RU2241065C2 - Способ нанесения проводящего прозрачного покрытия - Google Patents
Способ нанесения проводящего прозрачного покрытия Download PDFInfo
- Publication number
- RU2241065C2 RU2241065C2 RU2003102289/02A RU2003102289A RU2241065C2 RU 2241065 C2 RU2241065 C2 RU 2241065C2 RU 2003102289/02 A RU2003102289/02 A RU 2003102289/02A RU 2003102289 A RU2003102289 A RU 2003102289A RU 2241065 C2 RU2241065 C2 RU 2241065C2
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- tin
- oxygen
- gas mixture
- indium
- conductive transparent
- Prior art date
Links
Landscapes
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Abstract
Изобретение относится к области технологических процессов, связанных с нанесением оптических покрытий, в частности к магнетронному распылению электропроводящих покрытий в среде реактивных газов, и может быть использовано для получения прозрачных электропроводящих слоев на поверхности оптических деталей. Предложенный способ включает реактивное магнетронное распыление и осаждение металлического индия с добавлением олова в атмосфере газовой смеси инертного газа и кислорода, при этом осаждение ведут при соотношении напыляемых компонентов в мишени: индий - 95%, олово - 5% и при отношении парциальных давлений кислорода и аргона в газовой смеси, составляющем 1:6. В процессе реактивного магнетронного распыления толщину покрытия контролируют спектрофотометром до достижения максимума пропускания в нужной длине волны света. Техническим результатом изобретения является разработка способа, позволяющего получить высококачественное покрытие, оптическая прозрачность которого в видимом диапазоне составляет 90%, удельное поверхностное сопротивление в зависимости от толщины нанесенного покрытия составляет 30-75 Ом/кв при однородности 3-7 Ом/кв.
Description
Предлагаемое изобретение относится к области технологических процессов, связанных с нанесением оптических покрытий, в частности к магнетронному распылению электропроводящих покрытий в среде реактивных газов, и может быть использовано для получения прозрачных электропроводящих слоев на поверхности оптических деталей.
Известны способы получения проводящих прозрачных покрытий из оксида индия [1] и (JP, заявка 63-54788, кл. С 23 С 14/08).
Недостатками первого из них являются: требуется предварительное охлаждение подложки, низкая скорость нанесения покрытия, сложный состав атмосферы в камере. Основным недостатком второго способа является необходимость предварительного нагрева стеклянной подложки.
Наиболее близким по технической сущности к заявляемому изобретению является способ, описанный в [2]. Особенностью данного способа является бомбардировка ионами с кинетической энергией порядка 50 эВ поверхностных слоев материала покрытия в процессе нанесения. Осаждение покрытия проводят путем реактивного магнетронного испарения металлической мишени, состоящей из индия с добавлением олова. У этого способа основным недостатком является необходимость ионной стимуляции в процессе напыления, что требует дополнительного оборудования и усложняет технический процесс, кроме того, контроль толщины не прямой, а осуществляется по времени напыления, что приводит к большому разбросу значений пропускания готового покрытия.
Задача, на решение которой направлено данное изобретение, заключается в разработке способа, позволяющего получать проводящее прозрачное покрытие из оксида индия с добавлением оксида олова без предварительной термической подготовки подложки, заключающейся в ее нагреве или охлаждении, без последующего высокотемпературного отжига подложки; без использования ионной стимуляции, с прямым контролем толщины покрытия в процессе напыления.
В качестве примера реализации предлагаемого решения можно рассматривать произведенное авторами напыление прозрачных электродов электрооптического модулятора на основе кристаллов калия дигидрофосфата (KDP) и дейтерированного калия дигидрофосфата (DKDP). При этом поставленная задача решается тем, что способ получения проводящих прозрачных покрытий, включающий реактивное магнетронное распыление и осаждение металлического индия с добавлением олова в атмосфере газовой смеси инертного газа и кислорода, осуществляют при отсутствии ионной стимуляции с жестким удержанием параметров газовой смеси и давления в узком коридоре значений. Отношение парциальных давлений аргона и кислорода в газовой смеси задают 6:1 при составе мишени: индий 95%, олово 5%, а в процессе реактивного магнитронного распыления толщину покрытия контролируют по спектрофотометру до достижения максимума пропускания. Эти признаки являются существенными и позволяют получать высокую повторяемость не только электрических, но и оптических характеристик покрытий.
Поскольку предлагаемый способ не требует ионной стимуляции, технологический процесс упрощается, не требуется сложное и дорогое оборудование. Напыление происходит при общем давлении в камере 6-7·10-3 мбар, при этом напряжение разряда магнетрона 500-600 В. Время нанесения покрытия 4-8 мин, толщину покрытия можно варьировать в диапазоне 0,01-0,05 мкм.
Напыление проводилось также на следующие подложки: оптическое стекло марки К8, кристаллы KDP и DKDP размером 50·50 мм, толщиной до 5 мм. В результате получены опытные образцы, имеющие высококачественную структуру покрытия, оптически прозрачную - в видимом диапазоне прозрачность составляет 90% (однородность пропускания по полю не хуже 1%). Удельное поверхностное сопротивлением в зависимости от толщины составляет 30-75 Ом/кв при однородности 3-7 Ом/кв.
Источники информации
1. Замоздик Т.В., Мельченко П.И. Авторское свидетельство №950798 "Способ получения проводящих прозрачных покрытий из оксида индия", БИ №30, 1982.
2. Титомир А.К., Сушков В.Я. Духопельников Д.В. Патент РФ №2112076 "Способ нанесения проводящего прозрачного покрытия", БИ №15, 1998.
Claims (1)
- Способ нанесения проводящего прозрачного покрытия, включающий реактивное магнетронное распыление и осаждение металлического индия с добавлением олова в атмосфере газовой смеси инертного газа и кислорода, отличающийся тем, что осаждение ведут при соотношении напыляемых компонентов в мишени: индий 95%, олово 5% и при отношении парциальных давлений кислорода и аргона в газовой смеси, составляющем 1:6, при этом в процессе реактивного магнетронного распыления толщину покрытия контролируют спектрофотометром до достижения максимума пропускания в нужной длине волны света.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU2003102289/02A RU2241065C2 (ru) | 2003-01-27 | 2003-01-27 | Способ нанесения проводящего прозрачного покрытия |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU2003102289/02A RU2241065C2 (ru) | 2003-01-27 | 2003-01-27 | Способ нанесения проводящего прозрачного покрытия |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2003102289A RU2003102289A (ru) | 2004-07-20 |
RU2241065C2 true RU2241065C2 (ru) | 2004-11-27 |
Family
ID=34310334
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU2003102289/02A RU2241065C2 (ru) | 2003-01-27 | 2003-01-27 | Способ нанесения проводящего прозрачного покрытия |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
RU (1) | RU2241065C2 (ru) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2448197C1 (ru) * | 2011-04-05 | 2012-04-20 | Российская Федерация, от имени которой выступает Министерство промышленности и торговли Российской Федерации (Минпромторг России) | Способ нанесения прозрачного электропроводящего покрытия |
RU2491371C2 (ru) * | 2009-01-09 | 2013-08-27 | Сумитомо Электрик Индастриз, Лтд. | Конструктивный элемент из магниевого сплава |
RU2499079C2 (ru) * | 2008-06-13 | 2013-11-20 | Фраунхофер-Гезелльшафт Цур Фердерунг Дер Ангевандтен Форшунг Е.Ф. | Способ получения прозрачного проводящего покрытия из оксида металла путем импульсного высокоионизирующего магнетронного распыления |
RU2564650C1 (ru) * | 2014-07-22 | 2015-10-10 | Федеральное государственное унитарное предприятие "Всероссийский научно-исследовательский институт авиационных материалов" (ФГУП "ВИАМ") | Способ нанесения электропроводящего покрытия для электрообогреваемого элемента органического остекления |
RU2693982C2 (ru) * | 2014-05-30 | 2019-07-08 | ПиПиДжи ИНДАСТРИЗ ОГАЙО, ИНК. | Прозрачный проводящий оксид олова, легированный индием |
US11911780B2 (en) | 2018-11-29 | 2024-02-27 | Johnson Matthey Public Limited Company | Apparatus and method for coating substrates with washcoats |
-
2003
- 2003-01-27 RU RU2003102289/02A patent/RU2241065C2/ru not_active IP Right Cessation
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2499079C2 (ru) * | 2008-06-13 | 2013-11-20 | Фраунхофер-Гезелльшафт Цур Фердерунг Дер Ангевандтен Форшунг Е.Ф. | Способ получения прозрачного проводящего покрытия из оксида металла путем импульсного высокоионизирующего магнетронного распыления |
RU2491371C2 (ru) * | 2009-01-09 | 2013-08-27 | Сумитомо Электрик Индастриз, Лтд. | Конструктивный элемент из магниевого сплава |
RU2448197C1 (ru) * | 2011-04-05 | 2012-04-20 | Российская Федерация, от имени которой выступает Министерство промышленности и торговли Российской Федерации (Минпромторг России) | Способ нанесения прозрачного электропроводящего покрытия |
RU2693982C2 (ru) * | 2014-05-30 | 2019-07-08 | ПиПиДжи ИНДАСТРИЗ ОГАЙО, ИНК. | Прозрачный проводящий оксид олова, легированный индием |
RU2564650C1 (ru) * | 2014-07-22 | 2015-10-10 | Федеральное государственное унитарное предприятие "Всероссийский научно-исследовательский институт авиационных материалов" (ФГУП "ВИАМ") | Способ нанесения электропроводящего покрытия для электрообогреваемого элемента органического остекления |
US11911780B2 (en) | 2018-11-29 | 2024-02-27 | Johnson Matthey Public Limited Company | Apparatus and method for coating substrates with washcoats |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0636702B1 (en) | Methods for producing functional films | |
JP2004511655A (ja) | マグネトロンネガティブイオンスパッタ源を用いるインジウムスズ酸化物薄膜の作製方法 | |
US4201649A (en) | Low resistance indium oxide coatings | |
CN106756792B (zh) | 一种氧化物透明电极薄膜的制备方法 | |
US6153271A (en) | Electron beam evaporation of transparent indium tin oxide | |
CN111041413B (zh) | 一种提高大口径反射镜镀膜面形精度的方法 | |
RU2241065C2 (ru) | Способ нанесения проводящего прозрачного покрытия | |
KR100336621B1 (ko) | 고분자 기판 위의 인듐산화물 또는 인듐주석산화물 박막증착 방법 | |
US4104418A (en) | Glass layer fabrication | |
CN112626474A (zh) | 一种电致变色膜系中的钽酸锂薄膜的制备方法 | |
CN108796452B (zh) | 一种二氧化钒薄膜及其制备方法和应用 | |
RU2181389C2 (ru) | Способ получения прозрачной электропроводящей пленки на основе оксидов индия и олова | |
RU2448197C1 (ru) | Способ нанесения прозрачного электропроводящего покрытия | |
RU2112076C1 (ru) | Способ нанесения проводящего прозрачного покрытия | |
JPH058527B2 (ru) | ||
CN113529034A (zh) | 一种近红外导电滤光片的镀膜方法 | |
US2842463A (en) | Vapor deposited metal films | |
SU1499573A1 (ru) | Способ получени прозрачных провод щих пленок на основе оксидов инди и олова | |
US2769778A (en) | Method of making transparent conducting films by cathode sputtering | |
JPS6354788B2 (ru) | ||
TWI417410B (zh) | 導電薄膜製作方法 | |
RU2110604C1 (ru) | Способ получения окисных пленок | |
EP0961806A1 (de) | Verfahren zur modifizierung von substratoberflächen aus polymeren oder copolymeren mit methacrylatanteil | |
KR20080006812A (ko) | Ito 이중막 증착방법 및 이에 따라 제조된 ito이중막 | |
JPS61256943A (ja) | 有色透明導電膜の形成方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
MM4A | The patent is invalid due to non-payment of fees |
Effective date: 20050128 |