JP2002124190A - プラズマ情報表示素子 - Google Patents

プラズマ情報表示素子

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JP2002124190A
JP2002124190A JP2000313242A JP2000313242A JP2002124190A JP 2002124190 A JP2002124190 A JP 2002124190A JP 2000313242 A JP2000313242 A JP 2000313242A JP 2000313242 A JP2000313242 A JP 2000313242A JP 2002124190 A JP2002124190 A JP 2002124190A
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layer
electrode
alloy
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Junichiro Nakayama
純一郎 中山
Takehiro Togawa
剛広 外川
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Sharp Corp
Sony Corp
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Sharp Corp
Sony Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 表示品位に優れ、電気的信頼性の高いプラズ
マ情報表示素子を提供する。 【解決手段】 第1基板10と、第1基板10に複数の
隔壁40を介して対向する第2基板20と、第1基板1
0と第2基板20と隔壁40とによって囲まれた空間5
0に封入された放電ガスと、プラズマ放電を発生させる
ための複数の電極12および22とを有する。複数の電
極12および22のそれぞれは、Ag、PdおよびCu
を含むAg合金を含むAg合金電極層14または22を
有する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイパネル(PDP)やプラズマアドレス液晶表示装置
(PALC)などのプラズマ情報表示素子に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、フラットパネルディスプレイに代
表される情報表示素子の開発が盛んに行われており、大
型化やマルチ・フルカラー化が進展するとともに階調表
示や動画表示を行うことが可能となり、その性能は飛躍
的に向上している。
【0003】これらの情報表示素子の一つとして、プラ
ズマ情報表示素子が注目を集めている。従来のプラズマ
情報表示素子の構造について、図9および図10(a)
〜(b)を参照しながら以下に説明する。図9は、従来
のプラズマ情報表示素子600を模式的に示す上面図で
ある。図10(a)は、図9中のA−A’線に沿った第
1基板10の断面図に相当し、図10(b)は、図9中
のB−B’線に沿った第2基板20の断面図に相当す
る。
【0004】プラズマ情報表示素子600は、第1基板
10と、第1基板10に複数の隔壁40を介して対向す
る第2基板20と、プラズマ放電を発生させるための複
数の電極12’および22’とを有し、第1基板10と
第2基板20と隔壁40とによって囲まれた空間50に
放電ガス(不図示)が封入されている。
【0005】第1基板10は、透明基板11上に設けら
れた複数の表示電極12’を有する。表示電極12’
は、透明電極13’と、透明電極13’上に形成された
バス電極14’とから構成されており、この表示電極1
2’を覆うように第1誘電体層15が形成されている。
さらに、この第1誘電体層15上に保護層16が形成さ
れている。
【0006】第2基板20は、絶縁性基板21上に表示
電極12’と交差するように設けられた複数のアドレス
電極22’を有する。このアドレス電極22’を覆うよ
うに第2誘電体層25が形成されており、隣接するアド
レス電極22’間に、アドレス電極22’と平行に複数
の隔壁40が設けられている。
【0007】上述の隔壁40の側面および第2誘電体層
25の表面に、U字状に蛍光体層60が形成されてお
り、この蛍光体層60は、典型的には、赤色蛍光体層6
0R、緑色蛍光体層60Gまたは青色蛍光体層60Bで
ある。
【0008】次に、上述のような構成を有するプラズマ
情報表示素子600の動作を説明する。図11は、従来
のプラズマ情報表示素子600の動作を模式的に示す図
である。
【0009】このプラズマ情報表示素子600において
は、複数の表示電極12’は、隣接する2本毎に電極対
を形成し、この電極対とアドレス電極22’とが交差す
る領域が発光セルを規定する。なお、後述する書き込み
時に、電極対を構成する2本の表示電極12’のうち、
一方はスキャン電極として機能する。プラズマ情報表示
素子600は、例えば、以下のようにして動作する。
【0010】まず、スキャン電極とアドレス電極22’
との間に放電しきい値を超える電圧を印加して、所定の
発光セルに選択的に書き込み放電を発生させる。この書
き込み放電により、スキャン電極の上方の第1誘電体層
15の表面近傍に電荷が誘導・蓄積される。なお、この
ようにして電荷が誘導・蓄積されることを壁電荷が形成
されるともいう。
【0011】次に、電極対を構成する表示電極12’間
に、放電しきい値を超えない程度の電圧を印加する。こ
のとき、書き込み放電が行われた所定の発光セルにおい
ては、書き込み時に形成された壁電荷に起因する壁電圧
が重畳して印加されるので、実効電圧が放電しきい値を
超え、維持放電が開始される。この維持放電により発生
する紫外線を用いて蛍光体層60を発光させることによ
り、所定の発光セルを発光状態とすることが可能とな
る。
【0012】上述のように、プラズマ情報表示素子60
0は、透明電極13’およびバス電極14’から構成さ
れる表示電極12’と、アドレス電極22’とを用いて
プラズマ放電を発生させる。
【0013】透明電極13’としては、パターニングが
容易であることからITO層が用いられる。
【0014】バス電極14’およびアドレス電極22’
としては、低抵抗化の観点からAg層が用いられ、低抵
抗化及びパターニングの容易化の観点からCr層、Cu
層およびCr層が積層された積層構造体(以下、「Cr
層/Cu層/Cr層」と記す。)が用いられる。
【0015】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、Ag層
やCr層/Cu層/Cr層を用いたプラズマ情報表示素
子においては、「1998FPDテクノロジー大全p3
71」に記載されているように、以下のような問題があ
る。
【0016】Ag層を用いる場合、Agイオンが誘電体
層や透明基板に拡散して反応するため、誘電体層や透明
基板が黄色に着色されて、表示品位が低下するという問
題がある。また、電極間に電圧が印加されると、陽極側
の電極からAgイオンが溶出し、電界により電極間を移
動して陰極側の電極にAgとして析出するため、電極間
の絶縁抵抗の低下や短絡が発生する、所謂マイグレーシ
ョンという問題がある。
【0017】Cr層/Cu層/Cr層を用いる場合、こ
の材料は積層構造体であるため、電極の形成工程が増加
するとともにパターニングの際のエッチングが複雑にな
るという問題がある。また、毒性の強いCrが含まれて
いるため、安全管理および処理にコストがかかるという
問題もある。
【0018】なお、Agイオンの拡散による透明基板の
着色を抑制するために、特開平11−109888号公
報は、フッ素をドープした酸化スズを用いて形成された
透明電極と、この透明電極上にAgを含む材料を用いて
形成されたバス電極とから構成される積層電極を開示し
ているが、電極間の電位差に起因するマイグレーション
については言及されていない。
【0019】本発明は、上記の諸問題に鑑みてなされた
ものであり、その目的は、表示品位に優れ、電気的信頼
性の高いプラズマ情報表示素子を提供することにある。
【0020】
【課題を解決するための手段】本発明によるプラズマ情
報表示素子は、第1基板と、前記第1基板に複数の隔壁
を介して対向する第2基板と、前記第1基板と前記第2
基板と前記隔壁とによって囲まれた空間に封入された放
電ガスと、プラズマ放電を発生させるための複数の電極
とを有し、前記複数の電極のそれぞれは、Ag、Pdお
よびCuを含むAg合金を含むAg合金電極層を有して
おり、そのことによって上記目的が達成される。
【0021】前記Ag合金電極層は、前記Ag合金のみ
を用いて形成されていてもよい。
【0022】前記Ag合金に含まれるPdの含有量は
0.5重量%以上5.0重量%以下であり、Cuの含有
量は0.1重量%以上5.0重量%以下であることが好
ましい。
【0023】前記第1基板に前記第2基板を介して対向
する第3基板と、前記第2基板および前記第3基板の間
に設けられた液晶層とを含む液晶表示部をさらに備えて
いてもよい。
【0024】前記複数の電極は、少なくとも前記第1基
板の前記第2基板側の表面に形成された電極を含み、前
記電極は、透明導電材料からなる透明導電層をさらに有
し、前記電極を覆うように、前記第1基板上に誘電体層
が形成されていることが好ましい。
【0025】前記電極の、少なくとも前記誘電体層に接
する部分は、前記透明導電層であることが好ましい。
【0026】前記電極の、前記第1基板に接する部分
は、前記透明導電層であることが好ましい。
【0027】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照しながら本発明
による実施形態のプラズマ情報表示素子を説明する。本
発明は、以下の実施形態に限定されるものではない。 (実施形態1)図1および図2(a)〜(b)に本発明
による実施形態1のプラズマ情報表示素子であるプラズ
マディスプレイパネル(PDP)100を模式的に示
す。図1は、PDP100の上面図であり、図2(a)
は、図1中のA−A’線に沿った第1基板10の断面図
に相当し、図2(b)は、図1中のB−B’線に沿った
第2基板20の断面図に相当する。なお、説明の簡明さ
のために、以下の図面においては、実質的に同様の機能
を有する構成要素を同じ参照符号を用いて表す。
【0028】PDP100は、第1基板10と、第1基
板に複数の隔壁40を介して対向する第2基板20と、
第1基板10と第2基板20と隔壁40とによって囲ま
れた空間50に封入された放電ガス(不図示)と、プラ
ズマ放電を発生させるための複数の電極12および22
とを有している。
【0029】第1基板10は、透明基板(例えば、ガラ
ス基板)11上に設けられた複数の表示電極12を有す
る。表示電極12は、透明導電材料(例えばITO)を
用いて形成された透明導電層13と、この透明導電層1
3上にAg、PdおよびCuを含むAg合金を用いて形
成されたAg合金電極層14とから構成されている。こ
の表示電極12を覆うように、例えば低融点ガラスから
なる第1誘電体層15が形成されている。さらに、この
誘電体層15上に、保護層(例えば、MgO層)16が
形成されている。
【0030】第2基板20は、絶縁性基板(例えば、ガ
ラス基板)21上に表示電極12と交差するように設け
られた複数のアドレス電極22を有する。アドレス電極
22は、Ag、PdおよびCuを含むAg合金を用いて
形成されたAg合金電極層22から構成されている。こ
のアドレス電極(Ag合金電極層)22を覆うように、
例えば低融点ガラスからなる第2誘電体層25が形成さ
れている。また、隣接するアドレス電極22間に、例え
ば低融点ガラスを用いて形成された複数の隔壁40が、
アドレス電極22と平行に設けられている。隣接する隔
壁40と第1基板10および第2基板20とに囲まれた
空間50に、放電ガス(例えば、NeとXeとの混合ガ
ス)が封入されている。
【0031】上述の隔壁40の側面および第2誘電体層
25の表面に、U字状に蛍光体層60が形成されてい
る。この蛍光体層60は、典型的には、赤色蛍光体層6
0R(例えば(Y,Ga)BO3:Eu層)、緑色蛍光
体層60G(例えばZn2SiO 4:Mn層)または青色
蛍光体層60B(例えばBaMgAl1423:Eu層)
である。
【0032】本発明によるPDP100においては、プ
ラズマ放電を発生させるための複数の電極(表示電極1
2およびアドレス電極22)のそれぞれは、Ag合金電
極層14または22を有しており、Ag合金電極層14
および22は、Ag、PdおよびCuを含むAg合金を
用いて形成されている。このAg合金は、Agを主体と
する合金であるために比抵抗が低く、また、Pdが添加
されているためにAgイオンの拡散が抑制されてマイグ
レーション耐性が高く、さらに、Cuが添加されている
ために空気や水蒸気による酸化及びこの酸化に伴う穴あ
きが抑制されて耐食性が高い。従って、Ag層を用いた
場合に問題となる、Agイオンの拡散による第1誘電体
層15および透明基板11の着色とマイグレーションと
を抑制することができる。また、このAg合金は、Al
をエッチングする場合に一般に用いられるリン酸/硝酸
/酢酸系のエッチング液を用いてパターニングすること
ができるので、本発明によるPDP100は製造工程上
の利点も有している。
【0033】さらに、Ag合金電極層14および22
は、単層構造体として形成し得るとともに、Crを含ま
ない材料を用いて形成し得るので、Cr層/Cu層/C
r層を用いた場合に問題となる、形成工程の増加および
エッチングの複雑化などが生じない。
【0034】ここで、プラズマ放電を発生させるための
電極(表示電極12およびアドレス電極22)を形成す
る方法について説明する。
【0035】表示電極12は、例えば、以下のようにし
て形成する。まず、透明基板11上にスパッタリング法
によりITO層を堆積する。次に、このITO層をフォ
トリソグラフィプロセスを用いて所望の形状にパターニ
ングすることにより、透明導電層13を形成する。続い
て、透明導電層13上にAg、PdおよびCuを含むA
g合金を用いてスパッタリング法によりAg合金層を堆
積する。Ag合金に含まれるPdの含有量は0.5重量
%以上5.0重量%以下であり、Cuの含有量は0.1
重量%以上5.0重量%以下であることが好ましい。P
dおよびCuの含有量の合計が5.0重量%を超える
と、Ag合金の比抵抗が高くなるので、Ag合金電極層
14のバス電極としての機能が低下する。本実施形態に
おいては、Ag−0.9重量%Pd−1重量%Cu(フ
ルヤ金属製)を用いる。その後、このAg合金層をフォ
トリソグラフィプロセスを用いて所望の形状にパターニ
ングすることにより、Ag合金電極層14を形成する。
このようにして、表示電極12が得られる。
【0036】アドレス電極22は、例えば、以下のよう
にして形成する。まず、上述したAg合金電極層14を
形成する際に用いた材料と同じ材料を用いて、スパッタ
リング法により絶縁性基板21上にAg合金層を堆積す
る。次に、このAg合金層をフォトリソグラフィプロセ
スを用いて所望の形状にパターニングすることにより、
Ag合金電極層22を形成する。このようにして、アド
レス電極22が得られる。
【0037】なお、本実施形態においては、Ag合金電
極層が、Ag合金のみを用いて形成されている場合につ
いて説明したが、これに限定されず、Ag合金電極層に
Ag合金以外の成分が含まれていてもよい。また、Ag
合金電極層の形成方法も、スパッタリング法に限定され
ず、例えば、印刷した後に焼成することにより形成して
もよい。印刷法によりAg合金電極層を形成する場合に
は、材料としてAg合金とガラスを含むバインダ材料と
の混合物を用いるので、得られたAg合金電極層22中
にはガラスが含まれているが、焼成により金属粒子同士
が接触していれば、上述の効果と同様の効果が得られ
る。
【0038】また、本実施形態においては、表示電極が
透明導電層とAg合金電極層とから構成されている場合
について説明したが、これに限定されず、さらに他の層
が積層されて構成されていてもよいし、Ag合金電極層
のみから構成されていてもよい。さらに、本実施形態に
おいてはアドレス電極がAg合金電極層のみから構成さ
れている場合について説明したが、これに限定されず、
さらに他の層、例えば、透明導電材料からなる透明導電
層が積層されて構成されていてもよい。 (実施形態2)図3および図4(a)〜(b)に本発明
による実施形態2のプラズマ情報表示素子であるプラズ
マアドレス液晶表示装置(PALC)200を模式的に
示す。図3は、PALC200の上面図であり、図4
(a)は、図3中のA−A’線に沿った液晶表示部80
の断面図に相当し、図4(b)は、図3中のB−B’線
に沿った第1基板10の断面図に相当する。
【0039】PALC200は、第1基板10と、第1
基板に複数の隔壁40を介して対向する第2基板20
と、第1基板10と第2基板20と隔壁40とによって
囲まれた空間50に封入された放電ガス(不図示)と、
プラズマ放電を発生させるための複数の放電電極12と
を有している。
【0040】また、第1基板10に第2基板20を介し
て対向する第3基板30と、第2基板20および第3基
板30の間に設けられた液晶層70とを含む液晶表示部
80をさらに備えている。
【0041】第1基板10は、透明基板(例えば、厚さ
が約0.5mm〜約3.0mmのガラス基板)11上に
設けられた複数の放電電極12を有する。この放電電極
12は、Ag、PdおよびCuを含むAg合金を用いて
形成されたAg合金電極層12から構成されている。複
数の放電電極12は、隣接する2本毎に電極対を形成
し、隣接する電極対の間に、例えば低融点ガラスを用い
て形成された複数の隔壁40が電極対(あるいは電極1
2)と平行に設けられている。
【0042】この隔壁40を介して第1基板10と対向
する第2基板20は、透明誘電体板(例えば、厚さが約
10μm〜約100μmのガラス板)である。隣接する
隔壁40と第1基板10および第2基板20とに囲まれ
た空間50に、放電ガスが封入(例えば、Xeガスが約
3000Paのガス圧で封入)されている。
【0043】第3基板30は、透明基板(例えば、厚さ
が約0.5mm〜約2.0mmのガラス基板)31の液
晶層70側に設けられたカラーフィルタ32と、このカ
ラーフィルタ32上に放電電極12と交差するように設
けられた透明性を有する複数の対向電極(例えばITO
層)33とを有する。
【0044】液晶層70としては、例えば、TNモード
の液晶層を用いることができる。勿論これに限定され
ず、ゲストホストモードの液晶層を用いれば、第1基板
10および第3基板30の外側に設けられた偏光板17
および37を省略することができる。また、用いる液晶
層に応じて、第2基板20および第3基板30の液晶層
側には配向層(不図示)が設けられている。この液晶層
70の厚さは、スペーサ72によって、例えば約5μm
に規定されている。
【0045】ここで、図5を参照しながら、PALC2
00の動作について説明する。なお、図5においては、
第1基板の外側に設けられたバックライト90を併せて
示している。PALC200は、例えば、以下のように
して動作する。
【0046】まず、電極対を構成する2本の放電電極1
2間に、約100V〜約500Vの電圧を印加し、放電
空間50内にプラズマ放電を発生させる。このとき、電
極対を構成する2本の放電電極12のうち、一方はアノ
ードとして、他方はカソードとして機能する。アノード
を接地準位とし、カソードに−300V〜−450Vの
電圧を印加してプラズマ放電を発生させると、放電空間
50内は導通状態となり、放電空間50内の電位はカソ
ードの近傍を除いてアノードの電位とほぼ等しくなる。
【0047】これと同期して、液晶表示部80の対向電
極33に50V〜100Vの電圧を印加することによ
り、第2基板20の放電空間50側の表面近傍(以下、
「第2基板下面」と記す。)に負の電荷が誘導・蓄積さ
れる。勿論、対向電極33に−50V〜−100Vの電
圧を印加することで、正の電荷を蓄積させてもよい。こ
のとき、液晶層70は、アノードと対向電極33との間
の電圧(電位差)が第2基板20と液晶層70とで容量
分割された電圧に応じて、配向状態が変化する。
【0048】次に、プラズマ放電が中止されると、放電
空間50内は絶縁状態となり、第2基板下面に電荷が蓄
積された状態が維持される。すなわち、第2基板下面と
対向電極33との間の電圧(電位差)が、第2基板下面
と、第2基板20および液晶層70と、対向電極33と
によって形成される容量によって、サンプルホールドさ
れる。その結果、放電空間50内が絶縁状態となってい
る間もサンプルホールドされた電圧により、液晶層70
の配向状態は維持される。
【0049】また、アノードに交流電圧を印加すること
により、液晶層70への直流成分重畳を防止することが
できる。つまり、アノードに例えば0Vおよび50V〜
100Vの交流電圧を印加することにより、液晶層70
に印加される電圧の極性を入れ替える(ある期間ごとに
反転させる)ことができる。このことにより、表示の焼
付けおよび残像の発生を抑制するとともに、液晶材料の
劣化を抑制して寿命を延ばすことができる。
【0050】本発明によるPALC200においては、
プラズマ放電を発生させるための複数の放電電極12の
それぞれは、Ag合金電極層12から構成されており、
Ag合金電極層12は、Ag、PdおよびCuを含むA
g合金を用いて形成されている。このAg合金は、Ag
を主体とする合金であるために比抵抗が低く、また、P
dが添加されているためにAgイオンの拡散が抑制され
て耐マイグレーション特性が高く、さらに、Cuが添加
されているために空気や水蒸気による酸化及びこの酸化
に伴う穴あきが抑制されて耐食性が高い。従って、Ag
層を用いた場合に問題となる、Agイオンの拡散による
透明基板11の着色とマイグレーションとを抑制するこ
とができる。また、このAg合金は、Alをエッチング
する場合に一般に用いられるリン酸/硝酸/酢酸系のエ
ッチング液を用いてパターニングすることができるの
で、本発明によるPDP100は製造工程上の利点も有
している。
【0051】PALCでは、バックライトから入射して
透明基板を透過する光を用いて表示を行うので、輝度を
高くする観点からは、透明基板上に設けられたバス電極
の幅は十分に低い抵抗値が得られる範囲内でできるだけ
細いことが好ましい。本発明によるPDP100が有す
るAg合金電極層14は、比抵抗が低い上記のAg合金
を用いて形成されているので、Ag合金電極層14の幅
を細くすることが可能となり、高輝度の表示が実現され
る。
【0052】さらに、Ag合金電極層12は、単層構造
体として形成し得るとともに、Crを含まない材料を用
いて形成し得るので、Cr層/Cu層/Cr層を用いた
場合に問題となる、形成工程の増加およびエッチングの
複雑化などが生じない。
【0053】プラズマ放電を発生させるための放電電極
12は、例えば、以下のようにして形成する。まず、透
明基板11上にAg、PdおよびCuを含むAg合金を
用いてスパッタリング法によりAg合金層を堆積する。
Ag合金に含まれるPdの含有量は0.5重量%以上
5.0重量%以下であり、Cuの含有量は0.1重量%
以上5.0重量%以下であることが好ましい。本実施形
態においては、Ag−0.9重量%Pd−1重量%Cu
(フルヤ金属製)を用いる。次に、このAg合金層をフ
ォトリソグラフィプロセスを用いて所望の形状にパター
ニングすることにより、Ag合金電極層12を形成す
る。上述のようにして、放電電極12が得られる。 (実施形態3)図6に本発明による実施形態3のプラズ
マ情報表示素子であるPALC300を模式的に示す。
PALC300は、実施形態2のPALC200と、第
1基板10の構成が異なる点以外は同じ構成を有してい
る。以下の説明においては、PALC200と異なる点
を中心に説明する。なお、図6は、PALC300の第
1基板10を中心に示し、液晶表示部などは省略してい
る。
【0054】第1基板10は、透明基板(例えば、ガラ
ス基板)11上に設けられた複数の放電電極12を有す
る。放電電極12は、透明導電材料(例えばITO)を
用いて形成された透明導電層13と、この透明導電層1
3上にAg、PdおよびCuを含むAg合金を用いて形
成されたAg合金電極層14とから構成されている。こ
の放電電極12を覆うように、例えば低融点ガラスから
なる誘電体層15が形成されている。なお、この誘電体
層15上に、誘電体層15をプラズマ放電から保護する
ための保護層(例えばMgO層)を設けてもよい。
【0055】本発明による実施形態3のPALC300
においては、放電電極12を覆うように、誘電体層15
が形成されているので、プラズマ放電によって生成され
たイオンおよび/または電子により、放電電極12の構
成材料がスパッタリングされることがない。従って、放
電電極12の断線を防止することができるとともに、ス
パッタリングされた構成材料が透明基板11や第2基板
20に付着することによる透過率の低下が生じない。
【0056】また、PALC300においては、プラズ
マ放電を発生させるための複数の放電電極12のそれぞ
れは、Ag合金電極層14を有し、Ag合金電極層14
は、Ag、PdおよびCuを含むAg合金を用いて形成
されている。このAg合金は、Agを主体とする合金で
あるために比抵抗が低く、また、Pdが添加されている
ためにAgイオンの拡散が抑制されて耐マイグレーショ
ン特性が高く、さらに、Cuが添加されているために空
気や水蒸気による酸化及びこの酸化に伴う穴あきが抑制
されて耐食性が高い。従って、Ag層を用いた場合に問
題となる、Agイオンの拡散による誘電体層15および
透明基板11の着色とマイグレーションとを抑制するこ
とができる。また、このAg合金は、Alをエッチング
する場合に一般に用いられるリン酸/硝酸/酢酸系のエ
ッチング液を用いてパターニングすることができるの
で、本発明によるPDP100は製造工程上の利点も有
している。
【0057】さらに、Ag合金電極層14は、単層構造
体として形成し得るとともに、Crを含まない材料を用
いて形成し得るので、Cr層/Cu層/Cr層を用いた
場合に問題となる、形成工程の増加およびエッチングの
複雑化などが生じない。
【0058】プラズマ放電を発生させるための放電電極
12は、例えば、以下のようにして形成する。まず、透
明基板11上にスパッタリング法によりITO層を堆積
する。次に、このITO層をフォトリソグラフィプロセ
スを用いて所望の形状にパターニングすることにより、
透明導電層13を形成する。続いて、透明導電層13上
にAg、PdおよびCuを含むAg合金を用いてスパッ
タリング法によりAg合金層を堆積する。Ag合金に含
まれるPdの含有量は0.5重量%以上5.0重量%以
下であり、Cuの含有量は0.1重量%以上5.0重量
%以下であることが好ましい。本実施形態においては、
Ag−1.9重量%Pd−0.1重量%Cuを用いる。
その後、このAg合金層をフォトリソグラフィプロセス
を用いて所望の形状にパターニングすることにより、A
g合金電極層14を形成する。上述のようにして、放電
電極12が得られる。
【0059】本実施形態においては、図6に示したよう
に、Ag合金電極層14と誘電体層15とが互いに接す
る構成を有している場合について説明したが、これに限
定されず、Ag合金電極層14と誘電体層15とが互い
に接しない構成としてもよい。図7(a)および(b)
にこのような構成を有するプラズマ情報表示素子400
を模式的に示す。図7(b)は、図7(a)に示すプラ
ズマ情報表示素子400が有する放電電極12の拡大図
である。
【0060】図7(a)および(b)に示すように、プ
ラズマ情報表示素子400は、透明基板11上に形成さ
れたAg合金電極層14を覆うように透明導電層13が
形成されている点以外は、プラズマ情報表示素子300
と同様の構成を有している。
【0061】プラズマ情報表示素子400においては、
放電電極12の誘電体層15に接する部分は、透明導電
層13であるので、誘電体層15とAg合金電極層14
との間に透明導電層が介在する。従って、誘電体層15
へのAgイオンの拡散がより効果的に抑制される。その
結果、誘電体層15の着色をより効果的に防止すること
ができる。また、Ag合金電極層14を覆うように透明
導電層13が形成されているので、Ag合金電極層14
が透明基板11および/または透明導電層13に対する
密着力の比較的弱い材料を用いて形成されていても、A
g合金電極層14の剥離を防止することができる。
【0062】プラズマ情報表示素子400が有する放電
電極12は、例えば、以下のようにして形成する。ま
ず、透明基板11上にAg、PdおよびCuを含むAg
合金を用いてスパッタリング法によりAg合金層を堆積
する。Ag合金に含まれるPdの含有量は0.5重量%
以上5.0重量%以下であり、Cuの含有量は0.1重
量%以上5.0重量%以下であることが好ましい。本実
施形態においては、Ag−1.9重量%Pd−0.1重
量%Cuを用いる。次に、このAg合金層をフォトリソ
グラフィプロセスを用いて所望の形状にパターニングす
ることにより、Ag合金電極層14を形成する。続い
て、このAg合金電極層14を覆うように透明基板11
上にスパッタリング法によりITO層を堆積する。その
後、このITO層をフォトリソグラフィプロセスを用い
て所望の形状にパターニングすることにより、透明導電
層13を形成する。上述のようにして、放電電極12が
得られる。
【0063】上述のプラズマ情報表示素子400は、図
7(a)および(b)に示したように、Ag合金電極層
14と透明基板11とが互いに接する構成を有している
が、これらが互いに接しない構成としてもよい。図8
(a)および(b)にこのような構成を有するプラズマ
情報表示素子500を模式的に示す。図8(b)は、図
8(a)に示すプラズマ情報表示素子500が有する放
電電極12を模式的に示す拡大図である。
【0064】図8(a)および(b)に示すように、プ
ラズマ情報表示素子500は、放電電極12の誘電体層
15に接する部分が透明導電層13であり、且つ、透明
基板11に接する部分も透明導電層13である。
【0065】プラズマ情報表示素子500においては、
放電電極12の誘電体層15に接する部分が透明導電層
13であるので、上述のプラズマ情報表示素子400と
同様に、誘電体層15へのAgイオンの拡散がより効果
的に抑制され、その結果、誘電体層15の着色をより効
果的に防止することができる。また、Ag合金電極層1
4を覆うように透明導電層13が形成されていることに
加えて、透明基板11に接する部分も透明導電層13で
あるため、Ag合金電極層14が透明基板11および/
または透明導電層13に対する密着力の比較的弱い材料
を用いて形成されていても、Ag合金電極層14の剥離
をより効果的に防止することができる。
【0066】プラズマ情報表示素子500が有する放電
電極12は、例えば、以下のようにして形成する。
【0067】まず、透明基板11上にスパッタリング法
によりIn23+ZnO層を堆積する。その後、このI
23+ZnO層をフォトリソグラフィプロセスを用い
て所望の形状にパターニングすることにより、第1の透
明導電層を形成する。
【0068】次に、第1の透明導電層上にAg、Pdお
よびCuを含むAg合金を用いてスパッタリング法によ
りAg合金層を堆積する。Ag合金に含まれるPdの含
有量は0.5重量%以上5.0重量%以下であり、Cu
の含有量は0.1重量%以上5.0重量%以下であるこ
とが好ましい。本実施形態においては、Ag−1.9重
量%Pd−0.1重量%Cuを用いる。その後、このA
g合金層をフォトリソグラフィプロセスを用いて所望の
形状にパターニングすることにより、Ag合金電極層1
4を形成する。
【0069】続いて、このAg合金電極層14を覆うよ
うにスパッタリング法によりIn23+ZnO層を堆積
する。その後、このIn23+ZnO層をフォトリソグ
ラフィプロセスを用いて所望の形状にパターニングする
ことにより、第2の透明導電層を形成し、第1透明導電
層および第2透明導電層からなる透明導電層13が得ら
れる。
【0070】上述のようにして、透明導電層13および
Ag合金電極層14からなる放電電極12を形成するこ
とができる。
【0071】
【発明の効果】本発明によれば、Agイオンの拡散およ
びマイグレーションが抑制された、表示品位に優れ、且
つ、電気的信頼性の高いプラズマ情報表示素子が提供さ
れる。
【0072】また、本発明によれば、上述のようなプラ
ズマ情報表示素子の電極を、毒性のない、且つ、単純な
構造の電極とすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による実施形態1のプラズマ情報表示素
子であるプラズマディスプレイパネル(PDP)100
を模式的に示す上面図である。
【図2】(a)は、本発明による実施形態1のPDP1
00の第1基板10を模式的に示す断面図であり、
(b)は、本発明による実施形態1のPDP100の第
2基板20を模式的に示す断面図である。
【図3】本発明による実施形態2のプラズマ情報表示素
子であるプラズマアドレス液晶表示装置(PALC)2
00を模式的に示す上面図である。
【図4】(a)は、本発明による実施形態2のPALC
200の液晶表示部80を模式的に示す断面図であり、
(b)は、本発明による実施形態2のPALC200の
第1基板10を模式的に示す断面図である。
【図5】本発明による実施形態2のPALC200の動
作を模式的に示す図である。
【図6】本発明による実施形態3のプラズマ情報表示素
子であるPALC300を模式的に示す断面図である。
【図7】(a)は、本発明による実施形態3のプラズマ
情報表示素子であるPALC400を模式的に示す断面
図である。(b)は、PALC400が有する放電電極
12を模式的に示す拡大図である。
【図8】(a)は、本発明による実施形態3のプラズマ
情報表示素子であるPALC500を模式的に示す断面
図である。(b)は、PALC500が有する放電電極
12を模式的に示す拡大図である。
【図9】従来のプラズマ情報表示素子600を模式的に
示す上面図である。
【図10】(a)は、従来のプラズマ情報表示素子60
0の第1基板10を模式的に示す断面図であり、(b)
は、従来のプラズマ情報表示素子600の第2基板20
を模式的に示す断面図である。
【図11】従来のプラズマ情報表示素子600の動作を
模式的に示す図である。
【符号の説明】
10 第1基板 11 透明基板 12 表示電極、放電電極 12’ 表示電極 13 透明導電層 13’ 透明電極 14 Ag合金電極層 14’ バス電極 15 誘電体層 16 保護層 20 第2基板 21 絶縁性基板 22、22’ アドレス電極 25 第2誘電体層 30 第3基板 31 透明基板 32 カラーフィルタ 33 対向電極 40 隔壁 50 放電空間 60 蛍光体層 60R 赤色蛍光体層 60G 緑色蛍光体層 60B 青色蛍光体層 70 液晶層 72 スペーサ 80 液晶表示部 90 バックライト 100 プラズマ情報表示素子 200 プラズマ情報表示素子 300 プラズマ情報表示素子 400 プラズマ情報表示素子 500 プラズマ情報表示素子 600 プラズマ情報表示素子
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 外川 剛広 東京都品川区北品川6丁目7番35号 ソニ ー株式会社内 Fターム(参考) 2H089 HA36 QA16 RA05 RA06 TA07 TA12 TA18 5C040 FA01 FA04 FA09 GB03 GB14 GC01 GC04 GC05 GC06 GC18

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 第1基板と、前記第1基板に複数の隔壁
    を介して対向する第2基板と、前記第1基板と前記第2
    基板と前記隔壁とによって囲まれた空間に封入された放
    電ガスと、プラズマ放電を発生させるための複数の電極
    とを有し、 前記複数の電極のそれぞれは、Ag、PdおよびCuを
    含むAg合金を含むAg合金電極層を有する、プラズマ
    情報表示素子。
  2. 【請求項2】 前記Ag合金電極層は、前記Ag合金の
    みを用いて形成されている請求項1に記載のプラズマ情
    報表示素子。
  3. 【請求項3】 前記Ag合金に含まれるPdの含有量は
    0.5重量%以上5.0重量%以下であり、Cuの含有
    量は0.1重量%以上5.0重量%以下である請求項1
    または2に記載のプラズマ情報表示素子。
  4. 【請求項4】 前記第1基板に前記第2基板を介して対
    向する第3基板と、前記第2基板および前記第3基板の
    間に設けられた液晶層とを含む液晶表示部をさらに備え
    た請求項1から3の何れかに記載のプラズマ情報表示素
    子。
  5. 【請求項5】 前記複数の電極は、少なくとも前記第1
    基板の前記第2基板側の表面に形成された電極を含み、 前記電極は、透明導電材料からなる透明導電層をさらに
    有し、 前記電極を覆うように、前記第1基板上に誘電体層が形
    成されている、請求項1から4の何れかに記載のプラズ
    マ情報表示素子。
  6. 【請求項6】 前記電極の、少なくとも前記誘電体層に
    接する部分は、前記透明導電層である請求項5に記載の
    プラズマ情報表示素子。
  7. 【請求項7】 前記電極の、前記第1基板に接する部分
    は、前記透明導電層である請求項5または6に記載のプ
    ラズマ情報表示素子。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002277855A (ja) * 2001-03-15 2002-09-25 Sharp Corp Ag合金薄膜の形成方法および情報表示素子
KR100533726B1 (ko) * 2003-06-11 2005-12-06 엘지전자 주식회사 플라즈마 디스플레이 패널
US20200411450A1 (en) * 2015-01-14 2020-12-31 Corning Incorporated Glass substrate and display device comprising the same

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