JP2018506497A5 - - Google Patents
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Claims (12)
- 薄膜デバイスを製造する方法において、第1の温度でガラス基板の凸面に少なくとも1つの金属膜を施して、薄膜デバイを形成する工程、および該薄膜デバイスを第2の温度に冷却する工程を有してなる方法。
- 前記少なくとも1つの金属膜が、銅、シリコン、非晶質シリコン、ポリシリコン、ITO、IGZO、IZO、ZTO、酸化亜鉛、他の金属酸化物、およびそのドープ金属と酸化物、並びにその組合せから選択され、前記少なくとも1つの金属膜が、約1,000Åから約10,000Åに及ぶ厚さおよび幅を有する、請求項1記載の方法。
- 前記ガラス基板がドーム形またはボウル形であり、前記ガラス基板の厚さが、0.2mmと約1mm未満の間である、請求項1または2記載の方法。
- 前記第1の温度が約1500℃未満であり、前記第2の温度が約100℃未満である、請求項1から3いずれか1項記載の方法。
- 前記少なくとも1つの金属膜および前記ガラス基板が、前記第1の温度から前記第2の温度に及ぶ温度に亘り、異なる熱膨張係数を有する、請求項1から4いずれか1項記載の方法。
- ガラス基板および該ガラス基板の表面上に堆積された少なくとも1つの金属膜を備えた薄膜デバイスであって、
前記金属膜が、約1,000Åから約10,000Åに及ぶ厚さ、または約1,000Åから約10,000Åに及ぶ幅から選択される少なくとも1つの寸法を有し、
前記薄膜デバイスの反りが約1000マイクロメートル未満である、薄膜デバイス。 - 前記ガラス基板の厚さが、0.2mmと約1mm未満の間である、請求項6記載の薄膜デバイス。
- 前記ガラス基板が、アルミノケイ酸塩、アルカリアルミノケイ酸塩、ホウケイ酸塩、アルカリホウケイ酸塩、アルミノホウケイ酸塩、およびアルカリアルミノホウケイ酸塩から選択されるガラスから作られ、前記金属膜が、銅、シリコン、非晶質シリコン、ポリシリコン、ITO、IGZO、IZO、ZTO、酸化亜鉛、他の金属酸化物、およびそのドープ金属と酸化物、並びにその組合せから選択される、請求項6または7記載の薄膜デバイス。
- 請求項6から8いずれか1項記載の薄膜デバイスを備えたディスプレイ装置。
- 薄膜デバイスを形成する方法であって、
0.2mmと1mmの間の厚さを有し、凹面を備えたガラス板を平らな基準面上に、該ガラス板が該平らな基準面に対してドーム形であるような向きに支持する工程、および
前記ガラス板のドーム側に薄膜材料を堆積させる工程、
を有してなる方法。 - 前記薄膜材料の一部をフォトリソグラフィーにより除去する工程をさらに含む、請求項10記載の方法。
- 前記薄膜材料が、薄膜トランジスタ、カラーフィルタ、または有機発光ダイオードを含む、請求項10または11記載の方法。
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