレン]−2,5−シクロヘキサジエン−
1−オン、 2,6−ジ−t−ブチル−4−[アミノ(3−メチルフ
エニル)メチレン]−2,5−シクロヘキサジエン−1−
オン、 2,6−ジ−t−ブチル−4−[アミノ(2−メトキシ
フエニル)メチレン]−2,5−シクロヘキサジエン−1
−オン、 2,6−ジ−t−ブチル−4−[アミノ(4−メトキシ
フエニル)メチレン]−2,5−シクロヘキサジエン−1
−オン、 2,6−ジ−t−ブチル−4−[アミノ(3,4−ジメトキ
シフエニル)メチレン]−2,5−シクロヘキサジエン−
1−オン、 2,6−ジ−t−ブチル−4−[アミノ(4−イソプロ
ポキシフエニル)メチレン]−2,5−シクロヘキサジエ
ン−1−オン、 2,6−ジ−t−ブチル−4−[アミノ(4−ヒドロキ
シフエニル)メチレン]−2,5−シクロヘキサジエン−
1−オン、 2,6−ジ−t−ブチル−4−[アミノ(4−ニトロフ
エニル)メチレン]−2,5−シクロヘキサジエン−1−
オン、 2,6−ジ−t−ブチル−4−[アミノ(2−アミノフ
エニル)メチレン]−2,5−シクロヘキサジエン−1−
オン、 2,6−ジ−t−ブチル−4−[アミノ(4−シアノフ
エニル)メチレン]−2,5−シクロヘキサジエン−1−
オン、 2,6−ジ−t−ブチル−4−[メチルアミノ(フエニ
ル)メチレン]−2,5−シクロヘキサジエン−1−オ
ン、 2,6−ジ−t−ブチル−4−[ホルミルアミノ(フエ
ニル)メチレン]−2,5−シクロヘキサジエン−1−オ
ン、 2,6−ジ−t−ブチル−4−[アセチルアミノ(フエ
ニル)メチレン]−2,5−シクロヘキサジエン−1−オ
ン、 2,6−ジ−t−ブチル−4−[エトキシカルボニルア
ミノ(フエニル)メチレン]−2,5−シクロヘキサジエ
ン−1−オン、 2,6−ジ−t−ブチル−4−[メタンスルホニルアミ
ノ(フエニル)メチレン]−2,5−シクロヘキサジエン
−1−オン、 2,6−ジ−t−ブチル−4−[メチルアミノ(4−フ
ルオロフエニル)メチレン]−2,5−シクロヘキサジエ
ン−1−オン、 2,6−ジ−t−ブチル−4−[エトキシカルボニルア
ミノ(4−クロロフエニル)メチレン]−2,5−シクロ
ヘキサジエン−1−オン、 2,6−ジ−t−ブチル−4−[メチルアミノ(4−メ
チルフエニル)メチレン]−2,5−シクロヘキサジエン
−1−オン、 2,6−ジ−t−ブチル−4−[ホルミルアミノ(2−
メチルフエニル)メチレン]−2,5−シクロヘキサジエ
ン−1−オン、 2,6−ジ−t−ブチル−4−[エチルアミノ(2−ジ
メチルフエニル)メチレン]−2,5−シクロヘキサジエ
ン−1−オン、 2,6−ジ−t−ブチル−4−[ホルミルアミノ(2−
メトキシフエニル)メチレン]−2,5−シクロヘキサジ
エン−1−オン、 2,6−ジ−t−ブチル−4−[メチルアミノ(2,4−ジ
メトキシフエニル)メチレン]−2,5−シクロヘキサジ
エン−1−オン、 2,6−ジ−t−ブチル−4−[エトキシカルボニルア
ミノ(3,4−ジメトキシフエニル)メチレン]−2,5−シ
クロヘキサジエン−1−オン、 2,6−ジ−t−ブチル−4−[アセチルアミノ(2−
ヒドロキシフエニル)メチレン]−2,5−シクロヘキサ
ジエン−1−オン、 2,6−ジ−t−ブチル−4−[メタンスルホニルアミ
ノ(2−ニトロフエニル)メチレン]−2,5−シクロヘ
キサジエン−1−オン、 2,6−ジ−t−ブチル−4−[メチルアミノ(4−ア
ミノフエニル)メチレン]−2,5−シクロヘキサジエン
−1−オン、 2,6−ジ−t−ブチル−4−[ホルミルアミノ(4−
シアノフエニル)メチレン]−2,5−シクロヘキサジエ
ン−1−オン。
上記式(I)の化合物は存在する塩基性アミノ基に基
因して塩の形をとることができ、そのような塩の例に
は、例えば塩酸塩、臭化水素酸塩、硫酸塩、リン酸塩等
の無機酸塩;酢酸塩、プロピオン酸塩、コハク酸塩、マ
ロン酸塩、マレイン酸塩、乳酸塩、酒石酸塩、クエン酸
塩等の有機酸塩が挙げられ、中でも生理学的に許容しう
る塩が好適である。
因して塩の形をとることができ、そのような塩の例に
は、例えば塩酸塩、臭化水素酸塩、硫酸塩、リン酸塩等
の無機酸塩;酢酸塩、プロピオン酸塩、コハク酸塩、マ
ロン酸塩、マレイン酸塩、乳酸塩、酒石酸塩、クエン酸
塩等の有機酸塩が挙げられ、中でも生理学的に許容しう
る塩が好適である。
本発明の式(I)の化合物は、例えば下記反応式Aに
示すルートにより製造することができる。
示すルートにより製造することができる。
上記式中、Halはハロゲン原子を表わし、 R1、R2及びR3は前記の意味を有する。
上記反応式Aにおいて、式(II)のベンゾフエノン誘
導体は、先ず強塩基で処理し、次いでハロゲン化剤で処
理することにより、式(III)のシクロヘキサジエノン
誘導体に変えることができる。
導体は、先ず強塩基で処理し、次いでハロゲン化剤で処
理することにより、式(III)のシクロヘキサジエノン
誘導体に変えることができる。
強塩基による処理は、通常適当な不活性溶媒中、例え
ばテトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタ
ン、ジイソプロピルエーテル等のエーテル類;ベンゼ
ン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類等の中
で、約0℃乃至反応混合物の還流温度、好ましくは室温
乃至反応混合物の還流温度において、式(II)の化合物
を強塩基、例えば水素化ナトリウム、ナトリウムアミ
ド、ナトリウムメトキシド、水素化カリウム、n−ブチ
ルリチウムと反応させることにより行なうことができ
る。
ばテトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタ
ン、ジイソプロピルエーテル等のエーテル類;ベンゼ
ン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類等の中
で、約0℃乃至反応混合物の還流温度、好ましくは室温
乃至反応混合物の還流温度において、式(II)の化合物
を強塩基、例えば水素化ナトリウム、ナトリウムアミ
ド、ナトリウムメトキシド、水素化カリウム、n−ブチ
ルリチウムと反応させることにより行なうことができ
る。
式(II)の化合物に対する強塩基の使用割合は、特に
制限されるものではないが、一般に式(II)の化合物1
モルに対して少なくとも1モル、好ましくは1.2〜5モ
ル程度の範囲内で用いるのが適当である。
制限されるものではないが、一般に式(II)の化合物1
モルに対して少なくとも1モル、好ましくは1.2〜5モ
ル程度の範囲内で用いるのが適当である。
続くハロゲン化剤による処理は、強塩基を反応させた
溶液にホスゲン又はその二量体若しくは三量体、塩化オ
キサリル等のハロゲン化剤を反応させることにより行な
うことができる。反応温度は、通常0℃乃至反応混合物
の還流温度、好ましくは室温乃至反応混合物の還流温度
が適している。ハロゲン化剤の使用割合は、一般には式
(II)の化合物1モルに対して少なくとも1モル、好ま
しくは1〜1.1モル程度の範囲内で用いるのが有利であ
る。
溶液にホスゲン又はその二量体若しくは三量体、塩化オ
キサリル等のハロゲン化剤を反応させることにより行な
うことができる。反応温度は、通常0℃乃至反応混合物
の還流温度、好ましくは室温乃至反応混合物の還流温度
が適している。ハロゲン化剤の使用割合は、一般には式
(II)の化合物1モルに対して少なくとも1モル、好ま
しくは1〜1.1モル程度の範囲内で用いるのが有利であ
る。
かくして、前記式(III)の化合物が生成し、この化
合物は通常精製することなく、式NH2‐R1で示されるア
ンモニア又はアミンと反応させることにより、本発明の
目的とする前記式(I)のシクロヘキサジエノン誘導体
に導くことができる。
合物は通常精製することなく、式NH2‐R1で示されるア
ンモニア又はアミンと反応させることにより、本発明の
目的とする前記式(I)のシクロヘキサジエノン誘導体
に導くことができる。
式(III)の化合物と式NH2‐R1のアンモニア又はア
ミンとの反応は、一般に、前記式(II)の化合物の強塩
基による処理において述べた如き溶媒中で、塩基例えば
炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、トリエチルアミン、ピ
リジン等の存在下に、又は溶媒としてピリジン、ピコリ
ン、トリエチルアミン、ジメチルアニリン等の有機塩基
類を用いて行なうことができる。
ミンとの反応は、一般に、前記式(II)の化合物の強塩
基による処理において述べた如き溶媒中で、塩基例えば
炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、トリエチルアミン、ピ
リジン等の存在下に、又は溶媒としてピリジン、ピコリ
ン、トリエチルアミン、ジメチルアニリン等の有機塩基
類を用いて行なうことができる。
反応温度は、通常0℃乃至反応混合物の還流温度好ま
しくは室温乃至100℃の温度範囲が適当である。式(II
I)の化合物に対する式NH2‐R1のアンモニア又はアミ
ンの使用割合は、一般には式(III)の化合物1モルに
対して少なくとも1モル、好ましくは1.5〜5モル程度
の範囲内で用いるのが好適である。なお、式NH2‐R1の
化合物は過剰量用いることにより、本反応における上記
した塩基の割合をも果させることができる。
しくは室温乃至100℃の温度範囲が適当である。式(II
I)の化合物に対する式NH2‐R1のアンモニア又はアミ
ンの使用割合は、一般には式(III)の化合物1モルに
対して少なくとも1モル、好ましくは1.5〜5モル程度
の範囲内で用いるのが好適である。なお、式NH2‐R1の
化合物は過剰量用いることにより、本反応における上記
した塩基の割合をも果させることができる。
これにより、本発明の式(I)の化合物を得ることが
できる。
できる。
前記式(I)の化合物においてR1が水素原子を表わ
す場合の化合物、すなわち下記式 式中、R2及びR3は前記の意味を有する、 の化合物は、前記式(II)の化合物をヒドロキシルアミ
ン又はその塩と反応させ、得られる式 式中、R2及びR3は前記の意味を有する、 のジフエニルメチルイミン誘導体を亜鉛末−酢酸で処理
することにより製造することができる。
す場合の化合物、すなわち下記式 式中、R2及びR3は前記の意味を有する、 の化合物は、前記式(II)の化合物をヒドロキシルアミ
ン又はその塩と反応させ、得られる式 式中、R2及びR3は前記の意味を有する、 のジフエニルメチルイミン誘導体を亜鉛末−酢酸で処理
することにより製造することができる。
式(II)のベンゾフエノン誘導体とヒドロキシルアミ
ン又はその塩との反応は、それ自体既知の方法、例えば
特開昭62-84051号公報に記載されている方法に従って行
なうことができる。
ン又はその塩との反応は、それ自体既知の方法、例えば
特開昭62-84051号公報に記載されている方法に従って行
なうことができる。
得られる式(IV)のジフエニルメチルイミン誘導体の
亜鉛末−酢酸による処理は、通常0℃乃至60℃の温度範
囲で両者を反応させることにより行なうことができる。
亜鉛末−酢酸による処理は、通常0℃乃至60℃の温度範
囲で両者を反応させることにより行なうことができる。
以上述べた2つの方法において出発原料として用いら
れる前記式(II)のベンゾフエノン誘導体は、大部分は
公知の化合物であるが、新規な化合物であっても、例え
ば、アメリカ特許第4165383号明細書に記載されている
方法に従って、置換ベンゾイルクロリドと2,6−ジ−t
−ブチルフエノールとを反応させることにより容易に製
造することができる。
れる前記式(II)のベンゾフエノン誘導体は、大部分は
公知の化合物であるが、新規な化合物であっても、例え
ば、アメリカ特許第4165383号明細書に記載されている
方法に従って、置換ベンゾイルクロリドと2,6−ジ−t
−ブチルフエノールとを反応させることにより容易に製
造することができる。
かくして得られる式(I)の化合物はそれ自体公知の
方法に従い、例えば抽出、濾過、蒸留、再結晶、カラム
クロマトグラフイー、薄層クロマトグラフイー等の方法
により反応混合物から分離し及び/又は精製することが
できる。
方法に従い、例えば抽出、濾過、蒸留、再結晶、カラム
クロマトグラフイー、薄層クロマトグラフイー等の方法
により反応混合物から分離し及び/又は精製することが
できる。
上記の如くして得られる式(I)の化合物において、
R2及び/又はR3が水素原子である場合には、該水素原
子を通常の芳香環のニトロ化法に従い[例えばジヤーナ
ル・オブ・オーガニツク・ケミストリー(J.Org.Che
m.)、31巻65-69頁(1966年)参照]、例えば、濃硫酸
中で硝酸カリウムと反応させることによりニトロ基と置
換することができ、また、R2及び/又はR3がニトロ基
である場合には、常法に従い[例えば、オーガニツク・
シンセシス・コレクテイブ・ボリウムI(Org.Synth.Co
ll.I)、240-241頁(1948年)参照]該ニトロ基を接触
還元することによりアミノ基に変えることができ、さら
に、R2及び/又はR3が臭素原子である場合には、該臭
素原子はそれ自体既知の反応を用いて[例えばテトラヘ
ドロン(Tetrahedron)、23巻3823-3827頁(1967年)参
照]、シアン化銅(I)で処理することによりシアノ基
に変えることができる。
R2及び/又はR3が水素原子である場合には、該水素原
子を通常の芳香環のニトロ化法に従い[例えばジヤーナ
ル・オブ・オーガニツク・ケミストリー(J.Org.Che
m.)、31巻65-69頁(1966年)参照]、例えば、濃硫酸
中で硝酸カリウムと反応させることによりニトロ基と置
換することができ、また、R2及び/又はR3がニトロ基
である場合には、常法に従い[例えば、オーガニツク・
シンセシス・コレクテイブ・ボリウムI(Org.Synth.Co
ll.I)、240-241頁(1948年)参照]該ニトロ基を接触
還元することによりアミノ基に変えることができ、さら
に、R2及び/又はR3が臭素原子である場合には、該臭
素原子はそれ自体既知の反応を用いて[例えばテトラヘ
ドロン(Tetrahedron)、23巻3823-3827頁(1967年)参
照]、シアン化銅(I)で処理することによりシアノ基
に変えることができる。
R2及び/又はR3が低級アルコキシ基を表わす場合の
式(I)の化合物は、例えば、通常溶媒の不在下で、或
いは適当な溶媒、例えばテトラリン、キシリン等の中
で、ピリジウムハライド(例えば塩化ピリジニウム)や
ハロゲン化水素酸(例えば塩化水素酸、臭化水素酸)等
と共に加熱下、例えば約150乃至200℃の温度で処理する
ことにより、該低級アルコキシ基をヒドロキシル基に変
えることができる。
式(I)の化合物は、例えば、通常溶媒の不在下で、或
いは適当な溶媒、例えばテトラリン、キシリン等の中
で、ピリジウムハライド(例えば塩化ピリジニウム)や
ハロゲン化水素酸(例えば塩化水素酸、臭化水素酸)等
と共に加熱下、例えば約150乃至200℃の温度で処理する
ことにより、該低級アルコキシ基をヒドロキシル基に変
えることができる。
以上に説明した本発明により提供される前記式(I)
のシクロヘキサジエノン誘導体は、前述したとおり、強
力な抗炎症作用に加えてリポキシゲナーゼ及び/又はシ
クロオキシゲナーゼ阻害作用をも有しており、しかも、
消化器障害誘発作用は極めて微弱であるので、新しい型
の抗炎症、鎮痛、抗リウマチ剤として特に有用である。
また、本発明の化合物は、抗喘息、抗アレルギー、免疫
調整等の多様な薬理作用が期待され、抗炎症剤、鎮痛
剤、抗リウマチ剤の他、抗喘息剤、抗アレルギー剤、免
疫調整剤、皮膚乾癬症治療剤等としての用途も期待され
る。
のシクロヘキサジエノン誘導体は、前述したとおり、強
力な抗炎症作用に加えてリポキシゲナーゼ及び/又はシ
クロオキシゲナーゼ阻害作用をも有しており、しかも、
消化器障害誘発作用は極めて微弱であるので、新しい型
の抗炎症、鎮痛、抗リウマチ剤として特に有用である。
また、本発明の化合物は、抗喘息、抗アレルギー、免疫
調整等の多様な薬理作用が期待され、抗炎症剤、鎮痛
剤、抗リウマチ剤の他、抗喘息剤、抗アレルギー剤、免
疫調整剤、皮膚乾癬症治療剤等としての用途も期待され
る。
本発明の式(I)の化合物の優れた薬理作用は、以下
の実験により確認することができる。
の実験により確認することができる。
(1) 抗炎症作用 24時間絶食した体重120〜150gのウイスター(Wista
r)系雄性ラットを一群5匹として用い、各群の右足容
積を容量差計[ウゴ・バジレ(Ugo Basile)社製]によ
り測定した後、被検薬を溶媒(0.5%カルボキシメチル
セルロース及び2.0%ツイン80を溶解した水溶液)に分
散させた懸濁液又は溶解した溶液を経口投与した。被検
薬経口投与の1時間後に右足蹠皮下に、注射用蒸留水に
1%の濃度で溶解したカラゲニン溶液を注射した。それ
から更に3時間後に再び右足容積を測定した。各群の個
々の右足の増加容積(浮腫容積)を求め、溶媒投与対照
群(この群は10匹用いた)の平均増加容積に対する被検
薬投与群の浮腫抑制率を下記式により算出し、各群の平
均を求めた。
r)系雄性ラットを一群5匹として用い、各群の右足容
積を容量差計[ウゴ・バジレ(Ugo Basile)社製]によ
り測定した後、被検薬を溶媒(0.5%カルボキシメチル
セルロース及び2.0%ツイン80を溶解した水溶液)に分
散させた懸濁液又は溶解した溶液を経口投与した。被検
薬経口投与の1時間後に右足蹠皮下に、注射用蒸留水に
1%の濃度で溶解したカラゲニン溶液を注射した。それ
から更に3時間後に再び右足容積を測定した。各群の個
々の右足の増加容積(浮腫容積)を求め、溶媒投与対照
群(この群は10匹用いた)の平均増加容積に対する被検
薬投与群の浮腫抑制率を下記式により算出し、各群の平
均を求めた。
各化合物の浮腫抑制率を下記表1に示す。
(2) リポキシゲナーゼ及びシクロオキシゲナーゼ阻
害作用 5−リポキシゲナーゼ及びシクロオキシゲナーゼ活性
に対する本発明化合物の抑制作用を、シーゲル(Siege
l)らの方法[プロスタグランジンズ(Prostaglandin
s)、21巻、123頁(1981年)]に従って測定した。
害作用 5−リポキシゲナーゼ及びシクロオキシゲナーゼ活性
に対する本発明化合物の抑制作用を、シーゲル(Siege
l)らの方法[プロスタグランジンズ(Prostaglandin
s)、21巻、123頁(1981年)]に従って測定した。
すなわち、カラゲニン胸膜炎を誘発したラットの胸腔
から採取した浸出液中の白血球を、100mM塩化ナトリウ
ムを含有する50mMトリス塩酸緩衝液(pH7.4)に懸濁し
た。この白血球懸濁液の一定量を、被検薬、14Cアラキ
ドン酸、カルシウムイオノフオア(A23187)及び1mM塩
化カルシウムと2分間インキユベーシヨンし、その際生
成する14Cアラキドン酸代謝物を薄層クロマトグラフイ
ー(シリカゲル、プラスチック板、展開溶媒;ヘキサ
ン:ジエチルエーテル:酢酸=40:60:2)により分画し
た。薄層板をX線フイルムに露光させた後、標準品との
比較により、各アラキドン酸代謝物画分を同定し、各対
応画分及びその他の放射能活性画分を採取した。そし
て、液体シンチレーシヨン・カウンターにより各画分の
放射能活性を測定し、全放射能に対する各画分の放射能
の百分率を求めた(生成率)。
から採取した浸出液中の白血球を、100mM塩化ナトリウ
ムを含有する50mMトリス塩酸緩衝液(pH7.4)に懸濁し
た。この白血球懸濁液の一定量を、被検薬、14Cアラキ
ドン酸、カルシウムイオノフオア(A23187)及び1mM塩
化カルシウムと2分間インキユベーシヨンし、その際生
成する14Cアラキドン酸代謝物を薄層クロマトグラフイ
ー(シリカゲル、プラスチック板、展開溶媒;ヘキサ
ン:ジエチルエーテル:酢酸=40:60:2)により分画し
た。薄層板をX線フイルムに露光させた後、標準品との
比較により、各アラキドン酸代謝物画分を同定し、各対
応画分及びその他の放射能活性画分を採取した。そし
て、液体シンチレーシヨン・カウンターにより各画分の
放射能活性を測定し、全放射能に対する各画分の放射能
の百分率を求めた(生成率)。
この生成物を指標として各画分の合成能に対する被検
薬の阻害率を求めた。
薬の阻害率を求めた。
5−リポキシゲナーゼ活性は、5S−ヒドロキシ−6,8,
11,14−エイコサテトラエン酸(5−HETE)及び5S,12R
−ジヒドロキシ−6,8,10,14−エイコサテトラエン酸
(5,12−diHETE)の生成を指標とし、シクロオキシゲナ
ーゼ活性は、12−ヒドロキシヘプタデカトリエン酸(HH
T)の生成を指標とした。
11,14−エイコサテトラエン酸(5−HETE)及び5S,12R
−ジヒドロキシ−6,8,10,14−エイコサテトラエン酸
(5,12−diHETE)の生成を指標とし、シクロオキシゲナ
ーゼ活性は、12−ヒドロキシヘプタデカトリエン酸(HH
T)の生成を指標とした。
また、被検薬はすべて10%ジメチルスルホキシド溶液
に溶解して用いた。なお、アッセイ系でのジメチルスル
ホキシドの最終濃度は2.5%となる。この結果、本発明
の実施例1の化合物は18.0及び17.4μMの濃度で5−HE
TE及び5,12−diHETEの生成を50%抑制し、また、10μM
以下の濃度でHHTの生成を50%抑制した。また、本発明
の実施例8の化合物は15.9μMの濃度で5−HETE及び5,
12−diHETEの生成を50%抑制し、10μMの濃度以下でHH
Tの生成を50%抑制した。
に溶解して用いた。なお、アッセイ系でのジメチルスル
ホキシドの最終濃度は2.5%となる。この結果、本発明
の実施例1の化合物は18.0及び17.4μMの濃度で5−HE
TE及び5,12−diHETEの生成を50%抑制し、また、10μM
以下の濃度でHHTの生成を50%抑制した。また、本発明
の実施例8の化合物は15.9μMの濃度で5−HETE及び5,
12−diHETEの生成を50%抑制し、10μMの濃度以下でHH
Tの生成を50%抑制した。
かくして、本発明の式(I)の化合物は、抗炎症、鎮
痛、抗リウマチ剤等として人間その他の温血動物に対
し、経口投与、非経口投与(例えば筋注、静注、皮下投
与、直腸投与など)又は局所投与することができる。
痛、抗リウマチ剤等として人間その他の温血動物に対
し、経口投与、非経口投与(例えば筋注、静注、皮下投
与、直腸投与など)又は局所投与することができる。
本発明の化合物は、薬剤として用いる場合、経口、非
経口投与又は局所投与に適した種々の形態に製剤するこ
とができる。例えば、本発明の化合物はこの種薬剤に通
常使用される無毒性の賦形剤、結合剤、滑沢剤、崩壊
剤、防腐剤、等張化剤、安定化剤、分散剤、酸化防止
剤、着色剤、香味剤、緩衝剤、噴射剤、界面活性剤等の
添加物を使用して製剤することができる。
経口投与又は局所投与に適した種々の形態に製剤するこ
とができる。例えば、本発明の化合物はこの種薬剤に通
常使用される無毒性の賦形剤、結合剤、滑沢剤、崩壊
剤、防腐剤、等張化剤、安定化剤、分散剤、酸化防止
剤、着色剤、香味剤、緩衝剤、噴射剤、界面活性剤等の
添加物を使用して製剤することができる。
かかる薬剤は、その用途に応じて、錠剤、カプセル
剤、顆粒剤、散剤、細粒剤、丸剤、トローチ錠、坐剤、
軟膏、貼布剤、注射剤、シロップ剤、エアゾール剤等の
いずれかの製剤形態に調製することができる。しかし
て、使用し得る無毒性の上記添加物としては、例えばで
ん粉、ゼラチン、ブドウ糖、乳糖、果糖、マルトース、
炭酸マグネシウム、タルク、ステアリン酸マグネシウ
ム、メチルセルロース、カルボキシメチルセルロースま
たはその塩、アラビアゴム、ポリエチレングリコール、
p−ヒドロキシ安息香酸アルキルエステル、シロップ、
エタノール、プロピレングリコール、ワセリン、カーボ
ワックス、グリセリン、塩化ナトリウム、亜硫酸ソー
ダ、リン酸ナトリウム、クエン酸、ジクロロジフルオロ
メタン、1,2−ジクロロテトラフルオロエタン、ソルビ
タントリオレエート等が挙げられる。該薬剤はまた、治
療学的に有用な他の薬剤を含有することもできる。
剤、顆粒剤、散剤、細粒剤、丸剤、トローチ錠、坐剤、
軟膏、貼布剤、注射剤、シロップ剤、エアゾール剤等の
いずれかの製剤形態に調製することができる。しかし
て、使用し得る無毒性の上記添加物としては、例えばで
ん粉、ゼラチン、ブドウ糖、乳糖、果糖、マルトース、
炭酸マグネシウム、タルク、ステアリン酸マグネシウ
ム、メチルセルロース、カルボキシメチルセルロースま
たはその塩、アラビアゴム、ポリエチレングリコール、
p−ヒドロキシ安息香酸アルキルエステル、シロップ、
エタノール、プロピレングリコール、ワセリン、カーボ
ワックス、グリセリン、塩化ナトリウム、亜硫酸ソー
ダ、リン酸ナトリウム、クエン酸、ジクロロジフルオロ
メタン、1,2−ジクロロテトラフルオロエタン、ソルビ
タントリオレエート等が挙げられる。該薬剤はまた、治
療学的に有用な他の薬剤を含有することもできる。
本発明の化合物の投与量は、対象とする人間をはじめ
とする温血動物の種類、投与経路、症状の軽重、医者の
診断等により、広範に変えることができるが、一般に1
日当り、0.1〜50mg/kg、好適には0.2〜20mg/kgとするこ
とができる。しかし、上記の如く患者の症状の軽重、医
者の診断に応じて、上記範囲の下限よりも少ない量又は
上限よりも多い量を投与することはもちろん可能であ
る。上記投与量は1日1回又は数回に分けて投与するこ
とができる。
とする温血動物の種類、投与経路、症状の軽重、医者の
診断等により、広範に変えることができるが、一般に1
日当り、0.1〜50mg/kg、好適には0.2〜20mg/kgとするこ
とができる。しかし、上記の如く患者の症状の軽重、医
者の診断に応じて、上記範囲の下限よりも少ない量又は
上限よりも多い量を投与することはもちろん可能であ
る。上記投与量は1日1回又は数回に分けて投与するこ
とができる。
以下実施例により本発明をさらに説明する。
実施例1 (a) 60%水素化ナトリウム800mgのテトラヒドロフ
ラン20ml懸濁液に3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキ
シベンゾフエノン3.1gのテトラヒドロフラン50ml溶液を
滴加し、1時間加熱還流する。その後室温にもどし、ホ
スゲン二量体2mlを滴加し、2時間加熱還流する。反応
液に氷を加え溶媒に留去する。得られた残渣を塩化エチ
レンで抽出し、水洗後硫酸マグネシウムにて乾燥する。
溶媒を留去して、粗製の2,6−ジ−t−ブチル−4−
[クロロ(フエニル)メチレン]−2,5−シクロヘキサ
ジエン−1−オンを得た。
ラン20ml懸濁液に3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキ
シベンゾフエノン3.1gのテトラヒドロフラン50ml溶液を
滴加し、1時間加熱還流する。その後室温にもどし、ホ
スゲン二量体2mlを滴加し、2時間加熱還流する。反応
液に氷を加え溶媒に留去する。得られた残渣を塩化エチ
レンで抽出し、水洗後硫酸マグネシウムにて乾燥する。
溶媒を留去して、粗製の2,6−ジ−t−ブチル−4−
[クロロ(フエニル)メチレン]−2,5−シクロヘキサ
ジエン−1−オンを得た。
(b) 上記(a)工程で得られた粗製の2,6−ジ−t
−ブチル−4−[クロロ(フエニル)メチレン]−2,5
−シクロヘキサジエン−1−オンをピリジン20mlに溶解
し、アンモニアガスを導入した後、60℃にて2日間撹拌
する。反応液を氷水に注ぎエーテル抽出した後、有機層
を水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留去
し、得られた残渣を常法により塩酸塩にした後メタノー
ル−酢酸エチルにて再結晶して、2,6−ジ−t−ブチル
−4−[アミノ(フエニル)メチレン]−2,5−シクロ
ヘキサジエン−1−オン塩酸塩850mgを得た。
−ブチル−4−[クロロ(フエニル)メチレン]−2,5
−シクロヘキサジエン−1−オンをピリジン20mlに溶解
し、アンモニアガスを導入した後、60℃にて2日間撹拌
する。反応液を氷水に注ぎエーテル抽出した後、有機層
を水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留去
し、得られた残渣を常法により塩酸塩にした後メタノー
ル−酢酸エチルにて再結晶して、2,6−ジ−t−ブチル
−4−[アミノ(フエニル)メチレン]−2,5−シクロ
ヘキサジエン−1−オン塩酸塩850mgを得た。
実施例2 実施例1の(a)工程で得られた粗製の2,6−ジ−t
−ブチル−4−[クロロ(フエニル)メチレン]−2,5
−シクロヘキサジエン−1−オンをピリジン20mlに溶解
し、40%メチルアミン溶液2mlを滴加した後、室温にて
1時間撹拌する。反応液を氷水に注ぎエーテル抽出した
後、有機層を水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶
媒を留去し、得られた残渣を常法により塩酸塩にした後
n−ヘキサンにて再結晶して、2,6−ジ−t−ブチル−
4−[メチルアミノ(フエニル)メチレン]−2,5−シ
クロヘキサジエン−1−オン塩酸塩1.5gを得た。
−ブチル−4−[クロロ(フエニル)メチレン]−2,5
−シクロヘキサジエン−1−オンをピリジン20mlに溶解
し、40%メチルアミン溶液2mlを滴加した後、室温にて
1時間撹拌する。反応液を氷水に注ぎエーテル抽出した
後、有機層を水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶
媒を留去し、得られた残渣を常法により塩酸塩にした後
n−ヘキサンにて再結晶して、2,6−ジ−t−ブチル−
4−[メチルアミノ(フエニル)メチレン]−2,5−シ
クロヘキサジエン−1−オン塩酸塩1.5gを得た。
実施例3 実施例2において、2,6−ジ−t−ブチル−4−[ク
ロロ(フエニル)メチレン]−2,5−シクロヘキサジエ
ン−1−オンの代りに2,6−ジ−t−ブチル−4−[ク
ロロ(4−メトキシフエニル)メチレン]−2,5−ジク
ロヘキサジエン−1−オンを用いて同様に操作して、2,
6−ジ−t−ブチル−4−[メチルアミノ(4−メトキ
シフエニル)メチレン−2,5−シクロヘキサジエン−1
−オン塩酸塩を得た。
ロロ(フエニル)メチレン]−2,5−シクロヘキサジエ
ン−1−オンの代りに2,6−ジ−t−ブチル−4−[ク
ロロ(4−メトキシフエニル)メチレン]−2,5−ジク
ロヘキサジエン−1−オンを用いて同様に操作して、2,
6−ジ−t−ブチル−4−[メチルアミノ(4−メトキ
シフエニル)メチレン−2,5−シクロヘキサジエン−1
−オン塩酸塩を得た。
実施例4 実施例2において、2,6−ジ−t−ブチル−4−[ク
ロロ(フエニル)メチレン]−2,5−シクロヘキサジエ
ン−1−オンの代りに2,6−ジ−t−ブチル−4−[ク
ロロ(4−フルオロフエニル)メチレン]−2,5−シク
ロヘキサジエン−1−オンを用いて同様に操作して、2,
6−ジ−t−ブチル−4−[メチルアミノ(4−フルオ
ロフエニル)メチレン−2,5−シクロヘキサジエン−1
−オン塩酸塩を得た。
ロロ(フエニル)メチレン]−2,5−シクロヘキサジエ
ン−1−オンの代りに2,6−ジ−t−ブチル−4−[ク
ロロ(4−フルオロフエニル)メチレン]−2,5−シク
ロヘキサジエン−1−オンを用いて同様に操作して、2,
6−ジ−t−ブチル−4−[メチルアミノ(4−フルオ
ロフエニル)メチレン−2,5−シクロヘキサジエン−1
−オン塩酸塩を得た。
実施例5 実施例2において、2,6−ジ−t−ブチル−4−[ク
ロロ(フエニル)メチレン]−2,5−シクロヘキサジエ
ン−1−オンの代りに2,6−ジ−t−ブチル−4−[ク
ロロ(4−メトキシフエニル)メチレン]−2,5−シク
ロヘキサジエン−1−オンを用いて同様に操作して、2,
6−ジ−t−ブチル−4−[メチルアミノ(4−メトキ
シフエニル)メチレン−2,5−シクロヘキサジエン−1
−オン塩酸塩を得た。
ロロ(フエニル)メチレン]−2,5−シクロヘキサジエ
ン−1−オンの代りに2,6−ジ−t−ブチル−4−[ク
ロロ(4−メトキシフエニル)メチレン]−2,5−シク
ロヘキサジエン−1−オンを用いて同様に操作して、2,
6−ジ−t−ブチル−4−[メチルアミノ(4−メトキ
シフエニル)メチレン−2,5−シクロヘキサジエン−1
−オン塩酸塩を得た。
実施例6 実施例2において、メチルアミンの代りにカルバミン
酸エチルを用いて同様に操作して、2,6−ジ−t−ブチ
ル−4−[エトキシカルボニルアミノ(フエニル)メチ
レン]−2,5−シクロヘキサジエン−1−オンを得た。
酸エチルを用いて同様に操作して、2,6−ジ−t−ブチ
ル−4−[エトキシカルボニルアミノ(フエニル)メチ
レン]−2,5−シクロヘキサジエン−1−オンを得た。
実施例7 (a) (3,5−ジ−t−ブチル−4,4′−ジヒドロキ
シ)ベンゾフエノン2.5g及び塩酸ヒドロキシルアミン0.
8gをピリジン10mlに加熱溶解し、撹拌下3時間還流す
る。反応後ピリジンを留去し、氷水を加え、酢酸エチル
で抽出する。有機層を水洗し、1N塩酸で洗浄後再び水洗
し硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留去後、残渣を
エーテル−ヘキサンより再結晶して、(3,5−ジ−t−
ブチル−4,4′−ジヒドロキシ)ベンゾフエノン オキ
シム2.4gを得た。
シ)ベンゾフエノン2.5g及び塩酸ヒドロキシルアミン0.
8gをピリジン10mlに加熱溶解し、撹拌下3時間還流す
る。反応後ピリジンを留去し、氷水を加え、酢酸エチル
で抽出する。有機層を水洗し、1N塩酸で洗浄後再び水洗
し硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留去後、残渣を
エーテル−ヘキサンより再結晶して、(3,5−ジ−t−
ブチル−4,4′−ジヒドロキシ)ベンゾフエノン オキ
シム2.4gを得た。
(b) (3,5−ジ−t−ブチル−4,4′−ジヒドロキ
シ)ベンゾフエノン オキシム1.0gを酢酸15mlに溶解
し、水冷撹拌下亜鉛末1.0gを徐々に加え、30℃以下に保
ちながら1.5時間撹拌する。反応後、亜鉛を濾去し、濾
液を濃縮後氷水を加え酢酸エチルで抽出する。炭酸水素
ナトリウム水溶液で中和後、水洗し、硫酸マグネシウム
で乾燥する。溶媒を留去後、残渣を酢酸エチルに溶解
し、塩酸−イソプロパノール溶液を加えて塩酸塩にす
る。溶媒を濃縮後、メタノール−酢酸エチルより再結晶
して、2,6−ジ−t−ブチル−4−[アミノ(4−ヒド
ロキシフエニル)メチレン]−2,5−シクロヘキサジエ
ン−1−オン塩酸塩1.0gを得た。
シ)ベンゾフエノン オキシム1.0gを酢酸15mlに溶解
し、水冷撹拌下亜鉛末1.0gを徐々に加え、30℃以下に保
ちながら1.5時間撹拌する。反応後、亜鉛を濾去し、濾
液を濃縮後氷水を加え酢酸エチルで抽出する。炭酸水素
ナトリウム水溶液で中和後、水洗し、硫酸マグネシウム
で乾燥する。溶媒を留去後、残渣を酢酸エチルに溶解
し、塩酸−イソプロパノール溶液を加えて塩酸塩にす
る。溶媒を濃縮後、メタノール−酢酸エチルより再結晶
して、2,6−ジ−t−ブチル−4−[アミノ(4−ヒド
ロキシフエニル)メチレン]−2,5−シクロヘキサジエ
ン−1−オン塩酸塩1.0gを得た。
実施例8 (a) (3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−
4′−メトキシ)ベンゾフエノン及び塩酸ヒドロキシル
アミンを実施例7の(a)工程と同様に処理して、(3,
5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−4′−メトキ
シ)ベンゾフエノン オキシムを得た。
4′−メトキシ)ベンゾフエノン及び塩酸ヒドロキシル
アミンを実施例7の(a)工程と同様に処理して、(3,
5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−4′−メトキ
シ)ベンゾフエノン オキシムを得た。
(b) (3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−
4′−メトキシ)ベンゾフエノン オキシムを実施例7
の(b)工程と同様に亜鉛末−酢酸で処理して、2,6−
ジ−t−ブチル−4−[アミノ(4−メトキシフエニ
ル)メチレン]−2,5−シクロヘキサジエン−1−オン
塩酸塩を得た。
4′−メトキシ)ベンゾフエノン オキシムを実施例7
の(b)工程と同様に亜鉛末−酢酸で処理して、2,6−
ジ−t−ブチル−4−[アミノ(4−メトキシフエニ
ル)メチレン]−2,5−シクロヘキサジエン−1−オン
塩酸塩を得た。
実施例9 (a) 2,4−ジメトキシベンゾイルクロリド16gを乾燥
メチレンクロリド10mlに溶解し、氷冷撹拌下四塩化チタ
ン10mlを加え、続いて2,6−ジ−t−ブチルフエノール1
6.5gをメチレンクロリド40mlに溶解した溶液を滴加し、
室温で30分間撹拌する。反応液を氷水に注ぎ水洗後硫酸
マグネシウムで乾燥する。溶媒を留去後、残渣をメチレ
ンクロリド−イソプロピルエーテルより再結晶して、
(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−2′,4′−
ジメトキシ)ベンゾフエノン16.4gを得た。
メチレンクロリド10mlに溶解し、氷冷撹拌下四塩化チタ
ン10mlを加え、続いて2,6−ジ−t−ブチルフエノール1
6.5gをメチレンクロリド40mlに溶解した溶液を滴加し、
室温で30分間撹拌する。反応液を氷水に注ぎ水洗後硫酸
マグネシウムで乾燥する。溶媒を留去後、残渣をメチレ
ンクロリド−イソプロピルエーテルより再結晶して、
(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−2′,4′−
ジメトキシ)ベンゾフエノン16.4gを得た。
(b) (3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−
2′,4′−ジメトキシ)ベンゾフエノン及び塩酸ヒドロ
キシルアミンを実施例7の(a)工程と同様に処理し
て、(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−3′,
4′−ジメトキシ)ベンゾフエノン オキシムを得た。
2′,4′−ジメトキシ)ベンゾフエノン及び塩酸ヒドロ
キシルアミンを実施例7の(a)工程と同様に処理し
て、(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−3′,
4′−ジメトキシ)ベンゾフエノン オキシムを得た。
(c) (3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−
2′,4′−ジヒドロキシ)ベンゾフエノン オキシムを
実施例7の(b)工程と同様に亜鉛末−酢酸で処理し
て、2,6−ジ−t−ブチル−4−[アミノ(2,4−ジメト
キシフエニル)メチレン]−2,5−シクロヘキサジエン
−1−オン塩酸塩を得た。
2′,4′−ジヒドロキシ)ベンゾフエノン オキシムを
実施例7の(b)工程と同様に亜鉛末−酢酸で処理し
て、2,6−ジ−t−ブチル−4−[アミノ(2,4−ジメト
キシフエニル)メチレン]−2,5−シクロヘキサジエン
−1−オン塩酸塩を得た。
実施例10 (a) 2−メチルベンゾイルクロリド及び2,6−ジ−
t−ブチルフエノールを実施例9の(a)工程と同様に
処理して、(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−
2′−メチル)ベンゾフエノンを得た。
t−ブチルフエノールを実施例9の(a)工程と同様に
処理して、(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−
2′−メチル)ベンゾフエノンを得た。
(b) (3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−
2′−メチル)ベンゾフエノン及び塩酸ヒドロキシルア
ミンを実施例7の(a)工程と同様に処理して、(3,5
−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−2′−メチル)ベ
ンゾフエノン オキシムを得た。
2′−メチル)ベンゾフエノン及び塩酸ヒドロキシルア
ミンを実施例7の(a)工程と同様に処理して、(3,5
−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−2′−メチル)ベ
ンゾフエノン オキシムを得た。
(c) (3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−
2′−メチル)ベンゾフエノン オキシムを実施例7の
(b)工程と同様に亜鉛末−酢酸で処理して、2,6−ジ
−t−ブチル−4−[アミノ(2−メチルフエニル)メ
チレン]−2,5−シクロヘキサジエン−1−オン塩酸塩
を得た。
2′−メチル)ベンゾフエノン オキシムを実施例7の
(b)工程と同様に亜鉛末−酢酸で処理して、2,6−ジ
−t−ブチル−4−[アミノ(2−メチルフエニル)メ
チレン]−2,5−シクロヘキサジエン−1−オン塩酸塩
を得た。
実施例11 (a) 4−メチルベンゾイルクロリド及び2,6−ジ−
t−ブチルフエノールを実施例9の(a)工程と同様に
処理して、(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−
4′−メチル)ベンゾフエノンを得た。
t−ブチルフエノールを実施例9の(a)工程と同様に
処理して、(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−
4′−メチル)ベンゾフエノンを得た。
(b) (3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−
4′−メチル)ベンゾフエノン及び塩酸ヒドロキシルア
ミンを実施例7の(a)工程と同様に処理して、(3,5
−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−4′−メチル)ベ
ンゾフエノン オキシムを得た。
4′−メチル)ベンゾフエノン及び塩酸ヒドロキシルア
ミンを実施例7の(a)工程と同様に処理して、(3,5
−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−4′−メチル)ベ
ンゾフエノン オキシムを得た。
(c) (3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−
4′−メチル)ベンゾフエノン オキシムを実施例7の
(b)工程と同様に亜鉛末−酢酸で処理して、2,6−ジ
−t−ブチル−4−[アミノ(4−メチルフエニル)メ
チレン]−2,5−シクロヘキサジエン−1−オン塩酸塩
を得た。
4′−メチル)ベンゾフエノン オキシムを実施例7の
(b)工程と同様に亜鉛末−酢酸で処理して、2,6−ジ
−t−ブチル−4−[アミノ(4−メチルフエニル)メ
チレン]−2,5−シクロヘキサジエン−1−オン塩酸塩
を得た。
実施例12 (a) 3,4−ジヒドロキシベンゾイルクロリド及び2,6
−ジ−t−ブチルフエノールを実施例9の(a)工程と
同様に処理して、(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロ
キシ−3′,4′−ジメトキシ)ベンゾフエノンを得た。
−ジ−t−ブチルフエノールを実施例9の(a)工程と
同様に処理して、(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロ
キシ−3′,4′−ジメトキシ)ベンゾフエノンを得た。
(b) (3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−
3′,4′−ジメトキシ)ベンゾフエノン及び塩酸ヒドロ
キシルアミンを実施例7の(a)工程と同様に処理し
て、(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−3′,
4′−ジメトキシ)ベンゾフエノン オキシムを得た。
3′,4′−ジメトキシ)ベンゾフエノン及び塩酸ヒドロ
キシルアミンを実施例7の(a)工程と同様に処理し
て、(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−3′,
4′−ジメトキシ)ベンゾフエノン オキシムを得た。
(c) (3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−
3′,4′−ジメトキシ)ベンゾフエノン オキシムを実
施例7の(b)工程と同様に亜鉛末−酢酸で処理して、
2,6−ジ−t−ブチル−4−[アミノ(3,4−ジメトキシ
フエニル)メチレン]−2,5−シクロヘキサジエン−1
−オン塩酸塩を得た。
3′,4′−ジメトキシ)ベンゾフエノン オキシムを実
施例7の(b)工程と同様に亜鉛末−酢酸で処理して、
2,6−ジ−t−ブチル−4−[アミノ(3,4−ジメトキシ
フエニル)メチレン]−2,5−シクロヘキサジエン−1
−オン塩酸塩を得た。
次に本発明の化合物を含有する薬剤の製造例を示す。
製造例A:カプセル剤 処方1−a 50mgカプセル mg/カプセル 活性成分 50 でんぷん 30 乳糖 27.8 ステアリン酸マグネシウム 2.2 110mg 処方1−b 100mgカプセル mg/カプセル 活性成分 100 でんぷん 60 乳糖 55.6 ステアリン酸マグネシウム 4.4 220mg 活性成分をよく粉砕し、でんぷん、乳糖及びステアリ
ン酸マグネシウムをそれに混合し、よくまぜ合せカプセ
ルに充填する。
ン酸マグネシウムをそれに混合し、よくまぜ合せカプセ
ルに充填する。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI // A61K 31/135 ABE A61K 31/135 ABE 31/16 AAH 31/16 AAH 31/27 ABG 31/27 ABG (72)発明者 設楽 一博 東京都稲城市矢野口2232 帝国臓器矢野 口寮 (72)発明者 山本 則夫 神奈川県川崎市多摩区中野島201 (72)発明者 宮坂 克彦 神奈川県厚木市毛利台2―23―9 (72)発明者 見上 崇 神奈川県横浜市緑区すみよし台17―5 (72)発明者 宮澤 克彦 神奈川県川崎市中原区上小田中1198 (72)発明者 小林 基博 神奈川県川崎市高津区新作4―17―14 (72)発明者 萩原 雅文 東京都稲城市矢野口2232 帝国臓器矢野 口寮 (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) C07C 225/18 C07C 233/31 C07C 255/58 C07C 271/10 C07C 311/03 REGISTRY(STN) CA,CAOLD(STN)
Claims (1)
- 【請求項1】式 式中、 R1は水素原子、低級アルキル基、ホルミル基、低級ア
ルキルカルボニル基、低級アルコキシカルボニル基又は
低級アルキルスルホニル基を表わし、 R2及びR3は各々水素原子、ハロゲン原子、低級アルキ
ル基、低級アルコキシ基、水酸基、ニトロ基、アミノ基
又はシアノ基を表わす、 で示される化合物又はその塩。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24632889A JP2758041B2 (ja) | 1989-09-25 | 1989-09-25 | シクロヘキサジエノン誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24632889A JP2758041B2 (ja) | 1989-09-25 | 1989-09-25 | シクロヘキサジエノン誘導体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03109363A JPH03109363A (ja) | 1991-05-09 |
JP2758041B2 true JP2758041B2 (ja) | 1998-05-25 |
Family
ID=17146930
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP24632889A Expired - Fee Related JP2758041B2 (ja) | 1989-09-25 | 1989-09-25 | シクロヘキサジエノン誘導体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2758041B2 (ja) |
-
1989
- 1989-09-25 JP JP24632889A patent/JP2758041B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH03109363A (ja) | 1991-05-09 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |