JP2018536277A - 5重メモリ積層構造体構成を有する3d nandデバイス - Google Patents
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Abstract
【選択図】図5A
Description
本出願は、2015年10月30日出願の米国仮出願第62/248,373号及び2016年6月6日出願の米国仮出願第15/174,030号の優先権の利益を主張するものであり、上記出願の内容全体は、参照により本明細書に組み込まれる。
本明細書で使用する「ピラー段」とは、メモリ積層構造体20のドレイン58と接触する接触ピラーを含む段を指す。本明細書で使用する「ピラー段」要素とは、ピラー段の位置で形成される要素を指す。少なくとも1つのピラー段誘電キャップ層(61、63)は、交互積層体30、メモリ積層構造体20アレイ及びドレイン領域58の全体を覆う少なくとも1つのキャップ層として機能する。少なくとも1つのピラー段誘電キャップ層(61、63)のそれぞれは、ピラー段に存在する誘電材料層である。代替的に、少なくとも1つのピラー段誘電キャップ層(61、63)を省くことができる。
有効メモリ・セルのサイズ=p×q/(R×N)
のように決定され、式中、
pは、第1の水平方向(即ちワード線方向)に沿ったメモリ積層構造体のピッチであり、
qは、隣接壁形バイア構造体176の間の第2の水平方向(即ちビット線方向)におけるメモリ遮断領域の幅であり、
Rは、壁形バイア構造体の隣接対の形状中心の間のメモリ積層構造体の列数であり、
Nは、導電層34によって実装されるワード線の総数である。
以下の項目は、国際出願時の特許請求の範囲に記載の要素である。
(項目1)
基板上に位置する絶縁層及び導電層の交互積層体と、
前記交互積層体を通して延在するメモリ積層構造体であって、第1の水平方向に沿って延在する少なくとも5つの列内に配置されたメモリ積層構造体と、
前記メモリ積層構造体の列と同数で配置され、前記メモリ積層構造体に重畳する接触バイア構造体であって、前記接触バイア構造体のそれぞれは、対応する前記メモリ積層構造体の半導体チャネルに電気的に接続されている、接触バイア構造体と、
対応する前記接触バイア構造体と接触し、前記第1の水平方向とは異なる第2の水平方向に沿って延在し、前記第1の水平方向に沿ったビット線ピッチを有するビット線周期アレイとして配置されたビット線と、
前記交互積層体を通して延在し、前記第1の水平方向に沿って側方に延在する一対の壁形バイア構造体と、
を備え、
前記少なくとも5つの列のメモリ積層構造体は、前記一対の壁形バイア構造体の間に位置する、3次元半導体デバイス。
(項目2)
各接触バイア構造体の形状中心は、前記接触バイア構造体の任意の隣接列における各接触バイア構造体の形状中心から前記ビット線ピッチの少なくとも2倍側方に前記第1の水平方向に沿って偏在する、項目1に記載の3次元半導体デバイス。
(項目3)
同じ列内の前記メモリ積層構造体の各部分セットは、前記第1の水平方向に沿ったメモリ積層構造体ピッチを有する周期1次元アレイとして配置されている、項目2に記載の3次元半導体デバイス。
(項目4)
前記メモリ積層構造体ピッチは、前記ビット線ピッチと、前記一対の壁形バイア構造体の間の前記メモリ積層構造体の列の総数と、の積と同じである、項目3に記載の3次元半導体デバイス。
(項目5)
複数のドレイン領域を更に備え、前記複数のドレイン領域のそれぞれは、対応する前記メモリ積層構造体内の垂直半導体チャネルの上端部と接触し、対応する接触バイア構造体と電気的に短絡している、項目1に記載の3次元半導体デバイス。
(項目6)
複数の接触ピラーを更に備え、前記複数の接触ピラーのそれぞれは、対応する前記ドレイン領域の上表面及び対応する前記接触バイア構造体の底表面と接触している、項目5に記載の3次元半導体デバイス。
(項目7)
前記メモリ積層構造体の全体は2次元六角アレイで配置されている、項目6に記載の3次元半導体デバイス。
(項目8)
前記接触ピラーの全体は2次元六角アレイであって、前記メモリ積層構造体の前記2次元六角アレイと同等な2次元六角アレイとして配置される、項目7に記載の3次元半導体デバイス。
(項目9)
前記メモリ積層構造体の最外列に位置する前記メモリ積層構造体の部分セットのそれぞれに重畳する対応する前記接触ピラーの形状中心は、下にある対応する前記メモリ積層構造体の形状中心を通過する軸から側方に偏在している、項目6に記載の3次元半導体デバイス。
(項目10)
前記メモリ積層構造体の最外列のそれぞれは、前記メモリ積層構造体の内側列によって形成された六角2次元アレイから対応する有限側方偏在距離だけ側方に前記第1の水平方向に沿って偏在している、項目6に記載の3次元半導体デバイス。
(項目11)
前記メモリ積層構造体の2つの最外列の側方偏在は、大きさが等しく、方向が反対である、項目10に記載の3次元半導体デバイス。
(項目12)
平面視において、前記接触ピラーの最外列以外の列における接触ピラーの隣接形状中心を接続する各三角形は、二等辺三角形を形成し、
平面視において、最外列及び前記最外列に隣接する別の列内の接触ピラーの隣接形状中心を接続する各三角形は、不等辺三角形を形成する、項目6に記載の3次元半導体デバイス。
(項目13)
前記メモリ積層構造体のそれぞれは、外側から内側に、メモリ要素、トンネル誘電体及び垂直半導体チャネルを備える、項目1に記載の3次元半導体デバイス。
(項目14)
前記交互積層体を通って延在する前記メモリ積層構造体は、ちょうど5列内に配置されている、項目1に記載の3次元半導体デバイス。
(項目15)
前記接触バイア構造体は、前記第2の水平方向に沿って細長い、項目1に記載の3次元半導体デバイス。
(項目16)
前記接触バイア構造体の50%超のそれぞれは、下にある対応する前記メモリ積層構造体の形状中心を通過する軸から側方に偏在する形状中心を有する、項目1に記載の3次元半導体デバイス。
(項目17)
前記3次元半導体デバイスは、前記基板上に位置する垂直NANDデバイスを備え、
前記導電層は、前記垂直NANDデバイスの対応するワード線を備えるか又は電気的に接続されており、
前記基板は、シリコン基板を備え、
前記垂直NANDデバイスは、前記シリコン基板上に位置するモノリシックの3次元NANDストリング・アレイを備え、
前記3次元NANDストリング・アレイの第1のデバイス段内の少なくとも1つのメモリ・セルは、前記3次元NANDストリング・アレイの第2のデバイス段内の別のメモリ・セル上に位置し、
前記シリコン基板は、前記メモリ・デバイスを上に配置するドライバ回路を備える集積回路を含み、
前記3次元NANDストリング・アレイは、
複数の半導体チャネルであって、前記複数の半導体チャネルのそれぞれの少なくとも1つの端部分が前記基板の上表面に実質的に直交して延在する複数の半導体チャネルと、
それぞれが前記複数の半導体チャネルのうちの対応する1個に隣接して位置する複数の電荷蓄積要素と、
前記基板の前記上表面に実質的に平行に延在するストライプ形状を有する複数の制御ゲート電極と、
を備え、
前記複数の制御ゲート電極は、前記第1のデバイス段に位置する少なくとも1つの第1の制御ゲート電極、及び前記第2のデバイス段に位置する第2の制御ゲート電極を備える、項目1に記載の3次元半導体デバイス。
(項目18)
基板上に位置する絶縁層及び導電層の交互積層体と、
前記交互積層体を通して延在するメモリ積層構造体であって、第1の水平方向に沿って延在する少なくとも5つの列を含む第1の2次元六角アレイとして配置されたメモリ積層構造体と、
前記メモリ積層構造体の列と同数で配置され、前記メモリ積層構造体に重畳する接触ピラーであって、前記接触ピラーのそれぞれは、対応する前記メモリ積層構造体の半導体チャネルに電気的に接続されている、接触ピラーと、
を備え、
最外列の間に位置する接触ピラーを含む接触ピラーの第1の部分セットは、第2の2次元六角アレイ内に配置され、前記第2の2次元六角アレイは、前記第1の2次元六角アレイの一部分と同等であり、
前記最外列に位置する接触ピラーを含む接触ピラーの第2の部分セット内の接触ピラーの形状中心のそれぞれは、下にある対応する前記メモリ積層構造体の形状中心を通過する軸から側方に偏在している、3次元半導体デバイス。
(項目19)
前記交互積層体を通して延在し、前記第1の水平方向に沿って側方に延在する一対の壁形バイア構造体を更に備え、前記メモリ積層構造体は、前記一対の壁形バイア構造体の間に位置する、項目18に記載の3次元半導体デバイス。
(項目20)
前記メモリ積層構造体と同数の列で配置され、前記接触ピラーに重畳する接触バイア構造体を更に備え、前記接触バイア構造体のそれぞれは、下にある前記接触ピラーと接触する、項目18に記載の3次元半導体デバイス。
(項目21)
対応する前記接触バイア構造体と接触し、前記第1の水平方向とは異なる第2の水平方向に沿って延在するビット線を更に備え、前記ビット線のそれぞれは、対応するドレイン領域と電気的に短絡している、項目20に記載の3次元半導体デバイス。
(項目22)
前記ビット線は、前記第1の水平方向に沿ったビット線ピッチを有するビット線周期アレイとして配置されている、項目21に記載の3次元半導体デバイス。
(項目23)
各前記接触バイア構造体の形状中心は、前記接触バイア構造体の任意の隣接列における各前記接触バイア構造体の形状中心から前記ビット線ピッチの少なくとも2倍側方に前記第1の水平方向に沿って偏在している、項目22に記載の3次元半導体デバイス。
(項目24)
ワード線方向に延在する絶縁体層によって隔てられているワード線の交互積層体と、
それぞれが垂直の半導体チャネル及びメモリ膜を含む少なくとも5つの列のメモリ穴であって、当該列が一対の隣接スリット溝の間で前記ワード線の方向に延在する、少なくとも5つの列のメモリ穴と、
ビット線の方向に延在し、前記半導体チャネルに電気的に接続されている複数のビット線と、
を備える3次元NANDデバイス。
(項目25)
隣接ビット線は、最隣接メモリ穴内の半導体チャネルに電気的に接続されていない、項目24に記載の3次元NANDデバイス。
(項目26)
前記デバイスは、各メモリ・ブロック内に少なくとも5つの列のメモリ穴を備える少なくとも5重の構成を有する、項目24に記載の3次元NANDデバイス。
Claims (26)
- 基板上に位置する絶縁層及び導電層の交互積層体と、
前記交互積層体を通して延在するメモリ積層構造体であって、第1の水平方向に沿って延在する少なくとも5つの列内に配置されたメモリ積層構造体と、
前記メモリ積層構造体の列と同数で配置され、前記メモリ積層構造体に重畳する接触バイア構造体であって、前記接触バイア構造体のそれぞれは、対応する前記メモリ積層構造体の半導体チャネルに電気的に接続されている、接触バイア構造体と、
対応する前記接触バイア構造体と接触し、前記第1の水平方向とは異なる第2の水平方向に沿って延在し、前記第1の水平方向に沿ったビット線ピッチを有するビット線周期アレイとして配置されたビット線と、
前記交互積層体を通して延在し、前記第1の水平方向に沿って側方に延在する一対の壁形バイア構造体と、
を備え、
前記少なくとも5つの列のメモリ積層構造体は、前記一対の壁形バイア構造体の間に位置する、3次元半導体デバイス。 - 各接触バイア構造体の形状中心は、前記接触バイア構造体の任意の隣接列における各接触バイア構造体の形状中心から前記ビット線ピッチの少なくとも2倍側方に前記第1の水平方向に沿って偏在する、請求項1に記載の3次元半導体デバイス。
- 同じ列内の前記メモリ積層構造体の各部分セットは、前記第1の水平方向に沿ったメモリ積層構造体ピッチを有する周期1次元アレイとして配置されている、請求項2に記載の3次元半導体デバイス。
- 前記メモリ積層構造体ピッチは、前記ビット線ピッチと、前記一対の壁形バイア構造体の間の前記メモリ積層構造体の列の総数と、の積と同じである、請求項3に記載の3次元半導体デバイス。
- 複数のドレイン領域を更に備え、前記複数のドレイン領域のそれぞれは、対応する前記メモリ積層構造体内の垂直半導体チャネルの上端部と接触し、対応する接触バイア構造体と電気的に短絡している、請求項1に記載の3次元半導体デバイス。
- 複数の接触ピラーを更に備え、前記複数の接触ピラーのそれぞれは、対応する前記ドレイン領域の上表面及び対応する前記接触バイア構造体の底表面と接触している、請求項5に記載の3次元半導体デバイス。
- 前記メモリ積層構造体の全体は2次元六角アレイで配置されている、請求項6に記載の3次元半導体デバイス。
- 前記接触ピラーの全体は2次元六角アレイであって、前記メモリ積層構造体の前記2次元六角アレイと同等な2次元六角アレイとして配置される、請求項7に記載の3次元半導体デバイス。
- 前記メモリ積層構造体の最外列に位置する前記メモリ積層構造体の部分セットのそれぞれに重畳する対応する前記接触ピラーの形状中心は、下にある対応する前記メモリ積層構造体の形状中心を通過する軸から側方に偏在している、請求項6に記載の3次元半導体デバイス。
- 前記メモリ積層構造体の最外列のそれぞれは、前記メモリ積層構造体の内側列によって形成された六角2次元アレイから対応する有限側方偏在距離だけ側方に前記第1の水平方向に沿って偏在している、請求項6に記載の3次元半導体デバイス。
- 前記メモリ積層構造体の2つの最外列の側方偏在は、大きさが等しく、方向が反対である、請求項10に記載の3次元半導体デバイス。
- 平面視において、前記接触ピラーの最外列以外の列における接触ピラーの隣接形状中心を接続する各三角形は、二等辺三角形を形成し、
平面視において、最外列及び前記最外列に隣接する別の列内の接触ピラーの隣接形状中心を接続する各三角形は、不等辺三角形を形成する、請求項6に記載の3次元半導体デバイス。 - 前記メモリ積層構造体のそれぞれは、外側から内側に、メモリ要素、トンネル誘電体及び垂直半導体チャネルを備える、請求項1に記載の3次元半導体デバイス。
- 前記交互積層体を通って延在する前記メモリ積層構造体は、ちょうど5列内に配置されている、請求項1に記載の3次元半導体デバイス。
- 前記接触バイア構造体は、前記第2の水平方向に沿って細長い、請求項1に記載の3次元半導体デバイス。
- 前記接触バイア構造体の50%超のそれぞれは、下にある対応する前記メモリ積層構造体の形状中心を通過する軸から側方に偏在する形状中心を有する、請求項1に記載の3次元半導体デバイス。
- 前記3次元半導体デバイスは、前記基板上に位置する垂直NANDデバイスを備え、
前記導電層は、前記垂直NANDデバイスの対応するワード線を備えるか又は電気的に接続されており、
前記基板は、シリコン基板を備え、
前記垂直NANDデバイスは、前記シリコン基板上に位置するモノリシックの3次元NANDストリング・アレイを備え、
前記3次元NANDストリング・アレイの第1のデバイス段内の少なくとも1つのメモリ・セルは、前記3次元NANDストリング・アレイの第2のデバイス段内の別のメモリ・セル上に位置し、
前記シリコン基板は、前記メモリ・デバイスを上に配置するドライバ回路を備える集積回路を含み、
前記3次元NANDストリング・アレイは、
複数の半導体チャネルであって、前記複数の半導体チャネルのそれぞれの少なくとも1つの端部分が前記基板の上表面に実質的に直交して延在する複数の半導体チャネルと、
それぞれが前記複数の半導体チャネルのうちの対応する1個に隣接して位置する複数の電荷蓄積要素と、
前記基板の前記上表面に実質的に平行に延在するストライプ形状を有する複数の制御ゲート電極と、
を備え、
前記複数の制御ゲート電極は、前記第1のデバイス段に位置する少なくとも1つの第1の制御ゲート電極、及び前記第2のデバイス段に位置する第2の制御ゲート電極を備える、請求項1に記載の3次元半導体デバイス。 - 基板上に位置する絶縁層及び導電層の交互積層体と、
前記交互積層体を通して延在するメモリ積層構造体であって、第1の水平方向に沿って延在する少なくとも5つの列を含む第1の2次元六角アレイとして配置されたメモリ積層構造体と、
前記メモリ積層構造体の列と同数で配置され、前記メモリ積層構造体に重畳する接触ピラーであって、前記接触ピラーのそれぞれは、対応する前記メモリ積層構造体の半導体チャネルに電気的に接続されている、接触ピラーと、
を備え、
最外列の間に位置する接触ピラーを含む接触ピラーの第1の部分セットは、第2の2次元六角アレイ内に配置され、前記第2の2次元六角アレイは、前記第1の2次元六角アレイの一部分と同等であり、
前記最外列に位置する接触ピラーを含む接触ピラーの第2の部分セット内の接触ピラーの形状中心のそれぞれは、下にある対応する前記メモリ積層構造体の形状中心を通過する軸から側方に偏在している、3次元半導体デバイス。 - 前記交互積層体を通して延在し、前記第1の水平方向に沿って側方に延在する一対の壁形バイア構造体を更に備え、前記メモリ積層構造体は、前記一対の壁形バイア構造体の間に位置する、請求項18に記載の3次元半導体デバイス。
- 前記メモリ積層構造体と同数の列で配置され、前記接触ピラーに重畳する接触バイア構造体を更に備え、前記接触バイア構造体のそれぞれは、下にある前記接触ピラーと接触する、請求項18に記載の3次元半導体デバイス。
- 対応する前記接触バイア構造体と接触し、前記第1の水平方向とは異なる第2の水平方向に沿って延在するビット線を更に備え、前記ビット線のそれぞれは、対応するドレイン領域と電気的に短絡している、請求項20に記載の3次元半導体デバイス。
- 前記ビット線は、前記第1の水平方向に沿ったビット線ピッチを有するビット線周期アレイとして配置されている、請求項21に記載の3次元半導体デバイス。
- 各前記接触バイア構造体の形状中心は、前記接触バイア構造体の任意の隣接列における各前記接触バイア構造体の形状中心から前記ビット線ピッチの少なくとも2倍側方に前記第1の水平方向に沿って偏在している、請求項22に記載の3次元半導体デバイス。
- ワード線方向に延在する絶縁体層によって隔てられているワード線の交互積層体と、
それぞれが垂直の半導体チャネル及びメモリ膜を含む少なくとも5つの列のメモリ穴であって、当該列が一対の隣接スリット溝の間で前記ワード線の方向に延在する、少なくとも5つの列のメモリ穴と、
ビット線の方向に延在し、前記半導体チャネルに電気的に接続されている複数のビット線と、
を備える3次元NANDデバイス。 - 隣接ビット線は、最隣接メモリ穴内の半導体チャネルに電気的に接続されていない、請求項24に記載の3次元NANDデバイス。
- 前記デバイスは、各メモリ・ブロック内に少なくとも5つの列のメモリ穴を備える少なくとも5重の構成を有する、請求項24に記載の3次元NANDデバイス。
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2022502869A (ja) * | 2018-10-09 | 2022-01-11 | 長江存儲科技有限責任公司Yangtze Memory Technologies Co., Ltd. | 三次元メモリデバイス及びそれを形成するための方法 |
JP2022509274A (ja) * | 2019-02-18 | 2022-01-20 | 長江存儲科技有限責任公司 | 3d nandのページまたはブロックサイズおよび性能を向上させるためのチャネルホールおよびビット線アーキテクチャならびに方法 |
Families Citing this family (45)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9899399B2 (en) | 2015-10-30 | 2018-02-20 | Sandisk Technologies Llc | 3D NAND device with five-folded memory stack structure configuration |
KR102475454B1 (ko) * | 2016-01-08 | 2022-12-08 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 반도체 장치 및 그 제조방법 |
US10083979B2 (en) * | 2016-09-16 | 2018-09-25 | Toshiba Memory Corporation | Semiconductor device, manufacturing method and controlling method of semiconductor device |
US10050054B2 (en) | 2016-10-05 | 2018-08-14 | Sandisk Technologies Llc | Three-dimensional memory device having drain select level isolation structure and method of making thereof |
US9929174B1 (en) * | 2016-10-28 | 2018-03-27 | Sandisk Technologies Llc | Three-dimensional memory device having non-uniform spacing among memory stack structures and method of making thereof |
US10381364B2 (en) | 2017-06-20 | 2019-08-13 | Sandisk Technologies Llc | Three-dimensional memory device including vertically offset drain select level layers and method of making thereof |
US11037943B2 (en) | 2017-07-18 | 2021-06-15 | Sandisk Technologies Llc | Three-dimensional memory device having on-pitch drain select gate electrodes and method of making the same |
US10403639B2 (en) | 2017-07-18 | 2019-09-03 | Sandisk Technologies Llc | Three-dimensional memory device having on-pitch drain select gate electrodes and method of making the same |
US11552094B2 (en) | 2017-07-18 | 2023-01-10 | Sandisk Technologies Llc | Three-dimensional memory device having on-pitch drain select gate electrodes and method of making the same |
US10381229B2 (en) | 2017-08-24 | 2019-08-13 | Sandisk Technologies Llc | Three-dimensional memory device with straddling drain select electrode lines and method of making thereof |
CN107658311B (zh) * | 2017-08-28 | 2018-12-14 | 长江存储科技有限责任公司 | 三维存储器 |
US10290650B1 (en) | 2018-02-05 | 2019-05-14 | Sandisk Technologies Llc | Self-aligned tubular electrode portions inside memory openings for drain select gate electrodes in a three-dimensional memory device |
US10192784B1 (en) * | 2018-02-22 | 2019-01-29 | Sandisk Technologies Llc | Three-dimensional memory device containing self-aligned contact via structures and methods of manufacturing the same |
US10319680B1 (en) * | 2018-03-01 | 2019-06-11 | Sandisk Technologies Llc | Metal contact via structure surrounded by an air gap and method of making thereof |
JP2019169503A (ja) * | 2018-03-22 | 2019-10-03 | 東芝メモリ株式会社 | 半導体記憶装置 |
KR102614728B1 (ko) * | 2018-04-04 | 2023-12-19 | 삼성전자주식회사 | 3차원 반도체 메모리 장치 및 그 제조 방법 |
US10707228B2 (en) * | 2018-08-21 | 2020-07-07 | Sandisk Technologies Llc | Three-dimensional memory device having bonding structures connected to bit lines and methods of making the same |
US10593730B1 (en) * | 2018-10-10 | 2020-03-17 | Micron Technology, Inc. | Three-dimensional memory array |
CN109496361B (zh) * | 2018-10-18 | 2020-10-30 | 长江存储科技有限责任公司 | 具有z字形狭缝结构的三维存储器件及其形成方法 |
US10748921B2 (en) * | 2018-10-25 | 2020-08-18 | Micron Technology, Inc. | Integrated assemblies which include stacked memory decks, and methods of forming integrated assemblies |
US11251191B2 (en) | 2018-12-24 | 2022-02-15 | Sandisk Technologies Llc | Three-dimensional memory device containing multiple size drain contact via structures and method of making same |
WO2020177023A1 (en) * | 2019-03-01 | 2020-09-10 | Yangtze Memory Technologies Co., Ltd. | Three-dimensional memory devices with architecture of increased number of bit lines |
US10937801B2 (en) | 2019-03-22 | 2021-03-02 | Sandisk Technologies Llc | Three-dimensional memory device containing a polygonal lattice of support pillar structures and contact via structures and methods of manufacturing the same |
TWI720547B (zh) * | 2019-03-22 | 2021-03-01 | 日商東芝記憶體股份有限公司 | 半導體記憶裝置 |
WO2020197595A1 (en) * | 2019-03-27 | 2020-10-01 | Sandisk Technologies Llc | Three-dimensional memory device containing eye-shaped contact via structures located in laterally-undulating trenches and method of making the same |
KR20200137077A (ko) | 2019-05-28 | 2020-12-09 | 삼성전자주식회사 | 3차원 반도체 메모리 소자 |
KR102611004B1 (ko) * | 2019-07-30 | 2023-12-08 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 반도체 메모리 장치 |
US11011209B2 (en) | 2019-10-01 | 2021-05-18 | Sandisk Technologies Llc | Three-dimensional memory device including contact-level bit-line-connection structures and methods of making the same |
KR20210062465A (ko) * | 2019-11-21 | 2021-05-31 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 반도체 메모리 장치 |
JP2021136279A (ja) * | 2020-02-25 | 2021-09-13 | キオクシア株式会社 | 半導体記憶装置 |
JP2021150296A (ja) * | 2020-03-16 | 2021-09-27 | キオクシア株式会社 | 半導体記憶装置 |
US11348941B2 (en) | 2020-04-23 | 2022-05-31 | Macronix International Co., Ltd. | Memory device and method of fabricating the same |
TWI727761B (zh) * | 2020-04-23 | 2021-05-11 | 旺宏電子股份有限公司 | 記憶元件及其製造方法 |
KR20210144096A (ko) * | 2020-05-21 | 2021-11-30 | 삼성전자주식회사 | 수직형 메모리 장치 |
US11398498B2 (en) * | 2020-05-28 | 2022-07-26 | Micron Technology, Inc. | Integrated assemblies and methods of forming integrated assemblies |
US11538827B2 (en) | 2020-07-23 | 2022-12-27 | Macronix International Co., Ltd. | Three-dimensional memory device with increased memory cell density |
JP2022029546A (ja) * | 2020-08-05 | 2022-02-18 | キオクシア株式会社 | 半導体記憶装置及びその製造方法 |
US11361816B2 (en) * | 2020-08-18 | 2022-06-14 | Sandisk Technologies Llc | Memory block with separately driven source regions to improve performance |
JP2022043893A (ja) * | 2020-09-04 | 2022-03-16 | キオクシア株式会社 | 半導体記憶装置 |
CN112820733B (zh) * | 2021-01-06 | 2022-04-29 | 长江存储科技有限责任公司 | 一种半导体器件及其制备方法 |
US11605589B2 (en) | 2021-01-28 | 2023-03-14 | Micron Technology, Inc. | Methods of forming microelectronic devices, and related microelectronic devices, memory devices, and electronic systems |
US11935784B2 (en) * | 2021-06-11 | 2024-03-19 | Sandisk Technologies Llc | Three-dimensional memory device containing self-aligned bit line contacts and methods for forming the same |
US20230032177A1 (en) * | 2021-07-27 | 2023-02-02 | Micron Technology, Inc. | Electronic devices comprising multilevel bitlines, and related methods and systems |
US11849578B2 (en) | 2021-07-29 | 2023-12-19 | Sandisk Technologies Llc | Three-dimensional memory device with a columnar memory opening arrangement and method of making thereof |
CN115884600A (zh) * | 2021-09-28 | 2023-03-31 | 长鑫存储技术有限公司 | 半导体结构及其制备方法 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015079862A (ja) * | 2013-10-17 | 2015-04-23 | 株式会社東芝 | 不揮発性半導体記憶装置 |
US20150179660A1 (en) * | 2013-12-19 | 2015-06-25 | SanDisk Technologies, Inc. | Three Dimensional NAND Device with Channel Located on Three Sides of Lower Select Gate and Method of Making Thereof |
Family Cites Families (55)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5915167A (en) | 1997-04-04 | 1999-06-22 | Elm Technology Corporation | Three dimensional structure memory |
DE19847951A1 (de) * | 1998-10-09 | 2000-04-20 | Francotyp Postalia Gmbh | Anordnung und Verfahren zur Speicherung von Daten über eine Benutzung eines Endgerätes |
EP2323164B1 (en) | 2000-08-14 | 2015-11-25 | SanDisk 3D LLC | Multilevel memory array and method for making same |
US7005350B2 (en) | 2002-12-31 | 2006-02-28 | Matrix Semiconductor, Inc. | Method for fabricating programmable memory array structures incorporating series-connected transistor strings |
US7233522B2 (en) | 2002-12-31 | 2007-06-19 | Sandisk 3D Llc | NAND memory array incorporating capacitance boosting of channel regions in unselected memory cells and method for operation of same |
US7221588B2 (en) | 2003-12-05 | 2007-05-22 | Sandisk 3D Llc | Memory array incorporating memory cells arranged in NAND strings |
US7023739B2 (en) | 2003-12-05 | 2006-04-04 | Matrix Semiconductor, Inc. | NAND memory array incorporating multiple write pulse programming of individual memory cells and method for operation of same |
US7177191B2 (en) | 2004-12-30 | 2007-02-13 | Sandisk 3D Llc | Integrated circuit including memory array incorporating multiple types of NAND string structures |
US7535060B2 (en) | 2006-03-08 | 2009-05-19 | Freescale Semiconductor, Inc. | Charge storage structure formation in transistor with vertical channel region |
JP5016832B2 (ja) | 2006-03-27 | 2012-09-05 | 株式会社東芝 | 不揮発性半導体記憶装置及びその製造方法 |
US7848145B2 (en) | 2007-03-27 | 2010-12-07 | Sandisk 3D Llc | Three dimensional NAND memory |
US7575973B2 (en) | 2007-03-27 | 2009-08-18 | Sandisk 3D Llc | Method of making three dimensional NAND memory |
US7808038B2 (en) | 2007-03-27 | 2010-10-05 | Sandisk 3D Llc | Method of making three dimensional NAND memory |
US7514321B2 (en) | 2007-03-27 | 2009-04-07 | Sandisk 3D Llc | Method of making three dimensional NAND memory |
US7851851B2 (en) | 2007-03-27 | 2010-12-14 | Sandisk 3D Llc | Three dimensional NAND memory |
US7745265B2 (en) | 2007-03-27 | 2010-06-29 | Sandisk 3D, Llc | Method of making three dimensional NAND memory |
KR101263823B1 (ko) * | 2007-04-19 | 2013-05-13 | 삼성전자주식회사 | 비휘발성 메모리 소자 및 그 동작 방법 |
JP5148242B2 (ja) | 2007-10-29 | 2013-02-20 | 株式会社東芝 | 不揮発性半導体記憶装置、及びその製造方法 |
KR101226685B1 (ko) | 2007-11-08 | 2013-01-25 | 삼성전자주식회사 | 수직형 반도체 소자 및 그 제조 방법. |
JP5142692B2 (ja) | 2007-12-11 | 2013-02-13 | 株式会社東芝 | 不揮発性半導体記憶装置 |
JP4691124B2 (ja) | 2008-03-14 | 2011-06-01 | 株式会社東芝 | 不揮発性半導体記憶装置の製造方法 |
JP4802313B2 (ja) | 2008-08-01 | 2011-10-26 | ニッコー株式会社 | 圧電振動子の保持装置 |
JP5288936B2 (ja) | 2008-08-12 | 2013-09-11 | 株式会社東芝 | 不揮発性半導体記憶装置 |
KR101478678B1 (ko) | 2008-08-21 | 2015-01-02 | 삼성전자주식회사 | 비휘발성 메모리 소자 및 그 제조 방법 |
KR100979906B1 (ko) | 2008-10-09 | 2010-09-06 | 서울대학교산학협력단 | 고집적 플래시 메모리 셀 스택, 셀 스택 스트링 및 그 제조방법 |
US7994011B2 (en) | 2008-11-12 | 2011-08-09 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Method of manufacturing nonvolatile memory device and nonvolatile memory device manufactured by the method |
KR101527192B1 (ko) | 2008-12-10 | 2015-06-10 | 삼성전자주식회사 | 불휘발성 메모리 소자 및 그의 제조방법 |
US20100155818A1 (en) | 2008-12-24 | 2010-06-24 | Heung-Jae Cho | Vertical channel type nonvolatile memory device and method for fabricating the same |
KR101495806B1 (ko) | 2008-12-24 | 2015-02-26 | 삼성전자주식회사 | 비휘발성 기억 소자 |
KR101481104B1 (ko) | 2009-01-19 | 2015-01-13 | 삼성전자주식회사 | 비휘발성 메모리 장치 및 그 제조 방법 |
KR101616089B1 (ko) | 2009-06-22 | 2016-04-28 | 삼성전자주식회사 | 3차원 반도체 메모리 소자 |
WO2011037464A1 (en) * | 2009-09-24 | 2011-03-31 | Sara Lee/De N.V. | Beverage cartridge |
KR101584113B1 (ko) | 2009-09-29 | 2016-01-13 | 삼성전자주식회사 | 3차원 반도체 메모리 장치 및 그 제조 방법 |
US8395941B2 (en) | 2010-05-17 | 2013-03-12 | Micron Technology, Inc. | Multi-semiconductor material vertical memory strings, strings of memory cells having individually biasable channel regions, memory arrays incorporating such strings, and methods of accessing and forming the same |
US8193054B2 (en) | 2010-06-30 | 2012-06-05 | SanDisk Technologies, Inc. | Ultrahigh density vertical NAND memory device and method of making thereof |
US8349681B2 (en) | 2010-06-30 | 2013-01-08 | Sandisk Technologies Inc. | Ultrahigh density monolithic, three dimensional vertical NAND memory device |
US8198672B2 (en) | 2010-06-30 | 2012-06-12 | SanDisk Technologies, Inc. | Ultrahigh density vertical NAND memory device |
KR101094523B1 (ko) | 2010-10-13 | 2011-12-19 | 주식회사 하이닉스반도체 | 3차원 구조의 비휘발성 메모리 소자 및 그 제조 방법 |
KR20120066331A (ko) | 2010-12-14 | 2012-06-22 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 3차원 구조의 비휘발성 메모리 소자 및 그 제조 방법 |
KR101807254B1 (ko) * | 2011-04-29 | 2018-01-11 | 삼성전자주식회사 | 반도체 기억 소자의 형성 방법 |
US8878278B2 (en) * | 2012-03-21 | 2014-11-04 | Sandisk Technologies Inc. | Compact three dimensional vertical NAND and method of making thereof |
US8847302B2 (en) | 2012-04-10 | 2014-09-30 | Sandisk Technologies Inc. | Vertical NAND device with low capacitance and silicided word lines |
KR101916223B1 (ko) * | 2012-04-13 | 2018-11-07 | 삼성전자 주식회사 | 반도체 장치 및 그 제조 방법 |
JP2013239622A (ja) * | 2012-05-16 | 2013-11-28 | Toshiba Corp | 不揮発性半導体記憶装置及びその製造方法 |
US8828884B2 (en) | 2012-05-23 | 2014-09-09 | Sandisk Technologies Inc. | Multi-level contact to a 3D memory array and method of making |
US8658499B2 (en) | 2012-07-09 | 2014-02-25 | Sandisk Technologies Inc. | Three dimensional NAND device and method of charge trap layer separation and floating gate formation in the NAND device |
US9219073B2 (en) | 2014-01-17 | 2015-12-22 | Macronix International Co., Ltd. | Parallelogram cell design for high speed vertical channel 3D NAND memory |
US9219074B2 (en) * | 2014-01-17 | 2015-12-22 | Macronix International Co., Ltd. | Three-dimensional semiconductor device |
US8946023B2 (en) * | 2013-03-12 | 2015-02-03 | Sandisk Technologies Inc. | Method of making a vertical NAND device using sequential etching of multilayer stacks |
GB2516089B (en) * | 2013-07-11 | 2015-09-23 | Samsung Electronics Co Ltd | Supplementary Services Management Setting Control |
US9460931B2 (en) | 2013-09-17 | 2016-10-04 | Sandisk Technologies Llc | High aspect ratio memory hole channel contact formation |
US9177966B1 (en) | 2014-07-08 | 2015-11-03 | Sandisk Technologies Inc. | Three dimensional NAND devices with air gap or low-k core |
US9142538B1 (en) | 2014-09-18 | 2015-09-22 | Macronix International Co., Ltd. | Three-dimensional semiconductor device |
US9515085B2 (en) * | 2014-09-26 | 2016-12-06 | Sandisk Technologies Llc | Vertical memory device with bit line air gap |
US9899399B2 (en) | 2015-10-30 | 2018-02-20 | Sandisk Technologies Llc | 3D NAND device with five-folded memory stack structure configuration |
-
2016
- 2016-06-06 US US15/174,030 patent/US9899399B2/en active Active
- 2016-08-31 JP JP2018514395A patent/JP6464318B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2016-08-31 CN CN201680055327.6A patent/CN108040501B/zh active Active
- 2016-08-31 KR KR1020187007902A patent/KR101889267B1/ko active IP Right Grant
- 2016-08-31 EP EP16763685.1A patent/EP3326207B1/en active Active
- 2016-08-31 WO PCT/US2016/049763 patent/WO2017074555A1/en active Application Filing
-
2018
- 2018-01-18 US US15/874,099 patent/US10403632B2/en active Active
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015079862A (ja) * | 2013-10-17 | 2015-04-23 | 株式会社東芝 | 不揮発性半導体記憶装置 |
US20150179660A1 (en) * | 2013-12-19 | 2015-06-25 | SanDisk Technologies, Inc. | Three Dimensional NAND Device with Channel Located on Three Sides of Lower Select Gate and Method of Making Thereof |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2022502869A (ja) * | 2018-10-09 | 2022-01-11 | 長江存儲科技有限責任公司Yangtze Memory Technologies Co., Ltd. | 三次元メモリデバイス及びそれを形成するための方法 |
JP7190584B2 (ja) | 2018-10-09 | 2022-12-15 | 長江存儲科技有限責任公司 | 三次元メモリデバイス及びそれを形成するための方法 |
JP2022509274A (ja) * | 2019-02-18 | 2022-01-20 | 長江存儲科技有限責任公司 | 3d nandのページまたはブロックサイズおよび性能を向上させるためのチャネルホールおよびビット線アーキテクチャならびに方法 |
US11729978B2 (en) | 2019-02-18 | 2023-08-15 | Yangtze Memory Technologies Co., Ltd. | Channel hole and bitline architecture and method to improve page or block size and performance of 3D NAND |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN108040501A (zh) | 2018-05-15 |
WO2017074555A1 (en) | 2017-05-04 |
KR101889267B1 (ko) | 2018-09-20 |
EP3326207B1 (en) | 2019-08-14 |
US20180158834A1 (en) | 2018-06-07 |
JP6464318B2 (ja) | 2019-02-06 |
US10403632B2 (en) | 2019-09-03 |
KR20180033304A (ko) | 2018-04-02 |
US20170125433A1 (en) | 2017-05-04 |
EP3326207A1 (en) | 2018-05-30 |
CN108040501B (zh) | 2022-02-22 |
US9899399B2 (en) | 2018-02-20 |
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Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6464318B2 (ja) | 5重メモリ積層構造体構成を有する3d nandデバイス | |
US9812461B2 (en) | Honeycomb cell structure three-dimensional non-volatile memory device | |
EP3613078B1 (en) | Three-dimensional memory device having conductive support structures and method of making thereof | |
EP3262680B1 (en) | Passive devices for integration with three-dimensional memory devices | |
EP3420595B1 (en) | Within-array through-memory-level via structures | |
US9589981B2 (en) | Passive devices for integration with three-dimensional memory devices | |
US9646981B2 (en) | Passive devices for integration with three-dimensional memory devices | |
US11139237B2 (en) | Three-dimensional memory device containing horizontal and vertical word line interconnections and methods of forming the same | |
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US20210134827A1 (en) | Three-dimensional memory device containing width-modulated connection strips and methods of forming the same | |
US11355506B2 (en) | Through-stack contact via structures for a three-dimensional memory device and methods of forming the same | |
US10672790B2 (en) | Method of fabricating three-dimensional semiconductor memory device | |
US11367736B2 (en) | Through-stack contact via structures for a three-dimensional memory device and methods of forming the same | |
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