RU2016151659A - Прозрачный проводящий оксид олова, легированный индием - Google Patents
Прозрачный проводящий оксид олова, легированный индием Download PDFInfo
- Publication number
- RU2016151659A RU2016151659A RU2016151659A RU2016151659A RU2016151659A RU 2016151659 A RU2016151659 A RU 2016151659A RU 2016151659 A RU2016151659 A RU 2016151659A RU 2016151659 A RU2016151659 A RU 2016151659A RU 2016151659 A RU2016151659 A RU 2016151659A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- path
- tin oxide
- substrate
- indium tin
- target
- Prior art date
Links
- DDSPUNTXKUFWTM-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tin(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Sn+4] DDSPUNTXKUFWTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 title 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 title 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 22
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 22
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 14
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims 6
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 claims 3
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims 2
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims 1
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/08—Oxides
- C23C14/086—Oxides of zinc, germanium, cadmium, indium, tin, thallium or bismuth
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
- C03C17/23—Oxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
- C03C17/23—Oxides
- C03C17/245—Oxides by deposition from the vapour phase
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/08—Oxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Manufacturing Of Electric Cables (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Claims (29)
1. Способ изготовления оксида индия-олова, содержащий:
напыление индия и олова из мишени на подложку с образованием оксида индия-олова поверх подложки, причем напыление содержит перемещение мишени относительно подложки вдоль пути поверх подложки,
причем пленка оксида индия-олова обладает толщиной в диапазоне от 500 нм до 4 мкм,
при этом перемещение мишени содержит перемещение мишени от конца пути до другого конца пути, и
при этом конец пути находится на конце подложки, а другой конец пути находится на другом конце подложки.
2. Способ по п. 1, в котором удельное поверхностное сопротивление оксида индия-олова составляет менее 0,5 Ом/квадрат.
3. Способ по любому предыдущему п., в котором перемещение мишени от конца пути до другого конца пути создает первый слой оксида индия-олова.
4. Способ по п. 3, дополнительно содержащий перемещение мишени от другого конца пути до конца пути для совершения цикла.
5. Способ по п. 3, дополнительно содержащий перемещение мишени от другого конца пути до конца пути с образованием второго слоя оксида индия-олова поверх первого слоя оксида индия-олова.
6. Способ по п. 4 или 5, в котором перемещение мишени содержит совершение множества циклов.
7. Способ по п. 6, в котором перемещение мишени содержит совершение 2 или более циклов.
8. Способ по пп. 5, 6 или 7, дополнительно содержащий перемещение мишени от конца пути до другого конца пути с образованием третьего слоя оксида индия-олова поверх второго слоя оксида индия-олова.
9. Способ по любому предыдущему п., в котором напыление выполняют при температуре в диапазоне от комнатной температуры до 700°F.
10. Способ по любому предыдущему п., в котором напыление выполняют в течение периода времени в пределах примерно 1 минута или более.
11. Способ по любому предыдущему п., в котором напыление выполняют при пропускании инертного газа над подложкой при расходе инертного газа в диапазоне от примерно 100 до примерно 600 ст.см3/мин и при пропускании газообразного кислорода над подложкой при расходе газообразного кислорода в диапазоне от примерно 5 до 400 ст.см3/мин.
12. Способ по любому предыдущему п., в котором часть оксида индия-олова отжигается по мере того, как мишень удаляется от этой части оксида индия-олова.
13. Способ по любому предыдущему п., в котором перемещение мишени относительно подложки содержит перемещение мишени и/или подложки.
14. Пленка оксида индия-олова, содержащая оксид индия-олова, причем оксид индия-олова изготовлен согласно способу по любому предыдущему п..
15. Остекление летательного аппарата, наземного транспортного средства, устройства отображения или электрохромного окна, содержащее пленку оксида индия-олова по п.14.
16. Способ изготовления пленки оксида индия-олова, содержащий:
напыление индия и олова из мишени на подложку с образованием оксида индия-олова поверх подложки, причем напыление содержит перемещение мишени относительно подложки вдоль пути поверх подложки с образованием множества слоев оксида индия-олова,
причем удельное поверхностное сопротивление оксида индия-олова составляет менее 0,5 Ом/квадрат,
при этом перемещение мишени содержит перемещение мишени от конца пути до другого конца пути, и
при этом конец пути находится на конце подложки, а другой конец пути находится на другом конце подложки.
17. Способ по п. 16, в котором пленка оксида индия-олова обладает толщиной в диапазоне от 10 нм до 4 мкм.
18. Способ изготовления оксида индия-олова, содержащий:
напыление индия и олова из мишени на подложку с образованием оксида индия-олова поверх подложки, причем напыление содержит перемещение мишени относительно подложки вдоль пути поверх подложки,
причем перемещение мишени содержит перемещение мишени от конца пути до другого конца пути, и
при этом конец пути находится на конце подложки, а другой конец пути находится на другом конце подложки.
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US14/292,200 | 2014-05-30 | ||
| US14/292,200 US9988707B2 (en) | 2014-05-30 | 2014-05-30 | Transparent conducting indium doped tin oxide |
| PCT/US2015/020151 WO2015183374A1 (en) | 2014-05-30 | 2015-03-12 | Transparent conducting indium doped tin oxide |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2016151659A true RU2016151659A (ru) | 2018-07-04 |
| RU2016151659A3 RU2016151659A3 (ru) | 2018-07-05 |
| RU2693982C2 RU2693982C2 (ru) | 2019-07-08 |
Family
ID=52811205
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2016151659A RU2693982C2 (ru) | 2014-05-30 | 2015-03-12 | Прозрачный проводящий оксид олова, легированный индием |
Country Status (8)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US9988707B2 (ru) |
| EP (1) | EP3149220B1 (ru) |
| JP (1) | JP2017518441A (ru) |
| CN (1) | CN106460154A (ru) |
| CA (1) | CA2948259C (ru) |
| ES (1) | ES2739885T3 (ru) |
| RU (1) | RU2693982C2 (ru) |
| WO (1) | WO2015183374A1 (ru) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2645902C2 (ru) * | 2016-07-12 | 2018-02-28 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Вятская государственная сельскохозяйственная академия" (ФГБОУ ВО Вятская ГСХА) | Способ и устройство электролитического легирования полупроводниковых соединений индием и галлием |
| US10587221B2 (en) | 2017-04-03 | 2020-03-10 | Epic Battery Inc. | Modular solar battery |
| US10457148B2 (en) | 2017-02-24 | 2019-10-29 | Epic Battery Inc. | Solar car |
| US11337311B2 (en) | 2018-07-06 | 2022-05-17 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Aircraft window with variable power density heater film |
| CN109811308A (zh) * | 2019-01-29 | 2019-05-28 | 晟光科技股份有限公司 | 一种ito导电膜制作工艺 |
| US11489082B2 (en) | 2019-07-30 | 2022-11-01 | Epic Battery Inc. | Durable solar panels |
Family Cites Families (43)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4132624A (en) | 1971-02-05 | 1979-01-02 | Triplex Safety Glass Company Limited | Apparatus for producing metal oxide films |
| JPS5788028A (en) * | 1980-11-14 | 1982-06-01 | Asahi Glass Co Ltd | Formation of electrically conductive transparent film of indium oxide |
| JPS63176472A (ja) * | 1987-01-13 | 1988-07-20 | Mitsubishi Electric Corp | インライン型反応性スパツタ装置 |
| EP0299687B1 (en) | 1987-07-17 | 1993-06-23 | LUCAS INDUSTRIES public limited company | Transparencies |
| JPH05263228A (ja) * | 1992-03-19 | 1993-10-12 | Toshiba Corp | スパッタリング装置 |
| RU2075537C1 (ru) * | 1992-12-05 | 1997-03-20 | Хайэр Вакуум инд Ко., Лтд. | Экзотермическое стекло и способы его изготовления |
| US5668663A (en) | 1994-05-05 | 1997-09-16 | Donnelly Corporation | Electrochromic mirrors and devices |
| US5873989A (en) * | 1997-02-06 | 1999-02-23 | Intevac, Inc. | Methods and apparatus for linear scan magnetron sputtering |
| JP2000238178A (ja) | 1999-02-24 | 2000-09-05 | Teijin Ltd | 透明導電積層体 |
| JP3056200B1 (ja) * | 1999-02-26 | 2000-06-26 | 鐘淵化学工業株式会社 | 薄膜光電変換装置の製造方法 |
| FR2793106B1 (fr) | 1999-04-28 | 2001-06-22 | Saint Gobain Vitrage | Vitrage multiple isolant, en particulier hublot d'avion, a blindage electromagnetique |
| RU2181389C2 (ru) * | 1999-06-29 | 2002-04-20 | Омский научно-исследовательский институт приборостроения | Способ получения прозрачной электропроводящей пленки на основе оксидов индия и олова |
| GB2361245A (en) | 2000-04-14 | 2001-10-17 | Jk Microtechnology Ltd | High conductivity indium-tin-oxide films |
| DE10023459A1 (de) | 2000-05-12 | 2001-11-15 | Balzers Process Systems Gmbh | Indium-Zinn-Oxid (ITO)-Schicht und Verfahren zur Herstellung derselben |
| JP5007777B2 (ja) | 2000-05-21 | 2012-08-22 | Ｔｄｋ株式会社 | 透明導電積層体 |
| JP3889221B2 (ja) | 2000-12-05 | 2007-03-07 | 独立行政法人科学技術振興機構 | Ｉｔｏ透明導電膜形成用塗布液および透明導電膜の形成方法 |
| JP2002350834A (ja) * | 2001-03-07 | 2002-12-04 | Ueyama Denki:Kk | カラーフィルターの製造方法 |
| US6743488B2 (en) | 2001-05-09 | 2004-06-01 | Cpfilms Inc. | Transparent conductive stratiform coating of indium tin oxide |
| US6864555B2 (en) * | 2001-09-04 | 2005-03-08 | Eugene Robert Worley | Photo detector methods to reduce the disabling effects of displacement current in opto-couplers |
| JP2003086025A (ja) | 2001-09-07 | 2003-03-20 | Sanyo Electric Co Ltd | 透明導電膜成膜基板及びその製造方法 |
| JP4320564B2 (ja) | 2002-06-28 | 2009-08-26 | 日亜化学工業株式会社 | 透明導電膜形成用組成物、透明導電膜形成用溶液および透明導電膜の形成方法 |
| RU2241065C2 (ru) * | 2003-01-27 | 2004-11-27 | Институт солнечно-земной физики СО РАН | Способ нанесения проводящего прозрачного покрытия |
| JP4246547B2 (ja) | 2003-05-23 | 2009-04-02 | 株式会社アルバック | スパッタリング装置、及びスパッタリング方法 |
| RU2274675C1 (ru) * | 2005-02-16 | 2006-04-20 | Валерий Андреевич Попов | Способ получения оптически прозрачного электропроводного покрытия и изделие с покрытием, полученное указанным способом (варианты) |
| WO2007096485A2 (en) | 2006-02-23 | 2007-08-30 | Picodeon Ltd Oy | Coating on a metal substrate and a coated metal product |
| WO2008050618A1 (fr) * | 2006-10-24 | 2008-05-02 | Ulvac, Inc. | Procédé de fabrication d'un film mince et dispositif de fabrication d'un film mince |
| FR2908229B1 (fr) | 2006-11-03 | 2023-04-28 | Saint Gobain | Couche transparente a haute conductivite electrique avec grille metallique a tenue electrochimique optimisee adaptee pour subir un traitement thermique de type bombage, ou trempe |
| US8372114B2 (en) | 2006-11-13 | 2013-02-12 | Electroformed Stents, Inc. | Over-the-wire exclusion device and system for delivery |
| KR101083443B1 (ko) * | 2007-03-01 | 2011-11-14 | 가부시키가이샤 알박 | 박막 형성 방법 및 박막 형성 장치 |
| JP4885274B2 (ja) | 2007-06-26 | 2012-02-29 | Ｊｘ日鉱日石金属株式会社 | アモルファス複合酸化膜、結晶質複合酸化膜、アモルファス複合酸化膜の製造方法および結晶質複合酸化膜の製造方法 |
| US8277694B2 (en) | 2007-07-13 | 2012-10-02 | Jx Nippon Mining & Metals Corporation | Sintered compact of composite oxide, amorphous film of composite oxide, process for producing said film, crystalline film of composite oxide and process for producing said film |
| US20100028684A1 (en) | 2008-07-31 | 2010-02-04 | Jose Mariscal | Conductive multilayer stack |
| US8257830B2 (en) | 2008-07-31 | 2012-09-04 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Electrically conductive protective liner and method of manufacture |
| US8080141B2 (en) * | 2008-11-18 | 2011-12-20 | Guardian Industries Corp. | ITO-coated article and/or method of making the same via heat treating |
| WO2010090197A1 (ja) | 2009-02-04 | 2010-08-12 | シャープ株式会社 | 透明導電膜形成体及びその製造方法 |
| US8445373B2 (en) | 2009-05-28 | 2013-05-21 | Guardian Industries Corp. | Method of enhancing the conductive and optical properties of deposited indium tin oxide (ITO) thin films |
| WO2011061922A1 (ja) * | 2009-11-19 | 2011-05-26 | 株式会社アルバック | 透明導電膜の製造方法、透明導電膜の製造装置、スパッタリングターゲット及び透明導電膜 |
| KR101155906B1 (ko) * | 2009-12-11 | 2012-06-20 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 스퍼터링 장치 |
| US8524337B2 (en) | 2010-02-26 | 2013-09-03 | Guardian Industries Corp. | Heat treated coated article having glass substrate(s) and indium-tin-oxide (ITO) inclusive coating |
| JP5630747B2 (ja) | 2010-05-14 | 2014-11-26 | リンテック株式会社 | 酸化亜鉛系導電性積層体及びその製造方法並びに電子デバイス |
| EP2437280A1 (en) | 2010-09-30 | 2012-04-04 | Applied Materials, Inc. | Systems and methods for forming a layer of sputtered material |
| US9831072B2 (en) * | 2011-06-30 | 2017-11-28 | View, Inc. | Sputter target and sputtering methods |
| CN103489505B (zh) * | 2013-10-12 | 2016-02-24 | 东莞市平波电子有限公司 | 一种触摸屏用ito导电膜及其制备方法 |
-
2014
- 2014-05-30 US US14/292,200 patent/US9988707B2/en active Active
-
2015
- 2015-03-12 ES ES15712491T patent/ES2739885T3/es active Active
- 2015-03-12 WO PCT/US2015/020151 patent/WO2015183374A1/en active Application Filing
- 2015-03-12 CA CA2948259A patent/CA2948259C/en active Active
- 2015-03-12 RU RU2016151659A patent/RU2693982C2/ru active
- 2015-03-12 EP EP15712491.8A patent/EP3149220B1/en active Active
- 2015-03-12 CN CN201580028918.XA patent/CN106460154A/zh active Pending
- 2015-03-12 JP JP2016570853A patent/JP2017518441A/ja active Pending
-
2018
- 2018-06-05 US US16/000,821 patent/US20180291497A1/en active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP3149220B1 (en) | 2019-05-08 |
| ES2739885T3 (es) | 2020-02-04 |
| CA2948259C (en) | 2024-02-20 |
| US20150345006A1 (en) | 2015-12-03 |
| JP2017518441A (ja) | 2017-07-06 |
| US20180291497A1 (en) | 2018-10-11 |
| WO2015183374A1 (en) | 2015-12-03 |
| CA2948259A1 (en) | 2015-12-03 |
| RU2016151659A3 (ru) | 2018-07-05 |
| EP3149220A1 (en) | 2017-04-05 |
| US9988707B2 (en) | 2018-06-05 |
| RU2693982C2 (ru) | 2019-07-08 |
| CN106460154A (zh) | 2017-02-22 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| RU2016151659A (ru) | Прозрачный проводящий оксид олова, легированный индием | |
| MX2019010290A (es) | Artículo recubierto con recubrimiento de baja emisividad que tiene una capa protectora de plata dopada para proteger capa(s) reflectante(s) de infrarrojo (ir) a base de plata, y método para fabricarlo. | |
| JP2017518441A5 (ru) | ||
| RU2015138108A (ru) | Слои для минимизации влияния дефектов в электрохромных устройствах | |
| RU2013144396A (ru) | БАРЬЕРНЫЕ СЛОИ, ВКЛЮЧАЮЩИЕ Ni И/ИЛИ Ti, ПОКРЫТЫЕ ИЗДЕЛИЯ, ВКЛЮЧАЮЩИЕ БАРЬЕРНЫЕ СЛОИ, И СПОСОБЫ ИХ ИЗГОТОВЛЕНИЯ | |
| RU2014129498A (ru) | Изделия, включающие антиконденсатные и/или низкоэмиссионные покрытия, и/или способы их изготовления | |
| WO2013103857A8 (en) | Method and structure of optical thin film using crystallized nano-porous material | |
| RU2013158346A (ru) | Низкоэмиссионное многослойное покрытие и двойное оконное стекло | |
| WO2012102556A3 (ko) | 투명 도전막의 제조방법 및 이에 의해 제조된 투명 도전막 | |
| FR2955575B1 (fr) | Substrat verrier revetu d'une couche haut indice sous un revetement electrode et dispositif electroluminescent organique comportant un tel substrat. | |
| EA201591829A1 (ru) | Низкоэмиссионное остекление | |
| JP2013028864A5 (ja) | 銀ナノ粒子を製造するプロセスおよび導電性要素を製造するプロセス | |
| MX367755B (es) | Artículo revestido con recubrimiento de baja-e que tiene un recubrimiento exterior de múltiples capas y método para hacer el mismo. | |
| WO2014191485A3 (en) | Solar control glazing | |
| WO2012118713A3 (en) | Process for patterning materials in thin-film devices | |
| WO2014085315A3 (en) | Method for forming a barrier layer | |
| JP2010198018A5 (ru) | ||
| WO2013078279A3 (en) | Smudge-resistant glass articles and methods for making and using same | |
| GB201106553D0 (en) | Mthod for coating substrates | |
| JP2013247036A5 (ru) | ||
| EA201691007A1 (ru) | ОКОННОЕ СТЕКЛО, СОДЕРЖАЩЕЕ ОСНОВУ, ПОКРЫТУЮ МНОГОСЛОЙНОЙ СИСТЕМОЙ, СОДЕРЖАЩЕЙ ФУНКЦИОНАЛЬНЫЙ СЛОЙ НА ОСНОВЕ СЕРЕБРА И ТОЛСТЫЙ НИЖНИЙ БЛОКИРУЮЩИЙ СЛОЙ ИЗ TiO | |
| WO2016040913A3 (en) | Photonic curing of nanocrystal films for photovoltaics | |
| JP2011119246A5 (ja) | 発光装置の作製方法、および発光装置 | |
| MX340161B (es) | Cristal de control solar que comprende una capa de una aleacion que contene nicu. | |
| WO2012073009A3 (en) | Nanopore devices |